TW202311163A - 氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜 - Google Patents

氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜 Download PDF

Info

Publication number
TW202311163A
TW202311163A TW111113364A TW111113364A TW202311163A TW 202311163 A TW202311163 A TW 202311163A TW 111113364 A TW111113364 A TW 111113364A TW 111113364 A TW111113364 A TW 111113364A TW 202311163 A TW202311163 A TW 202311163A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
fluoride particles
dispersion
fluoride
particles
mass
Prior art date
Application number
TW111113364A
Other languages
English (en)
Inventor
山本紘也
長谷部類
富崎恵
裏家正規
西田哲郎
二井啓一
藤原啓伍
Original Assignee
日商斯特拉化工公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商斯特拉化工公司 filed Critical 日商斯特拉化工公司
Publication of TW202311163A publication Critical patent/TW202311163A/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00—Compounds of aluminium
    • C01F7/48—Halides, with or without other cations besides aluminium
    • C01F7/50—Fluorides
    • C01F7/54—Double compounds containing both aluminium and alkali metals or alkaline-earth metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/16—Halogen-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/40—Compounds of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/006—Anti-reflective coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

提供分散性佳、適合於反射防止膜等之光學膜的製造，例如，折射率較氟化鎂還要降低的氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜。本發明所述的氟化物粒子之分散液，其特徵為，含有：氟化物粒子、作為前述氟化物粒子之分散劑的陰離子性界面活性劑、和有機溶媒；前述氟化物粒子係在其組成中至少含有鋁及鹼金屬、和作為任意元素的鹼土族金屬，且分散於前述有機溶媒中。

Description

氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜
本發明係有關於氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜，更詳言之，係有關於適合於顯示器、透鏡等之反射防止膜的氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜。
電視機、個人電腦、智慧型手機、平板終端、及行車導航器等，現代的人們接觸到各式各樣之顯示器的機會非常多。可是，無論在室內、室外，一旦光線照射到顯示器，就會因為光反射而導致易辨性降低，而會有成為眼睛疲勞或頭痛之原因的情況。因此，在這些顯示器的表面，會進行用來防止光反射所需之塗層。又在近年來，為了未汽車內的裝飾面板等附加高級感這類價值，也會進行該塗層。
用來防止光反射所需之塗層，係含有高折射率層和低折射率層而被構成。而且，用來防止光反射所需之塗層，係利用高折射率層及低折射率層之每一層表面所反射的光的相位差，以防止顯示器表面上的光反射，進而提升易辨性。
此處，低折射率層的形成方法，係大致分成氣相法和塗層法。在這些之中，塗層法係由於原料的利用效率佳，在大量生產或設備成本的層面上，優於氣相法。因此，目前，生產性良好的塗層法，是被使用於低折射率層之形成。
專利文獻1中係記載，作為用來形成低折射率層所需之塗層劑之填料，採用化學性安定，且折射率低的氟化鎂之溶膠或氟化鎂微粉末，係為有效。可是，氟化鎂的折射率係為約1.38，無法使低折射率層的折射率低於該數字。
專利文獻2中係記載了中空球狀之二氧化矽系微粒子之分散液。又，專利文獻3中係記載，分散有在由氟化鎂所成之外殼之內部具有中空內核的中空粒子(內核-外殼粒子)的分散液。然後，這些專利文獻中係記載了，藉由使用二氧化矽系微粒子或中空粒子來作為塗層劑之填料，可形成折射率更進一步降低的反射防止膜。可是，專利文獻2的二氧化矽系微粒子或專利文獻3的中空粒子，其本身就具有空隙。因此，將它們當作填料來使用的反射防止膜，會有機械強度或耐擦傷性降低的這類問題。
專利文獻4中係記載，折射率比氟化鎂還低且由氟鋁酸鹽化合物所成之中空狀粒子，適合於反射防止膜之低折射率層中所使用的無機填料。可是，和專利文獻2及3之情況同樣地，專利文獻4的中空狀粒子係由於其本身就具有空隙，因此會有機械強度或耐擦傷性降低的這類問題。又，在專利文獻4的實施例中雖然記載了使用由氟鋁酸鹽化合物所成之中空狀粒子的反射防止膜，但沒有關於其之光學性能的記載因此為不明。
專利文獻5中係記載，使用折射率比氟化鎂還低的六氟化鋁酸鈉(別名；冰晶石(折射率1.33))之超微粒子，來形成低反射膜。此處，在通常的低反射膜中，是在身為黏合劑的樹脂中使低折射率之微粒子均勻分散，藉此以防止微粒子凝聚而增大霧度(濁度)，而抑制了對顯示器等做適用時的易辨性之降低。可是，在專利文獻5中所揭露的低反射膜中，並沒有使用身為黏合劑的樹脂。甚至，在專利文獻5中，關於低反射膜的重要光學特性之1也就是霧度，也沒有記載。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本專利第4655614號 [專利文獻2] 日本專利第4046921號 [專利文獻3] 日本專利第5943754號 [專利文獻4] 日本專利第6030893號 [專利文獻5] 日本特開2010-107583號
[發明所欲解決之課題]
本發明係有鑑於前述問題點而研發，其目的在於提供一種，分散性佳、適合於反射防止膜等之光學膜之製造、折射率比例如氟化鎂還要降低的氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及使用其之光學膜。 [用以解決課題之手段]
本發明的氟化物粒子之分散液，係為了解決前述之課題，其特徵為，含有：氟化物粒子、作為前述氟化物粒子之分散劑的陰離子性界面活性劑、和有機溶媒；前述氟化物粒子係在其組成中至少含有鋁及鹼金屬、和作為任意元素的鹼土族金屬，且分散於前述有機溶媒中。
於前述的構成中，前述陰離子性界面活性劑中的親水基的配對離子，係為質子或鎓離子為佳。
又，於前述的構成中，前述陰離子性界面活性劑，係為以下的化學式(1)所表示的陰離子性烴界面活性劑、及陰離子性碳化氟界面活性劑之至少任一者為佳：
Figure 02_image001
(式中的R係表示碳數2～18之烷基、碳數2～18之芳基、碳數2～18之聚氧化烯烷基醚基、碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的烷基、碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的芳基、或碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的聚氧化烯烷基醚基；X係表示-COO -、-PO 4 -、-SO 3 -或-SO 4 -；M係表示質子或鎓離子)。
於前述的構成中，前述陰離子性界面活性劑的含有量，係相對於前述氟化物粒子100質量%而為0.2質量%～8質量%之範圍內為佳。
於前述的構成中，前述氟化物粒子係為，從Na 3AlF 6、Na 5Al 3F 14、Na 3Li 3Al 2F 12、Na 2MgAlF 7、 K 2NaAlF 6、LiCaAlF 6及LiSrAlF 6所成之群組中所選出之至少1種氟化物的粒子為佳。
於前述的構成中，前述氟化物粒子之分散液中的水分濃度，係相對於前述氟化物粒子之分散液100質量%而為1.5質量%以下為佳。
於前述的構成中，前述有機溶媒係為醇溶媒、酮溶媒及醚溶媒之至少任一者為佳。
於前述的構成中，前述氟化物粒子的平均分散粒子徑係為1nm～100nm之範圍內為佳。
於前述的構成中，前述氟化物粒子之含有量，係相對於前述氟化物粒子之分散液100質量%而為1質量%～30質量%之範圍內為佳。
於前述的構成中，前述氟化物粒子之分散液的使用脈衝NMR所測定到的Rsp值係為5以上為佳。
本發明的光學膜形成用組成物，係為了解決前述之課題，而以含有前述氟化物粒子之分散液為其特徵。
又，本發明的光學膜，係為了解決前述之課題，而以由前述光學膜形成用組成物之硬化膜所成為其特徵。 [發明效果]
若依據本發明，則對於組成中至少含有鋁及鹼金屬的氟化物粒子，藉由使用陰離子性界面活性劑作為分散劑，就可提供分散性佳的氟化物粒子之分散液及含有其之光學膜形成用組成物。又，氟化物粒子係由於例如，折射率是小於氟化鎂，因此本發明的氟化物粒子之分散液及含有其之光學膜形成用組成物，係適合於反射防止膜等之光學膜之製造。而且，藉由使用該氟化物之分散液或含有其之光學膜形成用組成物，就可提供霧度及光反射率等之光學特性是在面內呈均勻且良好的反射防止膜等之光學膜。
(氟化物粒子之分散液)
關於本實施形態所述之氟化物粒子之分散液(以下有時候簡稱為「分散液」)，說明如下。 本實施形態的分散液，係至少含有：氟化物粒子、作為分散劑的陰離子性界面活性劑、和有機溶媒。氟化物粒子係在有機溶媒中以分散的狀態而存在。
此處，於本說明書中，所謂「分散液」，係指在液體之分散媒中分散有分散質的狀態者。因此，「分散液」並不包含，分散質是分散於固體之分散媒，而喪失流動性的固體膠體(有機凝膠)這類的分散體。
前述氟化物粒子中的氟化物，其組成中至少含有鋁及鹼金屬。又，氟化物係亦可含有鹼土族金屬作為任意元素。
作為鹼金屬係無特別限定，可舉出例如鋰、鈉、鉀等。又，作為鹼土族金屬係無特別限定，可舉出例如鎂、鈣、鍶等。
作為前述氟化物，具體而言係可舉出例如：Na 3AlF 6(折射率：1.33)、Na 5Al 3F 14(折射率：1.33)、Na 3Li 3Al 2F 12(折射率：1.34)、Na 2MgAlF 7(折射率：1.35)、K 2NaAlF 6(折射率：1.38)、LiCaAlF 6(折射率：1.38)、LiSrAlF 6(折射率：1.38)等。這些由氟化物所成之粒子，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。又，所例示的氟化物之粒子之中，折射率未滿1.34，且對水的溶解度為小的Na 3AlF 6係為特佳。
前述氟化物粒子之含有量，係相對於氟化物粒子之分散液100質量%，而為1質量%～30質量%之範圍內為佳，2質量%～15質量%之範圍內為較佳，5質量%～10質量%之範圍內為更佳。藉由將前述氟化物粒子之含有量設成1質量%以上，在與例如光學膜之構成材料的黏合劑成分(細節將於後述)做混合之際，可抑制多量的分散液之使用。藉此，在光學膜的成膜過程中去除有機溶媒之際，也可期待去除所需時間的減少。而另一方面，藉由將前述氟化物粒子之含有量設成30質量%以下，就可抑制氟化物粒子的分散時間變長，可期待氟化物粒子彼此發生凝聚的機率之降低。
前述氟化物粒子的平均分散粒子徑(d50)係為1nm～100nm之範圍為佳，10nm～50nm之範圍為較佳。藉由將平均分散粒子徑設成1nm以上，就可抑制分子間力所致之氟化物粒子彼此之凝聚變得顯著。而另一方面，藉由將平均分散粒子徑設成100nm以下，例如，在把氟化物粒子當成反射防止膜等之光學膜之填料來使用之際，可減少氟化物粒子從光學膜脫離、或光透明性之減損。此外，氟化物粒子的平均分散粒子徑的測定方法及測定裝置係無特別限定，例如如同後述的實施例之記載。
前述陰離子性界面活性劑，係作為對氟化物粒子賦予良好之分散性的分散劑而發揮功能。於本實施形態中，作為前述陰離子性界面活性劑，係可舉出陰離子性烴界面活性劑及陰離子性碳化氟界面活性劑等。這些陰離子性界面活性劑之中，由於陰離子性碳化氟界面活性劑的折射率係小於陰離子性烴界面活性劑，因此在使用含有該陰離子性碳化氟界面活性劑的分散液的情況下，作為光學膜之構成材料係為合適。又，陰離子性烴界面活性劑與陰離子性碳化氟界面活性劑亦可併用。
此處，於本說明書中所謂「陰離子性烴界面活性劑」係包含了，在分子中含有1個或2個以上之烴部分、和1個或2個以上之陰離子性基(親水性部分)的界面活性劑的意思。又，所謂「陰離子性碳化氟界面活性劑」係包含了，在分子中含有1個或2個以上之烴部分且為至少1個氫原子是被取代成氟原子的烴部分、和1個或2個以上之陰離子性基的界面活性劑的意思。
本實施形態的陰離子性界面活性劑，係可用以下的化學式(1)來表示。
Figure 02_image003
前述化學式(1)中的R係表示烴部分，係為碳數2～18，較佳為碳數5～15，更佳為碳數10～14之烷基；碳數2～18，較佳為碳數5～15，更佳為碳數10～14之芳基；碳數2～18，較佳為碳數5～15，更佳為碳數10～14之聚氧化烯烷基醚基；碳數為2～18，較佳為碳數2～10，更佳為碳數4～6之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的烷基；碳數為2～18，較佳為碳數5～15，更佳為碳數8～12之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的芳基；碳數為2～18，較佳為碳數5～15，更佳為碳數8～12之範圍且至少1個氫原子是被取代成氟原子的聚氧化烯烷基醚基。又，R係無論是直鏈或分枝鏈皆可。此外，於本說明書中在表示碳數之範圍的情況下，其範圍係包含了，該範圍中所包含的全部之整數的碳數的意思。因此，例如所謂「碳數1～3」之烷基，係意指碳數為1、2及3的全部的烷基。
前述化學式(1)中的X及M係表示陰離子性基(親水基)。其中前述X係表示-COO -、-PO 4 -、-SO 3 -或-SO 4 -。又，前述M係表示親水基的配對離子，於本實施形態中係為質子(H ＋)或鎓離子為佳。若為這類的配對離子，則可提升氟化物粒子對有機溶媒的溶解性及分散性。
再者，前述鎓離子，係為以下的化學式(2)所表示者為佳。
Figure 02_image005
此處，化學式(2)中的R 1、R 2及R 3係分別獨立表示：氫；碳數1～8，較佳為碳數1～5，更佳為碳數1～3之烷基；碳數1～8，較佳為碳數1～5，更佳為碳數1～3之芳基；及碳數1～8，較佳為碳數1～5，更佳為碳數1～3之羥烷基之任一者。又，R 1、R 2及R 3中的烷基、芳基及羥烷基，係無論直鏈或分枝鏈之何者皆可。
作為前述鎓離子，較具體而言，可舉出例如：銨離子、甲基銨離子、三甲基銨離子、乙基銨離子、二甲基銨離子、三乙醇銨離子等。這些鎓離子之中，從氟化物粒子對有機溶媒的溶解性之觀點來看，特別是以銨離子為佳。
作為前述陰離子性烴界面活性劑之具體例，係可舉出例如：庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、及這些的銨鹽；庚磺酸、辛磺酸、癸磺酸、月桂基磺酸、及這些的銨鹽；月桂基苯磺酸、及其銨鹽；庚基硫酸、辛基硫酸、癸基硫酸、月桂基硫酸、及這些的銨鹽；辛基磷酸、癸基磷酸、月桂基磷酸、及這些的銨鹽；聚氧乙烯月桂基醚硫酸、及其銨鹽；聚氧乙烯月桂基醚磺酸、及其銨鹽；聚氧乙烯十三烷基醚磷酸酯、聚氧乙烯月桂基醚磷酸、及這些的銨鹽等。所例示的陰離子性烴界面活性劑，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。又，所例示的陰離子性烴界面活性劑之中，從氟化物粒子對有機溶媒的分散性之觀點來看，係以月桂基苯磺酸為佳。再者，所例示的陰離子性烴界面活性劑，係除了前述的Na 3AlF 6粒子以外，亦可和所例示的氟化物粒子之任一者做任意組合而使用。
再者，作為前述陰離子性烴界面活性劑，係可使用市售的界面活性劑。作為市售的界面活性劑，係可舉出例如：NEOPELEX(註冊商標)G-15、NEOPELEX G-25、NEOPELEX G-65、NEOPELEX GS(皆為商品名，花王(股)製)；Solsperse(註冊商標)3000、Solsperse 21000、Solsperse 26000、Solsperse 36600、Solsperse 41000(皆為商品名，日本Lubrizol(股)製)；DISPERBYK(註冊商標)-108、DISPERBYK-110、DISPERBYK-111、DISPERBYK-112、DISPERBYK-116、DISPERBYK-142、DISPERBYK-145、DISPERBYK-180、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001(皆為商品名，畢克化學(股)製)；Plysurf(註冊商標) A208N、Plysurf A208F、Plysurf A208B、Plysurf A219B、Plysurf AL、Plysurf A212C、Plysurf A215C(皆為商品名，第一工業製藥(股)製)；Disparlon(註冊商標)3600N、Disparlon 1850(皆為商品名，楠本化成(股)製)；PA111(商品名，味之素Fine-Techno(股)製)；EFKA4401、 EFKA4550(皆為商品名，EFKA Additives(股)製)等。所例示的市售的界面活性劑，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。此外，關於市售的界面活性劑，係不限定於所例示者。
又，作為陰離子性碳化氟界面活性劑之具體例，係可舉出例如：3H-四氟丙酸、5H-八氟戊酸、7H-十二氟庚酸、9H-十六氟壬酸等。所例示的陰離子性碳化氟界面活性劑，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。又，這些陰離子性碳化氟界面活性劑之中，從氟化物粒子對有機溶媒的分散性之觀點來看，係以7H-十二氟庚酸為佳。再者，所例示的陰離子性碳化氟界面活性劑，係除了前述的Na 3AlF 6粒子以外，亦可和所例示的任一氟化物粒子做任意組合而使用。
前述陰離子性界面活性劑之含有量，係相對於氟化物粒子100質量%而為0.2質量%～8質量%之範圍為佳，1質量%～4質量%之範圍為較佳。藉由將陰離子性界面活性劑之含有量設成0.2質量%以上，可期待氟化物粒子的分散性之提升。又，藉由將陰離子性界面活性劑之含有量設成8質量%以下，在光學膜形成之際，氟化物粒子與作為黏合劑成分(細節將於後述)的丙烯酸樹脂等之相溶性係會提升，可降低光透明性之減損。
作為前述有機溶媒係無特別限定，但以醇溶媒、酮溶媒及醚溶媒為佳。這些有機溶媒，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
作為前述醇溶媒係無特別限定，可舉出例如：甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、1-戊醇、環己醇、甲基環己醇、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基-1-丙醇及3-甲基-1-丁醇等。這些醇溶媒，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
作為前述酮溶媒係無特別限定，可舉出例如：甲基異丁基酮、甲基乙基酮、甲基丁基酮、環己酮、甲基環己酮、乙醯丙酮等。這些酮溶媒，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
前述醚溶媒，係可舉出乙二醇二甲基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯及四氫呋喃等。這些醚溶媒，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
所例示的有機溶媒，係除了前述的Na 3AlF 6粒子以外，可和所例示的氟化物粒子、或前述所例示的陰離子性烴界面活性劑之任一者做任意組合而使用。又，所例示的有機溶媒之中，於本實施形態中，係以1-甲基-2-丙醇、甲基乙基酮、甲基異丁酮及丙二醇單甲基醚為佳。這些有機溶媒係在例如，將本實施形態的氟化物粒子之分散液適用於光學膜形成用組成物的情況下，對於該光學膜形成用組成物中所含之作為黏合劑成分的丙烯酸酯系溶媒，具有優良的溶解性。又，這些有機溶媒係由於也具有高揮發性，因此適合於反射防止膜等之光學膜的製造。
於本實施形態中，氟化物粒子之分散液中的水分濃度，係相對於氟化物粒子之分散液100質量%而為1.5質量%以下為佳，1.0質量%以下為較佳，0.8質量%以下為更佳。若氟化物粒子之分散液中的水分濃度為1.5質量%以下，則氟化物粒子不會在分散液中發生凝聚，可期待分散液的安定性。
於前述氟化物粒子之分散液中，使用脈衝NMR所測定到的Rsp值，係為5以上為佳，10～25之範圍為較佳。若Rsp值為5以上，則氟化物粒子之分散液的溶媒親和性為高，可抑制氟化物粒子的凝聚，可良好地維持氟化物粒子的分散安定性。Rsp值，係可藉由控制陰離子性界面活性劑的含有量及/或分散液中的水分濃度，就可調整。例如，藉由將陰離子性界面活性劑之含有量，在不超過前述之數值範圍的範圍內予以增加，就可使Rsp值變大。又，藉由減少分散液中的水分量，也可使Rsp值變大。此外，關於Rsp值的測定方法，係於實施例中後述。
前述分散液的黏度，係從與光學膜形成用組成物中所含有之黏合劑成分保持良好相溶性之觀點來看，係為200mPa･s以下之範圍為佳。
(氟化物粒子之製造方法) 接著，關於本實施形態所述之氟化物粒子之製造方法，以Na 3AlF 6粒子為例而說明如下。此外，以下說明的製造方法僅為一例，本發明係不限定於該製造方法。又，以下說明的製造方法，係亦可對Na 3AlF 6粒子以外之氟化物粒子做適用。
Na 3AlF 6粒子之製造方法係含有：使鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液與氟化物前驅物進行反應，獲得Na 3AlF 6粒子之漿料的步驟；和將所得到之漿料進行固液分離及洗淨的步驟；和從洗淨後的Na 3AlF 6粒子之糊漿去除水分而獲得Na 3AlF 6粒子之乾燥固體的步驟。
作為前述鈉鹽水溶液中的鈉鹽係無特別限定，可舉出例如：硫酸鈉、醋酸鈉、硝酸鈉、及氫氧化鈉等。這些鈉鹽，係分別可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
作為前述鋁鹽水溶液中的鋁鹽係無特別限定，可舉出例如：硫酸鋁、醋酸鋁、硝酸鋁、及氫氧化鋁等。這些鋁鹽，係分別可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。
前述鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液，係分別藉由使鈉鹽或鋁鹽溶解於水而獲得。使鈉鹽或鋁鹽溶解於水之際的溶解溫度，係可隨著鈉鹽或鋁鹽對水的溶解度等而適宜設定。例如，在使用對水而在室溫下仍呈現充分溶解性的鈉鹽及/或鋁鹽的情況下，則亦可在室溫下進行。又，在使用室溫下對水的溶解性較低的鈉鹽及/或鋁鹽的情況下，則亦可藉由加溫而使這些鹽溶解於水，以謀求溶解所需時間之縮短。
前述氟化物前驅物，係只要是對水呈現可溶性的鹽，則無特別限定。作為氟化物前驅物，係可舉出例如：氟化鈉、氟化鉀、氟化銨、氟化季銨、酸性氟化銨、氟化氫等。這些氟化物前驅物，係可單獨1種類，或可混合2種類以上來使用。
鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液、與氟化物前驅物之反應，係為了去除水溶液中的異物之目的，亦可在該鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液之過濾後才進行。
鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液、與氟化物前驅物之反應，係可藉由在含有鈉鹽水溶液與鋁鹽水溶液的混合溶液中，添加固體之氟化物前驅物而進行。或者，亦可在鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液之任一方中添加了固體之氟化物前驅物之後，將未添加氟化物前驅物的鈉鹽水溶液或鋁鹽水溶液進行混合使其反應。再者，亦可將鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液，對將氟化物前驅物溶解於水而成的氟化物前驅物水溶液，以任意之順序或同時進行混合而使其反應。將鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液對氟化物前驅物水溶液進行混合而使其反應的方法的情況下，可期待製造步驟的簡便化及反應的容易化。此外，使用前述氟化物前驅物水溶液的情況下，為了去除氟化物前驅物水溶液中的異物，亦可預先進行過濾。
鈉鹽水溶液及鋁鹽水溶液、與氟化物前驅物之反應溫度係無特別限定，但若反應溫度過低則會有反應之進行變慢的情況。而另一方面，若反應溫度過高，則從鈉鹽水溶液、鋁鹽水溶液及/或氟化物前驅物水溶液會產生蒸氣，而會有導致這些的混合液(反應液)之濃度發生變化的情況。從這些觀點來看，前述反應溫度係為20℃～50℃之範圍內為佳，23℃～45℃之範圍內為較佳，25℃～40℃之範圍內為特佳。
作為將所得到的Na 3AlF 6粒子之漿料進行固液分離的方法係無特別限定，可舉出例如：抽氣過濾、離心脫水等。又，Na 3AlF 6粒子之粒徑是較小而微細的情況下，用抽氣過濾或離心脫水的話，有時候固液分離會變得困難。在此種情況下，亦可使用離心分離機來進行固液分離，又，亦可使漿料本身蒸發乾固。
藉由固液分離而獲得的Na 3AlF 6粒子之糊漿的洗淨係可藉由例如水洗來進行。藉此，就可去除未反應的氟化物前驅物或其他的陰離子。洗淨溫度及洗淨時間係無特別限定，可因應需要而適宜設定。
作為從洗淨後的Na 3AlF 6粒子之糊漿去除水分的方法，係可舉出例如加熱處理。藉此，可獲得Na 3AlF 6粒子的乾燥粉末。作為加熱處理方法係無特別限定，可舉出例如在FRP製的槽盒中放入Na 3AlF 6粒子之糊漿，在乾燥機內使其乾燥的方法。
加熱處理之際的加熱溫度(乾燥溫度)係為100℃～300℃之範圍內為佳，100℃～200℃之範圍內為較佳。藉由將加熱溫度設成100℃以上就可將Na 3AlF 6粒子之糊漿中所含之水分充分地去除，或使其降低。而另一方面，藉由將加熱溫度設成300℃以下，就可抑制Na 3AlF 6粒子彼此的熱融接、或Na 3AlF 6粒子的粒成長。又，加熱處理之際的加熱時間(乾燥時間)係無特別限定，可因應需要而適宜設定。
加熱處理亦可在大氣下進行，或亦可在惰性氣體環境下進行。作為惰性氣體係無特別限定，可舉出例如氮、氬等。又，從促進Na 3AlF 6粒子之糊漿的乾燥之觀點來看，亦可在減壓環境下進行加熱處理。
此外，關於Na 3AlF 6粒子以外之氟化物粒子，係可藉由公知的製造方法來製造。又，使用的原料或製造條件也可因應需要而適宜設定。
(氟化物粒子之分散液的製造方法) 接著，關於本實施形態所述之氟化物粒子之分散液的製造方法，說明如下。 本實施形態的分散液，係可藉由將前述之製造方法所得的Na 3AlF 6粒子等之氟化物粒子、陰離子性界面活性劑及有機溶媒加以混合，使氟化物粒子分散於有機溶媒中，即可獲得。此外，本實施形態所述之氟化物粒子之分散液的製造方法中，亦可包含有前述的氟化物粒子之製造方法。
本實施形態的氟化物粒子之製造方法中，氟化物粒子、陰離子性界面活性劑、及有機溶媒的混合方法或添加順序，係無特別限定。例如，亦可將氟化物粒子添加至有機溶媒，對該混合液使用分散機施以分散處理後，添加陰離子性界面活性劑，以製造本實施形態的氟化物粒子之分散液。又，亦可先將氟化物粒子、陰離子性界面活性劑及有機溶媒一度進行了混合後，使用分散機施以分散處理，來製造本實施形態的氟化物粒子之分散液。
作為氟化物粒子對有機溶媒之分散方法係無特別限定，可舉出例如使用濕式珠磨機、濕式噴射研磨機、超音波的方法等。分散方法之選擇，係只要考慮目的之氟化物粒子的平均分散粒子徑或純度等之品質、粉碎時所使用的裝置來進行即可。
例如，在想要使得氟化物粒子之分散性變得良好的情況，則使用濕式珠磨機的方法為佳。在濕式珠磨機中係利用氧化鋯珠等之媒介來將粒子予以微細化，因此可使氟化物粒子之分散力變得良好。但是，媒介有可能會對所得的分散液造成污染。又，在想要使得分散液之純度變得良好的情況下，則使用濕式噴射研磨機的方法為佳。濕式噴射研磨機係為不使用媒介的濕式粉碎方法，可期待防止像是濕式珠磨機那樣的媒介所致之污染。但是，由於不使用媒介，因此會有氟化物粒子之分散力降低的情況。此外，分散時間係無特別限定，可隨著氟化物粒子或陰離子性界面活性劑、有機溶媒之種類等而適宜設定。
於分散液的製造過程中，控制分散液中的水分濃度為佳。作為控制水分濃度的方法，係可舉出例如：在乾燥室等之受到露點管理的場所中進行濕式粉碎的方法，或不要使氟化物粒子、有機溶媒及含有這些的分散液暴露於外氣的方式，於密閉空間內在惰性氣體之環境下來進行的方法。作為惰性氣體係無特別限定，可舉出例如乾燥空氣、氮氣、氬氣等。
又，在將氟化物粒子加入至有機溶媒中而進行分散之前，亦可預先將氟化物粒子的表面吸附水予以去除。甚至，亦可從有機溶媒去除水分。作為去除表面吸附水的方法，係可藉由例如加熱處理而進行。作為加熱處理中的乾燥溫度係以100℃～200℃之範圍為佳，110℃～150℃之範圍為較佳。又，作為乾燥時間係以2小時～34小時之範圍為佳，5小時～20小時之範圍為較佳。又，作為從有機溶媒去除水分的方法，係可舉出例如：蒸餾、離心分離、脫水材(分子篩、沸石、離子交換樹脂、活性氧化鋁等)之使用等。又，亦可為，使氮等之惰性氣體在非質子性有機溶媒中進行鼓泡的方法等。
(光學膜形成用組成物及其製造方法) 接著，關於本實施形態所述之光學膜形成用組成物及其製造方法，說明如下。 本實施形態的光學膜形成用組成物，係至少含有氟化物粒子之分散液、和黏合劑成分。
作為分散液之含有量，係相對於光學膜形成用組成物之全質量而為15質量%以上、45質量%以下為佳，18質量%以上、40質量%以下為較佳，20質量%以上、35質量%以下為特佳。作為黏合劑成分之含有量，係相對於光學膜形成用組成物之全質量而為0.8質量%以上、5質量%以下為佳，1質量%以上、4質量%以下為較佳，2質量%以上、3質量%以下為特佳。
作為前述黏合劑成分係無特別限定，可舉出例如樹脂、聚合性單體等。
作為前述樹脂係無特別限定，可使用公知的熱硬化性樹脂或熱可塑性樹脂等。更具體而言，可舉出例如：丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚氨酯樹脂、氯乙烯樹脂、氟樹脂、矽樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、酚醛樹脂、丁縮醛樹脂、醋酸乙烯樹脂等。這些樹脂，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。又，亦可為由2種類以上之樹脂所成之共聚物或改質體的方式來使用。所例示的樹脂之中，氟樹脂等之含有氟原子之樹脂係降低光學膜的折射率因此為佳。
作為前述聚合性單體係無特別限定，可使用能夠藉由自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合等而進行聚合的公知的單體。更具體而言，可舉出例如：非離子性單體(苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-羥基乙酯等)、陰離子性單體(甲基丙烯酸、馬來酸、伊康酸、2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、o-及p-苯乙烯磺酸鹽、以及這些的鹽等)、陽離子性單體(N-(3-丙烯醯胺丙基)甲基丙烯酸銨、N-(2-甲醯氧基乙基)-N,1,2-二甲基-5-乙烯基吡啶甲基硫酸鹽、及這些的鹽等)、交聯單體(二乙烯基苯、乙烯二丙烯酸酯、N、N’-亞甲基雙丙烯醯胺等)等。這些聚合性單體，係可單獨1種類，或可混合2種以上來使用。所例示的聚合性單體之中，含有氟原子的聚合性單體係由於可降低光學膜的折射率因此為佳。
在光學膜形成用組成物中，亦可在不減損本發明之目的或效果的範圍內，含有其他的添加劑。作為其他的添加劑，係可舉出例如：光聚合起始劑、光硬化性化合物、聚合終止劑、光增感劑、均塗劑、界面活性劑、抗菌劑、防結塊劑、可塑劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗氧化劑、矽烷耦合劑、導電性聚合物、導電性界面活性劑、無機填充劑、顏料、染料等。這些添加劑的添加量，係可因應需要而適宜設定。
此外，所謂光聚合起始劑，係意指藉由紫外線等之活性能量線之照射，而會產生自由基種的添加劑，可舉出例如1-羥基環己基苯基酮等。
作為光學膜形成用組成物之製造方法係無特別限定，可藉由將氟化物粒子之分散液與黏合劑成分，分別以所定量進行混合而製造。又，在含有添加劑的情況下，則對氟化物粒子之分散液與黏合劑成分之混合物，進一步添加所定量等就可製造。
(光學膜及其製造方法) 接著，關於本實施形態所述之光學膜及其製造方法，說明如下。 本實施形態的光學膜，係由前述的光學膜形成用組成物的乾燥硬化膜所成。該光學膜中，係均勻含有作為填料的氟化物粒子，相較於例如使用氟化鎂粒子的光學膜，折射率更低。又，其光穿透率為高，可降低霧度及光反射率等，於面內具有均勻且良好的光學特性。
本實施形態的光學膜，係可作為例如反射防止膜等來使用。
光學膜中所含之氟化物粒子之含有量，係相對於光學膜100體積%而為40體積%～90體積%之範圍內為佳。若氟化物粒子之含有量是在前述範圍內，則可一面抑制光學膜的物理性、化學性強度之降低，一面維持光學膜的低折射率化之效果，因而實用。
此外，光學膜的厚度係無特別限定，可因應需要而適宜設定。
光學膜係可藉由例如以下的方法來形成。亦即，在將光學膜形成用組成物塗布於基板等上後，將該光學膜形成用組成物的塗布膜進行乾燥。接下來，照射所定之光強度的紫外線，使乾燥後的塗布膜進行光硬化。藉此就可獲得本實施形態的光學膜。
作為光學膜形成用組成物之塗布方法係無特別限定，可舉出例如：浸漬法、噴塗法、旋塗機(旋塗)法、輥塗法、反向塗布法、凹版塗布法、桿塗法、棒塗法、縫模塗布法、噴塗法等。此外，在形成低折射率層的情況下，從塗布精度的觀點來看，反向塗法，特別是小徑凹版輥軋的反向塗布法為佳。
作為前述基板係無特別限定，可舉出例如：塑膠片、塑膠膜、塑膠板及玻璃等。又，作為塑膠片、塑膠膜及塑膠板的構成材料係無特別限定，可舉出例如：聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及三醋酸纖維素(TAC)等。
又，光學膜形成用組成物，係亦可以進一步加至溶媒的狀態，而在基板上進行塗布。溶媒，係為了改善塗布(包含印刷)之作業性之目的，而被摻合。溶媒係只要能夠溶解光學膜形成用組成物，或與光學膜形成用組成物呈現相溶性者則無特別限定，可使用例如丙二醇單甲基醚等。
溶媒的使用量，係只要是對光學膜之形成而言為合適範圍則無特別限定，但通常係相對於光學膜形成用組成物100質量%，而在10質量%～95質量%之範圍內。
被塗布至基板的光學膜形成用組成物(也還包含前述的加至溶媒的情況)的塗布膜的乾燥方法係無特別限定，可藉由自然乾燥或吹拂熱風等來進行。乾燥時間或乾燥溫度係無特別限定，可隨著塗布膜之厚度或構成材料等而適宜設定。
又，對乾燥後之塗布膜的紫外線之照射方法或照射條件係無特別限定。作為照射條件，係可隨著光學膜形成用組成物的構成成分之種類或摻合量等而適宜設定。
藉由以上，就可在基板上形成本實施形態的光學膜。此處，於本實施形態所述之氟化物粒子之分散液中，係為低黏度，且氟化物粒子之分散性也為良好。因此，使用含有該分散液的光學膜形成用組成物所被形成的光學膜，係折射率為低，霧度、光反射率等之光學特性是在面內呈均勻。其結果為，本實施形態的光學膜係適合於反射防止膜等。 [實施例]
以下例示性地詳細說明本發明的理想實施例。但是，本實施例中所記載的材料或摻合量等，若無特別聲明是限定性的記載，則本發明之範圍就不會只限定於此等。
(平均粒子徑測定方法) 使用粒度分布計(MicrotracBEL(股)製，Microtrac, NanotracUPA, UPA-UZ152)來測定分散液中的氟化物粒子的平均分散粒子徑(d50)。此外，平均分散粒子徑(d50)，係根據樣本粒子全體之50體積%為平均分散粒子徑以下之粒子所成，而被定義的粒子徑。 測定原理：動態光散射法頻率解析(FFT-外差檢測法) 光源：3mW半導體雷射780nm(2道) 設定範圍：10℃～80℃ 測定粒度分布範圍：0.8nm～6.5406μm 測定對象：膠體粒子
若無特別說明，則實施例及比較例中的平均分散粒子徑，係都意指藉由上述的動態光散射法所測定出來的體積換算之平均粒子徑。
(水分測定方法) 藉由卡爾-費雪法來測定氟化物粒子之分散液中的水分濃度。作為水分測定裝置，係使用平沼產業(股)製的TQV-2200S(商品名)。測定方法，係基於JIS K 0068(2001)的容量滴定法而進行。
(黏度測定方法) 以B型黏度計來測定氟化物粒子之分散液的黏度。作為B型黏度計，係使用美國Brookfield公司製的DV-I PRIME(商品名)。測定係基於JIS K 5600-2-2(2004)而實施。
(溶媒親和性之測定方法) 藉由脈衝NMR測定，算出氟化物粒子之分散液的溶媒親和性之指標(Rsp值)。作為測定裝置係使用Magritek製Spinsolve 60 ULTRA Phosphorus，測定核1H NMR，藉由CPMG(Carr-Purcell-Meiboom-Gill sequence)法而進行測定。Rsp值，係藉由以下的式(1)而算出。
Figure 02_image007
(式(1)中，Rsp係為表示溶媒親和性的指標，Rav係為氟化物粒子之分散液的緩和時間倒數，Rb係於氟化物粒子之分散液中氟化物粒子除外的空白溶媒的緩和時間倒數)。
(實施例1) 將丙二醇單甲基醚(PGME，試藥)1600g、Na 3AlF 6粒子(STELLA CHEMIFA(股)製)80g，在氟樹脂製容器中進行混合，製作出Na 3AlF 6粒子呈凝聚狀態之漿料。將該漿料投入至珠磨機(NIPPON COKE & ENGINEERING(股)製)，進行分散處理。漿料投入後，係將漿料暴露於外氣的部分設成氮氣氛圍。又，珠子是使用氧化鋯製珠子(NIKKATO (股)製)。分散處理中，每隔一定時間就將分散液進行取樣並測定粒度分布。進行分散處理直到Na 3AlF 6粒子的平均粒子徑(體積換算，d50)降低，獲得含有Na 3AlF 6粒子的混合液1000g。其後，在該混合液中添加作為分散劑的Plysurf A212C(商品名，第一工業製藥(股)製)1g，進行1分鐘的超音波處理。藉此就可獲得，Na 3AlF 6粒子之含有量係相對於分散液之全質量而為5質量%，作為分散劑的Plysurf A212C係相對於Na 3AlF 6粒子100質量%而為2質量%的Na 3AlF 6粒子之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例2) 於本實施例中，係將作為分散劑的Plysurf A212C之添加量變更成2g(相對於Na 3AlF 6粒子100質量%係為4質量%)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例3) 於本實施例中，作為分散劑是取代了Plysurf A212C而改用NEOPELEX GS(商品名，花王(股)製)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例4) 於本實施例中，作為分散劑是取代了Plysurf A212C而改用7H-十二氟庚酸。又，7H-十二氟庚酸之添加量也是變更成相對於分散液1000g而為0.1g(相對於Na 3AlF 6粒子100質量%係為0.2質量%)。除了這些以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例5) 於本實施例中，作為分散劑是取代了Plysurf A212C而改用庚酸。又，庚酸之添加量也是變更成相對於分散液1000g而為0.1g(相對於Na 3AlF 6粒子100質量%係為0.2質量%)。除了這些以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例6) 於本實施例中，係將漿料之製作條件變更成，Na 3AlF 6粒子之含有量係變成相對於分散液之全質量而為1質量%。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例7) 於本實施例中，係將漿料之製作條件變更成，Na 3AlF 6粒子之含有量係變成相對於分散液之全質量而為30質量%。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例8) 於本實施例中，係取代了Na 3AlF 6粒子而改用Na 5Al 3F 14。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例9) 於本實施例中，作為氟化物粒子是取代了Na 3AlF 6粒子而改用LiCaAlF 6粒子(STELLA CHEMIFA(股)製)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例10) 於本實施例中，作為分散溶媒是取代了PGME而改用2-丙醇(IPA，試藥)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(實施例11) 於本實施例中，作為分散溶媒是取代了PGME而改用甲乙酮(MEK，試藥)。又，作為分散劑是取代了Plysurf A212C而改用7H-十二氟庚酸。除了這些以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本實施例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(比較例1) 於本比較例中，作為分散劑是使用非離子性界面活性劑的NOIGEN(註冊商標，第一工業製藥(股)製)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本比較例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(比較例2) 於本比較例中，作為分散劑是使用陽離子性界面活性劑的Ftergent(註冊商標)310(商品名，NEOS(股)製)。除此以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本比較例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(比較例3) 於本比較例中，除了不使用分散劑以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本比較例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
(比較例4) 於本比較例中，作為氟化物粒子是取代了Na 3AlF 6粒子而改用氟化鎂粒子(STELLA CHEMIFA(股)製)。又，未使用分散劑。除了這些以外，其餘係用和實施例1相同的方法，製作出本比較例所述之分散液。將所得到的分散液之物性值，示於表1。
Figure 02_image009
(實施例12) 將實施例1中所製作的分散液27.5g與市售的丙烯酸酯塗料(丙烯酸樹脂)1.2g予以混合。然後，在已混合的溶液中，溶解1-羥基環己基苯基酮(光聚合起始劑)0.6g，當作光學膜形成用組成物。接著，將該光學膜形成用組成物10g以丙二醇單甲基醚10.9g進行稀釋，製作出低折射率塗料。
在PET薄膜(TORAY(股)製，Lumirror(註冊商標)U34：厚度100μm)之單面將已稀釋的低折射率塗料300 μl以旋塗法進行塗布。將已塗布的塗布膜在130℃下進行乾燥後，照射紫外線400mJ/cm 2以使其光硬化，將反射防止膜(低折射率層、光學膜)予以層積。
(實施例13) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例2中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例14) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例3中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例15) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例4中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例16) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例5中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例17) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例6中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例18) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例7中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例19) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例8中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例20) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例9中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例21) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例10中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(實施例22) 於本實施例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用實施例11中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本實施例所述之反射防止膜予以層積。
(比較例5) 於本比較例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用比較例1中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本比較例所述之反射防止膜予以層積。
(比較例6) 於本比較例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用比較例2中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本比較例所述之反射防止膜予以層積。
(比較例7) 於本比較例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用比較例3中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本比較例所述之反射防止膜予以層積。
(比較例8) 於本比較例中，係取代了實施例1中所製作的分散液而改用比較例4中所製作的分散液。除此以外，其餘係用和實施例12相同的方法，將本比較例所述之反射防止膜予以層積。
(霧度測定及最低光反射率測定) 反射防止膜(低折射率層)的霧度值，將反射防止膜的最低光反射率依據JIS K 7136而使用紫外可見近紅外分光光度計(商品名：V670，日本分光(股)製)進行測定。
實施例12～22及比較例5～8所述之反射防止膜之物性，示於表2。此外，在比較例8的反射防止膜中，該反射防止膜的光穿透性為高，霧度值係和PET薄膜單獨之情況為同等之值。因此，表2中的實施例12～22及比較例5～7中的各數值，係將比較例8之反射防止膜的光學特性視為100(基準值)，而表示了相對於該基準值的相對值。關於表2中的霧度及最低光反射率，係數值越小表示作為反射防止膜的光學特性越佳。
Figure 02_image011

Claims (12)

  1. 一種氟化物粒子之分散液，其係 含有：氟化物粒子、作為前述氟化物粒子之分散劑的陰離子性界面活性劑、和有機溶媒； 前述氟化物粒子係在其組成中至少含有鋁及鹼金屬、和作為任意元素的鹼土族金屬，且分散於前述有機溶媒中。
  2. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述陰離子性界面活性劑中的親水基的配對離子，為質子或鎓離子。
  3. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述陰離子性界面活性劑，為以下的化學式(1)所表示的陰離子性烴界面活性劑、及陰離子性碳化氟界面活性劑之至少任一者：
    Figure 03_image001
    (式中的R係表示碳數2～18之烷基、碳數2～18之芳基、碳數2～18之聚氧化烯烷基醚基、碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子被取代成氟原子的烷基、碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子被取代成氟原子的芳基、或碳數為2～18之範圍且至少1個氫原子被取代成氟原子的聚氧化烯烷基醚基；X係表示-COO -、-PO 4 -、-SO 3 -或-SO 4 -；M係表示質子或鎓離子)。
  4. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述陰離子性界面活性劑的含有量，係相對於前述氟化物粒子100質量%為0.2質量%～8質量%之範圍內。
  5. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述氟化物粒子為，從Na 3AlF 6、Na 5Al 3F 14、Na 3Li 3Al 2F 12、Na 2MgAlF 7、K 2NaAlF 6、LiCaAlF 6及 LiSrAlF 6所成之群組中選出之至少1種氟化物的粒子。
  6. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述氟化物粒子之分散液中的水分濃度，係相對於前述氟化物粒子之分散液100質量%為1.5質量%以下。
  7. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述有機溶媒為醇溶媒、酮溶媒及醚溶媒之至少任一者。
  8. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述氟化物粒子的平均分散粒子徑為1nm～100nm之範圍內。
  9. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述氟化物粒子之含有量，係相對於前述氟化物粒子之分散液100質量%為1質量%～30質量%之範圍內。
  10. 如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液，其中，前述氟化物粒子之分散液的使用脈衝NMR所測定到的Rsp值為5以上。
  11. 一種光學膜形成用組成物，係含有如請求項1所記載之氟化物粒子之分散液。
  12. 一種光學膜，係由如請求項11所記載之光學膜形成用組成物的硬化膜所成。
TW111113364A 2021-05-26 2022-04-08 氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜 TW202311163A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-088137 2021-05-26
JP2021088137 2021-05-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202311163A true TW202311163A (zh) 2023-03-16

Family

ID=84228759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW111113364A TW202311163A (zh) 2021-05-26 2022-04-08 氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2022183000A (zh)
KR (1) KR20240013768A (zh)
CN (1) CN117222710A (zh)
TW (1) TW202311163A (zh)
WO (1) WO2022249730A1 (zh)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5943754U (ja) 1982-09-17 1984-03-22 エヌオーケー株式会社 ピストン機構部のシ−ル構造
JPS6030893U (ja) 1983-08-09 1985-03-02 三菱重工業株式会社 ドラフトマ−ク用マ−キング治具
JP4589155B2 (ja) * 2005-03-14 2010-12-01 伊藤光学工業株式会社 ハードコート組成物
JP4297285B2 (ja) * 2005-12-13 2009-07-15 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム
KR100981018B1 (ko) * 2006-07-10 2010-09-07 주식회사 엘지화학 Ｕｖ 경화형의 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물
KR100981575B1 (ko) * 2006-07-10 2010-09-10 주식회사 엘지화학 오염 제거가 용이한 디스플레이 반사 방지용 코팅 조성물
WO2009064128A2 (en) * 2007-11-13 2009-05-22 Lg Chem, Ltd. Coating composition for antireflection, antireflection film and method for preparing the same
JP2010107583A (ja) 2008-10-28 2010-05-13 Central Glass Co Ltd 低反射膜
JP2010202857A (ja) * 2009-02-05 2010-09-16 Mitsubishi Rayon Co Ltd 組成物、硬化被膜およびそれを含む物品
JP2010195901A (ja) * 2009-02-24 2010-09-09 Panasonic Electric Works Co Ltd ハードコート用樹脂組成物、ハードコート用樹脂組成物の製造方法、及び反射防止コーティング基材
JP2011051851A (ja) * 2009-09-03 2011-03-17 Hitachi Chem Co Ltd 希土類フッ化物微粒子分散液、この分散液の製造方法、この分散液を用いた希土類フッ化物薄膜の製造方法、この分散液を用いた高分子化合物／希土類フッ化物複合フィルムの製造方法、及び、この分散液を用いた希土類焼結磁石
JP2019215451A (ja) * 2018-06-13 2019-12-19 学校法人日本大学 波長変換材、及びこれを用いた太陽電池モジュール

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022183000A (ja) 2022-12-08
WO2022249730A1 (ja) 2022-12-01
CN117222710A (zh) 2023-12-12
KR20240013768A (ko) 2024-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6713170B1 (en) Hard coating material and film comprising the same
JP5057199B2 (ja) 中空状ＳｉＯ２微粒子分散液の製造方法、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材
JP4883383B2 (ja) 中空状ＳｉＯ２を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材
US9139745B2 (en) Aggregate of spherical core-shell cerium oxide/polymer hybrid nanoparticles and method for producing the same
US20080032135A1 (en) Dispersion of carbon nanoparticles and core-shell type carbon nanoparticles, and method of preparing the same
US20110197787A1 (en) Hollow particles, production process thereof, coating composition and article
JP5241199B2 (ja) 繊維状中空シリカ微粒子の製造方法および反射防止被膜付基材
US4937148A (en) Process for preparing conductive fine particles
JP4540979B2 (ja) ハードコート膜付基材および該ハードコート膜形成用塗布液
JP4439876B2 (ja) 鎖状酸化アンチモン微粒子、該微粒子分散液の製造方法および用途
JP6443041B2 (ja) シリカゾル分散液及びシリカ多孔質膜形成用組成物
KR102088986B1 (ko) 불화마그네슘 입자, 불화마그네슘 입자의 제조방법, 불화마그네슘 입자 분산액, 불화마그네슘 입자 분산액의 제조방법, 저굴절률층 형성용 조성물, 저굴절률층 형성용 조성물의 제조방법, 저굴절률층 부착 기재 및 저굴절률층 부착 기재의 제조방법
JP5284632B2 (ja) 導電性繊維状中空シリカ微粒子分散質およびその製造方法
KR101163539B1 (ko) 체인 무기 산화물 미립자 그룹, 미립자 그룹 분산의제조방법 및 미립자 그룹의 이용
TW202311163A (zh) 氟化物粒子之分散液、光學膜形成用組成物及光學膜
TW200909544A (en) Coating composition and optical member
JP5782916B2 (ja) 変性中空シリカ微粒子を含有する反射防止フィルム用組成物と、これを用いた反射防止フィルム
JP4655614B2 (ja) フッ化マグネシウム粒子のオルガノゾルとその製造方法、およびそれを用いた塗料
KR20220122687A (ko) 불화물 입자의 분산액, 그 제조 방법 및 광학막
WO2023189785A1 (ja) 中空シリカ粒子の分散液、及びその製造方法
TW202334034A (zh) 具有包含官能基和矽的外殼、以及其內側的空腔的粒子的分散液，以及該分散液的製造方法
JPS63158709A (ja) 透明導電膜を有する基材