WO2023008302A1

WO2023008302A1 - 真空ポンプ

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Publication number: WO2023008302A1
Application number: PCT/JP2022/028323
Authority: WO
Inventors: 慶行高井; 透三輪田; 祐幸坂口
Original assignee: エドワーズ株式会社
Priority date: 2021-07-26
Filing date: 2022-07-21
Publication date: 2023-02-02
Also published as: TW202305246A; CN117597518A; IL309298A; KR20240035403A; JP2023017160A; EP4379215A1

Abstract

【課題】組立て作業のサポートに好適な構造の真空ポンプと、その組立て方法、及び、その組立てに用いられる治具を提供する。【解決手段】真空ポンプ１は、シール部材Lの軸方向高さ調整に用いられる治具Ｑと当接する当接部Ｒを備える。回転体１０３の外周に対向してポンプ固定部品Ｊを配置する真空ポンプ組立時には、ポンプ固定部品をベース１２９上に配置した状態で当接部により治具の位置決めを行い、位置決めされた治具の押圧部Ｑ１でポンプ固定部品をベース方向に押圧することで、シール部材Ｌの軸方向高さを調整する。この調整によって、ポンプ固定部品を全体的にベース方向に下降させることで、ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層する静翼１２３と、回転体の外周からポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼１０２との干渉を回避する。

Description

真空ポンプ

　本発明は、半導体製造装置、フラット・パネル・ディスプレイ製造装置、ソーラー・パネル製造装置におけるプロセスチャンバその他のチャンバのガス排気手段として利用される真空ポンプとその組立て方法、及びその組立てに用いられる治具に関し、特に、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適なものである。

　従来、この種の真空ポンプとしては、例えば特許文献１に記載された真空ポンプが知られている。同文献の真空ポンプは、静翼（７）と動翼（６）を交互に配置した構造のタービン段を備えている。

　しかし、特許文献１のようなタービン段を備える従来の真空ポンプによると、その構造上、上下方向で隣接する動翼（６）間に静翼（７）が介在するため、真空ポンプ組立て作業、特に動翼（６）間に静翼（７）を介在させる作業の際に、静翼（７）と動翼（６）とが干渉し、干渉によって静翼（７）や動翼（６）に傷を付けてしまうおそれがある等、真空ポンプ組立て作業は大変である。

特開２０１４－５１９５２号公報

　本発明は前記問題点を解決するためになされたもので、その目的は、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適な構造の真空ポンプと、その組立て方法、及び、その組立てに用いられる治具を提供することである。

　前記目的を達成するために、本発明に係る真空ポンプは、ベースと、前記ベース上に配置された回転体と、前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、前記隙間をシールするシール部材と、前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、を備えたことを特徴とする。

　前記本発明に係る真空ポンプにおいて、前記当接部は、前記ポンプ固定部品に取り付ける付属部品と同じ位相で配置されることにより、前記付属部品の取り付けの際に、その当接部によって位置決めされた前記治具と前記付属部品とが干渉するように設けられていることを特徴としてもよい。

　また、本発明に係る真空ポンプの組立方法は、ベースと、前記ベース上に配置された回転体と、前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、前記隙間をシールするシール部材と、前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、を備えた真空ポンプの組立方法であって、前記回転体の外周に対向して前記ポンプ固定部品を配置するときの工程は、前記ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層される静翼と、前記回転体の外周から前記ポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼との干渉を回避する手段として、前記ポンプ固定部品を前記ベース上に配置した状態で前記当接部により前記治具の位置決めを行い、位置決めされた該治具の押圧部で前記ポンプ固定部品を前記ベース方向に押圧することで、前記シール部材の軸方向高さが第１の所定値となるように調整する第１の工程と、前記第１の工程の後に、前記ポンプ固定部品上に前記静翼を配置することで、該静翼と前記動翼を交互に配置した構造のタービン段を形成する第２の工程と、前記第２の工程の後に、前記ベースに対して前記ポンプ固定部品を前記ケーシングで固定することにより、前記シール部材の軸方向高さが第２の所定値となるように調整する第３の工程と、を含むことを特徴とする。

　前記本発明に係る真空ポンプの組立方法において、前記第１の所定値は、前記シール部材の設計寸法値より少し高い寸法値であり、前記第２の所定値は、前記シール部材の設計寸法値であることを特徴としてもよい。

　前記本発明に係る真空ポンプの組立方法において、前記第３の工程では、前記第１の工程で使用した前記治具の前記押圧部と前記ポンプ固定部品との間に隙間が形成されることを特徴としてもよい。

　さらに、本発明に係る治具は、ベースと、前記ベース上に配置された回転体と、前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、前記隙間をシールするシール部材と、前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、を備えた真空ポンプの組立に用いられる治具であって、前記治具は、前記ポンプ固定部品を前記ベース上に配置した状態で前記当接部により位置決めすること、および位置決めした状態で前記ポンプ固定部品を前記ベース方向に押圧することで前記シール部材の軸方向高さを調整する押圧部を具備することを特徴とする。

　前記本発明に係る治具において、該治具は、前記シール部材の軸方向の高さを調整した後も、前記ポンプ固定部品との間に隙間を形成した状態でポンプ内に配設されることを特徴としてもよい。

　前記本発明に係る治具において、該治具は、前記ポンプ固定部品に取り付ける付属部品と同じ位相で配置されることにより、前記付属部品の取り付けの際に、前記付属部品と干渉することを特徴としてもよい。

　本発明では、真空ポンプの具体的な構成として、前述の通り、シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部を備える構成を採用した。このため、真空ポンプ組立て時、例えば、回転体の外周に対向してポンプ固定部品を配置する時、ポンプ固定部品をベース上に配置した状態で当接部により治具の位置決めを行い、位置決めされた治具の押圧部でポンプ固定部品をベース方向に押圧することで、シール部材の軸方向高さを調整すること、及び、この調整によって、ポンプ固定部品を全体的にベース方向に下降させることで、部品どうしの干渉、具体的には、ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層する静翼と、回転体の外周からポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼との干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適な構造の真空ポンプを提供し得る。

　本発明によると、前記のような真空ポンプの具体的な組立方法として、前述の通り、第１から第３の工程を採用し、第１の工程では、ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層される静翼と、回転体の外周からポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼との干渉を回避する手段として、ポンプ固定部品をベース上に配置した状態で当接部により治具の位置決めを行い、位置決めされた該治具の押圧部でポンプ固定部品をベース方向に押圧することで、シール部材の軸方向高さが第１の所定値となるように調整するものとした。このため、第１の工程の後に、ポンプ固定部品上に静翼を配置することにより静翼と動翼を交互に配置した構造のタービン段を形成する時に、前記干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適である。

　また、本発明によると、前記のような真空ポンプの組立てに用いられる治具の具体的な構成として、前記の通り、かかる治具は、ポンプ固定部品をベース上に配置した状態で当接部により位置決めされるものであって、かつ、その位置決めされた状態でポンプ固定部品をベース方向に押圧することでシール部材の軸方向高さを調整する押圧部を具備する構成を採用した。このため、シール部材の軸方向高さの調整によって、ポンプ固定部品を全体的にベース方向に下降させることで、部品どうしの干渉、具体的には、ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層する静翼と、回転体の外周からポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼との干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適である。

ターボ分子ポンプと称する真空ポンプの縦断面図。アンプ回路の回路図。電流指令値が検出値より大きい場合の制御を示すタイムチャート図。電流指令値が検出値より小さい場合の制御を示すタイムチャート図。本発明を適用した真空ポンプの断面図。第１の工程の説明図。第２および３の工程の説明図。図７の一部とその拡大図。本発明を適用した治具の真空ポンプに対する配置模式図。治具の上面図。治具の正面図。

　図１はターボ分子ポンプと称する真空ポンプの縦断面図であり、図２はアンプ回路の回路図、図３は電流指令値が検出値より大きい場合の制御を示すタイムチャート図、図４は電流指令値が検出値より小さい場合の制御を示すタイムチャート図である。

　図１を参照すると、同図の真空ポンプ１００において、円筒状の外筒１２７の上端には吸気口１０１が形成されている。そして、外筒１２７の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードである複数の動翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）を周部に放射状かつ多段に形成したロータ１０３（以下「回転体１０３」という）が備えられている。この回転体１０３の具体的な構成例として、図１の真空ポンプ１００では、かかる回転体１０３は第１の円筒部１０２ｅの外周部に動翼１０２を形成した形状になっている。

　回転体１０３の中心には締結部ＣＮを介してロータ軸１１３が取り付けられており、ロータ軸１１３は、例えば５軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。この場合、磁気軸受およびロータ軸１１３が回転体１０３をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段として機能する。また、この回転体１０３は、一般的に、アルミニウム又はアルミニウム合金などの金属によって構成されている。

　磁気軸受の具体的な構成例として、図１の真空ポンプ１００では、上側径方向電磁石１０４は、４個の電磁石がＸ軸とＹ軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石１０４に近接して、かつ上側径方向電磁石１０４のそれぞれに対応して、４個の上側径方向センサ１０７が備えられている。上側径方向センサ１０７は、例えば伝導巻線を有するインダクタンスセンサや渦電流センサなどが用いられ、ロータ軸１１３の位置に応じて変化するこの伝導巻線のインダクタンスの変化に基づいてロータ軸１１３の位置を検出する。この上側径方向センサ１０７はロータ軸１１３、すなわちそれに固定された回転体１０３の径方向変位を検出し、制御装置２００に送るように構成されている。

　制御装置２００において、例えばＰＩＤ調節機能を有する補償回路が、上側径方向センサ１０７によって検出された位置信号に基づいて、上側径方向電磁石１０４の励磁制御指令信号を生成し、図２に示すアンプ回路１５０（後述する）が、この励磁制御指令信号に基づいて、上側径方向電磁石１０４を励磁制御することで、ロータ軸１１３の上側の径方向位置が調整される。

　ロータ軸１１３は、高透磁率材（鉄、ステンレスなど）などにより形成され、上側径方向電磁石１０４の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立して行われる。また、下側径方向電磁石１０５及び下側径方向センサ１０８が、上側径方向電磁石１０４及び上側径方向センサ１０７と同様に配置され、ロータ軸１１３の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。

　さらに、磁気軸受の具体的な構成例として、図１の真空ポンプ１００では、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが、ロータ軸１１３の下部に備えた円板状の金属ディスク１１１を上下に挟んで配置されている。金属ディスク１１１は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸１１３の軸方向変位を検出するために軸方向センサ１０９が備えられ、その軸方向位置信号が制御装置２００に送られるように構成されている。

　そして、制御装置２００において、例えばＰＩＤ調節機能を有する補償回路が、軸方向センサ１０９によって検出された軸方向位置信号に基づいて、軸方向電磁石１０６Ａと軸方向電磁石１０６Ｂのそれぞれの励磁制御指令信号を生成し、アンプ回路１５０が、これらの励磁制御指令信号に基づいて、軸方向電磁石１０６Ａと軸方向電磁石１０６Ｂをそれぞれ励磁制御することで、軸方向電磁石１０６Ａが磁力により金属ディスク１１１を上方に吸引し、軸方向電磁石１０６Ｂが金属ディスク１１１を下方に吸引し、ロータ軸１１３の軸方向位置が調整される。

　以上のように、制御装置２００は、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが金属ディスク１１１に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸１１３を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。なお、これら上側径方向電磁石１０４、下側径方向電磁石１０５及び軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂを励磁制御するアンプ回路１５０については、後述する。

　図１の真空ポンプ１００において、モータ１２１は、ロータ軸１１３を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸１１３との間に作用する電磁力を介してロータ軸１１３を回転駆動するように、制御装置２００によって制御されている。また、モータ１２１には図示しない例えばホール素子、レゾルバ、エンコーダなどの回転速度センサが組み込まれており、この回転速度センサの検出信号によりロータ軸１１３の回転速度が検出されるようになっている。

　さらに、例えば下側径方向センサ１０８近傍に、図示しない位相センサが取り付けてあり、ロータ軸１１３の回転の位相を検出するようになっている。制御装置２００では、この位相センサと回転速度センサの検出信号を共に用いて磁極の位置を検出するようになっている。

　動翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）とわずかの空隙を隔てて複数枚の静翼１２３（１２３ａ、１２３ｂ、１２３ｃ・・・）が配設されている。動翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。静翼１２３（１２３ａ、１２３ｂ、１２３ｃ・・・）は、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。

　また、静翼１２３も、同様にロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒１２７の内方に向けて動翼１０２の段と互い違いに配設されている。そして、静翼１２３の外周端は、複数の段積みされた静翼スペーサ１２５（１２５ａ、１２５ｂ、１２５ｃ・・・）の間に嵌挿された状態で支持されている。

　静翼スペーサ１２５はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。静翼スペーサ１２５の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒１２７が固定されている。外筒１２７の底部にはベース１２９が配設されている。ベース１２９には排気口１３３が形成され、外部に連通されている。チャンバ（真空チャンバ）側から吸気口１０１に入ってベース１２９に移送されてきた排気ガスは、排気口１３３へと送られる。

　さらに、真空ポンプ１００の用途によって、静翼スペーサ１２５の下部とベース１２９の間には、ネジ付スペーサ１３１が配設される。ネジ付スペーサ１３１は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝１３１ａが複数条刻設されている。ネジ溝１３１ａの螺旋の方向は、回転体１０３の回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口１３３の方へ移送される方向である。回転体１０３の動翼１０２（１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・）に続く最下部には第２の円筒部１０２ｄが第１の円筒部１０２ｅに繋がって垂下されている。第２の円筒部１０２ｄの外周面は、円筒状で、かつネジ付スペーサ１３１の内周面に向かって張り出されており、このネジ付スペーサ１３１の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。動翼１０２および静翼１２３によってネジ溝１３１ａに移送されてきた排気ガスは、ネジ溝１３１ａに案内されつつベース１２９へと送られる。

　ベース１２９は、真空ポンプ１００の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。ベース１２９は真空ポンプ１００を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。

　かかる構成において、動翼１０２がロータ軸１１３と共にモータ１２１により回転駆動されると、動翼１０２と静翼１２３の作用により、吸気口１０１を通じてチャンバから排気ガスが吸気される。動翼１０２の回転速度は通常２００００ｒｐｍ～９００００ｒｐｍであり、動翼１０２の先端での周速度は２００ｍ／ｓ～４００ｍ／ｓに達する。吸気口１０１から吸気された排気ガスは、動翼１０２と静翼１２３の間を通り、ベース１２９へ移送される。このとき、排気ガスが動翼１０２に接触する際に生ずる摩擦熱や、モータ１２１で発生した熱の伝導などにより、動翼１０２の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は排気ガスの気体分子などによる伝導により静翼１２３側に伝達される。

　静翼スペーサ１２５は、外周部で互いに接合しており、静翼１２３が動翼１０２から受け取った熱や排気ガスが静翼１２３に接触する際に生ずる摩擦熱などを外部へと伝達する。

　なお、上記では、ネジ付スペーサ１３１は回転体１０３の円筒部１０２ｄの外周に配設し、ネジ付スペーサ１３１の内周面にネジ溝１３１ａが刻設されているとして説明した。しかしながら、これとは逆に円筒部１０２ｄの外周面にネジ溝が刻設され、その周囲に円筒状の内周面を有するスペーサが配置される場合もある。

　また、真空ポンプ１００の用途によっては、吸気口１０１から吸引されたガスが上側径方向電磁石１０４、上側径方向センサ１０７、モータ１２１、下側径方向電磁石１０５、下側径方向センサ１０８、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂ、軸方向センサ１０９などで構成される電装部に侵入することのないよう、電装部は周囲をステータコラム１２２で覆われ、このステータコラム１２２内はパージガスにて所定圧に保たれる場合もある。

　この場合には、ベース１２９には図示しない配管が配設され、この配管を通じてパージガスが導入される。導入されたパージガスは、保護ベアリング１２０とロータ軸１１３間、モータ１２１のロータとステータ間、ステータコラム１２２と動翼１０２の内周側円筒部の間の隙間を通じて排気口１３３へ送出される。

　ここに、真空ポンプ１００は、機種の特定と、個々に調整された固有のパラメータ（例えば、機種に対応する諸特性）に基づいた制御を要する。この制御パラメータを格納するために、上記真空ポンプ１００は、その本体内に電子回路部１４１を備えている。電子回路部１４１は、ＥＥＰ－ＲＯＭ等の半導体メモリ及びそのアクセスのための半導体素子等の電子部品、それらの実装用の基板１４３等から構成される。この電子回路部１４１は、真空ポンプ１００の下部を構成するベース１２９の例えば中央付近の図示しない回転速度センサの下部に収容され、気密性の底蓋１４５によって閉じられている。

　ところで、半導体の製造工程では、チャンバに導入されるプロセスガスの中には、その圧力が所定値よりも高くなり、或いは、その温度が所定値よりも低くなると、固体となる性質を有するものがある。真空ポンプ１００内部では、排気ガスの圧力は、吸気口１０１で最も低く排気口１３３で最も高い。プロセスガスが吸気口１０１から排気口１３３へ移送される途中で、その圧力が所定値よりも高くなったり、その温度が所定値よりも低くなったりすると、プロセスガスは、固体状となり、真空ポンプ１００内部に付着して堆積する。

　例えば、Ａｌエッチング装置にプロセスガスとしてＳｉＣｌ_４が使用された場合、低真空（７６０［ｔｏｒｒ］～１０^－２［ｔｏｒｒ］）かつ、低温（約２０［℃］）のとき、固体生成物（例えばＡｌＣｌ_３）が析出し、真空ポンプ１００内部に付着堆積することが蒸気圧曲線からわかる。これにより、真空ポンプ１００内部にプロセスガスの析出物が堆積すると、この堆積物が真空ポンプのガス流路を狭め、真空ポンプ１００の性能を低下させる原因となる。そして、前述した生成物は、排気口１３３付近やネジ付スペーサ１３１付近の圧力が高い部分で凝固、付着し易い状況にあった。

　そのため、この問題を解決するために、従来はベース１２９等の外周に図示しないヒータや環状の水冷管１４９を巻着させ、かつ例えばベース１２９に図示しない温度センサ（例えばサーミスタ）を埋め込み、この温度センサの信号に基づいてベース１２９の温度を一定の高い温度（設定温度）に保つようにヒータの加熱や水冷管１４９による冷却の制御（以下ＴＭＳという。ＴＭＳ；Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ　Ｓｙｓｔｅｍ）が行われている。

　次に、このように構成される真空ポンプ１００に関して、その上側径方向電磁石１０４、下側径方向電磁石１０５及び軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂを励磁制御するアンプ回路１５０について説明する。このアンプ回路１５０の回路図を図２に示す。

　図２において、上側径方向電磁石１０４等を構成する電磁石巻線１５１は、その一端がトランジスタ１６１を介して電源１７１の正極１７１ａに接続されており、また、その他端が電流検出回路１８１及びトランジスタ１６２を介して電源１７１の負極１７１ｂに接続されている。そして、トランジスタ１６１、１６２は、いわゆるパワーＭＯＳＦＥＴとなっており、そのソース－ドレイン間にダイオードが接続された構造を有している。

　このとき、トランジスタ１６１は、そのダイオードのカソード端子１６１ａが正極１７１ａに接続されるとともに、アノード端子１６１ｂが電磁石巻線１５１の一端と接続されるようになっている。また、トランジスタ１６２は、そのダイオードのカソード端子１６２ａが電流検出回路１８１に接続されるとともに、アノード端子１６２ｂが負極１７１ｂと接続されるようになっている。

　一方、電流回生用のダイオード１６５は、そのカソード端子１６５ａが電磁石巻線１５１の一端に接続されるとともに、そのアノード端子１６５ｂが負極１７１ｂに接続されるようになっている。また、これと同様に、電流回生用のダイオード１６６は、そのカソード端子１６６ａが正極１７１ａに接続されるとともに、そのアノード端子１６６ｂが電流検出回路１８１を介して電磁石巻線１５１の他端に接続されるようになっている。そして、電流検出回路１８１は、例えばホールセンサ式電流センサや電気抵抗素子で構成されている。

　以上のように構成されるアンプ回路１５０は、一つの電磁石に対応されるものである。そのため、磁気軸受が５軸制御で、電磁石１０４、１０５、１０６Ａ、１０６Ｂが合計１０個ある場合には、電磁石のそれぞれについて同様のアンプ回路１５０が構成され、電源１７１に対して１０個のアンプ回路１５０が並列に接続されるようになっている。

　さらに、アンプ制御回路１９１は、例えば、制御装置２００の図示しないディジタル・シグナル・プロセッサ部（以下、ＤＳＰ部という）によって構成され、このアンプ制御回路１９１は、トランジスタ１６１、１６２のｏｎ／ｏｆｆを切り替えるようになっている。

　アンプ制御回路１９１は、電流検出回路１８１が検出した電流値（この電流値を反映した信号を電流検出信号１９１ｃという）と所定の電流指令値とを比較するようになっている。そして、この比較結果に基づき、ＰＷＭ制御による１周期である制御サイクルＴｓ内に発生させるパルス幅の大きさ（パルス幅時間Ｔｐ１、Ｔｐ２）を決めるようになっている。その結果、このパルス幅を有するゲート駆動信号１９１ａ、１９１ｂを、アンプ制御回路１９１からトランジスタ１６１、１６２のゲート端子に出力するようになっている。

　なお、回転体１０３の回転速度の加速運転中に共振点を通過する際や定速運転中に外乱が発生した際等に、高速かつ強い力での回転体１０３の位置制御をする必要がある。そのため、電磁石巻線１５１に流れる電流の急激な増加（あるいは減少）ができるように、電源１７１としては、例えば５０Ｖ程度の高電圧が使用されるようになっている。また、電源１７１の正極１７１ａと負極１７１ｂとの間には、電源１７１の安定化のために、通常コンデンサが接続されている（図示省略）。

　かかる構成において、トランジスタ１６１、１６２の両方をｏｎにすると、電磁石巻線１５１に流れる電流（以下、電磁石電流ｉＬという）が増加し、両方をｏｆｆにすると、電磁石電流ｉＬが減少する。

　また、トランジスタ１６１、１６２の一方をｏｎにし他方をｏｆｆにすると、いわゆるフライホイール電流が保持される。そして、このようにアンプ回路１５０にフライホイール電流を流すことで、アンプ回路１５０におけるヒステリシス損を減少させ、回路全体としての消費電力を低く抑えることができる。また、このようにトランジスタ１６１、１６２を制御することにより、真空ポンプ１００に生じる高調波等の高周波ノイズを低減することができる。さらに、このフライホイール電流を電流検出回路１８１で測定することで電磁石巻線１５１を流れる電磁石電流ｉＬが検出可能となる。

　すなわち、検出した電流値が電流指令値より小さい場合には、図３に示すように制御サイクルＴｓ（例えば１００μｓ）中で１回だけ、パルス幅時間Ｔｐ１に相当する時間分だけトランジスタ１６１、１６２の両方をｏｎにする。そのため、この期間中の電磁石電流ｉＬは、正極１７１ａから負極１７１ｂへ、トランジスタ１６１、１６２を介して流し得る電流値ｉＬｍａｘ（図示せず）に向かって増加する。

　一方、検出した電流値が電流指令値より大きい場合には、図４に示すように制御サイクルＴｓ中で１回だけパルス幅時間Ｔｐ２に相当する時間分だけトランジスタ１６１、１６２の両方をｏｆｆにする。そのため、この期間中の電磁石電流ｉＬは、負極１７１ｂから正極１７１ａへ、ダイオード１６５、１６６を介して回生し得る電流値ｉＬｍｉｎ（図示せず）に向かって減少する。

　そして、いずれの場合にも、パルス幅時間Ｔｐ１、Ｔｐ２の経過後は、トランジスタ１６１、１６２のどちらか１個をｏｎにする。そのため、この期間中は、アンプ回路１５０にフライホイール電流が保持される。

　図５は本発明を適用した真空ポンプの断面図であり、図６は第１の工程の説明図、図７は第３の工程の説明図、図８は図７の一部拡大図である。また、図９は本発明を適用した治具の真空ポンプに対する配置模式図、図１０は治具の上面図、図１１は治具の正面図である。

　この図５の真空ポンプ１は、ベース１２９と、ベース１２９上に配置された回転体１０３と、回転体１０３をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、回転体１０３の外周に対向して配置されるポンプ固定部品Ｊと、ポンプ固定部品Ｊの少なくとも一部をその上側で固定するケーシングＫと、ポンプ固定部品Ｊとベース１２９との間に形成される隙間Ｇ１と、隙間Ｇ１をシールするシール部材Ｌと、シール部材Ｌの軸方向高さ調整に用いられる治具Ｑ（図６から図１１参照）と当接する当接部Ｒと、を備えている。

　図５の真空ポンプ１において、ベース１２９、回転体１０３、および、支持手段の具体的な構成は、先に説明した図１の真空ポンプ１００のものと同様であるため、同一部材には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。

　図５の真空ポンプ１におけるポンプ固定部品Ｊは、前述の通り回転体１０３の外周に対向して配置される部品であるから、同図の真空ポンプ１においては、そのように配置される部品、具体的には、少なくとも静翼１２３(１２３ａ、１２３ｂ…)、静翼スペーサ１２５（１２５ａ、１２５ｂ…）、ネジ付スペーサ１３１がポンプ固定部品Ｊに相当する。

　図５の真空ポンプ１において、静翼１２３、静翼スペーサ１２５、ネジ付スペーサ１３１の具体的な機能については、先に説明した図１の真空ポンプ１００のものと同様であるため、同一部材には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。

　ネジ付スペーサ１３１を支持する具体的な構成例として、図５の真空ポンプ１では、ヒータスペーサ３００の上部にネジ付スペーサ１３１を取付ける構成を採用している。ヒータスペーサ３００もまた、回転体１０３の外周に対向して配置される部品であるから、ポンプ固定部品Ｊである。

　ヒータスペーサ３００には、カートリッジヒータＨ（図９参照）が複数取付けられている。これらのカートリッジヒータＨは、主に、ヒータスペーサ３００を加熱し発熱させることによってネジ付スペーサ１３１を加熱する手段として機能する。ヒータスペーサ３００にカートリッジヒータＨを取付ける構造例として、図５の真空ポンプ１では、ヒータスペーサ３００の外周にヒータ取付け用の凹部３００Ａを形成し、該凹部３００ＡにカートリッジヒータＨを装着する構造を採用したが、この構造に限定されることはない。

　ヒータスペーサ３００の下部には、インシュレータウォール３０１が取り付けられている。インシュレータウォール３０１は、ネジ溝１３１ａの下流出口付近から排気口１３１（図１参照）に繋がるポンプ内流路を形成する手段等として機能する。このインシュレータウォール３０１も、回転体１０３の外周に対向して配置される部品であるから、ポンプ固定部品Ｊである。

　また、ヒータスペーサ３００の上部には、筒状のインナースペーサ３０２が取り付けられている。インナースペーサ３０２は、ネジ付きスペーサ１３１上に積層された静翼１２３と静翼スペーサ１２５からなる積層体（図５の例では、下から４段分の静翼１２３（１２３ｄから１２３ｈ）と静翼スペーサ１２５（１２５ｃから１２５ｆ））の外周を覆うように配置される。このように配置されたインナースペーサ３０２も、回転体１０３の外周に対向して配置される部品であるから、ポンプ固定部品Ｊである。

　当接部Ｒの具体的な構造例として、図１の真空ポンプ１では、ヒータスペーサ３００の下部外周に凹部Ｒ１を形成し、この凹部Ｒ１に治具Ｑの押圧部Ｑ１が係合する構造（図６参照）を採用している。

　当接部Ｒは、前記のように、シール部材Ｌの軸方向高さ調整に用いられるものであるから、この用途を逸脱しない範囲内で必要に応じて適宜その構造変更が可能である。図示は省略するが、例えば、当接部Ｒを凸部で形成し、この凸部に治具Ｑの凹部が係合する構造を採用することも可能である。

　ケーシングＫの具体的な構成例として、図５の真空ポンプ１では、かかるケーシングＫは、図１の真空ポンプ１００における外筒１２７を上部ケーシングＫ１と下部ケーシングＫ２とに分け、このうち下部ケーシングＫ２が前述の固定機能を有する。すなわち、下部ケーシングＫ２がポンプ固定部品Ｊの少なくとも一部をその上側で固定する機能を有するように構成してある。

　上部ケーシングＫ１は、真空ポンプ１の外装として機能する。この一方、下部ケーシングＫ２は、水冷スペーサＫ２１とアウターウォールＫ２２とをボルトＢＴ３（図７参照）で連結した構造になっていて、真空ポンプ１の外装として機能するほか、水冷スペーサＫ２１内の図示しない水冷管中に冷却媒体が通されることにより、真空ポンプ１を冷却する手段としても機能する。

　下部ケーシングＫ２によってポンプ固定部品Ｊの一部を固定する具体的な構成例として、図５の真空ポンプ１では、下部ケーシングＫ２とインナースペーサ３０２とが互いに上下に重なる部分において、下部ケーシング１２７Ｂ側にボルト通し孔を形成する一方、インナースペーサ３０２側にネジ孔を形成し、かつ、そのボルト通し孔にボルトＢＴ１（図７参照）を通して前記ネジ孔に締め付け固定する構成を採用したが、これに限定されることはない。ボルトＢＴ１以外の他の締結手段によってインナースペーサ３０２を固定してもよい。

　インナースペーサ３０２をヒータスペーサ３００に取付け固定する具体的な構成例として、図５の真空ポンプ１では、インナースペーサ３０２の下部フランジ部にボルト通し孔を形成する一方、ヒータスペーサ３００の上部フランジ部にネジ孔を形成し、かつ、そのボルト通し孔にボルトＢＴ２（図７参照）を通して前記ネジ孔に締め付け固定する構成を採用したが、これに限定されることはない。ボルトＢＴ２以外の他の締結手段によってインナースペーサ３０２を固定してもよい。

　隙間Ｇ１は、ベース１２９の上面とこれに隣接して対向するヒータスペーサ３００（ポンプ固定部品Ｊ）の下面との間、及び、ベース１２９の上面とこれに隣接して対向するインナースペーサ３０２の下面との間に設けられることで、ベース１２９とヒータスペーサ３００やインナースペーサ３０２との間での熱移動を防止する断熱手段として機能する。

　図１の真空ポンプでは、インナースペーサ３０２、ヒータスペーサ３００、ネジ付スペーサ１３１、インシュレータウォール３０１、下から４段分の静翼１２３（１２３ｅから１２３ｈ）と静翼スペーサ１２５（１２５ｃから１２５ｆ）が全体として一つの纏まった内部ユニットとして構成されており、この内部ユニットＭは、ネジ溝１３１ａ内などでの堆積物の生成を防止するために、ヒータスペーサ３００の発熱によって加熱される。その熱が内部ユニットからベース１２９側へ逃げることを防止する手段として、前記隙間Ｇ１は機能する。

　シール部材Ｌは、前記隙間Ｇ１、すなわち、ベース１２９と内部ユニットＭとの間（具体的には、ベース１２９の上面とヒータスペーサ３００の下面との間）に介在することにより、真空ポンプ１の内部を大気側から遮断する手段として機能する。

　隙間Ｇ１にシール部材Ｌを介在させる具体的な構成として、図１の真空ポンプ１では、ベース１２９上にインシュレータＮを配置し、インシュレータＮ上にシール部材Ｌが配置される構成を採用したが、この構成に限定されることはない。インシュレータＮは省略することも可能である。

　インシュレータＮは、一部が立ち上がった形状になっていて、その立ち上がり部Ｎ１の先端部が当接部としてヒータスペーサ３００の下部内周に当接し、別な一端がベース１２９の段差部と当接することで、ヒータスペーサ３００の径方向位置決め手段として機能する。また、このインシュレータＮの立ち上がり部Ｎ１に前述のシール部材Ｌを当接して配置することで、インシュレータＮはシール部材Ｎの径方向位置決め手段としても機能する。

　図６を参照すると、治具Ｑは、ポンプ固定部品Ｊ（具体的にはヒータスペーサ３００）をベース１２９上に配置した状態で、前述の当接部Ｒにより位置決めされる。この当接部Ｒによる治具Ｑの位置決めは、先に説明したヒータスペーサ３００の凹部Ｒ１に対して治具Ｑの押圧部Ｑ１が係合することによるものである。

　治具Ｑの押圧部Ｑ１は、前記のように位置決めされた状態で、ポンプ固定部品Ｊ（具体的にはヒータスペーサ３００）をベース１２９方向に押圧することでシール部材Ｌの軸方向高さを調整する手段として機能する。

　図９を参照すると、図５の真空ポンプ１では、当接部Ｒの具体的な配置構成として、当接部Ｒは、ポンプ固定部品Ｊに取り付ける付属部品（図５、図９の例ではカートリッジヒータＨ）と同じ位相で配置される。

　したがって、当接部Ｒによって位置決めされた治具Ｑは、付属部品であるカートリッジヒータＨの取り付けの際に、カートリッジヒータＨと干渉する。治具Ｑを取り除かない限り、カートリッジヒータＨの取り付けはできないので、治具Ｑの取り忘れを効果的に防止することができる。

　カートリッジヒータＨは付属部品の一例である。カートリッジヒータＨ以外の他の付属部品と治具Ｑが干渉するように構成してもよい。

　図５の真空ポンプ１を組み立てる際は、ベース１２９上に回転体１０３を配置し、その後、回転体１０３の外周に対向してポンプ固定部品Ｊを配置する。ここでのポンプ固定部品Ｊの配置は、インナースペーサ３０２、ヒータスペーサ３００およびネジ付スペーサ１３１を図６のようにベース１２９上に配置するものであり、そのように配置する作業の工程は、下記第１から第３の工程の通りである。

《第１の工程》
　図６を参照すると、第１の工程では、最初に、ベース１２９にインシュレータＮを取付け、取付けたインシュレータＮの上にシール部材Ｌを配置する。そして、インシュレータウォール３０１、ヒータスペーサ３００、ネジ付きスペーサ１３１がその順に積層された状態でベース１２９上に配置されるようにする。

　これにより、インシュレータウォール３０１、ヒータスペーサ３００およびネジ付スペーサ１３１は、回転体１０３の外周に対向して配置される（図６では、説明の都合上、図８に示した回転体１０３を省略している）

　前記のようにインシュレータウォール３０１、ヒータスペーサ３００およびネジ付スペーサ１３１が回転体１０３の外周に対向して配置され、そのヒータスペーサ３００の下面がシール部材Ｌに当接する。そして、シール部材Ｌの厚みにより、ベース１２９とインシュレータウォール３０１との間、および、ベース１２９とヒータスペーサ３００との間には、所定の隙間Ｇ１が形成される。また、インシュレータＮの立ち上がり部Ｎ１の先端部にヒータスペーサ３００の下部内周が接触することで、ヒータスペーサ３００、インナースペーサ３０２およびネジ付きスペーサ１３１は径方向に位置決めされる。

　この段階では、ヒータスペーサ３００上に静翼１２３と静翼スペーサ１２５を交互に段積み積層することでポンプ固定部品Ｊ上に静翼１２３を配置する作業は、出来ない。その理由は要するに、ポンプ固定部品Ｊ上に該ポンプ固定部品Ｊの一部として積層される静翼１２３が、回転体１０３の外周からポンプ固定部品Ｊの方向に向かって突出した動翼１０２と干渉するためである。

　そこで、第１の工程では、前記のようにインシュレータウォール３０１、ヒータスペーサ３００およびネジ付スペーサ１３１をベース１２９上に配置した状態で、そのヒータスペーサ３００の外周に治具Ｑを配置し、ヒータスペーサ３００の当接部Ｒにより治具Ｑの高さ位置決めを行う。この位置決めは、治具Ｑの押圧部Ｑ１をヒータスペーサ３００の凹部Ｒ１に嵌め込むものである。

　そして、前記のように位置決めされた治具Ｑの押圧部Ｑ１でヒータスペーサ３００をベース１２９方向に押圧することにより、シール部材Ｌの軸方向高さが第１の所定値となるように調整する。この第１の所定値は、シール部材Ｌの設計寸法値より少し高い寸法値である。前記押圧は治具ＱのハンドルＱ２を使って行ってもよい。

　前記押圧によってインナースペーサ３０２、ヒータスペーサ３００、およびネジ付スペーサ１３１は全体的にベース１２９方向に下降するので、前述の干渉を回避することができ、かつ、ヒータスペーサ３００上に静翼１２３と静翼スペーサ１２５を交互に段積み積層することで、ポンプ固定部品Ｊ上に静翼１２３を配置することが可能となる。

《第２の工程》
　第２の工程では、前記第１の工程の後に、ポンプ固定部品Ｊ上に静翼１２３（１２３ｄから１２３ｈ）を配置することで（図７参照）、静翼１２３と動翼１０２を交互に配置した構造のタービン段を形成する。

　ポンプ固定部品Ｊ上への静翼１２３の配置は、図７において、下から４段分の静翼１２３（１２３ｄから１２３ｈ）と静翼スペーサ１２５（１２５ｃから１２５ｆ）を交互にヒータスペーサ３００上に段積み積層するというものである。

　前記のように静翼１２３と静翼スペーサ１２５を段済み積層した後、この第２の工程では、その積層体の外周を覆うようにインナースペーサ３０２をボルトＢＴ２で取り付け固定することにより（図７参照）、その積層体（静翼１２３と静翼スペーサ１２５）を軸方向に固定する。

《第３の工程》
　図７を参照すると、第３の工程では、前記第２の工程の後に、ベース１２９上にケーシングＫを配置し、配置したケーシングＫでベース１２９に対してポンプ固定部品Ｊを固定し、その固定力でシール部材Ｌをベース１２９方向へ更に押圧することにより、シール部材Ｌの軸方向高さが第２の所定値となるように調整する。第２の所定値は、シール部材Ｌの設計寸法値である。

　この第３の工程において『ベース１２９上にケーシングＫを配置』とは、具体的には下部ケーシングＫ２をベース１２９上に図示しないボルトでねじ止め固定するというものである。また、『ケーシングＫでベース１２９に対してポンプ固定部品Ｊを固定』とは、具体的には、ボルトＢＴ２で下部ケーシングＫ２とインナースペーサ３０２を連結固定するものである。そして、このボルトＢＴ２の締め付けによって、シール部材Ｌは圧縮され、その軸方向高さが設計寸法値（第２の所定値）となるように調整される。

　また、図８を参照すると、この第３の工程では、第１の工程で使用した治具Ｑの押圧部Ｑ１とポンプ固定部品Ｊ（具体的にはヒータスペーサ３００の当接部Ｒ）との間に所定の隙間Ｇ２が形成される。これにより治具Ｑは後で取外し可能となる。

《最終工程》
　最終工程では、前記第３の工程の後に、前述のタービン段を完成させる作業、すなわち図５において上から３段分の静翼１２３と２段分の静翼スペーサ１２５を交互に積層する作業を行った後、上部ケーシングＫ１をタービン段の外周に配置し、配置した上部ケーシングＫ１と下部ケーシングＫ２とを図示しないボルトで連結することにより、真空ポンプの基本的な組立作業は完了する。

《他の実施形態》
　図５を参照すると、先に説明した治具Ｑは真空ポンプ１から取り除かれているが、これとは別の他の実施形態として、治具Ｑは、シール部材Ｌの軸方向の調整した後も、ポンプ固定部品Ｊとの間に隙間Ｇ２を形成した状態で真空ポンプ１内に残る形式で配設されていてもよい。

　具体的には、図で示した治具ＱのハンドルＱ２に変えて、付属部品であるカートリッジヒータＨの取り付けの際に、カートリッジヒータＨと干渉しない長さのボルトとする。これにより、治具Ｑを取り除くことなく、真空ポンプの組立作業を完了できる。

　前記のように真空ポンプ１内に治具Ｑを残した場合は、真空ポンプ１のオーバーホール等のときに、その治具Ｑを再度使用して真空ポンプの再組立を行うことができる等、組立作業の利便性が向上するという利点がある。

　以上説明した本実施形態の真空ポンプ１にあっては、その具体的な構成として、前述の通り、シール部材Ｌの軸方向高さ調整に用いられる治具Ｑと当接する当接部Ｒを備える構成を採用した。このため、真空ポンプ組立て時、例えば、回転体１０３の外周に対向してポンプ固定部品Ｊを配置する時に、ポンプ固定部品Ｊをベース１２９上に配置した状態で当接部Ｒにより治具Ｑの位置決めを行い、位置決めされた治具Ｑの押圧部Ｑ１でポンプ固定部品Ｊをベース１２９方向に押圧することで、シール部材Ｌの軸方向高さを調整すること、及び、この調整によって、ポンプ固定部品Ｊを全体的にベース１２９方向に下降させることで、部品どうしの干渉、具体的には、ポンプ固定部品Ｊ上に該ポンプ固定部品Ｊの一部として積層する静翼１２３と、回転体１０３の外周からポンプ固定部品Ｊの方向に向かって突出した動翼１０２との干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適である。

　また、本実施形態の真空ポンプ組立て方法にあっては、前述の通り、第１から第３の工程を採用し、第１の工程では、ポンプ固定部品J上に該ポンプ固定部品Ｊの一部として積層される静翼１２３と、回転体１０３の外周からポンプ固定部品Ｊの方向に向かって突出した動翼１０２との干渉を回避する手段として、ポンプ固定部品Ｊをベース１２９上に配置した状態で当接部Ｒにより治具Ｑの位置決めを行い、位置決めされた該治具Ｑの押圧部Ｑ１でポンプ固定部品Ｊをベース１２９方向に押圧することで、シール部材Ｌの軸方向高さが第１の所定値となるように調整するものとした。このため、第１の工程の後に、ポンプ固定部品Ｊ上に静翼１２３を配置することにより静翼１２３と動翼１０２を交互に配置した構造のタービン段を形成する時に、前記干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適である。

　本実施形態の治具によると、その具体的な構成として、前記の通り、該治具Ｑは、ポンプ固定部品Ｊをベース１２９上に配置した状態で当接部Ｒにより位置決めされるものであって、かつ、その位置決めされた状態でポンプ固定部品Ｊをベース１２９方向に押圧することでシール部材Ｌの軸方向高さを調整する押圧部Ｑ１を具備する構成を採用した。このため、シール部材Ｌの軸方向高さの調整によって、ポンプ固定部品Ｊを全体的にベース１２９方向に下降させることで、部品どうしの干渉、具体的には、ポンプ固定部品Ｊ上に該ポンプ固定部品Ｊの一部として積層する静翼１２３と、回転体１０３の外周からポンプ固定部品Ｊの方向に向かって突出した動翼１０２との干渉を回避できる点で、真空ポンプ組立て作業のサポートに好適である。

　なお、本発明の各実施形態および各変形例は、必要に応じて各々を組み合わせる構成にしてもよい。

　本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内であれば、当業者の通常の創作能力によって多くの変形が可能である。

１００　真空ポンプ
１０１　吸気口
１０２　動翼
１０２ｄ　第２の円筒部
１０２ｅ　第１の円筒部
１０３　回転体（ロータ）
１０４　上側径方向電磁石
１０５　下側径方向電磁石
１０６Ａ、１０６Ｂ　軸方向電磁石
１０７　上側径方向センサ
１０８　下側径方向センサ
１０９　軸方向センサ
１１１　金属ディスク
１１３　ロータ軸
１２０　保護ベアリング
１２１　モータ
１２２　ステータコラム
１２３　静翼（ポンプ固定部品）
１２５　静翼スペーサ（ポンプ固定部品）
１２７　外筒
１２９　ベース
１３１　ネジ付スペーサ（ポンプ固定部品）
１３１ａ　ネジ溝
１３３　排気口
１４１　電子回路部
１４９　水冷管
１４３　基板
１４５　底蓋
１５０　アンプ回路
１７１　電源
１８１　電流検出回路
１９１　アンプ制御回路
２００　制御装置
３００　ヒータスペーサ（ポンプ固定部品）
３００Ａ　ヒータ取付け用の凹部
３０１　インシュレータウォール（ポンプ固定部品）
３０２　インナースペーサ
ＣＮ　締結部
Ｈ　カートリッジヒータ（付属部品）
Ｊ　ポンプ固定部品
Ｋ　ケーシング
Ｋ１　上部ケーシング
Ｋ２　下部ケーシング
Ｋ２１　水冷スペーサ
Ｋ２２　アウターウォール
Ｌ　シール部材
Ｍ　内部ユニット
Ｎ　インシュレータ
Ｑ　治具
Ｑ１　押圧部
Ｑ２　ハンドル
Ｒ　当接部
ＢＴ１、ＢＴ２、ＢＴ３　ボルト
Ｇ１　ポンプ固定部品とベースとの間の隙間
Ｇ２　治具の押圧部とポンプ固定部品との間の隙間

Claims

　ベースと、
　前記ベース上に配置された回転体と、
　前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、
　前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、
　前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、
　前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、
　前記隙間をシールするシール部材と、
　前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、を備えたこと
　を特徴とする真空ポンプ。
　前記当接部は、前記ポンプ固定部品に取り付ける付属部品と同じ位相で配置されることにより、前記付属部品の取り付けの際に、その当接部によって位置決めされた前記治具と前記付属部品とが干渉するように設けられていること
　を特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。
　ベースと、
　前記ベース上に配置された回転体と、
　前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、
　前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、
　前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、
　前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、
　前記隙間をシールするシール部材と、
　前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、を備えた真空ポンプの組立方法であって、
　前記回転体の外周に対向して前記ポンプ固定部品を配置するときの工程は、
　前記ポンプ固定部品上に該ポンプ固定部品の一部として積層される静翼と、前記回転体の外周から前記ポンプ固定部品の方向に向かって突出した動翼との干渉を回避する手段として、前記ポンプ固定部品を前記ベース上に配置した状態で前記当接部により前記治具の位置決めを行い、位置決めされた該治具の押圧部で前記ポンプ固定部品を前記ベース方向に押圧することで、前記シール部材の軸方向高さが第１の所定値となるように調整する第１の工程と、
　前記第１の工程の後に、前記ポンプ固定部品上に前記静翼を配置することで、該静翼と前記動翼を交互に配置した構造のタービン段を形成する第２の工程と、
　前記第２の工程の後に、前記ベースに対して前記ポンプ固定部品を前記ケーシングで固定することにより、前記シール部材の軸方向高さが第２の所定値となるように調整する第３の工程と、を含むこと
　を特徴とする真空ポンプの組立方法。
　前記第１の所定値は、前記シール部材の設計寸法値より少し高い寸法値であり、
　前記第２の所定値は、前記シール部材の設計寸法値であること
　を特徴とする請求項３に記載の真空ポンプの組立方法。
　前記第３の工程では、前記第１の工程で使用した前記治具の前記押圧部と前記ポンプ固定部品との間に隙間が形成されること
　を特徴とする請求項３または４に記載の真空ポンプの組立方法。
　ベースと、
　前記ベース上に配置された回転体と、
　前記回転体をその軸心周りに回転可能に支持する支持手段と、
　前記回転体の外周に対向して配置されるポンプ固定部品と、
　前記ポンプ固定部品の少なくとも一部をその上側で固定するケーシングと、
　前記ポンプ固定部品と前記ベースとの間に形成される隙間と、
　前記隙間をシールするシール部材と、
　前記シール部材の軸方向高さ調整に用いられる治具と当接する当接部と、
　を備えた真空ポンプの組立に用いられる治具であって、
　前記治具は、前記ポンプ固定部品を前記ベース上に配置した状態で前記当接部により位置決めすること、および、位置決めした状態で前記ポンプ固定部品を前記ベース方向に押圧することで前記シール部材の軸方向高さを調整する押圧部を具備すること
　を特徴とする治具。
　前記治具は、前記シール部材の軸方向の高さを調整した後も、前記ポンプ固定部品との間に隙間を形成した状態でポンプ内に配設されること
　を特徴とする請求項６に記載の治具。
　前記治具は、前記ポンプ固定部品に取り付ける付属部品と同じ位相で配置されることにより、前記付属部品の取り付けの際に、前記付属部品と干渉すること
　を特徴とする請求項６に記載の治具。