TW202301911A - 用於保護光微影系統之壓力容器中之密封件之方法和裝置 - Google Patents
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Abstract
一種容器具有一密封件，該密封件藉由一定體積的氣體保護以免受該容器內之液體材料影響。該容器具有一分隔件，該分隔件將該容器劃分成兩個容積空間，使得與第一容積空間氣體連通之該密封件藉由該第一容積空間中之一定體積的氣體保護以免受第二容積空間中之該液體材料影響。
Description
本發明係關於用於密封容器之方法及設備。更特定而言，本發明係關於用於使用所俘獲之氣體容積保護密封件的方法及設備。
壓力係許多現代工業及技術程序中之重要參數。在製造中，例如可出於輸送、射出、噴塗、施加力及其類似者之目的而對許多流體加壓。特定而言，使用極紫外(EUV)光曝光晶圓之光微影系統常常藉由用雷射光輻照熔融目標(例如，錫目標)來產生其EUV光。用高壓(通常在數千PSI之範圍內)對熔融錫目標加壓，且將該等目標自熔融錫儲集器遞送至輻照位點。在典型情境中，自液滴產生器系統之噴嘴射出錫液滴。將熔融標靶材料(例如，錫)自一或多個熔融標靶材料儲集器遞送至液滴產生器系統之熔融標靶材料遞送系統常常使用一或多個壓力容器，以便有助於例如在起動階段期間使振動衰減及使壓力量變曲線平穩。此等壓力容器需要能夠跨越廣泛範圍之溫度及壓力而操作的密封件。本發明之實施例係有關保護諸如(但不限於)在光微影工具之熔融標靶材料遞送系統中使用的壓力容器之容器的密封件。
在一實施例中，本發明係關於一種具有一熔融標靶材料遞送系統之光微影系統，該熔融標靶材料遞送系統將熔融標靶材料至少自一第一位置遞送至一第二位置。該系統包含一容器，該容器安置於該第一位置與該第二位置之間的流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通。該容器包括圍封至少一內部容積空間之一容器壁。該容器亦包括安置於該容器壁內之一分隔件，該分隔件將該內部容積空間劃分成至少一第一容積空間及一第二容積空間，該分隔件經組態以在該內部容積空間內不存在熔融材料時准許該第一容積空間與該第二容積空間之間的氣體連通，該第一容積空間在該第二容積空間內存在熔融標靶材料時捕獲存在於該第一容積空間內的一氣體之至少一部分。該容器進一步包括一入口孔口及一出口孔口，該第二體積空間與該入口孔口及該出口孔口兩者流體連通。該容器另外包括一密封件，該密封件經安置使得當該熔融標靶材料不在該第二容積空間中時，該密封件與該第一容積空間及該第二容積空間氣體連通，當該熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時，該密封件與該第一容積空間內之捕獲氣體氣體連通且不與該第二容積空間氣體連通。
在另一實施例中，本發明係關於一種具有一熔融標靶材料遞送系統之光微影系統，該熔融標靶材料遞送系統將熔融標靶材料至少自一第一位置遞送至一第二位置。該系統包含一容器，該容器安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通。該容器包括圍封至少一內部容積空間之一容器壁。該容器亦包括一分隔件，該分隔件將該內部容積空間劃分成一第一容積空間及一第二容積空間，其中當第一量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時，該第一容積空間與該第二容積空間氣體連通，當第二量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時，該第一容積空間與該第二容積空間由於被該熔融標靶材料阻斷而不氣體連通，熔融標靶材料之該第二量大於該熔融標靶材料之該第一量。該容器另外包括與該第一容積空間氣體連通之一密封件。
在又一實施例中，本發明係關於一種具有一熔融標靶材料遞送系統之光微影系統，該熔融標靶材料遞送系統將熔融標靶材料至少自一第一位置遞送至一第二位置。該系統包含一容器，該容器安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通。該容器包括圍封至少一內部容積空間之一容器壁，該內部容積空間包括一第一容積空間及一第二容積空間，其中當第一量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時，該第一容積空間與該第二容積空間氣體經由一通道氣體連通，當第二量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時，該第一容積空間與該第二容積空間由於該通道被該熔融標靶材料阻斷而不氣體連通，熔融標靶材料之該第二量大於該熔融標靶材料之該第一量。該容器亦包括與該第一容積空間氣體連通之一密封件。
現將參考如隨附圖式中所說明的本發明之幾個實施例來詳細地描述本發明。在以下描述中，闡述眾多特定細節以便提供對本發明之透徹理解。然而，對於熟習此項技術者而言將顯而易見，可在無此等特定細節中之一些或全部的情況下實踐本發明。在其他情況下，未詳細地描述熟知的程序步驟及/或結構以免不必要地混淆本發明。
本發明之實施例係關於用於保護容器中之密封件的方法及設備。在一或多個實施例中，容器由容器壁圍繞使得圍封內部容積空間。壓力容器可由至少兩個容器子總成構成。當此等兩個容器子總成配合以產生內部容積空間時，使用密封件以使兩個容器子總成之間的配合表面防漏。
該內部容積空間可包括第一容積空間及第二容積空間，其中第一容積空間經由通道與第二容積空間流體連通。第一容積空間及第二容積空間可藉由容器內之分隔件產生，且通道可例如位於分隔件之底部處或可例如藉由分隔件中之穿孔(亦即，通孔)產生。第二容積空間與用於接收流體之入口孔口及用於輸出先前經由入口孔口進入之流體的出口孔口流體連通。當壓力容器為空時，第一容積空間及第二容積空間經由前述通道氣體連通。在流體經由入口孔口進入壓力容器時，該流體開始填充第二容積空間，且在流體液位於第二容積空間內已充分上升的某個時刻，該流體阻斷通道。
通道之阻斷防止來自第一容積空間之氣體與第二容積空間氣體連通。另外，當流體阻斷通道時，氣體被捕獲於第一容積空間內。隨著流體逐漸填充第二容積空間，一定量的氣體仍被捕獲於第一容積空間內。隨著壓力容器內(亦即，第二容積空間內及第一容積空間內)之壓力增加，捕獲氣體之體積變得愈來愈小。然而，此捕獲氣體之體積將不為零，此係因為不存在供捕獲氣體在通道被阻斷之後逸出的路徑。捕獲氣體之此非零體積使密封件不與內部容積空間內部之流體形成接觸，且更具體而言，使密封件不與第一容積空間內部之任何流體形成接觸。當第二容積空間完全填充有流體且流體流出出口孔口時，非零捕獲氣體體積仍存在於第一容積空間之一部分內以繼續分離流體與密封件。以此方式，保護密封件以免與流體形成接觸，此可促進保護密封件。
在一或多個實施例中，壓力容器係諸如極紫外(EUV)光微影工具中之熔融標靶材料遞送系統的熔融材料遞送系統之組件。詳細而言，熔融標靶材料(通常係錫或其合金中之一者，但可使用任何其他合適的標靶材料)係自儲集器遞送至用於產生液滴之液滴產生器。液滴藉由噴嘴射出至腔室之內部中，在該腔室中，藉由雷射光束在輻照位點處輻照該等液滴。在光微影工具之一或多個變型中，液滴可藉由一或多個雷射預脈衝及一或多個雷射主脈衝輻照，以便自液滴產生電漿且產生供用於晶圓之光微影處理中的EUV光。EUV光微影工具在此項技術中已知且此處將不進一步進行詳述。
在一或多個實施例中，壓力容器係熔融標靶材料遞送系統之組件且安置於沿熔融標靶材料流體路徑之兩個位置之間。該兩個位置可例如係熔融標靶材料儲集器及包括前述噴嘴之液滴產生器系統。此等兩個位置亦可表示沿熔融標靶材料儲集器與噴嘴之間的流體路徑的任何其他任意的兩個位置，亦即，沿流體路徑之壓力容器的準確位置並不限制本發明之範圍。
該壓力容器在開始操作之前可係空的，且可因此在真空狀態中或可在壓力容器中具有某氣體。在光微影工具操作之前，可執行一或多個氣體淨化循環以確保自熔融標靶材料遞送系統移除氣態及非氣態污染物。在淨化操作期間，可使用一或多種淨化氣體，且可替代地增加及減少熔融標靶材料遞送系統之流體路徑內的壓力(例如，視需要增加及減少至真空或接近真空狀態)以藉由一或多種淨化氣體執行淨化。一旦淨化完成，熔融標靶材料便可開始自熔融標靶材料儲集器流動至噴嘴，在該噴嘴處，熔融標靶材料之液滴可朝向前述輻照位點射出。
由於壓力容器(及可視需要存在一個或多個壓力容器)安置於熔融標靶材料儲集器與噴嘴之間，因此在熔融標靶材料沿儲集器與噴嘴之間的流體路徑行進時，熔融標靶材料將在起動階段期間開始流動至壓力容器之入口孔口中。此開始填充壓力容器內之前述第二容積空間的程序。壓力容器內之熔融標靶材料的量(及因此體積)繼續增加且在某時刻將阻斷第二容積空間與前述第一容積空間之間的連通通道。此時，一定體積的氣體被捕獲於第一容積空間內且安置於密封件與壓力容器中之熔融標靶材料之間。
隨著熔融標靶材料繼續填充第二容積空間，壓力容器內之壓力可增加且可使第一容積空間中之捕獲氣體的體積收縮。然而，因為當熔融標靶材料阻斷連通通道時，第一容積空間內之捕獲氣體被阻止釋放，所以捕獲氣體將繼續具有非零體積，此係因為捕獲氣體之氣體分子不具有逸出路線。此體積之捕獲氣體將繼續使密封件與熔融標靶材料實體上分離，藉此甚至在熔融標靶材料完全填充第二容積空間且沿其至噴嘴之通路流出容器腔室之出口孔口之後仍繼續保護密封件。
在操作期間，熔融標靶材料遞送系統內之壓力可達到數千PSI，且由密封件經歷之溫度可處於或接近使熔融標靶材料保持熔融之溫度範圍(亦即，相對較高溫度)。然而，由於第一容積空間內之捕獲氣體體積使密封件與熔融標靶材料實體上分離，因此可更大程度地保護密封件且可顯著延長密封件之使用壽命。
將參看以下諸圖更佳地理解本發明之實施例的特徵及優點。
圖1根據本發明之實施例展示具有第一壓力容器子總成102及第二壓力容器子總成104之壓力容器100的側視圖。在圖1之實例中，壓力容器100之形狀大致為圓柱形，但可使用任何合適的形狀。出於包括例如易於製造、易於組裝、易於維護等之許多原因，可製造複數個壓力容器子總成且將其組裝在一起以產生壓力容器。儘管僅兩個子總成展示於圖1中，但壓力容器可由任何數目個子總成形成。
壓力容器100具有包括壁106、108及110之容器壁。壁106係壓力容器子總成102之部分，而壁108 (在圖1之側視圖的實例中，圓柱壁)及壁110係壓力容器子總成104之部分。當組裝在一起時，密封件120 (在圖1之實例中，呈O形環之形式，但可視需要具有任何其他外觀尺寸)安置於兩個子總成102與104之間以防止氣體或流體洩漏。當恰當地組裝時，壁106、108及110形成圍封內部容積空間130之容器壁。
壁110具有入口孔口122，且壁106具有出口孔口124。內部容積空間130包括第一容積空間132及第二容積空間134。與第一壓力容器子總成102整合或製成為第一壓力容器子總成之一部分的分隔件136在箭頭138之方向上(在重力方向上)朝向壁110延伸，從而產生通道140，該通道140在未被阻斷時允許第一容積空間132與第二容積空間134之間的氣體連通。
密封件120經安置使得其與第一容積空間132氣體連通，如所展示。當內部容積空間130中不存在熔融標靶材料時，通道140未被阻斷且密封件120亦經由第一容積空間132及通道140與第二容積空間134氣體連通。
在圖2中，當熔融標靶材料流動至壓力容器100之內部容積空間130中(經由入口孔口122)時，熔融標靶材料之液位在內部容積空間130中將隨時間上升。由於重力(不管係自然重力抑或藉由使用離心力誘發之此重力)，熔融標靶材料之液位將在箭頭150之方向(箭頭150之方向自身與重力相反)上升。在圖2之實例中，液位當前停置於參考數字152處。
在圖3中，熔融標靶材料之液位到達分隔件136之底部，因此阻斷通道140且不准許第一容積空間132保持與第二容積空間134氣體連通。因此，一定體積的氣體現被捕獲於第一容積空間132中。
在圖4中，熔融標靶材料繼續流動至壓力容器100之內部空間中，即流動至內部容積空間130之第二容積空間134中。此使第二容積空間134中之熔融標靶材料的液位上升得更高(在箭頭150之方向上)。熔融標靶材料之添加通常增加熔融標靶材料遞送系統內及特定地第二容積空間134內之壓力。增加之壓力亦施加於第一容積空間132上，從而使第一容積空間132內之捕獲氣體收縮。然而，由於不存在供捕獲氣體逸出之孔口，因此在密封件120與熔融標靶材料之間仍存在捕獲氣體之有限非零體積。捕獲氣體使密封件120與熔融標靶材料在實體上形成接觸，藉此改良密封件/O形環之壽命。
在圖5中，熔融標靶材料填充第二容積空間134且例如沿其至噴嘴之通路流出出口孔口124。壓力繼續增加以達到操作壓力臨限值(例如，在實施中大約4,000 PSI)。此壓力繼續縮小第一容積空間132內之捕獲氣體的體積。然而，在密封件120與鄰近於O形環之熔融標靶材料之間仍存在捕獲氣體170之有限非零體積。
密封件120可由可耐受高操作溫度以及高操作壓力範圍之彈性體製成。在其他實施例中，密封件120可由諸如金屬或甚至混合材料之任何合適的材料製成。在另外其他實施例中，密封件可採用扁平密封墊圈之實體形式或任何其他形式。要點係密封件之準確實體形式及其化學組成物兩者皆不相關或限制本文中之本發明實施例的範圍。
圖1至圖5展示向下突出(朝向壁110)之分隔件136，且分隔件在到達壁110之前終止。分隔壁136之向下指向末端與壁110之間的間隙產生前述通道，如本文中已論述的。在其他實施例中，分隔件可一直達至壁110，且一或多個穿孔可存在於分隔件136中以形成一或多個通道，從而在熔融標靶材料不存在於壓力容器中時允許第一容積空間(氣體捕獲於其中)與第二容積空間之間的氣體連通。
在圖1至圖5之實例中，第一容積空間132具有逐漸變窄之形狀，其中底部(圖1中之182)寬於頂部(圖1中之184)，密封件120朝向該頂部安置。此形狀可選且並非始終需要，但該形狀在一些實施例中確實提供優點。此形狀准許頂部184附近之捕獲氣體柱以相對較少的氣體體積維持Z方向上(參見圖3中之箭頭Z)之相對較大間隔。因此，在第一容積空間132內部之捕獲氣體經加壓且體積收縮時，即使第一容積空間132內部之捕獲氣體收縮至其原始體積之僅小的百分比，仍可維持密封件與熔融標靶材料之間的在Z方向上之大的間隔。
在另一實施例中，提供用於在安裝流體連接部時減少組件之間的旋轉的設備及方法。該等組件可係公及母封蓋。舉例而言，流體連接部可形成微影設備之部分。形成流體連接部(亦即，流體可流經之部分之間的連接部)之已知方法包括在公封蓋與母封蓋之間置放墊片及使該等封蓋更靠近在一起以擠壓封蓋之間的墊片，因此形成密封。
該等封蓋可藉由在母封蓋內之帶螺紋通路中旋轉擰緊螺帽而更靠近在一起。然而，在擰緊螺帽之旋轉期間，公封蓋可由於擰緊螺帽與公封蓋之間的摩擦力而不合需要地相對於母封蓋旋轉。
封蓋之相對旋轉可導致正藉由流體連接部而連接之部分的未對準，非想要的轉矩作用於正連接之部分上及/或造成對封蓋之損壞。受損封蓋可導致流體連接部之壽命縮短及/或自流體連接部洩漏之風險增加。減少在安裝流體連接部時封蓋之相對旋轉的一種技術係在流體連接部中提供包含突起之插入件及包含凹槽之母封蓋，該凹槽用於收納突起。
圖6A及圖6B根據本發明之實施例示意性地描繪包含突起604a及604b之防旋轉插入件602及包含凹槽608a及608b之母封蓋606。插入件602包含用於收納公封蓋(例如，圖7中之702)的孔隙610。在圖6A及圖6B之實例中，插入件包含兩個突起且母封蓋包含兩個凹槽。插入件可具有更大或更小數目個突起。母封蓋可具有更大或更小數目個凹槽。一般而言，插入件之突起及母封蓋中之凹槽經組態為互補形狀，使得插入件之突起配合至母封蓋之凹槽中。當插入件已插入至母封蓋中時，突起經組態以緊靠凹槽之壁使得減少、約束或消除插入件與封蓋之間的相對旋轉。
圖7根據本發明之實施例示意性地描繪流體連接部710，其包含具有一或多個突起之插入件712及包含一或多個凹槽之母壓蓋704。公封蓋702包含允許流體穿過流體連接部之流體通路730。公封蓋702插入穿過插入件712之孔隙。插入件712及公封蓋702接著插入至母封蓋704中。擰緊螺帽714在母封蓋704之螺紋內旋轉，使得擠壓公封蓋702與母封蓋704之間的墊片716，因此密封流體連接部。在擰緊螺帽714之旋轉期間，插入件之突起緊靠母封蓋之凹槽的壁(如結合圖6A及圖6B所論述)，藉此減少公封蓋702與母封蓋704之間的相對旋轉。本文中所描述及描繪的包含一或多個突起之插入件及包含一或多個凹槽之母封蓋有利地減少流體連接部中之公封蓋與母封蓋之間的旋轉，藉此改良流體連接部之品質及/或延長流體連接部之可操作壽命。此流體連接部可存在(但並非必需存在)於流體管線與例如圖1至圖5之容器的入口孔口或出口孔口之間。
雖然已按照若干較佳實施例描述了本發明，但存在屬於本發明之範圍的更改、排列及等效物。舉例而言，雖然參考壓力容器描述了本發明之實施例，但本發明之實施例亦應用於需要密封件之任何兩個部分，且應理解為亦涵蓋此類配置，該密封件安置於該兩個部分之間以由氣體袋保護。本發明應被理解為亦涵蓋此等更改、排列及等效物。亦應注意，存在實施本發明之方法及設備的許多替代方式。儘管本文中提供了各種實例，但預期此等實例關於本發明為說明性的而非限制性的。
在以下編號條項中闡明本發明之其他態樣。
1. 一種具有一熔融標靶材料遞送系統之光微影系統，該熔融標靶材料遞送系統將熔融標靶材料至少自一第一位置遞送至一第二位置，該光微影系統包含：
一容器，其安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通，該容器包括：
一容器壁，其圍封至少一內部容積空間；
一分隔件，其安置於該容器壁內，該分隔件將該內部容積空間劃分成至少一第一容積空間及一第二容積空間，該分隔件經組態以在該內部容積空間內不存在熔融材料時准許該第一容積空間與該第二容積空間之間的氣體連通，該第一容積空間經組態以在該第二容積空間內存在熔融標靶材料時捕獲存在於該第一容積空間內的一氣體之至少一部分；
一入口孔口；
一出口孔口，該第二容積空間與該入口孔口及該出口孔口兩者流體連通；及
一密封件，其經安置使得當該熔融標靶材料不在該第二容積空間中時，該密封件與該第一容積空間及該第二容積空間兩者氣體連通，該密封件經組態以在該熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時與該第一容積空間內之該捕獲氣體氣體連通且不與該第二容積空間氣體連通。
2. 如條項1之光微影系統，其中該熔融標靶材料係熔融錫。
3. 如條項1之光微影系統，其中該容器係一壓力容器。
4. 如條項1之光微影系統，其中該密封件係由一彈性體形成。
5. 如條項1之光微影系統，其中該密封件係一O形環。
6. 如條項1之光微影系統，其中該第一容積空間具有朝向該密封件逐漸變窄之一逐漸變窄形狀。
7. 如條項1之光微影系統，其中該分隔件包括該第一容積空間與該第二容積空間之間的一或多個穿孔。
8. 如條項1之光微影系統，其中該入口孔口及該出口孔口中之至少一者使用具有突起之一防旋轉插入件耦接至一流體管線。
9. 一種具有一熔融標靶材料遞送系統之光微影系統，該熔融標靶材料遞送系統將熔融標靶材料至少自一第一位置遞送至一第二位置，該光微影系統包含：
一容器，其安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通，該容器包括：
一容器壁，其圍封至少一內部容積空間；
一分隔件，其將該內部容積空間劃分成一第一容積空間及一第二容積空間，其中該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第一量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時氣體連通，該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第二量之熔融標靶材料存在於該第二容積空間中時由於被該熔融標靶材料阻斷而彼此不氣體連通，熔融標靶材料之該第二量大於該熔融標靶材料之該第一量；及
一密封件，其與該第一容積空間氣體連通。
10. 如條項9之光微影系統，其中該熔融標靶材料係熔融錫。
11. 如條項9之光微影系統，其中該容器係一壓力容器。
12. 如條項9之光微影系統，其中該密封件係由一彈性體形成。
13. 如條項9之光微影系統，其中該密封件係一O形環。
14. 如條項9之光微影系統，其中該第一容積空間具有朝向該密封件逐漸變窄之一逐漸變窄形狀。
15. 如條項9之光微影系統，其中該分隔件包括該第一容積空間與該第二容積空間之間的一或多個穿孔。
16. 如條項9之光微影系統，其中該入口孔口及該出口孔口中之至少一者使用具有突起之一防旋轉插入件耦接至一流體管線。
17. 一種具有一流體材料遞送系統之光微影系統，該流體材料遞送系統將流體材料至少自一第一位置遞送至一第二位置，該光微影系統包含：
一容器，其安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通，該容器包括：
一容器壁，其圍封至少一內部容積空間，該內部容積空間包括一第一容積空間及一第二容積空間，其中該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第一量之流體材料存在於該第二容積空間中時經由一通道氣體連通，該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第二量之流體材料存在於該第二容積空間中時由於該通道被該流體材料阻斷而不經由該通道氣體連通，流體材料之該第二量大於該流體材料之該第一量；及
一密封件，其與該第一容積空間氣體連通。
18. 如條項17之光微影系統，其中當該第二量之該熔融材料存在於該第二容積空間中時，該密封件不與該第二容積空間氣體連通。
19. 如條項18之光微影系統，其中當該第二量之該熔融材料存在於該第二容積空間中時，一定量的捕獲氣體安置於該流體材料與該密封件之間。
20. 如條項17之光微影系統，其中該流體材料係熔融錫。
21. 如條項17之光微影系統，其中該密封件係一O形環。
22. 如條項17之光微影系統，其中該第一容積空間具有朝向該密封件逐漸變窄之一逐漸變窄形狀。
23. 如條項17之光微影系統，其中該分隔件包括該第一容積空間與該第二容積空間之間的一或多個穿孔。
24. 如條項17之光微影系統，其中該入口孔口及該出口孔口中之至少一者使用具有突起之一防旋轉插入件耦接至一流體管線。
25. 如條項17之光微影系統，其中該第二容積大於一臨限容積，其中該臨限容積取決於該通道之一幾何形狀。
26. 如條項17之光微影系統，其中該第二容積大於一臨限容積，其中該臨限容積取決於該通道之一幾何形狀及該容器相對於重力之一定向。
27. 一種流體材料遞送系統，該流體材料遞送系統將流體材料至少自一第一位置遞送至一第二位置，該流體材料遞送系統包含：
一容器，其安置於該第一位置與該第二位置之間的一流體路徑中且與該第一位置及該第二位置兩者流體連通，該容器包括：
一容器壁，其圍封至少一內部容積空間，該內部容積空間包括一第一容積空間及一第二容積空間，其中該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第一量之流體材料存在於該第二容積空間中時經由一通道氣體連通，該第一容積空間及該第二容積空間經組態以在第二量之流體材料存在於該第二容積空間中時由於該通道被該流體材料阻斷而不經由該通道氣體連通，流體材料之該第二量大於該流體材料之該第一量；及
一密封件，其與該第一容積空間氣體連通。
100:壓力容器
102:第一壓力容器子總成
104:第二壓力容器子總成
106:壁
108:壁
110:壁
120:密封件
122:入口孔口
124:出口孔口
130:內部容積空間
132:第一容積空間
134:第二容積空間
136:分隔件/分隔壁
138:箭頭
140:通道
150:箭頭
152:液位
170:捕獲氣體
182:底部
184:頂部
602:防旋轉插入件
604a:突起
604b:突起
606:母封蓋
608a:凹槽
608b:凹槽
610:孔隙
702:公封蓋
704:母壓蓋
710:流體連接部
712:插入件
714:擰緊螺帽
716:墊片
730:流體通路
Z:方向/箭頭
在隨附圖式之諸圖中作為實例而非作為限制來說明本發明，且在圖式中，類似參考數字係指類似元件，且在圖式中：
圖1根據本發明之實施例展示具有第一壓力容器子總成及第二壓力容器子總成之壓力容器的側視圖。
圖2根據本發明之實施例展示圖1之壓力容器，其中熔融標靶材料開始流動至壓力容器之內部容積空間中。
圖3根據本發明之實施例展示圖1之壓力容器，其中熔融標靶材料正流動至壓力容器之內部容積空間中且到達分隔件之底部。
圖4根據本發明之實施例展示圖1之壓力容器，其中熔融標靶材料正流動至壓力容器之內部容積空間中且上升至分隔件之底部上方。
圖5根據本發明之實施例展示圖1之壓力容器，其中熔融標靶材料正流動至壓力容器之內部容積空間中且填充內部容積空間中之一者而不接觸密封件。
圖6A及圖6B根據本發明之實施例展示包含突起之防旋轉插入件及包含凹槽之母封蓋。
圖7根據本發明之實施例示意性地描繪流體連接部，其包含具有一或多個突起之插入件及包含一或多個凹槽之母封蓋。
100:壓力容器
102:第一壓力容器子總成
104:第二壓力容器子總成
106:壁
108:壁
110:壁
120:密封件
122:入口孔口
124:出口孔口
130:內部容積空間
132:第一容積空間
134:第二容積空間
136:分隔件/分隔壁
138:箭頭
140:通道
182:底部
184:頂部
Z:方向/箭頭
Claims (20)
- 一種裝置，其包含： 在一軸向方向延伸之一第一耦合子總成，該第一耦合子總成包括配置於該第一耦合子總成之一軸向端之一配件(fitting)；及 一旋轉耦合元件，其旋轉地圍繞該第一耦合子總成且經調適以嚙合(engaged with)該配件以使該旋轉耦合元件相對於該配件係可旋轉的但與該配件可軸向地嚙合(axially engageable)以施加一軸向壓縮力(compressive force)至該配件， 該配件具有帶有一第一組態之一面以使當該配件經接收於一第二配件中且當該配件及該第二配件藉由該旋轉耦合元件之旋轉進入(brought into)軸向嚙合時，該配件及該第二配件至少部分地旋轉地嚙合以抑制(inhibit)該配件相對於該第二配件之軸向旋轉。
- 如請求項1之裝置，其中該第一耦合子總成包含一封蓋(gland)及具有一孔隙之一插入件及至少一突起(protrusion)，該封蓋延伸穿過該孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪(dimensioned)以接收該至少一突起之至少一凹槽。
- 如請求項2之裝置，其中該第一耦合子總成包含一封蓋及具有一圓形孔隙之一插入件及相對於該圓形孔隙之一中心徑向(radially)延伸之至少一突起，該封蓋延伸穿過該圓形孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少一突起之至少一凹槽。
- 如請求項2之裝置，其中該第一耦合子總成包含一封蓋及具有一孔隙之一插入件及至少兩突起，該封蓋延伸穿過該孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少兩突起之至少兩凹槽。
- 如請求項2之裝置，其中該第一耦合子總成包含一封蓋及具有一圓形孔隙之一插入件及相對於該圓形孔隙之一中心徑向延伸之至少兩突起，該封蓋延伸穿過該圓形孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少兩突起之至少兩凹槽。
- 如請求項5之裝置，其中至少該第一組態之一配置缺乏圓形對稱(circular symmetry)。
- 如請求項2之裝置，其中該第一旋轉耦合元件包含一耦合螺帽(nut)。
- 一種裝置，其包含： 一第一旋轉耦合元件； 一第一配件，其經調適以軸向地嚙合該第一旋轉耦合元件； 一第二旋轉耦合元件； 一第二配件，其經調適以軸向地嚙合該第二旋轉耦合元件及該第一配件； 該第一配件具有一第一組態且該第二配件具有一第二組態，該第一及第二組態係使當該第一配件及該第二配件藉由該第一及第二旋轉耦合元件之相對旋轉進入軸向嚙合時該第一配件被接收於該第二配件中，該第一及第二配件至少部分地旋轉地嚙合以防止該第一配件相對於該第二配件之軸向旋轉。
- 如請求項8之裝置，其中該第一配件包含一封蓋及具有一孔隙之一插入件及至少一突起，該封蓋延伸穿過該孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少一突起之至少一凹槽。
- 如請求項8之裝置，其中該第一配件包含一封蓋及具有一圓形孔隙之一插入件及相對於該圓形孔隙之一中心徑向延伸之至少一突起，該封蓋延伸穿過該圓形孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少一突起之至少一凹槽。
- 如請求項8之裝置，其中該第一配件包含一封蓋及具有一孔隙之一插入件及至少兩突起，該封蓋延伸穿過該孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少兩突起之至少兩凹槽。
- 如請求項8之裝置，其中該第一耦配件包含一封蓋及具有一圓形孔隙之一插入件及相對於該圓形孔隙之一中心徑向延伸之至少兩突起，該封蓋延伸穿過該圓形孔隙，且其中該第二配件具有經配置且經裁剪以接收該至少一突起之至少兩凹槽。
- 如請求項12之裝置，其中該第一組態及該第二組態缺乏圓形對稱。
- 如請求項8之裝置，其中該第一組態係互補(complementary)於該第二組態。
- 如請求項8之裝置，其中該第一組態及該第二組態缺乏圓形對稱。
- 如請求項8之裝置，其中該第一旋轉耦合元件包含一外部帶螺紋封套(externally threaded sleeve)且該第二旋轉耦合元件包含一內部帶螺紋封套(internally threaded sleeve)。
- 一種裝置，其包含具有帶有一第一組態之一插入件之一第一配件，該插入件被裁剪以可插入(insertable)進入一第二配件中之一孔隙，該孔隙具有互補於該第一組態之一第二組態，該第一組態及第二組態係使當該插入件被插入進入該孔隙時，該插入件相對於該孔隙係非可旋轉的(not rotatable)。
- 如請求項17之裝置，其中該第一組態缺乏圓形對稱。
- 如請求項17之裝置，其進一步包含一第一旋轉耦合元件，該第一旋轉耦合元件經調適以圍繞該插入件旋轉且嚙合經配置圍繞該第二配件之一第二旋轉耦合元件且當與該第二旋轉耦合元件嚙合時施加一壓縮密封力(compressive sealing force)至該插入件。
- 如請求項17之裝置，其中該第一旋轉耦合元件具有一外部螺紋且該第二旋轉耦合元件具有一內部螺紋且其中該第一旋轉耦合元件經調適以藉由使該外部螺紋與該內部螺紋嚙合而與該第二旋轉耦合元件嚙合。
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