JP2019204673A - ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 18
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 claims description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 abstract description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 30
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 20
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 7
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 6
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/188—Differential pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20221—Translation
- H01J2237/20235—Z movement or adjustment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20278—Motorised movement
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
11 推力受部
11b 推力受面
20 浮上機構
21b X磁石(永久磁石)
22b Y磁石(永久磁石)
23b Z磁石(永久磁石)
24 永久磁石
25a 永久磁石
25b 永久磁石
30 移動ステージ
36 推力付与部
36a 推力付与面
37 アクチュエータ
38 接触センサ
50 制御部
51 サーボ制御器
53 学習制御器
100 ステージ装置
100A ステージ装置
100B ステージ装置
100C ステージ装置
100D ステージ装置
100E ステージ装置
200 半導体計測装置(荷電粒子線装置、真空装置)
201 真空チャンバ
A 軸線
D 出力値
d 補正値
S 出力信号
T 推力
V0 現在値
V1 指令値
ΔV 偏差
Claims (13)
- 位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構と、該浮上機構を平面に支持して該平面に沿う移動方向に移動させる移動ステージと、を備えたステージ装置であって、
前記移動ステージは、前記支持ステージに向けて突出する推力付与部を有し、
前記支持ステージは、前記推力付与部に対して前記移動方向に間隔をあけて対向する推力受部を有し、
前記移動ステージが前記移動方向に移動して前記推力付与部が前記推力受部に接触または接近したときに、前記推力付与部が前記推力受部に前記移動方向の推力を加えるように構成されていることを特徴とするステージ装置。 - 前記推力付与部が前記推力受部に接触したときに、前記推力付与部が前記推力受部に前記推力を加えるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
- 前記推力付与部は、前記移動方向に直交しかつ前記推力付与部の突出方向に沿う軸線を中心とする円筒状の推力付与面を有し、
前記推力受部は、少なくとも前記推力付与面に対向する部分の前記軸線に沿う断面の輪郭形状が前記推力付与面に向けて凸の円弧状である推力受面を有し、
前記推力付与部が前記推力受部に接触するときに、前記推力付与面が前記推力受面に接触するように構成されていることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。 - 前記推力付与面は、円柱状または円筒状の前記推力付与部の外周面であり、
前記推力受面は、前記推力付与部を囲む円環状の前記推力受部の内周面であることを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。 - 前記推力付与面は、円筒状の前記推力付与部の内周面であり、
前記推力受面は、円筒状の前記推力付与部の内側に配置された前記推力受部の球状の先端部の外表面であることを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。 - 前記推力付与部および前記推力受部は、前記推力付与部の突出方向に互いに反発する永久磁石を備えることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のステージ装置。
- 前記移動ステージは、前記推力付与部を前記移動方向に移動させるアクチュエータを備えることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のステージ装置。
- 前記推力付与部と前記推力受部との接触を検知する接触センサを備えることを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。
- 前記接触センサの出力信号に基づいて前記浮上機構を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項8に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、前記支持ステージの位置および姿勢の指令値および現在値が入力されるサーボ制御器と、前記指令値と前記現在値との偏差および前記接触センサの出力信号が入力される学習制御器とを備え、
前記学習制御器は、前記偏差を小さくするように前記サーボ制御器の出力値を補正する補正値を出力することを特徴とする請求項9に記載のステージ装置。 - 前記推力付与部および前記推力受部は、互いに反発する永久磁石を備え、
前記推力付与部が前記推力受部に接近したときに、前記永久磁石の反発力によって前記推力付与部が前記推力受部に前記推力を加えるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 対象物の位置決めを行うステージ装置を備えた荷電粒子線装置であって、
前記ステージ装置は、位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構と、該浮上機構を平面に支持して該平面に沿う移動方向に移動させる移動ステージと、を備え、
前記移動ステージは、前記支持ステージに向けて突出する推力付与部を有し、
前記支持ステージは、前記推力付与部に対して前記移動方向に間隔をあけて対向する推力受部を有し、
前記移動ステージが前記移動方向に移動して前記推力付与部が前記推力受部に接触または接近したときに、前記推力付与部が前記推力受部に前記移動方向の推力を加えるように構成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 対象物の位置決めを行うステージ装置と、該ステージ装置を収容する真空チャンバとを備えた真空装置であって、
前記ステージ装置は、位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構と、該浮上機構を平面に支持して該平面に沿う移動方向に移動させる移動ステージと、を備え、
前記移動ステージは、前記支持ステージに向けて突出する推力付与部を有し、
前記支持ステージは、前記推力付与部に対して前記移動方向に間隔をあけて対向する推力受部を有し、
前記移動ステージが前記移動方向に移動して前記推力付与部が前記推力受部に接触または接近したときに、前記推力付与部が前記推力受部に前記移動方向の推力を加えるように構成されていることを特徴とする真空装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018098995A JP7016289B2 (ja) | 2018-05-23 | 2018-05-23 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
US17/043,950 US11417496B2 (en) | 2018-05-23 | 2019-03-01 | Stage device, charged particle beam apparatus, and vacuum apparatus |
PCT/JP2019/008226 WO2019225110A1 (ja) | 2018-05-23 | 2019-03-01 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018098995A JP7016289B2 (ja) | 2018-05-23 | 2018-05-23 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019204673A true JP2019204673A (ja) | 2019-11-28 |
JP2019204673A5 JP2019204673A5 (ja) | 2021-03-04 |
JP7016289B2 JP7016289B2 (ja) | 2022-02-04 |
Family
ID=68616775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018098995A Active JP7016289B2 (ja) | 2018-05-23 | 2018-05-23 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11417496B2 (ja) |
JP (1) | JP7016289B2 (ja) |
WO (1) | WO2019225110A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023042589A1 (ja) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 株式会社日立製作所 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022043453A (ja) * | 2020-09-04 | 2022-03-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | θステージ機構及び電子ビーム検査装置 |
JP7491827B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-05-28 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
CN112596350B (zh) * | 2021-03-08 | 2021-06-01 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种六自由度微动装置及电子束装备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
JP2005209670A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Canon Inc | 磁気浮上装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020137358A1 (en) | 2001-02-08 | 2002-09-26 | Mike Binnard | Multiple point support assembly for a stage |
-
2018
- 2018-05-23 JP JP2018098995A patent/JP7016289B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-01 US US17/043,950 patent/US11417496B2/en active Active
- 2019-03-01 WO PCT/JP2019/008226 patent/WO2019225110A1/ja active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000106344A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-04-11 | Canon Inc | ステ―ジ装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびにステ―ジ駆動方法 |
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WO2023042589A1 (ja) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 株式会社日立製作所 | ステージ装置、荷電粒子線装置および真空装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7016289B2 (ja) | 2022-02-04 |
US11417496B2 (en) | 2022-08-16 |
WO2019225110A1 (ja) | 2019-11-28 |
US20210027978A1 (en) | 2021-01-28 |
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