TW202215099A - 眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種眩光對比度之修正方法，係具備有：取得作為比較基準之第1眩光對比度和代表第1測定條件之資訊之工程，該第1眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從防眩層而來之射出光成像的第1攝像透鏡以及使射出光成像之第1二維影像感測器，來藉由第1測定條件而測定出來；和取得作為比較對象之第2眩光對比度和代表第2測定條件之資訊之工程，該第2眩光對比度，係為起因於防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從防眩層而來之射出光成像的第2攝像透鏡以及使射出光成像之第2二維影像感測器，來藉由與第1測定條件相異之第2測定條件而測定出來；和為了進行與第1眩光對比度之比較，而基於第1測定條件與第2測定條件之間之比例，來對於第2眩光對比度作修正之工程。

Description

眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法
本發明，係有關於眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法。
JP2009-175041A，係揭示有針對具備有防眩薄膜之電子顯示器顯示畫像的由眩光所致之亮度參差定量性地進行測定評價之技術。在JP2009-175041A中所記載之眩光測定方法，係構成為針對相機所攝像的眩光畫像而使用2維傅立葉轉換來藉由畫像處理而將除了眩光以外的由來於電子顯示器之一定週期成分去除。又，在JP2009-175041A中所記載之眩光測定方法，係構成為將針對「將一定週期成分作了去除後的眩光畫像之亮度參差之標準差」而以平均值來作了除算後之值，作為眩光對比度來進行評價。
然而，在JP2009-175041A中所記載之眩光測定裝置，係並未針對攝像條件所對於眩光對比度造成之影響有所考察。又，在JP2009-175041A中所記載之眩光測定裝置，係並未針對「對於以相異之測定條件所測定的複數之眩光對比度而彼此作適當的比較」一事而提出有任何之有效的提案。
本發明，係為有鑑於以上之問題點而進行者。亦即是，本發明之目的，係在於提供一種能夠對於測定條件為相異之複數之眩光對比度而適當地進行比較之眩光對比度之修正方法、比較方法及比較裝置、電子顯示器之製造方法及防眩層之製造方法。
由本發明所致之眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第1眩光對比度和代表第1測定條件之資訊之工程，該第1眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第1攝像透鏡以及使前述射出光成像之第1二維影像感測器，來藉由前述第1測定條件而測定出來；和 取得作為比較對象之第2眩光對比度和代表第2測定條件之資訊之工程，該第2眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第2攝像透鏡以及使前述射出光成像之第2二維影像感測器，來藉由與前述第1測定條件相異之前述第2測定條件而測定出來；和 為了進行與前述第1眩光對比度之比較，而基於前述第1測定條件與前述第2測定條件之間之比例，來對於前述第2眩光對比度作修正之工程。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(1)來進行，
Figure 02_image001
其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， d1係為作為前述第1測定條件之從前述防眩層起而至前述第1攝像透鏡之距離， d2係為作為前述第2測定條件之從前述防眩層起而至前述第2攝像透鏡之距離， f1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之實效焦距， f2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之實效焦距， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
Figure 02_image003
其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
Figure 02_image005
其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(4)來進行，
Figure 02_image007
其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， m1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之倍率， m2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之倍率， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
Figure 02_image009
其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
Figure 02_image011
其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(5)來進行，
Figure 02_image013
其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1’係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之物體側實效F值， F2’係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之物體側實效F值， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
Figure 02_image015
其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
Figure 02_image017
其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
由本發明所致之眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第1眩光對比度和代表第1測定條件之資訊之工程，該第1眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第1攝像透鏡以及使前述射出光成像之第1二維影像感測器，來藉由前述第1測定條件而測定出來；和 取得作為比較對象之第2眩光對比度和代表第2測定條件之資訊之工程，該第2眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第2攝像透鏡以及使前述射出光成像之第2二維影像感測器，來藉由與前述第1測定條件相異之前述第2測定條件而測定出來；和 為了進行與前述第1眩光對比度之比較，而對於前述第2眩光對比度作修正之工程， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係具備有： 當在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間而以下之數式(6)成立的情況時，以會在自身與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之間而使基於畫像所算出的MTF(調制轉換函數，modulation transfer function)相互一致的方式，來對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程；和 從藉由前述修正演算所得到的畫像來取得修正後之第2眩光對比度之工程，
Figure 02_image019
其中， S1係為作為前述第1測定條件之對於朝向前述第1二維影像感測器上的前述射出光之繞射極限點(Diffraction limit spot)之成像有所影響的前述防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(7)， S2係為作為前述第2測定條件之對於朝向前述第2二維影像感測器上的前述射出光之繞射極限點之成像有所影響的前述防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(8)，
Figure 02_image021
其中， R1係為前述第1二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之倍率， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， d1係為作為前述第1測定條件之從前述防眩層起而至前述第1攝像透鏡之距離， f1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之實效焦距， F1’係為作為前述第1測定條件之前述第2攝像透鏡之物體側實效F值，
Figure 02_image023
其中， R2係為前述第2二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之倍率， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， d2係為作為前述第2測定條件之從前述防眩層起而至前述第2攝像透鏡之距離， f2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之實效焦距， F2’係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之物體側實效F值。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 進行前述修正演算之工程，係具備有針對對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之解析度作調整的強化濾鏡(enhance filter)之係數作調整之工程。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 進行前述修正演算之工程，係更進而具備有： 產生在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之邊緣輪廓(edge profile)之工程；和 藉由對於前述所產生的邊緣輪廓進行微分來算出線展開函數(line spread function)之工程；和 藉由對於前述所算出的線展開函數進行傅立葉轉換，來算出MTF之工程；和 將前述所算出的MTF與基於在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像而得到之MTF作比較之工程。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係具備有：對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程；和從藉由前述修正演算所得到的畫像而取得修正後之第2眩光對比度之工程；和使藉由前述修正演算所得到的畫像之輻射亮度平均值與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之輻射亮度平均值相互一致之工程。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係在對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程和使藉由前述修正演算所得到的畫像之輻射亮度平均值與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之輻射亮度平均值相互一致之工程之間，具備有從藉由前述修正演算所得到的畫像而將起因於前述電子顯示器之像素所產生的畫像成分去除之工程。
由本發明所致之眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第3眩光對比度和代表虛擬之測定條件之資訊之工程，該第3眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並藉由使用有使從前述防眩層而來之射出光成像的虛擬之攝像透鏡以及使前述射出光成像之虛擬之二維影像感測器的前述虛擬之測定條件而虛擬性地作了測定；和 取得作為比較對象之第4眩光對比度和代表實際之測定條件之資訊之工程，該第4眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並藉由使用有使從前述防眩層而來之射出光成像的實際之攝像透鏡以及使前述射出光成像之實際之第2二維影像感測器的實際之測定條件來作了實際測定；和 為了進行與前述第3眩光對比度之比較，而對於前述第4眩光對比度作修正之工程， 對於前述第4眩光對比度作修正之工程，係具備有： 當在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間而以下之數式(9)為成立的情況時，依循以下之數式(10)來對於前述第4眩光對比度進行修正之工程，
Figure 02_image025
其中， S3係為作為前述虛擬之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(11)， S4係為作為前述實際之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(12)， S P4a係為修正後之第4眩光對比度， S P4係為修正前之第4眩光對比度，
Figure 02_image027
其中， R3係為前述二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之倍率， F3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之像側實效F值， d3係為作為前述虛擬之測定條件之從防眩層起而至攝像透鏡之距離， f3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之實效焦距， F3’係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之物體側實效F值，
Figure 02_image029
其中， R4係為前述二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之倍率， F4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之像側實效F值， d4係為作為前述實際之測定條件之從防眩層起而至攝像透鏡之距離， f4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之實效焦距， F4’係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之物體側實效F值。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 對於前述第4眩光對比度作修正之工程，係更進而具備有依循以下之數式(13)來對於前述第4眩光對比度進行修正之工程，
Figure 02_image031
其中， SP4a’係為由數式(13)所致之修正後之第4眩光對比度， M3係為藉由以下之數式(14)所示之值， M4係為藉由以下之數式(15)所示之值，
Figure 02_image033
其中， Ac3係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F3×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am3係為在將作為前述虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p3的情況時，藉由p3 2而被表現之參數。 erf係為標準誤差函數，
Figure 02_image035
其中， Ac4係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F4×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am4係為在將作為前述虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p4的情況時，藉由p4 2而被表現之參數。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係：前述電子顯示器、前述防眩層以及具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之各者的構造上之條件係為相同，包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係：前述電子顯示器以及前述防眩層之各者的構造上之條件係為相同，具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之構造上之條件和包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
在由本發明所致之眩光對比度之修正方法中，係亦可構成為： 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係：前述電子顯示器以及具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之構造上之各者的構造上之條件係為相同，前述防眩層之構造上之條件和包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
由本發明所致之眩光對比度之比較方法，係具備有： 將藉由前述眩光對比度之修正方法而作了修正後的作為比較對象之眩光對比度，與作為比較基準之眩光對比度進行比較之工程。
在由本發明所致之眩光對比度之比較方法中，係亦可構成為： 係更進而具備有：將前述被作了修正後的作為比較對象之眩光對比度與作為前述比較基準之眩光對比度之間之比較結果作輸出之工程。
由本發明所致之電子顯示器之製造方法，係具備有： 對於檢查對象之電子顯示器是否滿足眩光對比度之合格基準一事進行檢查之工程， 前述進行檢查之工程，係具備有前述進行比較之工程， 前述進行比較之工程，係身為下述之工程： 作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之其中一方，而適用前述檢查對象之電子顯示器之眩光對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之另外一方，而適用前述合格基準之眩光對比度，來對於前述檢查對象之電子顯示器之眩光對比度與前述合格基準之眩光對比度進行比較之工程。
在由本發明所致之電子顯示器之製造方法，係亦可構成為： 前述檢查對象之電子顯示器，係身為在表面上並未被配置有防眩層之電子顯示器，在前述進行檢查之工程中，為了對於眩光對比度作測定，係在前述表面上被配置有檢查用之防眩層， 前述檢查用之防眩層，係身為具備有預先所決定了的特定之防眩層。
在由本發明所致之電子顯示器之製造方法，係亦可構成為： 前述檢查對象之電子顯示器，係身為在表面上被配置有防眩層之電子顯示器。
由本發明所致之防眩層之製造方法，係具備有： 形成檢查對象之防眩層之工程；和 對於前述檢查對象之防眩層是否滿足眩光對比度之合格基準一事進行檢查之工程， 前述進行檢查之工程，係具備有前述進行比較之工程， 前述進行比較之工程，係身為下述之工程： 作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之其中一方，而適用在表面上被配置有前述檢查對象之防眩層之電子顯示器之眩光對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之另外一方，而適用前述合格基準之眩光對比度，來對於在表面上被配置有前述檢查對象之防眩層之電子顯示器之眩光對比度與前述合格基準之眩光對比度進行比較之工程。
在由本發明所致之防眩層之製造方法中，係亦可構成為： 前述檢查對象之防眩層，係在前述進行檢查之工程中，為了對於眩光對比度作測定，而被配置在檢查用之電子顯示器之表面上， 前述檢查用之電子顯示器，係身為具備有預先所決定了的特定之電子顯示器。
在由本發明所致之防眩層之製造方法中，係亦可構成為： 係具備有：形成前述檢查對象之防眩層之工程；和 在基材上設置具有防眩功能之層之工程。
係亦可構成為：在前述基材上設置具有前述防眩功能之層之工程，係具備有： 在前述基材上塗布含有樹脂之防眩層用組成物之工程；和 使前述所塗布的防眩層用組成物硬化之工程。
由本發明所致之防眩層，係身為使用前述防眩層之製造方法所製造之防眩層。
由本發明所致之眩光對比度之比較裝置，係具備有： 修正部，係使用前述眩光對比度之修正方法，而對於作為比較對象之眩光對比度進行修正；和 比較部，係將被作了修正後的作為比較對象之眩光對比度與作為比較基準之眩光對比度作比較。
由本發明所致之防眩層之選擇方法，係具備有： 使用前述眩光對比度之比較方法，而對於防眩層作選擇之工程， 前述對於防眩層作選擇之工程，係具備有： 作為前述作為比較基準之眩光對比度，而適用藉由第1光學測定裝置來對於在表面上被配置有第1防眩層之電子顯示器之眩光對比度作了測定的第1測定對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度，而適用藉由與第1光學測定裝置相異之第2光學測定裝置來對於在表面上被配置有與第1防眩層相異之第2防眩層之前述電子顯示器之眩光對比度作了測定的第2測定對比度，並且將前述第1測定對比度和前述第2測定對比度使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的前述比較方法來進行比較之工程；和 基於前述比較之結果，來選擇前述第1防眩層以及前述第2防眩層之其中一方之防眩層之工程。
在由本發明所致之防眩層之選擇方法中，係亦可構成為： 前述選擇其中一方之防眩層之工程，係具備有選擇前述第1防眩層以及前述第2防眩層中之所對應之測定對比度為良好的防眩層之工程。
由本發明所致之防眩層，係身為 藉由前述防眩層之選擇方法所選擇之防眩層。
由本發明所致之偏光板，係身為 被搭載有藉由前述防眩層之選擇方法所選擇之防眩層之偏光板。
由本發明所致之顯示元件，係身為 被搭載有藉由前述防眩層之選擇方法所選擇之防眩層之顯示元件。
由本發明所致之電子顯示器，係身為 被搭載有藉由前述防眩層之選擇方法所選擇之防眩層之電子顯示器。
由本發明所致之顯示元件之選擇方法，係具備有： 使用前述眩光對比度之比較方法，而對於身為在表面上並未被配置有防眩層的電子顯示器之顯示元件作選擇之工程， 前述對於顯示元件作選擇之工程，係具備有： 作為前述作為比較基準之眩光對比度，而適用當在第1顯示元件之表面上被配置有第3防眩層之狀態下而藉由第3光學測定裝置所測定出的第3測定對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度，而適用當在與第1顯示元件相異之第2顯示元件之表面上被配置有前述第3防眩層之狀態下而藉由與前述第3光學測定裝置相異之第4光學測定裝置所測定出的第4測定對比度，並且將前述第3測定對比度和前述第4測定對比度使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的前述比較方法來進行比較之工程；和 基於前述比較之結果，來選擇前述第1顯示元件以及前述第2顯示元件之其中一方之顯示元件之工程。
在由本發明所致之顯示元件之選擇方法中，係亦可構成為： 前述選擇其中一方之顯示元件之工程，係具備有選擇前述第1顯示元件以及前述第2顯示元件中之所對應之測定對比度為良好的顯示元件之工程。
由本發明所致之電子顯示器，係身為 具備有藉由前述顯示元件之選擇方法所選擇之顯示元件之電子顯示器。
由本發明所致之眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得藉由互為相異之複數之測定條件所測定出的複數之眩光對比度和代表前述複數之測定條件之資訊之工程，該複數之眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之複數之眩光對比度；和 為了進行前述複數之眩光對比度之比較，而基於代表前述複數之測定條件之資訊，來對於前述複數之眩光對比度之至少其中一者作修正之工程。
由本發明所致之防眩層之製造裝置，係具備有： 前述比較裝置， 前述修正部，係作為前述作為比較對象之眩光對比度，而對於在表面上被配置有檢查對象之防眩層的電子顯示器之眩光對比度作修正， 前述比較部，係將在表面上被配置有前述檢查對象之防眩層的電子顯示器之眩光對比度，與作為前述作為比較基準之眩光對比度的合格基準之眩光對比度作比較。
若依據本發明，則係能夠對於測定條件為相異之複數之眩光對比度而適當地進行比較。
以下，參考圖面，針對本發明之其中一個實施形態作說明。另外，在本說明書所添附的圖面中，為了易於圖示並易於理解，係會適宜將縮尺以及縱橫之尺寸比等相對於實物而作變更並誇張化。
又，關於在本說明書中所使用的形狀或幾何學性之條件、以及對於該些之程度作特定的例如「同等」、「同一」等之用語或者是長度和角度之值等，係並非為被限定於嚴密的定義中者，而係被解釋為亦包含有能夠期待有同樣之功能的範圍者，
又，在本說明書中所使用之光學性用語，係依循於JISZ8120：2001光學用語。又，在本說明書中所使用之「預先所決定了的特性」之用語中，所謂「特性」，係指光學特性、物理特性等之各種的特性。特別是，係指在本發明之各數式、各修正方法、各製造方法、各選擇方法等中所必要之特性。
圖1，係為對於由本實施形態所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。圖2，係為對於能夠使用圖1之眩光對比度之比較方法的測定系之其中一例作展示之圖。
由本實施形態所致之眩光對比度之比較方法，係能夠為了就算是在測定條件為相異的情況時亦能夠對起因於被配置在發光型之電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度而適當地進行比較，而作使用。
所謂眩光，係為起因於「起因於在從顯示器之顯示元件之像素矩陣所射出之光通過被微細地作了凹凸加工之媒體或者是折射率調變層等時所產生的散射以及折射等，而在畫面上引發像素矩陣尺寸之小的亮度分布」一事，而看起來像是有所閃爍的現象。眩光，係亦被稱作閃光(Sparkle)或Sparkling，但是，在本申請案中，係表現為「眩光」。更詳細而言，本申請案之眩光，係指起因於直視型顯示器之像素矩陣和被配置在該顯示器之表面之附近的擴散層之間之組合所導致的對於觀察者之視覺系之感測面上的成像，並作為其結果所產生的不規則性之空間調變影像。
所謂眩光對比度，係身為將「眩光值」以相對於構成眩光圖案之全照度分布資料之平均值的百分比來作了表現之值。所謂眩光值，係身為構成眩光圖案之全照度分布資料之標準差。所謂眩光圖案，係相當於當在測定範圍內對於以單一顏色來作了點燈的顯示器之顯示畫面進行攝像時的攝像元件面上之照度分布。更詳細而言，所謂眩光圖案，係身為藉由進行攝像一事所得到的「無法看到顯示器之顯示元件之像素形狀之畫像成分的2維之照度分布資料」或者是「從能夠看到顯示器之顯示元件之像素形狀之畫像成分的照度分布資料而將像素形狀之影響作了排除後之2維之灰階資料」。
但是，如同以下所示一般，係可替代照度分布，而使用輻射亮度分布來定義眩光對比度。亦即是，眩光對比度，係作為代表眩光之程度的代表性評價指數，而藉由下式來定義。
Figure 02_image037
在數式(16)中，σ係為在測定用之二維影像感測器面上的單色眩光圖案之輻射亮度分布之標準差。又，在數式(16)中，
Figure 02_image039
係身為單色眩光圖案之輻射亮度之平均值。作為數式(16)之右邊的分母以及分子，係亦可替代輻射亮度而使用亮度。
為了對於此種眩光對比度作比較，在圖2中所示之測定系，係具備有電子顯示器8、和第1光學測定裝置1A、和第2光學測定裝置1B、以及比較裝置100。
第1光學測定裝置1A，係身為對於作為比較基準之第1眩光對比度作測定的裝置。第2光學測定裝置1B，係身為對於作為比較對象之第2眩光對比度作測定的裝置。比較裝置100，係身為將第1眩光對比度和第2眩光對比度作比較之裝置。
更詳細而言，電子顯示器8，係具備有像素矩陣81和黑矩陣82，於其表面部處，係被層積有作為擴散層之防眩層9。所謂防眩層9，例如係為為了抑制起因於外光所導致的反射光而被設置在顯示器8之表面上的光擴散層等。所謂黑矩陣82，除了先前技術所周知之黑矩陣以外，亦包含有發揮像是用以成為不會混色的其他之黑矩陣性之作用的架構。
作為電子顯示器8，例如，係可採用液晶顯示器、有機EL顯示器、量子點(QD)顯示器、miniLED顯示器、microLED顯示器等。電子顯示器8，係亦可身為虛擬顯示器。所謂虛擬顯示器，係為在平面狀之擴散光源上配置有模擬像素矩陣之媒體的構成。像素矩陣，係可直接存在於擴散光源上，亦可另外作層積。例如，如同圖10中所示一般，藉由在平面白色光源801之發光部802上設置模擬像素之金屬遮罩803，係能夠製作出虛擬顯示器800。
防眩層9，只要是身為具有防眩功能之構造體，則係並未特別作限定。所謂防眩功能，係身為使在防眩層上所照出的物體、光等之輪廓模糊化而成為難以看到、或者是使照出的物體、光自身模糊化而成為難以看到的功能，並身為能夠防止眩目或者是能夠使想要顯示在顯示器上的文字資訊、動畫、畫像等之視覺辨認性提升的功能。在防眩層之表面上，一般而言係具有凹凸形狀，只要能夠發揮防眩功能，則亦可身為非常微細之凹凸。例如，防眩層9，係亦可為「A：在基材上設置有具備防眩功能之單一或複數之層的層積體」、「B：基材表面自身便具備有防眩功能之基材」、「C：將A或B搭載於表面上的顯示器或評價用之彩色濾波片等之物品」等。又，防眩層9之發揮防眩功能之層，係可存在於構成防眩層之複數之層的任意之位置處。係可為視覺辨認側、亦可為顯示器內部側，進而，亦可為位置在視覺辨認側與顯示器內部側之間之層的任意之位置處，進而，係亦可存在於前述之複數之位置處。防眩層9，係被配置在電子顯示器之表面上，但是，此事，係代表著其係身為被配置在較電子顯示器8之像素矩陣81和黑矩陣82而更靠視覺辨認側處之構件，起因於配置在該處一事，係會發生眩光。作為更具體性的例子，防眩層9，係亦可為在玻璃或者是塑膠上藉由噴砂或化學蝕刻等而設置有適度的凹凸之防眩層9。或者是，防眩層9，係亦可身為在100μm以下之薄的玻璃薄膜或塑膠薄膜上，將反應性有機、無機系樹脂接合劑、各種粒徑之有機、無機微粒子等，單獨或者是混合地進行塗布並使其硬化，藉由此來設置有凹凸之防眩層9。或者是，防眩層9，係亦可身為設置有由模具或賦形薄膜等所致的壓花凹凸之防眩層9。又，係亦可身為將如同上述一般之接合劑、把接合劑與折射率為相異之有機、無機微粒子作了混合的塗布組成物、包含有將相溶性為低之複數之樹脂彼此或者是折射率為相異之複數之樹脂彼此作了混合的接合劑之塗布組成物等，特地以會使凹凸成為非常微細的方式來施加塗布或加工，並使其乾燥、硬化，所成的防眩層9。若依據在後述之「3.防眩層之選擇方法以及搭載有防眩層之製品」中所說明的防眩層9之選擇方法，則係能夠容易地得到可對於眩光作抑制的良好之防眩層9。另外，在防眩層9中所使用的塑膠薄膜，係以使用以丙烯酸系、聚酯系、環狀烯烴系、纖維素系樹脂等的防眩層9為理想，但是，係並不被限定於此。又，當防眩層9係身為設置有複數之層的層積體的情況時，係亦可被層積有具備相較於防眩層之接合劑折射率而更低的折射率之低反射層、用以發揮防髒污性之防污層等。於此情況，此些之層積體全體係身為防眩層9。另外，就算是在並不存在有防眩層9的情況時、亦即是就算是身為不會發揮防眩功能之平坦之面狀之構造體，亦同樣的，當存在有構成接合劑之樹脂成分或粒子之折射率差的情況時，由於係會起因於內部擴散而導致被觀察到眩光，因此係能夠與防眩層9同樣地而進行眩光對比度測定。內部擴散之態樣，係具備有與防眩層9相同之隨機構造。
如同圖2中所示一般，第2光學測定裝置1B，係具備有第2光學系3B、和第2二維影像感測器4B、和第2算出部6B。又，雖係將圖示簡略化，但是，第1光學測定裝置1A，係具備有第1光學系3A、和第1二維影像感測器4A、和第1算出部6A。以下，針對此些之光學測定裝置1A、1B之構成部作詳細說明。
(光學系3A、3B) 第2光學系3B，係身為使從防眩層9而來之射出光L折射並成像於第2二維影像感測器4B之二維感測器陣列面41上的裝置。第1光學系3A，係身為使從防眩層9而來之射出光L折射並成像於第1二維影像感測器4A之二維感測器陣列面41上的裝置。
第2光學系3B，係具備有第2攝像透鏡31B、和被設置有開口321之第2光圈32B。與第2光學系3B相同的，第1光學系3A，係具備有第1攝像透鏡31A、和第1光圈32A。
光學系3A，3B之參數，係會對於眩光對比度之大小造成影響。
例如，若是光圈32A、32B之開口321越小、亦即是攝像透鏡31A、31B之F值(F-number)越大，則射出光L之起因於光圈32A、32B之開口321所受到的繞射之影響係變得越顯著。起因於射出光L之繞射變得顯著一事，成像於二維感測器陣列面41上之射出光L的繞射極限點(亦即是艾里班)之擴廣係變得更大。起因於此，繞射極限點係並不侷限於二維影像感測器4A、4B之1個的像素42地而一直擴廣至相鄰接之其他的像素42處。
起因於在二維影像感測器4A、4B之各像素42上所成像的各繞射極限點處而產生有此種繞射極限點之擴廣一事，在對於特定之像素42而作注目的情況時，會產生有起因於通過了防眩層9之相異之場所的射出光L彼此在特定之像素42上而相重疊一事所導致的眩光圖案之平均化。
若是此種在像素42上的眩光圖案之平均化的程度越大，則眩光對比度係會越降低。亦即是，若是攝像透鏡31A、31B之F值越大，則起因於在像素42上的平均化效果，眩光對比度係越會降低。
另一方面，當起因於F值過小一事而導致構成被形成於二維感測器陣列面41上之眩光圖案的平均粒徑變得較像素42而更小的情況時，眩光對比度也會降低。此眩光對比度之降低，係起因於「由於繞射極限點之擴廣相對於像素42而言過為狹窄，因此在1個的像素42內係產生有受光量之分布」一事所導致者。更詳細而言，該眩光對比度之降低，係起因於「起因於該受光量之分布，1個的像素42之輸出值會成為在像素42內的眩光圖案之積分值」一事所導致者。亦即是，若是攝像透鏡31A、31B之F值變得過小，則起因於在像素42內的眩光圖案之積分效果，眩光對比度係會降低。
如同上述一般，攝像透鏡31A、31B之F值，係會對於眩光對比度造成影響。具體而言，伴隨著F值之增加，藉由起因於在像素42上而相異之圖案相互重疊一事所導致的平均化效果，對比度係會降低。又，起因於伴隨著F值之減少的在像素42內之積分效果，眩光對比度亦會降低。
另外，在圖2所示之例中，第2攝像透鏡31B，係藉由1枚的透鏡所構成。但是，攝像透鏡31A、31B，係亦可分別藉由複數枚的透鏡所構成。於此情況，構成攝像透鏡31A、31B之複數枚之透鏡，係亦可具備有對於將射出光L之像差降低一事而言為合適的組合之功率。又，光學系3A、3B係亦可包含有光學濾波器33。光學濾波器33，係身為使射入光之強度、複變振幅(complex amplitude)、分光分布、震動面等改變並使其射出之光學元件。例如，光學濾波器33，係亦可身為具備有準據於由國際照明委員會CIE1931所定義的XYZ等色函數中之Y值之函數的光透射特性之Y濾波器。光學濾波器33，係亦可身為具備有準據於由CIE1931所定義的XYZ等色函數之光透射特性之XYZ濾波器。光學濾波器33，係亦可身為具備有準據於顯示器之RGB原色的光透射特性之RGB濾波器。光學濾波器33，係亦可身為將射入光轉換為直線偏光並使其射出的直線偏光濾波器。光學濾波器33，係亦可身為將射入光轉換為圓偏光並使其射出的圓偏光濾波器。光學濾波器33，係亦可身為將射入光之光量減少並使其射出的ND濾波器。光學濾波器33之例，係並不被限定於此些。又，在圖2中，雖係針對在第2光圈32B與第2攝像透鏡31B之間配置光學濾波器33之例而有所展示，但是，光學濾波器33之枚數或位置係並不被限定於圖2之例。又，關於光圈，亦係並不被限定於圖2中所例示之前光圈，而亦可身為在透鏡構成部內所設定的光圈。
(二維影像感測器4A、4B) 二維影像感測器4A、4B，係身為使從防眩層9而來之射出光L成像之攝像元件。二維影像感測器4A、4B，係具備有二維感測器陣列面41，並攝像射出光L。
二維影像感測器4A、4B，係具備有相互鄰接之複數之像素42，像素42之表面係構成二維感測器陣列面41。藉由像素42所受光的射出光L，係藉由光電轉換而被轉換為電性訊號，被作了轉換後之電性訊號，係被使用在眩光對比度之算出中。
二維影像感測器4A、4B，係身為具備有固體攝像元件之影像感測器，例如，係亦可身為CCD(Charge Coupled Device)感測器、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)感測器。
(算出部6A、6B) 算出部6A、6B，係基於藉由二維影像感測器4A、4B所攝像的射出光L之畫像，而算出眩光對比度。算出部6A、6B，例如係依循於已述之數式(16)來算出眩光對比度。算出部6A、6B，例如係藉由CPU和記憶體等之硬體所構成。係亦可將算出部6A、6B之一部分藉由軟體來構成。另外，作為身為「在眩光對比度之算出(亦即是測定)中所使用的二維影像感測器4A、4B之像素區域」的測定區域，較理想，係採用統計誤差為少之測定區域。具體而言，若是取過小的測定區域，則起因於「依存於場所(亦即是像素之位置)的平均輻射亮度之參差」所導致的身為眩光對比度之測定誤差之統計誤差係容易變大。故而，較理想，係以會使統計誤差縮小至能夠容許之程度的方式，來取較大的測定區域。又，依存於光學系3A、3B之條件，係會有起因於二維影像感測器4A、4B之像素節距與像素矩陣81之節距而產生波紋(moire)的情況。為了避免波紋，較理想，係選擇適當的光學系3A、3B之F值、或者是選擇適當之測定距離(亦即是從防眩層9起而至攝像透鏡31A、31B之距離)。在產生有波紋的情況時，較理想，算出部6A、6B或後述之比較裝置100，係事後性地進行用以從畫像而將波紋去除之濾波處理。但是，起因於濾波處理，係會有不僅是波紋會被去除，就連原本的由眩光圖案所致之輻射亮度之隨機成分也會受到影響的情形。故而，為了對於眩光對比度正確地作比較，較理想，比較裝置100，係亦對於會起因於濾波處理而對於眩光對比度造成何種影響一事有所考慮。
接著，針對比較裝置100之構成作說明。比較裝置100，係具備有修正部101、和比較部102。
修正部101，係為了進行與第1眩光對比度之比較，而基於第1測定條件與第2測定條件之間之比例，來對於第2眩光對比度作修正。關於第2眩光對比度之更加具體性的修正態樣，係在以下之比較方法中作說明。比較部102，係將藉由修正部102而作了修正後的第2眩光對比度與第1眩光對比度作比較。比較部102，係將比較結果輸出。
(眩光對比度之比較方法) 接著，針對適用有圖2的測定系之眩光對比度之比較方法的具體例作說明。
首先，如同圖1中所示一般，修正部101，係使用使從防眩層9而來之射出光L成像的第1攝像透鏡31A以及使射出光成像之第1二維影像感測器4A，來取得藉由第1測定條件所測定出的作為比較基準之第1眩光對比度、和代表第1測定條件之資訊(步驟S1)。
又，修正部101，係使用使從防眩層9而來之射出光L成像的第2攝像透鏡31B以及使射出光成像之第2二維影像感測器4B，來取得藉由第2測定條件所測定出的作為比較基準之第2眩光對比度、和代表第2測定條件之資訊(步驟S2)。另外，步驟S1和步驟S2係亦可對前後關係作替換。或者是，步驟S1和步驟S2係亦可為同時進行。
接著，修正部101，係為了進行與第1眩光對比度之比較，而基於第1測定條件與第2測定條件之間之比例，來對於第2眩光對比度作修正(步驟S3)。第2眩光對比度之修正，係依循以下之數式(1)來進行。
Figure 02_image041
在數式(1)中，S P2a係為修正後的第2眩光對比度。S P2係為修正前之第2眩光對比度。F1係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之像側實效F值。F2係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之像側實效F值。d1係為作為第1測定條件之從防眩層9起而至第1攝像透鏡31A之距離，亦即是身為測定距離。d2係為作為第2測定條件之從防眩層9起而至第2攝像透鏡31B之距離。f1係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之實效焦距。f2係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之實效焦距。M1係為藉由以下之數式(2)所示之值，M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，M1、M2係亦會有被稱作整合參數的情形。
Figure 02_image043
在數式(2)中，Ac1係為在將射出光L之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數，Ac1，係相當於將後述之第1二維影像感測器4A上的繞射極限點之大小R1作為直徑的圓之面積。Am1係為在將作為第1測定條件之第1二維影像感測器4A之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數。Am1，係相當於感測器4A之1個像素之面積，erf係為標準誤差函數。
Figure 02_image045
在數式(3)中，Ac2係為在將射出光L之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數，Ac2，係相當於將後述之第2二維影像感測器4B上的繞射極限點之大小R2作為直徑的圓之面積。Am2係為在將作為第2測定條件之第2二維影像感測器4B之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。Am2，係相當於感測器4B之1個像素之面積，erf係為標準誤差函數。
在第2眩光對比度被作了修正之後，比較部102，係將作了修正後的第2眩光對比度(亦即是修正對比度)與第1眩光對比度(亦即是非修正對比度)作比較(步驟S4)。
依循於數式(1)來對於第2眩光對比度作修正一事，係相當於針對第2測定條件而在其與第1測定條件之間以會使會對於朝向二維影像感測器4A、4B上的射出光L之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小成為相同的方式來事後性地進行調整。
對於朝向二維影像感測器4A、4B上的射出光L之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小，係基於「繞射極限點之大小」和「根據攝像透鏡31A、31B之焦距以及從防眩層9起而至攝像透鏡31A、31B之距離所求取出的攝像透鏡31A、31B之倍率」，而如同以下之數式(7)以及數式(8)一般地被制定。
Figure 02_image047
在數式(7)中，S1係為作為第1測定條件之對於朝向第1二維影像感測器4A上的射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小。R1係為第1二維影像感測器4A上的繞射極限點之大小，亦即是身為艾里班之大小。m1係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之倍率。F1係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之像側實效F值。d1係為作為第1測定條件之從防眩層9起而至第1攝像透鏡31A之距離。f1係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之實效焦距。F1’係為作為第1測定條件之第1攝像透鏡31A之物體側實效F值。
Figure 02_image049
在數式(8)中，S2係為作為第2測定條件之對於朝向第2二維影像感測器4B上的射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小。R2係為第2二維影像感測器4b上的繞射極限點之大小。m2係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之倍率。F2係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之像側實效F值。d2係為作為第2測定條件之從防眩層9起而至第2攝像透鏡31B之距離。f2係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之實效焦距。F2’係為作為第2測定條件之第2攝像透鏡31B之物體側實效F值。
於此，數式(1)，係相當於對於第2眩光對比度S P2而乘算(S2/S1)。眩光對比度S P，係與對於朝向二維影像感測器上之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層上之發光區域之大小S的倒數1/S成正比。故而，數式(1)，係相當於對於右邊之S P2而乘算S P1/S P2，亦即是，係相當於使左邊之修正後之第2眩光對比度S P2a與第1眩光對比度S P1相互一致。使眩光對比度相互一致一事，係相當於與眩光對比度之倒數成正比的S也會相互一致。故而，依循於數式(1)的第2眩光對比度S P2之修正，係與「在第1測定條件與第2測定條件之間而使以下之數式(6)事後性地成立」一事相互等價。
Figure 02_image051
於此，如同圖3中所示一般，從防眩層9上之1個點而來之射出光L，係依循於PSF(點擴散函數)而於二維影像感測器4A、4B之二維感測器陣列面41上成像。更具體而言，從防眩層9上之1個點而來之射出光L，係作為橫跨複數之像素42的繞射極限點PS(亦即是點像)而成像。另外，圖3，係為了便於針對依循於PSF的繞射極限點PS之擴廣作說明，而將二維影像感測器4A、4B較圖2更加擴大地來作圖示。
如此這般，以1個的像素42作為中心的繞射極限點PS，係並不僅是會被該像素42所受光，而也會被相鄰接之其他之像素42所受光。故而，可以推測到，在對於1個的像素42之繞射極限點PS之成像中，係會受到從防眩層9上之複數之發光點P而來的射出光L之影響。
又，對於朝向二維感測器陣列面41上的射出光L之繞射極限點PS之成像有所影響的防眩層9上之發光區域，係可考慮為複數之發光點P之集合。故而，發光區域之大小，係如同圖3中所示一般，可以想成通過攝像透鏡31A、31B而將二維影像感測器4A、4B側之繞射極限點PS投射至防眩層9上所成的像之大小S1、S2。另外，圖3，係將朝向防眩層9上之繞射極限點PS之投射像，作為PSF之投射像來作表現。在圖3所示之例中，朝向防眩層9上之繞射極限點PS之投射像，係較繞射極限點PS而更大。投射像為較繞射極限點PS而更大一事，係由於光學系3之倍率的影響所導致者。
若是對於繞射極限點PS之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小S1、S2為相互一致，則係能夠確保基於在相異之測定條件下所攝像的射出光L所得到之眩光對比度之互換性。其理由係如同下述一般。
當射入至像素42上的從防眩層9上之各發光點P而來之射出光L為非相干(INCOHERENT)或者是可干涉性被降低至可視為非相干的情況時，在像素42上，從防眩層9之各發光點P而來之射出光L係幾乎不會相互干涉。亦即是，在像素42上，係產生有單純的光之波面之重疊。又，從各發光點P所產生的要素眩光圖案，係起因於防眩層9之隨機構造而身為相互獨立之相異的圖案。
其結果，因應於與像素42相對應的防眩層9上之發光點P之個數，係形成有使眩光被作了平均化的繞射極限點群。此眩光之平均化的程度，係依存於與像素42相對應的防眩層9上之發光點P之個數，亦即是依存於防眩層9上的發光區域之大小S1、S2。
故而，若是使防眩層9上之發光區域之大小S1、S2相互一致，則就算是測定條件為相異，也可得到能夠以眩光之平均化之程度為共通的同一基準來做比較之眩光對比度。
基於以上之理由，由於係能夠確保眩光對比度之互換性，因此，修正部101，係以會成為與「S2與S1相互一致」一事等價的方式，來依循於數式(1)而對於第2眩光對比度作修正。
若依據此種構成，則藉由將「藉由與第1測定條件相異之第2測定條件所測定出的作為比較對象之第2眩光對比度」依循於數式(1)來作修正，係能夠確保「藉由第1測定條件所測定出的作為比較基準之第1眩光對比度」與「修正後之第2眩光對比度」之間之互換性。藉由此，係能夠對於測定條件為相異之複數之眩光對比度而適當地進行比較。
另外，在第1測定條件與第2測定條件之間所成立之關係，係亦可為「電子顯示器8、防眩層9以及具備有攝像透鏡31A、31B和二維影像感測器4A、4B之光學測定裝置1A、1B之各者的構造上之條件係為相同，並且包含有從防眩層9起而至攝像透鏡31A、31B為止的距離之使用有光學測定裝置1A、1B之測定條件係為相異」之關係。
或者是，在第1測定條件與第2測定條件之間所成立之關係，係亦可為「電子顯示器8以及防眩層9之各者的構造上之條件係為相同，並且具備有攝像透鏡31A、31B和二維影像感測器4A、4B之光學測定裝置1A、1B之構造上之條件以及包含有從防眩層9起而至攝像透鏡31A、31B為止的距離之使用有光學測定裝置1A、1B之測定條件係為相異」之關係。
或者是，在第1測定條件與第2測定條件之間所成立之關係，係亦可為「電子顯示器8以及具備有攝像透鏡31A、31B和二維影像感測器4A、4B之光學測定裝置1A、1B之各者的構造上之條件係為相同，並且防眩層9之構造上之條件以及包含有從防眩層9起而至攝像透鏡31A、31B為止的距離之使用有光學測定裝置1A、1B之測定條件係為相異」之關係。
接著，針對眩光對比度之比較方法的適用例作說明。
[1.電子顯示器之製造方法] 由本實施形態以及後述之各變形例所致之眩光對比度之比較方法，係亦能夠在電子顯示器之製造工程中，用以檢查成為製品的檢查對象之電子顯示器是否滿足眩光對比度之合格基準。於此情況，作為第1眩光對比度，係適用合格基準之眩光對比度。又，作為第2眩光對比度，係適用檢查對象品之眩光對比度。例如，比較裝置100之比較部102，係將藉由比較裝置100之修正部101而作了修正後的檢查對象品之眩光對比度，與合格基準之眩光對比度作比較。作了比較後之結果，當判斷為檢查對象品之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分為小的情況時，比較部102，係亦可輸出「檢查對象之電子顯示器係為合格品」的判定結果。另一方面，當判斷為檢查對象品之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分為大的情況時，比較部102，係亦可輸出「檢查對象之電子顯示器係為不合格品」的判定結果。關於檢查對象品之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分是否為小一事的判斷，係亦可依循於預先所決定了的眩光對比度之差分之臨限值等的判斷基準，來進行之。另外，係亦可作為第1眩光對比度，而適用檢查對象品之眩光對比度，並作為第2眩光對比度，而適用合格基準之眩光對比度。
檢查對象之電子顯示器，係亦可身為在表面上並未被配置有防眩層9之電子顯示器，亦即是亦可身為電子顯示器本體。於此情況，在是否滿足合格基準一事之檢查中，為了對於眩光對比度作測定，在電子顯示器之表面上係被配置有檢查用之防眩層9。檢查用之防眩層9，係身為具備有預先所決定了的特性之防眩層9。例如，防眩層9，係亦可身為具備有預先所決定了的構造以及大小之防眩層9。於此情況，在複數之檢查對象之電子顯示器之間，防眩層9之條件係成為共通。因此，複數之檢查對象之電子顯示器之間之光學特性之差異，係作為眩光對比度之差異而出現。亦即是，當在複數之檢查對象之電子顯示器之間而出現有眩光對比度之差異的情況時，可以視為此差異係並非為起因於防眩層9之光學特性之差異所導致者。如此這般，藉由在防眩層9之條件係為共通的檢查條件之下來對於檢查對象之電子顯示器是否滿足合格基準一事進行檢查，係能夠適當地進行檢查。例如，係能夠對於「雖然電子顯示器原本係身為合格品，但是卻起因於防眩層9之光學特性之差異的影響而導致被誤判定為不合格品」的情形作抑制。經過眩光對比度之比較工程所製造出的電子顯示器，係能夠發揮滿足關連於眩光對比度之合格基準的良好之光學特性。
另外，檢查對象之電子顯示器，係亦可身為在表面上被配置有防眩層9之電子顯示器，亦即是亦可身為電子顯示器裝置。
[2.防眩層之製造方法] 又，由本實施形態以及後述之各變形例所致之眩光對比度之比較方法，係亦能夠在防眩層9之製造工程中，用以檢查成為製品的檢查對象之防眩層9是否滿足眩光對比度之合格基準。於此情況，作為第1眩光對比度，係適用合格基準之眩光對比度。又，作為第2眩光對比度，係適用在表面上被配置有檢查對象之防眩層9的電子顯示器之眩光對比度。例如，比較部102，係將藉由修正部101而作了修正的「在表面上被配置有檢查對象之防眩層9的電子顯示器」之眩光對比度，與合格基準之眩光對比度作比較。作了比較後之結果，當判斷為在表面上被配置有檢查對象之防眩層9之電子顯示器之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分為小的情況時，比較部102，係亦可輸出「檢查對象之防眩層9係為合格品」的判定結果。另一方面，當判斷為在表面上被配置有檢查對象之防眩層9之電子顯示器之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分為大的情況時，比較部102，係亦可輸出「檢查對象之防眩層9係為不合格品」的判定結果。關於在表面上被配置有檢查對象之防眩層9之電子顯示器之修正後之眩光對比度與合格基準之眩光對比度之間之差分是否為小一事的判斷，係亦可依循於預先所決定了的眩光對比度之差分之臨限值等的判斷基準，來進行之。另外，作為第1眩光對比度，係亦可適用在表面上被配置有檢查對象之防眩層9的電子顯示器之眩光對比度。又，作為第2眩光對比度，係亦可適用合格基準之眩光對比度。
檢查對象之防眩層9，在是否滿足合格基準一事之檢查中，為了對於眩光對比度作測定，係被配置在電子顯示器之表面上。檢查用之電子顯示器，係身為具備有預先所決定了的特性之電子顯示器。例如，檢查用之電子顯示器，係亦可身為具備有預先所決定了的構造以及大小之電子顯示器。檢查用之電子顯示器，係亦可在複數之檢查對象之防眩層9之間而被作共用、亦即是被作反覆使用。
如此這般，在作為檢查用之電子顯示器而使用具備有預先所決定了的特性之電子顯示器的情況時，於複數之檢查對象之防眩層9之間，電子顯示器之條件係成為共通。因此，複數之檢查對象之防眩層9之間之光學特性之差異，係作為眩光對比度之差異而出現。亦即是，當在複數之檢查對象之防眩層9之間而出現有眩光對比度之差異的情況時，可以視為此差異係並非為起因於電子顯示器之光學特性之差異所導致者。如此這般，藉由在電子顯示器之條件係為共通的檢查條件之下來對於檢查對象之防眩層9是否滿足合格基準一事進行檢查，係能夠適當地進行檢查。例如，係能夠對於「雖然防眩層9原本係身為合格品，但是卻起因於電子顯示器之光學特性之差異的影響而導致被誤判定為不合格品」的情形作抑制。經過眩光對比度之比較工程所製造出的防眩層9，係能夠發揮滿足關連於眩光對比度之合格基準的良好之光學特性。
檢查對象之防眩層9之具體性的態樣，係並未特別作限定，例如，係亦可為已述之「A：在基材上設置有具備防眩功能之單一或複數之層的層積體」之態樣。當防眩層係身為層積體之態樣的情況時，檢查對象之防眩層9，係藉由在基材上設置有具備防眩功能之單一或複數之層，而形成之。作為基材，例如，係可使用薄片狀之光透射性基材。光透射性基材之材質，係並不被特別限定，例如，係亦可為塑膠等之樹脂或玻璃。樹脂，係可為熱可塑性樹脂以及熱硬化性樹脂之任一者。
具備有防眩功能之層，係亦可藉由在光透射性基材上塗布含有樹脂之防眩層用組成物，並使所塗布了的樹脂硬化，來形成之。防眩層用組成物，例如，係亦可身為將至少1個的寡聚物或聚合物和至少1個的硬化性樹脂前驅物使用適當之溶媒來作了混合的組成物。寡聚物和聚合物，係可身為硬化性，亦可身為非硬化性。防眩層用組成物，係亦可更進而被添加有微粒子。前述寡聚物或聚合物，例如，係亦可為熱可塑性樹脂。作為硬化性樹脂前驅物、硬化性寡聚物、硬化性聚合物，係可使用能夠藉由熱或紫外線以及電子線等之電離輻射線而硬化或交聯並形成硬化樹脂或交聯樹脂等之樹脂的各種之硬化性化合物。微粒子，係可身為無機系之微粒子以及有機系之微粒子之任一者。微粒子，例如，係亦可為塑膠珠。又，在組成物中，係亦可包含有光硬化起始劑、調平劑(Leveling agent)、特殊波長吸收劑、折射率調整劑、防帶電劑、染料、顏料、防氧化劑等之各種添加劑。
在基材上塗布防眩層用組成物之手法，係並未特別作限定，例如，係可使用旋轉塗布法、浸漬法、噴塗法、模具塗布法、棒塗法、輥塗法、彎月面塗布法，柔版印刷法、網版印刷法、珠粒塗布法等之公知之手法。 在藉由上述之方法之任一者而塗布了防眩層用組成物之後，係為了使所形成的塗膜乾燥，而搬送至被作了加熱的區域中並藉由各種公知之方法來使塗膜乾燥並使溶劑蒸發。於此，藉由對於溶劑相對蒸發速度、固形量濃度、塗布液溫度、乾燥溫度、乾燥風之風速、乾燥時間、乾燥區域之溶劑氛圍濃度等作選擇，係能夠對於有機微粒子以及無機微粒子之分布狀態作調整。
防眩層用組成物之硬化，係亦可藉由加熱或活性能量線之照射來進行之。作為電離輻射線之照射方法，例如，係可列舉出使用超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈，黑光螢光燈，金屬鹵化物燈管燈等之光源的方法。又，作為紫外線之波長，係可使用190~380 nm之波長區域。作為電子線源之具體例，係可列舉出柯克勞夫-沃耳吞型、凡德格拉夫型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或者是線性型、高頻高壓型、高頻型等之各種電子線加速器。
檢查對象之防眩層9，係亦可於表面上具備有凹凸形狀。在防眩層9之表面上形成凹凸形狀之方法，例如，係可為(1)在已述之防眩層用組成物中添加微粒子並使其混合分散之方法、(2)並不添加微粒子，而藉由伴隨著防眩層用組成物中之溶劑之蒸發所進行的離相分解(spinodal decomposition)來形成相分離構造之方法、(3)賦予凹凸形狀之賦形處理、(4)壓花加工、以及(1)~(4)之組合，此些之任一者。
[3.防眩層之選擇方法以及搭載有防眩層之製品] 又，由本實施形態以及後述之各變形例所致之眩光對比度之比較方法，係亦能夠對於防眩層9之選擇方法以及搭載有藉由該選擇方法所選擇了的防眩層9之製品作適用。作為在防眩層9之選擇方法中所使用之防眩層9，係可適用藉由在[2.防眩層之製造方法]中所作了說明的層積體之製造方法以及其他之製造方法所製造出的各種態樣之防眩層9。
在防眩層9之選擇方法中，作為「作為比較基準之眩光對比度」，係適用藉由第1光學測定裝置來對於「在表面上被配置有第1防眩層9的電子顯示器之眩光對比度」作了測定的第1測定對比度。作為第1光學測定裝置，例如係可使用圖2中所示之第1光學測定裝置1A。又，在防眩層9之選擇方法中，作為「作為比較對象之眩光對比度」，係適用藉由第2光學測定裝置來對於「在表面上被配置有第2防眩層9的電子顯示器之眩光對比度」作了測定的第2測定對比度。在第2測定對比度之測定中所使用的電子顯示器本體，係與在第1測定對比度之測定中所使用的電子顯示器本體相同。第2防眩層9，係身為與第1防眩層9相異之防眩層。作為第2光學測定裝置，例如係可適用圖2中所示之第2光學測定裝置1B。
亦即是，在防眩層9之選擇方法中，係將第1測定對比度和第2測定對比度，使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的上述之眩光對比度之比較方法來進行比較。
之後，基於第1測定對比度與第2測定對比度之比較之結果，來選擇第1防眩層9以及第2防眩層9之其中一方之防眩層。具體而言，係選擇第1防眩層9以及第2防眩層9中之所對應之測定對比度為良好的防眩層。更具體而言，係選擇第1防眩層9以及第2防眩層9中之所對應之測定對比度為低的防眩層。此種防眩層9之選擇，係亦可在第1防眩層9以及第2防眩層9之雙方均在上述之[2.防眩層之製造方法]中而被判斷為合格品之後，再進行之。
藉由本方法所選擇了的防眩層9，係被搭載於作為製品之電子顯示器、構成電子顯示器之偏光板或者是顯示元件處，並能夠發揮良好之光學特性。另外，顯示元件之具體性的態樣，係依存於電子顯示器之種類而有所相異。例如，當電子顯示器乃身為LCD(液晶表示顯示器)的情況時，顯示元件係身為液晶顯示面板。LCD，例如，係藉由液晶顯示面板和表面材以及偏光板所構成。又，當電子顯示器乃身為OLED(有機發光二極體)的情況時，顯示元件係身為OLED之顯示元件。OLED，例如，係藉由顯示元件和表面材以及偏光板所構成。OLED，係亦會有並不具備偏光板的情況。又，顯示元件，係亦可身為作為電子顯示器之另外一例的miniLED或microLED之顯示元件。miniLED以及microLED，例如，係可藉由顯示元件和表面材以及偏光板來構成。miniLED以及microLED，係亦會有並不具備偏光板的情況。上述顯示元件，係被包含於電子顯示器8中，在顯示元件中，係包含有像素矩陣81和黑矩陣82。
除此之外，藉由本方法所選擇的防眩層9，係可有效地使用在各種的電子顯示器中。例如，近年來，大面積化HD(high vision)、FHD(full high vision)、4K、8K等之高畫質化係日益進展，30吋、40、50吋以上的電視、15吋、20、30吋以上的螢幕、10吋以上、15吋以上、17吋以上的筆記型電腦等，係具有110dpi~350dpi之像素密度(每1吋之單位像素數)。像素密度，係亦會有被稱作ppi的情形。在本發明中之所謂像素密度，係身為在顯示器處的顯示元件之物理性的像素密度。如果是在能夠於各種顯示器顯示元件處而變更解析度的情況，則係指其中之所能夠取得的最大像素密度。
例如當在138dpi之筆記型電腦中搭載有防眩層9的情況時，當其眩光對比度值係為0.05以下、更理想為0.03以下的情況時，可以認為其之防眩光性係為良好。又，相較於上述之在大面積化上有所進展的電子顯示器，近年來在高精細化上有更大的進展之車載用顯示器、平板型顯示器、智慧型手機等，係多會有為了就算是畫面尺寸為小也能夠顯示更多的資訊量而使像素密度更為緻密的情況，而為150dpi~900dpi。例如當搭載於423dpi之智慧型手機中的情況時，若是其眩光對比度值係為0.07以下、更理想為0.05以下、最理想為0.04以下，則可以認為其之防眩光性係為良好。另外，此眩光對比度值，係如同圖11中所示一般，身為在上述之各者之像素密度：138dpi、423dpi之顯示器8000處搭載防眩層90並在與各者之像素密度相對應之測定條件之下使用測定器1000來作了測定的情況時之值。測定器1000，係在框體1001之內部，收容光圈1002和透鏡1003以及CCD1004，而構成之。另外，在透鏡1003處，係使用單焦60mm之攝相機透鏡，在CCD1004處，係為了盡量降低測定錯誤，而使用了冷卻CCD。使用有測定器1000之具體性的測定條件，係如同下述一般。
[在13.3吋、138dpi的情況時之測定條件] (1)顯示器之條件：全螢幕 (2)在僅將綠色光G作最大輸出點燈時的次像素(sub pixel)之節距P F：約185μm (3)測定器之攝像元件之像素節距P L：5.5μm (4)攝像透鏡之像素實效F值F＃ image：36.4 (5)在對比度值之計算中所使用的攝像元件像素區域：128×128 (6)身為「從攝像透鏡物體側主點起而至顯示器矩陣面為止之距離」之測定距離L：500mm (7)光學倍率m：0.136 (8)以P F＊m/P L所定義之ISR(Image Sampling Ratio)：4.59 (9)顯示器表面與測定器之光軸所成之角度：90° (10)由於係能夠觀察到像素形狀，因此實施將像素形狀去除之工程
[在5.2吋、423dpi的情況時之測定條件] (1)顯示器之條件：全螢幕 (2)P F：約60μm (3)P L：5.5μm (4)F＃ image：36.4 (5)在對比度值之計算中所使用的攝像元件像素區域：128×128 (6)L：500mm (7)m：0.136 (8)ISR：1.49 (9)顯示器表面與測定器之光軸所成之角度：90° (10)由於係並無法觀察到像素形狀，因此並不實施將像素形狀去除之工程
在138dpi中，係實施了將顯示器顯示元件之像素形狀之畫像成分去除之工程。此工程，係「將藉由攝像所得到的畫像作傅立葉轉換，並從被作了傅立葉轉換後的畫像而將起因於顯示器之像素形狀之畫像成分所產生的規則性之週期成分去除，之後進行逆傅立葉轉換」，而實施之。
若依據本發明，則係能夠並不對於藉由相異之光學測定裝置所測定出的眩光對比度值彼此進行再測定地來進行比較，而能夠容易地選擇對於電子顯示器之偏光板或顯示元件等而言為最適當之防眩層。
[4.顯示元件之選擇方法以及搭載有顯示元件之製品] 又，由本實施形態以及後述之各變形例所致之眩光對比度之比較方法，係亦能夠對於顯示元件之選擇方法以及搭載有藉由該選擇方法所選擇了的顯示元件之製品作適用。顯示元件之具體性之態樣，係並未特別作限定，例如，係亦可為上述之LCD之液晶顯示面板或OLED之顯示元件或miniLED之顯示元件或者是microLED之顯示元件。
在顯示元件之選擇方法中，作為「作為比較基準之眩光對比度」，係適用藉由第3光學測定裝置來對於「在第1顯示元件之表面上被配置有第3防眩層9的狀態(亦即是電子顯示器的狀態)」作了測定的第3測定對比度。作為第3光學測定裝置，例如係可使用圖2中所示之第1光學測定裝置1A。又，在顯示元件之選擇方法中，作為「作為比較對象之眩光對比度」，係適用藉由第4光學測定裝置來對於「在第2顯示元件之表面上被配置有第3防眩層9的狀態」作了測定的第4測定對比度。第2顯示元件，係身為與第1顯示元件相異之顯示元件。在第4測定對比度之測定中所使用的第3防眩層9，係為具備有與在第3測定對比度之測定中所使用的防眩層9相同之光學特性的防眩層。第4光學測定裝置，係身為與第3光學測定裝置相異之裝置。作為第4光學測定裝置，例如係可適用圖2中所示之第2光學測定裝置1B。
亦即是，在顯示元件之選擇方法中，係將第3測定對比度和第4測定對比度，使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的上述之眩光對比度之比較方法來進行比較。
之後，基於第3測定對比度與第4測定對比度之比較之結果，來選擇第1顯示元件以及第2顯示元件之其中一方之顯示元件。具體而言，係選擇第1顯示元件以及第2顯示元件中之所對應之測定對比度為良好的顯示元件。藉由本方法所選擇了的顯示元件，係被搭載於電子顯示器處，並能夠發揮良好之光學特性。
如同以上所述一般，若依據本實施形態，則藉由「基於第1測定條件與第2測定條件之間之比例來對於第2眩光對比度進行修正」，係能夠對於測定條件為相異之第1眩光對比度與第2眩光對比度適當地作比較。
雖係針對其中一個實施形態而藉由數個的具體例來作了說明，但是，上述之具體例係並非為對於其中一個實施形態作限定者。上述之其中一個實施形態，係可藉由其他之各種具體例來實施，在不脫離其要旨的範圍內，係可進行各種之構成的省略、置換、變更或者是更進一步的構成之追加。
以下，參考圖面，針對其他之具體例進行說明，藉由此，來對於上述之實施形態作更進一步的說明。在以下之說明以及於以下之說明所使用的圖面中，針對能夠與上述之具體例相同地來構成的部分，係使用與對於在上述之具體例中所對應的部分而使用之元件符號相同的元件符號，並將重複之說明省略。
(第1變形例) 圖4，係為對於由本實施形態之第1變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。在圖1中，係針對依循數式(1)來對於第2眩光對比度作修正之例進行說明。相對於此，在圖4所示之例中，第2眩光對比度之修正，係依循以下之數式(4)來進行(步驟S3A)。
Figure 02_image053
於此，在m1、d1、f1之間，m1=f1/d1之關係係成立。同樣的，在m2、d2、f2之間，m2=f2/d2之關係係成立。故而，若是將數式(4)作變形，則係能夠得到與數式(1)相同之關係式。亦即是，依循於數式(4)來對於第2眩光對比度進行修正一事，係與依循於數式(1)所進行之修正相同的，與使S1=S2成立一事相互等價。
故而，若依據圖4中所示之例，則與圖1之情況相同的，係能夠對於測定條件為相異之第1眩光對比度與第2眩光對比度適當地作比較。
(第2變形例) 圖5，係為對於由本實施形態之第2變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。在圖5所示之例中，第2眩光對比度之修正，係依循以下之數式(5)來進行(步驟S3B)。
Figure 02_image055
於此，在F1’與F1之間，F1’=F1/m1之關係係成立。在F2’與F2之間，F2’=F2/m2之關係係成立。故而，若是將數式(5)作變形，則係能夠得到與數式(4)相同之關係式。亦即是，依循於數式(5)來對於第2眩光對比度進行修正一事，係與依循於數式(4)所進行之修正相同的，與使S1=S2成立一事相互等價。
故而，若依據圖5中所示之例，則與圖4之情況相同的，係能夠對於測定條件為相異之第1眩光對比度與第2眩光對比度適當地作比較。
(第3變形例) 圖6A，係為對於由本實施形態之第3變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。至今為止，係針對「藉由以使S1=S2成立的方式來對於第2眩光對比度作修正，而得到具備有與第1眩光對比度之間之互換性的第2眩光對比度」之例而作了說明。相對於此，在圖6A所示之例中，係考慮有起因於像差之影響所導致的眩光對比度之誤差，而以可得到相較於「使S1=S2成立的情況」而能夠以更高精確度來與第1眩光對比度作比較的第2眩光對比度的方式來構成。
具體而言，修正部101，係取得第1眩光對比度以及代表第1測定條件之資訊(步驟S1)，並取得第2眩光對比度以及代表第2測定條件之資訊(步驟S2)，之後，判定已述之數式(6)之關係式S1=S2是否成立(步驟S31)。
當S1=S2成立的情況時(步驟S31，Yes)，修正部101，係以會在與在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像之間而使基於畫像所算出的MTF(Modulation Transfer Function)相互一致的方式，來進行在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像的修正演算(步驟S32)。另一方面，當S1=S2並不成立的情況時(步驟S31，No)，係結束處理。
圖7，係為對於在圖6A之流程圖中的修正演算(步驟S32)之詳細之例作展示之流程圖。在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像之修正演算，例如，係亦可依循於圖7之流程圖來進行。
具體而言，修正部101，首先，係作成在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像之邊緣輪廓(edge profile)(步驟S321)。邊緣輪廓，係為代表在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像之邊緣部分之像素值之變動的資訊。邊緣輪廓，例如，係亦可應用在JP2020-25224A中所揭示之技術來作成。
在作成了邊緣輪廓之後，修正部101，係藉由對於邊緣輪廓進行微分來算出線展開函數(步驟S322)。
在算出了線展開函數之後，修正部101，係藉由對於所算出的線展開函數進行傅立葉轉換，來算出第2之MTF(步驟S323)。
在算出了第2之MTF之後，修正部101，係將所算出的第2之MTF與基於在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像而得到之第1之MTF作比較(步驟S324)。
藉由比較，修正部101係判定第2之MTF與第1之MTF是否相互一致(步驟S325)。
當第2之MTF為與第1之MTF相互一致的情況時(步驟S325，Yes)，修正部101，係結束修正演算，並如同圖6A中所示一般，基於修正演算後之射出光之畫像來取得修正後之第2眩光對比度(步驟S33)。
另一方面，當第2之MTF與第1之MTF並未相互一致的情況時(步驟S325，No)，修正部101，係藉由針對對於在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像之解析度作調整的強化濾鏡之係數而作變更，來變更該畫像之解析度(步驟S326)。使用有強化濾鏡之解析度之變更，例如，係亦可應用在JP2020-25224A中所揭示之技術來進行。之後，對於使解析度被作了變更後的畫像，而反覆進行步驟S321之後之處理。另外，在圖7中所示之例，係僅為對於修正演算之其中一例作展示，當然的，係亦可藉由圖7以外之方法來進行修正演算。
若依據圖6A中所示之例，則係能夠對於測定條件為相異之第1眩光對比度與第2眩光對比度而更為適當地作比較。
另外，如同圖6B中所示一般，修正部101，係亦可在步驟S32與步驟S33之間，而實施步驟S34。步驟S34，係身為使「藉由對於在第2測定條件下所攝像的射出光之畫像所進行的修正演算而得到之畫像」之輻射亮度平均值與「在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像」之輻射亮度平均值相互一致之工程。
具體而言，在步驟S34中，修正部101，係將藉由修正演算所得到的畫像，如同圖6C中所示一般地而分割成在X方向以及Y方向上而整列為矩陣狀之複數之區域(X，Y)。之後，修正部101，係對於所分割了的各區域(X，Y)內之全部的像素之輻射亮度資料，而乘算下述參數
Figure 02_image057
。其中，
Figure 02_image059
，係為預先所取得了的在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像之輻射亮度平均值。I XY，係為區域(X，Y)內之局部性的平均亮度。藉由步驟S34，係能夠使被進行了修正演算的畫像之所有之區域(X，Y)之輻射亮度平均值與在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像之輻射亮度平均值相互一致。在接續於步驟S34之步驟S33處，修正部101，係基於在自身與「在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像」之間而使輻射亮度平均值相互一致了的修正演算後之畫像，來取得修正後之第2眩光對比度。
又，如同圖6D中所示一般，修正部101，係亦可在步驟S32與步驟S33之間，而實施步驟S35。步驟S35，係身為從藉由步驟S32之修正演算所得到了的畫像而將起因於電子顯示器8之顯示元件之像素所產生的像素形狀之畫像成分去除之工程。步驟S35，例如，係亦可藉由「對於藉由修正演算所得到的畫像作傅立葉轉換，並從被作了傅立葉轉換後的畫像而將起因於電子顯示器8之像素所產生的規則性之週期成分去除，之後進行逆傅立葉轉換」，而實施之。藉由此，在接續於步驟S35之步驟S34處，係對於「使起因於電子顯示器8之顯示元件之像素所產生的像素形狀之畫像成分被作了去除」的修正演算後之畫像，而實施在其與「在第1測定條件下所攝像的射出光之畫像」之間而使輻射亮度平均值相互一致之工程。
(第4變形例) 圖8，係為對於由本實施形態之第4變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。至今為止，作為比較基準之眩光對比度，係身為以實際之測定條件來進行了實際測定的眩光對比度。相對於此，在圖8所示之例中，係將作為比較基準之眩光對比度，設為以虛擬之測定條件來虛擬性地進行了測定的眩光對比度。
具體而言，首先，如同圖8中所示一般，修正部101，係使用使從防眩層9而來之射出光成像的虛擬之攝像透鏡以及使射出光成像之虛擬之二維影像感測器，來取得藉由虛擬之測定條件所虛擬性地測定出的作為比較基準之第3眩光對比度、和代表虛擬之測定條件之資訊(步驟S1A)。
又，修正部101，係使用使從防眩層9而來之射出光成像的實際之攝像透鏡以及使射出光成像之實際之二維影像感測器，來取得藉由實際之測定條件所實際測定出的作為比較對象之第4眩光對比度、和代表實際之測定條件之資訊(步驟S2A)。
接著，修正部101，係判定在虛擬之測定條件與實際之測定條件之間而以下之數式(9)是否成立(步驟S301)。
Figure 02_image061
在數式(9)中，S3係為作為虛擬之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層9而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(11)。S4係為作為實際之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層9而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層9上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(12)。
Figure 02_image063
在數式(11)中，R3係為二維影像感測器上的繞射極限點之大小。m3係為作為虛擬之測定條件之虛擬之攝像透鏡之倍率。F3係為作為虛擬之測定條件之虛擬之攝像透鏡之像側實效F值。d3係為作為虛擬之測定條件之從防眩層9起而至虛擬之攝像透鏡之距離。f3係為作為虛擬之測定條件之虛擬之攝像透鏡之實效焦距。F3’係為作為虛擬之測定條件之虛擬之攝像透鏡之物體側實效F值。
Figure 02_image065
在數式(12)中，R4係為二維影像感測器上的繞射極限點之大小。m4係為作為實際之測定條件之實際之攝像透鏡之倍率。F4係為作為實際之測定條件之實際之攝像透鏡之像側實效F值。d4係為作為實際之測定條件之從防眩層9起而至實際之攝像透鏡之距離。f4係為作為實際之測定條件之實際之攝像透鏡之實效焦距。F4’係為作為實際之測定條件之實際之攝像透鏡之物體側實效F值。
當數式(9)為成立的情況時(步驟S301，Yes)，修正部101，係依循以下之數式(10)來對於第4眩光對比度作修正(步驟S302)。
Figure 02_image067
在數式(10)中，S P4a係為修正後的第4眩光對比度。S P4係為修正前之第4眩光對比度。
另一方面，當數式(9)並不成立的情況時(步驟S301，No)，修正部101係結束處理。
在對於第4眩光對比度作了修正之後，比較部102，係將修正後的第4眩光對比度與第3眩光對比度作比較(步驟S4A)。
若依據圖8中所示之例，則就算是在將作為比較基準之眩光對比度虛擬性地作了設定的情況時，亦能夠與作為比較對象之眩光對比度而適當地作比較。藉由虛擬性地設定比較基準，係能夠使關連於比較基準之自由度提升。
(第5變形例) 圖9，係為對於由本實施形態之第5變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。如同圖9中所示一般，在依循於已述之數式(10)來對於第4眩光對比度作了修正之後，係亦可更進而依循以下之數式(13)來對於第4眩光對比度更進一步進行修正(步驟S303)。
Figure 02_image069
在數式(13)中，S P4a’係為由數式(13)所致之修正後的第4眩光對比度。M3係為藉由以下之數式(14)所示之值。M4係為藉由以下之數式(15)所示之值。
Figure 02_image071
在數式(14)中，Ac3係為在將從防眩層而來之射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F3×λ)/2) 2×π而被表現之參數，Am3係為在將作為虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p3的情況時，藉由p3 2而被表現之參數。erf係為標準誤差函數。
Figure 02_image073
在數式(15)中，Ac4係為在將從防眩層而來之射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F4×λ)/2) 2×π而被表現之參數，Am4係為在將作為虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p4的情況時，藉由p4 2而被表現之參數。erf係為標準誤差函數。
若依據圖9中所示之例，則就算是在「在虛擬之測定條件與實際之測定條件之間而攝像透鏡之F值為相異」的情況時，亦能夠對於第4眩光對比度而適當地作修正。故而，係能夠對於以虛擬之測定條件來虛擬性地進行了測定的眩光對比度和已實際之測定條件來實際測定出的眩光對比度而更為適當地作比較。
另外，以上，雖係針對可對於上述之實施形態而作適用的多數之變形例而作了說明，但是，當然的，係亦可將複數之變形例適宜作組合並適用之。
1A:第1光學測定裝置 1B:第2光學測定裝置 3A:第1光學系 3B:第2光學系 4A:第1二維影像感測器 4B:第2二維影像感測器 6A:第1算出部 6B:第2算出部 8:電子顯示器 9:防眩層 31A:第1攝像透鏡 31B:第2攝像透鏡 32A:第1光圈 32B:第2光圈 33:光學濾波器 41:二維感測器陣列面 42:像素 81:像素矩陣 82:黑矩陣 90:防眩層 100:比較裝置 101:修正部 102:比較部 321:開口 800:虛擬顯示器 801:平面白色光源 802:發光部 803:金屬遮罩 1000:測定器 1001:框體 1002:光圈 1003:透鏡 1004:CCD 8000:顯示器 I 11:局部性的平均亮度 I 12:局部性的平均亮度 I 1N:局部性的平均亮度 I N1:局部性的平均亮度 I NN:局部性的平均亮度 L:射出光 P:發光點 PS:繞射極限點 PSF:點擴散函數 R1:繞射極限點之大小 R2:繞射極限點之大小 S1:發光區域之大小 S2:發光區域之大小 d1:距離 d2:距離
[圖1]圖1，係為對於由本實施形態所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。 [圖2]圖2，係為對於能夠使用圖1之眩光對比度之比較方法的測定系之其中一例作展示之圖。 [圖3]圖3，係為用以對於圖1之眩光對比度之比較方法作說明之說明圖。 [圖4]圖4，係為對於由本實施形態之第1變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。 [圖5]圖5，係為對於由本實施形態之第2變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。 [圖6A]圖6A，係為對於由本實施形態之第3變形例所致之眩光對比度之比較方法之其中一例作展示之流程圖。 [圖6B]圖6B，係為對於與圖6A相異之由本實施形態之第3變形例所致之眩光對比度之比較方法之其中一例作展示之流程圖。 [圖6C]圖6C，係為用以對於圖6B之流程圖之一部分的工程作說明之說明圖。 [圖6D]圖6D，係為對於與圖6A以及圖6B相異之由本實施形態之第3變形例所致之眩光對比度之比較方法之其中一例作展示之流程圖。 [圖7]圖7，係為對於圖6A~C之流程圖之一部分的工程之詳細之例作展示之流程圖。 [圖8]圖8，係為對於由本實施形態之第4變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。 [圖9]圖9，係為對於由本實施形態之第5變形例所致之眩光對比度之比較方法作展示之流程圖。 [圖10]圖10，係為對於能夠使用由本實施形態所致之眩光對比度之比較方法的虛擬顯示器之其中一例作展示之立體圖。 [圖11]圖11，係為對於眩光對比度之具體性的測定系作展示之圖。

Claims (34)

  1. 一種眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第1眩光對比度和代表第1測定條件之資訊之工程，該第1眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第1攝像透鏡以及使前述射出光成像之第1二維影像感測器，來藉由前述第1測定條件而測定出來；和 取得作為比較對象之第2眩光對比度和代表第2測定條件之資訊之工程，該第2眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第2攝像透鏡以及使前述射出光成像之第2二維影像感測器，來藉由與前述第1測定條件相異之前述第2測定條件而測定出來；和 為了進行與前述第1眩光對比度之比較，而基於前述第1測定條件與前述第2測定條件之間之比例，來對於前述第2眩光對比度作修正之工程。
  2. 如請求項1所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(1)來進行，
    Figure 03_image001
    其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， d1係為作為前述第1測定條件之從前述防眩層起而至前述第1攝像透鏡之距離， d2係為作為前述第2測定條件之從前述防眩層起而至前述第2攝像透鏡之距離， f1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之實效焦距， f2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之實效焦距， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
    Figure 03_image003
    其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
    Figure 03_image005
    其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
  3. 如請求項1所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(4)來進行，
    Figure 03_image007
    其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， m1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之倍率， m2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之倍率， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
    Figure 03_image009
    其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
    Figure 03_image011
    其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
  4. 如請求項1所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係依循以下之數式(5)來進行，
    Figure 03_image013
    其中， S P2a係為修正後之第2眩光對比度， S P2係為修正前之第2眩光對比度， F1’係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之物體側實效F值， F2’係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之物體側實效F值， M1係為藉由以下之數式(2)所示之值， M2係為藉由以下之數式(3)所示之值，
    Figure 03_image015
    其中， Ac1係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F1×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am1係為在將作為前述第1測定條件之前述第1二維影像感測器之像素節距定義為p1的情況時，藉由p1 2而被表現之參數， erf係為標準誤差函數，
    Figure 03_image017
    其中， Ac2係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F2×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am2係為在將作為前述第2測定條件之前述第2二維影像感測器之像素節距定義為p2的情況時，藉由p2 2而被表現之參數。
  5. 一種眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第1眩光對比度和代表第1測定條件之資訊之工程，該第1眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第1攝像透鏡以及使前述射出光成像之第1二維影像感測器，來藉由前述第1測定條件而測定出來；和 取得作為比較對象之第2眩光對比度和代表第2測定條件之資訊之工程，該第2眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並使用使從前述防眩層而來之射出光成像的第2攝像透鏡以及使前述射出光成像之第2二維影像感測器，來藉由與前述第1測定條件相異之前述第2測定條件而測定出來；和 為了進行與前述第1眩光對比度之比較，而對於前述第2眩光對比度作修正之工程， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係具備有： 當在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間而以下之數式(6)成立的情況時，以會與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之間而使基於畫像所算出的MTF(調制轉換函數，modulation transfer function)相互一致的方式，來對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程；和 從藉由前述修正演算所得到的畫像來取得修正後之第2眩光對比度之工程，
    Figure 03_image019
    其中， S1係為作為前述第1測定條件之對於朝向前述第1二維影像感測器上的前述射出光之繞射極限點(Diffraction limit spot)之成像有所影響的前述防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(7)， S2係為作為前述第2測定條件之對於朝向前述第2二維影像感測器上的前述射出光之繞射極限點之成像有所影響的前述防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(8)，
    Figure 03_image021
    其中， R1係為前述第1二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之倍率， F1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之像側實效F值， d1係為作為前述第1測定條件之從前述防眩層起而至前述第1攝像透鏡之距離， f1係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之實效焦距， F1’係為作為前述第1測定條件之前述第1攝像透鏡之物體側實效F值，
    Figure 03_image023
    其中， R2係為前述第2二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之倍率， F2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之像側實效F值， d2係為作為前述第2測定條件之從前述防眩層起而至前述第2攝像透鏡之距離， f2係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之實效焦距， F2’係為作為前述第2測定條件之前述第2攝像透鏡之物體側實效F值。
  6. 如請求項5所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 進行前述修正演算之工程，係具備有針對對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之解析度作調整的強化濾鏡(enhance filter)之係數作調整之工程。
  7. 如請求項6所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 進行前述修正演算之工程，係更進而具備有： 產生在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之邊緣輪廓(edge profile)之工程；和 藉由對於前述所產生的邊緣輪廓進行微分來算出線展開函數(line spread function)之工程；和 藉由對於前述所算出的線展開函數進行傅立葉轉換，來算出MTF之工程；和 將前述所算出的MTF與基於在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像而得到之MTF作比較之工程。
  8. 如請求項5~7中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係在對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程和從藉由前述修正演算所得到的畫像而取得修正後之第2眩光對比度之工程之間，具備有使藉由前述修正演算所得到的畫像之輻射亮度平均值與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之輻射亮度平均值相互一致之工程。
  9. 如請求項8所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第2眩光對比度作修正之工程，係在對於在前述第2測定條件下所攝像的前述射出光之畫像進行修正演算之工程和使藉由前述修正演算所得到的畫像之輻射亮度平均值與在前述第1測定條件下所攝像的前述射出光之畫像之輻射亮度平均值相互一致之工程之間，具備有從藉由前述修正演算所得到的畫像而將起因於前述電子顯示器之像素所產生的畫像成分去除之工程。
  10. 一種眩光對比度之修正方法，係具備有： 取得作為比較基準之第3眩光對比度和代表虛擬之測定條件之資訊之工程，該第3眩光對比度，係為起因於被配置在電子顯示器之表面上的防眩層所產生之眩光對比度，並藉由使用有使從前述防眩層而來之射出光成像的虛擬之攝像透鏡以及使前述射出光成像之虛擬之二維影像感測器的前述虛擬之測定條件而虛擬性地作了測定；和 取得作為比較對象之第4眩光對比度和代表實際之測定條件之資訊之工程，該第4眩光對比度，係為起因於前述防眩層所產生之眩光對比度，並藉由使用有使從前述防眩層而來之射出光成像的實際之攝像透鏡以及使前述射出光成像之實際之第2二維影像感測器的實際之測定條件來作了實際測定；和 為了進行與前述第3眩光對比度之比較，而對於前述第4眩光對比度作修正之工程， 對於前述第4眩光對比度作修正之工程，係具備有： 當在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間而以下之數式(9)為成立的情況時，依循以下之數式(10)來對於前述第4眩光對比度進行修正之工程，
    Figure 03_image025
    其中， S3係為作為前述虛擬之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(11)， S4係為作為前述實際之測定條件之對於朝向二維影像感測器上的從防眩層而來之射出光之繞射極限點之成像有所影響的防眩層上之發光區域之大小，並滿足以下之數式(12)， S P4a係為修正後之第4眩光對比度， S P4係為修正前之第4眩光對比度，
    Figure 03_image027
    其中， R3係為前述二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之倍率， F3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之像側實效F值， d3係為作為前述虛擬之測定條件之從防眩層起而至攝像透鏡之距離， f3係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之實效焦距， F3’係為作為前述虛擬之測定條件之攝像透鏡之物體側實效F值，
    Figure 03_image029
    其中， R4係為前述二維影像感測器上的前述繞射極限點之大小， m4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之倍率， F4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之像側實效F值， d4係為作為前述實際之測定條件之從防眩層起而至攝像透鏡之距離， f4係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之實效焦距， F4’係為作為前述實際之測定條件之攝像透鏡之物體側實效F值。
  11. 如請求項10所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 對於前述第4眩光對比度作修正之工程，係更進而具備有依循以下之數式(13)來對於前述第4眩光對比度進行修正之工程，
    Figure 03_image031
    其中， SP4a’係為由數式(13)所致之修正後之第4眩光對比度， M3係為藉由以下之數式(14)所示之值， M4係為藉由以下之數式(15)所示之值，
    Figure 03_image033
    其中， Ac3係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F3×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am3係為在將作為前述虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p3的情況時，藉由p3 2而被表現之參數。 erf係為標準誤差函數，
    Figure 03_image035
    其中， Ac4係為在將前述射出光之波長定義為λ的情況時，藉由(((4/π)×F4×λ)/2) 2×π而被表現之參數， Am4係為在將作為前述虛擬之測定條件之二維影像感測器之像素節距定義為p4的情況時，藉由p4 2而被表現之參數。
  12. 如請求項1~7、10以及11中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係： 前述電子顯示器、前述防眩層以及具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之各者的構造上之條件係為相同，包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
  13. 如請求項1~7、10以及11中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係： 前述電子顯示器以及前述防眩層之各者的構造上之條件係為相同，具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之構造上之條件和包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
  14. 如請求項1~7、10以及11中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法，其中， 在前述第1測定條件與前述第2測定條件之間、或者是在前述虛擬之測定條件與前述實際之測定條件之間，係成立下述之關係： 前述電子顯示器以及具備有攝像透鏡和二維影像感測器之測定裝置之構造上之各者的構造上之條件係為相同，前述防眩層之構造上之條件和包含有從前述防眩層起而至前述攝像透鏡為止的距離之使用有前述測定裝置之測定條件係為相異。
  15. 一種眩光對比度之比較方法，係具備有： 將藉由如請求項1~14中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法而作了修正後的作為比較對象之眩光對比度，與作為比較基準之眩光對比度進行比較之工程。
  16. 如請求項15所記載之眩光對比度之比較方法，其中，係更進而具備有： 將前述被作了修正後的作為比較對象之眩光對比度與作為前述比較基準之眩光對比度之間之比較結果作輸出之工程。
  17. 一種電子顯示器之製造方法，係具備有： 對於檢查對象之電子顯示器是否滿足眩光對比度之合格基準一事進行檢查之工程， 前述進行檢查之工程，係具備有如請求項15所記載之進行比較之工程， 前述進行比較之工程，係身為下述之工程： 作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之其中一方，而適用前述檢查對象之電子顯示器之眩光對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之另外一方，而適用前述合格基準之眩光對比度，來對於前述檢查對象之電子顯示器之眩光對比度與前述合格基準之眩光對比度進行比較之工程。
  18. 如請求項17所記載之電子顯示器之製造方法，其中， 前述檢查對象之電子顯示器，係身為在表面上並未被配置有防眩層之電子顯示器，在前述進行檢查之工程中，為了對於眩光對比度作測定，係在前述表面上被配置有檢查用之防眩層， 前述檢查用之防眩層，係身為具備有預先所決定了的特性之防眩層。
  19. 如請求項17所記載之電子顯示器之製造方法，其中， 前述檢查對象之電子顯示器，係身為在表面上被配置有防眩層之電子顯示器。
  20. 一種防眩層之製造方法，係具備有： 形成檢查對象之防眩層之工程；和 對於前述檢查對象之防眩層是否滿足眩光對比度之合格基準一事進行檢查之工程， 前述進行檢查之工程，係具備有如請求項15所記載之進行比較之工程， 前述進行比較之工程，係下述之工程： 作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之其中一方，而適用在表面上被配置有前述檢查對象之防眩層之電子顯示器之眩光對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度以及前述作為比較基準之眩光對比度之另外一方，而適用前述合格基準之眩光對比度，來對於在表面上被配置有前述檢查對象之防眩層之電子顯示器之眩光對比度與前述合格基準之眩光對比度進行比較之工程。
  21. 如請求項20所記載之防眩層之製造方法，其中， 前述檢查對象之防眩層，係在前述進行檢查之工程中，為了對於眩光對比度作測定，而被配置在檢查用之電子顯示器之表面上， 前述檢查用之電子顯示器，係身為具備有預先所決定了的特性之電子顯示器。
  22. 如請求項20或21所記載之防眩層之製造方法，其中，係具備有： 形成前述檢查對象之防眩層之工程；和 在基材上設置具有防眩功能之層之工程。
  23. 如請求項22所記載之防眩層之製造方法，其中， 在前述基材上設置具有前述防眩功能之層之工程，係具備有： 在前述基材上塗布含有樹脂之防眩層用組成物之工程；和 使前述所塗布的防眩層用組成物硬化之工程。
  24. 一種防眩層，係使用如請求項20~23中之任一項所記載之防眩層之製造方法而被製造出來。
  25. 一種眩光對比度之比較裝置，係具備有： 修正部，係使用如請求項1~14中之任一項所記載之眩光對比度之修正方法，而對於作為比較對象之眩光對比度進行修正；和 比較部，係將被作了修正後的作為比較對象之眩光對比度與作為比較基準之眩光對比度作比較。
  26. 一種防眩層之選擇方法，係具備有： 使用如請求項15所記載之眩光對比度之比較方法，而對於防眩層作選擇之工程， 前述對於防眩層作選擇之工程，係具備有： 作為前述作為比較基準之眩光對比度，而適用藉由第1光學測定裝置來對於在表面上被配置有第1防眩層之電子顯示器之眩光對比度作了測定的第1測定對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度，而適用藉由與前述第1光學測定裝置相異之第2光學測定裝置來對於在表面上被配置有與前述第1防眩層相異之第2防眩層之前述電子顯示器之眩光對比度作了測定的第2測定對比度，並且將前述第1測定對比度和前述第2測定對比度使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的前述比較方法來進行比較之工程；和 基於前述比較之結果，來選擇前述第1防眩層以及前述第2防眩層之其中一方之防眩層之工程。
  27. 如請求項26所記載之防眩層之選擇方法，其中， 前述選擇其中一方之防眩層之工程，係具備有選擇前述第1防眩層以及前述第2防眩層中之所對應之測定對比度為良好的防眩層之工程。
  28. 一種防眩層，係為藉由如請求項26或27所記載之防眩層之選擇方法所選擇之防眩層。
  29. 一種偏光板，係搭載有藉由如請求項26或27所記載之防眩層之選擇方法所選擇之防眩層。
  30. 一種顯示元件，係搭載有藉由如請求項26或27所記載之防眩層之選擇方法所選擇之防眩層。
  31. 一種電子顯示器，係搭載有藉由如請求項26或27所記載之防眩層之選擇方法所選擇之防眩層。
  32. 一種顯示元件之選擇方法，係具備有： 使用如請求項15所記載之眩光對比度之比較方法，而對於顯示元件作選擇之工程， 前述對於顯示元件作選擇之工程，係具備有： 作為前述作為比較基準之眩光對比度，而適用當在第1顯示元件之表面上被配置有第3防眩層之狀態下而藉由第3光學測定裝置所測定出的第3測定對比度，並作為前述作為比較對象之眩光對比度，而適用當在與第1顯示元件相異之第2顯示元件之表面上被配置有前述第3防眩層之狀態下而藉由與前述第3光學測定裝置相異之第1光學測定裝置所測定出的第4測定對比度，並且將前述第3測定對比度和前述第4測定對比度使用伴隨有兩對比度之其中一方之修正的前述比較方法來進行比較之工程；和 基於前述比較之結果，來選擇前述第1顯示元件以及前述第2顯示元件之其中一方之顯示元件之工程。
  33. 如請求項32所記載之顯示元件之選擇方法，其中， 前述選擇其中一方之顯示元件之工程，係具備有選擇前述第1顯示元件以及前述第2顯示元件中之所對應之測定對比度為良好的顯示元件之工程。
  34. 一種電子顯示器，係具備有藉由如請求項32或33所記載之顯示元件之選擇方法所選擇之顯示元件。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4484177B2 (ja) * 1999-02-19 2010-06-16 大日本印刷株式会社 面ぎらの定量的評価方法及び防眩性フィルムの製造方法
JP2004101868A (ja) 2002-09-10 2004-04-02 Hitachi Ltd フォトマスクの製造方法
JP2004239663A (ja) * 2003-02-04 2004-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd ディスプレイの輝度測定方法
JP3998697B2 (ja) * 2004-01-29 2007-10-31 日本ペイント株式会社 防眩性コーティング組成物、防眩フィルムおよびその製造方法
JP4869053B2 (ja) * 2006-01-11 2012-02-01 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP2009074981A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fuji Xerox Co Ltd 画像評価装置
JP2009175041A (ja) 2008-01-25 2009-08-06 Asahi Kasei Corp 表示画像のギラツキ評価方法
JP2010169788A (ja) * 2009-01-21 2010-08-05 Toray Ind Inc ディスプレイ用フィルター
JP2013019886A (ja) * 2011-06-13 2013-01-31 Ricoh Co Ltd 画像計測装置
CN103929130B (zh) * 2014-03-26 2016-01-20 合肥晶澳太阳能科技有限公司 一种防眩光光伏组件眩光等级测评方法
JP6984598B2 (ja) * 2016-07-29 2021-12-22 大日本印刷株式会社 文字ぼけ評価方法、光学部材、および表示装置
CN108088658A (zh) * 2016-11-23 2018-05-29 深圳华萤光电技术有限公司 一种眩光测量方法及其测量系统
JP7208737B2 (ja) 2018-08-08 2023-01-19 日本放送協会 カメラ評価値測定装置およびカメラ評価値測定方法
JP7539038B2 (ja) * 2018-10-26 2024-08-23 東洋紡株式会社 液晶化合物配向層転写用フィルム
CN110399633B (zh) * 2019-06-06 2022-12-16 杭州电子科技大学上虞科学与工程研究院有限公司 一种能够校正炫光影响的显示器色彩管理实现方法

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