TW202227265A - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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福田謙一
内藤亮
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種偏光板，其於高溫環境下可抑制透過率之降低，且具有優異之耐水性。本發明之偏光板，其係具有使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂層之偏光元件、及積層於上述偏光元件之至少一面之透明保護膜者，且上述偏光元件與上述透明保護膜係藉由由含有脲系化合物及二醛之接著劑所形成之接著劑層而貼合，上述脲化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種，上述偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置(LCD)不僅被廣泛用於液晶電視，亦被廣泛用於個人電腦、行動電話等行動裝置、汽車導航等車載用途。通常，液晶顯示裝置於液晶單元之兩側具有利用黏著劑貼合有偏光板之液晶面板，藉由利用液晶面板控制來自背光之光而進行顯示。近年來，有機EL顯示裝置亦與液晶顯示裝置同樣地廣泛用於電視、行動電話等行動裝置、汽車導航等車載用途。於有機EL顯示裝置中，為了抑制外光被金屬電極(陰極)反射而如鏡面般被視認，有於圖像顯示面板之視認側表面配置圓偏光板(包含偏光元件與λ/4板之積層體)之情形。
如上所述，偏光板作為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置之構件，搭載於車上之機會增加。車載用之圖像顯示裝置中所使用之偏光板與電視或行動電話等移動用途相比，多暴露於高溫環境下，因此要求更高溫下之特性變化小者(高溫耐久性)。
另一方面，以防止因來自外表面之衝擊所致之圖像顯示面板之破損等為目的，於較圖像顯示面板更靠視認側設置透明樹脂板或玻璃板等前面板 (亦稱為「窗口層」。)之構成增加。於具備觸控面板之圖像顯示裝置中，廣泛採用於較圖像顯示面板更靠視認側設置觸控面板，於較觸控面板更靠視認側具備前面板之構成。
於此種構成中，若於圖像顯示面板與前面板或觸控面板等透明構件之間存在空氣層，則因空氣層界面之光之反射而產生外光之映入，而有畫面之視認性降低之傾向。因此，採用以空氣層以外之層且通常為固體層(以下，有時稱為「層間填充劑」。)填充配置於圖像顯示面板之視認側表面之偏光板與透明構件之間之空間之構成(以下，有時稱為「層間填充構成」。)的行為擴大。層間填充劑較佳為與偏光板或透明構件折射率接近之材料。作為層間填充劑，為了抑制因界面處之反射所致之視認性之降低，並且將各構件間接著固定，而使用黏著劑或UV硬化型接著劑(例如參照專利文獻1)。
層間填充構成廣泛採用於大多用於戶外之行動電話等行動用途。又，由於近年來對視認性之要求提高，故而於汽車導航裝置等車載用途中，亦研究採用於圖像顯示面板表面配置前表面透明板並利用黏著劑層等填充面板與前表面透明板之間之層間填充構成。
然而，於採用此種構成之情形時，報告有於高溫環境下偏光板之透過率顯著降低。於專利文獻2中，作為該問題之解決對策，提出有如下方法：藉由將偏光板之每單位面積之水分量設為特定量以下，且將與偏光元件鄰接之透明保護膜之飽和吸水量設為特定量以下，而抑制透過率之降低。
然而，即便利用此種方法，高溫耐久試驗中之透過率之降低之抑制效果亦不充分。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平11-174417號公報
[專利文獻2]日本特開2014-102353號公報
本發明之目的在於提供一種於高溫環境下可抑制透過率之降低，且具有優異耐水性之新穎偏光板、及使用該偏光板之圖像顯示裝置。
本發明提供以下例示之偏光板及圖像顯示裝置。
〔1〕一種偏光板，其係具有使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂層之偏光元件、及積層於上述偏光元件之至少一面之透明保護薄膜者，
上述偏光元件與上述透明保護膜係藉由由含有脲系化合物及二醛之接著劑形成之接著劑層而貼合，
上述脲化合物為選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種，
上述偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。
〔2〕一種偏光板，其係具有使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂層之偏光元件、及積層於上述偏光元件之至少一面之透明保護薄膜者，
上述偏光元件與上述透明保護膜係藉由由含有脲系化合物及二醛之接著劑形成之接著劑層而貼合，
上述脲化合物為選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種，
上述偏光板的含水率為溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%的平衡含水率以下。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之偏光板，其中，上述接著劑係包含選自由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中之至少一種脲系化合物。
〔4〕如請求項〔1〕至〔3〕中任一項所述之偏光板，其中，上述接著劑係包含聚乙烯醇系樹脂。
〔5〕如〔4〕所述之偏光板，其中，在上述接著劑中，相對於上述聚乙烯醇系樹脂100質量份，上述脲系化合物的含量為0.1質量份以上400質量份以下。
〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述之偏光板，其中，在上述接著劑中，相對於上述脲系化合物1質量份，上述二醛的含量為0.03質量份以上20質量份以下。
〔7〕如〔1〕至〔6〕中任一項所述之偏光板，其中，上述二醛為乙二醛。
〔8〕如請求項〔1〕至〔7〕中任一項所述之偏光板，其中，上述接著劑層的厚度為0.01μm以上7μm以下。
〔9〕如〔1〕至〔8〕中任一項所述之偏光板，其係用於圖像顯示裝置，
在上述圖像顯示裝置中，在上述偏光板的兩面連接設置有固體層。
〔10〕一種圖像顯示裝置，其具有：圖像顯示單元；第1黏著劑層，其積層於上述圖像顯示單元之視認側表面；及如〔1〕至〔9〕中任一項所述之偏光板，其積層於上述第1黏著劑層之視認側表面。
〔11〕如〔10〕所述之圖像顯示裝置，其進一步具有：第2黏著劑層，其積層於上述偏光板之視認側表面；及透明構件，其積層於上述第2黏著劑層之視認側表面。
〔12〕如請求項11所述之圖像顯示裝置，其中，上述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
〔13〕如〔11〕所述之圖像顯示裝置，其中上述透明構件為觸控面板。
根據本發明，可提供一種偏光板，其高溫耐久性及耐水性提高，即便於用於層間填充構成之圖像顯示裝置之情形時，亦可抑制因高溫引起之透過率及偏光度之降低，且具有優異之耐水性。進而，藉由使用本發明之偏光板，可提供抑制高溫環境下之透過率及偏光度之降低，且具有優異耐水性之圖像顯示裝置。
以下，說明本發明之實施形態，但本發明並不限定於以下之實施形態。
〔偏光板〕
本實施形態之偏光板具有使二色性色素吸附配向於包含聚乙烯醇系樹脂之層之偏光元件、及透明保護膜。偏光元件與透明保護膜係藉由由含有脲系化合 物及二醛之接著劑所形成之接著劑層而貼合。本實施形態之偏光板具有下述(a)及(b)之至少一者之特徵。
(a)偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。
(b)偏光板之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。
作為高溫耐久性優異之先前之偏光板，已知有例如偏光板單獨於溫度95℃之環境下放置1000小時，透過率之降低亦得到抑制之偏光板。然而，即便為此種偏光板，於用於層間填充構成之情形時，若於溫度95℃之環境下放置200小時，則有時於偏光板面內中央部可見透過率之顯著降低。認為高溫環境下之偏光板之透過率之顯著降低係於採用偏光板之一面與圖像顯示單元貼合，另一面與觸控面板或前面板等透明構件貼合之層間填充構成之圖像顯示裝置暴露於高溫環境之情形時尤其容易引起之問題。
認為於層間填充構成中透過率顯著降低之偏光板於拉曼分光測定中於1100cm-1附近(源自=C-C=鍵)及1500cm-1附近(源自C=C-鍵)具有波峰，因此形成多烯結構(-C=C)n-。推測多烯結構係構成偏光元件之聚乙烯醇因脫水而多烯化產生者(專利文獻2，段落【0012】)。
本發明之偏光板可進一步提高高溫耐久性，又，可提高耐水性。本發明之偏光板係組入至層間填充構成之圖像顯示裝置中，即便暴露於例如溫度105℃之高溫環境下，亦可抑制透過率之降低。
<偏光元件>
作為使二色性色素吸附配向於含有聚乙烯醇(以下，亦稱為「PVA」。)系樹脂之層(以下，亦稱為「PVA系樹脂層」。)之偏光元件，可使用周知之偏光元件。作為偏光元件，可列舉：使用藉由利用二色性色素對PVA系樹脂膜進行染色並進行單軸延伸而獲得之延伸膜、或具有於基材膜上塗佈包含PVA系樹脂之塗佈液而形成之塗佈層的積層膜，藉由利用二色性色素對塗佈層進行染色並對積層膜進行單軸延伸而獲得之延伸層。延伸可於利用二色性色素進行染色後進行，亦可一面染色一面進行延伸，亦可於延伸後進行染色。
PVA系樹脂係藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可列舉乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物。作為可共聚合之其他單體，例如可列舉：不飽和羧酸類、乙烯等烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類等。
PVA系樹脂之皂化度較佳為約85莫耳%以上，更佳為約90莫耳%以上，再更佳為約99莫耳%以上100莫耳%以下。作為PVA系樹脂之聚合度，例如為1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。PVA系樹脂亦可經改質，例如亦可為經醛類改質之聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛、聚乙烯縮丁醛等。
偏光元件之厚度較佳為3μm以上35μm以下，更佳為4μm以上30μm以下，再更佳為5μm以上25μm以下。藉由偏光元件之厚度為35μm以下，可抑制於高溫環境下PVA系樹脂之多烯化對光學特性之降低造成之影響。藉由偏光元件的厚度為3μm以上，容易成為達成所期望的光學特性之構成。
偏光元件較佳為包含脲系化合物。於本實施形態中，偏光元件與透明保護膜係藉由由含有脲系化合物之接著劑形成之接著劑層而貼合，因此推測自接著劑層移行之脲系化合物之一部分包含於偏光元件中。偏光元件中之脲系化合物亦可包含於偏光元件之製造過程中所添加者。藉由具備含有脲系化合物之接著劑層，即使將偏光板曝露於高溫環境下，透過率亦不易降低。推測其原因在於：藉由偏光元件中所含之脲系化合物而抑制PVA系樹脂之多烯化。
作為使偏光元件於製造過程中含有脲系化合物之方法，可列舉於含有脲系化合物之處理溶媒中浸漬PVA系樹脂層之方法、或將處理溶媒噴霧、流下或滴加至PVA系樹脂層之方法。
使PVA系樹脂層浸漬於包含脲系化合物之處理溶媒中之步驟可與下述偏光元件之製造方法中之膨潤、延伸、染色、交聯、洗淨等步驟同時進行，亦可與該等步驟分開設置。使PVA系樹脂層含有脲系化合物之步驟較佳為於利用碘將PVA系樹脂層染色後進行，更佳為與染色後之交聯步驟同時進行。根據此種方法，色相變化較小，可減小對偏光元件之光學特性之影響。
為了使偏光元件含有脲系化合物，亦可進行偏光元件之製造時之添加與對接著劑之添加兩者。
(脲系化合物)
脲系化合物係選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種。脲系化合物可單獨使用1種或組合2種以上使用。脲系化合物有水溶性者與水難溶性者，可使用任一種脲系化合物。於將水難溶性脲系化合物用於水溶性接著劑之情形時，較佳為於形成接著劑層後，以不引起霧度上升等之方式設計分散方法。
(脲衍生物)
脲衍生物係脲分子之4個氫原子之至少1個被取代為取代基之化合物。於該情形時，取代基並無特別限制，較佳為包含碳原子、氫原子及氧原子之取代基。
作為脲衍生物之具體例，作為單取代脲，可列舉：甲基脲、乙基脲、丙基脲、丁基脲、異丁基脲、N-十八烷基脲、2-羥基乙基脲、羥基脲、乙醯基脲、烯丙基脲、2-丙炔基脲、環己基脲、苯基脲、3-羥基苯基脲、(4-甲氧基苯基)脲、苄基脲、苯甲醯基脲、鄰甲苯基脲、對甲苯基脲。
作為二取代脲，可列舉：1,1-二甲基脲、1,3-二甲基脲、1,1-二乙基脲、1,3-二乙基脲、1,3-雙(羥基甲基)脲、1,3-第三丁基脲、1,3-二環己基脲、1,3-二苯基脲、1,3-雙(4-甲氧基苯基)脲、1-乙醯基-3-甲基脲、2-咪唑啶酮(伸乙基脲)、四氫-2-嘧啶酮(伸丙基脲)。
作為4取代脲，可列舉：四甲基脲、1,1,3,3-四乙基脲、1,1,3,3-四丁基脲、1,3-二甲氧基-1,3-二甲基脲、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、1,3-二甲基-3,4,5,6-四氫-2(1H)-嘧啶酮。
(硫脲衍生物)
硫脲衍生物係硫脲分子之4個氫原子之至少1個被取代為取代基之化合物。於該情形時，取代基並無特別限制，較佳為包含碳原子、氫原子及氧原子之取代基。
作為硫脲衍生物的具體例，作為單取代硫脲，可列舉：N-甲基硫脲、乙基硫脲、丙基硫脲、異丙基硫脲、1-丁基硫脲、環己基硫脲、N-乙醯基硫脲、N-烯丙基硫脲、(2-甲氧基乙基)硫脲、N-苯基硫脲、(4-甲氧基苯基)硫 脲、N-(2-甲氧基苯基)硫脲、N-(1-萘基)硫脲、(2-吡啶基)硫脲，可列舉鄰甲苯基硫脲、對甲苯基硫脲。
作為2取代硫脲，可列舉：1,1-二甲基硫脲、1,3-二甲基硫脲、1,1-二乙基硫脲、1,3-二乙基硫脲、1,3-二丁基硫脲、1,3-二異丙基硫脲、1,3-二環己基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N'-二苯基硫脲、1,3-二(鄰甲苯基)硫脲、1,3-二(對甲苯基)硫脲、1-苄基-3-苯基硫脲、1-甲基-3-苯基硫脲、N-烯丙基-N'-(2-羥基乙基)硫脲、伸乙基硫脲。
作為3取代硫脲，可列舉：三甲基硫脲，作為4取代硫脲，可列舉：四甲基硫脲、1,1,3,3-四乙基硫脲。
脲系化合物之中，於用於層間填充構成之圖像顯示裝置時，就抑制高溫環境下之透過率之降低方面而言，較佳為脲衍生物或硫脲衍生物，更佳為脲衍生物。脲衍生物之中，較佳為1取代脲或2取代脲，更佳為1取代脲。2取代脲有1，1-取代脲與1，3-取代脲，但以1，3-取代脲更佳。
(特徵(a))
於具有特徵(a)之情形時，偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。偏光元件之含水率較佳為溫度20℃相對濕度45%之平衡含水率以下，更佳為溫度20℃相對濕度42%之平衡含水率以下，再更佳為溫度20℃相對濕度38%之平衡含水率以下。若偏光元件之含水率低於溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率，則偏光元件之操作性降低，容易破裂。若偏光元件之含水率超過溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率，則偏光元件之透過率容易降低。推測其原因在於：若偏光元件之含 水率較高，則PVA系樹脂之多烯化變得容易進行。偏光元件之含水率為偏光板中之偏光元件之含水率。
作為確認偏光元件之含水率是否在溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之範圍內的方法，係可列舉：在調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中保管，在一定時間質量無變化時視為已達到與環境平衡的方法、或預先計算調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境之偏光元件之平衡含水率，並藉由將偏光元件之含水率與預先計算之平衡含水率進行對比而確認之方法。
作為製造含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之偏光元件之方法，並無特別限定，例如可列舉將偏光元件於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍之環境中保管10分鐘以上3小時以下之方法、或於30℃以上90℃以下進行加熱處理之方法。
作為製造上述含水率之偏光元件之另一較佳方法，可列舉：將於偏光元件之至少單面積層有保護膜之積層體、或使用偏光元件構成之偏光板於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍之環境中保管10分鐘以上120小時以下之方法；或於30℃以上90℃以下進行加熱處理之方法。於採用層間填充構成之圖像顯示裝置之製作時，亦可將於圖像顯示單元積層有偏光板之圖像顯示面板於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍之環境中保管10分鐘以上3小時以下或於30℃以上90℃以下進行加熱後，貼合前面板。
偏光元件之含水率較佳為於偏光元件單獨或偏光元件與保護膜之積層體中用以構成偏光板之材料階段以含水率成為上述數值範圍之方式進行調整。構成偏光板後調整含水率時，捲曲過大，貼合於圖像顯示單元時容易產生 不良情況。藉由使用在構成偏光板之前的材料階段調整成上述含水率之偏光元件來構成偏光板，能夠容易地構成具備含水率滿足上述數值範圍之偏光元件的偏光板。於將偏光板貼合於圖像顯示單元之狀態下，亦可以偏光板中之偏光元件之含水率成為上述數值範圍之方式進行調整。此時，偏光板由於貼合於圖像顯示單元，故不易產生捲曲。
(特徵(b))
於具有特徵(b)之情形時，偏光板之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。偏光板之含水率較佳為溫度20℃相對濕度45%之平衡含水率以下，更佳為溫度20℃相對濕度42%之平衡含水率以下，再更佳為溫度20℃相對濕度38%之平衡含水率以下。若偏光板之含水率低於溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率，則偏光板之操作性降低，容易破裂。若偏光板之含水率超過溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率，則偏光元件之透過率容易降低。推測其原因在於：若偏光板之含水率較高，則PVA系樹脂之多烯化變得容易進行。
作為確認偏光板之含水率是否為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之範圍內之方法，係可列舉：於調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍之環境下保管，於一定時間質量無變化之情形時視為與環境達到平衡之方法、或預先計算調整為上述溫度及上述相對濕度之範圍之環境之偏光板之平衡含水率，並藉由將偏光板之含水率與預先計算之平衡含水率進行對比而確認之方法。
作為製造含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之偏光板之方法，並無特別限定，例如 可列舉於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍之環境中將偏光板保管10分鐘以上3小時以下之方法、或於30℃以上90℃以下進行加熱處理之方法。
於採用層間填充構成之圖像顯示裝置之製作時，亦可將於圖像顯示單元積層有偏光板之圖像顯示面板於調整為上述溫度與上述相對濕度之範圍之環境中保管10分鐘以上3小時以下或於30℃以上90℃以下進行加熱後，貼合前面板。
(偏光元件之製造方法)
偏光元件之製造方法並未特別限定，但典型為包含下述步驟之方法：將預先捲繞成輥狀之PVA系樹脂膜送出並進行延伸、染色、交聯等而製作之方法(以下稱為「製造方法1」)；或將含有PVA系樹脂之塗佈液塗佈於基材膜上而形成屬於塗佈層之PVA系樹脂層，並將所得之積層體進行延伸之步驟(以下稱為「製造方法2」)。
製造方法1可經過將PVA系樹脂膜單軸延伸之步驟、將PVA系樹脂膜以碘等二色性色素染色而吸附二色性色素之步驟、將吸附有二色性色素之PVA系樹脂膜以硼酸水溶液處理之步驟、及以硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟而製造。
膨潤步驟係將PVA系樹脂膜浸漬於膨潤浴中之處理步驟。藉由膨潤步驟，除了可去除PVA系樹脂膜表面之污垢或結塊劑等以外，亦可藉由使PVA系樹脂膜膨潤而抑制染色不均。膨潤浴通常使用水、蒸餾水、純水等以水為主成分之介質。膨潤浴亦可依據常法適當添加界面活性劑、醇等。就控制偏光元件之鉀之含有率之觀點而言，膨潤浴亦可使用碘化鉀，於該情形時，膨潤 浴中之碘化鉀之濃度較佳為1.5質量%以下，更佳為1.0質量%以下，再更佳為0.5質量%以下。
膨潤浴之溫度較佳為10℃以上60℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，再更佳為18℃以上30℃以下。浸漬於膨潤浴之時間，由於PVA系樹脂膜之膨潤程度受到膨潤浴之溫度影響，故無法一概決定，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下，再更佳為20秒以上100秒以下。膨潤步驟可僅實施1次，亦可視需要實施複數次。
染色步驟係將PVA系樹脂膜浸漬於染色浴(碘溶液)之處理步驟，可使碘等二色性色素吸附及配向於PVA系樹脂膜。碘溶液通常較佳為碘水溶液，含有碘及作為溶解助劑之碘化物。作為碘化物，可列舉：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。該等之中，就控制偏光元件中之鉀之含有率之觀點而言，較佳為碘化鉀。
染色浴中之碘之濃度較佳為0.01質量%以上1質量%以下，更佳為0.02質量%以上0.5質量%以下。染色浴中之碘化物之濃度較佳為0.01質量%以上10質量%以下，更佳為0.05質量%以上5質量%以下，再更佳為0.1質量%以上3質量%以下。
染色浴之溫度較佳為10℃以上50℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，再更佳為18℃以上30℃以下。浸漬於染色浴之時間，由於PVA系樹脂膜之染色程度受到染色浴之溫度影響，故無法一概決定，但較佳為10秒以上300秒以下，更佳為20秒以上240秒以下。染色步驟可僅實施1次，亦可視需要實施複數次。
交聯步驟係將經染色步驟染色之PVA系樹脂膜浸漬於含有硼化合物之處理浴(交聯浴)中之處理步驟，聚乙烯醇系樹脂膜藉由硼化合物交聯，碘分子或染料分子可吸附於該交聯結構。作為硼化合物，例如可列舉硼酸、硼酸鹽、硼砂等。交聯浴一般為水溶液，但亦可為與水具有混合性之有機溶媒及水之混合溶液。就控制偏光元件中之鉀之含有率之觀點而言，交聯浴較佳為包含碘化鉀。
交聯浴中，硼化合物之濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，更佳為2質量%以上5質量%以下。於交聯浴中使用碘化鉀之情形時，交聯浴中之碘化鉀之濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，更佳為2質量%以上5質量%以下。
交聯浴之溫度較佳為20℃以上且70℃以下，更佳為30℃以上60℃以下。浸漬於交聯浴之時間，由於PVA系樹脂薄膜之交聯程度受到交聯浴之溫度的影響，故無法一概決定，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下。
交聯步驟可僅實施1次，亦可視需要實施複數次。
延伸步驟係將PVA系樹脂膜朝至少一方向延伸至預定倍率之處理步驟。一般而言，將PVA系樹脂膜於運送方向(長度方向)進行單軸延伸。延伸之方法並無特別限制，可採用濕潤延伸法與乾式延伸法之任一者。延伸步驟可僅實施1次，亦可視需要實施複數次。延伸步驟可於偏光元件之製造中之任一階段進行。
濕潤延伸法中之處理浴(延伸浴)通常可使用水或與水具有混合性之有機溶媒及水之混合溶液等溶媒。就控制偏光元件中之鉀之含有率之觀點而言，延伸浴較佳為包含碘化鉀。於延伸浴中使用碘化鉀之情形時，延伸浴中之碘化鉀之濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為2質量%以上10質量%以下，再更佳為3質量%以上6質量%以下。就抑制延伸中的膜斷裂的觀點而言，處理浴(延伸浴)可包含硼化合物。於包含硼化合物之情形時，延伸浴中之硼化合物之濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，再更佳為2質量%以上5質量%以下。
延伸浴之溫度較佳為25℃以上80℃以下，更佳為40℃以上75℃以下，再更佳為50℃以上70℃以下。於延伸浴中之浸漬時間，由於PVA系樹脂膜之延伸程度受到延伸浴之溫度之影響而無法一概決定，但較佳為10秒以上800秒以下，更佳為30秒以上500秒以下。濕潤延伸法中之延伸處理亦可與膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟及洗淨步驟中之任1個以上之處理步驟一併實施。
作為乾式延伸法，例如可列舉：輥間延伸方法、加熱輥延伸方法、壓縮延伸方法等。再者，乾式延伸法亦可與乾燥步驟一併實施。
對聚乙烯醇系樹脂膜實施之總延伸倍率(累積之延伸倍率)可根據目的適當設定，較佳為2倍以上7倍以下，更佳為3倍以上6.8倍以下，再更佳為3.5倍以上6.5倍以下。
洗淨步驟係將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於洗淨浴中之處理步驟，可去除殘留於聚乙烯醇系樹脂膜之表面等之異物。洗淨浴通常使用水、蒸餾水、純水等以水為主成分之介質。又，就控制偏光元件中之鉀之含有率之觀點而 言，較佳為於洗淨浴中使用碘化鉀，於該情形時，洗淨浴中，碘化鉀之濃度較佳為1質量%以上10質量%以下，更佳為1.5質量%以上4質量%以下，再更佳為1.8質量%以上3.8質量%以下。
洗淨浴之溫度較佳為5℃以上50℃以下，更佳為10℃以上40℃以下，再更佳為15℃以上30℃以下。浸漬於洗淨浴之時間，由於PVA系樹脂薄膜之洗淨程度受到洗淨浴溫度之影響而無法一概決定，但較佳為1秒以上100秒以下，更佳為2秒以上50秒以下，再更佳為3秒以上20秒以下。洗淨步驟可僅實施1次，亦可視需要實施複數次。
乾燥步驟係將經洗淨步驟洗淨之PVA系樹脂膜乾燥而獲得偏光元件之步驟。乾燥可藉由任意適當之方法進行，例如可列舉自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥。
製造方法2可經過下述步驟而製造：將含有PVA系樹脂之塗佈液塗佈於基材膜上之步驟；將所獲得之積層膜進行單軸延伸之步驟；藉由利用二色性色素對經單軸延伸之積層膜之PVA系樹脂層進行染色使其吸附而製成偏光元件之步驟；利用硼酸水溶液對吸附有二色性色素之膜進行處理之步驟；及於利用硼酸水溶液之處理後進行水洗之步驟。用以形成偏光元件之基材膜亦可用作偏光元件之保護層。視需要，亦可將基材膜自偏光元件剝離去除。
<透明保護薄膜>
本實施形態中所使用之透明保護膜(以下，亦簡稱為「保護膜」。)係隔著接著劑層而貼合於偏光元件之至少單面。該透明保護膜貼合於偏光元件之單面或兩面，較佳為貼合於兩面。
保護膜可同時具有其他光學功能，亦可形成為積層有複數層之積層構造。就光學特性之觀點而言，保護膜之膜厚較佳為較薄者，但若過薄，則強度降低，加工性較差。作為適當的膜厚，為5μm以上100μm以下，較佳為10μm以上80μm以下，更佳為15μm以上70μm以下。
保護膜可使用：醯化纖維素系膜、包含聚碳酸酯系樹脂的膜、包含降莰烯等環烯烴系樹脂的膜、(甲基)丙烯酸系聚合物膜、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯樹脂系膜等膜。於使用PVA接著劑等水系接著劑將保護膜貼合於偏光元件之兩面之情形時，就透濕度之方面而言，至少單側之保護膜較佳為醯化纖維素系膜或(甲基)丙烯酸系聚合物膜之任一者，其中較佳為醯化纖維素膜。
出於視角補償等目的，至少一個保護膜亦可具備相位差功能。於該情形時，保護膜本身可具有相位差功能，亦可另外具有相位差層，亦可為兩者之組合。具備相位差功能之膜可隔著接著劑直接貼合於偏光元件，亦可為隔著貼合於偏光元件之其他保護膜再隔著黏著劑或接著劑而貼合之構成。
<接著劑層>
作為構成用以於偏光元件貼合保護膜之接著劑層之接著劑，使用含有脲系化合物及二醛之接著劑。接著劑可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等，較佳為水系接著劑，較佳為包含PVA系樹脂。藉由使用含有脲系化合物及二醛之接著劑，可抑制偏光板於高溫環境下之透過率的降低，又，可提高耐水性。又，藉由使用含有脲系化合物及二醛之接著劑，即便將偏光板暴露於高溫環境下，亦可抑制偏光度之降低。於以成為正交偏光之關係之方式配置兩個偏光板而使用之情形時，若偏光板之偏光度降低，則容易產生漏 光(以下，亦稱為「交叉遺漏」)，但根據本發明，即便暴露於高溫環境下，偏光度亦不易降低，因此亦容易抑制交叉遺漏。
作為二醛，例如可列舉：乙二醛、丙烷二醛(丙二醛)、丁烷二醛(丁二醛)等。特別以構造簡潔且富反應性之乙二醛為佳。以下，有時對乙二醛進行說明，作為二醛，如上所述可使用先前公知者，並不限定於乙二醛。
接著劑之塗佈時之厚度可設定為任意值，例如可於硬化後或加熱(乾燥)後，以獲得具有所需厚度之接著劑層之方式設定。由接著劑構成之接著劑層之厚度較佳為0.01μm以上7μm以下，更佳為0.01μm以上5μm以下，再更佳為0.01μm以上2μm以下，最佳為0.01μm以上1μm以下。
關於下述接著劑之說明，係記載關於在偏光元件之製造時偏光元件中不含脲系化合物之情況的較佳範圍。於使偏光元件含有脲系化合物之情形時，只要適當調整下述值即可。關於脲系化合物之具體例，可直接應用上述偏光元件中所含脲系化合物之例。於經過偏光元件與保護膜之接著時之乾燥步驟而形成接著劑層之過程中，脲系化合物之一部分亦可自接著劑層移動至偏光元件等。
於接著劑為含有PVA系樹脂之水系接著劑之情形時，脲系化合物之含量相對於PVA系樹脂100質量份，較佳為0.1質量份以上400質量份以下，更佳為1質量份以上200質量份以下，再更佳為3質量份以上100質量份以下。若未達0.1質量份，則存在高溫環境下之偏光元件之多烯化之抑制效果不充分之情形。另一方面，於超過400質量份之情形時，存在脲析出，產生霧度上升等不良情況之情形。
於接著劑為含有PVA系樹脂之水系接著劑之情形時，二醛之含量相對於PVA系樹脂100質量份，較佳為1質量份以上60質量份以下，更佳為1.5質量份以上50質量份以下，再更佳為2質量份以上45質量份以下。若未達1質量份，則有耐水性之提高效果不充分之情形。另一方面，於超過60質量份之情形時，存在接著劑之調液穩定性降低之情形。
於接著劑中，二醛之含量相對於脲系化合物1質量份，較佳為20質量份以下，更佳為15質量份以下，再更佳為10質量份以下，下限並無特別限定，例如為0.03質量份以上。藉由接著劑中的脲系化合物與二醛的含量比為上述範圍內，容易兼具由脲系化合物帶來的高溫耐久性的提高效果與由二醛帶來的接著性的提高效果。可知藉由利用二醛之接著性之提高效果，可獲得耐水性之提高效果。相對於脲系化合物1質量份，含有二醛超過20質量份時，會有無法充分發揮因脲系化合物所致之高溫耐久性的提升效果之情形。接著劑中之脲系化合物與二醛之含量比、與接著劑層中之脲系化合物與二醛之含量比可視為相同。
於偏光元件之兩面隔著接著劑層而貼合有透明保護膜之構成中，偏光元件兩面之接著劑層中，亦可僅單面之接著劑層為含有脲系化合物及二醛之層，較佳為兩面之接著劑層均為含有脲系化合物及二醛之層。
為了應對偏光板之薄型化之要求，開發有僅於偏光元件之單面具有透明保護膜之偏光板。作為此種僅於偏光元件之單面具有透明保護膜之偏光板之製作方法，可考慮首先製作於兩面隔著接著劑層貼合有透明保護膜之偏光板後，將一面透明保護膜剝離之方法。於使用此種製造方法之情形時，較佳為 未剝離之膜側之接著劑層含有脲系化合物及二醛，亦可為兩面之接著劑層均為含有脲系化合物及二醛之層。
接著劑中較佳為亦含有水溶性螯合化合物。水溶性螯合化合物可用以提高黏著層與透明保護膜(例如偏光元件、纖維素系膜、烯烴系膜等)之間的交聯度，藉此改善接著力及耐水性，且可充當光學耐久性亦無問題之添加劑。
水溶性螯合化合物具有促進乙二醛硬化之效果。螯合化合物之種類可添加氯化鋅、氯化鈷、氯化鎂、乙酸鎂、硝酸鋁、硝酸鋅、硫酸鋅等。尤佳為交聯觸媒之作用優異之氯化鋅及硝酸鋅、硝酸鋁。
接著劑層所含之水溶性螯合化合物之重量比，相對於PVA系樹脂100質量份，較佳為2至10質量份之範圍。以上述基準計，水溶性螯合化合物之質量比未達2重量份時，難以充分表現作為偏光板時之接著劑層之耐水性，質量比超過10質量份時，有時光學特性降低。
(水系接著劑)
作為水系接著劑，可採用任意適當之水系接著劑，較佳為使用包含PVA系樹脂之水系接著劑(PVA系接著劑)。就接著性方面而言，水系接著劑中所含之PVA系樹脂之平均聚合度較佳為100以上5500以下，再更佳為1000以上4500以下。就接著性方面而言，平均皂化度較佳為85莫耳%以上100莫耳%以下，再更佳為90莫耳%以上100莫耳%以下。
於接著劑為含有PVA系樹脂之水系接著劑之情形時，作為PVA系樹脂，較佳為含有乙醯乙醯基者，其原因在於：利用二醛之接著力之提高效果更顯著。例如，推測於使用乙二醛作為二醛之情形時，乙二醛之醛部分與乙 醯乙醯基改性PVA系樹脂之乙醯乙醯基進行加成反應，作為交聯劑發揮功能，藉此提高接著力。含乙醯乙醯基之PVA系樹脂例如可藉由利用任意方法使PVA系樹脂與二乙烯酮反應而獲得。乙醯乙醯基改質PVA系樹脂之乙醯乙醯基改質度較佳為0.1莫耳%以上，更佳為0.1莫耳%以上20莫耳%以下。水系接著劑中之PVA系樹脂之濃度較佳為0.1質量%以上15質量%以下，更佳為0.5質量%以上10質量%以下。
水系接著劑中亦可含有二醛以外之其他交聯劑。作為交聯劑，可使用公知之交聯劑。作為交聯劑，例如可列舉水溶性環氧化合物、異氰酸酯等。
水系接著劑亦可含有有機溶劑。就與水具有混合性方面而言，有機溶劑較佳為醇類，醇類中更佳為甲醇或乙醇。水系接著劑之甲醇之濃度較佳為10質量%以上70質量%以下，更佳為15質量%以上60質量%以下，再更佳為20質量%以上60質量%以下。藉由甲醇之濃度為10質量%以上，更容易抑制高溫環境下之PVA系樹脂之多烯化。又，藉由甲醇之含有率為70質量%以下，可抑制色相之惡化。脲衍生物的一部分對水的溶解度低，但另一方面，對醇的溶解度充分。此時，將脲系化合物溶解於醇，調製脲系化合物之醇溶液後，將尿素系化合物之醇溶液添加於PVA水溶液而調製接著劑者亦為較佳態樣之一。
(活性能量線硬化型接著劑)
活性能量線硬化型接著劑係藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑，例如可列舉：包含聚合性化合物及光聚合性起始劑之接著劑、包含光反應性樹脂之接著劑、包含黏合劑樹脂及光反應性交聯劑之接著劑等。作為聚合性 化合物，可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸乙酯系單體等光聚合性單體、及源自該等單體之低聚物等。作為上述光聚合起始劑，可列舉包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種之物質的化合物。
<含脲系化合物層>
脲系化合物並不限定於如上所述含在接著劑層之情形，就提高偏光板之高溫耐久性之觀點而言，亦可含在接著劑層以外之其他層。於僅於單面具有透明保護膜之偏光板中，就物理強度之提高之觀點而言，亦可於偏光元件之與透明保護膜相反之面積層硬化層。
於本實施形態中，亦可使此種硬化層含有脲系化合物，而製成含有脲系化合物之層。通常，此種硬化層是由包含有機溶劑的硬化性組成物所形成，但日本特開2017-075986號公報的段落【0020】至段落【0042】中記載有由活性能量線硬化性高分子組成物的水性溶液形成此種硬化層的方法。水溶性脲化合物可含在該等組成物中。
含脲系化合物層較佳為具有脲系化合物至少1種與黏合劑。作為黏合劑，可列舉聚合物黏合劑、熱硬化型樹脂黏合劑、活性能量線硬化型樹脂黏合劑等，任一種黏合劑均可較佳地使用。
含脲系化合物層之厚度較佳為0.1μm以上20μm以下，更佳為0.5μm以上15μm以下，再更佳為1μm以上10μm以下。
〔偏光板之製造方法〕
本實施形態之偏光板之製造方法具有含水率調整步驟與積層步驟。於含水率調整步驟中，於製造具有特徵(a)之偏光板之情形時，以偏光元件之含水率成 為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之方式調整偏光元件之含水率。偏光元件之含水率可依據上述偏光元件之含水率之記載進行調整。於含水率調整步驟中，於製造具有特徵(b)之偏光板之情形時，以偏光板之含水率成為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下之方式調整偏光板之含水率。偏光板之含水率可依據上述偏光板之含水率之記載進行調整。於積層步驟中，隔著上述接著劑層將偏光元件與透明保護膜積層。於積層步驟中，例如藉由包含脲系化合物及二醛之接著劑將未進行含有脲系化合物之處理之偏光元件與透明保護膜貼合。含水率調整步驟及積層步驟之順序並無限定，又，含水率調整步驟與積層步驟亦可並行地進行。
〔圖像顯示裝置之構成〕
本實施形態之偏光板係用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種圖像顯示裝置。關於圖像顯示裝置，於偏光板之兩面為以與空氣層以外之層、具體而言黏著劑層等固體層接觸之方式構成之層間填充構成之情形時，於高溫環境下透過率容易降低。於使用本實施形態之偏光板之圖像顯示裝置中，即便為層間填充構成，亦可抑制高溫環境下之偏光板之透過率之降低。作為圖像顯示裝置，可例示具有圖像顯示單元、積層於圖像顯示單元之視認側表面之第1黏著劑層、及積層於第1黏著劑層之視認側表面之偏光板之構成。該圖像顯示裝置亦可進而具有積層於偏光板之視認側表面之第2黏著劑層、及積層於第2黏著劑層之表面之透明構件。尤其是本實施形態之偏光板可較佳地用於具有層間填充構成之圖像顯示裝置，該層間填充構成係於圖像顯示裝置之視認側配置有透明構件，偏光板與圖像顯示單元藉由第1黏著劑層而貼合，偏光板與透明構件 藉由第2黏著劑層而貼合。於本說明書中，有時將第1黏著劑層及第2黏著劑層之任一者或兩者簡稱為「黏著劑層」。再者，作為用於偏光板與圖像顯示單元之貼合之構件、及用於偏光板與透明構件之貼合之構件，並不限定於黏著劑層，亦可為接著劑層。
<圖像顯示單元>
作為圖像顯示單元，可列舉液晶單元或有機EL單元。作為液晶單元，可使用利用外光之反射型液晶單元、利用來自背光等光源之光之透過型液晶單元、利用來自外部之光與來自光源之光兩者之半透過半反射型液晶單元之任一者。於液晶單元利用來自光源之光之情形時，圖像顯示裝置(液晶顯示裝置)於圖像顯示單元(液晶單元)之與視認側相反之側亦配置有偏光板，進而配置有光源。光源側之偏光板與液晶單元較佳為隔著適當之黏著劑層而貼合。作為液晶單元之驅動方式，例如可使用VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式或彎曲配向(π型)等任意類型者。
作為有機EL單元，可較佳地使用在透明基板上依序積層透明電極、有機發光層及金屬電極而形成發光體(有機電致發光發光體)者等。有機發光層係各種有機薄膜之積層體，可採用例如由三苯胺衍生物等構成之電洞注入層與由蒽等螢光性有機固體構成之發光層之積層體、或該等發光層與由苝衍生物等構成之電子注入層之積層體、或電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等各種層構成。
<圖像顯示單元與偏光板之貼合>
於圖像顯示單元與偏光板之貼合中，可較佳地使用黏著劑層(黏著片材)。其中，就作業性等觀點而言，較佳為將於偏光板之一面附設有黏著劑層之附黏 著劑層之偏光板與圖像顯示單元貼合之方法。對偏光板之黏著劑層之附設可藉由適當之方式進行。作為其例，可列舉：調製使基礎聚合物或其組成物溶解或分散於包含甲苯或乙酸乙酯等適當之溶劑之單獨物或混合物之溶劑中而成之10質量%以上40質量%以下之黏著劑溶液，將其以流延方式或塗敷方式等適當之展開方式直接附設於偏光板上之方式；於隔離膜上形成黏著劑層並將其移附至偏光板之方式等。
<黏著劑層>
黏著劑層可由1層或2層以上構成，較佳為由1層構成。黏著劑層可由以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主成分之黏著劑組成物構成。其中，較佳為以透明性、耐候性、耐熱性等優異之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
作為黏著劑組成物中所使用之(甲基)丙烯酸系樹脂(基礎聚合物)，可較佳地使用將(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯之1種或2種以上作為單體之聚合物或共聚物。於基礎聚合物中，較佳為使極性單體共聚合。作為極性單體，可列舉：(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧丙酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物亦可為僅含有上述基礎聚合物者，但通常進而含有交聯劑。作為交聯劑，可例示：為2價以上之金屬離子且與羧基之間形成羧酸 金屬鹽之金屬離子、與羧基之間形成醯胺鍵之多胺化合物、與羧基之間形成酯鍵之聚環氧化合物或多元醇、與羧基之間形成醯胺鍵之聚異氰酸酯化合物。其中，較佳為聚異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有受到如紫外線或電子束之活性能量線之照射而硬化之性質，具有即便於活性能量線照射前亦可具有黏著性而密接於膜等被黏著體之性質，且具有可藉由活性能量線之照射而硬化並調整密接力之性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了基礎聚合物、交聯劑以外，進而含有活性能量線聚合性化合物。視需要亦可含有光聚合起始劑、光敏劑等。
黏著劑組成物可包含用以賦予光散射性之微粒子、珠粒(樹脂珠粒、玻璃珠粒等)、玻璃纖維、基礎聚合物以外之樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉或其他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、防腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
黏著劑層係可藉由將上述黏著劑組成物之有機溶劑稀釋液塗佈於基材膜、圖像顯示單元或偏光板之表面上並使其乾燥而形成。基材膜一般為熱塑性樹脂膜，作為其典型例，可列舉經實施脫模處理之分離膜。分離膜例如可為對包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂的膜的形成有黏著劑層的面實施矽酮處理等脫模處理而成者。
亦可於分離膜之脫模處理面直接塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層，將該附分離膜之黏著劑層積層於偏光體之表面。亦可於偏光板之表面直接塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層，於黏著劑層之外表面積層分離膜。
於將黏著劑層設置於偏光板之表面時，較佳為對偏光板之貼合面及/或黏著劑層之貼合面實施電漿處理、電暈處理等表面活化處理，更佳為實施電暈處理。
又，亦可準備於第2分離膜上塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層，於所形成之黏著劑層上積層分離膜而成之黏著劑片，將自該黏著劑片剝離第2分離膜後之附分離膜之黏著劑層積層於偏光板。第2分離膜係使用與黏著劑層之密著力比分離膜弱且容易剝離者。
黏著劑層之厚度並無特別限定，例如較佳為1μm以上100μm以下，更佳為3μm以上50μm以下，亦可為20μm以上。
<透明構件>
作為配置於圖像顯示裝置之視認側之透明構件，可列舉透明板(窗口層)或觸控面板等。作為透明板，可使用具有適當之機械強度及厚度之透明板。作為此種透明板，例如可列舉如聚醯亞胺系樹脂、丙烯酸系樹脂或聚碳酸酯系樹脂之透明樹脂板、或玻璃板等。亦可於透明板之視認側積層抗反射層等功能層。又，於透明板為透明樹脂板之情形時，亦可積層有用以提高物理強度之硬塗層、或用以降低透濕度之低透濕層。作為觸控面板，可使用電阻膜方式、靜電容方式、光學方式、超音波方式等各種觸控面板、或具備觸控感測器功能之玻璃板或透明樹脂板等。於使用靜電容方式之觸控面板作為透明構件之情形時，較佳為於觸控面板之視認側設置包含玻璃或透明樹脂板之透明板。
<偏光板與透明構件之貼合>
於偏光板與透明構件之貼合中，較佳係使用黏著劑或活性能量線硬化型接著劑。於使用黏著劑之情形時，黏著劑之附設可以適當之方式進行。作為具體 之附設方法，例如可列舉於上述圖像顯示單元與偏光板之貼合中使用之黏著劑層之附設方法。
於使用活性能量線硬化型接著劑之情形時，為了防止硬化前之接著劑溶液之擴散，較佳係使用如下方法：以包圍圖像顯示面板上之周緣部之方式設置障壁材，於障壁材上載置透明構件，注入接著劑溶液。接著劑溶液之注入後，視需要進行對位及脫泡後，照射活性能量線進行硬化。
〔實施例〕
以下，根據實施例具體說明本發明。以下實施例所示之材料、試劑、物質量與其比率、操作等只要不脫離本發明之主旨，則可適當變更。因此，本發明不受限於以下實施例。
<偏光元件A之製作>
將由平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上的PVA所構成之厚度40μm的PVA薄膜，以乾式單軸延伸至約5倍，進一步保持繃緊狀態，浸漬於60℃的純水1分鐘後，於28℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.05/5/100的水溶液60秒。其後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為8.5/8.5/100之水溶液中於72℃下浸漬300秒鐘。繼而，利用26℃之純水洗淨20秒後，於65℃下乾燥，獲得碘吸附配向於PVA之厚度15μm之偏光元件A。偏光元件之厚度之測定係使用Nikon股份有限公司製造之數位測微計"MH-15M"。
<黏著劑1至8之調製>
(接著劑用PVA溶液A之調製)
將含有乙醯乙醯基之改質PVA系樹脂(三菱化學股份有限公司製「GOHSENEX Z-410」)50g溶解於950g之純水，於90℃加熱2小時後冷卻至常溫，得到接著劑用PVA溶液(以下稱為「PVA溶液A」)。
(脲系化合物溶液1之調製)
於純水90g中添加脲10g，得到脲10質量%水溶液(脲系化合物溶液1)。
(黏著劑1至8之調製)
以PVA成為3.0質量%、脲系化合物及乙二醛成為表1所示之含量之方式，調配PVA溶液A、脲系化合物溶液1、市售之乙二醛40質量%溶液、及純水，而調製成接著劑1至8。
Figure 110136725-A0202-12-0030-1
<透明保護薄膜A之準備>
將市售的醯化纖維素膜TD40(富士軟片股份有限公司製造，膜厚40μm)於保持為55℃的1.5mol/L的NaOH水溶液(皂化液)中浸漬2分鐘後，對膜進行水洗。其後，於25℃之0.05mol/L之硫酸水溶液中浸漬30秒後，進而使水洗浴於流水下通過30秒，使膜成為中性之狀態。繼而，反覆進行3次利用氣刀之瀝水 而去除水後，使其於70℃之乾燥區滯留15秒而進行乾燥，製作經皂化處理之膜，製成透明保護膜A。
<偏光板1至8之製作>
隔著接著劑1，使用輥貼合機將透明保護膜A貼合於偏光元件A之兩面。貼合後，以80℃乾燥5分鐘，得到偏光板1。接著劑層係以乾燥後之厚度兩面均成為100nm之方式進行調整。
於偏光板1中，將接著劑1變更為接著劑2至8，獲得偏光板2至8。
(偏光板(偏光元件)之含水率之調整)
將上述所得之偏光板1至8於溫度20℃、相對濕度30%、35%、40%、45%、50%或55%之條件下保管72小時。使用卡耳費雪(Karl Fischer)方法在保管66小時、69小時及72小時下量測含水率。於任一濕度條件下，於保管66小時、69小時、72小時，含水率之值均未變化。因此，偏光板1至8之含水率可視為與本實驗例中所使用之72小時之保管環境之平衡含水率相同。偏光板之含水率於某保管環境下達到平衡時，偏光板中之偏光元件之含水率亦同樣地可視為於其保管環境下達到平衡。又，偏光板中之偏光元件之含水率於某保管環境下達到平衡時，偏光板之含水率亦同樣地可視為於其保管環境下達到平衡。
<光學積層體1至10>
光學積層體1至10係使用表2所示之偏光板1至8之任一偏光板，以所使用之偏光板(偏光元件)之含水率成為表2所示之環境之平衡含水率之方式於溫度20℃下以相對濕度35%、45%或55%之條件保管72小時而製作。
<高溫耐久性評估>
(評估用樣品之製作)
關於光學積層體1至10，於其兩面形成丙烯酸系黏著劑(LINTEC股份有限公司製造，型號：#7)，進而以吸收軸與長邊平行之方式裁成50mm×100mm之大小。藉由於各黏著劑表面貼合無鹼玻璃(Corning公司製造之「EAGLE XG」)而製作評估樣品。
為了評估上述評估樣品之交叉，以與評估樣品重疊而製作正交偏光狀態為目的，製作光學積層體R。具體而言，相對於上述偏光板8僅於單面形成丙烯酸系黏著劑(LINTEC股份有限公司製造，型號：#7)，進而以吸收軸與短邊平行之方式裁成50mm×100mm之大小。藉由於黏著劑表面貼合無鹼玻璃(Corning公司製造之「EAGLE XG」)而製作用於交叉遺漏評估之光學積層體R。
<單體透過率評估(105℃)>
於溫度50℃、壓力5kgf/cm2(490.3kPa)下對光學積層體1至10之評估樣品實施1小時高壓釜處理後，於溫度23℃、相對濕度55%之環境下放置24小時。其後，對光學積層體1至10之評估樣品測定透過率(初始值)，保管於溫度105℃之加熱環境下，每隔50小時測定透過率直至100至200小時。基於透過率降低相對於初始值達到5%以上之時間，藉由以下之基準進行評估。將所獲得之結果示於表2。
200小時後透過率之降低為5%以下者：A
150至200小時透過率之降低達到5%以上者：B
100至150小時穿透率之降低達到5%以上者：C
100小時後之時點的透過率之降低為5%以上者：D
<高溫耐久試驗後之交叉遺漏之評估>
準備於上述單體透過率之評估中進行經過200小時之時之單體透過率測定後之評估樣品。將未投入至加熱環境下之正交偏光評估用之光學積層體R與評估樣品以成為正交偏光之關係之方式配置，並載置於背光上。將周圍遮光，目視交叉遺漏，以下述基準進行4階段評估。將所獲得之結果示於表2。再者，單體透過率評估為A以外之評估樣品由於存在因多烯化所致之著色，故排除交叉遺漏之評估。
完全看不到交叉者：A
幾乎看不到交叉者：B
稍微看到交叉者：C
清晰地看到交叉者：D
<耐水性評估(溫水浸漬試驗)>
本實施例之耐水性試驗係依據日本特開2009-025728號公報【0060】中所記載之耐水性試驗而進行。
於上述所製作之偏光板之單面形成丙烯酸系黏著劑(LINTEC股份有限公司製造，型號：#7)，進而將偏光板之吸收軸(延伸方向)作為長邊裁成短條狀為50mm×20mm之大小，準確地測定長邊方向之尺寸。此處，評估樣品因吸附於偏光元件之碘而遍及整個面均勻地呈現特有之顏色。
利用握持具握持該樣品之一短邊側，將長度方向之8成左右浸漬於60℃之水槽中，保持4小時。其後，將樣品自水槽中取出，擦去水分。藉由浸漬於溫水中，偏光板之偏光元件收縮。藉由測定樣品短邊之中央之自樣品之端(保護膜 之端)至收縮之偏光元件之端為止之距離，以上基準以3階段評估該偏光元件之收縮程度。
自樣品之端至偏光元件之端之距離為1mm以下者：A
樣品之端至偏光元件之端之距離超過1mm且為3mm以下者：B
自樣品之端至偏光元件之端之距離大於3mm者：C
Figure 110136725-A0202-12-0034-2
可知接著劑中含有脲之偏光板(光學積層體8)與接著劑中不含脲之偏光板(光學積層體9、10)相比，即便暴露於105℃之高溫環境下透過率亦不易降低，高溫耐久性優異。可知藉由使用含有脲及乙二醛之接著劑，可提高耐水性，進而，即便暴露於高溫環境下亦不易產生交叉遺漏(光學積層體2、8之比較)。

Claims (13)

  1. 一種偏光板，其係具有使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂層之偏光元件、及積層於前述偏光元件之至少一面之透明保護薄膜者，
    前述偏光元件與前述透明保護膜係藉由由含有脲系化合物及二醛之接著劑形成之接著劑層而貼合，
    前述脲化合物為選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種，
    前述偏光元件之含水率為溫度20℃相對濕度30%之平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%之平衡含水率以下。
  2. 一種偏光板，其係具有使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂層之偏光元件、及積層於前述偏光元件之至少一面之透明保護薄膜者，
    前述偏光元件與前述透明保護膜係藉由由含有脲系化合物及二醛之接著劑形成之接著劑層而貼合，
    前述脲化合物為選自由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中之至少1種，
    前述偏光板的含水率為溫度20℃相對濕度30%的平衡含水率以上且溫度20℃相對濕度50%的平衡含水率以下。
  3. 如請求項1或2所述之偏光板，其中，前述接著劑係包含選自由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中之至少一種脲系化合物。
  4. 如請求項1所述之偏光板，其中，前述接著劑係包含聚乙烯醇系樹脂。
  5. 如請求項4所述之偏光板，其中，在前述接著劑中，相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份，前述脲系化合物的含量為0.1質量份以上400質量份以下。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之偏光板，其中，在前述接著劑中，相對於前述脲系化合物1質量份，前述二醛的含量為0.03質量份以上20質量份以下。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之偏光板，其中，前述二醛為乙二醛。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之偏光板，其中，前述接著劑層之厚度為0.01μm以上7μm以下。
  9. 如請求項1至8中任一項所述之偏光板，其係用於圖像顯示裝置，
    於前述圖像顯示裝置中，於前述偏光板之兩面連接設置有固體層。
  10. 一種圖像顯示裝置，其具有：圖像顯示單元；第1黏著劑層，其積層於前述圖像顯示單元之視認側表面；及如請求項1至9中任一項所述之偏光板，其積層於前述第1黏著劑層之視認側表面。
  11. 如請求項10所述之圖像顯示裝置，其進一步具有：第2黏著劑層，其積層於前述偏光板之視認側表面；及透明構件，其積層於前述第2黏著劑層之視認側表面。
  12. 如請求項11所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
  13. 如請求項11所述之圖像顯示裝置，其中，前述透明構件為觸控面板。
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