JP3880896B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理基板に対してエッチング等のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置の製造工程においては、被処理基板であるガラス基板にエッチング処理や成膜処理等のプラズマ処理を施すために、プラズマエッチング装置やプラズマCVD成膜装置等のプラズマ処理装置が用いられる。
【0003】
このようなプラズマ処理装置においては、LCDガラス基板を基板保持台に保持した状態で適宜の手段によりプラズマを生成してプラズマ処理が行われる。このような保持機構として、従来はLCDガラス基板の周縁を機械的に押圧するクランプ機構が用いられてきたが、基板の温度制御のために基板と基板保持台との間に熱伝達ガスを導入すると、基板の中央部が浮上してしまう。特に、基板の大型化が進むとその傾向が顕著になる。このため、基板の保持機構として、電極の上に誘電体膜を被覆し、この誘電体膜の上にLCDガラス基板を載置した状態で電極に直流電圧を印加して、その際のクーロン力等の静電力によりLCDガラス基板を吸着する静電チャックが主流となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、電極の上に形成される誘電体膜は、プラズマに対する耐食性が必要であり、高耐食性である高価なセラミック材料が多用され、かつ電極に印加する直流電圧とプラズマとを絶縁する程度に厚くなければならないため、静電チャックのコストが極めて高いものとなっている。また、LCDガラス基板が大型化すると、基板保持台の本体を構成する金属材料と誘電体膜を構成するセラミック材料との熱膨張係数の違いにより、誘電体膜が剥離したり、誘電体膜にクラックが入ったり、基板保持台自体が反ってしまうという問題が生じる。
【0005】
このようなことを回避するために、LCDガラス基板自体が誘電体であることを利用して、誘電体膜を用いずに電極上にLCDガラス基板を保持するようにすることも考えられるが、この場合には、大型ガラス基板の特徴である反り等によって周辺部で基板と電極との間にわずかな隙間が生じ、その隙間において電極が露出した状態であるため、吸着のための直流電圧を印加することにより、直流放電が生じてしまうという問題点がある。
【0006】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、直流放電等の異常放電を抑制しつつ、静電吸着のための直流電圧が印加される電極上に誘電体膜が存在する場合に生じる不都合を解消することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明の第1の観点では、誘電性の被処理基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、被処理基板を載置する基板載置面を有する電極と、前記電極上の被処理基板の周縁を前記電極に向かう方向に押圧する押圧機構と、被処理基板の付近に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、被処理基板の付近に処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成手段と、前記電極に接続され、前記電極に直流電圧を印加する直流電源とを具備し、前記電極の前記基板載置面は、導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有し、前記基板載置面に誘電性の被処理基板が載置され、被処理基板の周縁が押圧機構により押圧され、かつ前記プラズマが生成されるとともに前記電極に直流電圧が印加された際に、前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。
【0009】
本発明の第2の観点では、誘電性の被処理基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、被処理基板を収容するチャンバーと、前記チャンバー内に設けられ、被処理基板を載置する基板載置面を有する下部電極と、前記チャンバー内で前記下部電極と対向するように設けられた上部電極と、前記チャンバー内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、前記チャンバー内を排気する排気機構と、前記下部電極および前記上部電極の少なくとも一方に高周波電力を供給し、前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間に処理ガスのプラズマを生成する高周波電源と、前記下部電極上の被処理基板の周縁を前記下部電極に向かう方向に押圧する押圧機構と、前記下部電極に接続され、前記下部電極に直流電圧を印加する直流電源とを具備し、前記下部電極の前記基板載置面は、導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有し、前記基板載置面に誘電性の被処理基板が載置され、被処理基板の周縁が押圧機構により押圧され、かつ前記プラズマが生成されるとともに前記電極に直流電圧が印加された際に、前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。
【0011】
本発明の第3の観点では、被処理基板を載置する基板載置面を有し、その基板載置面が導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有する電極に誘電性の被処理基板を載置してプラズマ処理を施す方法であって、前記電極の基板載置面に被処理基板を載置する工程と、載置された被処理基板の周縁部を前記電極に向かう方向に押圧する工程と、その後、前記電極に直流電圧を印加する工程と、前記直流電圧が印加された状態で処理ガスのプラズマを生成させて被処理基板にプラズマ処理を施す工程とを具備し、前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理方法を提供する。
【0013】
本発明によれば、静電吸着用の直流電圧が印加される電極の基板載置面を導電体面とするか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を形成したものとし、この電極に誘電性の被処理基板を載置し、前記押圧機構により前記電極上の被処理基板の周縁を押圧するようにし、基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有するようにした。すなわち、被処理基板自体に電極に印加する直流電圧とプラズマとを絶縁する程度に厚い誘電体膜の機能を持たせたので、従来用いていた絶縁機能を有する誘電体を用いる必要がなく、かつ直流電圧印加前にクランプ機構で被処理基板の周縁をクランプすることにより、電極が露出することによる直流放電等の異常放電が生じ難くなる。したがって、直流放電等の異常放電を抑制しつつ、電極上に誘電体膜が存在していたことにより生じる不都合を解消することができる。
【0014】
上記本発明の第1の観点において、前記基板載置面が薄い誘電体膜を有する場合に、その膜厚が100μm以下であることが好ましい。また、前記電極に接続され、前記電極に高周波電力を印加する高周波電源を有する構成とすることができる。
【0015】
上記本発明の第2の観点において、前記基板載置面が薄い誘電体膜を有する場合に、その膜厚が100μm以下であることが好ましい。また、前記上部電極は、前記チャンバー内に処理ガスを吐出するシャワーヘッドで構成することができる。
【0016】
上記本発明の第1および第2の観点において、前記被処理基板は矩形状をなし、前記押圧機構は額縁状をなすように構成することができる。
【0017】
また、本発明は、最長部の長さが1100mm以上である被処理基板、およびガラスからなる矩形基板であり長辺が800mm以上である被処理基板に対して特に有効である。また、後者の場合には被処理基板の厚さが1.5mm以下であることが好ましい。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1は本発明の実施形態に係るLCDガラス基板用のプラズマエッチング装置を模式的に示す断面図である。このプラズマエッチング装置1は、容量結合型平行平板プラズマエッチング装置として構成されている。
【0019】
このプラズマエッチング装置1は、例えば表面が陽極酸化処理されたアルミニウムからなる角筒形状のチャンバー2を有している。このチャンバー2内の底部には誘電性の被処理基板であるLCDガラス基板Gを保持するための基板保持台3が設けられている。この基板保持台3は、アルミニウム等の導電体からなる保持台本体4とこの保持台本体4の側面および底面を覆う絶縁部材5とを有している。そして、基板Gが載置される際には、保持台本体4の上面が基板載置面となり、かつ基板Gの周縁が絶縁部材5にかかるようになっており、導電体からなる保持台本体4が誘電性の基板Gに覆われるようになっている。保持台本体4上には、従来のような誘電体膜を設けることは不要であるが、絶縁を目的としない陽極酸化膜のような薄い誘電体保護膜が形成されていてもよい。また、基板の接触により傷が付くのを防ぐ目的等で従来と同様の材料からなる誘電体膜が形成されていてもよいが、この場合にはその膜には直流電圧とプラズマとを絶縁する機能は必要がなく、従来よりも薄い膜で十分である。この際の誘電体膜の厚さは100μm以下であることが好ましく、50μm以下がより好ましい。
【0020】
保持台本体4には、直流電源6が接続されており、保持台本体4の上に誘電体である基板Gを載置した状態で、保持台本体4に直流電圧を印加すると、図2に示すように、保持台本体4の上面にはプラス電荷が蓄積され、誘電体である基板Gの表面にはマイナス電荷が蓄積されて、静電吸着力により基板Gが保持台本体4に吸着されることとなる。すなわち、保持台本体4は静電チャックの電極として機能する。
【0021】
基板保持台3の上方には、基板保持台3に保持された基板Gの周縁を押圧する額縁状をなす押圧機構7が設けられている。この押圧機構7は、ロッド8を介して昇降機構9により昇降可能となっており、昇降機構9により下降された状態で基板Gの周縁を押圧するようになっている。
【0022】
基板保持台3の保持台本体4には、整合器25を介して高周波電源26が接続されている。高周波電源26からは例えば13.56MHzの高周波電力が保持台本体4に供給される。すなわち、保持台本体4は高周波電極(下部電極)としても機能する。
【0023】
基板保持台3の上方には、この基板保持台3と平行に対向するように、上部電極として機能するシャワーヘッド12が設けられている。シャワーヘッド12はチャンバー2の上部に支持されており、内部に内部空間13を有するとともに、基板保持台3との対向面に処理ガスを吐出する多数の吐出孔14が形成されている。このシャワーヘッド12は接地されており、保持台本体4とともに一対の平行平板電極を構成している。
【0024】
シャワーヘッド12の上面にはガス導入口15が設けられ、このガス導入口15には、処理ガス供給管16が接続されており、この処理ガス供給管16には、処理ガスを供給する処理ガス供給源、バルブ、およびマスフローコントローラ等を含む処理ガス供給系19が接続されている。処理ガス供給系19からは、エッチングのための処理ガスが供給される。処理ガスとしては、ハロゲン系のガス、O2ガス、Arガス等、通常この分野で用いられるガスを用いることができる。
【0025】
前記チャンバー2の側壁底部には排気管20が接続されており、この排気管20には排気装置21が接続されている。排気装置21はターボ分子ポンプなどの真空ポンプを備えており、これによりチャンバー2内を所定の減圧雰囲気まで真空引き可能なように構成されている。また、チャンバー2の側壁には基板搬入出口22と、この基板搬入出口22を開閉するゲートバルブ23とが設けられており、このゲートバルブ23を開にした状態で基板Gが隣接するロードロック室(図示せず)との間で搬送されるようになっている。
【0026】
次に、上記構成のプラズマエッチング装置1における処理動作について図3のフローチャートを参照して説明する。まず、ゲートバルブ23を開放し、図示しないロードロック室から図示しない搬送アームにより基板搬入出口22を介して被処理基板であるLCDガラス基板Gをチャンバー2内へ搬入し、基板保持台3の保持台本体4上に載置する(STEP1)。この際の基板Gの受け渡しは基板保持台3の内部に挿通され基板保持台3から突出可能に設けられたリフターピン(図示せず)を介して行われる。その後、ゲートバルブ23が閉じられ、排気装置21によって、チャンバー2内が所定の真空度まで真空引きされる。
【0027】
次いで、昇降機構9により押圧機構7を降下させて押圧機構7により基板Gの周縁を押圧し(STEP2)、その後、その状態で保持台本体4に直流電源6から直流電圧を印加する(STEP3)。
【0028】
このように、押圧機構7で基板Gの周縁を押圧した後に直流電圧を印加することにより、直流放電を生じ難くすることができる。つまり、基板Gの周縁を押圧しない場合には、図4に示すように、基板Gの反り等によって、絶縁部材5と基板Gとの隙間30が生じることがあり、その部分で保持台本体4が露出していることとなり、この状態で保持台本体4に直流電圧を印加すると、静電吸着される前に直流放電が生じてしまう。これに対して、直流電圧を印加する前に押圧機構7により基板Gの周縁を押圧することにより、絶縁部材5と基板Gとの間に実質的に隙間がない状態とすることができ、その後に保持台本体4に直流電圧を印加しても直流放電が生じない。また、押圧機構7により押圧することにより、図5に示す絶縁部材5と基板Gとの重なり部分の距離dを極力小さくすることができる。この距離dは押圧機構7の押圧部分の距離と実質的に同じであり、10mm以下が好ましい。本実施形態で対象としている矩形のLCDガラス基板Gにおいて、長辺が800mm以上あるもの、特に厚さが1.5mm以下のものについては、反りによって基板周縁部と基板保持台本体4との隙間が生じやすく、直流放電(異常放電)しやすいので、上記のような基板周縁の押さえつけが極めて有効である。また、本実施形態の矩形状の基板に限らず、最大寸法が1100mm以上の基板の場合も、反りによって同様の隙間が生じやすく、直流放電(異常放電)しやすいので、上記のような基板周縁の押さえつけが極めて有効である。
【0029】
その後、処理ガス供給系19からの処理ガス流量およびチャンバー2内のガス圧力を調整し(STEP4)、シャワーヘッド12から処理ガスを吐出させつつ高周波電源26から高周波電力を印加してシャワーヘッド12と基板保持台3との間の処理空間2aに処理ガスのプラズマを生成し(STEP5)、基板Gの所定の膜のエッチングを行う(STEP6)。この際に、基板Gが保持台本体4の表面を覆っているため、基板Gにより直流電圧とプラズマとが絶縁され、異常放電等が実質的に生じない。上記STEP3の直流電圧印加と、STEP4のチャンバー2内圧力の調整との順序が逆であってもよい。
【0030】
このようにして所定時間エッチング処理を施した後、処理ガスの供給および高周波電源26からの高周波電力の印加を停止し(STEP7)、ガスパージを行った後、リフターピンで基板Gを持ち上げ、ゲートバルブ23を開放して、基板Gを基板搬入出口22を介してチャンバー2内から図示しないロードロック室へ搬出する(STEP8)。
【0031】
このように基板周縁部を押圧する押圧機構7を設け、かつ静電チャックの電極として機能する保持台本体4の上に実質的に誘電体膜を設けないようにしたので、直流放電等の異常放電を防止しつつ、コストの問題、熱膨張係数の違いによる誘電体膜の剥離やクラックの問題等、誘電体膜が存在することによる不都合を解消することができる。
【0032】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されることなく種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、誘電性の被処理基板としてLCDガラス基板を用いた場合について示したが、これに限らず、LCD以外のガラス基板、プラスチック基板、セラミック基板、陶磁器基板、木製基板、紙製基板、石製基板、樹脂基板等、誘電性を有するものであれば適用可能である。また、被処理基板を保持する基板保持台を下部電極として用い、そこに静電吸着用の直流電圧と、プラズマ形成用の高周波電力を印加した場合について示したが、これに限らず上部電極にプラズマ形成用の高周波電力を印加し、下部電極として基板保持台にイオン引き込み用の高周波電力を印加するタイプのものであってもよく、また、上部電極を基板保持台として用い、この上部電極たる基板保持台に高周波電力を印加するタイプのものを採用することもできる。さらに、サセプタに高周波電力を印加せずにサセプタを接地するタイプのものであってもよい。さらにまた、このような平行平板型のものに限らず、プラズマ手段としてアンテナまたはコイルを用い、それに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを生成するタイプの装置であってもよい。さらにまた、エッチング装置に限らず、アッシング装置、CVD成膜装置等の種々のプラズマ処理装置に適用することが可能である。
【0033】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、静電吸着用の直流電圧が印加される電極の基板載置面を導電体面とするか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を形成したものとし、この電極に誘電性の被処理基板を載置し、前記押圧機構により前記電極上の被処理基板の周縁を押圧するようにし、基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有するようにした。すなわち、被処理基板自体に電極に印加する直流電圧とプラズマとを絶縁する程度に厚い誘電体膜の機能を持たせたので、従来用いていた絶縁機能を有する誘電体を用いる必要がなく、かつ直流電圧印加前にクランプ機構で被処理基板の周縁をクランプすることにより、電極が露出することによる直流放電等の異常放電が生じ難くなる。したがって、直流放電等の異常放電を抑制しつつ、電極上に誘電体膜が存在していたことにより生じる不都合を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るプラズマエッチング装置を模式的に示す断面図。
【図2】図1のプラズマエッチング装置における基板保持台に基板を静電吸着した状態を示す模式図。
【図3】図1のプラズマエッチング装置における処理動作を説明するフローチャート。
【図4】押圧機構がない場合の基板保持台への基板載置状態を示す断面図。
【図5】図1のプラズマエッチング装置において、基板保持台へ載置された基板を押圧機構が押圧している状態を示す断面図。
【符号の説明】
1;プラズマエッチング装置
2;チャンバー
3;基板保持台
4;保持台本体(電極)
5;絶縁部材
6;直流電源
7;押圧機構
12;シャワーヘッド
19;処理ガス供給系
21;排気装置
26;高周波電源
G;LCDガラス基板
Claims (15)
- 誘電性の被処理基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
被処理基板を載置する基板載置面を有する電極と、
前記電極上の被処理基板の周縁を前記電極に向かう方向に押圧する押圧機構と、
被処理基板の付近に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
被処理基板の付近に処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成手段と、
前記電極に接続され、前記電極に直流電圧を印加する直流電源と
を具備し、
前記電極の前記基板載置面は、導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有し、前記基板載置面に誘電性の被処理基板が載置され、被処理基板の周縁が押圧機構により押圧され、かつ前記プラズマが生成されるとともに前記電極に直流電圧が印加された際に、前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記基板載置面が薄い誘電体膜を有する場合に、その膜厚が100μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記電極に接続され、前記電極に高周波電力を印加する高周波電源を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 誘電性の被処理基板をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
被処理基板を収容するチャンバーと、
前記チャンバー内に設けられ、被処理基板を載置する基板載置面を有する下部電極と、
前記チャンバー内で前記下部電極と対向するように設けられた上部電極と、
前記チャンバー内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
前記チャンバー内を排気する排気機構と、
前記下部電極および前記上部電極の少なくとも一方に高周波電力を供給し、前記下部電極と前記上部電極との間の処理空間に処理ガスのプラズマを生成する高周波電源と、
前記下部電極上の被処理基板の周縁を前記下部電極に向かう方向に押圧する押圧機構と、
前記下部電極に接続され、前記下部電極に直流電圧を印加する直流電源と
を具備し、
前記下部電極の前記基板載置面は、導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有し、前記基板載置面に誘電性の被処理基板が載置され、被処理基板の周縁が押圧機構により押圧され、かつ前記プラズマが生成されるとともに前記電極に直流電圧が印加された際に、前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記基板載置面が薄い誘電体膜を有する場合に、その膜厚が100μm以下であることを特徴とする請求項4に記載のプラズマ処理装置。
- 前記上部電極は、前記チャンバー内に処理ガスを吐出するシャワーヘッドで構成されていることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のプラズマ処理装置。
- 前記被処理基板は矩形状をなし、前記押圧機構は額縁状をなすことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記被処理基板は、最長部の長さが1100mm以上であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記被処理基板は、ガラスからなる矩形基板であり長辺が800mm以上であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記被処理基板の厚さが1.5mm以下であることを特徴とする請求項9に記載のプラズマ処理装置。
- 被処理基板を載置する基板載置面を有し、その基板載置面が導電体面であるか、または絶縁を目的としない薄い誘電体膜を有する電極に誘電性の被処理基板を載置してプラズマ処理を施す方法であって、
前記電極の基板載置面に被処理基板を載置する工程と、
載置された被処理基板の周縁部を前記電極に向かう方向に押圧する工程と、
その後、前記電極に直流電圧を印加する工程と、
前記直流電圧が印加された状態で処理ガスのプラズマを生成させて被処理基板にプラズマ処理を施す工程と
を具備し、
前記基板載置面に載置された被処理基板が前記プラズマと前記直流電圧とを絶縁する機能を有することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記基板載置面が薄い誘電体膜を有する場合に、その膜厚が100μm以下であることを特徴とする請求項11に記載のプラズマ処理方法。
- 前記被処理基板は、最長部の長さが1100mm以上であることを特徴とする請求項11または請求項12に記載のプラズマ処理方法。
- 前記被処理基板は、ガラスからなる矩形基板であり長辺が800mm以上であることを特徴とする請求項11から請求項13のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法。
- 前記被処理基板の厚さが1.5mm以下であることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ処理方法。
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