TW202229008A - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種抑制了在高溫環境下穿透率降低的偏光板。本發明之偏光板具有：使聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素而成的偏光元件、積層於前述偏光元件之一面的第1透明保護膜、以及積層於前述偏光元件之另一面的第2透明保護膜；其中，前述偏光元件與前述第1透明保護膜係藉由以含有第1化合物的第1接著劑所形成之第1接著劑層所貼合，前述偏光元件與前述第2透明保護膜係藉由以含有第2化合物的第2接著劑所形成之第2接著劑層所貼合；前述第1化合物係選自脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種，前述第2化合物為具有氮氧自由基或氮氧基的化合物。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於偏光板及圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置(LCD)不僅用於液晶電視，亦廣泛用於電腦、行動電話等行動裝置、車用導航等車載用途。通常，液晶顯示裝置具有以黏著劑將偏光板貼合於液晶單元兩側而成的液晶面板，並藉由液晶面板控制來自背光之光線以進行顯示。近年來，有機EL顯示裝置與液晶顯示裝置相同，亦廣泛用於電視、行動電話等行動裝置、車用導航等車載用途。有機EL顯示裝置中，為了抑制外部光線被金屬電極(陰極)反射而看起來猶如鏡面，有時會在圖像顯示面板的視認側表面配置圓偏光板(包含偏光元件與λ/4板的積層體)。
如上所述，偏光板作為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置的構件而搭載於車輛的機會增加。車載用的圖像顯示裝置中所使用的偏光板，相較於電視及行動電話等行動用途，大多暴露於高溫環境下，因此要求在高溫下的特性變化小(高溫耐久性)。
另一方面，以防止來自外表面的衝擊造成圖像顯示面板破損之目的，在圖像顯示面板之視認側設置透明樹脂板或玻璃板等前面板(亦稱為「窗層」) 的構成增加。具備觸控面板的圖像顯示裝置中廣泛採用下述構成：在圖像顯示面板的視認側設置觸控面板，並且在觸控面板的視認側具備前面板。
這樣的構成中，若在圖像顯示面板與前面板或觸控面板等透明構件之間存在空氣層，則會因為光線在空氣層界面反射而產生外部光線的倒映，有降低畫面視認性的傾向。因此，開始普遍採用在配置於圖像顯示面板之視認側表面的偏光板與透明構件之間的空間中填充空氣層以外的層、通常為固體層(以下有時稱為「層間填充劑」)的構成(以下有時稱為「層間填充構成」)。層間填充劑較佳為折射率與偏光板或透明構件相近的材料。以抑制因在界面的反射所導致之視認性降低、並且將各構件間接著固定之目的，而使用黏著劑或UV硬化型接著劑來作為層間填充劑(例如參照專利文獻1)。
層間填充構成已普遍用於大多在戶外使用的行動電話等行動用途。又，近年來對於視認性的要求提高，因此，在車用導航裝置等車載用途中，亦開始研究採用將前表面透明板配置於圖像顯示面板表面並且在面板與前表面透明板之間填充黏著劑層等的層間填充構成。
然而，有報告指出，採用這種構成時，在高溫環境下偏光板的穿透率明顯降低。專利文獻2中提出了下述方法作為解決該問題的對策：使偏光板每單位面積的水分量在既定量以下，且使與偏光元件鄰接之透明保護膜的飽和吸水量在既定量以下，藉此抑制穿透率降低。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平11-174417號公報
[專利文獻2]日本特開2014-102353號公報
然而，即使是這樣的偏光板，抑制高溫環境下耐久性降低的效果仍不充分。本發明之目的在於提供一種新穎的偏光板，其即使暴露於高溫環境下亦可抑制穿透率降低；以及提供一種使用了該偏光板的圖像顯示裝置。
本發明提供以下例示的偏光板及圖像顯示裝置。
[1]一種偏光板，其具有：使聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素而成的偏光元件、積層於前述偏光元件之一面的第1透明保護膜、以及積層於前述偏光元件之另一面的第2透明保護膜；其中，
前述偏光元件與前述第1透明保護膜係藉由以含有第1化合物的第1接著劑所形成之第1接著劑層所貼合，前述偏光元件與前述第2透明保護膜係藉由以含有第2化合物的第2接著劑所形成之第2接著劑層所貼合；
前述第1化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種，
前述第2化合物係具有氮氧自由基(nitroxy radical)或氮氧基(nitroxide)的化合物。
[2]如[1]所述之偏光板，其中，前述第2化合物為N-氧基(N-oxyl)化合物。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中，前述第1化合物係選自由脲衍生物及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種脲系化合物。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其中，前述第1接著劑及前述第2接著劑包含聚乙烯醇系樹脂。
[5]如[4]所述之偏光板，其中，前述第1接著劑中，前述第1化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份而為0.1質量份以上400質量份以下。
[6]如[4]或[5]所述之偏光板，其中，前述第2接著劑中，前述第2化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份而為0.1質量份以上400質量份以下。
[7]如[1]至[6]中任一項所述之偏光板，其中，前述第1接著劑層及前述第2接著劑層的厚度為0.01μm以上7μm以下。
[8]如[1]至[7]中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光板係用於圖像顯示裝置；
前述圖像顯示裝置中，以相接於前述偏光板的兩面之方式在前述偏光板的兩面設置有固體層。
[9]一種圖像顯示裝置，其具有：圖像顯示單元；第1黏著劑層，其積層於前述圖像顯示單元的視認側表面；以及[1]至[8]中任一項所述之偏光板，其積層於前述第1黏著劑層的視認側表面。
[10]如[9]所述之圖像顯示裝置，其更具有：第2黏著劑層，其積層於前述偏光板的視認側表面；以及透明構件，其積層於前述第2黏著劑層的視認側表面。
[11]如[10]所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
[12]如[10]所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為觸控面板。
根據本發明可提供一種偏光板，其高溫耐久性提升，即使用於層間填充構成的圖像顯示裝置並且暴露於高溫環境下，亦可抑制穿透率降低。再者，藉由使用本發明之偏光板，可提供一種即使暴露於高溫環境下亦可抑制穿透率降低的圖像顯示裝置。
以下說明本發明的實施型態，但本發明不限於以下的實施型態。
[偏光板]
本實施型態之偏光板具有：使包含聚乙烯醇系樹脂之層吸附配向有二色性色素而成的偏光元件、積層於偏光元件之一面的第1透明保護膜、以及積層於偏光元件之另一面的第2透明保護膜。偏光元件與第1透明保護膜係藉由以含有第1化合物的接著劑所形成之第1接著劑層所貼合。偏光元件與第2透明保護膜係藉由以含有第2化合物的第2接著劑所形成之第2接著劑層所貼合。
第1化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種。第2化合物係具有氮氧自由基或氮氧基的化合物。
作為習知的高溫耐久性優良之偏光板，例如已知一種偏光板，其即使單獨放置於溫度95℃的環境下1000小時，亦可抑制穿透率的降低。然而，即使是這樣的偏光板，在用於層間填充構成時，若放置於溫度95℃的環境下200小時，在偏光板面內中央部可觀察到穿透率明顯降低。此外，當偏光板或偏光元件的含水率超出特定範圍時，在偏光板面內中央部可觀察到穿透率或者偏光度明顯降低。高溫環境下偏光板的穿透率明顯降低被認為是在採用「偏光板的一面 與圖像顯示單元貼合、另一面與觸控面板或前面板等透明構件貼合而成」的層間填充構成之圖像顯示裝置暴露於高溫環境時尤其容易發生的問題。
在層間填充構成中之穿透率明顯降低的偏光板，在拉曼光譜測量中，於1100cm-1附近(源自=C-C=鍵)及1500cm-1附近(源自-C=C-鍵)具有峰值，因而認為其中形成了多烯結構(-C=C)n-。據推論，多烯結構係因為構成偏光元件的聚乙烯醇脫水而多烯化所產生(專利文獻2，段落[0012])。
本發明之偏光板可進一步提升高溫耐久性。本發明之偏光板，即使組裝至層間填充構成的圖像顯示裝置並且暴露於例如溫度105℃的高溫環境下，亦可抑制穿透率的降低。據推測，此效果係藉由存在於接著劑層中的第1化合物及第2化合物的加乘作用而抑制了構成偏光元件之聚乙烯醇的多烯化所致。已確認此效果不限於偏光板或者偏光元件的含水率在特定範圍的情況，不論是在偏光板或偏光元件的含水率低的情況或者是在含水率高的情況均可奏效。推測此係因為當偏光板或者偏光元件的含水率低時，第1化合物所致之聚乙烯醇的多烯化的抑制效果變得更加顯著，另一方面，當偏光板或者偏光元件的含水率高時，第2化合物所致之聚乙烯醇的多烯化的抑制效果變得更加顯著之故。
本實施型態之偏光板，可具有例如下述(a)及(b)的至少一特徵。
(a)偏光元件的含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上，且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下。
(b)偏光板的含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上，且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下。
本實施型態之偏光板，就上述(a)或(b)的特徵而言，即使具有如下述(a1)或(b1)般更進一步限定的特徵，亦可發揮提升高溫耐久性的效果。
(a1)偏光元件的含水率係超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率，且在溫度20℃相對濕度80%或70%的平衡含水率以下。
(b1)偏光板的含水率係超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率，且在溫度20℃相對濕度80%或70%的平衡含水率以下。
就偏光板而言，即使不具有調整含水率的步驟，通常亦很可能具有上述(a)及(b)的特徵。本實施型態中，可為了具有上述(a)或(b)的至少一特徵而具有調整含水率的步驟，亦可不具有調整含水率的步驟。
<偏光元件>
關於使包含聚乙烯醇(以下亦稱為「PVA」)系樹脂之層(以下亦稱為「PVA系樹脂層」)吸附配向有二色性色素而成的偏光元件，可使用習知的偏光元件。偏光元件可列舉如：以二色性色素將PVA系樹脂膜染色並進行單軸延伸所得之延伸膜；以及使用具有將包含PVA系樹脂之塗布液塗布於基材膜上所形成之塗布層的積層膜，以二色性色素將塗布層染色並對積層膜進行單軸延伸所得到的延伸層。可在以二色性色素染色之後進行延伸，亦可一邊染色一邊進行延伸，亦可在延伸後進行染色。
PVA系樹脂係藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂予以皂化所獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了屬於乙酸乙烯酯之單獨聚合物的聚乙酸乙烯酯以外，可列舉：乙酸乙烯酯與可和其共聚合之其他單體的共聚物。可共聚合之其他單體可列舉例如：不飽和羧酸類、乙烯等烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。
PVA系樹脂的皂化度較佳為約85莫耳%以上，更佳為約90莫耳%以上，又更佳為約99莫耳%以上100莫耳%以下。PVA系樹脂的聚合度為例如 1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。PVA系樹脂可經過改質，例如，亦可為經醛類改質的聚乙烯基甲醛、聚乙烯基縮醛、聚乙烯基丁醛等。
偏光元件的厚度較佳為3μm以上35μm以下，更佳為4μm以上30μm以下，又更佳為5μm以上25μm以下。藉由使偏光元件的厚度為35μm以下，可抑制高溫環境下PVA系樹脂的多烯化對於光學特性降低所造成的影響。藉由使偏光元件的厚度為3μm以上，容易成為能達成所期望之光學特性的構成。
偏光元件較佳為包含第1化合物與第2化合物。本實施型態中，偏光元件與第1透明保護膜係藉由以含有第1化合物的第1接著劑所形成之第1接著劑層貼合，偏光元件與第2透明保護膜係藉由以含有第2化合物的第2接著劑所形成之第2接著劑層貼合，因此，推測偏光元件包含從第1接著劑層轉移而來的部分第1化合物與從第2接著劑層轉移而來的部分第2化合物。偏光元件中的第1化合物及第2化合物，亦包含在偏光元件的製造過程中添加者。此外，藉由具備包含第1化合物的第1接著劑層和包含第2化合物的第2接著劑層，即使將偏光板暴露於高溫環境下穿透率亦不易降低。又，藉由具備包含第1化合物的第1接著劑層與第2化合物的第2接著劑層，即使將偏光板暴露於高溫環境下亦可抑制偏光度的降低。將兩個偏光板配置成正交偏光(crossed nicol)的關係而使用時，若偏光板的偏光度降低，則容易發生漏光(以下亦稱為「正交漏光」)，但根據本發明，即使暴露於高溫環境下偏光度亦不易降低，因此亦可輕易抑制正交漏光。據推論認為這是因為偏光元件所包含的第1化合物與第2化合物的加乘效果抑制了PVA系樹脂的多烯化。
在製造偏光元件時使其含有第1化合物與第2化合物的方法，可列舉：將PVA系樹脂層浸漬於含有第1化合物及/或第2化合物的處理溶劑的方 法；或是將處理溶媒予以噴灑、流下、滴加至PVA系樹脂層的方法。其中較佳係使用將PVA系樹脂層浸漬於含有第1化合物及第2化合物兩者的處理溶媒的方法。第1化合物與第2化合物的具體例，可列舉後述所例示的接著劑所含有者。
將PVA系樹脂層浸漬於含有第1化合物及第2化合物之處理溶劑的步驟，可與後述偏光元件之製造方法中的膨潤、延伸、染色、交聯、清洗等步驟同時進行，亦可與此等步驟分開設置。使PVA系樹脂層含有第1化合物及第2化合物的步驟，較佳係在以碘將PVA系樹脂層染色後進行，更佳係與染色後的交聯步驟同時進行。根據這樣的方法，能使色相變化小，而可降低對偏光元件之光學特性的影響。
為了使偏光元件含有第1化合物與第2化合物，亦可雙方面進行「在製造偏光元件時的添加」與「對接著劑的添加」。又，亦可在製造偏光元件時使其含有第1化合物及第2化合物中的一者，並且使接著劑含有兩者。
(第1化合物)
第1化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種。第1化合物可單獨使用1種，或組合2種以上使用。第1化合物中有水溶性者與水難溶性者，但任一種第1化合物皆可使用。在將水難溶性的第1化合物用於水溶性接著劑的情況下，為了避免在形成接著劑層後霧度上升等情形，較佳係設計分散方法。
(脲衍生物)
脲衍生物係脲分子的4個氫原子中的至少一個被取代基所取代的化合物。在此情況下，取代基並無特別限制，但較佳為包含碳原子、氫原子及氧原子的取代基。
就脲衍生物的具體例而言，單取代脲可列舉：甲基脲、乙基脲、丙基脲、丁基脲、異丁基脲、N-十八基脲、2-羥基乙基脲、羥基脲、乙醯基脲、烯丙基脲、2-丙炔基脲、環己基脲、苯基脲、3-羥基苯基脲、(4-甲氧基苯基)脲、苄基脲、苯甲醯基脲、鄰甲苯基脲、對甲苯基脲。
二取代脲可列舉：1,1-二甲基脲、1,3-二甲基脲、1,1-二乙基脲、1,3-二乙基脲、1,3-雙(羥基甲基)脲、1,3-第三丁基脲、1,3-二環己基脲、1,3-二苯基脲、1,3-雙(4-甲氧基苯基)脲、1-乙醯基-3-甲基脲、2-咪唑啶酮(乙烯脲)、四氫-2-嘧啶酮(丙烯脲)。
四取代脲可列舉：四甲基脲、1,1,3,3-四乙基脲、1,1,3,3-四丁基脲、1,3-二甲氧基-1,3-二甲基脲、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、1,3-二甲基-3,4,5,6-四氫-2(1H)-嘧啶酮。
(硫脲衍生物)
硫脲衍生物係硫脲分子的4個氫原子中的至少一個被取代基取代的化合物。在此情況下，取代基並無特別限制，但較佳為包含碳原子、氫原子及氧原子的取代基。
就硫脲衍生物的具體例而言：單取代硫脲可列舉：N-甲基硫脲、乙基硫脲、丙基硫脲、異丙基硫脲、1-丁基硫脲、環己基硫脲、N-乙醯基硫脲、N-烯丙基硫脲、(2-甲氧基乙基)硫脲、N-苯基硫脲、(4-甲氧基苯基)硫脲、N-(2-甲氧基苯基)硫脲、N-(1-萘基)硫脲、(2-吡啶基)硫脲、鄰甲苯基硫脲、對甲苯基硫脲。
二取代硫脲可列舉：1,1-二甲基硫脲、1,3-二甲基硫脲、1,1-二乙基硫脲、1,3-二乙基硫脲、1,3-二丁基硫脲、1,3-二異丙基硫脲、1,3-二環己基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N’-二苯基硫脲、1,3-二(鄰甲苯基)硫脲、1,3-二(對甲苯基)硫脲、1-苄基-3-苯基硫脲、1-甲基-3-苯基硫脲、N-烯丙基-N’-(2-羥基乙基)硫脲、乙烯硫脲。
三取代硫脲可列舉三甲基硫脲，四取代硫脲可列舉四甲基硫脲、1,1,3,3-四乙基硫脲。
從用於層間填充構成之圖像顯示裝置時可抑制高溫環境下穿透率降低、且使偏光度降低少的觀點(使正交漏光受到抑制的觀點)來看，第1化合物之中，較佳為脲衍生物或硫脲衍生物，更佳為脲衍生物。脲衍生物之中，較佳為單取代脲或二取代脲，更佳為單取代脲。二取代脲之中，較佳為1,1-取代脲與1,3-取代脲，更佳為1,3-取代脲。
(第2化合物)
第2化合物係具有氮氧自由基或氮氧基的化合物。從具有在室溫、空氣中較為穩定之自由基的觀點來看，第2化合物可列舉N-氧基化合物(具有C-N(-C)-O作為官能基的化合物(O表示氧基自由基，其鍵結於N))，可使用習知者。N-氧基化合物可列舉例如包含以下結構之有機基的化合物等。前述具有氮氧自由基或氮氧基的化合物可單獨使用，亦可併用2種以上。
Figure 110140976-A0202-12-0012-1
(通式(1)中，R1表示氧基自由基、R2至R5獨立地表示氫原子或碳原子數1至10的烷基，n表示0或1)另外，通式(1)中，虛線部的左邊表示任意的有機基。任意的有機基包含氫原子。
上述包含有機基之化合物可列舉例如：以下通式(2)至(5)所示之化合物等。
Figure 110140976-A0202-12-0012-3
(通式(2)中，R1至R5及n與上述相同，R6表示氫原子或碳原子數1至10的烷基、醯基或芳基，n表示0或1)
Figure 110140976-A0202-12-0012-4
(通式(3)中，R1至R5及n與上述相同，R7及R8獨立地表示氫原子或碳原子數1至10的烷基、醯基或芳基)
Figure 110140976-A0202-12-0013-5
(通式(4)中，R1至R5及n與上述相同，R9至R11獨立地表示氫原子或碳原子數1至10的烷基、醯基、胺基、烷氧基、羥基或芳基)
Figure 110140976-A0202-12-0013-6
(通式(5)中，R1至R5及n與上述相同，R12表示氫原子或碳原子數1至10的烷基、胺基、烷氧基、羥基或芳基)
前述通式(1)至(5)中，從容易取得的觀點來看，R2至R5較佳為碳原子數1至6的烷基，更佳為碳原子數1至3的烷基。又，前述通式(2)中，從容易取得的觀點來看，R6較佳為氫原子或碳原子數1至10的烷基，更佳為氫原子。又，前述通式(3)中，從容易取得的觀點來看，R7及R8較佳係獨立地為氫原子或碳原子數1至10的烷基，更佳為氫原子。又，前述通式(4)中，從容易取得的觀點來看，R9至R11較佳為氫原子或碳原子數1至10的烷基。又，前述通式(5)中， 從容易取得的觀點來看，R12較佳為羥基、胺基或烷氧基。前述通式(1)至(5)中，從容易取得的觀點來看，n較佳為1。
又，前述N-氧基化合物可列舉例如：日本特開2003-64022號公報、日本特開平11-222462號公報、日本特開2002-284737號公報、國際公開第2016/047655號等所記載的N-氧基化合物。前述N-氧基化合物較佳係使用4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧化物。
又，第2化合物可列舉例如以下的化合物等。
Figure 110140976-A0202-12-0014-7
(通式(6)中，R表示氫原子或碳原子數1至10的烷基、醯基或芳基)
Figure 110140976-A0202-12-0014-8
Figure 110140976-A0202-12-0014-9
又，從可效率良好地捕捉多烯化反應中產生之自由基的觀點來看，第2化合物的分子量較佳為1000以下，更佳為500以下，又更佳為300以下。分子量的下限值並未特別限定，可為例如80。
(特徵(a))
在具有特徵(a)的情況下，偏光元件的含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下。偏光元件的含水率亦可超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率且在溫度20℃相對濕度80%或70%的平衡含水率以下。偏光元件的含水率若低於溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率，則偏光元件的操作性降低而容易破裂。據推論，若偏光元件的含水率高達超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率，則PVA系樹脂容易多烯化，但本實施型態中因為具備分別含有第1化合物及第2化合物的接著劑層，因此可抑制PVA系樹脂的多烯化。
關於確認偏光元件的含水率是否在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下的範圍內之方法，可列舉：將其保管於調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中，在固定時間內沒有質量變化時則視為與環境達到平衡的方法；或是預先計算偏光元件在調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中的平衡含水率，再將偏光元件的含水率與預先計算之平衡含水率進行比對而藉此確認的方法。
關於含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下的偏光元件之製造方法，並無特別限定，可列舉例如：在調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍的環境中將偏光元件保 管10分鐘以上3小時以下的方法、或是以30℃以上90℃以下進行加熱處理的方法。
製造為上述含水率之偏光元件的其他較佳方法，可列舉：將在偏光元件的至少單面積層有保護膜的積層體、或是使用偏光元件所構成的偏光板保管於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍的環境中10分鐘以上120小時以下的方法、或是以30℃以上90℃以下進行加熱處理的方法。在製作採用層間填充構成的圖像顯示裝置時，亦可在將圖像顯示單元積層有偏光板的圖像顯示面板保管於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍的環境中10分鐘以上3小時以下或是以30℃以上90℃以下進行加熱之後，再貼合前面板。
(特徵(b))
在具有特徵(b)的情況下，偏光板的含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下。偏光板的含水率亦可超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率且在溫度20℃相對濕度80%或70%的平衡含水率以下。若偏光板的含水率低於溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率，則偏光板的操作性降低而容易破裂。據推論，若偏光板的含水率高達超過溫度20℃相對濕度45%或50%的平衡含水率，則PVA系樹脂容易多烯化，但因為本實施型態具備分別含有第1化合物及第2化合物的接著劑層，因此可抑制PVA系樹脂的多烯化。
關於確認偏光板的含水率是否在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下之範圍內的方法，可列舉：將其保管於調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中，在固定時間內沒有質量變化時則視為與環境達到平衡的方法；或是預先計算偏光板在調整為 上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中的平衡含水率，再將偏光板的含水率與預先計算之平衡含水率進行比對而藉此確認的方法。
關於含水率係在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下的偏光板之製造方法，並無特別限定，可列舉例如：在調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍的環境中將偏光板保管10分鐘以上3小時以下的方法、或是以30℃以上90℃以下進行加熱處理的方法。
在製作採用層間填充構成的圖像顯示裝置時，可在將圖像顯示單元積層有偏光板的圖像顯示面板保管於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍的環境中10分鐘以上3小時以下或是以30℃以上90℃以下進行加熱之後，再貼合前面板。
(偏光元件的製造方法)
偏光元件的製造方法並無特別限定，就典型而言為：將預先捲繞成滾筒狀的PVA系樹脂膜捲出並進行延伸、染色、交聯等以製作的方法(以下稱為「製造方法1」)；或是將包含PVA系樹脂的塗布液塗布於基材膜上而形成作為塗布層之PVA系樹脂層，再將所得之積層體進行延伸之步驟的方法(以下稱為「製造方法2」)。
製造方法1中，可經由下述步驟進行製造：將PVA系樹脂膜進行單軸延伸的步驟、藉由以碘等二色性色素將PVA系樹脂膜染色而使其吸附二色性色素的步驟、以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之PVA系樹脂膜的步驟、及在硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。
膨潤步驟係將PVA系樹脂膜浸漬於膨潤浴中的處理步驟。藉由膨潤步驟，不但可去除PVA系樹脂膜表面的髒污及結塊劑(blocking agent)等，還可藉由使PVA系樹脂膜膨潤而抑制染色不均。膨潤浴通常係使用以水、蒸餾水、純水等水作為主成分的介質。膨潤浴中可依照一般方法適當添加界面活性劑、醇等。從控制偏光元件的鉀含有率的觀點來看，可在膨潤浴中使用碘化鉀，此時膨潤浴中的碘化鉀濃度較佳為1.5質量%以下，更佳為1.0質量%以下，又更佳為0.5質量%以下。
膨潤浴的溫度較佳為10℃以上60℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，又更佳為18℃以上30℃以下。浸漬於膨潤浴的時間，因為PVA系樹脂膜的膨潤程度受到膨潤浴溫度的影響而無法一概而論，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下，又更佳為20秒以上100秒以下。膨潤步驟可僅實施一次，亦可因應需求實施多次。
染色步驟係將PVA系樹脂膜浸漬於染色浴(碘溶液)的處理步驟，其可使碘等二色性色素吸附及配向於PVA系樹脂膜。碘溶液通常較佳為碘水溶液，其中含有碘及作為助溶劑的碘化物。碘化物可列舉：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。此等之中，從控制偏光元件中的鉀含有率的觀點來看，宜為碘化鉀。
染色浴中的碘濃度較佳為0.01質量%以上1質量%以下，更佳為0.02質量%以上0.5質量%以下。染色浴中的碘化物濃度較佳為0.01質量%以上10質量%以下，更佳為0.05質量%以上5質量%以下，又更佳為0.1質量%以上3質量%以下。
染色浴的溫度較佳為10℃以上50℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，又更佳為18℃以上30℃以下。浸漬於染色浴的時間，因為PVA系樹脂膜的染色程度受到染色浴溫度的影響而無法一概而論，但較佳為10秒以上300秒以下，更佳為20秒以上240秒以下。染色步驟可僅實施一次，亦可因應需求實施多次。
交聯步驟係將在染色步驟中經染色之PVA系樹脂膜浸漬於包含硼化合物之處理浴(交聯浴)中的處理步驟，其中，藉由硼化合物使聚乙烯醇系樹脂膜進行交聯，碘分子或染料分子可吸附於該交聯結構。硼化合物可列舉例如：硼酸、硼酸鹽、硼砂等。交聯浴一般為水溶液，但亦可為與水具有混合性的有機溶媒及水的混合溶液。從控制偏光元件中的鉀含有率的觀點來看，交聯浴較佳為包含碘化鉀。
交聯浴中，硼化合物的濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。交聯浴中使用碘化鉀的情況，交聯浴中的碘化鉀濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。
交聯浴的溫度較佳為20℃以上70℃以下，更佳為30℃以上60℃以下。浸漬於交聯浴的時間，因為PVA系樹脂膜的交聯程度受到交聯浴溫度的影響而無法一概而論，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下。交聯步驟可僅實施一次，亦可因應需求實施多次。
延伸步驟係將PVA系樹脂膜在至少一方向延伸既定倍率的處理步驟。一般而言係將PVA系樹脂膜在運送方向(長邊方向)進行單軸延伸。延伸的方 法係無特別限制，可採用濕潤延伸法與乾式延伸法中的任一種方法。延伸步驟可僅實施一次，亦可因應需求實施多次。延伸步驟可在偏光元件之製造中的任一階段進行。
濕潤延伸法中的處理浴(延伸浴)通常可使用水或與水具有混合性的有機溶媒及水的混合溶液等溶媒。從控制偏光元件中的鉀含有率的觀點來看，延伸浴較佳係包含碘化鉀。在延伸浴中使用碘化鉀的情況，延伸浴中的碘化鉀濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為2質量%以上10質量%以下，又更佳為3質量%以上6質量%以下。從抑制在延伸中發生膜破裂的觀點來看，處理浴(延伸浴)可包含硼化合物。包含硼化合物的情況，延伸浴中硼化合物的濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。
延伸浴的溫度較佳為25℃以上80℃以下，更佳為40℃以上75℃以下，又更佳為50℃以上70℃以下。浸漬於延伸浴的時間，因為PVA系樹脂膜的延伸程度受到延伸浴溫度的影響而無法一概而論，但較佳為10秒以上800秒以下，更佳為30秒以上500秒以下。濕潤延伸法中的延伸處理，亦可與膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟及清洗步驟中的任一個以上的處理步驟一起實施。
乾式延伸法可列舉例如：輥間延伸法、加熱輥延伸法、壓縮延伸法等。另外，乾式延伸法亦可與乾燥步驟一起實施。
對聚乙烯醇系樹脂膜所實施的總延伸倍率(累積的延伸倍率)可因應目標適當設定，較佳為2倍以上7倍以下，更佳為3倍以上6.8倍以下，又更佳為3.5倍以上6.5倍以下。
清洗步驟係將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於清洗浴中的處理步驟，其可將殘留於聚乙烯醇系樹脂膜表面等的異物去除。清洗浴通常係使用以水、蒸餾水、純水等水作為主成分的介質。又，從控制偏光元件中的鉀含有率的觀點來看，較佳係在清洗浴中使用碘化鉀，此情況中，清洗浴中的碘化鉀的濃度較佳為1質量%以上10質量%以下，更佳為1.5質量%以上4質量%以下，又更佳為1.8質量%以上3.8質量%以下。
清洗浴的溫度較佳為5℃以上50℃以下，更佳為10℃以上40℃以下，又更佳為15℃以上30℃以下。浸漬於清洗浴的時間，因為PVA系樹脂膜的清洗程度受到清洗浴溫度的影響而無法一概而論，但較佳為1秒以上100秒以下，更佳為2秒以上50秒以下，又更佳為3秒以上20秒以下。清洗步驟可僅實施一次，亦可因應需求實施多次。
乾燥步驟係將在清洗步驟中經清洗的PVA系樹脂膜乾燥而得到偏光元件的步驟。乾燥可依據任意的適當方法進行，例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥。
製造方法2中，可經由下述步驟進行製造：將包含PVA系樹脂之塗布液塗布於基材膜上的步驟、將所得之積層膜進行單軸延伸的步驟、以二色性色素將經單軸延伸的積層膜之PVA系樹脂層染色而藉此使其吸附二色性色素以作為偏光元件的步驟、以硼酸水溶液處理經吸附有二色性色素之膜的步驟、及在硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟。用以形成偏光元件的基材膜，亦可用作偏光元件的保護層。亦可因應需求將基材膜從偏光元件剝離去除。
<透明保護膜>
本實施型態中所使用的第1透明保護膜係隔著第1接著劑層而貼合於偏光元件的單面，第2透明保護膜係隔著第2接著劑層而貼合於偏光元件的另一面。以下，若未限定是第1透明保護膜或者第2透明保護膜之哪一者時，亦可僅稱為「保護膜」。
保護膜可同時具有其他光學功能，亦可形成積層有多層的積層結構。從光學特性的觀點來看，保護膜的厚度係以薄者為佳，但若太薄則會使強度降低且加工性不佳。適當的膜厚為5μm以上100μm以下，較佳為10μm以上80μm以下，更佳為15μm以上70μm以下。
保護膜可使用醯化纖維素系膜、由聚碳酸酯系樹脂所構成之膜、由降莰烯等環烯烴系樹脂所構成之膜、(甲基)丙烯酸系聚合物膜、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯樹脂系膜等薄膜。在使用PVA接著劑等水系接著劑將保護膜貼合於偏光元件之雙面的情況下，從透濕度的觀點來看，較佳係至少單側的保護膜為醯化纖維素系膜或(甲基)丙烯酸系聚合物膜中的任一種膜，其中較佳為醯化纖維素膜。
以補償視角等為目的，至少一邊的保護膜亦可具備相位差功能。在此情況下，保護膜本身可具有相位差功能，亦可另外具有相位差層，亦可為兩者的組合。具備相位差功能的膜可隔著接著劑而直接貼合於偏光元件，但亦可為隔著貼合於偏光元件的另一保護膜並且隔著黏著劑或接著劑貼合而成的構成。
<接著劑層>
構成用以將第1保護膜貼合於偏光元件之第1接著劑層的第1接著劑，可使用含有第1化合物的接著劑。構成用以將第2保護膜貼合於偏光元件之第2接著劑層的第2接著劑，可使用含有第2化合物的接著劑。以下，若未限定是第1 接著劑或第2接著劑之哪一者時，亦可僅稱為「接著劑」。此外，若未限定是第1接著劑層或第2接著劑層之哪一者時，亦可僅稱為「接著劑層」。接著劑可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等，較佳為水系接著劑，較佳係包含PVA系樹脂。藉由使用含有第1化合物的第1接著劑與含有第2化合物的第2接著劑，可抑制偏光板在高溫環境下穿透率的降低。
塗布接著劑時的厚度可設定為任意的值，例如可設定成能夠得到硬化後或加熱(乾燥)後具有所期望之厚度之接著劑層。由接著劑所構成之接著劑層的厚度較佳為0.01μm以上7μm以下，更佳為0.01μm以上5μm以下，又更佳為0.01μm以上2μm以下，最佳為0.01μm以上1μm以下。
下述關於接著劑的說明，係針對製造偏光元件時偏光元件中不含第1化合物及第2化合物之情況下的較佳範圍而記載。在使偏光元件含有第1化合物及第2化合物的情況時，適當調整下述值即可。第1化合物及第2化合物的具體例係如上所述。在將偏光元件與保護膜接著時，經過乾燥步驟而形成接著劑層的過程中，部分第1化合物及部分第2化合物可從接著劑層移動至偏光元件等。
第1接著劑為含有PVA系樹脂的水系接著劑時，第1化合物的含量相對於PVA系樹脂100質量份較佳為0.1質量份以上400質量份以下，更佳為1質量份以上200質量份以下，又更佳為3質量份以上100質量份以下。若小於0.1質量份，則在高溫環境下抑制偏光元件之多烯化的效果可能不充分。另一方面，超過400質量份的情況，可能在製作偏光板後析出脲而導致霧度上升。
第2接著劑為含有PVA系樹脂的水系接著劑時，第2化合物的含量相對於PVA系樹脂100質量份較佳為0.1質量份以上400質量份以下，更佳為1質量份以上200質量份以下，又更佳為3質量份以上100質量份以下。若小 於0.1質量份，則在高溫環境下抑制偏光元件之多烯化的效果可能不充分。另一方面，超過400質量份的情況，可能在製作偏光板後析出第2化合物。
(水系接著劑)
水系接著劑可採用任意適當的水系接著劑，較佳係使用含有PVA系樹脂的水系接著劑(PVA系接著劑)。從接著性的觀點來看，水系接著劑所包含的PVA系樹脂的平均聚合度較佳為100以上5500以下，更佳為1000以上4500以下。從接著性的觀點來看，平均皂化度較佳為85莫耳%以上100莫耳%以下，更佳為90莫耳%以上100莫耳%以下。
水系接著劑所包含的PVA系樹脂較佳為含有乙醯乙醯基(acetoacetyl)者，其理由係因為藉此可使PVA系樹脂層與保護膜的密合性優異且耐久性優異。含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂，係例如可藉由以任意方法使PVA系樹脂與二乙烯酮(diketene)反應而獲得。含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂的乙醯乙醯基改質度，就代表性而言為0.1莫耳%以上，較佳為0.1莫耳%以上20莫耳%以下。水系接著劑的樹脂濃度較佳為0.1質量%以上15質量%以下，更佳為0.5質量%以上10質量%以下。
水系接著劑中亦可含有交聯劑。交聯劑可使用習知的交聯劑。交聯劑可列舉例如：水溶性環氧化物、二醛、異氰酸酯等。
PVA系樹脂為含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂時，交聯劑較佳為乙二醛、乙醛酸鹽、羥甲基三聚氰胺中的任一種，更佳為乙二醛、乙醛酸鹽中的任一種，特佳為乙二醛。
水系接著劑亦可包含有機溶劑。從與水具有混合性的觀點來看，有機溶劑較佳為醇類，醇類之中更佳為甲醇或乙醇。水系接著劑的甲醇濃度較佳為 10質量%以上70質量%以下，更佳為15質量%以上60質量%以下，又更佳為20質量%以上60質量%以下。藉由使甲醇的濃度在10質量%以上，容易進一步抑制在高溫環境下之PVA系樹脂的多烯化。又，藉由使甲醇的含有率在70質量%以下，可抑制色相變差。部分脲衍生物對水的溶解度低，反之，對醇之溶解度充足。在此情況中，將第1化合物溶解於醇以調製第1化合物的醇溶液後，再將第1化合物的醇溶液添加至PVA水溶液以調製第1接著劑者亦為較佳的一態樣。
(活性能量線硬化型接著劑)
活性能量線硬化型接著劑，係藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，可列舉例如：包含聚合性化合物及光聚合性起始劑的接著劑、包含光反應性樹脂的接著劑、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑的接著劑等。聚合性化合物可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸乙酯系單體等光聚合性單體、及源自此等單體的寡聚物等。上述光聚合起始劑可列舉：包含經照射紫外線等活性能量線而產生如中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種之物質的化合物。
<包含脲系化合物之層>
如上所述，第1化合物及第2化合物並未限定為包含在接著劑層中，從提升偏光板之高溫耐久性的觀點來看，亦可包含在接著劑層以外的其他層。從提升偏光板的物理強度的觀點來看，亦可積層硬化層。
本實施型態中，亦可使這種硬化層含有第1化合物及第2化合物以作為包含脲系化合物之層。通常，這種硬化層係由包含有機溶劑之硬化性組成物所形成，日本特開2017-075986號公報的段落[0020]至[0042]中記載了由活性能 量線硬化性高分子組成物的水性溶液來形成這種硬化層的方法。亦可使這樣的組成物含有水溶性的第1化合物及第2化合物。
包含脲系化合物之層較佳係具有至少1種第1化合物、至少1種第2化合物、及黏結劑。黏結劑可列舉：聚合物黏結劑、熱硬化型樹脂黏結劑、活性能量線硬化型樹脂黏結劑等，任一種黏結劑皆可較佳地使用。
包含脲系化合物之層的厚度較佳為0.1μm以上20μm以下，更佳為0.5μm以上15μm以下，又更佳為1μm以上10μm以下。
[偏光板的製造方法]
本實施型態的偏光板之製造方法具有積層步驟。本實施型態的偏光板之製造方法亦可具有含水率調整步驟。含水率調整步驟中，在製造具有特徵(a)的偏光板時，係以使偏光元件的含水率在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下的方式調整偏光元件的含水率。可根據上述偏光元件之含水率的記載內容來調整偏光元件的含水率。含水率調整步驟中，在製造具有特徵(b)的偏光板時，係以使偏光板的含水率在溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且在溫度20℃相對濕度80%的平衡含水率以下的方式調整偏光板的含水率。可根據上述偏光板之含水率的記載內容來調整偏光板的含水率。積層步驟中，隔著上述接著劑層而積層偏光元件與透明保護膜。積層步驟中，例如藉由包含第1化合物及第2化合物之接著劑，將未進行使其含有第1化合物及第2化合物之處理的偏光元件與透明保護膜貼合。含水率調整步驟及積層步驟的順序並未限定，此外，含水率調整步驟與積層步驟亦可一併進行。
[圖像顯示裝置的構成]
本實施型態的偏光板係用於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等各種圖像顯示裝置。就圖像顯示裝置而言，當其構成為以使偏光板的兩面與空氣層以外的層(具體為黏著劑層等固體層)相接的方式而構成之層間填充構成時，在高溫環境下穿透率容易降低。在使用了本實施型態之偏光板的圖像顯示裝置中，即使其為層間填充構成，亦可抑制在高溫環境下偏光板的穿透率降低。圖像顯示裝置可例示如具有「圖像顯示單元」、「積層於圖像顯示單元之視認側表面的第1黏著劑層」、及「積層於第1黏著劑層之視認側表面的偏光板」的構成。此圖像顯示裝置可更具有：積層於偏光板之視認側表面的第2黏著劑層、及積層於第2黏著劑層之表面的透明構件。本實施型態的偏光板特別適合用於具有「在圖像顯示裝置的視認側配置有透明構件，偏光板與圖像顯示單元係藉由第1黏著劑層所貼合，偏光板與透明構件係藉由第2黏著劑層所貼合」之層間填充構成的圖像顯示裝置。本說明書中，有時將第1黏著劑層及第2黏著劑層中的任一者或兩者僅簡稱為「黏著劑層」。另外，用以將偏光板與圖像顯示單元貼合的構件、以及用以將偏光板與透明構件貼合的構件係不限於黏著劑層，亦可為接著劑層。
<圖像顯示單元>
圖像顯示單元可列舉：液晶單元及有機EL單元。液晶單元可使用「利用外部光線的反射型液晶單元」、「利用來自背光等光源之光線的穿透型液晶單元」、「利用來自外部之光線與來自光源之光線兩者的半穿透半反射型液晶單元」中的任一種。液晶單元為利用來自光源之光線者時，圖像顯示裝置(液晶顯示裝置)中，在與圖像顯示單元(液晶單元)之視認側相反側亦配置偏光板，更進一步再配置光源。光源側的偏光板與液晶單元較佳係隔著適當的黏著劑層貼合。液晶單元 的驅動方式可使用例如VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式或彎曲配向(π型)等任意型態。
就有機EL單元而言，適宜使用在透明基板上依序積層透明電極、有機發光層與金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)者等。有機發光層為各種有機薄膜的積層體，例如可採用由三苯胺衍生物等所構成之電洞注入層與由蒽等螢光性有機固體所構成之發光層的積層體，該等發光層與由苝衍生物等所構成之電子注入層的積層體，或是電洞注入層、發光層及電子注入層的積層體等各種層構成。
<圖像顯示單元與偏光板的貼合>
圖像顯示單元與偏光板的貼合宜使用黏著劑層(黏著片)。其中，從作業性等的觀點來看，較佳為將偏光板的一面附設有黏著劑層的附黏著劑層之偏光板與圖像顯示單元貼合的方法。可依據適當的方式將黏著劑層附設於偏光板。作為其例子，可列舉：使基質聚合物或其組成物溶解或分散於由甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑的單質或混合物所構成之溶劑，而調製10質量%以上40質量%以下的黏著劑溶液，將其以澆鑄方式或塗布方式等適當的展開方式直接附設於偏光板上的方式，或是在分隔件上形成黏著劑層再將其轉移至偏光板的方式等。
<黏著劑層>
黏著劑層可由1層或2層以上所構成，但較佳係由1層所構成。黏著劑層可由以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚乙烯醚系樹脂作為主成分的黏著劑組成物所構成。其中，宜為以透明性、耐候性、耐熱性等優異的(甲基)丙烯酸系樹脂作為基質聚合物的黏著劑組成物。黏著劑組成物亦可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
黏著劑組成物中所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂(基質聚合物)，宜使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯中的1種或2種以上作為單體的聚合物或共聚物。較佳係使基質聚合物與極性單體共聚合。極性單體可列舉：(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧丙酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物可僅含有上述基質聚合物，但通常更含有交聯劑。交聯劑可例示：與羧基之間形成羧酸金屬鹽的2價以上之金屬離子、與羧基之間形成醯胺鍵的多胺化合物、與羧基之間形成酯鍵的多環氧化物或多元醇、與羧基之間形成醯胺鍵的聚異氰酸酯化合物。其中較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有會因受到如紫外線或電子束等活性能量線之照射而硬化的性質，並且其具有「在照射活性能量線之前亦具有黏著性而可密合於膜等被附著體，可藉由照射活性能量線而硬化並調整密合力」之性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物中，除了基質聚合物、交聯劑以外，更含有活性能量線聚合性化合物。亦可因應需求使其含有光聚合起始劑、光敏劑等。
黏著劑組成物可包含用以賦予光散射性的微粒子、珠粒(樹脂珠、玻璃珠等)、玻璃纖維、基質聚合物以外的樹脂、賦黏劑、填充劑(金屬粉及其他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、抗腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
關於黏著劑層，可藉由將上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗布於基材膜、圖像顯示單元或偏光板的表面上並使其乾燥而形成之。基材膜一般為熱塑性樹脂膜，其典型的例子可列舉經實施脫模處理的分離膜。分離膜可為例如對於在由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯(polyarylate)等樹脂所構成之膜上欲形成黏著劑層的面實施聚矽氧處理等脫模處理而成者。
可將黏著劑組成物直接塗布於分離膜的脫模處理面而形成黏著劑層，然後將此附分離膜之黏著劑層積層於偏光體的表面。亦可將黏著劑組成物直接塗布於偏光板的表面而形成黏著劑層，然後在黏著劑層的外表面積層分離膜。
在偏光板表面設置黏著劑層時，較佳係對偏光板的貼合面及/或黏著劑層的貼合面實施電漿處理、電暈處理等表面活化處理，更佳為實施電暈處理。
又，亦可準備在第2分離膜上塗布黏著劑組成物而形成黏著劑層並且在所形成之黏著劑層上積層分離膜而成的黏著劑片，將第2分離膜從該黏著劑片剝離後，將附分離膜之黏著劑層積層於偏光板。第2分離膜係使用與黏著劑層之密合力比分離膜更弱而容易剝離者。
黏著劑層的厚度並無特別限定，例如較佳為1μm以上100μm以下，更佳為3μm以上50μm以下，亦可為20μm以上。
<透明構件>
配置於圖像顯示裝置之視認側的透明構件，可列舉透明板(窗層)或觸控面板等。透明板係使用具有適當機械強度及厚度的透明板。這種透明板可列舉例如：如聚醯亞胺系樹脂、丙烯酸系樹脂或聚碳酸酯系樹脂等透明樹脂板，或是玻璃板 等。可在透明板的視認側積層抗反射層等功能層。又，透明板為透明樹脂板的情況下，為了提升物理強度而可積層硬塗層，或為了降低透濕度而可積層低透濕層。觸控面板係使用電阻膜式、靜電容式、光學式、超音波式等各種觸控面板、以及具備觸摸感測器功能的玻璃板或透明樹脂板等。使用靜電容式觸控面板作為透明構件的情況，較佳係進一步在觸控面板的視認側設置由玻璃或透明樹脂板所構成之透明板。
<偏光板與透明構件的貼合>
偏光板與透明構件的貼合中，宜使用黏著劑或活性能量線硬化型接著劑。使用黏著劑的情況，可依據適當方式設置黏著劑。具體的設置方法可列舉例如：前述圖像顯示單元與偏光板的貼合中所使用之黏著劑層的設置方法。
在使用活性能量線硬化型接著劑的情況下，以防止接著劑溶液在硬化前擴散之目的，宜使用：以圍住圖像顯示面板上之周緣部的方式設置壩材，並且在壩材上載置透明構件，然後注入接著劑溶液的方法。注入接著劑溶液後，因應需求進行定位及脫泡，之後照射活性能量線以進行硬化。
[實施例]
以下根據實施例具體說明本發明。以下的實施例所示的材料、試劑、物質量與其比率、操作等，只要不脫離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明不限於以下的實施例。
<偏光元件A的製作>
將由平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上的PVA所構成之厚度40μm的PVA膜以乾式進行單軸延伸約5倍，再將其保持於拉緊的狀態下浸漬於60℃的純水1分鐘後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100的水溶液60 秒。之後於72℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為8.5/8.5/100的水溶液300秒。然後以26℃的純水清洗20秒後，於65℃進行乾燥，得到PVA中吸附配向有碘的厚度15μm之偏光元件A。偏光元件之厚度的測量係使用Nikon股份有限公司製的數位測微計「MH-15M」。
<接著劑的調製>
(接著劑用PVA溶液A的調製)
使50g的含有乙醯乙醯基之改質PVA系樹脂(三菱化學股份有限公司製「Gohsenx Z-410」)溶解於950g的純水，於90℃加熱2小時後冷卻至常溫，得到接著劑用PVA溶液(以下稱為「PVA溶液A」)。
(接著劑1a、1b、1c、2a、2b、2c、3的調製)
以使PVA成為3.0質量%且第1化合物及第2化合物成為如表1所示之含量的方式來調配PVA溶液A、屬於第一化合物之脲、屬於第二化合物之4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基(以下亦稱為「TEMPOL」)與純水，調製成各接著劑。
[表1]
Figure 110140976-A0202-12-0033-10
<透明保護膜A的準備>
將市售的醯化纖維素膜TD40(Fuji Film股份有限公司製，膜厚40μm)浸漬於保持在55℃的1.5mol/L之NaOH水溶液(皂化液)2分鐘後，將膜進行水洗。之後浸漬於25℃的0.05mol/L之硫酸水溶液30秒後，再於流水下通過水洗浴30秒，使膜成為中性狀態。然後，重複以氣刀進行瀝水三次以瀝除水後，使其滯留於70℃的乾燥區域15秒以進行乾燥，製作經皂化處理的膜以作為透明保護膜A。
<偏光板1至8的製作>
使用輥貼合機，將透明保護膜A隔著接著劑3而貼合於偏光元件A的兩面。貼合後，於80℃乾燥5分鐘，得到偏光板1。以使乾燥後的厚度在兩面皆成為50nm的方式調整接著劑層。在偏光元件A的一面用以貼合透明保護膜A的接著 劑層係作為第1接著劑層，在偏光元件A的另一面用以貼合透明保護膜A的接著劑層係作為第2接著劑層。
在偏光板1中，將使用於兩面的接著劑3變更為表2所記載之各接著劑，得到偏光板2至8。
(偏光板(偏光元件)的含水率之調整)
在溫度20℃，以相對濕度30%、35%、40%、45%、50%或55%的條件將上述所得之偏光板1至8保管72小時。在保管66小時、69小時及72小時的時間點使用卡爾費雪法測量含水率。在任一濕度條件下保管66小時、69小時、72小時的時間點的含水率的值皆無變化。因此，偏光板1至8的含水率可視為與本實驗例中所使用之72小時的保管環境之平衡含水率相同。偏光板的含水率在某保管環境中達到平衡時，偏光板中的偏光元件的含水率亦可同樣地視為在該保管環境達到平衡。又，偏光板中的偏光元件的含水率在某保管環境達到平衡時，偏光板的含水率亦可同樣地視為在該保管環境中達成平衡。
<光學積層體1至8>
光學積層體1至8係使用表2所示的偏光板1至8中的任一偏光板所製作。針對光學積層體1至8，以使所使用之偏光板(偏光元件)的含水率成為表2所示之環境的平衡含水率的方式，在溫度20℃相對濕度30%、45%或55%的條件下保管72小時，以各含水率的狀態提供至下述高溫耐久性評價。
<高溫耐久性評價>
(評價用樣本的製作)
針對處於各含水率狀態的光學積層體1至8，在其兩面上形成丙烯酸系黏著劑(Lintec股份有限公司製，型號：# 7)，再以使吸收軸與長邊平行的方式裁切成 50mm×100mm的尺寸。在各黏著劑表面貼合無鹼玻璃(Corning公司製「EAGLE XG」)，藉此製作評價樣本。
為了評價上述評價樣本的正交漏光，以與評價樣本重疊而形成正交偏光狀態之目的，製作光學積層體R。具體而言，對於上述偏光板1，僅在單面形成丙烯酸系黏著劑(Lintec股份有限公司製，型號：# 7)，再以使吸收軸與短邊平行的方式裁切成50mm×100mm的尺寸。在黏著劑表面貼合無鹼玻璃(Corning公司製「EAGLE XG」)，藉此製作用於正交漏光評價的光學積層體R。
以溫度50℃、壓力5kgf/cm2(490.3kPa)對光學積層體1至8的評價樣本實施高壓釜處理1小時後，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下放置24小時。之後以下述方式針對處於各含水率狀態的光學積層體1至8的評價樣本進行高溫耐久性評價。
(i)偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度55%之平衡含水率的評價樣本
(單體穿透率評價(105℃))
針對偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度55%之平衡含水率的光學積層體1至8的評價樣本，測量穿透率(初始值)，保管於溫度105℃的加熱環境下，在直到48至96小時為止係每隔24小時來測量穿透率。以穿透率相對於初始值而降低達5%以上的時間為基礎，依據下述標準進行評價。所得之結果顯示於表2。
在96小時後的穿透率的降低係在5%以下：A1
在72至96小時之間的穿透率的降低係達5%以上：B1
在48至72小時之間的穿透率的降低係達5%以上：C1
在48小時後的時間點的穿透率的降低係在5%以上：D1
(正交漏光的評價)
準備在上述單體穿透率之評價中在經過96小時的時間點測量單體穿透率後的評價樣本。將未投入加熱環境下的正交偏光評價用之光學積層體R與評價樣本配置成正交偏光的關係，並載置於背光上。將周圍遮光，以目視觀察正交漏光，並依據下述標準進行4階段評價。所得之結果顯示於表2。另外，單體穿透率評價為A1以外的評價樣本有由多烯化所造成之著色，因而從正交漏光的評價中排除。
完全未觀察到正交漏光：A1
幾乎未觀察到正交漏光：B1
稍微觀察到正交漏光：C1
明顯觀察到正交漏光：D1
(ii)偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度45%之平衡含水率的評價樣本
(單體穿透率評價(105℃))
針對偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度45%之平衡含水率的光學積層體1至8的評價樣本，測量穿透率(初始值)，保管於溫度105℃的加熱環境下，在直到100至200小時為止係每隔50小時來測量穿透率。以穿透率相對於初始值而降低達5%以上的時間為基礎，依據下述標準進行評價。所得之結果顯示於表2。
200小時後的穿透率的降低係在5%以下：A2
在150至200小時之間的穿透率的降低係達5%以上：B2
在100至150小時之間的穿透率的降低係達5%以上：C2
在100小時後的時間點的穿透率的降低係在5%以上：D2
(正交漏光的評價)
準備在上述單體穿透率之評價中在經過200小時之時間點測量單體穿透率後的評價樣本。將未投入加熱環境的正交偏光評價用之光學積層體R與評價樣本配置成正交偏光的關係，並載置於背光上。將周圍遮光，以目視觀察正交漏光，並依據下述標準進行4階段評價。所得之結果顯示於表2。另外，單體穿透率評價為A2以外的評價樣本，有由多烯化所造成的著色，因而從正交漏光的評價中排除。
完全未觀察到正交漏光：A2
幾乎未觀察到正交漏光：B2
稍微觀察到正交漏光：C2
清楚觀察到正交漏光：D2
(iii)偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率的評價樣本
(單體穿透率評價(105℃))
針對偏光板或偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率的光學積層體1至8的評價樣本，測量穿透率(初始值)，保管於溫度105℃的加熱環境下，在直到500至800小時為止係每隔150小時來測量穿透率。以穿透率相對於初始值而降低達5%以上的時間為基礎，依據下述標準進行評價。所得之結果顯示於表2。
800小時後的穿透率的降低係在5%以下：A3
在650至800小時之間的穿透率的降低係達5%以上：B3
在500至650小時之間的穿透率的降低係達5%以上：C3
在500小時後的時間點的穿透率的降低係在5%以上：D3
(正交漏光的評價)
準備在上述單體穿透率之評價中在經過800小時的時間點測量單體穿透率後的評價樣本。將未投入加熱環境下的正交偏光評價用之光學積層體R與評價樣本配置成正交偏光的關係，並載置於背光上。將周圍遮光，以目視觀察正交漏光，依據下述標準進行4階段評價。所得之結果顯示於表2。另外，單體穿透率評價為A3以外的評價樣本有由多烯化所造成的著色，因而從正交漏光的評價中排除。
完全未觀察到正交漏光：A3
幾乎未觀察到正交漏光：B3
稍微觀察到正交漏光：C3
清楚觀察到正交漏光：D3
[表2]
Figure 110140976-A0202-12-0038-11
由上可知，偏光元件與第1透明保護膜係藉由含有第1化合物的第1接著劑所貼合且偏光元件與第2透明保護膜係藉由含有第2化合物的第2接著劑所貼合而成的偏光板(光學積層體6至8)，無論偏光板及偏光元件的含水率為 如何，即使暴露於105℃的高溫環境下穿透率亦不易降低，且正交漏光的評價優異，高溫耐久性亦優異。

Claims (12)

  1. 一種偏光板，其具有：使聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素而成的偏光元件、積層於前述偏光元件之一面的第1透明保護膜、以及積層於前述偏光元件之另一面的第2透明保護膜；其中，
    前述偏光元件與前述第1透明保護膜係藉由以含有第1化合物的第1接著劑所形成之第1接著劑層所貼合，前述偏光元件與前述第2透明保護膜係藉由以含有第2化合物的第2接著劑所形成之第2接著劑層所貼合，
    前述第1化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種，
    前述第2化合物係具有氮氧自由基或氮氧基的化合物。
  2. 如請求項1所述之偏光板，其中，前述第2化合物為N-氧基化合物。
  3. 如請求項1或2所述之偏光板，其中，前述第1化合物係選自由脲衍生物及硫脲衍生物所組成群組中的至少1種脲系化合物。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之偏光板，其中，前述第1接著劑與前述第2接著劑包含聚乙烯醇系樹脂。
  5. 如請求項4所述之偏光板，其中，前述第1接著劑中，前述第1化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份而為0.1質量份以上400質量份以下。
  6. 如請求項4或5所述之偏光板，其中，前述第2接著劑中，前述第2化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份而為0.1質量份以上400質量份以下。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之偏光板，其中，前述第1接著劑層與前述第2接著劑層的厚度為0.01μm以上7μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光板係用於圖像顯示裝置，
    前述圖像顯示裝置中，以相接於前述偏光板的兩面之方式在前述偏光板的兩面設置有固體層。
  9. 一種圖像顯示裝置，其具有：圖像顯示單元；第1黏著劑層，其積層於前述圖像顯示單元的視認側表面；以及如請求項1至8中任一項所述之偏光板，其積層於前述第1黏著劑層的視認側表面。
  10. 如請求項9所述之圖像顯示裝置，其更具有：第2黏著劑層，其積層於前述偏光板的視認側表面；以及透明構件，其積層於前述第2黏著劑層的視認側表面。
  11. 如請求項10所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
  12. 如請求項10所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為觸控面板。
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