CN116324365A - 眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法 - Google Patents

眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法 Download PDF

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CN116324365A CN202080105795.6A CN202080105795A CN116324365A CN 116324365 A CN116324365 A CN 116324365A CN 202080105795 A CN202080105795 A CN 202080105795A CN 116324365 A CN116324365 A CN 116324365A
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仓重牧夫
古井玄
石田一敏
铃木裕子
恒川雅行
岩田行光
中村典永
西尾俊平
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Abstract

眩光对比度的校正方法具备：取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序，第1眩光对比度是使用使来自防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使出射光成像的第1二维图像传感器在第1测量条件下测量出的；取得由防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示第2测量条件的信息的工序，第2眩光对比度是使用使来自防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使出射光成像的第2二维图像传感器，在与第1测量条件不同的第2测量条件下测量出的；以及为了与第1眩光对比度比较，基于第1测量条件与第2测量条件的比率来校正第2眩光对比度的工序。

Description

眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的 制造方法以及防眩层的制造方法
技术领域
本公开涉及眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法。
背景技术
JP2009-175041A公开了对具备防眩膜的电子显示器的显示图像的由眩光引起的亮度偏差定量地进行测量评价的技术。JP2009-175041A所记载的眩光测量方法构成为，使用2维傅里叶变换从由照相机拍摄的眩光图像中通过图像处理将眩光以外的来自电子显示器的固定周期成分除去。另外，JP2009-175041A所记载的眩光测量方法构成为，将去除了固定周期成分的眩光图像的亮度偏差的标准偏差除以平均值而得到的值作为眩光对比度进行评价。
然而，JP2009-175041A中记载的眩光测量装置并未考察拍摄条件对眩光对比度造成的影响。另外，JP2009-175041A中记载的眩光测量装置对于将在不同的测量条件下测量出的多个眩光对比度彼此适当地比较也没有提出任何有效的方案。
发明内容
本公开是考虑以上方面而完成的。即，本公开的目的在于，提供能够适当地比较测量条件不同的多个眩光对比度的眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法、以及防眩层的制造方法。
本公开的眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序，所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序，所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器，在所述第2测量条件下测量出的；以及
为了与所述第1眩光对比度比较，基于所述第1测量条件与所述第2测量条件的比率来校正所述第2眩光对比度的工序。
在本公开的眩光对比度的校正方法中，校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(1)来进行，
SP2a＝SP2×(F2/F1)×(d2/d1)×(f1/f2)×(M2/M1)0.5 (1)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
d1：作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离；
d2：作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离；
f1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距；
f2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式1]
Figure BDA0004156080760000021
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式2]
Figure BDA0004156080760000031
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
在本公开的眩光对比度的校正方法中，校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(4)来进行，
SP2a＝SP2×(F2/F1)×(m1/m2)×(M2/M1)0.5 (4)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
m1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率；
m2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式3]
Figure BDA0004156080760000032
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式4]
Figure BDA0004156080760000041
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
在本公开的眩光对比度的校正方法中，校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(5)来进行，
SP2a＝SP2×(F2'/F1')×(M2/M1)0.5 (5)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1’：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效F值；
F2’：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效F值；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式5]
Figure BDA0004156080760000042
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式6]
Figure BDA0004156080760000051
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
本公开的眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序，所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序，所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器，在所述第2测量条件下测量出的；以及
为了与所述第1眩光对比度比较而校正所述第2眩光对比度的工序，
校正所述第2眩光对比度的工序具有：
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间以下的算式(6)成立的情况下，以与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像之间使基于图像计算出的MTF一致的方式，对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算；和
从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序，
S1＝S2 (6)
其中，
S1：是作为所述第1测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第1二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(7)；
S2：是作为所述第2测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第2二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(8)，
[算式7]
Figure BDA0004156080760000061
其中，
R1：所述第1二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
d1：作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离；
f1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距；
F1’：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效F值，
[式8]
Figure BDA0004156080760000062
其中，
R2：所述第2二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
d2：作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离；
f2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距；
F2'：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效F值。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
进行所述校正运算的工序具有对增强滤光器的系数进行调整的工序，其中，所述增强滤光器对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的分辨率进行调整。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
进行所述校正运算的工序还具有：
生成在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的边缘轮廓的工序；
通过对生成的所述边缘轮廓进行微分来计算线扩展函数的工序；
通过对计算出的所述线扩展函数进行傅里叶变换来计算MTF的工序；以及
将计算出的所述MTF与基于在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的MTF进行比较的工序。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序之间，具有使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序之间，具有从通过所述校正运算得到的图像中去除由所述电子显示器的像素产生的图像成分的工序。
本公开的眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第3眩光对比度和表示假想的测量条件的信息的工序，所述第3眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的假想的摄像透镜、和使所述出射光成像的假想的二维图像传感器的所述假想的测量条件下假想地测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第4眩光对比度和表示实际的测量条件的信息的工序，所述第4眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的实际的摄像透镜、和使所述出射光成像的实际的二维图像传感器的所述实际的测量条件下实测出的；以及
为了与所述第3眩光对比度比较而校正所述第4眩光对比度的工序，
校正所述第4眩光对比度的工序具有如下工序：在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间以下的算式(9)成立的情况下，按照以下的算式(10)校正所述第4眩光对比度，
S3≠S4 (9)
SP4a＝SP4×(S4/S3) (10)
其中，
S3：是作为所述假想的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(11)；
S4：是作为所述实际的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(12)；
SP4a：校正后的第4眩光对比度；
SP4：校正前的第4眩光对比度，
[算式9]
Figure BDA0004156080760000081
其中，
R3：所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的倍率；
F3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的像侧有效F值；
d3：作为所述假想的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离；
f3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的有效焦距；
F3’：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的物侧有效F值，
[算式10]
Figure BDA0004156080760000082
其中，
R4：所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的倍率；
F4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的像侧有效F值；
d4：作为所述实际的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离；
f4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的有效焦距；
F4′：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的物侧有效F值。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
校正所述第4眩光对比度的工序还具有按照以下的算式(13)对所述第4眩光对比度进行校正的工序，
SP4a'＝SP4a×(M4/M3)0.5 (13)
其中，
SP4a'：基于算式(13)的校正后的第4眩光对比度；
M3：以下的算式(14)所示的值；
M4：以下的算式(15)所示的值，
[算式11]
Figure BDA0004156080760000091
其中，
Ac3：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F3×λ)/2)2×π表示的参数；
Am3：在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p3的情况下以p32表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式12]
Figure BDA0004156080760000092
其中，
Ac4：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F4×λ)/2)2×π表示的参数；
Am4：在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p4的情况下以p42表示的参数。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，下述关系成立：所述电子显示器、所述防眩层、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同，包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的、使用了所述测量装置的测量条件不同。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，下述关系成立：所述电子显示器和所述防眩层各自的结构上的条件相同，具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。
在本公开的眩光对比度的校正方法，可以是，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，所述电子显示器、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同，所述防眩层的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。
本公开的眩光对比度的比较方法具备如下工序：将通过所述眩光对比度的校正方法校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。
在本公开的眩光对比度的比较方法，可以是，
所述眩光对比度的比较方法还具备将所述校正后的作为比较对象的眩光对比度与所述作为比较基准的眩光对比度的比较结果输出的工序。
本公开的电子显示器的制造方法具备对作为检查对象的电子显示器是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序，
所述进行检查的工序具有所述进行比较的工序，
所述进行比较的工序为如下这样的工序：应用所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方，应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方，并将所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。
在本公开的电子显示器的制造方法中，可以是，
所述作为检查对象的电子显示器是在表面未配置防眩层的电子显示器，在所述进行检查的工序中，为了测量眩光对比度而在所述表面配置检查用的防眩层，
所述检查用的防眩层是具有预先决定的特性的防眩层。
在本公开的电子显示器的制造方法中，可以是，
所述作为检查对象的电子显示器是在表面配置有防眩层的电子显示器。
本公开的防眩层的制造方法具备：
形成作为检查对象的防眩层的工序；和
对所述作为检查对象的防眩层是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序，
所述进行检查的工序具有所述进行比较的工序，
所述进行比较的工序具有如下工序：应用在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方，应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方，将在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。
在本公开的防眩层的制造方法中，可以是，
在所述进行检查的工序中，为了测量眩光对比度，将所述作为检查对象的防眩层配置于检查用的电子显示器的表面，
所述检查用的电子显示器是具有预先决定的特性的电子显示器。
在本公开的防眩层的制造方法中，可以是，
形成所述作为检查对象的防眩层的工序具有在基材上设置具有防眩功能的层的工序。
可以是，在所述基材上设置所述具有防眩功能的层的工序具有：
在所述基材上涂布含有树脂的防眩层用组成物的工序；和
使涂布的所述防眩层用组成物固化的工序。
本公开的防眩层是使用所述防眩层的制造方法来制造的防眩层。
本公开的眩光对比度的比较装置具备：
校正部，其使用所述眩光对比度的校正方法来校正作为比较对象的眩光对比度；和
比较部，其对校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。
本公开的防眩层的选择方法具备使用所述眩光对比度的比较方法来选择防眩层的工序，
所述选择防眩层的工序具有如下工序：
应用通过第1光学测量装置对在表面配置有第1防眩层的电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第1测量对比度，来作为所述作为比较基准的眩光对比度，应用通过与所述第1光学测量装置不同的第2光学测量装置对在表面配置有与所述第1防眩层不同的第2防眩层的所述电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第2测量对比度，来作为所述作为比较对象的眩光对比度，对于所述第1测量对比度和所述第2测量对比度，使用伴随有所述第1测量对比度和所述第2测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序；和
基于所述比较的结果，来选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的一方的防眩层的工序。
在本公开的防眩层的选择方法中，可以是，
选择所述一方的防眩层的工序具有选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的对应的测量对比度良好的防眩层的工序。
本公开的防眩层是根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层。
本公开的偏光板搭是载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的偏光板。
本公开的显示元件是搭载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的显示元件。
本公开的电子显示器是搭载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的电子显示器。
本公开的显示元件的选择方法具备使用所述眩光对比度的比较方法来选择在表面未配置防眩层的电子显示器、即显示元件的工序，
所述选择显示元件的工序具有如下工序：
应用在第1显示元件的表面配置有第3防眩层的状态下由第3光学测量装置测量出的第3测量对比度，来作为所述作为比较基准的眩光对比度，应用在与所述第1显示元件不同的第2显示元件的表面配置有所述第3防眩层的状态下由与所述第3光学测量装置不同的第4光学测量装置测量出的第4测量对比度，来作为所述作为比较对象的眩光对比度，对于所述第3测量对比度和所述第4测量对比度，使用伴随有所述第3测量对比度和所述第4测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序；和
基于所述比较的结果，来选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的一方的显示元件的工序。
在本公开的显示元件的选择方法中，可以是，
选择所述一方的显示元件的工序具有选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的对应的测量对比度良好的显示元件的工序。
本公开的电子显示器是具备根据所述显示元件的选择方法所选择的显示元件的电子显示器。
本公开的眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的多个眩光对比度和表示多个测量条件的信息的工序，所述多个眩光对比度是在互不相同的多个测量条件下测量出的；以及
为了比较所述多个眩光对比度而基于表示所述多个测量条件的信息来校正所述多个眩光对比度中的至少1个的工序。
本公开的防眩层的制造装置具备所述比较装置，
所述校正部对表面配置有作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度进行校正来作为所述作为比较对象的眩光对比度，
所述比较部将表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度、与作为所述作为比较基准的眩光对比度的、合格基准的眩光对比度进行比较。
根据本公开，能够对测量条件不同的多个眩光对比度恰当地进行比较。
附图说明
图1是示出本实施方式的眩光对比度的比较方法的流程图。
图2是示出能够用于图1的眩光对比度的比较方法的测量系统的一例的图。
图3是用于说明图1的眩光对比度的比较方法的说明图。
图4是示出本实施方式的第1变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。
图5是示出本实施方式的第2变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。
图6A是示出本实施方式的第3变形例的眩光对比度的比较方法的一例的流程图。
图6B是示出与图6A不同的本实施方式的第3变形例的眩光对比度的比较方法的一例的流程图。
图6C是用于说明图6B的流程图的部分工序的说明图。
图6D是示出与图6A和图6B不同的本实施方式的第3变形例的眩光对比度的比较方法的一例的流程图。
图7是示出图6A至6C的流程图的部分工序的详细示例的流程图。
图8是示出本实施方式的第4变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。
图9是示出本实施方式的第5变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。
图10是示出能够在本实施方式的眩光对比度的比较方法中使用的伪显示器的一例的立体图。
图11是示出眩光对比度的具体测量系统的图。
具体实施方式
以下，参照附图对本公开的一个实施方式进行说明。并且，在本申请说明书所附的附图中，为了便于图示和理解，将比例尺及纵横的尺寸比等相对于实物的比例尺及纵横的尺寸比等适当地进行了变更并夸张。
另外，关于在本说明书中使用的用于限定形状、几何学的条件以及它们的程度的例如“同等”、“相同”等用语、长度或角度的值等，不限于严格的意思，还包含能够期待同样的功能的程度的范围来进行解释。
另外，在本说明书中使用的光学用语遵循JISZ8120∶2001光学用语。另外，在本说明书所使用的“预先决定的特性”这样的用语中，“特性”是指光学特性、物理特性等所有特性。特别是指本公开的各算式、各校正方法、各制造方法、各选择方法等所需的特性。
图1是示出本实施方式的眩光对比度的比较方法的流程图。图2是示出能够用于图1的眩光对比度的比较方法的测量系统的一例的图。
本实施方式的眩光对比度的比较方法能够用于：即使在测量条件不同的情况下也能够适当地比较由配置于发光型的电子显示器的表面的防眩层所产生的眩光对比度。
眩光是指如下现象：由于从显示器的显示元件的像素矩阵射出的光在透过微细地进行了凹凸加工的介质和折射率调制层等时所产生的散射和折射等，在画面上引起像素矩阵尺寸的小的亮度分布，从而看起来是在闪烁。眩光也称为闪光(スパークル)或闪烁(スパークリング)，但在本申请中表述为“眩光”。更详细而言，本申请的眩光是指，通过直视型显示器的像素矩阵与配置于该显示器的表面附近的扩散层的组合而在观察者的视觉系统的传感器面上发生成像的结果的不规则的空间调制图像。
眩光对比度是指以相对于构成眩光图案的全部照度分布数据的平均值的百分比来表示眩光值的值。眩光值是指构成眩光图案的全部照度分布数据的标准偏差。眩光图案相当于：在测量范围内拍摄以单一颜色点亮的显示器的显示画面时的、在摄像元件面上的照度分布。更详细而言，眩光图案是指：从通过拍摄所得到的、看不到显示器的显示元件的像素形状的图像成分的2维的照度分布数据、或者能看到显示器的显示元件的像素形状的图像成分的照度分布数据中将像素形状的影响排除的2维的灰度数据。
但是，如以下所示，能够使用放射亮度分布代替照度分布来定义眩光对比度。即，眩光对比度作为表示眩光的程度的代表性的评价指数而由下式定义。
[算式13]
Figure BDA0004156080760000151
在算式(16)中，σ是测量用的二维图像传感器面上的单色眩光图案的放射亮度分布的标准偏差。另外，在算式(16)中，
[算式14]
Figure BDA0004156080760000152
是单色眩光图案的放射亮度的平均值。作为算式(16)的右边的分母以及分子，也可以代替放射亮度而使用亮度。
为了比较这样的眩光对比度，图2所示的测量系统具备电子显示器8、第1光学测量装置1A、第2光学测量装置1B以及比较装置100。
第1光学测量装置1A是测量作为比较基准的第1眩光对比度的装置。第2光学测量装置1B是测量作为比较对象的第2眩光对比度的装置。比较装置100是对第1眩光对比度和第2眩光对比度进行比较的装置。
更详细而言，电子显示器8具有像素矩阵81和黑矩阵82，在电子显示器8的表面部层叠有作为扩散层的防眩层9。防眩层9是指例如为了抑制由外部光引起的反射光而设置于显示器8表面的光扩散层等。关于黑矩阵82，除了以往已知的黑矩阵本身以外，还包含用于不发生混色的其他的有黑矩阵作用的结构。
作为电子显示器8，例如能够采用液晶显示器、有机EL显示器、量子点(QD)显示器、迷你LED显示器、微型LED显示器等。电子显示器8也可以是伪显示器。伪显示器是指在平面状的扩散光源上配置有模仿像素矩阵的介质的结构。像素矩阵可以直接存在于扩散光源上，也可以另外层叠。例如，如图10所示，通过在平面白色光源801的发光部802上设置模仿像素的金属掩模803，能够制作出伪显示器800。
关于防眩层9，只要是具有防眩功能的结构体就没有特别限定。防眩功能是指使映入防眩层的物体或光等的轮廓模糊而难以看到、或者使映入的物体或光本身模糊而难以看到的功能，并且是能够防止炫目、或者提高想要在显示器上显示的文字信息、动态图像、图像等的视觉辨认性的功能。防眩层的表面通常具有凹凸形状，只要能够表现出防眩功能，则也可以是非常微细的凹凸。例如，防眩层9可以是：(A)在基材上设置具有防眩功能的单一层或多个层而成的层叠体；(B)基材表面本身具有防眩功能的基材；(C)将A或B搭载于表面而成的显示器或评价用的滤色器等物品等。另外，表现出防眩层9的防眩功能的层可以存在于构成防眩层的多个层中的任意位置。可以是位于视觉辨认侧、显示器内部侧、进而位于视觉辨认侧与显示器内部侧之间的层的任意位置，甚至也可以在上述的多个位置都具有。防眩层9配置于电子显示器的表面，这意味着是配置得比电子显示器8的像素矩阵81和黑矩阵82靠视觉辨认侧的部件，并且通过配置于此处而产生眩光。作为更具体的例子，防眩层9也可以是在玻璃或塑料上通过喷砂或化学蚀刻等设置有适度的凹凸的防眩层9。或者，防眩层9也可以是如下这样的防眩层9：在100μm以下的薄的玻璃膜或塑料膜上单独或混合地涂布反应性有机/无机系树脂粘合剂、各种粒径的有机/无机微粒等并进行固化，由此设置凹凸。或者，防眩层9也可以是设置有基于模具、赋形膜等的压花凹凸的防眩层9。另外，也可以是下述的防眩层9：对于上述那样的将粘合剂、折射率与粘合剂不同的有机/无机微粒混合而成的涂布组合物、或者将相容性低的多种树脂彼此或折射率不同的多种树脂彼此混合而成的含有粘合剂的涂布组合物等，以使凹凸非常微细的方式实施涂布或加工，并使其干燥、固化。根据在后述的[3.防眩层的选择方法和搭载有防眩层的产品]中说明的防眩层9的选择方法，能够容易地得到可抑制眩光的良好的防眩层9。并且，用于防眩层9的塑料膜可以是使用了丙烯酸系、聚酯系、环状烯烃系、纤维素系树脂等的防眩层9，但不限于此。另外，在防眩层9为设置有多个层的层叠体的情况下，可以层叠具有比防眩层的粘合剂折射率低的折射率的低反射层、用于表现防污性的防污层等。这种情况下，这些层叠体整体为防眩层9。并且，在没有防眩层9的情况下，即，即使是不表现出防眩功能的平坦的面状的结构体，在构成粘合剂的树脂成分或粒子存在折射率差的情况下，也能够通过内部扩散而观察到眩光，因此能够与防眩层9同样地进行眩光对比度测量。内部扩散的形态与防眩层9同样地具有随机结构。
如图2所示，第2光学测量装置1B具备第2光学系统3B、第2二维图像传感器4B和第2计算部6B。另外，虽然简化了图示，但第1光学测量装置1A具有第1光学系统3A、第1二维图像传感器4A和第1计算部6A。以下，对这些光学测量装置1A、1B的构成部进行详细说明。
(光学系统3A、3B)
第2光学系统3B是使来自防眩层9的出射光L折射而在第2二维图像传感器4B的2维传感器阵列面41上成像的装置。第1光学系统3A是使来自防眩层9的出射光L折射而在第1二维图像传感器4A的2维传感器阵列面41上成像的装置。
第2光学系统3B具有第2摄像透镜31B和设置有开口321的第2光圈32B。与第2光学系统3B同样地，第1光学系统3A具有第1摄像透镜31A和第1光圈32A。
光学系统3A、3B的参数会影响眩光对比度的大小。
例如，光圈32A、32B的开口321越小，即摄像透镜31A、31B的F值越大，则出射光L因光圈32A、32B的开口321而受到的衍射的影响越显著。由于出射光L的衍射变得显著，因此在2维传感器阵列面41上成像的出射光L的衍射极限光斑即艾里斑的扩展变大。由此，衍射极限光斑不仅扩展到二维图像传感器4A、4B的1个像素42，还扩展到相邻的其他像素42。
这样的衍射极限光斑的扩展在成像于二维图像传感器4A、4B的各像素42上的各衍射极限光斑中发生，由此，在着眼于特定的像素42的情况下，通过了防眩层9的不同部位的出射光L彼此在特定的像素42上重合，从而引起眩光图案的平均化。
这样的像素42上的眩光图案的平均化的程度越大，眩光对比度越低。即，摄像透镜31A、31B的F值越大，由于像素42上的平均化效果，眩光对比度越降低。
另一方面，由于F值变得过小，因此即使在构成形成于2维传感器阵列面41上的眩光图案的平均粒径比像素42小的情况下，眩光对比度也降低。该眩光对比度降低的原因在于：衍射极限光斑的扩展相对于像素42过窄而在1个像素42内产生受光量的分布。更详细而言，该眩光对比度的降低是由于：根据该受光量的分布，1个像素42的输出值成为像素42内的眩光图案的积分值。即，当摄像透镜31A、31B的F值变得过小时，由于像素42内的眩光图案的积分效果，眩光对比度降低。
如上所述，摄像透镜31的F值影响眩光对比度。具体而言，由于随着F值的增加不同的图案在像素42上重叠所带来的平均化效果，对比度降低。另外，由于与F值的减少相伴随的像素42内的积分效果，眩光对比度也降低。
另外，在图2所示的例子中，第2摄像透镜31B由1片透镜构成。但是，摄像透镜31A、31B也可以分别由多片透镜构成。在该情况下，构成摄像透镜31A、31B的多片透镜也可以具有适合于降低出射光L的像差的组合的光焦度。另外，光学系统3A、3B也可以包含光学滤光器33。光学滤光器33是使入射光的强度、复振幅、分光分布、振动面等变化后射出的光学元件。例如，光学滤光器33也可以是具有依照国际照明委员会CIE1931中定义的XYZ等色函数中的Y值函数的透光特性的Y滤光器。光学滤光器33也可以是具有依照CIE1931定义的XYZ等色函数的透光特性的XYZ滤光器。光学滤光器33也可以是具有基于显示器的RGB原色的透光特性的RGB滤光器。光学滤光器33也可以是将入射光转换为直线偏光并射出的直线偏光滤光器。光学滤光器33也可以是将入射光转换为圆偏光并射出的圆偏光滤光器。光学滤光器33也可以是使入射光的光量减少后射出的ND滤光器。光学滤光器33的例子并不限定于此。另外，在图2中示出了在第2光圈32B与第2摄像透镜31B之间配置光学滤光器33的例子，但光学滤光器33的个数、位置并不限定于图2的例子。另外，光圈也不限定于图2所例示的前光圈，也可以是设定在透镜构成部内的光圈。
(二维图像传感器4A、4B)
二维图像传感器4A、4B是使来自防眩层9的出射光L成像的摄像元件。二维图像传感器4A、4B具有2维传感器阵列面41，并对出射光L进行摄像。
二维图像传感器4A、4B具有相互邻接的多个像素42，像素42的表面构成2维传感器阵列面41。由像素42接收到的出射光L通过光电转换而转换为电信号，转换后的电信号用于眩光对比度的计算。
二维图像传感器4A、4B是具有固体摄像元件的图像传感器，例如可以是CCD(Charge Coupled Device：电荷耦合器件)传感器、CMOS(Complementary Metal OxideSemiconductor：互补金属氧化物半导体)传感器。
(计算部6A、6B)
计算部6A、6B基于由二维图像传感器4A、4B拍摄的出射光L的图像来计算眩光对比度。计算部6A、6B例如按照已述的算式(16)来计算眩光对比度。计算部6A、6B例如由CPU、存储器等硬件构成。也可以由软件构成计算部6A、6B的一部分。另外，作为在眩光对比度的计算、即测量中使用的二维图像传感器4A、4B的像素区域即测量区域，优选采用统计误差少的测量区域。具体而言，若将测量区域取得过小，则由依赖于场所、即像素的位置的平均放射亮度的偏差所引起的眩光对比度的测量误差、即统计误差容易变大。因此，为了使统计误差小到能够容许的程度，优选较大地取得测量区域。另外，根据光学系统3A、3B的条件，有时因二维图像传感器4A、4B的像素间距和像素矩阵81的间距而产生莫尔条纹。为了避免莫尔条纹，优选选择适当的光学系统3A、3B的F值或适当的测量距离、即从防眩层9到摄像透镜31A、31B的距离。在产生了莫尔条纹的情况下，优选的是，计算部6A、6B或后述的比较装置100事后进行用于从图像除去莫尔条纹的过滤处理。但是，通过过滤处理，不仅莫尔条纹被去除，而且基于原来的眩光图案的放射亮度的随机成分有时也会受到影响。因此，为了正确地比较眩光对比度，在比较装置100中优选考虑眩光对比度如何因过滤处理而受到影响。
接着，对比较装置100的结构进行说明。比较装置100包含校正部101和比较部102。
为了与第1眩光对比度进行比较，校正部101基于第1测量条件与第2测量条件的比率来校正第2眩光对比度。关于第2眩光对比度的更具体的校正方式，在以下的比较方法中进行说明。比较部102将由校正部101校正后的第2眩光对比度与第1眩光对比度进行比较。比较部102输出比较结果。
(眩光对比度的比较方法)
接着，对应用了图2的测量系统的眩光对比度的比较方法的具体例进行说明。
首先，如图1所示，校正部101使用使来自防眩层9的出射光L成像的第1摄像透镜31A、和使出射光成像的第1二维图像传感器4A，取得在第1测量条件下测量出的作为比较基准的第1眩光对比度、和表示第1测量条件的信息(步骤S1)。
另外，校正部101使用使来自防眩层9的出射光L成像的第2摄像透镜31B、和使出射光成像的第2二维图像传感器4B，取得在第2测量条件下测量出的第2眩光对比度和表示第2测量条件的信息(步骤S2)。此外，步骤S1和步骤S2也可以前后调换。或者，步骤S1和步骤S2也可以是同时的。
接下来，为了与第1眩光对比度进行比较，校正部101基于第1测量条件与第2测量条件的比率来校正第2眩光对比度(步骤S3)。第2眩光对比度的校正根据以下的算式(1)来进行。
SP2a＝SP2×(F2/F1)×(d2/d1)×(f1/f2)×(M2/M1)0.5 (1)
在算式(1)中，SP2a是校正后的第2眩光对比度。SP2是校正前的第2眩光对比度。F1是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的像侧有效F值。F2是作为第2测量条件的第2摄像透镜31B的像侧有效F值。d1是作为第1测量条件的从防眩层9到第1摄像透镜31A的距离、即测量距离。d2是作为第2测量条件的从防眩层9到第2摄像透镜31B的距离。f1是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的有效焦距。f2是作为第2测量条件的第2摄像透镜31B的有效焦距。M1是以下的算式(2)所示的值。M2是以下的算式(3)所示的值。M1、M2有时也被称为综合参数。
[算式15]
Figure BDA0004156080760000201
在算式(2)中，Ac1是在将出射光L的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数。Ac1相当于以后述的第1二维图像传感器4A上的衍射极限光斑的大小R1为直径的圆的面积。Am1是在将作为第1测量条件的第1二维图像传感器4A的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数。Am1相当于传感器4A的1个像素的面积。erf是标准误差函数。
[算式16]
Figure BDA0004156080760000211
在算式(3)中，Ac2是在将出射光L的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数。Ac2相当于以后述的第2二维图像传感器4B上的衍射极限光斑的大小R2为直径的圆的面积。Am2是在将作为第2测量条件的第2二维图像传感器4B的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。Am2相当于传感器4B的1个像素的面积。erf是标准误差函数。
在校正了第2眩光对比度之后，比较部102对校正后的第2眩光对比度即校正对比度、与第1眩光对比度即非校正对比度进行比较(步骤S4)。
根据算式(1)对第2眩光对比度进行校正相当于：在与第1测量条件之间事后调整第2测量条件，以使得有助于出射光L的衍射极限光斑在二维图像传感器4A、4B上成像的防眩层9上的发光区域的大小变得相同。
有助于出射光L的衍射极限光斑在二维图像传感器4A、4B上成像的防眩层9上的发光区域的大小是基于衍射极限光斑的大小、和根据摄像透镜31A、31B的焦距及从防眩层9到摄像透镜31A、31B的距离求出的摄像透镜31A、31B的倍率，如以下的算式(7)及算式(8)那样来确定的。
[算式17]
Figure BDA0004156080760000212
在算式(7)中，S1是作为第1测量条件的、有助于出射光的衍射极限光斑在第1二维图像传感器4A上成像的防眩层9上的发光区域的大小。R1是第1二维图像传感器4A上的衍射极限光斑的大小、即艾里斑的大小。m1是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的倍率。F1是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的像侧有效F值。d1是作为第1测量条件的从防眩层9到第1摄像透镜31A的距离。f1是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的有效焦距。F1’是作为第1测量条件的第1摄像透镜31A的物侧有效F值。
[算式18]
Figure BDA0004156080760000221
在算式(8)中，S2是作为第2测量条件的、有助于出射光的衍射极限光斑在第2二维图像传感器4B上成像的防眩层9上的发光区域的大小。R2是第2二维图像传感器4B上的衍射极限光斑的大小。m2是作为第2测量条件的第2摄像透镜31B的倍率。F2是作为第2测量条件的第2摄像透镜31B的像侧有效F值。d2是作为第2测量条件的从防眩层9到第2摄像透镜31B的距离。f2是作为第2测量条件的第2摄像透镜31B的有效焦距。F2’是作为第2测量条件的第2成像透镜31B的物侧有效F值。
在此，算式(1)相当于对第2眩光对比度SP2乘以(S2/S1)。眩光对比度SP与有助于出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小S的倒数1/S成比例。因此，算式(1)相当于：对右边的SP2乘以SP1/SP2，即，使左边的校正后的第2眩光对比度SP2a与第1眩光对比度SP1一致。眩光对比度一致相当于与眩光对比度的倒数成比例的S也一致。因此，按照算式(1)的第2眩光对比度SP2的校正与在第1测量条件与第2测量条件之间事后使以下的算式(6)成立等价。
S1＝S2 (6)
在此，如图3所示，来自防眩层9上的1点的出射光L按照PSF(点像强度分布函数)在二维图像传感器4A、4B的2维传感器阵列面41上成像。更具体而言，来自防眩层9上的1点的出射光L作为跨越多个像素42的衍射极限光斑PS即点像而成像。另外，为了便于说明按照PSF的衍射极限光斑PS的扩散，图3将二维图像传感器4A、4B比图2进一步放大后图示。
这样，以1个像素42为中心的衍射极限光斑PS不仅被该像素42接收，还被相邻的其他像素42接收。因此，可以认为：来自防眩层9上的多个发光点P的出射光L有助于衍射极限光斑PS在1个像素42上成像。
而且，有助于出射光L的衍射极限光斑PS在2维传感器阵列面41上成像的防眩层9上的发光区域可以认为是多个发光点P的集合。因此，如图3所示，对于发光区域的大小，可以认为是通过摄像透镜31A、31B将二维图像传感器4A、4B侧的衍射极限光斑PS投射到防眩层9上的像的大小S1、S2。另外，图3将衍射极限光斑PS在防眩层9上的投射像表现为PSF的投射像。在图3所示的例子中，衍射极限光斑PS在防眩层9上的投射像比衍射极限光斑PS大。投射像比衍射极限光斑PS大是因为与光学系统3的倍率相关。
如果有助于衍射极限光斑PS成像的防眩层9上的发光区域的大小S1、S2一致，则能够确保基于在不同的测量条件下拍摄到的出射光L的眩光对比度的互换性。其理由如下。
在入射到像素42上的、来自防眩层9上的各发光点P的出射光L以非相干或者视为非相干的程度降低了相干性的情况下，在像素42上，来自防眩层9的各发光点P的出射光L几乎不发生干涉。即，在像素42上，产生单纯的光的波面的重合。另外，从各发光点P生成的要素眩光图案是因防眩层9的随机结构而相互独立的不同的图案。
其结果是，根据与像素42对应的防眩层9上的发光点P的个数，形成眩光被平均化的衍射极限光斑群。该眩光的平均化的程度依赖于与像素42对应的防眩层9上的发光点P的个数、即防眩层9上的发光区域的大小S1、S2。
因此，如果使防眩层9上的发光区域的大小S1、S2一致，则即使测量条件不同，也能够得到能够以眩光的平均化程度相同的同一基准进行比较的眩光对比度。
根据以上的理由，能够确保眩光对比度的互换性，因此校正部101以S2与S1一致且变得等价的方式按照算式(1)来校正第2眩光对比度。
根据这种结构，通过根据算式(1)来对在与第1测量条件不同的第2测量条件下测量出的作为比较对象的第2眩光对比度进行校正，由此能够确保在第1测量条件下被测量出的作为比较基准的第1眩光对比度、与校正后的第2眩光对比度的互换性。由此，能够适当地比较测量条件不同的多个眩光对比度。
并且，在第1测量条件与第2测量条件之间成立的关系可以是如下这样的关系：电子显示器8、防眩层9、具备摄像透镜31A、31B及二维图像传感器4A、4B的光学测量装置1A、1B各自的结构上的条件相同，且包含从防眩层9到摄像透镜31A、31B的距离在内的使用了光学测量装置1A、1B的测量条件不同。
或者，在第1测量条件与第2测量条件之间成立的关系也可以是如下这样的关系：电子显示器8和防眩层9各自的结构上的条件相同，且具备摄像透镜31A、31B和二维图像传感器4A、4B的光学测量装置1A、1B的结构上的条件、与包含从防眩层9到摄像透镜31A、31B的距离在内的使用了光学测量装置1A、1B的测量条件不同。
或者，在第1测量条件与第2测量条件之间成立的关系也可以是如下这样的关系：电子显示器8、和具备摄像透镜31A、31B及二维图像传感器4A、4B的光学测量装置1A、1B各自的结构上的条件相同，防眩层9的结构上的条件与包含从防眩层9到摄像透镜31A、31B的距离在内的使用光学测量装置1A、1B的测量条件不同。
接下来，对眩光对比度的比较方法的应用例进行说明。
[1.电子显示器的制造方法]
本实施方式及后述的各变形例的眩光对比度的比较方法也能够用于在电子显示器的制造工序中检查成为产品的检查对象、即电子显示器是否满足眩光对比度的合格基准。在该情况下，作为第1眩光对比度，应用合格基准的眩光对比度。另外，作为第2眩光对比度，应用检查对象品的眩光对比度。例如，比较装置100的比较部102将由比较装置100的校正部101校正后的检查对象品的眩光对比度与合格基准的眩光对比度进行比较。在比较的结果是被判断为检查对象品的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差较小的情况下，比较部102也可以输出作为检查对象的电子显示器为合格品的判断结果。另一方面，在判断为检查对象品的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差较大的情况下，比较部102也可以输出作为检查对象的电子显示器为不合格品的判断结果。关于检查对象品的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差是否小的判断，也可以按照预先决定的眩光对比度之差的阈值等判断基准来进行。此外，也可以应用检查对象品的眩光对比度作为第1眩光对比度，并应用合格基准的眩光对比度作为第2眩光对比度。
作为检查对象的电子显示器也可以是在表面未配置防眩层9的电子显示器、即电子显示器主体。在该情况下，在是否满足合格基准的检查中，为了测量眩光对比度而在电子显示器的表面配置检查用的防眩层9。检查用的防眩层9是具有预先决定的特性的防眩层9。例如，防眩层9也可以是具有预先决定的结构和大小的防眩层9。在该情况下，在多个作为检查对象的电子显示器之间，防眩层9的条件相同。因此，多个作为检查对象的电子显示器之间的光学特性的差异表现为眩光对比度的差异。即，在多个作为检查对象的电子显示器之间出现眩光对比度的差异的情况下，能够视为该差异不是由防眩层9的光学特性的差异引起的。这样，通过在防眩层9的条件相同的检查条件下对作为检查对象的电子显示器是否满足合格基准进行检查，能够适当地进行检查。例如，能够抑制如下情况：尽管电子显示器本来是合格品，但由于防眩层9的光学特性的差异的影响而误判为不合格品。经过眩光对比度的比较工序而制造出的电子显示器能够发挥出满足关于眩光对比度的合格基准的良好的光学特性。
并且，作为检查对象的电子显示器也可以是在表面配置有防眩层9的电子显示器、即电子显示器装置。
[2.防眩层的制造方法]
另外，本实施方式和后述的各变形例的眩光对比度的比较方法也可以用于在防眩层9的制造工序中检查成为产品的作为检查对象的防眩层9是否满足眩光对比度的合格基准。在该情况下，作为第1眩光对比度，应用合格基准的眩光对比度。另外，作为第2眩光对比度，应用在表面配置有作为检查对象的防眩层9的电子显示器的眩光对比度。例如，比较部102将表面配置有由校正部101校正后的作为检查对象的防眩层9的电子显示器的眩光对比度与合格基准的眩光对比度进行比较。也可以是，在比较的结果是被判断为表面配置有作为检查对象的防眩层9的电子显示器的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差较小的情况下，比较部102输出作为检查对象的防眩层9为合格品的判断结果。另一方面，也可以是，在判断为表面配置有作为检查对象的防眩层9的电子显示器的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差较大的情况下，比较部102输出作为检查对象的防眩层9为不合格品的判断结果。关于表面配置有作为检查对象的防眩层9的电子显示器的校正后的眩光对比度与合格基准的眩光对比度之差是否小的判断，可以按照预先决定的眩光对比度之差的阈值等判断基准来进行。并且，作为第1眩光对比度，也可以应用表面配置有作为检查对象的防眩层9的电子显示器的眩光对比度。另外，作为第2眩光对比度，也可以应用合格基准的眩光对比度。
在是否满足合格基准的检查中，为了测量眩光对比度，作为检查对象的防眩层9配置于检查用的电子显示器的表面。检查用的电子显示器是具有预先决定的特性的电子显示器。例如，检查用的电子显示器也可以是具有预先决定的结构及大小的电子显示器。检查用的电子显示器也可以在多个作为检查对象的防眩层9之间共用、即反复使用。
这样，在使用具有预先决定的特性的电子显示器作为检查用的电子显示器的情况下，在多个作为检查对象的防眩层9之间，电子显示器的条件是相同的。因此，多个作为检查对象的防眩层9之间的光学特性的差异表现为眩光对比度的差异。即，在多个作为检查对象的防眩层9之间出现眩光对比度的差异的情况下，能够视为该差异不是由电子显示器的光学特性的差异引起的。这样，通过在电子显示器的条件相同的检查条件下检查作为检查对象的防眩层9是否满足合格基准，能够适当地进行检查。例如，能够抑制如下情况：尽管防眩层9本来是合格品，但由于电子显示器的光学特性的差异的影响而被误判为不合格品。经过眩光对比度的比较工序而制造出的防眩层9能够发挥出满足关于眩光对比度的合格基准的良好的光学特性。
作为检查对象的防眩层9的具体方式没有特别限定，例如，可以为已述的A(在基材上设置有具有防眩功能的单一层或多个层的层叠体)的方式。在防眩层为层叠体的形态的情况下，作为检查对象的防眩层9通过在基材上设置具有防眩功能的单一层或多个层而形成。作为基材，例如可以使用片状的透光性基材。透光性基材的材质没有特别限定，例如可以为塑料等树脂、玻璃。树脂可以是热塑性树脂和热固性树脂中的任意。
具有防眩功能的层可以通过如下方式形成：在透光性基材上涂布含有树脂的防眩层用组成物，并使所涂布的树脂固化。防眩层用组成物例如可以是使用适当的溶剂将至少1种低聚物或聚合物与至少1种固化性树脂前体混合而成的组合物。低聚物、聚合物可以为固化性，也可以为非固化性。防眩层用组成物可以进一步添加微粒。上述低聚物或聚合物例如可以为热塑性树脂。作为固化性树脂前体、固化性低聚物、固化性聚合物，可以使用能够通过热、或者紫外线和电子束等电离放射线等进行固化或交联来形成固化树脂或交联树脂等树脂的各种固化性化合物。微粒可以是无机类的微粒和有机类的微粒中的任意。微粒例如可以是塑料珠。另外，组合物中可以含有光固化引发剂、流平剂、特殊波长吸收剂、折射率调节剂、抗静电剂、染料、颜料、抗氧化剂等各种添加剂。
在基材上涂布防眩层用组成物的方法没有特别限定，例如可以使用旋涂法、浸渍法、喷雾法、模涂法、棒涂法、辊涂法、弯月面涂布法、柔性版印刷法、丝网印刷法、液滴涂布法等公知的方法进行。
在利用上述方法中的任一方法涂布了防眩层用组成物后，为了使所形成的涂膜干燥，将其输送至加热了的区域，利用各种公知的方法使涂膜干燥，使溶剂蒸发。在此，通过选定溶剂相对蒸发速度、固体成分浓度、涂布液温度、干燥温度、干燥风的风速、干燥时间、干燥区域的溶剂气氛浓度等，能够调整有机微粒和无机微粒的分布状态。
防眩层用组成物的固化可以通过加热或活性能量射线的照射来进行。作为电离放射线的照射方法，例如可列举出使用超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、黑光灯荧光灯、金属卤化物灯等光源的方法。另外，作为紫外线的波长，可以使用190～380nm的波长区域。作为电子射线源的具体例，可列举出科克罗夫特-沃尔顿(Cockcroft-walton)型、范德格拉夫型、共振变压器型、绝缘芯变压器型、或直线型、地那米(Dynamitron)型、高频型等各种电子射线加速器。
作为检查对象的防眩层9可以在表面具有凹凸形状。在防眩层9的表面形成凹凸形状的方法例如可以为下述方法中的任意：(1)在已述的防眩层用组成物中添加(即、混合分散)微粒的方法；(2)不添加微粒，通过与防眩层用组成物中的溶剂的蒸发相伴随的旋节线分解来形成相分离结构的方法；(3)赋予凹凸形状的赋形处理；(4)压花加工和(1)～(4)的组合。
[3.防眩层的选择方法及搭载有防眩层的产品]
另外，本实施方式和后述的各变形例的眩光对比度的比较方法也可以应用于防眩层9的选择方法和搭载有通过该选择方法选择的防眩层9的产品。作为在防眩层9的选择方法中使用的防眩层9，可以应用通过在[2.防眩层的制造方法]中说明的层叠体的制造方法以及其他制造方法制造出的各种形态的防眩层9。
在防眩层9的选择方法中，作为成为比较基准的眩光对比度，应用利用第1光学测量装置对表面配置有第1防眩层9的电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第1测量对比度。作为第1光学测量装置，例如能够使用图2所示的第1光学测量装置1A。另外，在防眩层9的选择方法中，作为成为比较对象的眩光对比度，应用利用第2光学测量装置对表面配置有第2防眩层9的电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第2测量对比度。在第2测量对比度的测量中使用的电子显示器主体与在第1测量对比度的测量中使用的电子显示器主体相同。第2防眩层9是与第1防眩层9不同的防眩层。作为第2光学测量装置，例如能够应用图2所示的第2光学测量装置1B。
即，在防眩层9的选择方法中，对于第1测量对比度和第2测量对比度，使用伴随有两个对比度中的一方的校正的、上述的眩光对比度的比较方法来进行比较。
然后，基于第1测量对比度与第2测量对比度的比较结果，选择第1防眩层9和第2防眩层9中的一方的防眩层。具体而言，选择第1防眩层9和第2防眩层9中的对应的测量对比度良好的防眩层。更具体而言，选择第1防眩层9和第2防眩层9中的对应的测量对比度较低的防眩层。这样的防眩层9的选择可以在如下的基础上进行：第1防眩层9和第2防眩层9这两者在上述的[2.防眩层的制造方法]中被判断为合格品。
通过本方法选择的防眩层9可以搭载于作为产品的电子显示器、构成电子显示器的偏光板或显示元件上而发挥出良好的光学特性。另外，显示元件的具体形态根据电子显示器的种类而不同。例如，在电子显示器为LCD(液晶显示器)的情况下，显示元件为液晶显示面板。LCD例如由液晶显示面板、表面件和偏光板构成。另外，在电子显示器为OLED(有机发光二极管)的情况下，显示元件为OLED的显示元件。OLED例如由显示元件、表面件和偏光板构成。OLED有时也不具备偏光板。另外，显示元件也可以是作为电子显示器的另一例的迷你LED或微型LED的显示元件。迷你LED和微型LED例如可以由显示元件、表面件和偏光板构成。迷你LED和微型LED有时也不具备偏光板。上述显示元件包含在电子显示器8中，并且显示元件包含像素、像素矩阵81或者黑矩阵82。
此外，通过本方法选择的防眩层9可有效地用于所有电子显示器。例如，近年来大面积化的HD(高清)、FHD(全高清)4K、8K等高画质化不断推进的30英寸、进而40、50英寸以上的电视、15英寸、进而20、30英寸以上的监视器、10英寸以上、进而15英寸以上、17英寸以上的笔记本电脑等、具有110dpi～350dpi这样的像素密度(每1英寸的像素数)的电子显示器。像素密度有时也被称为ppi。本公开中的像素密度是显示器中的显示元件的物理像素密度。如果在各种显示器显示元件中能够变更分辨率，则在该情况下，是其能够取得的最大的像素密度。
例如在138dpi的笔记本电脑上搭载防眩层9的情况下的眩光对比度值优选为0.05、更优选为0.03以下的情况下，可以认为眩光防止性良好。另外，与上述的推进大面积化的电子显示器相比，近年来高精细化进一步发展的车载用显示器、平板型显示器、智能手机等为了实现即使画面尺寸小也能够较多地显示信息量的目的，像素密度更致密的情况较多，为150dpi～900dpi。例如，如果搭载于423dpi的智能手机的情况下的眩光对比度值优选为0.07以下、更优选为0.05以下、最优选为0.04以下，则认为眩光防止性良好。并且，如图11所示，该眩光对比度值是在上述的各像素密度(138dpi、423dpi)的显示器8000上搭载防眩层90、并在与各像素密度对应的测量条件下使用测量仪1000进行测量的情况下的值。测量仪1000构成为在壳体1001的内部收纳有光圈1002、透镜1003以及CCD1004。另外，对于透镜1003，使用单焦点60mm的照相机透镜，对于CCD1004，为了极力降低测量错误而使用冷却CCD。使用测量仪1000的具体的测量条件如下所述。
[13.3英寸、138dpi的情况下的测量条件]
(1)显示器的条件：全屏幕
(2)仅绿色光G全输出点亮时的子像素的间距PF：约185μm
(3)测量仪的摄像元件的像素间距PL：5.5μm
(4)摄像透镜的像侧有效F值F#image：36.4
(5)用于计算对比度值的摄像元件像素区域：128×128
(6)作为从摄像透镜物体侧主点到显示器矩阵面的距离的测量距离L：500mm
(7)光学倍率m：0.136
(8)用PF*m/PL定义的ISR(Image Sampling Ratio：图像采样比)：4.59
(9)显示器表面与测量仪的光轴所成的角度：90°
(10)由于能够看到像素形状，因此实施去除像素形状的工序。
[5.2英寸、423dpi的情况下的测量条件]
(1)显示器的条件：全屏幕
(2)PF：约60μm
(3)PL:5.5μm
(4)F#image:36.4
(5)用于计算对比度值的摄像元件像素区域：128×128
(6)L:500mm
(7)m:0.136
(8)ISR:1.49
(9)显示器表面与测量仪的光轴所成的角度：90°
(10)由于看不到像素形状，因此不实施去除像素形状的工序。
在138dpi中，实施了将显示器显示元件的像素形状的图像成分去除的工序。该工序通过如下方式来实施：对拍摄得到的图像进行傅立叶变换，从傅立叶变换后的图像中去除由显示器的像素形状的图像成分产生的规则的周期成分，然后进行傅立叶逆变换。
根据本方法，能够将由不同的光学测量装置测量出的眩光对比度值彼此在不进行再测量的情况下进行比较，能够容易地选择最适合于电子显示器的偏光板或显示元件等的防眩层。
[4.显示元件的选择方法及搭载有显示元件的产品]
另外，本实施方式及后述的各变形例的眩光对比度的比较方法也能够应用于显示元件的选择方法、以及搭载有通过该选择方法选择出的显示元件的产品中。显示元件的具体形态没有特别限定，例如可以是上述LCD的液晶显示面板、OLED的显示元件、迷你LED的显示元件、微型LED的显示元件。
在显示元件的选择方法中，作为成为比较基准的眩光对比度，应用在第1显示元件的表面配置有第3防眩层9的状态即电子显示器的状态下的、由第3光学测量装置测量出的第3测量对比度。作为第3光学测量装置，例如能够使用图2所示的第1光学测量装置1A。另外，在显示元件的选择方法中，作为成为比较对象的眩光对比度，应用在第2显示元件的表面配置有第3防眩层9的状态下、由第4光学测量装置测量出的第4测量对比度。第2显示元件是与第1显示元件不同的显示元件。在第4测量对比度的测量中使用的第3防眩层9是具有与在第3测量对比度的测量中使用的防眩层9相同的光学特性的防眩层。第4光学测量装置是与第3光学测量装置不同的装置。作为第4光学测量装置，例如能够应用图2所示的第2光学测量装置1B。
即，在显示元件的选择方法中，对于第3测量对比度和第4测量对比度，使用伴随有两个对比度中的一方的校正的、上述的眩光对比度的比较方法来进行比较。
然后，根据第3测量对比度与第4测量对比度的比较结果，选择第1显示元件和第2显示元件中的一方的显示元件。具体而言，选择第1显示元件和第2显示元件中的对应的测量对比度良好的显示元件。通过本方法选择的显示元件能够搭载于电子显示器发挥出良好的光学特性。
如上所述，根据本实施方式，通过基于第1测量条件与第2测量条件的比率来校正第2眩光对比度，由此能够对测量条件不同的第1眩光对比度与第2眩光对比度适当地进行比较。
通过几个具体例说明了一个实施方式，但上述的具体例并非有意限定一个实施方式。上述的一个实施方式能够在其他各具体例中实施，在不脱离其主旨的范围内，能够进行各种结构的省略、置换、变更或者进一步追加结构。
以下，通过参照附图对其他具体例进行说明，来进一步对上述的实施方式进行说明。在以下的说明和以下的说明所使用的附图中，对于能够与上述的具体例同样地构成的部分，使用与对上述的具体例中的对应的部分所使用的标号相同的标号，并且省略重复的说明。
(第1变形例)
图4是示出本实施方式的第1变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。在图1中，说明了根据算式(1)来校正第2眩光对比度的例子。与此相对，在图4所示的例子中，第2眩光对比度的校正按照以下的算式(4)来进行(步骤S3A)。
SP2a＝SP2×(F2/F1)×(m1/m2)×(M2/M1)0.5 (4)
在此，在m1、d1、f1之间，m1＝f1/d1的关系成立。同样地，在m2、d2、f2之间，m2＝f2/d2的关系成立。因此，如果对算式(4)进行变形，则能够得到与算式(1)相同的关系式。即，与按照算式(1)进行的校正相同，按照算式(4)对第2眩光对比度进行校正也等价于使S1＝S2成立。
因此，根据图4所示的示例，与图1的情况相同，能够恰当地对测量条件不同的第1眩光对比度和第2眩光对比度进行比较。
(第2变形例)
图5是示出本实施方式的第2变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。在图5所示的例子中，第2眩光对比度的校正按照以下的算式(5)进行(步骤S3B)。
SP2a＝SP2×(F2'/F1')×(M2/M1)0.5 (5)
在此，在F1’与F1之间，F1’＝F1/m1的关系成立。在F2’与F2之间，F2’＝F2/m2的关系成立。因此，如果对算式(5)进行变形，则能够得到与算式(4)相同的关系式。即，与按照算式(4)进行的校正相同，按照算式(5)对第2眩光对比度进行校正也等价于使S1＝S2成立。
因此，根据图5所示的示例，与图4的情况相同，能够恰当地对测量条件不同的第1眩光对比度和第2眩光对比度进行比较。
(第3变形例)
图6A是示出本实施方式的第3变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。之前，对如下例子进行了说明：通过以使S1＝S2成立的方式对第2眩光对比度进行校正，由此获得具有与第1眩光对比度互换的互换性的第2眩光对比度。与此相对，在图6A所示的例子中，构成为，考虑由像差的影响引起的眩光对比度的误差，与S1＝S2成立的情况相比，得到能够更高精度地与第1眩光对比度进行比较的第2眩光对比度。
具体而言，校正部101取得第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息(步骤S1)，并取得第2眩光对比度和表示第2测量条件的信息(步骤S2)，然后判断已述的算式(6)的关系式S1＝S2是否成立(步骤S31)。
在S1＝S2成立的情况下(步骤S31：是)，校正部101进行在第2测量条件下拍摄的出射光的图像的校正运算，使得在与在第1测量条件下拍摄的出射光的图像之间，基于图像计算出的MTF(Modulation Transfer Function：调制传递函数)一致(步骤S32)。另一方面，在S1＝S2不成立的情况下(步骤S31：否)，结束处理。
图7是示出图6A的流程图中的校正运算(步骤S32)的详细例子的流程图。在第2测量条件下拍摄的出射光的图像的校正运算例如也可以按照图7的流程图进行。
具体而言，校正部101首先制成在第2测量条件下拍摄的出射光的图像的边缘轮廓(步骤S321)。边缘轮廓是表示在第2测量条件下拍摄的出射光的图像的边缘部分的像素值的变动的信息。边缘轮廓例如可以应用JP2020-25224A所公开的技术来制作。
在制成了边缘轮廓之后，校正部101通过对边缘轮廓进行微分来算出线扩展函数(步骤S322)。
在算出线扩展函数之后，校正部101通过对所计算出的线扩展函数进行傅立叶变换来计算出第2MTF(步骤S323)。
在计算出第2MTF之后，校正部101将计算出的第2MTF、与基于在第1测量条件下拍摄的出射光的图像所计算出的第1MTF进行比较(步骤S324)。
通过比较，校正部101判断第2MTF是否与第1MTF一致(步骤S325)。
在第2MTF与第1MTF一致的情况下(步骤S325：是)，校正部101结束校正运算，如图6A所示，基于校正运算后的出射光的图像来取得校正后的第2眩光对比度(步骤S33)。
另一方面，在第2MTF与第1MTF不一致的情况下(步骤S325：否)，校正部101通过变更对在第2测量条件下拍摄的出射光的图像的分辨率进行调整的增强滤光器的系数，来变更该图像的分辨率(步骤S326)。对于使用了增强滤光器的分辨率的变更，例如可以应用JP2020-25224A所公开的技术来进行。之后，对变更了分辨率后的图像反复进行步骤S321之后的处理。此外，图7所示的例子只不过示出了校正运算的一个例子，当然也可以通过图7以外的方法进行校正运算。
根据图6A所示的示例，能够更恰当地对测量条件不同的第1眩光对比度和第2眩光对比度进行比较。
此外，如图6B所示，校正部101也可以在步骤S32与步骤S33之间实施步骤S34。步骤S34是如下这样的工序：使通过对在第2测量条件下拍摄的出射光的图像进行校正运算而得到的图像的放射亮度平均值，与在第1测量条件下拍摄的出射光的图像的放射亮度平均值一致。
具体而言，在步骤S34中，校正部101将通过校正运算得到的图像如图6C所示那样分割为在X方向和Y方向上呈矩阵状排列的多个区域(X，Y)。然后，校正部101对分割后的各区域(X，Y)内的所有像素的放射亮度数据乘以下述参数：
[算式19]
Figure BDA0004156080760000331
。其中，
[算式20]
Figure BDA0004156080760000332
是在预先取得的第1测量条件下拍摄的出射光的图像的放射亮度平均值。IXY是区域(X，Y)内的局部的平均亮度。通过步骤S34，能够使校正运算后的图像的全部区域(X，Y)的放射亮度平均值与在第1测量条件下拍摄的出射光的图像的放射亮度平均值一致。在与步骤S34连续的步骤S33中，校正部101基于在与在第1测量条件下拍摄的出射光的图像之间、放射亮度平均值一致的校正运算后的图像，取得校正后的第2眩光对比度。
另外，如图6D所示，校正部101也可以在步骤S32与步骤S34之间实施步骤S35。步骤S35是从通过步骤S32的校正运算得到的图像中去除由电子显示器8的显示元件的像素产生的像素形状的图像成分的工序。步骤S35例如可以通过如下方式实施：对通过校正运算得到的图像进行傅立叶变换，从傅立叶变换后的图像中去除由电子显示器8的像素产生的规则的周期成分，然后进行傅立叶逆变换。由此，在与步骤S35连续的步骤S34中，对于去除了由电子显示器8的显示元件的像素产生的像素形状的图像成分的、校正运算后的图像，实施在与在第1测量条件下拍摄的出射光的图像之间使放射亮度平均值一致的工序。
(第4变形例)
图8是示出本实施方式的第4变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。此前，作为比较基准的眩光对比度是在实际的测量条件下实测的眩光对比度。与此相对，在图8所示的例子中，将作为比较基准的眩光对比度设为在假想的测量条件下假想地测量出的眩光对比度。
具体而言，首先，如图8所示，校正部101取得：作为比较基准的第3眩光对比度，其是在使用了使来自防眩层9的出射光成像的假想的摄像透镜、和使出射光成像的假想的二维图像传感器的假想的测量条件下假想地测量出的；和表示假想的测量条件的信息(步骤S1A)。
另外，校正部101取得：作为比较对象的第4眩光对比度，其是在使用了使来自防眩层9的出射光成像的实际的摄像透镜、和使出射光成像的实际的二维图像传感器的实际的测量条件下实测出的；和表示实际的测量条件的信息(步骤S2A)。
接下来，校正部101判断在假想的测量条件与实际的测量条件之间以下的算式(9)是否成立(步骤S301)。
S3≠S4 (9)
在算式(9)中，S3是作为假想的测量条件的、有助于使来自防眩层9的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的、防眩层9上的发光区域的大小，且满足以下的算式(11)。S4是作为实际的测量条件的、有助于使来自防眩层9的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的、防眩层9上的发光区域的大小，且满足以下的算式(12)。
[算式21]
Figure BDA0004156080760000341
在算式(11)中，R3是二维图像传感器上的衍射极限光斑的大小。m3是作为假想的测量条件的假想的摄像透镜的倍率。F3是作为假想的测量条件的假想的摄像透镜的像侧有效F值。d3是作为假想的测量条件的从防眩层9到假想的摄像透镜的距离。f3是作为假想的测量条件的假想的摄像透镜的有效焦距。F3'是作为假想的测量条件的假想的摄像透镜的物侧有效F值。
[算式22]
Figure BDA0004156080760000351
在算式(12)中，R4是二维图像传感器上的衍射极限光斑的大小。m4是作为实际的测量条件的实际的摄像透镜的倍率。F4是作为实际的测量条件的实际的摄像透镜的像侧有效F值。d4是作为实际的测量条件的从防眩层9到实际的摄像透镜的距离。f4是作为实际的测量条件的实际的摄像透镜的有效焦距。F4’是作为实际的测量条件的实际的摄像透镜的物侧有效F值。
在算式(9)成立的情况下(步骤S301：是)，校正部101按照以下的算式(10)来校正第4眩光对比度(步骤S302)。
SP4a＝SP4×(S4/S3) (10)
在算式(10)中，SP4a是校正后的第4眩光对比度。SP4是校正前的第4眩光对比度。
另一方面，在算式(9)不成立的情况下(步骤S301：否)，校正部101结束处理。
在对第4眩光对比度进行了校正之后，比较部102对校正后的第4眩光对比度与第3眩光对比度进行比较(步骤S4A)。
根据图8所示的例子，即使在假想地设定作为比较基准的眩光对比度的情况下，也能够对作为比较对象的眩光对比度恰当地进行比较。通过假想地设定比较基准，能够提高与比较基准相关的自由度。
(第5变形例)
图9是示出本实施方式的第5变形例的眩光对比度的比较方法的流程图。如图9所示，也可以在按照已述的算式(10)校正第4眩光对比度之后，按照以下的算式(13)进一步校正第4眩光对比度(步骤S303)。
SP4a'＝SP4a×(M4/M3)0.5 (13)
在算式(13)中，SP4a'是基于算式(13)的、校正后的第4眩光对比度。M3是以下的算式(14)所示的值。M4是以下的算式(15)所示的值。
[算式23]
Figure BDA0004156080760000361
在算式(14)中，Ac3是在将来自防眩层的出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F3×λ)/2)2×π表示的参数。Am3是在将作为假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p3的情况下以p32表示的参数。erf是标准误差函数。
[算式24]
Figure BDA0004156080760000362
在算式(15)中，Ac4是在将来自防眩层的出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F4×λ)/2)2×π表示的参数。Am4是在将作为假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p4的情况下以p42表示的参数。erf是标准误差函数。
根据图9所示的例子，即使在假想的测量条件与实际的测量条件之间摄像透镜的F值不同的情况下，也能够恰当地校正第4眩光对比度。因此，能够对在假想的测量条件下假想地测量出的眩光对比度、和在实际的测量条件下实测出的眩光对比度更恰当地进行比较。
此外，以上对能够应用于上述实施方式的多个变形例进行了说明，但是，当然也能够将多个变形例适当地组合起来应用。

Claims (34)

1.一种眩光对比度的校正方法，其中，
所述眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序，所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序，所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器，在所述第2测量条件下测量出的；以及
为了与所述第1眩光对比度比较，基于所述第1测量条件与所述第2测量条件的比率来校正所述第2眩光对比度的工序。
2.根据权利要求1所述的眩光对比度的校正方法，其中，
校正所述第2眩光对比度的工序按照以下的算式(1)进行，
SP2a＝SP2× (F2/F1)× (d2/d1)× (f1/f2)× (M2/M1)0.5 (1)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
d1：作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离；
d2：作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离；
f1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距；
f2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式1]
Figure FDA0004156080750000021
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式2]
Figure FDA0004156080750000022
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
3.根据权利要求1所述的眩光对比度的校正方法，其中，
校正所述第2眩光对比度的工序按照以下的算式(4)进行，
SP2a＝SP2×(F2/F1)×(m1/m2)×(M2/M1)0.5 (4)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
m1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率；
m2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式3]
Figure FDA0004156080750000031
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式4]
Figure FDA0004156080750000032
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
4.根据权利要求1所述的眩光对比度的校正方法，其中，
校正所述第2眩光对比度的工序按照以下的算式(5)进行，
SP2a＝SP2×(F2'/F1')×(M2/M1)0.5 (5)
其中，
SP2a：校正后的第2眩光对比度；
SP2：校正前的第2眩光对比度；
F1’：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效F值；
F2’：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效F值；
M1：以下的算式(2)所示的值；
M2：以下的算式(3)所示的值，
[算式5]
Figure FDA0004156080750000041
其中，
Ac1：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F1×λ)/2)2×π表示的参数；
Am1：在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式6]
Figure FDA0004156080750000042
其中，
Ac2：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F2×λ)/2)2×π表示的参数；
Am2：在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。
5.一种眩光对比度的校正方法，其中，
所述眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序，所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序，所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器，在所述第2测量条件下测量出的；以及
为了与所述第1眩光对比度比较而校正所述第2眩光对比度的工序，
校正所述第2眩光对比度的工序具有：
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间以下的算式(6)成立的情况下，以与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像之间使基于图像计算出的MTF一致的方式，对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算；和
从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序，
S1＝S2 (6)
其中，
S1：是作为所述第1测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第1二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(7)；
S2：是作为所述第2测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第2二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(8)，
[算式7]
Figure FDA0004156080750000051
其中，
R1：所述第1二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率；
F1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效F值；
d1：作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离；
f1：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距；
F1’：作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效F值，
[式8]
Figure FDA0004156080750000061
其中，
R2：所述第2二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率；
F2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效F值；
d2：作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离；
f2：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距；
F2'：作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效F值。
6.根据权利要求5所述的眩光对比度的校正方法，其中，
进行所述校正运算的工序具有对增强滤光器的系数进行调整的工序，其中，所述增强滤光器对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的分辨率进行调整。
7.根据权利要求6所述的眩光对比度的校正方法，其中，
进行所述校正运算的工序还具有：
生成在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的边缘轮廓的工序；
通过对生成的所述边缘轮廓进行微分来计算线扩展函数的工序；
通过对计算出的所述线扩展函数进行傅里叶变换来计算MTF的工序；以及
将计算出的所述MTF与基于在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的MTF进行比较的工序。
8.根据权利要求5至7中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法，其中，
对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序之间，具有使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序。
9.根据权利要求8所述的眩光对比度的校正方法，其中，
对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序之间，具有从通过所述校正运算得到的图像中去除由所述电子显示器的像素产生的图像成分的工序。
10.一种眩光对比度的校正方法，其中，
所述眩光对比度的校正方法具备：
取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第3眩光对比度和表示假想的测量条件的信息的工序，所述第3眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的假想的摄像透镜、和使所述出射光成像的假想的二维图像传感器的所述假想的测量条件下假想地测量出的；
取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第4眩光对比度和表示实际的测量条件的信息的工序，所述第4眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的实际的摄像透镜、和使所述出射光成像的实际的二维图像传感器的所述实际的测量条件下实测出的；以及
为了与所述第3眩光对比度比较而校正所述第4眩光对比度的工序，
校正所述第4眩光对比度的工序具有如下工序：在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间以下的算式(9)成立的情况下，按照以下的算式(10)校正所述第4眩光对比度，
S3≠S4 (9)
SP4a＝SP4× (S4/S3) (10)
其中，
S3：是作为所述假想的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(11)；
S4：是作为所述实际的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小，且满足以下的算式(12)；
SP4a：校正后的第4眩光对比度；
SP4：校正前的第4眩光对比度，
[算式9]
Figure FDA0004156080750000071
其中，
R3：所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的倍率；
F3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的像侧有效F值；
d3：作为所述假想的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离；
f3：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的有效焦距；
F3’：作为所述假想的测量条件的摄像透镜的物侧有效F值，
[算式10]
Figure FDA0004156080750000081
其中，
R4：所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小；
m4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的倍率；
F4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的像侧有效F值；
d4：作为所述实际的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离；
f4：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的有效焦距；
F4′：作为所述实际的测量条件的摄像透镜的物侧有效F值。
11.根据权利要求10所述的眩光对比度的校正方法，其中，
校正所述第4眩光对比度的工序还具有按照以下的算式(13)对所述第4眩光对比度进行校正的工序，
SP4a'＝SP4a× (M4/M3)0.5 (13)
其中，
SP4a'：基于算式(13)的校正后的第4眩光对比度；
M3：以下的算式(14)所示的值；
M4：以下的算式(15)所示的值，
[算式11]
Figure FDA0004156080750000082
其中，
Ac3：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F3×λ)/2)2×π表示的参数；
Am3：在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p3的情况下以p32表示的参数；
erf：标准误差函数，
[算式12]
Figure FDA0004156080750000091
其中，
Ac4：在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×F4×λ)/2)2×π表示的参数；
Am4：在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p4的情况下以p42表示的参数。
12.根据权利要求1至7、10以及11中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法，其中，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，下述关系成立：所述电子显示器、所述防眩层、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同，包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的、使用了所述测量装置的测量条件不同。
13.根据权利要求1至7、10以及11中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法，其中，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，下述关系成立：所述电子显示器和所述防眩层各自的结构上的条件相同，具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。
14.根据权利要求1至7、10以及11中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法，其中，
在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间，所述电子显示器、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同，所述防眩层的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。
15.一种眩光对比度的比较方法，其中，
所述眩光对比度的比较方法具备如下工序：将通过权利要求1至14中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。
16.根据权利要求15所述的眩光对比度的比较方法，其中，
所述眩光对比度的比较方法还具备将所述校正后的作为比较对象的眩光对比度与所述作为比较基准的眩光对比度的比较结果输出的工序。
17.一种电子显示器的制造方法，其中，
所述电子显示器的制造方法具备对作为检查对象的电子显示器是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序，
所述进行检查的工序具有权利要求15所述的进行比较的工序，
所述进行比较的工序为如下这样的工序：应用所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方，应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方，并将所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。
18.根据权利要求17所述的电子显示器的制造方法，其中，
所述作为检查对象的电子显示器是在表面未配置防眩层的电子显示器，在所述进行检查的工序中，为了测量眩光对比度而在所述表面配置检查用的防眩层，
所述检查用的防眩层是具有预先决定的特性的防眩层。
19.根据权利要求17所述的电子显示器的制造方法，其中，
所述作为检查对象的电子显示器是在表面配置有防眩层的电子显示器。
20.一种防眩层的制造方法，其中，
所述防眩层的制造方法具备：
形成作为检查对象的防眩层的工序；和
对所述作为检查对象的防眩层是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序，
所述进行检查的工序具有权利要求15所述的进行比较的工序，
所述进行比较的工序具有如下工序：应用在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方，应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方，将在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。
21.根据权利要求20所述的防眩层的制造方法，其中，
在所述进行检查的工序中，为了测量眩光对比度，将所述作为检查对象的防眩层配置于检查用的电子显示器的表面，
所述检查用的电子显示器是具有预先决定的特性的电子显示器。
22.根据权利要求20或21所述的防眩层的制造方法，其中，
形成所述作为检查对象的防眩层的工序具有在基材上设置具有防眩功能的层的工序。
23.根据权利要求22所述的防眩层的制造方法，其中，
在所述基材上设置所述具有防眩功能的层的工序具有：
在所述基材上涂布含有树脂的防眩层用组成物的工序；和
使涂布的所述防眩层用组成物固化的工序。
24.一种防眩层，其中，
所述防眩层是使用权利要求20至23中的任意一项所述的防眩层的制造方法来制造的。
25.一种眩光对比度的比较装置，其中，
所述眩光对比度的比较装置具备：
校正部，其使用权利要求1至14中的任意一项所述的眩光对比度的校正方法来校正作为比较对象的眩光对比度；和
比较部，其对校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。
26.一种防眩层的选择方法，其中，
所述防眩层的选择方法具备使用权利要求15所述的眩光对比度的比较方法来选择防眩层的工序，
所述选择防眩层的工序具有如下工序：
应用通过第1光学测量装置对在表面配置有第1防眩层的电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第1测量对比度，来作为所述作为比较基准的眩光对比度，应用通过与所述第1光学测量装置不同的第2光学测量装置对在表面配置有与所述第1防眩层不同的第2防眩层的所述电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第2测量对比度，来作为所述作为比较对象的眩光对比度，对于所述第1测量对比度和所述第2测量对比度，使用伴随有所述第1测量对比度和所述第2测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序；和
基于所述比较的结果，来选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的一方的防眩层的工序。
27.根据权利要求26所述的防眩层的选择方法，其中，
选择所述一方的防眩层的工序具有选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的对应的测量对比度良好的防眩层的工序。
28.一种防眩层，其中，
所述防眩层是根据权利要求26或27所述的防眩层的选择方法所选择的防眩层。
29.一种偏光板，其中，
所述偏光板搭载有根据权利要求26或27所述的防眩层的选择方法所选择的防眩层。
30.一种显示元件，其中，
所述显示元件搭载有根据权利要求26或27所述的防眩层的选择方法所选择的防眩层。
31.一种电子显示器，其中，
所述电子显示器搭载有根据权利要求26或27所述的防眩层的选择方法所选择的防眩层。
32.一种显示元件的选择方法，其中，
所述显示元件的选择方法具备使用权利要求15所述的眩光对比度的比较方法来选择显示元件的工序，
所述选择显示元件的工序具有如下工序：
应用在第1显示元件的表面配置有第3防眩层的状态下由第3光学测量装置测量出的第3测量对比度，来作为所述作为比较基准的眩光对比度，应用在与所述第1显示元件不同的第2显示元件的表面配置有所述第3防眩层的状态下由与所述第3光学测量装置不同的第4光学测量装置测量出的第4测量对比度，来作为所述作为比较对象的眩光对比度，对于所述第3测量对比度和所述第4测量对比度，使用伴随有所述第3测量对比度和所述第4测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序；和
基于所述比较的结果，来选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的一方的显示元件的工序。
33.根据权利要求32所述的显示元件的选择方法，其中，
选择所述一方的显示元件的工序具有选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的对应的测量对比度良好的显示元件的工序。
34.一种电子显示器，其中，
所述电子显示器具备根据权利要求32或33所述的显示元件的选择方法所选择的显示元件。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000304648A (ja) * 1999-02-19 2000-11-02 Dainippon Printing Co Ltd 面ぎらの定量的評価方法、評価装置、防眩性フィルム及びその製造方法
JP2004239663A (ja) * 2003-02-04 2004-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd ディスプレイの輝度測定方法
CN1914523A (zh) * 2004-01-29 2007-02-14 日本油漆株式会社 防炫性涂料组合物、防炫薄膜及其制造方法
JP2009074981A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fuji Xerox Co Ltd 画像評価装置
JP2009175041A (ja) * 2008-01-25 2009-08-06 Asahi Kasei Corp 表示画像のギラツキ評価方法
CN103929130A (zh) * 2014-03-26 2014-07-16 合肥晶澳太阳能科技有限公司 一种防眩光光伏组件眩光等级测评方法
CN108088658A (zh) * 2016-11-23 2018-05-29 深圳华萤光电技术有限公司 一种眩光测量方法及其测量系统
CN110399633A (zh) * 2019-06-06 2019-11-01 杭州电子科技大学上虞科学与工程研究院有限公司 一种能够校正炫光影响的显示器色彩管理实现方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004101868A (ja) 2002-09-10 2004-04-02 Hitachi Ltd フォトマスクの製造方法
JP4869053B2 (ja) * 2006-01-11 2012-02-01 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP2010169788A (ja) 2009-01-21 2010-08-05 Toray Ind Inc ディスプレイ用フィルター
JP2013019886A (ja) * 2011-06-13 2013-01-31 Ricoh Co Ltd 画像計測装置
JP6984598B2 (ja) 2016-07-29 2021-12-22 大日本印刷株式会社 文字ぼけ評価方法、光学部材、および表示装置
JP7208737B2 (ja) 2018-08-08 2023-01-19 日本放送協会 カメラ評価値測定装置およびカメラ評価値測定方法
WO2020085307A1 (ja) 2018-10-26 2020-04-30 東洋紡株式会社 液晶化合物配向層転写用配向フィルム

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000304648A (ja) * 1999-02-19 2000-11-02 Dainippon Printing Co Ltd 面ぎらの定量的評価方法、評価装置、防眩性フィルム及びその製造方法
JP2004239663A (ja) * 2003-02-04 2004-08-26 Fuji Photo Film Co Ltd ディスプレイの輝度測定方法
CN1914523A (zh) * 2004-01-29 2007-02-14 日本油漆株式会社 防炫性涂料组合物、防炫薄膜及其制造方法
JP2009074981A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Fuji Xerox Co Ltd 画像評価装置
JP2009175041A (ja) * 2008-01-25 2009-08-06 Asahi Kasei Corp 表示画像のギラツキ評価方法
CN103929130A (zh) * 2014-03-26 2014-07-16 合肥晶澳太阳能科技有限公司 一种防眩光光伏组件眩光等级测评方法
CN108088658A (zh) * 2016-11-23 2018-05-29 深圳华萤光电技术有限公司 一种眩光测量方法及其测量系统
CN110399633A (zh) * 2019-06-06 2019-11-01 杭州电子科技大学上虞科学与工程研究院有限公司 一种能够校正炫光影响的显示器色彩管理实现方法

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