TW202300792A - 載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之載台裝置具備載台、以磁性使該載台懸浮之Z軸馬達、及於平面內於1軸方向驅動藉由該Z軸馬達而懸浮之載台之X軸馬達，且構成為，X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與該X軸線圈非接觸地在上下方向隔著X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持該1對X軸磁鐵；Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持該Z軸磁鐵之Z軸磁軛；Z軸馬達配置於X軸馬達之下部、且由X軸磁軛遮蔽自Z軸馬達洩漏之磁場之位置，藉由如上構成，可抑制磁場洩漏，且可實現高速之定位。

Description

載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置

本揭示係關於一種載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置。

自先前以來，已知有關於用於半導體關聯裝置之器件載台及用以正確地定位並支持晶圓之磁性懸浮載台之技術。於專利文獻1中，記載有使器件移動之磁性懸浮載台機構。該磁性懸浮平面載台機構為於懸浮之可動工作台側配置磁性材料，並藉由固定側之電磁致動器進行重力支持之構造。於該專利中，以藉由線圈電流而產生之向上之推力支持懸浮部之重力。 [先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2020-186815號公報

[發明所欲解決之問題]

例如，於半導體晶圓之製造、測定、檢查等之步驟中，為進行半導體晶圓之正確定位，使用上述先前之載台裝置。於此種載台裝置中，謀求半導體晶圓之定位精度提高。然而，上述先前之載台裝置中，線圈發熱變得巨大而導致線圈燒損。又，於線圈之接頭部分存在由於吸引力中產生變動故長衝程化較為困難之問題。又，存在洩漏磁場之問題，而難以應用於帶電粒子束裝置。

本揭示提供一種解決上述之先前技術之問題，可抑制磁場之洩漏且可實現高速定位之載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置。 [解決問題之技術手段]

為解決上述之問題，本發明，之載台裝置具備載台、以磁性使該載台懸浮之Z軸馬達、及於平面內於1軸方向驅動藉由該Z軸馬達而懸浮之載台之X軸馬達，且構成為，X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其以與該X軸線圈非接觸地於上下方向隔著X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持該1對X軸磁鐵；Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持該Z軸磁鐵之Z軸磁軛；Z軸馬達配置於X軸馬達之下部、且由X軸磁軛遮蔽自Z軸馬達洩漏之磁場之位置。

又，為解決上述之問題，本發明之帶電粒子束裝置具備：具有載置試料之工作台之載台裝置；收納該載台裝置並將內部排氣為真空之真空腔室；對載置於載台裝置之工作台之試料照射帶電粒子束之帶電粒子束光學系統部；及控制載台機構、真空腔室及帶電粒子束光學系統部之控制部，且構成為，載台裝置具備：載台，其搭載工作台；Z軸馬達，其以磁性使該載台懸浮；及X軸馬達，其在平面內於1軸方向驅動藉由該Z軸馬達而懸浮之載台；X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與X軸線圈非接觸地在上下方向隔著X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持1對X軸磁鐵；Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持該Z軸磁鐵之Z軸磁軛；Z軸馬達配置於X軸馬達之下部、且由X軸磁軛遮蔽自Z軸馬達洩漏之磁場之位置。

再者，為解決上述之問題，本發明之真空裝置具備載台裝置、及收納該載台裝置並將內部排氣為真空之真空腔室，且構成為，載台裝置具備：載台；Z軸馬達，其以磁性使該載台懸浮；及X軸馬達，其在平面內於1軸方向驅動藉由該Z軸馬達而懸浮之載台；X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與該X軸線圈非接觸地在上下方向隔著X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持該1對X軸磁鐵；Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持該Z軸磁鐵之Z軸磁軛；Z軸馬達配置於X軸馬達之下部、且由X軸磁軛遮蔽自Z軸馬達洩漏之磁場之位置。 [發明之效果]

根據本揭示之上述一態樣，可提供一種可抑制磁場之洩漏且可實現高速定位之載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置。

以下，參考圖式說明本揭示之載台裝置構成之原理、及應用該原理之載台裝置、帶電粒子束裝置及真空裝置之實施形態。

關於在一軸方向(X方向)上具有數百mm之衝程之磁性懸浮載台，說明作為磁性懸浮載台之構成要件之長邊軸方向(X軸馬達軸)之馬達之例。由於X軸馬達需跨及數百mm之長衝程確保推力，故需使用三相交流之線性馬達。其等根據磁軛之磁性電路之形狀，大致分為2種形式。

圖1係磁性電路打開之磁軛之線性馬達100之例。於兩個永久磁鐵105之間配置線圈107，並於線圈107中流動電流而獲得推力。磁通108雖由永久磁鐵105背面之磁軛106吸收，但由於磁軛106彼此離開，故磁通108通過空間進入相反側之磁軛106之背面。於此種磁軛106之磁性電路打開之形狀之線性馬達100中，有構造簡單之優點，另一方面，存在來自磁軛106之洩漏磁場較大之問題。

圖2係磁性電路關閉之コ字型磁軛之線性馬達110之例。於此種磁性電路關閉之形狀之線性馬達110中，使用コ字型之磁軛116。於此種構成中，自對向配置之1對永久磁鐵115之一者進入コ字型之磁軛116之磁通118幾乎不洩漏至外部地通過コ字型之磁軛116進入對應之側之永久磁鐵115。藉此，因磁通118之洩漏而產生之洩漏磁場較小。於本發明中，應用該原理。

自減少洩漏磁場之觀點而言，較為有效的是於X馬達中，使用採用磁性電路關閉之コ字型磁軛116之線性馬達。

接著，對進行懸浮部之重力補償及Z軸方向之推力產生之Z軸馬達進行說明。若欲僅以於線圈電流中獲得之推力支持懸浮部之重力，則必須於線圈中流動較大之電流，線圈中之發熱變得巨大。因此，自減少重力補償時之線圈發熱之觀點而言，較為有效的是於Z軸馬達中，使用磁性排斥力或磁性吸引力。

圖3係利用排斥力之重力補償致動器300之例。該構造係於固定側之磁軛302鋪滿有永久磁鐵301，且藉由與安裝於可動側之磁軛126之永久磁鐵125之間之排斥力313，支持懸浮部之重力。藉由調整線圈127之電流量，亦可進行排斥力之增減並實現上下方向(Z方向)之驅動，且可調整固定側之永久磁鐵301與可動側之永久磁鐵125之間隔。於該構造中，若欲實現跨及平面內(X方向或Y方向)之數百mm之可動衝程312之重力補償，則需對於固定側之永久磁鐵301，製作與可動衝程對應之較長之磁鐵。但，由於實際上難以製作如上述般之長度之磁鐵，故鋪滿複數個永久磁鐵而形成需要之長度之固定側之永久磁鐵。但，若設為將複數個永久磁鐵組合之構成則於永久磁鐵之接頭中磁通128之密度變小而排斥力變化，因而於如圖3所示般設為利用磁性排斥力之構成之情形時，由於在載台移動時產生重力補償力之變動而成為偏航之原因，故不適於長衝程化。

圖4係利用吸引力之重力補償致動器400之例。使由永久磁鐵145與磁軛146、線圈147構成之線性馬達140之永久磁鐵145吸著於由固定側之鐵系材料等磁性體製作之導軛402，而將磁性吸引力401利用於重力補償。由於導軛402由鐵系材料形成，故可根據線性馬達140之可動範圍自由設定其長度。藉由調整線圈147之電流量，亦可進行導軛402與永久磁鐵145之間之吸引力之增減並實現上下方向(Z方向)之驅動，且可調整導軛402與線性馬達140之間隔。由於磁性吸引力401於導軛402存在之衝程內力成為恆定，故適於長衝程化。

即，為實現低磁場之磁性懸浮載台，較為有效的是於X馬達中使用コ字型磁軛，於Z馬達中使用吸引型。

於圖5，顯示作為本發明之參考例之磁性懸浮載台500。圖5所示之參考例為根據上述思考方式，於X軸馬達510中使用如圖2所說明般之コ字型磁軛516，並於Z軸馬達520中使用如圖4所說明般之吸引型而構成之磁性懸浮載台500之構成例。於圖5所示之構成中，101為頂部工作台，102為條形鏡，103為試料台，104為試料且載置於試料台103上。508為兼作X載台之水冷套，且於內部有水冷配管507通過。於水冷套508上固定有頂部工作台支持柱509，由頂部工作台支持柱509支持頂部工作台101。

520為Z軸馬達，具備線圈527與永久磁鐵525、磁軛526，且相對於水冷套508左右配置有1對。該1對Z軸馬達520分別由側面支架541固定於兼作X載台之水冷套508。

510為X軸馬達，具備線圈517與永久磁鐵515、磁軛516，且線圈517由中央支架542固定於兼作X載台之水冷套508，磁軛516固定於Y工作台540。

530為Y軸馬達，具備線圈537與永久磁鐵535、磁軛536，且線圈537由中央支架542固定於兼作X載台之水冷套508，磁軛536固定於Y工作台540。

於Y工作台540中與1對Z軸馬達520對向之位置，固定有1對磁軛514。又，Y工作台540經由球體544由下軸線性導軌545引導。

圖5所示之磁性懸浮載台500為於具備Y工作台540而構成之Y軸載台上載置有具備水冷套508而構成之X軸載台之堆棧型之載台構成，且Y軸(下軸)由接觸式之滾動導軌引導，X軸(上軸)以磁性懸浮引導而非接觸化。即，上軸為X軸方向上數百mm衝程之磁性懸浮載台。

於該構成中，由於Y軸馬達530之線圈537與X軸馬達510之線圈517位於懸浮側，故需搭載內包用於線圈冷卻之水冷配管507之水冷套508。Z軸馬達520為控制懸浮部之傾斜而需空開較大間隔地配置於兩側，且為減少向頂部工作台101側之洩漏磁場，而需配置於遠離頂部工作台101之較低之位置。因此，關於X軸馬達510(及Y軸馬達530)亦成為不得不配置於較低之位置，且水平軸驅動中心551與重心之高度550之間隙552較大之構造。由於載台驅動時之俯仰力矩(繞Y軸之旋轉力)與間隙552成比例地增大，故存在Z軸馬達520之線圈527所需之電流增大，而招致驅動時之線圈發熱增大從而導致產量降低之問題。

本發明為解決上述之問題者，設為藉由抑制載台驅動時之俯仰力矩(繞Y軸之旋轉力)之產生而無需增加Z軸馬達之線圈所需之電流，從而抑制驅動時之線圈發熱。

以下，基於圖式詳細說明本發明之實施形態。於用以說明本實施形態之所有圖中具有相同功能者標註相同之符號，且原則上省略其重複之說明。

但，本發明並非限定於以下所示之實施形態之記載內容而解釋者。若為本領域技術人員則容易理解可於不脫離本發明之思想至主旨之範圍內，變更其具體性構成。 [實施例1]

使用圖6，對本發明之第1實施例中之低磁場之重力補償機構進行說明。於圖6，顯示於X軸馬達610之下側配置有Z軸馬達620之構成。如圖6所示，於X軸馬達610之コ字型之磁軛616之下側配置Z軸馬達620之永久磁鐵625、磁軛626及線圈627，並藉由對線圈627通電而於Z軸馬達620作用吸引力601，形成吸引型之重力補償致動器兼Z軸馬達620。

藉由設為此種構成，X軸馬達610之磁軛606之與Z軸馬達對向之面6161亦兼作相當於圖4所說明之導軛402之作用，而無需如圖5所示般之磁性懸浮載台500中之磁軛514。

又，藉由如圖6所示般配置X軸馬達610與Z軸馬達620，可使用X軸馬達610之磁軛616遮蔽來自Z軸馬達620之永久磁鐵625或磁軛626之洩漏磁場，且可抑制對配置於X軸馬達610之上方之未圖示之電子光學系統之電子束之影響。

於圖7，說明本實施例之原理。圖7所示之構成顯示將圖6所說明之X軸馬達610與Z軸馬達620安裝於相當於圖5之磁性懸浮載台500中之水冷套508之阻擋部711之狀態。於阻擋部711，以支柱713支持有相當於圖5之磁性懸浮載台500中之頂部工作台101之工作台712。

於圖7所示之構成中，X軸馬達610與Z軸馬達620於阻擋部711之左右各配置1對，且X軸馬達610之磁軛616固定於壁面710。又，X軸馬達610之線圈617與Z軸馬達620之磁軛626及線圈627固定於阻擋部711。

於該構成中，藉由對左右1對之線圈627通電而於固定於X軸馬達610之壁面710之磁軛616與Z軸馬達620作用吸引力601，且作為吸引型之重力補償致動器發揮作用之Z軸馬達620與阻擋部711及工作台712成為一體而懸浮。藉由於該狀態下控制流動於X軸馬達610之線圈617中之電流，阻擋部711及工作台712與Z軸馬達620於懸浮之狀態下於水平軸驅動中心701上沿X方向移動。

於此種構成中，藉由使工作台712之質量與阻擋部711及左右1對之Z軸馬達620之質量於水平軸驅動中心701之上下平衡，而可將其等之重心位置重疊於水平軸驅動中心701上。藉此，可於水平軸驅動時驅動重心，且可抑制於圖5所示之參考例中成為問題之俯仰力矩之產生。

又，藉由設為抑制懸浮之阻擋部711及工作台712移動時之俯仰之產生之構成，而即便減小流動於Z軸馬達620之線圈627中之電流亦可抑制俯仰之產生，且可抑制Z軸馬達620發熱。

於本實施例中，如已於圖7顯示其原理般，關於一種具備支持進行定位之對象物之支持載台、與藉由磁性使該支持載台懸浮而定位之懸浮機構之載台裝置，且於懸浮機構之X馬達之X磁軛之下側配置永久磁鐵與線圈而構成重力補償機構及Z致動器。

於圖8，顯示藉由已於圖6及圖7中說明原理之本實施例而實現之低磁場之磁性懸浮載台800之概略構成。於圖8所示之磁性懸浮載台800中，具備相當於圖7所示之阻擋部711之水冷套858、相當於X軸馬達610之X軸馬達810、相當於圖7之Z軸馬達620之Z軸馬達820、及Y軸馬達830。

X軸馬達810之磁軛816固定於Y工作台809，X軸馬達810之線圈817經由阻擋部818固定於水冷套858。又，Z軸馬達820之磁軛826經由阻擋部828固定於水冷套858。再者，Y軸馬達830之磁軛836固定於Y工作台809，線圈837經由阻擋部838固定於水冷套858。Y工作台809經由球體961由下軸線性導軌962引導。

以箭頭圖示來自作為發熱源之各馬達之線圈817、827及837之熱流803。藉由設為將X軸馬達810之線圈817以阻擋部818直接固定於水冷套508，並將Z軸馬達820之線圈827以阻擋部828直接固定於水冷套508之構成，可縮短自線圈817及線圈827至水冷套858之熱流之通路而實現有效率之線圈冷卻。

又，於磁性懸浮載台800，搭載由固定於水冷套858側之刻度頭841與固定於Y工作台809側之刻度板842構成之線性刻度，進行作為相對於Y工作台809之懸浮部之水冷套858之位置測量。於圖8所示之構成中搭載1軸之線性刻度並顯示例，但為進行穩定之懸浮控制，而需搭載6軸之線性刻度。

測量刻度頭841與刻度板842之間之相對位移，用於作為懸浮部之水冷套858之定位反饋控制。由於刻度頭841與各馬達之線圈817、827及837同樣為發熱源，故需以熱不傳遞至頂部工作台之方式冷卻。於圖8所示之構成中，由於刻度頭841直接固定於水冷套858故冷卻效率較高。關於搭載試料台103之頂部工作台101，亦可藉由自水冷套858經由頂部工作台支持柱509固定，而防止各馬達之線圈817、827及837或刻度頭841之發熱傳遞至搭載於試料台103之試料104。

如上述所說明，於本實施例中，構成為於磁性懸浮載台中，於2個コ字型之X磁軛之下側配置磁鐵與線圈，且X磁軛開口部配置為朝向內側並將線圈固定於水冷套。

於圖8所示之磁性懸浮載台800之構成中，包含藉由使Z軸馬達820作動而懸浮之水冷套858或頂部工作台101之部分之重心之位置如圖7所說明般，調整為重疊於水平軸驅動中心701上。藉此，於驅動X軸馬達使包含水冷套858或頂部工作台101之可動部分移動之水平軸驅動時，可重疊於水平軸驅動中心701上驅動重心，且可抑制俯仰力矩之產生。 [實施例2]

接著，作為第2實施例，於圖9，顯示將實施例1中說明之磁性懸浮載台800應用於帶電粒子束裝置及真空裝置之例。圖9所示之作為本實施例之帶電粒子束裝置及真空裝置之一實施形態之半導體測量裝置1900具備進行對象物之定位之載台裝置1910、與收納該載台裝置1910之真空腔室1901。本實施例之半導體測量裝置1900例如為作為掃描型電子顯微鏡(SEM：Scanning Electron Microscope)之應用裝置之測長SEM。載台裝置1910具有與實施例1中使用圖8說明之磁性懸浮載台800相同之構成。

半導體測量裝置1900例如具備載台裝置1910、真空腔室1901、電子光學系統鏡筒1902、制振基座1903、雷射干涉儀1904、及控制器1905。真空腔室1901收納載台裝置1910，且藉由省略圖示之真空泵將內部減壓而成為較大氣壓更低壓之真空狀態。為避免載台裝置1910或電子光學系統鏡筒1902受外部振動之影響，真空腔室1901由制振基座1903支持。

半導體測量裝置1900藉由載台裝置1910進行半導體晶圓等之對象物1906之定位，並自電子光學系統鏡筒1902將電子束照射於對象物上，拍攝對象物上之圖案，進行圖案之線寬之測量或形狀精度之評估。載台裝置1910藉由雷射干涉儀1904，測量條形鏡102之位置(Y方向之位置)，再者，藉由圖8所說明之刻度頭841，測量刻度板842之位置(X方向之位置)，並藉由控制器1905，控制保持於載台裝置1910之試料台103之半導體晶圓等之對象物於X-Y方向上之定位。

於此種半導體測量裝置1900之構成中，若採用實施例1中使用圖8說明之磁性懸浮載台800之構成作為載台裝置1910時，於自電子光學系統鏡筒1902朝對象物1906上照射電子束之期間，頂部工作台101停止，而於X軸馬達810之線圈807、及Y軸馬達830之線圈837中僅流動較小之電流。另一方面，Z軸馬達820於動作期間，於線圈827中流動較大之電流。於該狀態下由Z軸馬達820之線圈827產生之磁場中於頂部工作台101側產生之磁場，由X軸馬達810之磁軛816捕獲而洩漏至頂部工作台101側之磁場會變小，從而對自電子光學系統鏡筒1902照射於對象物1906上之電子束之影響可減小為幾乎能忽視之程度。

如以上所說明般，根據本實施例，藉由採用實施例1中使用圖8說明之磁性懸浮載台800之構成，作為半導體測量裝置1900之載台裝置1910，可防止於採用使用先前之滑動型導軌之載台之情形下因自滑動部分產生之金屬粉而導致對象物1906之表面上產生污染。

又，於採用使用先前之滑動型導軌機構之載台之情形下，滑動部分會成為發熱源而使得載台熱膨脹，藉此有可能導致載置於試料台103之對象物1906之位置變動，從而自電子光學系統鏡筒1902照射於對象物上之電子束之位置偏移。對此，於本實施例之半導體測量裝置1900中，由於採用磁性懸浮載台800之構成，故可消除因滑動而引起之發熱，而可消除因熱膨脹而引起之電子束照射位置偏移之問題。

再者，藉由採用磁性懸浮載台800之構成而可實現以非接觸高速且高精度之定位，例如，與使用先前之滑動型之導軌機構之情形相比可以1/100左右之時間並以±1 μm左右之精度進行定位。

再者，藉由採用磁性懸浮載台800之構成，下側之工作台之振動或變形、熱不會傳遞至磁性懸浮之上側之工作台，因而可消除降低電子束向對象物上之照射位置精度之原因。

即，本實施例之半導體測量裝置1900藉由具備磁性懸浮載台800作為載台裝置1910，可提高晶圓等對象物之定位精度，且可抑制磁場之洩漏。因此，可提高作為帶電粒子束裝置之半導體測量裝置之測定精度。又，由於磁性懸浮載台800之懸浮機構為磁性懸浮式，故容易應用於作為真空裝置之半導體測量裝置，且可發揮減少污染或抑制發熱等優異之效果。另，本揭示之帶電粒子束裝置及真空裝置不限定於半導體測量裝置。

以上，雖已使用圖式詳述本發明之實施形態，但具體之構成並非限定於該實施形態者，即便存在不脫離本發明之主旨之範圍內之設計變更等，其等亦包含於本發明者。

100, 110, 120, 140:線性馬達 101:頂部工作台 102:條形鏡 103:試料台 104:試料 105, 115, 125, 145:永久磁鐵 106, 116, 126, 146:磁軛 107, 117, 127, 147:線圈 108, 118, 128, 148:磁通 300, 400:重力補償致動器 301:永久磁鐵 302:磁軛 312:可動衝程 313:排斥力 401:磁性吸引力 402:導軛 403:背軛 500, 800:磁性懸浮載台 507:水冷配管 508:水冷套 509:頂部工作台支持柱 510, 610, 810:X軸馬達 514:磁軛 515, 615, 815:X軸馬達之永久磁鐵 516, 616, 816:X軸馬達之磁軛 517, 617, 817:X軸馬達之線圈 520, 620, 820:Z軸馬達 525, 625, 825:Z軸馬達之永久磁鐵 526, 626, 826:Z軸馬達之磁軛 527, 627, 827:Z軸馬達之線圈 530, 830:Y軸馬達 535, 835:Y軸馬達之永久磁鐵 536, 836:Y軸馬達之磁軛 537, 837:Y軸馬達之線圈 540:Y工作台 541:側面支架 542:中央支架 544:球體 545:下軸線性導軌 550:高度 551:水平軸驅動中心 552:間隙 701:水平軸驅動中心 710:壁面 711:阻擋部 712:工作台 713:支柱 803:熱流 809:Y工作台 818, 828, 838:阻擋部 841:刻度頭 842:刻度板 858:水冷套 1900:半導體測量裝置 1901:真空腔室 1902:電子光學系統鏡筒 1903:制振基座 1904:雷射干涉儀 1905:控制器 1906:對象物 6161:面

圖1係顯示磁性電路打開之馬達之概略構成之前視圖。 圖2係顯示磁性電路關閉之馬達之概略構成之前視圖。 圖3係顯示排斥型之重力補償致動器之概略構成之前視圖。 圖4係顯示吸引型之重力補償致動器之概略構成之前視圖。 圖5係顯示將本發明之參考例予以顯示之磁性懸浮載台之概略構成之前視圖。 圖6係顯示說明本發明之原理之重疊配置X軸馬達、及具有Z驅動與重力補償功能之Z軸馬達之概略構成之前視圖。 圖7係顯示說明本發明之原理之水冷套與X軸馬達及Z軸馬達之佈局之前視圖。 圖8係顯示本發明之實施例1之載台裝置之概略構成之前視圖。 圖9係顯示本發明之實施例2之帶電粒子束裝置之概略構成之前視圖。

101:頂部工作台

102:條形鏡

103:試料台

104:試料

401:磁性吸引力

509:頂部工作台支持柱

701:水平軸驅動中心

800:磁性懸浮載台

803:熱流

809:Y工作台

810:X軸馬達

815:X軸馬達之永久磁鐵

816:X軸馬達之磁軛

817:X軸馬達之線圈

818,828,838:阻擋部

820:Z軸馬達

825:Z軸馬達之永久磁鐵

826:Z軸馬達之磁軛

827:Z軸馬達之線圈

830:Y軸馬達

835:Y軸馬達之永久磁鐵

836:Y軸馬達之磁軛

837:Y軸馬達之線圈

841:刻度頭

842:刻度板

858:水冷套

Claims (13)

1. 一種載台裝置，其特徵在於，其係具備載台、以磁性使上述載台懸浮之Z軸馬達、及於平面內於1軸方向驅動藉由上述Z軸馬達而懸浮之上述載台之X軸馬達者；且 上述X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與上述X軸線圈非接觸地在上下方向隔著上述X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持上述1對X軸磁鐵； 上述Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持上述Z軸磁鐵之Z軸磁軛； 上述Z軸馬達配置於上述X軸馬達之下部、且由上述X軸磁軛遮蔽自上述Z軸馬達洩漏之磁場之位置。
2. 如請求項1之載台裝置，其中 上述X軸磁軛中，覆蓋在上下方向隔著上述X軸線圈之上述1對X軸磁鐵之外側、且與上述載台對向之面開放之剖面具有コ字形狀，上述Z軸馬達配置於上述X軸磁軛之下部。
3. 如請求項2之載台裝置，其進而具備： 殼體部，其具有配置於上述載台外側之壁面；且上述X軸馬達之上述X軸線圈與上述Z軸馬達受上述載台支持，上述X軸磁軛固定於上述殼體部之配置於上述載台外側之壁面。
4. 如請求項3之載台裝置，其中 上述X軸磁軛之面向上述Z軸馬達之部分係藉由以上述Z軸馬達所產生之磁場將上述Z軸馬達磁性吸引，而使上述Z軸馬達與上述載台一起懸浮。
5. 如請求項1之載台裝置，其中 藉由上述X軸馬達於上述1軸方向驅動上述載台之驅動中心之高度、與包含藉由上述Z軸馬達而懸浮之上述載台之部分之重心之高度相同。
6. 如請求項1之載台裝置，其中 上述載台具備：工作台，其搭載試料；及水冷套，其於內部具備冷卻水用配管。
7. 一種帶電粒子束裝置，其特徵在於，其係具備以下者：載台裝置，其具備載置試料之工作台；真空腔室，其收納上述載台裝置並將內部排氣為真空；帶電粒子束光學系統部，其對載置於上述載台裝置之上述工作台之上述試料照射帶電粒子束；及控制部，其控制上述載台裝置、上述真空腔室及上述帶電粒子束光學系統部；且 上述載台裝置具備： 載台，其搭載上述工作台；Z軸馬達，其以磁性使上述載台懸浮；及X軸馬達，其在平面內於1軸方向驅動藉由上述Z軸馬達而懸浮之上述載台； 上述X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與上述X軸線圈非接觸地在上下方向隔著上述X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持上述1對X軸磁鐵； 上述Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持上述Z軸磁鐵之Z軸磁軛； 上述Z軸馬達配置於上述X軸馬達之下部、且由上述X軸磁軛遮蔽自上述Z軸馬達洩漏之磁場之位置。
8. 如請求項7之帶電粒子束裝置，其中 上述載台裝置之上述X軸磁軛中，覆蓋在上下方向隔著上述X軸線圈之上述1對X軸磁鐵之外側、且與上述載台對向之面開放之剖面具有コ字形狀，上述Z軸馬達配置於上述X軸磁軛之下部。
9. 如請求項8之帶電粒子束裝置，其中 上述載台裝置進而具備具有配置於上述載台外側之壁面之殼體部，上述X軸馬達之上述X軸線圈與上述Z軸馬達受上述載台支持，上述X軸磁軛固定於上述殼體部之配置於上述載台外側之壁面。
10. 如請求項9之帶電粒子束裝置，其中 上述載台裝置之上述X軸磁軛之面向上述Z軸馬達之部分係藉由以上述Z軸馬達所產生之磁場將上述Z軸馬達磁性吸引，而使上述Z軸馬達與上述載台一起懸浮。
11. 如請求項7之帶電粒子束裝置，其中 上述載台裝置具備：Y軸馬達，其於與上述1軸方向直角之方向驅動上述載台裝置；1軸方向位置測量部，其非接觸地測量上述載台之上述1軸方向之位置；及直角方向位置測量部，其非接觸地測量與上述1軸方向直角方向之位置；上述控制部基於以上述1軸方向位置測量部與上述直角方向位置測量部測量出之上述載台之位置資訊，而控制上述X軸馬達與上述Y軸馬達。
12. 一種真空裝置，其特徵在於其係具備載台裝置、及收納上述載台裝置並將內部排氣為真空之真空腔室者；且 上述載台裝置具備： 載台；Z軸馬達，其以磁性使上述載台懸浮；及X軸馬達，其在平面內於1軸方向驅動藉由上述Z軸馬達而懸浮之上述載台； 上述X軸馬達具備：X軸線圈；1對X軸磁鐵，其與上述X軸線圈非接觸地在上下方向隔著上述X軸線圈而對向；及X軸磁軛，其保持上述1對X軸磁鐵； 上述Z軸馬達具備Z軸線圈、Z軸磁鐵及保持上述Z軸磁鐵之Z軸磁軛； 上述Z軸馬達配置於上述X軸馬達之下部、且由上述X軸磁軛遮蔽自上述Z軸馬達洩漏之磁場之位置。
13. 如請求項12之真空裝置，其中 上述載台裝置具備：Y軸馬達，其於與上述1軸方向直角之方向驅動上述載台裝置；1軸方向位置測量部，其非接觸地測量上述載台之上述1軸方向之位置；及直角方向位置測量部，其非接觸地測量與上述1軸方向直角方向之位置。

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