TW202346719A - 真空泵、真空泵用旋轉體、及真空泵用平衡修正元件 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於提供一種可使平衡修正元件小型化、且平衡修正元件容易安裝之真空泵。 本發明之真空泵具備本體外殼、旋轉體103、及馬達121，旋轉體103與馬達121設置於本體外殼之中，於旋轉體103之內周面211形成槽部212，於槽部212設置有板狀之配重220。配重220具有彈性位移部226a、226b，被夾於槽部212而固定。彈性位移部226a、226b係藉由於配重220上鑿出一端開放之位移容許孔222a、222b而形成。

Description

真空泵、真空泵用旋轉體、及真空泵用平衡修正元件

本發明係關於一種例如渦輪分子泵等之真空泵、真空泵用旋轉體、及真空泵用平衡修正元件。

一般而言，作為真空泵之一種，已知有渦輪分子泵。於該渦輪分子泵中，藉由對泵本體內之馬達通電而使旋轉翼旋轉，將吸入泵本體之氣體(處理氣體)之氣體分子(gas molecular)彈飛而將氣體排出。又，於此種渦輪分子泵，有為了適當管理泵內之溫度，而具備加熱器或冷卻管之類型者。

於如渦輪分子泵般使旋轉翼旋轉之真空泵中，需調整旋轉翼之重量之平衡。於未調整平衡之情形時，進行用於調整平衡之修正作業。作為重量平衡之修正方法，周知有如稍後揭示之專利文獻1～3所記載之方法。

於專利文獻1，記載有為了修正平衡，而削減旋轉翼之一部分之方法(段落0010等)。於專利文獻2，記載有於旋轉翼之內側貼附樹脂製之配重(接著劑等)之方法(段落0029等)、或於旋轉翼等之一部分設置螺紋孔安裝螺絲之方法(段落0046等)。進而，於專利文獻3，記載有於旋轉翼之內側設置槽，使配重嵌合安裝之方法(段落0029等)。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2018-127950號公報 [專利文獻2]日本專利特開2003-148389號公報 [專利文獻3]日本專利特開2002-327697號公報

[發明欲解決之問題]

於專利文獻1之方法中，旋轉翼之切削作業的手續為必要。又，一旦削去，則無法回至原來狀態，平衡修正之再執行無效。

專利文獻2之使用接著劑之方法中，樹脂製之配重被處理氣體腐蝕、或於真空中揮發，而經時變化。又，於旋轉翼成為高溫之情形時，有超過樹脂之耐熱溫度之情形。進而，專利文獻2之於旋轉翼設置螺紋孔之方法中，因旋轉中產生應力集中，故必須考慮到該應力集中之設計。又，於電樞圓盤等設置螺紋孔之情形時，因電樞圓盤等之直徑相對較小，故於電樞圓盤等可安裝螺絲之區域較少。進而，於直徑較小之元件設置螺絲之情形時，因距旋轉中心(軸心)之距離較短，故難以獲得平衡修正之效果。

專利文獻3之方法中，雖使用箱狀之配重，但箱狀之配重難以小型化，為了安裝需要較大之空間。

本發明之目的在於提供一種可使平衡修正元件小型化，且平衡修正元件之安裝容易之真空泵、及真空泵用旋轉體。又，本發明之另一目的在於提供一種可小型化且安裝容易之真空泵用平衡修正元件。 [解決問題之技術手段]

(1)為了達成上述目的之本發明之真空泵之特徵在於其係具備以下者： 外裝體； 旋轉體，其內包於上述外裝體，旋轉自如地被支持；及 上述旋轉體之驅動機構；且該真空泵 於配設於上述旋轉體之內周面之凹部，設置板狀之平衡修正元件。 (2)為了達成上述目的之本發明之真空泵用旋轉體之特徵在於其係內包於外裝體、旋轉自如地被支持、藉由驅動機構驅動之真空泵用旋轉體，且 於內周面配設有供板狀之平衡修正元件設置之凹部。 (3)為了達成上述目的之本發明之真空泵用平衡修正元件之特徵在於其係安裝於真空泵用旋轉體之真空泵用平衡修正元件，該真空泵用旋轉體係內包於外裝體而旋轉自如地被支持，且藉由驅動機構驅動，該真空泵用平衡修正元件係 形成為板狀， 配置於上述真空泵用旋轉體之內周面所配設之凹部。 [發明之效果]

根據上述發明，可提供一種可使平衡修正元件小型化，且平衡修正元件之安裝容易之真空泵、及真空泵用旋轉體。又，根據本發明，可提供一種可小型化且安裝容易之真空泵用平衡修正元件。

以下，基於圖式，對本發明之實施形態之真空泵進行說明。圖1顯示作為本發明之第1實施形態之真空泵之渦輪分子泵100。該渦輪分子泵100連接於例如半導體製造裝置等般之對象機器之真空腔室(省略圖式)。

＜渦輪分子泵100之基本構成＞ 圖1顯示該渦輪分子泵100之縱剖視圖。於圖1中，渦輪分子泵100於圓筒狀之外筒127之上端形成有吸氣口101。且，於外筒127之內側，具備於周部放射狀且多段地形成有用於吸引排出氣體之輪機葉片即複數旋轉翼102(102a、102b、102c･･･)之旋轉體103。於該旋轉體103之中心安裝有轉子軸113，該轉子軸113由例如5軸控制之磁性軸承於空中懸浮支持且控制位置。

上側徑向電磁鐵104將4個電磁鐵成對地配置於X軸與Y軸上。接近該上側徑向電磁鐵104，且與上側徑向電磁鐵104各者對應地具備4個上側徑向感測器107。上側徑向感測器107使用例如具有傳導繞組之電感感測器或渦電流感測器等，基於根據轉子軸113之位置變化之該傳導繞組之電感之變化，檢測轉子軸113之位置。該上側徑向感測器107構成為檢測轉子軸113，即固定於其之旋轉體103之徑向移位，並將其發送至控制裝置200。

於該控制裝置200中，例如具有PID(Proportional Integral Derivative：比例積分微分)調節功能之補償電路基於藉由上側徑向感測器107檢測出之位置信號，產生上側徑向電磁鐵104之勵磁控制指令信號，圖2所示之放大器電路150(稍後敘述)基於該勵磁控制指令信號，將上側徑向電磁鐵104進行勵磁控制，藉此調整轉子軸113之上側之徑向位置。

且，該轉子軸113由高導磁率材料(鐵、不鏽鋼等)等形成，藉由上側徑向電磁鐵104之磁力吸引。該調整係於X軸方向與Y軸方向分別獨立進行。又，下側徑向電磁鐵105及下側徑向感測器108亦可與上側徑向電磁鐵104及上側徑向感測器107同樣配置，且與上側之徑向位置同樣地調整轉子軸113之下側之徑向位置。

再者，軸向電磁鐵106A、106B以上下夾著於轉子軸113下部所具備之圓板狀之金屬盤(亦稱為「電樞圓盤」)111而配置。金屬盤111由鐵等高導磁率材料構成。為了檢測轉子軸113之軸向移位而具備軸向感測器109，且構成為將該軸向位置信號發送至控制裝置200。

且，於控制裝置200中，例如具有PID調節功能之補償電路基於藉由軸向感測器109檢測出之軸向位置信號，產生軸向電磁鐵106A與軸向電磁鐵106B各者之勵磁控制指令信號，放大器電路150基於該等勵磁控制指令信號，分別對軸向電磁鐵106A與軸向電磁鐵106B進行勵磁控制，藉此軸向電磁鐵106A利用磁力將金屬盤111朝上方吸引，軸向電磁鐵106B將金屬盤111朝下方吸引，從而調整轉子軸113之軸向位置。

如此，控制裝置200適當調節該等軸向電磁鐵106A、106B對金屬盤111施加之磁力，使轉子軸113於軸向上磁性懸浮，而於空間非接觸地予以保持。另，稍後就對該等上側徑向電磁鐵104、下側徑向電磁鐵105及軸向電磁鐵106A、106B進行勵磁控制之放大器電路150進行敘述。

另一方面，馬達121具備以包圍轉子軸113之方式周狀配置之複數個磁極。各磁極以經由作用於與轉子軸113之間之電磁力對轉子軸113進行旋轉驅動之方式，由控制裝置200控制。又，於馬達121組入有未圖示之例如霍爾元件、解析器、編碼器等旋轉速度感測器，藉由該旋轉速度感測器之檢測信號，檢測轉子軸113之旋轉速度。

再者，於例如下側徑向感測器108附近，安裝有未圖示之相位感測器，而檢測轉子軸113之旋轉之相位。於控制裝置200中，一起使用該相位感測器與旋轉速度感測器之檢測信號來檢測磁極之位置。

與旋轉翼102(102a、102b、102c･･･)隔開稍許空隙(規定之間隔)配設有複數片固定翼123(123a、123b、123c･･･)。旋轉翼102(102a、102b、102c･･･)為了分別藉由碰撞而將排出氣體之分子移送至下方向，故自與轉子軸113之軸線垂直之平面傾斜規定角度而形成。

又，固定翼123亦同樣地自與轉子軸113之軸線垂直之平面傾斜規定角度而形成，且與旋轉翼102之段互不相同地朝向外筒127之內側配設。且，固定翼123之外周端以嵌插於堆疊有複數段之固定翼間隔件125(125a、125b、125c･･･)之間之狀態下受支持。

固定翼間隔件125為環狀之元件，例如由鋁、鐵、不鏽鋼、銅等金屬、或包含該等金屬作為成分之合金等金屬構成。於固定翼間隔件125之外周，隔開稍許空隙固定有外筒127。於外筒127之底部配設有基座部129。於基座部129形成排氣口133，與外部連通。自腔室(真空腔室)側進入吸氣口101並朝基座部129移送之排出氣體被輸送至排氣口133。

再者，根據渦輪分子泵100之用途，於固定翼間隔件125之下部與基座部129之間，配設附螺紋間隔件131。附螺紋間隔件131為由鋁、銅、不鏽鋼、鐵、或以該等金屬為成分之合金等金屬構成之圓筒狀之元件，於其內周面刻設有複數條螺旋狀之螺紋槽131a。螺紋槽131a之螺旋方向係於排出氣體之分子於旋轉體103之旋轉方向移動時，將該分子向排氣口133移送之方向。旋轉體下部圓筒部103b垂下至旋轉體103之形成有旋轉翼102(102a、102b、102c･･･)之旋轉體本體103a之下部。該旋轉體下部圓筒部103b之外周面為圓筒狀，且向附螺紋間隔件131之內周面伸出，與該附螺紋間隔件131之內周面隔開規定間隙地接近。藉由旋轉翼102及固定翼123移送至螺紋槽131a之排出氣體被引導至螺紋槽131a且輸送至基座部129。如此，附螺紋間隔件131、及與其對向之旋轉體下部圓筒部103b構成霍爾貝克型排氣機構部204。霍爾貝克型排氣機構部204藉由旋轉體下部圓筒部103b相對於附螺紋間隔件131之旋轉，對排出氣體賦予方向性，而提高渦輪分子泵100之排出特性。

基座部129為構成渦輪分子泵100之基底部之圓盤狀之元件，一般而言由鐵、鋁、不鏽鋼等金屬構成。因基座部129物理性保持渦輪分子泵100，且亦兼備熱傳導路之功能，故期望使用鐵、鋁或銅等之具有剛性，且熱傳導率亦較高之金屬。

於該構成中，當藉由馬達121與轉子軸113一起對旋轉翼102進行旋轉驅動時，藉由旋轉翼102與固定翼123之作用，通過吸氣口101自腔室吸入排出氣體。自吸氣口101吸入之排出氣體通過旋轉翼102與固定翼123之間，移送至基座部129。此時，因排出氣體與旋轉翼102接觸時產生之摩擦熱、或馬達121中產生之熱之傳導等，使旋轉翼102之溫度上升，該熱藉由輻射或排出氣體之氣體分子(氣體分子)等之傳導而傳遞至固定翼123側。

固定翼間隔件125於外周部相互接合，將固定翼123自旋轉翼102接收到之熱或排出氣體與固定翼123接觸時產生之摩擦熱等傳遞至外部。

另，於上述中，說明附螺紋間隔件131配設於旋轉體103之旋轉體下部圓筒部103b之外周，且於附螺紋間隔件131之內周面刻設有螺紋槽131a。然而，與其相反，亦有於旋轉體下部圓筒部103b之外周面刻設螺紋槽，於其周圍配置具有圓筒狀之內周面之間隔件之情形。

又，根據渦輪分子泵100之用途，亦有以下情形：為防止自吸氣口101吸引之氣體侵入由上側徑向電磁鐵104、上側徑向感測器107、馬達121、下側徑向電磁鐵105、下側徑向感測器108、軸向電磁鐵106A、106B、軸向感測器109等構成之電裝部，電裝部之周圍由定子柱122覆蓋，該定子柱122內由淨化氣體保持為規定壓。

於該情形時，於基座部129配設淨化氣體埠13，通過該配管導入淨化氣體。導入之淨化氣體通過保護軸承120與轉子軸113之間、馬達121之轉子與定子之間、旋轉翼102之內周側圓筒部(旋轉體下部圓筒部103b)與定子柱122或基座部129之間之間隙(於圖5(a)中以符號210表示)送出至排氣口133。

此處，渦輪分子泵100需要基於機種之規定、及經個別調整之固有參數(例如與機種對應之諸特性)之控制。為了儲存該控制參數，上述渦輪分子泵100於其本體內具備電子電路部141。電子電路部141係由EEP-ROM(Electrically Erasable Programmable-Read Only Memory：電性可抹除可程式化唯讀記憶體)等半導體記憶體及用於其存取之半導體元件等電子零件、安裝該等用之基板143等而構成。該電子電路部141收納於構成渦輪分子泵100之下部之基座部129之例如中央附近之未圖示之旋轉速度感測器之下部，藉由氣密性之底蓋145蓋住。

然而，於半導體之製造步驟中，於被導入腔室之處理氣體中，具有當其壓力高於規定值，或其溫度低於規定值時，會成為固體之性質者。於渦輪分子泵100內部，排出氣體之壓力係於吸氣口101最低，於排氣口133最高。於將處理氣體自吸氣口101移送至排氣口133之中途，當其壓力高於規定值，或其溫度低於規定值時，處理氣體會成為固體狀，而附著沈積於渦輪分子泵100內部。

例如，於Al蝕刻裝置中使用SiCl ₄作為處理氣體之情形時，自蒸氣壓曲線可知，於低真空(760[torr]～10 ^-2[torr])且低溫(約20[℃])時，固體生成物(例如AlCl ₃)析出，附著沈積於渦輪分子泵100內部。藉此，當於渦輪分子泵100內部沈積處理氣體之析出物時，該沈積物將成為使泵流路狹窄，使渦輪分子泵100之性能降低之原因。且，上述之生成物處於容易於排氣口附近或附螺紋間隔件131附近之壓力較高之部分凝固、附著之狀況。

因此，為解決該問題，先前進行如下之加熱器之加熱或水冷管149之冷卻之控制(以下稱為TMS。TMS；Temperature Management System：溫度管理系統)：使未圖示之加熱器或環狀之水冷管149捲繞於基座部129等之外周，且於例如基座部129嵌入未圖示之溫度感測器(例如熱敏電阻)，基於該溫度感測器之信號，將基座部129之溫度保持於固定之較高之溫度(設定溫度)。

接著，關於如此構成之渦輪分子泵100，針對其上側徑向電磁鐵104、下側徑向電磁鐵105及軸向電磁鐵106A、106B進行勵磁控制之放大器電路150進行說明。圖2顯示該放大器電路之電路圖。

於圖2中，構成上側徑向電磁鐵104等之電磁鐵繞組151係其一端經由電晶體161連接於電源171之正極171a，又，另一端經由電流檢測電路181及電晶體162連接於電源171之負極171b。且，電晶體161、162為所謂功率MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor：金屬氧化物半導體場效電晶體)，具有於其源極-汲極之間連接有二極體之構造。

此時，電晶體161係其二極體之陰極端子161a連接於正極171a，且陽極端子161b與電磁鐵繞組151之一端連接。又，電晶體162係其二極體之陰極端子162a連接於電流檢測電路181，且陽極端子162b與負極171b連接。

另一方面，電流再生用之二極體165係其陰極端子165a連接於電磁鐵繞組151之一端，且陽極端子165b連接於負極171b。又，與其同樣，電流再生用之二極體166係其陰極端子166a連接於正極171a，且其陽極端子166b經由電流檢測電路181連接於電磁鐵繞組151之另一端。且，電流檢測電路181例如以霍爾感測器式電流感測器或電阻元件構成。

如上構成之放大器電路150係與一個電磁鐵對應者。因此，於磁性軸承為5軸控制，且合計有10個電磁鐵104、105、106A、106B之情形時，對電磁鐵各者構成同樣之放大器電路150，將10個放大器電路150並聯連接於電源171。

再者，放大器控制電路191由例如控制裝置200之未圖示之數位信號處理部(以下稱為DSP(Digital Signal Processing)部)構成，該放大器控制電路191切換電晶體161、162之接通(on)/斷開(off)。

放大器控制電路191比較由電流檢測電路181檢測出之電流值(將反映該電流值之信號稱為電流檢測信號191c)與規定電流指令值。且，基於該比較結果，決定PWM(Pulse Width Modulation：脈寬調變)控制之1個週期即控制循環Ts內產生之脈衝寬度之大小(脈衝寬度時間Tp1、Tp2)。其結果，將具有該脈衝寬度之閘極驅動信號191a、191b自放大器控制電路191輸出至電晶體161、162之閘極端子。

另，於旋轉體103之旋轉速度之加速運轉中通過共振點時或定速運轉中發生干擾時等，需進行高速且強力之旋轉體103之位置控制。因此，以可實現電磁鐵繞組151中流通之電流之急劇增加(或減少)之方式，使用例如50 V左右之高電壓作為電源171。又，為了電源171之穩定化，而於電源171之正極171a與負極171b之間連接有通常之電容器(省略圖示)。

於該構成中，若將電晶體161、162之兩者接通，則於電磁鐵繞組151流通之電流(以下，稱為電磁鐵電流iL)增加，若將兩者斷開，則電磁鐵電流iL減少。

又，若將電晶體161、162之一者接通，將另一者斷開，則保持所謂飛輪電流。且，藉由如此於放大器電路150流通飛輪電流，可減少放大器電路150中之磁滯損失，可將電路整體之消耗電力抑制得較低。又，藉由如此控制電晶體161、162，可減少渦輪分子泵100中產生之高諧波等高頻雜訊。再者，藉由由電流檢測電路181測定該飛輪電流，可檢測流過電磁鐵繞組151之電磁鐵電流iL。

即，於檢測出之電流值小於電流指令值之情形時，如圖3所示，於控制循環Ts(例如100 μs)中僅1次將電晶體161、162之兩者設為接通，且接通時間相當於脈衝寬度時間Tp1之時間量。因此，該期間中之電磁鐵電流iL自正極171a向負極171b，朝可經由電晶體161、162流動之電流值iLmax(未圖示)增加。

另一方面，於檢測出之電流值大於電流指令值之情形時，如圖4所示於控制循環Ts中，僅1次將電晶體161、162兩者設為斷開，且斷開時間相當於脈衝寬度時間Tp2之時間量。因此，該期間中之電磁鐵電流iL自負極171b至正極171a，朝可經由二極體165、166再生之電流值iLmin(未圖示)減少。

且，於任一情形下皆於脈衝寬度時間Tp1、Tp2過後，將電晶體161、162之任一者設為接通。因此，該期間中於放大器電路150保持飛輪電流。

具有此種基本構成之渦輪分子泵100，其圖1中之上側(吸氣口101側)成為與對象機器之側相連之吸氣部，下側(構成排氣口133之排氣埠15向圖中之右側突出地設置於基座部129之側)成為與省略圖示之輔助泵(支援泵)等相連之排氣部。且，渦輪分子泵100除圖1所示之鉛直方向之垂直姿勢以外，亦可使用倒立姿勢、水平姿勢或傾斜姿勢。

又，於渦輪分子泵100中，由前述之外筒127與基座部129組合而構成1個外殼(以下有時將兩者合稱為「本體外殼」等)。又，渦輪分子泵100與箱狀之電裝外殼(省略圖示)電性(及構造性)連接，於電裝外殼中組入前述之控制裝置200。

渦輪分子泵100之本體外殼(外筒127與基座部129之組合)之內部之構成可分為：旋轉機構部，其藉由馬達121使轉子軸113等旋轉；及排氣機構部，其由旋轉機構部旋轉驅動。又，設想排氣機構部可分為：渦輪分子泵機構部，其由旋轉翼102或固定翼123等構成；及螺紋槽泵機構部(霍爾貝克型排氣機構部204)，其藉由旋轉體下部圓筒部103b或附螺紋間隔件131等構成。

又，上述淨化氣體(保護氣體)係用來保護軸承部分或旋轉翼102等，防止因排出氣體(處理氣體)所致之腐蝕、或進行旋轉翼102之冷卻等。該淨化氣體之供給可藉由一般方法進行。

例如，於基座部129之規定部位(相對於排氣口133大致偏離180度之位置等)，徑向設置直線狀延伸之淨化氣體埠13。且，自基座部129之外側經由淨化氣瓶(N2氣瓶等)、流量調節器(閥裝置)等，對該淨化氣體埠13供給淨化氣體。

前述之保護軸承120亦稱為「安全(T/D：Touchdown)軸承」、「備用軸承」等。藉由該等保護軸承120，例如即便產生電性系統之異常或大氣進入等之異常時，轉子軸113之位置或姿勢亦不會大幅變化，而避免旋轉翼102或其周邊部損傷。

另，於顯示渦輪分子泵100或旋轉體103之構造之圖1中，為避免圖式變繁雜，而省略顯示零件剖面之陰影線之記載。

＜配重平衡之修正(調整)＞ 圖5(a)放大顯示圖1中由圓A包圍之部分。於旋轉體103之內周面211形成有配重修正用之槽部212。槽部212係藉由將旋轉體103以相對於內周面211垂直(於旋轉體103之半徑方向)地予以削去而形成。於旋轉體103，相對於內周面211直角地形成有壁部213、214。壁部213、214面向槽部212。

槽部212遍及旋轉體之內周面211之整周，形成為環狀(亦稱為「帶狀」)。槽部212之深度d1小於旋轉體103之厚度t1(例如10 mm左右，省略一部分圖示)，於周向及寬度方向上(旋轉體103之軸向)均固定。

於槽部212，嵌入有第1實施形態之平衡配重(以下稱為「配重」)220。於第1實施形態中，配重220之數為3片。3片配重220之配置以例如1片配重220之位置設為基準(0°)，每120°與240°配置1片，或每100°、260°等配置1片。

各個配重220如圖5(a)、(b)及圖6所示，加工為矩形之平板狀(稱為「薄板狀」)。配重220之厚度t2小於槽部212之深度d1，且遍及整板面為固定。配重220不自旋轉體103之內周面221飛出至內側(旋轉體103之徑向之軸心側)，且配重220之整體收斂於槽部212之內部。

又，配重220之厚度t2大於旋轉體103之內周面211與基座部129之間之間隙210之大小t3。即，配重220之厚度t2與間隙210之大小t3之關係為t2＞t3。

圖6顯示自吸氣口101之側觀察安裝於旋轉體103之配重220與其周邊部之狀態。因槽部212具有曲率形成為環狀，故於配重220與槽部212之底面218之間，產生平剖面形狀(投影形狀)成為月牙狀之間隙216。

如圖5(b)所示，於配重220，設置有2個位移容許孔222a、222b。位移容許孔222a、222b具有長孔狀之形態，一端於配重220之側端面224a、224b開放。位移容許孔222a、222b自配重220中之一側端面224a直線狀且相互行平地向另一側端面224a延伸。

位移容許孔222a、222b於厚度方向(圖5(a)之t2方向)貫通配重220。藉由設置位移容許孔222a、222b，而於配重220，形成有與配重本體部227相連之彈性位移部226a、226b。彈性位移部226a、226b以懸臂之狀態下被配重本體部227支持，於彈性位移部226a、226b之基端側，形成有支持部230a、230b。

於第1實施形態中，彈性位移部226a、226b位於配重220之長邊方向(亦稱為「長度方向」)之各端部。配重220之長邊方向係圖5(b)中以箭頭B表示之方向。配重220之長邊方向係於配重220安裝於旋轉體103時，相對於旋轉體103之軸向平行面向之方向。

配重220之短邊方向(亦稱為「寬度方向」)係圖5(b)中以箭頭C表示之方向。配重220之短邊方向(亦稱為「寬度方向」)係將配重220安裝於旋轉體103時，面向旋轉體103之周向之方向。配重220以圖5(b)中以箭頭D表示之中心點作為中心形成為點對稱之形狀。

彈性位移部226a、226b之前端部232a、232b以支持部230a、230b之部位作為中心，可向圖5(b)中以圓弧之箭頭E、F表示之方向彈性位移。圖5(b)之箭頭E顯示彈性位移部226a、226b之前端部232a、232b繞圖5(b)之逆時針位移之方向，箭頭F顯示前端部232a、232b繞順時針位移之方向。

如圖5(a)、(b)及圖6所示，若將配重220嵌入旋轉體103之槽部212，則彈性位移部226a、226b使彈性復原力作用於槽部212之壁部213、214。配重220利用彈性位移部226a、226b按壓壁部213、214之力(支撐力)，被夾(夾持)於槽部212內之狀態下固定。

如此，配重220具有於長邊方向(箭頭B方向)之兩端具有彈簧之構造。彈簧之構造(彈簧構造)藉由設置一端開放之位移容許孔222a、222b而形成。位移容許孔222a、222b形成為以點D為中心之點對稱。

另，於第1實施形態中，設置有2組彈性位移部(此處為彈性位移部226a、226b)與位移容許孔(此處為位移容許孔222a、222b)之組。然而，亦可僅設置一組彈性位移部與位移容許孔(例如，僅彈性位移部226a與位移容許孔222a之組)，不設置另一組彈性位移部與位移容許孔(例如，彈性位移部226b與位移容許孔222b之組)。

又，為了確保彈性位移部226a、226b按壓壁部213、214之力充分大，而例如圖7中以兩點鏈線表示，可將配重220加工成彈性位移部226a、226b向長邊方向(以箭頭B表示之方向、或以箭頭F表示之方向)擴展突出之形狀(以下稱為「突出形狀」)。藉由如此，可更確實地使彈性位移部226a、226b產生彈性復原力、或將彈性復原力設為大。

又，即使於僅將一彈性位移部226a(或僅彈性位移部226b)加工為突出形狀之情形時，亦可使彈性復原力產生。因此，亦可僅將一彈性位移部226a(或僅彈性位移部226b)加工為突出形狀。但，於需對稱(此處為向長邊方向(箭頭B方向)對稱)產生彈簧力之情形時，如圖5(a)、(b)之彈性位移部226a、226b般，期望對稱(於第1實施形態中為點對稱)地配置彈性位移部。且，期望彈性位移部226a、226b於相互平行之狀態下，與槽部212之壁部213、214相接。

於將彈性位移部226a(及/或226b)加工為突出形狀之情形時，將配重220嵌入旋轉體103之槽部212，此時作業者可藉由手指，使彈性位移部226a(及/或226b)向位移容許孔222a(及/或222b)之側彈性位移(收縮)，並將配重220嵌入槽部212。

另，於將彈性位移部226a(及/或226b)形成為突出形狀之情形時，亦可僅設置一彈性位移部(例如僅彈性位移部226a)，不設置另一彈性位移部(例如彈性位移部226b)。

接著，對自旋轉體103拆卸配重220時之操作進行說明。於拆卸配重220時，例如作業者將工具(螺絲起子之前端部等)插入(擰入)配重220與槽部212之底面218之間。且，將工具作為槓桿移動，藉由工具之前端部抬起配重220，與旋轉體103分離。之後，作業者以例如手指捏起配重220。

為了可容易進行該操作，而如圖8(a)、(b)所示，可於底面218形成拆卸用之槽(以下稱為「拆卸槽」)240。藉由預先設置拆卸槽240，而容易將工具插入配重220之背後。

又，如圖9(a)、(b)所示，亦可於配重242設置拆卸槽244。於該情形時，亦容易將工具插入配重242與底面218之間。拆卸槽244形成於配重242之寬度方向(箭頭C方向)之兩端，於側端面224a、224b開口。圖9(a)、(b)所示之配重242除具有拆卸槽244以外，具有與圖5(a)、(b)所示之配重220同樣之形狀或構造。

於本實施形態中，使用3片配重220。3片配重220之配置係以例如一面以每120°之配置(0°、120°、240°)為基準，確認平衡，一面變更為0°、100°、260°之配置而進行。如此，可以複數個配重220之間隔不同之方式配置，進行克單位之平衡之修正。

如以上說明般，根據第1實施形態之渦輪分子泵100，因安裝配重220(或圖9(a)、(b)所示之配重242，以下有將兩者合稱為「配重220等」之情形)進行配重平衡之修正，故與例如先前揭示之專利文獻1所記載之方法不同，可再執行平衡修正作業。又，因配重220等裝卸自如，故亦可再執行安裝作業。再者，因配重220等僅嵌入旋轉體103之槽部212便可安裝，藉由通用之工具(螺絲刀等)即可拆除，故裝卸容易。

又，因介隔彈性位移部226a、226b進行配重220等之安裝，故可不使用接著劑，確保旋轉體103與配重220等之結合力。因此，不會有例如先前揭示之專利文獻2所記載般，接著劑等與處理氣體接觸而腐蝕、或長期間曝曬於高溫下而劣化。其結果，可長期穩定進行配重220等之固定，渦輪分子泵100長期穩定性優異。

最近，進行旋轉體103之大型化、或將旋轉體103之材質自鋁合金變更為不鏽鋼合金等。本實施形態之旋轉體亦可由鋁合金或不鏽鋼合金形成。特別係，於採用不鏽鋼合金之情形時，與鋁合金相比，可於高溫環境下使用。因此，不使用接著劑等進行配重平衡之修正較為有效。

又，藉由將配重220等之材質設為不鏽鋼合金，而與使用接著劑等作為配重之情形相比，可增大配重220之比重。因此，平衡修正之效果變大，可藉由較小之配重220等而效率較佳地進行平衡修正。

另，於可使用接著劑之情形時，例如如圖10所示，可於配重220與底面218之間之間隙216填充接著劑250。又，省略圖示，但亦可對彈性位移部226a、226b與壁部213、214之間塗佈接著劑250。藉由設為該等，可提高配重220與旋轉體103之結合強度。於僅以彈性位移部226a、226b之彈性復原力而結合強度不足之情形時，藉由併用接著劑，可補充結合強度。

又，省略圖示，但亦可以將配重220之板面沿槽部212之底面218之方式加工為曲面，不產生配重220與底面218之間之間隙216。但，於將配重220設為薄板狀之情形時，因可藉由打孔加工或蝕刻加工形成彈性位移部226a、226b，故加工之步驟少於形成曲面。

又，如圖9(a)、(b)所示，於具有拆除槽244之配重242之情形時，以不填埋拆除槽244之方式，進行接著劑之塗佈，藉此可防止拆除槽244由於接著劑而無效化。

又，於本實施形態中，因藉由配重220等之安裝進行重量平衡之修正，故無需如例如先前揭示之專利文獻2所記載般，設置用於修正重量平衡之螺紋孔或切削加工部。因此，可不增加產生應力集中之部位而進行重量平衡之修正，並可減少將產生應力集中之部位設為起點之變形等之風險。

又，因藉由薄板狀之配重220進行重量平衡之修正，故與例如先前揭示之先行專利文獻3所揭示般，使用容器狀之配重之情形相比，可於較小之空間進行平衡修正。又，於將配重220之材質設為不鏽鋼合金之情形時，因比重較大，故可於更小之空間發揮平衡修正之效果。

又，因配重220等之厚度t2大於旋轉體103之內周面211與定子柱122之間之間隙210之大小t3(t2＞t3)，故例如於組裝作業時等，即使配重220自旋轉體103脫落，配重220亦不會自進入間隙210之排氣口133流出至渦輪分子泵100之外。

且，基於該等，故對旋轉體103之裝卸容易，且可實現可確實固定之形狀之配重220。進而，平衡修正之作業性、或製品之可靠性提高，可低價提供不易故障之渦輪分子泵100。

另，如圖11(a)所示，亦可將旋轉體103之槽部212設為入口之寬度(旋轉體103之軸向之開口寬度)窄於深處之寬度之形狀(深處之寬度寬於入口寬度之錐形狀)之燕尾槽。於將槽部212設為燕尾槽之情形時，面向槽部212之壁部253、254相對於旋轉體103之半徑方向傾斜。

再者，於將槽部212設為燕尾槽之情形時，亦可使配重220之彈性位移部226a、226b之端面255a、255b之形狀如圖11(b)所示，與壁部253、254之傾斜配合傾斜。藉由如圖11(b)般，而可增大彈性位移部226a、226b與壁部253、254之接觸面積。

另，於第1實施形態中，使用3片配重220進行平衡調整，但亦可使配重220之重量不同。於該情形時，例如除了配重220以外，亦可使用位移容許孔222a、222b之長度或寬度、形狀、及/或該等之組合不同之配重。又，亦可將後述之第2實施形態～第6實施形態之配重(配重242、260、270、280、290、300)與第1實施形態之配重220組合使用。藉由組合使用不同重量之配重，可更細密地進行平衡調整。

＜配重之其他實施形態＞ 設置於配重(例如配重220)之位移容許孔(例如位移容許孔222a、222b)、或彈性位移部(例如彈性位移部226a、226b)之形狀不限定於第1實施形態之形狀，可進行各種變更。以下，對變更位移容許孔之形狀後之其他實施形態進行說明。對與第1實施形態同樣之部分適當省略說明。

＜＜第2實施形態＞＞ 圖12(a)顯示第2實施形態之配重260。於第2實施形態之配重260中，藉由鑿出2個位移容許孔263a、264a(及位移容許孔263b、264b)而形成1個彈性位移部262a(及彈性位移部262b)。位移容許孔263a、264a(及263b、264b)之一端相互逆向開放。

彈性位移部262a(及彈性位移部262b)撓曲為U字狀，具有2處之支持部265a、266a(及支持部265b、266b)。彈性位移部262a(或262b)之形狀亦可與配重260之配重本體部267配合，領會為S字狀。

彈性位移部262a(及彈性位移部262b)可以2處支持部265a、266a(及支持部265b、266b)作為中心而彈性位移。因此，可實現與串聯配置彈簧同樣之構造，彈性位移部226a、226b變得柔軟。且，可以較小之力使彈性位移部262a、262b大幅位移。

因支持部265a、266a(及支持部265b、266b)為撓曲之部分，故亦可稱為「撓曲部」。又，亦可僅將設置於彈性位移部262a、262b之中間部分(靠近前端之部分)之支持部265a、265b稱為「撓曲部」。

如此，於使彈性位移部262a、262b撓曲，增大彈性位移部262a、262b之長度時，有以下優點。例如，藉由第1實施形態之彈性位移部226a、226b(圖5(b))形成為較長，使彈性位移部226a、226b變得柔軟，可以更小之力使彈性位移部226a、226b大幅位移。

然而，藉由加長彈性位移部226a、226b，例如圖6中以兩點鏈線表示，配重220亦大型化。於圖6中，以實線顯示第1實施形態之尺寸之配重220，藉由假想線(兩點鏈線)顯示大型化之配重220。

然而，於將配重220於寛度方向上(圖5(b)之箭頭C方向)過度大型化之情形時，因旋轉體103之槽部212及底面218具有曲率形成為彎曲之形狀，故如圖6所示，配重220(兩點鏈線)自旋轉體103之內周面211突出。因此，不期望配重220於旋轉體103之周向上過度大型化。

因此，如第2實施形態之配重260般，使彈性位移部262a、262b撓曲，增加彈性位移部262a、262b之長度，藉此不會伴隨過度之大型化，可提高彈性位移部262a、262b之柔軟性。

另，第2實施形態之彈性位移部262a、262b亦可僅設置一者。又，雖省略圖示，但彈性位移部262a、262b中之至少一者之形狀亦可設為向長邊方向(以箭頭B表示之方向)擴展之突出形狀。

＜＜第3實施形態＞＞ 接著，圖12(b)顯示第3實施形態之配重270。於第3實施形態之配重270中，位移容許孔274a、274b形成為L字狀，彈性位移部272a、272b亦為L字型。位移容許孔274a、274b及彈性位移部272a、272b沿配重270之短邊方向(箭頭C)與長邊方向(箭頭B)之兩個方向延伸。另，圖12(b)中以符號277表示者為配重本體部。

於第3實施形態之配重270中，1個彈性位移部272a(及彈性位移部272b)具有2處支持部275a、276a(及支持部275b、276b)。支持部275a、276a構成撓曲部。又，位移容許孔274a、274b分別具有撓曲點278a、278b。因此，與第2實施形態之配重260同樣，可以較小之力使彈性位移部272a、272b大幅位移。

另，第3實施形態之彈性位移部272a、272b亦可僅設置一者。又，雖省略圖示，但彈性位移部272a、272b中之至少一者之形狀亦可設為向長邊方向(以箭頭B表示之方向)擴展之突出形狀。

＜＜第4實施形態＞＞ 接著，圖13(a)顯示第4實施形態之配重280。於第4實施形態之配重280中，位移容許孔284之兩端關閉。彈性位移部282之兩端與配重本體部286相連，且彈性位移部282之兩端成為支持部288。且，彈性位移部282藉由並行配置之支持部288支持。

彈性位移部282及位移容許孔284均形成為圓弧狀。再者，彈性位移部282形成為向配重280之長邊方向(箭頭B)之一方突出之突出形狀。彈性位移部282於寬度方向(箭頭C方向)之中央部構成撓曲點289A。又，位移容許孔284之中央部構成撓曲點289B。且，配重280以向長度方向延伸之中心線G為中心形成為線對稱之形狀。

根據第4實施形態之配重280，於嵌入槽部212(援用圖5(a)、(b))時，彈性位移部282被按壓於配重本體部286之側，於位移容許孔284之範圍內彈性位移。彈性位移部282如兩點鏈線所示般，於與寬度方向(箭頭C方向)平行之狀態下位移，一面使彈性復原力作用一面與壁部213(援用圖5(a)、(b))相接。

第4實施形態之配重280之位移容許孔284與第1實施形態～第3實施形態不同，為封閉之孔。第1實施形態之位移容許孔222a、222b(圖5(b))、或第2實施形態之位移容許孔263a、264a、263a、264b(圖12(a))、及第3實施形態之位移容許孔274a、274b(圖12(b))容易獲得柔軟性。然而，於即使如第4實施形態般關閉位移容許孔(位移容許孔284)，亦可獲得充分之柔軟性之情形時，無需採用開放之位移容許孔。

於圖13(a)之例中，僅形成1組彈性位移部282及位移容許孔284，但彈性位移部282及位移容許孔284之組亦可設置於配重280之長邊方向之兩側。又，亦可設置3組以上彈性位移部282及位移容許孔284。

＜＜第5實施形態＞＞ 接著，圖13(b)顯示第5實施形態之配重290。於第5實施形態之配重290中，設置有長圓狀之彈性位移部292。彈性位移部292藉由細頸狀之支持部296支持。於彈性位移部292之內側，形成有圓弧狀之位移容許孔294，彈性位移部292於寬度方向(與配重290之寬度方向(箭頭B方向)一致)之兩端之部位亦成為支持部298。

彈性位移部292與第4實施形態之彈性位移部282同樣，形成為向配重290之長邊方向(箭頭B方向)之一方突出之突出形狀。彈性位移部292之寬度方向(箭頭C方向)之中央部構成撓曲點297a、297b。又，位移容許孔294之中央部構成撓曲點299。且，配重290以中心線G作為中心形成為線對稱之形狀。

此處，可將細頸狀之支持部296稱為例如「中央支持部」，將彈性位移部292之兩端之支持部298稱為例如「兩端支持部」，而將兩者區別。另，圖13(b)中以符號299表示者為配重本體部。

又，於圖13(b)之例中，僅形成1組彈性位移部292及位移容許孔294，但彈性位移部292及位移容許孔294之組亦可設置於配重290之長邊方向(箭頭B方向)之兩側。

＜＜第6實施形態＞＞ 接著，圖13(c)顯示第6實施形態之配重300。於第6實施形態之配重300中，兩端封閉之位移容許孔304形成為U字狀(或亦稱為コ字狀)。彈性位移部302亦形成為U字狀(或亦稱為コ字狀)。再者，於配重300，形成有位於彈性位移部302之中間部分之2處支持部(亦稱為「中間支持部」)306、與位於基端部之2處支持部(亦稱為「基端支持部」)308。

彈性位移部302與第4實施形態之彈性位移部282及第5實施形態之彈性位移部292同樣，形成為向配重300之長度方向突出之突出形狀。彈性位移部302之寬度方向(箭頭C方向)之中央部構成撓曲點307。又，於位移容許孔304，形成有3處撓曲點308a～308c。且，配重300以中心線G作為中心形成為線對稱之形狀。另，圖13(c)中以符號309表示者為配重本體部。

於圖13(c)之例中，僅形成1組彈性位移部302及位移容許孔304，但彈性位移部302及位移容許孔304之組亦可設置於配重300之長邊方向(箭頭B方向)之兩側。

＜可自各實施形態擷取之發明＞ 如以上說明般，本申請案之真空泵(渦輪分子泵100等)具有如下特徵。 (1)本申請案之真空泵之特徵在於，具備： 外裝體(本體外殼(外筒127與基座部129之組合)等)； 旋轉體(旋轉體103等)，其內包於上述外裝體，旋轉自如地被支持；及 上述旋轉體之驅動機構(馬達121等)；且 於配設於上述旋轉體之內周面(內周面211等)之凹部(槽部212等)，設置有板狀之平衡修正元件(配重220、242、260、270、280、290、300等)。 (2)上述(1)之真空泵之一實施形態為 上述平衡修正元件 於至少一部分具有彈簧構造部(彈性位移部226a、226b、262a、262b、272a、272b、282、292、302等)，被上述凹部夾持。 (3)上述(2)之真空泵之一實施形態為 上述彈簧構造部 設置於上述平衡修正元件，由一端開放之孔(第1實施形態～第3實施形態之位移容許孔222a、222b、263a、263b、264a、264b、274a、274b等)構成。 (4)上述(3)之真空泵之一實施形態為 上述孔具有至少1個撓曲點(第3實施形態～第6實施形態之撓曲點278a、278b、289B、299、308a～308c等)。 (5)上述(2)至(4)中任一項之真空泵之一實施形態為 上述凹部為燕尾槽(第1實施形態之變化例之圖11(a)、(b)之槽部212、或將該變化例應用於第2實施形態～第6實施形態之情形之槽部212等)。 (6)上述(2)至(4)中任一項之真空泵之一實施形態為 上述彈簧構造部 具有相對於上述平衡修正元件之中心為點對稱(以第1實施形態～第3實施形態之中心點D設為中心之點對稱)之構造。 (7)上述(6)之真空泵之一實施形態為 上述凹部為燕尾槽(第1實施形態之變化例之圖11(a)、(b)之槽部212、或將該變化例應用於第2實施形態、及第3實施形態之情形之槽部212等)。 (8)本申請案之真空泵用旋轉體之特徵在於其係內包於外裝體(本體外殼(外筒127與基座部129之組合)等)且旋轉自如地被支持，藉由驅動機構(馬達121等)驅動之真空泵用旋轉體(旋轉體103等)，且 於內周面(內周面211等)配設有供板狀之平衡修正元件(配重220、242、260、270、280、290、300等)設置之凹部(槽部212等)。 (9)本申請案之真空泵用平衡修正元件之特徵在於其係安裝於真空泵用旋轉體(旋轉體103等)之真空泵用平衡修正元件(配重220、242、260、270、280、290、300等)，該真空泵用旋轉體(旋轉體103等)內包於外裝體(本體外殼(外筒127與基座部129之組合)等)而旋轉自如地被支持，藉由驅動機構(馬達121等)驅動，且該真空泵用平衡修正元件(配重220、242、260、270、280、290、300等) 形成為板狀， 配置於上述真空泵用旋轉體之內周面(內周面211等)所配設之凹部(槽部212等)。

另，本發明不限定於上述各實施形態，可於不脫離主旨之範圍內進行各種變化或各實施形態之組合。

13:淨化氣體埠 15:排氣埠 100:渦輪分子泵 101:吸氣口 102a:旋轉翼 102b:旋轉翼 102c:旋轉翼 103:旋轉體 103a:旋轉體本體 103b:旋轉體下部圓筒部 104:上側徑向電磁鐵 105:下側徑向電磁鐵 106A:軸向電磁鐵 106B:軸向電磁鐵 107:上側徑向感測器 108:下側徑向感測器 109:軸向感測器 111:金屬盤 113:轉子軸 120:保護軸承 121:馬達 122:定子柱 123a:固定翼 123b:固定翼 123c:固定翼 125a:固定翼間隔件 125b:固定翼間隔件 125c:固定翼間隔件 127:外筒 129:基座部 131:附螺紋間隔件 131a:螺紋槽 133:排氣口 141:電子電路部 143:基板 145:底蓋 149:水冷管 150:放大器電路 151:電磁鐵繞組 161:電晶體 161a:陰極端子 161b:陽極端子 162:電晶體 162a:陰極端子 162b:陽極端子 165:二極體 165a:陰極端子 165b:陽極端子 166:二極體 166a:陰極端子 166b:陽極端子 171:電源 171a:正極 171b:負極 181:電流檢測電路 191:放大器控制電路 191a:閘極驅動信號 191b:閘極驅動信號 191c:電流檢測信號 200:控制裝置 204:霍爾貝克型排氣機構部 210:間隙 211:內周面 212:槽部 213:壁部 214:壁部 216:間隙 218:底面 220:配重 222a:位移容許孔 222b:位移容許孔 224a:側端面 224b:側端面 226a:彈性位移部 226b:彈性位移部 227:配重本體部 230a:支持部 230b:支持部 232a:前端部 232b:前端部 240:拆卸槽 242:配重 244:拆卸槽 250:接著劑 253:壁部 254:壁部 255a:端面 255b:端面 260:配重 262a:彈性位移部 262b:彈性位移部 263a:位移容許孔 264a:位移容許孔 264b:位移容許孔 265a:支持部 265b:支持部 266a:支持部 266b:支持部 267:配重本體部 270:配重 272a:彈性位移部 272b:彈性位移部 274a:位移容許孔 274b:位移容許孔 275a:支持部 275b:支持部 276a:支持部 276b:支持部 277:配重本體部 278a:撓曲點 278b:撓曲點 280:配重 282:彈性位移部 286:配重本體部 284:位移容許孔 288:支持部 289A:撓曲點 289B:撓曲點 290:配重 292:彈性位移部 294:位移容許孔 296:支持部 297a:撓曲點 297b:撓曲點 298:支持部 299:撓曲點 300:配重 302:彈性位移部 304:位移容許孔 306:支持部 307:撓曲點 308:支持部 308a:撓曲點 308b:撓曲點 308c:撓曲點 309:配重本體部 A:圓 B:箭頭 C:箭頭 D:箭頭 d1:深度 E:箭頭 F:箭頭 G:中心線 iL:電磁鐵電流 Tp1:脈衝寬度時間 Tp2:脈衝寬度時間 Ts:控制循環 t1:厚度 t2:厚度 t3:間隙之大小

圖1係模式性顯示本發明之一實施形態之渦輪分子泵之構成之說明圖。 圖2係放大器電路之電路圖。 圖3係顯示電流指令值大於檢測值之情形之控制之時序圖。 圖4係顯示電流指令值小於檢測值之情形之控制之時序圖。 圖5(a)係圖1中由圓A包圍之部分之放大圖，圖5(b)係顯示於旋轉體之半徑方向中之離心方向觀察配重與其周邊部之狀態之說明圖。 圖6係顯示於旋轉體之軸向觀察配重與其周邊部之狀態之說明圖。 圖7係以兩點鏈線顯示突出形狀之彈性移位部之說明圖。 圖8(a)係顯示於旋轉體之槽部底面設置拆卸槽之情形之縱剖視圖，圖8(b)係顯示於旋轉體之半徑方向中之離心方向觀察配重與其周邊部之狀態之說明圖。 圖9(a)係顯示於配重設置拆卸槽之情形之縱剖視圖，圖9(b)係顯示於旋轉體之半徑方向中之離心方向觀察配重與其周邊部之狀態之說明圖。 圖10係顯示使用接著劑將配重固定於旋轉體之情形之縱剖視圖。 圖11(a)係顯示將槽部設為燕尾槽之情形之縱剖視圖，圖11(b)係使配重之形狀合於燕尾槽之形狀之情形之縱剖視圖。 圖12(a)係顯示第2實施形態之配重之說明圖，圖12(b)係顯示第3實施形態之配重之說明圖。 圖13(a)係顯示第4實施形態之配重之說明圖，圖13(b)係顯示第5實施形態之配重之說明圖，圖13(c)係顯示第6實施形態之配重之說明圖。

103:旋轉體

122:定子柱

129:基座部

210:間隙

211:內周面

212:槽部

213:壁部

214:壁部

216:間隙

218:底面

220:配重

222a:位移容許孔

222b:位移容許孔

224a:側端面

224b:側端面

226a:彈性位移部

226b:彈性位移部

227:配重本體部

230a:支持部

230b:支持部

232a:前端部

232b:前端部

B:箭頭

C:箭頭

D:箭頭

d1:深度

E:箭頭

F:箭頭

G:中心線

t1:厚度

t2:厚度

t3:間隙之大小

Claims (9)

1. 一種真空泵，其特徵在於具備： 外裝體； 旋轉體，其內包於上述外裝體，旋轉自如地被支持；及 上述旋轉體之驅動機構；且 於配設於上述旋轉體之內周面之凹部，設置有板狀之平衡修正元件。
2. 如請求項1之真空泵，其中上述平衡修正元件 於至少一部分具有彈簧構造部，且被上述凹部夾持。
3. 如請求項2之真空泵，其中上述彈簧構造部 設置於上述平衡修正元件，由一端開放之孔構成。
4. 如請求項3之真空泵，其中上述孔具有至少1個撓曲點。
5. 如請求項2至4中任一項之真空泵，其中上述凹部為燕尾槽。
6. 如請求項2至4中任一項之真空泵，其中上述彈簧構造部 具有相對於上述平衡修正元件之中心為點對稱之構造。
7. 如請求項6之真空泵，其中上述凹部為燕尾槽。
8. 一種真空泵用旋轉體，其特徵在於，其係內包於外裝體且旋轉自如地被支持，藉由驅動機構驅動之真空泵用旋轉體，且 於內周面配設有供板狀之平衡修正元件設置之凹部。
9. 一種真空泵用平衡修正元件，其特徵在於，其係安裝於真空泵用旋轉體之真空泵用平衡修正元件，該真空泵用旋轉體內包於外裝體且旋轉自如地被支持，且藉由驅動機構驅動；且該真空泵用平衡修正元件係 形成為板狀， 配置於上述真空泵用旋轉體之內周面上配設之凹部。