TW202222559A - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種抑制高溫環境下的穿透率降低之偏光板。本發明之偏光板係依序具有於聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層，前述黏著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物，前述偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於偏光板及圖像顯示裝置。
液晶顯示裝置(LCD)不僅用於液晶電視，也廣泛用於電腦、行動電話等可攜裝置、汽車導航等車輛用途。通常液晶顯示裝置係具有於液晶單元兩側以黏著劑(pressure-sensitive adhesive)貼合偏光板之液晶面板，並以液晶面板控制來自背光的光，藉此進行顯示。近年來，與液晶顯示裝置同樣地，有機EL顯示裝置也廣泛用於電視、行動電話等可攜裝置、汽車導航等車輛用途。有機EL顯示裝置中，為了抑制外光於金屬電極(陰極)反射而視認成鏡面，會有在圖像顯示面板之視認側表面配置圓偏光板(具有偏光元件及λ/4板之積層體)的情形。
如上述，偏光板作為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置之構件用於車用的機會增加。相較於電視或行動電話等可攜裝置用途，車用圖像顯示裝置所使用之偏光板常暴露於高溫環境下，故要求高溫特性變化小(高溫耐久性)者。
另一方面，為了防止圖像顯示面板因自外表面的衝擊而造成的破損等，在圖像顯示面板的視認側設置透明樹脂板或玻璃板等前面板(亦稱為「窗 層」)之構成也正在增加。具備觸控面板之圖像顯示裝置廣泛採用下述構成：在圖像顯示面板的視認側設置觸控面板，在觸控面板的視認側具備前面板。
在該構成中，若於圖像顯示面板與前面板或觸控面板等透明構件之間存在空氣層，則會因空氣層界面的光的反射而產生外光的反射，而有畫面視認性降低之傾向。因此多採用以下構成：將配置於圖像顯示面板之視認側表面之偏光板與透明構件之間的空間以空氣層以外的層，一般是以固體層(以下稱為「層間充填劑」)充填(以下稱為「層間充填構成」)。層間充填劑較佳為折射率與偏光板或透明構件接近之材料。層間充填劑可抑制界面的反射所造成的視認性降低，並可以接著固定各構件間為目的而使用黏著劑或UV硬化型接著劑(例如參照專利文獻1)。
層間充填構成廣泛用於常於戶外使用之行動電話等可攜裝置用途。又，近年來因視認性的要求提高，在汽車導航裝置等車輛用途中也檢討採用層間充填構成，該層間充填構成係於圖像顯示面板表面配置前面透明板，並將面板與前面透明板之間以黏著劑層等充填。
然而，在採用該構成時已指出高溫環境下偏光板之穿透率會顯著降低。專利文獻2中，作為該問題的解決方法已提出以下方法：使偏光板每單位面積之水分量成為特定量以下，且使與偏光元件鄰接之透明保護膜之飽和吸水量成為特定量以下，藉此抑制穿透率的降低。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開平11-174417號公報。
專利文獻2：日本特開2014-102353號公報。
然而，即使為如此偏光板，在高溫環境下的穿透率降低之抑制效果仍不充分。本發明之目的在於提供可抑制在高溫環境下的穿透率降低之新穎偏光板、及使用該偏光板之圖像顯示裝置。
本發明提供以下例示之偏光板及圖像顯示裝置。
[1]一種偏光板，係依序具有於聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層，
前述黏著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物，
前述偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
[2]一種偏光板，係依序具有於聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層，
前述黏著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物，
前述偏光板之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板，其中前述透明保護層在溫度40℃、相對濕度90%中的透濕度為100g/(m2．day)以上。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其中前述黏著劑層係含有由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之偏光板，其中前述黏著劑層係含有(甲基)丙烯酸系樹脂，
前述黏著劑層中，前述脲系化合物的含量相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份為0.01質量份以上100質量份以下。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之偏光板，其中接著劑層係設置成與前述偏光元件之至少一面相接，該接著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
[7]如[6]所述之偏光板，其中前述接著劑層係更含有聚乙烯醇系樹脂。
[8]如[7]所述之偏光板，其中在前述接著劑層中，前述脲系化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份為1質量份以上400質量份以下。
[9]如[6]至[8]中任一項所述之偏光板，其中前述接著劑層係含有由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
[10]如[1]至[9]中任一項所述之偏光板，其係用於具有層間充填構成之圖像顯示裝置。
[11]一種圖像顯示裝置，係具有圖像顯示單元、積層於前述圖像顯示單元之視認側之如請求項[1]至[10]中任一項所述之偏光板、及積層於前述偏光板之視認側表面之透明構件。
[12]如[11]所述之圖像顯示裝置，其中前述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
[13]如[11]所述之圖像顯示裝置，其中前述透明構件為觸控面板。
根據本發明可提供一種偏光板，係提高高溫耐久性，用於層間充填構成之圖像顯示裝置時也可抑制高溫所造成的穿透率降低。又，可提供一種圖像顯示裝置，係在使用本發明之偏光板時，可抑制高溫環境下的穿透率降低。
以下說明本發明之實施型態，但本發明並不限定於以下實施型態。
[偏光板]
本實施型態之偏光板係依序具有於含有聚乙烯醇系樹脂的層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層。黏著劑層係含有脲系化合物。本實施型態之偏光板具有下述(a)及(b)之至少一特徵。
(a)偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
(b)偏光板之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
高溫耐久性優異之以往偏光板已知有例如偏光板單獨在溫度95℃環境下放置1000小時也可抑制穿透率降低之偏光板。但是即使是如此偏光板，在用於層間充填構成時，若在溫度95℃環境下放置200小時，會在偏光板面內中央部觀察到穿透率顯著降低。層間充填構成係偏光板一面與圖像顯示單元貼合且另一面與觸控面板或前面板等透明構件貼合，在採用該層間充填構成之圖 像顯示裝置暴露於高溫環境時，特別容易產生高溫環境下的偏光板之穿透率顯著降低的問題。
在因層間充填構成而使穿透率顯著降低之偏光板中，在拉曼分光測定於1100cm-1附近(源自於=C-C=鍵)及1500cm-1附近(源自於-C=C-鍵)具有波峰，故認為形成有多烯構造(-C=C)n-。多烯構造認為是構成偏光元件之聚乙烯醇因脫水而多烯化所產生(專利文獻2，段落[0012])。
本發明之偏光板可進一步提高高溫耐久性。本發明之偏光板係組裝於層間充填構成之圖像顯示裝置，例如即使暴露在溫度105℃之高溫環境下，也可抑制穿透率降低。
<偏光元件>
於含有聚乙烯醇(以下稱為「PVA」)系樹脂的層(以下亦稱為「PVA系樹脂層」)吸附配向有二色性色素之偏光元件可使用公知偏光元件。偏光元件可舉出：將PVA系樹脂膜以二色性色素染色，並進行單軸延伸而得之延伸膜；或於基材膜上塗布含有PVA系樹脂之塗布液而形成塗布層，使用具有該塗布層的積層膜，將塗布層以二色性色素染色，並將積層膜單軸延伸而得之延伸層。延伸可在以二色性色素染色後進行，也可一邊染色一邊延伸，也可在延伸後染色。
PVA系樹脂係藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可舉出乙酸乙烯酯及可與其共聚之其他單體的共聚物。可共聚之其他單體可舉例如不飽和羧酸類、乙烯等烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類等。
PVA系樹脂之皂化度較佳約為85莫耳%以上，更佳約為90莫耳%以上，又更佳約為99莫耳%以上100莫耳%以下。PVA系樹脂之聚合度例如 為1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。PVA系樹脂可經改質，例如可為以醛類改質之聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛、聚乙烯縮丁醛等。
偏光元件之厚度較佳為3μm以上35μm以下，更佳為4μm以上30μm以下，又更佳為5μm以上25μm以下。藉由使偏光元件之厚度成為35μm以下，可抑制高溫環境下PVA系樹脂之多烯化對光學特性降低造成的影響。藉由使偏光元件之厚度成為3μm以上，而容易形成可達成所求光學特性之構成。
本實施型態中，黏著劑層係含有脲系化合物。又，本實施型態之偏光板較佳為將含有脲系化合物之接著劑層設置成與偏光元件之至少一面相接。偏光元件可含有由黏著劑層及接著劑層之至少一者轉移的脲系化合物的一部分。偏光元件可以在積層前就含有脲系化合物之方式而製造。
本實施型態中具備含有脲系化合物之黏著劑層，藉此即使將偏光板暴露於高溫環境下，穿透率也不容易降低。本實施型態中具備含有脲系化合物之偏光元件，藉此即使將偏光板暴露於高溫環境下，穿透率也不容易進一步降低。該理由仍不明確，但推測是藉由黏著劑層或偏光元件中含有之脲系化合物而抑制偏光元件中PVA系樹脂之多烯化，並抑制穿透率降低。
於偏光元件含有脲系化合物之方法可舉出：使PVA系樹脂膜或PVA系樹脂層浸漬於含有脲系化合物之處理溶液之方法；或將含有脲系化合物之處理溶液噴霧、流下或滴入於PVA系樹脂膜或PVA系樹脂層之方法。其中較佳為使用將PVA系樹脂系樹脂膜或PVA系樹脂層浸漬於含有脲系化合物之處理溶液之方法。脲系化合物之具體例可舉例如後述黏著劑層所含有者。
在將PVA系樹脂膜或PVA系樹脂層浸漬於含有脲系化合物之處理溶液之步驟中，可同時進行後述偏光元件之製造方法中的膨潤、延伸、染色、交聯、洗淨等步驟，也可與該等步驟分開設置。使PVA系樹脂膜或PVA系樹脂層含有脲系化合物之步驟較佳為在以碘染色後進行，更佳為與染色後之交聯步驟同時進行。藉由如此方法可減少色相變化，並減少偏光元件對光學特性的影響。
為了使偏光元件含有脲系化合物，故可在製造偏光元件時添加並添加於黏著劑層，也可進一步添加於接著劑層。
(特徵(a))
具有特徵(a)時，偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。偏光元件之含水率較佳為溫度20℃、相對濕度45%之平衡含水率以下，更佳為溫度20℃、相對濕度42%之平衡含水率以下，又更佳為溫度20℃、相對濕度38%之平衡含水率以下。偏光元件之含水率若低於溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率，則偏光元件之處理性會降低且容易破裂。偏光元件之含水率若高出溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率，則偏光元件之穿透率容易降低。推測若偏光元件之含水率較高，則PVA系樹脂之多烯化較容易進行。偏光元件之含水率為偏光板中的偏光元件之含水率。
偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之範圍內的確認方法可舉出：在調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管，在固定時間內質量無變化時，視為與環境平衡之方法；或預先計算調整至上述溫度及上述相對濕度之範 圍的環境中偏光元件之平衡含水率，並比較偏光元件之含水率與預先計算之平衡含水率，藉此而確認之方法。
含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之偏光元件之製造方法並無特別限定，可舉例如將偏光元件在調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管10分鐘以上3小時以下之方法、或以30℃以上90℃以下加熱處理之方法。
製造上述含水率之偏光元件之其他較佳方法可舉出將於偏光元件之至少單面積層有保護膜之積層體、或使用偏光元件構成之偏光板於調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管10分鐘以上120小時以下之方法、或以30℃以上90℃以下加熱處理之方法。製作採用層間充填構成之圖像顯示裝置時，可將偏光板積層於圖像顯示單元而形成之圖像顯示面板，於調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管10分鐘以上3小時以下或以30℃以上90℃以下加熱後，貼合前面板。
偏光元件之含水率較佳為以偏光元件單獨或偏光元件與保護膜的積層體在材料階段含水率成為上述數值範圍之方式調整，材料階段為用於構成偏光板的階段。在構成偏光板後調整含水率時，捲曲會變得過大，貼合於圖像顯示單元時容易產生不良。以在構成偏光板前之材料階段成為上述含水率之方式調整偏光元件，使用該偏光元件構成偏光板，藉此可容易地構成具備滿足含水率為上述數值範圍之偏光元件之偏光板。也可在偏光板貼合於圖像顯示單元之狀態下，以偏光板中的偏光元件之含水率成為上述數值範圍之方式調整。此時，偏光板係貼合於圖像顯示單元，故不易產生捲曲。
(特徵(b))
具有特徵(b)時，偏光板之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。偏光板之含水率較佳為溫度20℃、相對濕度45%之平衡含水率以下，更佳為溫度20℃、相對濕度42%之平衡含水率以下，又更佳為溫度20℃、相對濕度38%之平衡含水率以下。偏光板之含水率若低於溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率，則偏光板之處理性會降低，且容易破裂。偏光板之含水率若高出溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率，則偏光元件之穿透率容易降低。推測若偏光板之含水率較高，則PVA系樹脂之多烯化較容易進行。
偏光板之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之範圍內的確認方法可舉出以下方法：在調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管，在固定時間內質量無變化時，視為與環境平衡；或預先計算調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境中的偏光板之平衡含水率，並比較偏光板之含水率與預先計算之平衡含水率，藉此而確認。
含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之偏光板之製造方法並無特別限定，可舉例如將偏光板在調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管10分鐘以上3小時以下之方法、或以30℃以上90℃以下加熱處理之方法。
採用層間充填構成製作圖像顯示裝置時，可將偏光板積層於圖像顯示單元而形成之圖像顯示面板，於調整至上述溫度及上述相對濕度之範圍的環境保管10分鐘以上3小時以下或以30℃以上90℃以下加熱後，貼合前面板。
(偏光元件之製造方法)
偏光元件之製造方法並無特別限定，較典型為以下方法：將預先捲繞為輥狀之PVA系樹脂膜送出並進行延伸、染色、交聯等而製作之方法(以下稱為「製造方法1」)；或將含有PVA系樹脂之塗布液塗布於基材膜上而形成塗布層之PVA系樹脂層，並包括延伸所得積層體之步驟之方法(以下稱為「製造方法2」)。
製造方法1可經過下述步驟而製造：單軸延伸PVA系樹脂膜之步驟、將PVA系樹脂膜以碘等二色性色素染色並吸附二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之PVA系樹脂膜之步驟、及在硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。
膨潤步驟為將PVA系樹脂膜浸漬於膨潤浴中之處理步驟。藉由膨潤步驟可去除PVA系樹脂膜表面之髒污或防結塊劑等，且可使PVA系樹脂膜膨潤，藉此可抑制染色不均。膨潤浴中通常使用水、蒸餾水、純水等以水為主成分之介質。膨潤浴可根據常法適當地添加界面活性劑、醇等。以控制偏光元件之鉀含有率之觀點來看，膨潤浴可使用碘化鉀，此時，膨潤浴中之碘化鉀濃度較佳為1.5質量%以下，更佳為1.0質量%以下，又更佳為0.5質量%以下。
膨潤浴之溫度較佳為10℃以上60℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，又更佳為18℃以上30℃以下。PVA系樹脂膜之膨潤程度會受到膨潤浴溫度影響，故膨潤浴之浸漬時間無法一概而論，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下，又更佳為20秒以上100秒以下。膨潤步驟可僅實施1次，也可視需要實施複數次。
染色步驟為將PVA系樹脂膜浸漬於染色浴(碘溶液)之處理步驟，可於PVA系樹脂膜吸附及配向碘等二色性色素。碘溶液通常較佳為碘水溶液，係含有碘及作為溶解助劑之碘化物。碘化物可舉出碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘 化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。以控制偏光元件中之鉀含有率之觀點來看，該等中較佳為碘化鉀。
染色浴中之碘濃度較佳為0.01質量%以上1質量%以下，更佳為0.02質量%以上0.5質量%以下。染色浴中之碘化物濃度較佳為0.01質量%以上10質量%以下，更佳為0.05質量%以上5質量%以下，又更佳為0.1質量%以上3質量%以下。
染色浴之溫度較佳為10℃以上50℃以下，更佳為15℃以上45℃以下，又更佳為18℃以上30℃以下。PVA系樹脂膜之染色程度會受到染色浴溫度之影響，故在染色浴之浸漬時間無法一概而論，但較佳為10秒以上300秒以下，更佳為20秒以上240秒以下。染色步驟可僅實施1次，也可視需要實施複數次。
交聯步驟係將在染色步驟染色之PVA系樹脂膜浸漬於含有硼化合物之處理浴(交聯浴)中之處理步驟，藉由硼化合物使聚乙烯醇系樹脂膜交聯，可使碘分子或染料分子吸附於該交聯構造。硼化合物可舉例如硼酸、硼酸鹽、硼砂等。交聯浴一般為水溶液，但也可為與水具有混合性之有機溶媒與水的混合溶液。以控制偏光元件中之鉀含有率之觀點來看，交聯浴較佳為含有碘化鉀。
交聯浴中，硼化合物之濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。交聯浴使用碘化鉀時，在交聯浴中之碘化鉀濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。
交聯浴之溫度較佳為20℃以上70℃以下，更佳為30℃以上60℃以下。PVA系樹脂膜之交聯程度會受到交聯浴溫度的影響，故在交聯浴之浸漬 時間無法一概而論，但較佳為5秒以上300秒以下，更佳為10秒以上200秒以下。交聯步驟可僅實施1次，也可視需要實施複數次。
延伸步驟係將PVA系樹脂膜於至少一方向延伸特定倍率之處理步驟。一般而言係將PVA系樹脂膜於運送方向(長方向)單軸延伸。延伸方法並無特別限制，可採用濕潤延伸法或乾式延伸法。延伸步驟可僅實施1次，也可視需要實施複數次。延伸步驟可在製造偏光元件之任一階段進行。
濕潤延伸法中的處理浴(延伸浴)通常可使用水、或與水具有混合性之有機溶媒與水的混合溶液等溶媒。以控制偏光元件中之鉀含有率之觀點來看，延伸浴較佳為含有碘化鉀。延伸浴使用碘化鉀時，延伸浴中之碘化鉀濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為2質量%以上10質量%以下，又更佳為3質量%以上6質量%以下。以抑制延伸中的膜破裂之觀點來看，處理浴(延伸浴)可含有硼化合物。含有硼化合物時，延伸浴中之硼化合物濃度較佳為1質量%以上15質量%以下，更佳為1.5質量%以上10質量%以下，又更佳為2質量%以上5質量%以下。
延伸浴之溫度較佳為25℃以上80℃以下，更佳為40℃以上75℃以下，又更佳為50℃以上70℃以下。PVA系樹脂膜之延伸程度會受到延伸浴溫度之影響，故延伸浴之浸漬時間無法一概而論，但較佳為10秒以上800秒以下，更佳為30秒以上500秒以下。濕潤延伸法中的延伸處理可與膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟及洗淨步驟之任意1個以上處理步驟一起實施。
乾式延伸法可舉例如輥間延伸方法、加熱輥延伸方法、壓縮延伸方法等。又，乾式延伸法可與乾燥步驟一起實施。
對聚乙烯醇系樹脂膜實施之總延伸倍率(累積延伸倍率)可因應目的而適當地設定，但較佳為2倍以上7倍以下，更佳為3倍以上6.8倍以下，又更佳為3.5倍以上6.5倍以下。
洗淨步驟係將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於洗淨浴中之處理步驟，可去除殘留於聚乙烯醇系樹脂膜表面等之異物。洗淨浴通常使用水、蒸餾水、純水等以水為主成分之介質。又，以控制偏光元件中之鉀含有率之觀點來看，洗淨浴較佳為使用碘化鉀，此時，洗淨浴中碘化鉀濃度較佳為1質量%以上10質量%以下，更佳為1.5質量%以上4質量%以下，又更佳為1.8質量%以上3.8質量%以下。
洗淨浴之溫度較佳為5℃以上50℃以下，更佳為10℃以上40℃以下，又更佳為15℃以上30℃以下。PVA系樹脂膜之洗淨程度會受到洗淨浴溫度之影響，故洗淨浴之浸漬時間無法一概而論，但較佳為1秒以上100秒以下，更佳為2秒以上50秒以下，又更佳為3秒以上20秒以下。洗淨步驟可僅實施1次，也可視需要實施複數次。
乾燥步驟為將在洗淨步驟洗淨之PVA系樹脂膜乾燥而得偏光元件之步驟。乾燥可以任意適當方法進行，可舉例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥。
製造方法2可經過下述步驟而製造：將含有PVA系樹脂之塗布液塗布於基材膜上之步驟、單軸延伸所得積層膜之步驟、將經單軸延伸之積層膜之PVA系樹脂層以二色性色素染色藉此吸附並形成偏光元件之步驟、以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素的膜之步驟、及在經硼酸水溶液處理後進行水洗之步 驟。用以形成偏光元件之基材膜係可使用作為偏光元件之保護層。視需要可由偏光元件剝離去除基材膜。
<透明保護層>
本實施型態中使用之透明保護層(以下亦簡稱為「保護膜」)係透明保護膜或透明樹脂硬化層(例如日本特開2011-221185號公報)所構成。透明保護膜係隔著接著劑層貼合於偏光元件之至少單面。該透明保護膜雖貼合於偏光元件之單面或兩面，但較佳為貼合於兩面。用以將透明保護膜貼合於偏光元件表面之接著劑層之至少一者較佳為含有脲系化合物的層。
保護層可同時具有其他光學性功能，也可形成積層有複數層之積層構造。保護層為保護膜時，以光學特性之觀點來看，膜厚係以薄者為佳，但若膜厚過薄則強度會降低使加工性變差。適當膜厚為5μm以上100μm以下，較佳為10μm以上80μm以下，更佳為15μm以上70μm以下。
保護膜可使用醯化纖維素系膜、聚碳酸酯系樹脂所構成的膜、降莰烯等環烯烴系樹脂所構成的膜、(甲基)丙烯酸系聚合物膜、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯樹脂系膜等膜。
至少一保護膜可以視角補償等目的而具備相位差功能。此時，保護層本身可具有相位差功能，也可另外具有相位差層，也可為兩者之組合。具備相位差功能的膜可隔著接著劑直接貼合於偏光元件，但也可為隔著貼合於偏光元件之其他保護層再隔著黏著劑層或接著劑層而貼合之構成。
保護膜為透明樹脂硬化層所構成時，可不隔著接著劑層而直接形成於偏光元件。又，透明樹脂硬化層可含有脲系化合物。含有脲系化合物之透明樹脂硬化層可由含有有機溶劑之硬化性樹脂組成物形成，例如使用如日本特開 2017-075986號公報之段落[0020]至[0042]所記載之活性能量線硬化性高分子組成物之水性溶液，在形成如此硬化層之方法中，使水溶性脲系化合物含在上述水性溶液，藉此可形成。透明樹脂硬化層較佳為含有黏合劑。黏合劑可舉出聚合物黏合劑、熱硬化型樹脂黏合劑、活性能量線硬化型樹脂黏合劑等，任一黏合劑皆可較佳地使用。
透明樹脂硬化層之厚度較佳為0.1μm以上20μm以下，更佳為0.5μm以上15μm以下，又更佳為1μm以上10μm以下。
本發明之偏光板中，積層有含有脲系化合物之黏著劑層之透明保護層在溫度40℃、相對濕度90%之透濕度較佳為100g/(m2．day)以上，更佳為300g/(m2．day)以上，又更佳為500g/(m2．day)以上。上限值並無特別限定，溫度40℃、相對濕度90%之透濕度可為1500g/(m2．day)以下。於如此透明保護層形成含有脲系化合物之黏著劑層，藉此使偏光板即使暴露於高溫環境下穿透率也不易降低。推測其原因為藉由如此透明保護層使黏著劑層中之脲系化合物容易轉移至偏光元件，而容易抑制偏光元件之多烯化。以容易獲得透濕度在上述範圍者之觀點來看，透明保護層適合使用醯化纖維素系膜。
<黏著劑層>
偏光板較佳為作為黏著劑層而具備積層於透明保護層之偏光元件層側之相反側之含有脲系化合物之黏著劑層。偏光板可進一步具備其他黏著劑層。各黏著劑層可為1層或2層以上所構成，但較佳為1層所構成。黏著劑層可由以(甲基)丙烯酸系樹脂、橡膠系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚乙烯醚系樹脂為主成分之黏著劑組成物而構成。其中較佳為以透明性、耐候性、 耐熱性等優異之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物。黏著劑組成物可為活性能量線硬化型或熱硬化型。
黏著劑組成物所使用之(甲基)丙烯酸系樹脂(基礎聚合物)適合使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯之1種或2種以上為單體之聚合物或共聚物。基礎聚合物較佳為共聚有極性單體。極性單體可舉出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羥基乙酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺基乙酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧丙酯化合物等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等之單體。
黏著劑組成物可僅含有上述基礎聚合物，但通常進一步含有交聯劑。交聯劑可舉例如為2價以上金屬離子且與羧基間形成羧酸金屬鹽之金屬離子、與羧基間形成醯胺鍵之多胺化合物、與羧基間形成酯鍵之聚環氧化合物或多元醇、與羧基間形成醯胺鍵之多異氰酸酯化合物。其中較佳為多異氰酸酯化合物。
活性能量線硬化型黏著劑組成物具有照射如紫外線或電子束之活性能量線而硬化之性質，且具有在活性能量線照射前具有黏著性並可密著於膜等被黏體，藉由照射活性能量線而硬化並可調整密著力之性質。活性能量線硬化型黏著劑組成物較佳為紫外線硬化型。活性能量線硬化型黏著劑組成物除了基礎聚合物、交聯劑以外可進一步含有活性能量線聚合性化合物。視需要可含有光聚合起始劑、光敏劑等。
黏著劑組成物可含有賦予光散射性之微粒子、珠粒(樹脂珠、玻璃珠等)、玻璃纖維、基礎聚合物以外之樹脂、黏著性賦予劑、填充劑(金屬粉或其 他無機粉末等)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、顏料、著色劑、消泡劑、抗腐蝕劑、光聚合起始劑等添加劑。
可將上述黏著劑組成物之有機溶劑稀釋液塗布於基材膜、圖像顯示單元或偏光板表面上並乾燥，藉此形成黏著劑層。基材膜一般為熱塑性樹脂膜，其典型例可舉出實施有脫模處理之分離膜。分離膜例如可為在形成有由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂所構成的膜之黏著劑層的面實施聚矽氧處理等脫模處理者。
於透明保護層積層含有脲系化合物之黏著劑層之方法係可於分離膜之脫模處理面直接塗布黏著劑組成物並形成黏著劑層，並將該附分離膜之黏著劑層積層於透明保護層表面，也可於透明保護層表面直接塗布黏著劑組成物並形成黏著劑層，並在黏著劑層外表面積層分離膜。具體而言可舉出以下方法：於甲苯或乙酸乙酯等適當溶劑之單獨物或混合物所構成之溶劑溶解或分散基礎聚合物或其組成物，調製10質量%以上40質量%以下之黏著劑溶液，將其以澆鑄方式或塗布方式等適當展開方式直接設置於透明保護層上之方式；及於分離膜上形成黏著劑層，並將其轉移至透明保護層表面之方式等。
於透明保護層表面設置黏著劑層時，較佳為於透明保護層之貼合面及/或黏著劑層之貼合面實施電漿處理、電暈處理等表面活化處理，更佳為實施電暈處理。
又，也可在第二分離膜上塗布黏著劑組成物並形成黏著劑層，於所形成之黏著劑層上積層有分離膜而形成黏著劑薄片，由該黏著劑薄片剝離第二分離膜後，將附分離膜之黏著劑層貼合於透明保護層。第二分離膜係使用與黏著劑層的密著力比分離膜弱且容易剝離者。
黏著劑層之厚度並無特別限定，例如較佳為1μm以上100μm以下，更佳為3μm以上50μm以下，也可為20μm以上。
(脲系化合物)
含有脲系化合物之黏著劑層所含的脲系化合物為由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種。於偏光元件、接著劑層等其他層添加脲系化合物時所使用之脲系化合物亦同。脲系化合物可單獨使用1種或組合2種以上使用。脲系化合物中有水溶性者及水難溶性者，但兩者皆可使用。將水難溶性脲系化合物用於水溶性接著劑時，在形成接著劑層後，為了不產生霧度上升等而較佳為要考慮分散方法。
含有脲系化合物之黏著劑層中，黏著劑層為(甲基)丙烯酸系樹脂所構成時，脲系化合物之添加量相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份較佳為0.01質量份以上100質量份以下，更佳為0.05質量份以上50質量份以下，又更佳為0.1質量份以上10質量份以下。藉由使脲系化合物的含量為0.01質量份以上，而容易獲得偏光元件之多烯化抑制效果。另一方面，藉由使脲系化合物的含量為100質量份以下，可使脲系化合物不易析出，並容易防止霧度上升等不良情形。
(脲衍生物)
脲衍生物為脲分子之4個氫原子之至少1個取代為取代基之化合物。此時取代基並無特別限制，較佳為由碳原子、氫原子及氧原子所成的取代基。
脲衍生物之具體例中，單取代脲可舉出甲基脲、乙基脲、丙基脲、丁基脲、異丁基脲、N-十八烷基脲、2-羥基乙基脲、羥基脲、乙醯基脲、烯丙基 脲、2-丙炔基脲、環己基脲、苯基脲、3-羥基苯基脲、(4-甲氧基苯基)脲、苄基脲、苯甲醯基脲、鄰甲苯基脲、對甲苯基脲。
二取代脲可舉出1,1-二甲基脲、1,3-二甲基脲、1,1-二乙基脲、1,3-二乙基脲、1,3-雙(羥基甲基)脲、1,3-第三丁基脲、1,3-二環己基脲、1,3-二苯基脲、1,3-雙(4-甲氧基苯基)脲、1-乙醯基-3-甲基脲、2-咪唑啶酮(伸乙基脲)、四氫-2-嘧啶酮(伸丙基脲)。
四取代脲可舉出四甲基脲、1,1,3,3-四乙基脲、1,1,3,3-四丁基脲、1,3-二甲氧基-1,3-二甲基脲、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、1,3-二甲基-3,4,5,6-四氫-2(1H)-嘧啶酮。
(硫脲衍生物)
硫脲衍生物為硫脲分子之4個氫原子之至少1個取代為取代基之化合物。此時取代基並無特別限制，較佳為由碳原子、氫原子及氧原子所成的取代基。
硫脲衍生物之具體例中，單取代硫脲可舉出N-甲基硫脲、乙基硫脲、丙基硫脲、異丙基硫脲、1-丁基硫脲、環己基硫脲、N-乙醯基硫脲、N-烯丙基硫脲、(2-甲氧基乙基)硫脲、N-苯基硫脲、(4-甲氧基苯基)硫脲、N-(2-甲氧基苯基)硫脲、N-(1-萘基)硫脲、(2-吡啶基)硫脲、鄰甲苯基硫脲、對甲苯基硫脲。
二取代硫脲可舉出1,1-二甲基硫脲、1,3-二甲基硫脲、1,1-二乙基硫脲、1,3-二乙基硫脲、1,3-二丁基硫脲、1,3-二異丙基硫脲、1,3-二環己基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N’-二苯基硫脲、1,3-二(鄰甲苯基)硫脲、1,3-二(對甲苯基)硫脲、1-苄基-3-苯基硫脲、1-甲基-3-苯基硫脲、N-烯丙基-N’-(2-羥基乙基)硫脲、伸乙基硫脲。
三取代硫脲可舉出三甲基硫脲，四取代硫脲可舉出四甲基硫脲、1,1,3,3-四乙基硫脲。
脲系化合物中，在用於層間充填構成之圖像顯示裝置時，以抑制高溫環境下的穿透率降低且偏光度降低較少(抑制交叉損耗)此點來看，較佳為脲衍生物或硫脲衍生物，更佳為脲衍生物。脲衍生物中，較佳為脲分子之4個氫原子之至少1個以苄基、苯基或環己基取代之衍生物，更佳為苄基脲、環己基脲、苯基脲之任一者。
<接著劑層>
偏光板可具備用以貼合二個層之接著劑層。例如可於偏光元件具備用以貼合其他層且設置成與偏光元件相接之接著劑層，具體而言，偏光元件可具備用以貼合透明保護層且與偏光元件相接之接著劑層。構成如此接著劑層之接著劑較佳為使用含有脲系化合物之接著劑。接著劑可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等，較佳為水系接著劑，較佳為含有PVA系樹脂。
塗布接著劑時之厚度可設定為任意值，例如可以硬化後或加熱(乾燥)後可得具有所求厚度之接著劑層之方式設定。由接著劑所構成之接著劑層厚度較佳為0.01μm以上7μm以下，更佳為0.01μm以上5μm以下，又更佳為0.01μm以上2μm以下，最佳為0.01μm以上1μm以下。
接著劑層可含有脲系化合物。具備含有脲系化合物之接著劑層，且與偏光元件相接之接著劑層含有脲系化合物，藉此，即使偏光板暴露於高溫環境下穿透率也不易降低。推測其原因為藉由如此接著劑層使接著劑層中之脲系化合物容易轉移至偏光元件，而容易抑制偏光元件之多烯化。接著劑層所含脲系化合物之具體例可直接應用上述黏著劑層所含的脲系化合物之例。
接著劑為含有PVA系樹脂之水系接著劑時，脲系化合物的含量相對於PVA系樹脂100質量份較佳為1質量份以上400質量份以下，更佳為2質量份以上200質量份以下，又更佳為3質量份以上100質量份以下。藉由為1質量份以上，可充分獲得高溫環境下的偏光元件之多烯化抑制效果。另一方面，若超過400質量份時脲系化合物會析出，會產生霧度上升等不良情形。
在偏光元件兩面隔著接著劑層貼合透明保護膜之構成中，較佳為偏光元件兩面之接著劑層中至少單面之接著劑層為含有脲系化合物之接著劑層，更佳為兩面之接著劑層皆為含有脲系化合物的層。
因應偏光板之薄型化需求而開發僅於偏光元件單面具有透明保護層之偏光板。在該構成中可隔著接著劑層積層透明保護膜。作為如此僅於偏光元件單面具有透明保護膜之偏光板之製作方法係考慮以下方法：首先於兩面隔著接著劑層貼合透明保護膜而製作偏光板後，剝離一邊的透明保護膜者。
(水系接著劑)
水系接著劑可採用任意適當的水系接著劑，但較佳為使用含有PVA系樹脂之水系接著劑(PVA系接著劑)。以接著性之觀點來看，水系接著劑所含PVA系樹脂之平均聚合度較佳為100以上5500以下，更佳為1000以上4500以下。以接著性之觀點來看，平均皂化度較佳為85莫耳%以上100莫耳%以下，更佳為90莫耳%以上100莫耳%以下。
水系接著劑所含的PVA系樹脂較佳為含有乙醯乙醯基(acetoacetyl)者，其理由為PVA系樹脂層與保護膜的密著性優異且耐久性優異。例如可將PVA系樹脂與雙乙酮烯以任意方法反應，藉此而得含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂。含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂之乙醯乙醯基改質度較具代表性為 0.1莫耳%以上，較佳為0.1莫耳%以上20莫耳%以下。水系接著劑之樹脂濃度較佳為0.1質量%以上15質量%以下，更佳為0.5質量%以上10質量%以下。
水系接著劑可含有交聯劑。交聯劑可使用公知交聯劑。交聯劑可舉例如水溶性環氧化合物、二醛、異氰酸酯等。
PVA系樹脂為含有乙醯乙醯基之PVA系樹脂時，交聯劑較佳為乙二醛、乙醛酸鹽、羥甲基三聚氰胺中的任一者，更佳為乙二醛、乙醛酸鹽之任一者，特佳為乙二醛。
水系接著劑可含有有機溶劑。以具有與水的混合性此點來看，有機溶劑較佳為醇類，醇類中較佳為甲醇或乙醇。水系接著劑之甲醇濃度較佳為10質量%以上70質量%以下，更佳為15質量%以上60質量%以下，又更佳為20質量%以上60質量%以下。藉由使甲醇濃度為10質量%以上，而更容易抑制高溫環境下的PVA系樹脂之多烯化。又，藉由使甲醇含有率為70質量%以下，而可抑制色相惡化。一部分的脲衍生物對水的溶解度較低，但相反地對醇的溶解度較高。此時，作為一較佳態樣，可將脲系化合物溶解於醇並調製脲系化合物之醇溶液後，將脲系化合物之醇溶液添加於PVA水溶液，而調製接著劑。
(活性能量線硬化型接著劑)
活性能量線硬化型接著劑可舉出藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑，例如含有聚合性化合物及光聚合性起始劑之接著劑、含有光反應性樹脂之接著劑、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑之接著劑等。聚合性化合物可舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸乙酯系單體等光聚合性單體、及源自於該等單體之寡聚物等。上述光聚合起始劑可舉出含有照射紫 外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質之化合物。
活性能量線硬化型接著劑可舉出含有作為聚合性化合物的具有(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯醯胺基等自由基聚合性基之化合物(例如單體及/或寡聚物)之接著劑。活性能量線硬化型接著劑及其硬化方法之具體例係例如記載於日本特開2012-144690號公報。
[偏光板之製造方法]
本實施型態之偏光板之製造方法係具有含水率調整步驟及積層步驟。含水率調整步驟中，製造具有特徵(a)之偏光板時，以使偏光元件之含水率成為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之方式，而調整偏光元件之含水率。偏光元件之含水率可根據上述偏光元件之含水率之記載而調整。含水率調整步驟中，製造具有特徵(b)之偏光板時，以使偏光板之含水率成為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之方式，而調整偏光板之含水率。偏光板之含水率可根據上述偏光板之含水率之記載而調整。積層步驟中，偏光元件及透明保護層例如隔著接著劑層而積層，並於透明保護層之與偏光元件相反側之表面積層含有脲系化合物之黏著劑層。含水率調整步驟及積層步驟之順序並無限定，此外，含水率調整步驟及積層步驟可一併進行。
[圖像顯示裝置之構成]
本實施型態之偏光板係用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種圖像顯示裝置。層間充填構成係以偏光板兩面與空氣層以外之層相接，具體而言為以偏光板兩面與黏著劑層等固體層相接之方式構成，圖像顯示裝置為該層間充填 構成時，在高溫環境下穿透率容易降低。使用本實施型態之偏光板之圖像顯示裝置中，即使是層間充填構成也可抑制高溫環境下的偏光板之穿透率的降低。圖像顯示裝置可舉例如具有圖像顯示單元、積層於圖像顯示單元之視認側表面之第1黏著劑層、及積層於第1黏著劑層之視認側表面之偏光板的構成。該圖像顯示裝置可進一步具有積層於偏光板之視認側表面之第2黏著劑層、及積層於第2黏著劑層表面之透明構件。尤其，本實施型態之偏光板係適合使用於具有以下層間充填構成之圖像顯示裝置，該層間充填構成係於圖像顯示裝置之視認側配置透明構件，將偏光板及圖像顯示單元以第1黏著劑層貼合，並將偏光板及透明構件以第2黏著劑層貼合。第1黏著劑層及第2黏著劑層之至少一者較佳為含有脲系化合物之上述黏著劑層。
<圖像顯示單元>
圖像顯示單元可舉出液晶單元或有機EL單元。液晶單元可使用利用外光之反射型液晶單元、利用來自背光等光源的光之穿透型液晶單元、及利用來自外部的光及來自光源的光兩者之半穿透半反射型液晶單元的任一者。液晶單元為利用來自光源的光者時，在圖像顯示裝置(液晶顯示裝置)中，係於圖像顯示單元(液晶單元)之視認側之相反側亦配置偏光板，並進一步配置光源。光源側之偏光板及液晶單元較佳為隔著適當的黏著劑層而貼合。液晶單元的驅動方式例如可使用VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式、或彎曲配向(π型)等任意型態者。
有機EL單元適合使用於透明基板上依序積層透明電極、有機發光層、及金屬電極並形成發光體(有機電致發光發光體)者等。有機發光層為各種有機薄膜之積層體，例如可採用三苯基胺衍生物等所構成的電洞注入層、蒽等螢光性有機固體所構成的發光層的積層體、或該等發光層與苝衍生物等所構成的 電子注入層之積層體、或是電洞注入層及發光層及電子注入層之積層體等各種層構成。
<圖像顯示單元與偏光板之貼合>
圖像顯示單元與偏光板的貼合適合使用黏著劑層(黏著薄片)。其中以操作性等觀點來看，較佳為將本發明之偏光板隔著其黏著劑層而與圖像顯示單元貼合之方法。
<透明構件>
配置於圖像顯示裝置之視認側之透明構件可舉出透明板(窗層)或觸控面板等。透明板可使用具有適當的機械強度及厚度之透明板。如此透明板可舉例如如聚醯亞胺系樹脂、丙烯酸系樹脂或聚碳酸酯系樹脂之透明樹脂板、或玻璃板等。也可在透明板之視認側積層抗反射層等功能層。又，透明板為透明樹脂板時，也可積層用以提高物理強度之硬塗層或用以降低透濕度之低透濕層。觸控面板可使用電阻膜式、電容式、光學式、超音波式等各種觸控面板、或具備觸控感應器功能之玻璃板或透明樹脂板等。透明構件使用電容式觸控面板時，較佳為在觸控面板之視認側設置玻璃或透明樹脂板所構成之透明板。
<偏光板與透明構件的貼合>
偏光板與透明構件的貼合係適合使用黏著劑層或活性能量線硬化型接著劑層。使用黏著劑層時，可為上述偏光板所具備之黏著劑層，也可為新設置之黏著劑層。黏著劑層之設置可以適當方式進行。具體之設置方法可舉例如前述圖像顯示單元與偏光板之貼合所使用之黏著劑層之設置方法。
使用活性能量線硬化型接著劑層時，以防止硬化前之接著劑溶液擴散為目的而適合使用以下方法：以包圍圖像顯示面板上的邊緣部之方式設置 堰材，在堰材上載置透明構件，並注入接著劑溶液。接著劑溶液注入後，視需要進行對準及脫泡，之後照射活性能量線並硬化。
(實施例)
以下藉由實施例具體說明本發明。以下實施例所示材料、試劑、物質量及其比率、操作等可在不超出本發明主旨之範圍內適當地變更。因此，本發明並不限定於以下實施例。
<偏光元件1之製作>
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上之PVA所構成之厚度40μm之PVA膜以乾式單軸延伸約5倍，進一步在保持拉緊狀態下於60℃純水浸漬1分鐘後，於碘/碘化鉀/水之質量比為0.05/5/100之水溶液於28℃浸漬60秒。其後於碘化鉀/硼酸/水之質量比為8.5/8.5/100之水溶液於72℃浸漬300秒。接著以26℃純水洗淨20秒後，以65℃乾燥，而得於PVA吸附配向有碘之厚度15μm之偏光元件1。偏光元件之厚度測定係使用Nikon股份有限公司製的數位測微計「MH-15M」。
<接著劑1、2之調製>
(接著劑用PVA溶液之調製)
將含有乙醯乙醯基之改質PVA系樹脂(三菱化學股份有限公司製「GOSENEX Z-410」)50g溶解於950g之純水，以90℃加熱2小時後冷卻至常溫，而得接著劑用PVA溶液。
(接著劑1之調製)
將接著劑用PVA溶液、脲、純水、甲醇以PVA濃度3.0質量%、甲醇濃度20質量%、脲濃度1質量%(相對於PVA100質量份為33質量份)之方式摻配，而得偏光板用接著劑1。
(接著劑2之調製)
將接著劑用PVA溶液、純水、甲醇以PVA濃度3.0質量%、甲醇濃度20質量%之方式摻配，而得偏光板用接著劑2。
<透明保護膜(透明保護層)之準備>
將市售醯化纖維素膜TD40(FUJIFILM股份有限公司製，膜厚40μm)於保持於55℃之1.5mol/L之NaOH水溶液(皂化液)浸漬2分鐘後，將膜水洗。其後於25℃之0.05mol/L之硫酸水溶液浸漬30秒後，進一步於流水下通過水洗浴30秒，使膜成為中性狀態。接著重複以氣刀瀝水3次而脫水後，於70℃之乾燥區域滯留15秒乾燥，而製作經皂化處理之膜，獲得偏光板用透明保護膜。該透明保護膜之溫度40℃、相對濕度90%之透濕度為850g/(m2．day)。透濕度係藉由JIS Z 0208所規定之杯法於溫度40℃、相對濕度90%測定。
<偏光板1、2(設置黏著劑層前之製作)>
(偏光板1之製作)
將上述透明保護膜隔著偏光板用接著劑1使用輥貼合機貼合於偏光元件1兩面。貼合後以60℃乾燥10分鐘，而得設置黏著劑層前之偏光板1。藉由接著劑1所形成之接著劑層1係以乾燥後厚度兩面皆為50nm之方式調整。
(偏光板2之製作)
將接著劑1變更為接著劑2，除此之外以與設置黏著劑層前之偏光板1之製作方法相同方式而得設置黏著劑層前之偏光板2。藉由接著劑2所形成之接著劑層2亦以乾燥後厚度兩面皆為50nm之方式調整。
<黏著劑層1、2之製作>
(黏著劑層1之製作)
相對於丙烯酸系聚合物之溶液之固形分100質量份((甲基)丙烯酸系樹脂100重量份)摻配異氰酸酯交聯劑0.1質量份、矽烷耦合劑0.2質量份、苯基脲0.34質量份，而調製丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。於以聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(分隔片膜)單面將上述所得丙烯酸系黏著劑組成物之溶液以乾燥後之黏著層厚度成為25μm之方式塗布，以90℃乾燥3分鐘，而於分隔片膜表面形成黏著劑層1。
(黏著劑層2之製作)
相對於丙烯酸系聚合物之溶液之固形分100質量份((甲基)丙烯酸系樹脂100重量份)摻配異氰酸酯交聯劑0.1質量份、矽烷耦合劑0.2質量份，而調製丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。於以聚矽氧系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(分隔片膜)單面將上述所得丙烯酸系黏著劑組成物之溶液以乾燥後之黏著層厚度成為25μm之方式塗布，以90℃乾燥3分鐘，而於分隔片膜表面形成黏著劑層2。
<光學積層體1至7(設置黏著劑層後之偏光板)之製作>
(光學積層體1之製作)
將黏著劑層1轉印於偏光板1之一面，而製作光學積層體1。
(光學積層體2至7之製作)
如表1所示，使用偏光板1或偏光板2、黏著劑層1或黏著劑層2，並以與光學積層體1相同方式而製作光學積層體2至7。
<光學積層體(偏光元件)之含水率的調整>
將上述所得光學積層體1至7於溫度20℃且相對濕度30%、35%、40%、45%、50%或55%之條件保管72小時。在保管66小時、69小時及72小時使用卡耳費雪法測定含水率。在任意濕度條件中，保管66小時、69小時、72小時之含水率值並無變化。因此，光學積層體1至7之含水率可視為與本實驗例所使用72小時保管環境之平衡含水率相同。光學積層體(偏光板)之含水率與一保管環境達成平衡時，光學積層體(偏光板)中之偏光元件之含水率亦同樣地可視為與該保管環境達成平衡。又，光學積層體(偏光板)中之偏光元件之含水率與一保管環境達成平衡時，光學積層體(偏光板)之含水率亦同樣地可視為與該保管環境達成平衡。
以光學積層體1至7之含水率成為表1所示環境之平衡含水率之方式在溫度20℃且相對濕度35%、45%、50%或55%之條件保管72小時而製作。
<高溫耐久性評價>
(評價用樣品之製作)
使用光學積層體1至7，於形成有黏著劑層之面之相反側面形成丙烯酸系黏著劑層(LINTEC股份有限公司製，產品編號：#7)，進一步以吸收軸與長邊平行之方式裁切為50mm×100mm之大小。於兩面黏著劑表面貼合無鹼玻璃(康寧公司製「EAGLE XG」)，藉此製作評價樣品。
(單體穿透率評價(105℃))
對光學積層體1至7之評價樣品以溫度50℃、壓力5kgf/cm2(490.3kPa)實施1小時高壓釜處理後，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下放置24小時。其後測定光學積層體1至7之評價樣品之穿透率(初期值)，並在溫度105℃之加熱環境下保管，於200至500小時中以每50小時測定穿透率。根據相對於初期值之穿透率降低達到5%以上之時間而用以下基準評價。所得結果示於表1。
400小時後之穿透率降低為5%以下者：A
300至400小時中穿透率降低達到5%以上者：B
200至300小時中穿透率降低達到5%以上者：C
200小時後之時間點之穿透率降低為5%以上者：D
[表1]
Figure 110137762-A0202-12-0031-1
偏光板(光學積層體1至4)係具有含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下之偏光元件及透明保護膜，且進一步具有含有脲系化合物之黏著劑層，可知該偏光板(光學積層體1至4)即使暴露於105℃之高溫環境下其穿透率也不易降低。

Claims (13)

  1. 一種偏光板，係依序具有於聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層，
    前述黏著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物，
    前述偏光元件之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
  2. 一種偏光板，係依序具有於聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素之偏光元件、透明保護層、及黏著劑層，
    前述黏著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物，
    前述偏光板之含水率為溫度20℃、相對濕度30%之平衡含水率以上且為溫度20℃、相對濕度50%之平衡含水率以下。
  3. 如請求項1或2所述之偏光板，其中前述透明保護層在溫度40℃、相對濕度90%中的透濕度為100g/(m2．day)以上。
  4. 如請求項1至3中任一項所述之偏光板，其中前述黏著劑層係含有由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
  5. 如請求項1至4中任一項所述之偏光板，其中前述黏著劑層係含有(甲基)丙烯酸系樹脂，
    前述黏著劑層中，前述脲系化合物的含量相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂100質量份為0.01質量份以上100質量份以下。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之偏光板，其中接著劑層係設置成與前述偏光元件之至少一面相接，前述接著劑層係含有由脲、脲衍生物、硫脲及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
  7. 如請求項6所述之偏光板，其中前述接著劑層係更含有聚乙烯醇系樹脂。
  8. 如請求項7所述之偏光板，其中在前述接著劑層中，前述脲系化合物的含量相對於前述聚乙烯醇系樹脂100質量份為1質量份以上400質量份以下。
  9. 如請求項6至8中任一項所述之偏光板，其中前述接著劑層係含有由脲衍生物及硫脲衍生物所組成之群組中選擇之至少1種脲系化合物。
  10. 如請求項1至9中任一項所述之偏光板，其係用於具有層間充填構成之圖像顯示裝置。
  11. 一種圖像顯示裝置，係具有圖像顯示單元、積層於前述圖像顯示單元之視認側之如請求項1至10中任一項所述之偏光板、及積層於前述偏光板之視認側表面之透明構件。
  12. 如請求項11所述之圖像顯示裝置，其中前述透明構件為玻璃板或透明樹脂板。
  13. 如請求項11所述之圖像顯示裝置，其中前述透明構件為觸控面板。
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