TW202212265A - 氧化鈦組成物、分散液、於表面層具有氧化鈦組成物之構件 - Google Patents

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Abstract

本發明提供惡臭原因物質之分解能高、因水分吸附所致之惡臭原因物質的再釋出較少、粒子分散安定性優異之氧化鈦組成物。 本發明有關氧化鈦組成物、於表面具有氧化鈦組成物之構件，該氧化鈦組成物含有氧化鈦粒子、成分A及成分B， 成分A係選自由海泡石及鎂鋁海泡石(attapulgite)所成之群之至少一種，成分B係選自由高矽沸石(high silica zeolite)及疏水性氧化矽所成之群之至少一種， 成分A相對於氧化鈦粒子之質量比為0.75~3.25，且成分B相對於成分A之質量比為0.25~3.0。

Description

氧化鈦組成物、分散液、於表面層具有氧化鈦組成物之構件
本發明有關用以吸附分解惡臭原因物質之氧化鈦組成物、含該組成物之分散液、於表面層具有氧化鈦組成物之構件。
近年來，因消費者之健康意識不斷提高，故除了生活空間的舒適性外，亦謀求「安全・安心」，為了抑制自生活相關製品及建築物釋出之有害揮發性有機化合物(VOC：Volatile Organic Compounds)、或汗味、老人味、煙草氣味、廚餘味等之與生活密切相關的難聞氣味，而要求具有除臭效果的材料。
除臭劑對臭味之除臭方法，有化學除臭法、物理除臭法等，按目的分類使用。化學除臭法係藉由使惡臭原因物質與除臭成分進行化學反應，使無味化，故對於特定惡臭原因物質可進行高選擇性的除臭。物理除臭法係藉由物理吸附自空氣中去除惡臭原因物質，故比較容易以一種吸附劑同時吸附複數種惡臭原因物質。作為該吸附劑，使用有活性碳、沸石、矽膠、氧化鋁、氧化鈦、環糊精等。然而，利用吸附劑之除臭，若以惡臭原因物質等達到吸附平衡時，將失去吸附能力，必須更換吸附劑。
光觸媒對臭味之除臭方法，由於係基於分解惡臭原因物質之機制，故觸媒本身不變化，始終保持新鮮表面，無需補充觸媒。基於該等優點，近年來，盛行以光觸媒分解惡臭原因物質的研究。然而，一般由於光觸媒之吸附能低，故除臭速率緩慢，於惡臭原因物質之濃度低時，無法有效分解。因此，有將光觸媒與吸附劑複合化，補足光觸媒之吸附能之方法。
專利文獻1及專利文獻2中記載之發明，係利用海泡石或氧化矽等作為吸附劑。然而，已知海泡石或氧化矽等之表面為親水性之吸附劑與水的親和力大，吸附劑會吸附空氣中的水分，而將一旦吸附之惡臭原因物質再次釋出。
專利文獻3及專利文獻4記載之發明，係使用疏水性的高矽沸石作為吸附劑，防止惡臭原因物質再釋出。然而，由於吸附劑表面為疏水性，故具有親水基之氣體吸附能較低。且，由於高矽沸石一般對水之分散性低，於水分散液中之粒子分散安定性變低，故難以形成均一的組成物，組成物之強度可能降低。
專利文獻5記載之發明，雖然使用對多種惡臭原因物質具有優異吸附能之活性碳，但吸附劑的活性碳由於吸收對於光觸媒機能發揮必要的光，而阻礙光觸媒分解惡臭原因物質，故不適於與光觸媒複合。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2001-259003號公報 [專利文獻2] 日本特開2002-136811號公報 [專利文獻3] 日本特開2008-272651號公報 [專利文獻4] 日本特開2018-158316號公報 [專利文獻5] 日本特開2003-225572號公報
[發明欲解決之課題]
本發明之目的在於提供對惡臭原因物質具有高的分解能、因水分吸附所致之惡臭原因物質的再釋出較少、粒子分散安定性優異之氧化鈦組成物及於表面具有氧化鈦組成物之構件。 [用以解決課題之手段]
本發明人等為了達到上述目的進行深入研究之結果，發現以特定比例含有氧化鈦粒子、成分A(海泡石(sepiolite)等)及成分B(高化矽沸石等)之3種粒子，對惡臭原因物質顯示出高分解性，抑制了水分吸附所致之惡臭原因物質之再釋出，進而該分散液之粒子分散安定性優異，因而完成本發明。
[1] 一種氧化鈦組成物，其含有 氧化鈦粒子、 選自由海泡石及鎂鋁海泡石(attapulgite)所成之群之至少一種的成分A、及 選自由高矽沸石(high silica zeolite)及疏水性氧化矽所成之群之至少一種的成分B， 成分A相對於氧化鈦粒子之質量比為0.75~3.25，且 成分B相對於成分A之質量比為0.25~3.0。 [2] 如[1]之氧化鈦組成物，其中成分A為海泡石，成分B為高矽沸石。 [3] 如[1]或[2]之氧化鈦組成物，其中氧化鈦粒子之平均粒徑為5~30nm。 [4] 如[1]至[3]中任一項之氧化鈦組成物，其中進而包含水性分散介質。 [5] 一種構件，其表面具有如[1]至[3]中任一項之氧化鈦組成物。 [發明效果]
本發明之組成物以特定比例含有氧化鈦粒子、成分A(海泡石等)及成分B(高矽沸石等)之3種粒子，對惡臭原因物質顯示出迄今以上之高分解性，抑制了水分吸附所致之惡臭原因物質之再釋出。 進而本發明之分散液以特定比例含有氧化鈦粒子、成分A(海泡石等)及成分B(高矽沸石等)之3種粒子，由於粒子之分散安定性優異，故塗佈時之作業性優異，進而可抑制組成物之強度降低。 因此，藉由本發明之於表面具有氧化鈦組成物之構件，可獲得有效抑制自與生活相關製品及建築物釋出之有害揮發性有機化合物(VOC)，或汗味、老人味、煙草氣味、廚餘味等之與生活密切相關之難聞氣味等的效果。
以下針對本發明詳細說明。
＜氧化鈦粒子＞ 作為氧化鈦粒子之結晶相，已知通常有金紅石型、銳鈦礦型、板鈦礦型，但較佳主要使用銳鈦礦型或金紅石型者。又，本文所謂之「主要」，意指氧化鈦粒子結晶全體中，通常為50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上，亦可為100質量%。
作為氧化鈦粒子，為了提高其惡臭原因物質分解性，亦可使用於氧化鈦粒子上擔持有鉑、金、銀、鈀、鐵、銅、鋅、鎳等之金屬化合物者，或摻雜錫、氮、硫、碳、過渡金屬等元素者。亦可進而使用光觸媒用氧化鈦。 使用光觸媒用氧化鈦時，因為當光線照射時，獲得惡臭原因物質之分解性能更強，而更佳。 光觸媒用氧化鈦係一般的光觸媒氧化鈦，較佳進而設計為可應答於400~800nm之可見光的可見光應答型光觸媒氧化鈦。
本文中，本說明書之所謂惡臭原因物質，包含例如氨、乙酸、硫化氫、甲基硫醇、三甲胺、甲醛、乙醛、甲苯、乙酸乙酯、乙烯、苯、丙酮、吡啶、異戊酸、壬烯醛、吲哚等之臭味成分等。
氧化鈦粒子藉由使用雷射光之動態光散射法測定之體積基準的50%累積分佈徑D 50(以下有時稱為「平均粒徑」)較佳為5~30nm，更佳為5~20nm。此係因為平均粒徑若未達5nm，則有除臭性能不足之情況，若超過30nm，則分散於水分散介質時，其分散液有變不透明之情況。作為測定平均粒徑之裝置，可使用例如，ELSZ-2000ZS(大塚電子(股)製)、Nanotrac UPA-EX150(日機裝(股)製)、LA-910 (堀場製作所(股)製)等。
＜成分A＞ 成分A係選自由海泡石及鎂鋁海泡石所成之群之至少一種，可單獨使用1種，亦可並用複數種。 海泡石係由含水矽酸鎂所成之於表面具有多數活性羥基之黏土性礦物。與如滑石之二次元結晶構造不同，海泡石係為以三次元鏈狀構造的2:1帶構造。本發明中，除了海泡石以外，亦可使用具有與海泡石類似構造之海泡石-山軟木石群(hormite)系礦物黏土的鎂鋁海泡石(鎂鋁矽酸(Mg,Al) 2Si 4O 10(OH)・6H 2O之鏈構造鹽；CAS登錄編號：12174-11-7)，較佳宜使用海泡石。 成分A之比表面積為100m 2/g以上1000m 2/g以下，更佳為120m 2/g以上500m 2/g以下時，就惡臭原因物質之吸附、分解率之方面較佳，且關於其形狀並未特別限定，除了纖維狀以外，亦可使用塊狀、粒狀之任一者。又，比表面積係藉由氣體吸附法測定之值。
＜成分B＞ 成分B係選自由高矽沸石及疏水性氧化矽所成之群之至少一種，可單獨使用1種，亦可並用複數種。 高矽沸石之組成係氧化矽之比例多於氧化鋁之結晶性含水之鋁的矽酸鹽，高矽沸石係結晶內部之空孔成為疏水性。一般SiO 2/Al 2O 3比以重量換算為10以上之沸石稱為高矽沸石。高矽沸石之通式係以A 2/nO・Al 2O 3z・xSiO 2・yH 2O (A=Na、Ca、K等之金屬陽離子，n=原子價)表示，沸石骨架之SiO 2/Al 2O 3比較低時呈現親水性較強，SiO 2/Al 2O 3比較高時呈現疏水性較強。其界限一般認為係約30，故作為成分B使用之高矽沸石之SiO 2/Al 2O 3比較佳為30以上80以下。又，SiO 2/Al 2O 3比可由藉由感應耦合電漿發光分光分析(ICP-AES)之元素定量而算出。 高矽沸石中存在之可交換氫原子經銅離子等之金屬離子交換者亦可作為成分B。本發明中，作為成分B亦可使用與高矽沸石同樣吸附材表面為疏水性之疏水性氧化矽等，較佳宜使用高矽沸石。 所謂疏水性氧化矽係使用三甲基矽烷基化劑進行疏水性處理之氧化矽化合物。作為成分B使用之疏水性氧化矽之疏水化度較佳為20以上，疏水化度越高越佳，上限值未特別限定。又，本說明書中之疏水化度係以在水與甲醇之混合溶液開始膨潤處理粉體之以甲醇容量%表示之濃度，係指藉以下條件測定者。 ＜疏水化度之測定方法＞ 將純水50mL放入200mL燒杯中，添加樣品0.2g，以磁攪拌器攪拌。將裝有甲醇之滴定管之前端放入液體中，攪拌下滴入甲醇，將直至樣品完全分散於水中所需之甲醇添加量設為YmL時，藉下述式獲得。 疏水化度M={Y/(50+Y)}×100 又，成分B之平均粒徑較佳為50μm以下，更佳為20μm以下，又更佳為5μm以下。此係因為平均粒徑大於50μm時，分散液中之粒子的分散安定性降低，且有組成物強度降低之顧慮。平均粒徑係使用雷射光之動態光散射法測定者。
＜氧化鈦組成物＞ 本發明之氧化鈦組成物含有氧化鈦粒子、成分A及成分B，成分A之質量相對於氧化鈦粒子之比為0.75~3.25，且成分B之質量相對於成分A之比為0.25~3.0。 成分A之質量相對於氧化鈦粒子之比小於0.75時，無法充分獲得對惡臭原因物質之吸附效果，惡臭原因物質之分解率降低，大於3.25時，會阻礙氧化鈦發揮光觸媒活性所需之光的行進，使惡臭原因物質之分解率降低，並且無法忽視因吸附水分而使惡臭原因物質再釋出故而欠佳。且，成分B之質量相對於成分A之比率小於0.25時，無法充分得到對惡臭原因物質之吸附效果，使惡臭原因物質之分解率降低，大於3.0時，會阻礙氧化鈦發揮光觸媒活性所需之光的行進，使惡臭原因物質之分解率降低，故而欠佳。基於提高對惡臭原因物質之吸附效果及提高惡臭原因物質之分解率之觀點，成分B之質量相對於成分A之比為更佳為1.25~2.5。
＜氧化鈦分散液＞ 作為本發明之氧化鈦組成物的一態樣，除了上述氧化鈦粒子、成分A及成分B以外，亦進而舉例為含有水性分散介質之氧化鈦組成物(氧化鈦分散液)。由於本發明之氧化鈦分散液係粒子的分散安定性優異，故在應用於後述構件時，可形成均勻的氧化鈦表面層。因此，較佳使用作為氧化鈦分散液。
作為氧化鈦分散液之水性分散介質，通常使用水性溶劑，但較佳使用水，亦可使用可與水混合之水溶性有機溶劑、以任意比例混合水與水溶性有機溶劑之混合溶劑。作為水，較佳為例如去離子水、蒸餾水、純水。且作為水溶性有機溶劑，較佳為例如甲醇、乙醇、異丙醇等之醇類；乙二醇、丙二醇等之二醇類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇正丙醚等之二醇醚類。水性分散介質可使用該等中之1種或組合2種以上使用。使用混合溶劑時，混合溶劑中水溶性有機溶劑的比例大於0質量%，較佳為50質量%以下，更佳為20質量%以下，又更佳為10質量%以下。 本發明之氧化鈦分散液係含有氧化鈦粒子、成分A及成分B，成分A之質量相對於氧化鈦粒子之比為0.75~3.25，且成分B之質量相對於成分A之比為0.25~3.0之分散液。 成分A之質量相對於氧化鈦粒子之比小於0.75時，有分散液之分散安定性差，組成物之強度降低之顧慮，大於3.25時，組成物之惡臭原因物質之分解率降低而欠佳。又，成分B之質量相對於成分A之比為小於0.25時，組成物之惡臭原因物質之分解率降低，大於3.0時有分散液中之粒子的分散安定性差，組成物強度降低之顧慮而欠佳。基於提高對惡臭原因物質之吸附效果、提高惡臭原因物質之分解率及分散液中粒子之分散安定性的觀點，成分B之質量相對於成分A之比更佳為1.25~2.5。
氧化鈦分散液中之氧化鈦粒子的濃度，基於易於製作後述所需厚度之氧化鈦組成物(表面層)之觀點，較佳為0.01~30質量%，特佳為0.5~20質量%。
本發明之氧化鈦組成物之製造方法，只要將氧化鈦粒子、成分A及成分B以成為上述比之方式混合即可，未特別限制。 且，於進而含有水性分散介質之氧化鈦組成物時，只要將氧化鈦粒子分散液、成分A及成分B以成為上述比之方式混合即可。雖未特別限制，但含有水性分散介質之氧化鈦組成物的製造方法，較佳使過氧化鈦等之氧化鈦前驅物水溶液進行水熱處理而結晶成長，於所得氧化鈦粒子分散液中添加成分A、成分B。
＜具有含有氧化鈦之表面層的構件＞ 上述氧化鈦分散液可基於在構件之表面形成具有惡臭原因物質之分解性的組成物之目的而使用。構件根據各目的、用途可有各種形狀。
此處，本說明書之構件舉例為例如建築物之壁材、壁紙、天花板材、地板材、瓷磚、磚、木板、樹脂板、金屬板、榻榻米、浴室材等之室內建築材；汽車或電車等之壁材、天花板材、地板材、座椅、扶手、吊環等之車內內裝材；窗簾、百葉窗、地毯、隔板、玻璃、鏡子、薄膜、桌子、椅子、床、收納架等之傢俱及生活相關製品；除臭過濾器、空氣清凈機、空調、冰箱、洗衣機、個人電腦、印表機、平板電腦、觸控面板、電話等之家電製品等，特別適於除臭過濾器等。
此處，作為構件之材料，舉例為例如有機材料、無機材料等。
作為有機材料，舉例為例如氯乙烯樹脂(PVC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚碳酸酯(PC)、丙烯酸樹脂、聚縮醛、氟樹脂、矽氧樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚乙烯縮丁醛(PVB)、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚醯亞胺樹脂、聚苯硫醚(PPS)、聚醚醯亞胺(PEI)、聚醚醚醯亞胺(PEEI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醯胺樹脂(PA)、三聚氰胺樹脂、酚樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)樹脂等之合成樹脂材料；天然橡膠等之天然材料；以及上述合成樹脂材料與天然材料之半合成材料。該等亦可加工為薄膜、薄片、纖維材料、纖維製品、其他成型品、積層板等等之所需形狀、構成。
作為無機材料，包含例如非金屬無機材料、金屬無機材料。 作為非金屬無機材料，舉例為例如玻璃、陶瓷、石材、石膏等。該等亦可加工為瓷磚、玻璃、鏡子、牆壁、過濾器、設計材等之各種形狀。 作為金屬無機材料，舉例為例如鑄鐵、鋼材、鐵、鐵合金、不鏽鋼、鋁、鋁合金、氮化鋁、氧化鋯、碳化矽、氮化矽、黏土礦物、氧化鋁、氧化鈦、氧化矽、鎳、鎳合金、鋅壓鑄件等。該等亦可實施上述金屬無機材料之電敷，亦可塗佈上述有機材料，亦可於上述有機材料或非金屬無機材料之表面實施之鍍敷。
作為在構件表面形成氧化鈦組成物之方法，舉例為例如在上述構件之表面，將氧化鈦分散液塗佈、流塗、浸塗、旋塗、缺角輪棒塗佈、反向輥塗、凹版塗佈、刀塗、接觸塗佈、模嘴塗佈等方法塗佈後，經乾燥、膜轉印之方法。
塗佈後之乾燥溫度可根據塗佈對象構件進行各種設定，但較佳為0~1000℃，更佳為10~800℃，更佳為20~700℃。若未達0℃，則前述分散液及/或塗佈液有凍結而無法使用之虞。由於海泡石及沸石之結晶水於600℃以上完全脫水，故在高於700℃之溫度下燒結不僅不經濟，組成物之強度亦容易降低
塗佈後之乾燥時間，可根據塗佈方法、乾燥溫度適當選擇，但較佳為10分鐘~72小時，更佳為20分鐘~48小時。此係因為若未達10分鐘，則組成物對構件表面之固定可能不足，若超過3天，則製造之經濟性差而欠佳。
上述構件表面的組成物(表面層)厚度可適當選擇，但較佳為100nm~50μm，更佳為200nm~50μm，又更佳為500nm~30μm。此係因為若上述層厚未達100nm，則惡臭原因物質之分解性可能不足，若超過50μm，則表面層很容易自構件表面剝離之故。 [實施例]
以下，顯示實施例及比較例，具體說明本發明，但本發明並不限於以下實施例。本發明中之性能試驗如下進行。
(1)氧化鈦分散液之50%累積分佈徑(D 50) 氧化鈦分散液之D 50係使用粒度分佈測量裝置(ELSZ-2000ZS(大塚電子(股)製)，作為藉由使用雷射光之動態光散射法測定之體積基準之50%累積分佈徑而算出。
(2)乙醛氣體之再釋出試驗 將評價用樣品放入1L氣囊中，將100ppm濃度之乙醛氣體300mL注入氣囊中，靜置45分鐘後，達到吸附平衡，測量乙醛氣體濃度。吸附平衡後取出樣品，放入新的1L氣囊中，將相對濕度100%的空氣300mL注入氣囊中。放置15分鐘後，測定自評價用樣品釋出之乙醛濃度。通過式1計算再釋出之乙醛比例。此時，1L氣囊使用附單口旋栓Tedlar氣體採樣袋(AS ONE(股)公司)，使用乙醛檢測管92L (Gastec股份有限公司)測定乙醛的氣體濃度，並藉以下基準進行評價。 ・良好(表示為○) …再釋出的乙醛比例未達5% ・稍不良(表示為△) …再釋出的乙醛比例為5~10% ・不良(表示為×) …再釋出的乙醛比例超過10% 式1：再釋出的乙醛比例[%]=再釋出的乙醛濃度/(初期濃度－吸附平衡時之乙醛濃度)×100
(3)乙醛氣體分解性能評價試驗 將達到吸附平衡之評價用樣品放入1L氣囊中，將20ppm濃度之乙醛氣體700mL注入氣囊中，測定初期乙醛氣體濃度。照射2.0 (mW/cm 2)之紫外線20分鐘後，進行乙醛氣體濃度之測定。試驗光源使用UVLED燈(產品型號"HLDL-600X480U6-PSC" CCS(股))。惡臭氣體之分解率由式2算出，並藉以下基準進行評估。 ・良好(表示為○) …分解率超過90% ・稍不良(表示為△) …分解率為70~90% ・不良(表示為×) …分解率未達70% 式2：分解率[%]=(初期濃度－殘存濃度)/初期濃度×100
(4)氧化鈦分散液之分散安定性評價 調製之氧化鈦分散液的分散安定性測定係使用多檢體・分散安定性評價粒子分佈測量裝置(日本LUFT股份有限公司製，LUMiSiZER610)。LUMiSiZER係將調製之氧化鈦分散液0.4mL放入單元(cell)(日本LUFT股份有限公司製，各單元PC2mm)，循環設定參數設定為2500rpm，300輪廓(frofile)，測定間隔10秒、25℃，光係數1。測定在測定位置115mm之離心分離開始60秒後之透過度，並藉以下基準進行評價。 ・良好(表示為○) …離心分離開始60秒後之測定位置115mm的透過度為0~未達50% ・不良(表示為×) …離心分離開始60秒後之測定位置115mm的透過度為50%以上
(5)綜合評價 基於乙醛氣體再釋出試驗、乙醛氣體分解性能評價試驗及氧化鈦分散液之分散安定性評價試驗之結果，根據以下基準進行綜合評價。 ・非常良好(表示為A) …各評價之合計分數為6分 ・良好(表示為B) …各評價之合計分數為5分 ・稍不良(表示為C) …各評價之合計分數為3~4分 ・不良(表示為D) …各評價之合計分數為0~2分 計算為○…2分，△…1分，×…0分
＜氧化鈦粒子分散液之調製＞ [製造例1] 以純水將36質量%之氯化鈦(IV)水溶液稀釋10倍後，緩慢添加10質量%的氨水予以中和，藉由水解獲得氫氧化鈦之沉澱物。此時溶液的pH為8。所得氫氧化鈦之沉澱物藉由重複添加純水及傾析進行去離子處理。以該去離子處理後之氫氧化鈦沉澱物中過氧化氫/氫氧化鈦(莫耳比)成為10之方式添加35質量%過氧化氫水，隨後在60°C充分反應2小時，獲得過氧鈦酸溶液(1a)(固形分濃度1質量%)。 於容積500mL高壓釜中饋入過氧鈦溶液(1a)400mL，於150℃之條件下對其進行90分鐘水熱處理，隨後加入純水進行濃度調整，由此獲得氧化鈦粒子(1A)之分散液(固形分濃度2.0質量%)。 分散液中之氧化鈦粒子的D 50為18nm。
[實施例1] ＜氧化鈦分散液之調製＞ 氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL與海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD：Si 12Mg 8O 30(OH) 4(OH 2) 4・8H 2O (CAS63800-37-3)) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 1.0g予以混合分散，獲得氧化鈦分散液。分散液之組成示於表1，使用之材料的平均粒徑及比表面積示於表2。
＜評價用樣品之製作＞ 以棒塗佈器(第一理化(股)No.7)將氧化鈦分散液以厚度16.0μm塗佈於經實施電漿表面處理之PET薄膜(東麗(股) LUMIRROR T60)上。以設定為80℃之烘箱中乾燥30分鐘，將塗佈部分切成10cm見方，獲得於薄膜上形成氧化鈦組成物之評價樣品。 針對所得評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)，結果示於各表。 又，針對氧化鈦分散液進行分散安定性評價試驗(表5)，結果示於表中。此外，綜合評價示於表6。
[實施例2] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.4g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.5g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例3] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 1.2g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 1.5g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例4] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.4g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例5] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 2.0g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例6] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANSIL) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 2.0g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例7] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散鎂鋁海泡石(BASF Attage 140) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 2.0g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例8] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.8g及疏水性氧化矽(旭化成WACKER SILICON(股) HDK(註冊商標) H30，M值52) 2.0g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例9] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 1.2g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 3.0g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[實施例10] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.4g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.2g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[比較例1] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.2g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.5g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[比較例2] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 1.4g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.7g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[比較例3] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 0.1g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
[比較例4] 除了於氧化鈦粒子分散液(1A) 20mL中混合分散海泡石(楠本化成(股)PANGEL AD) 0.8g及高矽沸石(聯合昭和(股) USKY-700) 2.8g，獲得氧化鈦分散液以外，與實施例1同樣評價(表1)。針對所得氧化鈦分散液或評價樣品進行乙醛氣體再釋出試驗(表3)、乙醛氣體分解性能評價試驗(表4)、分散安定性試驗(表5)，結果示於各表中。且綜合評價示於表6。
Figure 02_image001
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Figure 02_image011
如由實施例1~10所了解，成分A之質量相對於氧化鈦粒子之比為0.75~3.25，且成分B之質量相對於成分A之比為0.25~3.0的氧化鈦組成物，惡臭原因物質之分解性優異，一旦吸附之惡臭原因物質難以再釋出，且其分散液係粒子的分散安定性優異。
如由實施例6所了解，即使使用比表面積不同之海泡石，臭氣原因物質之分解性亦優異，一旦吸附之惡臭原因物質難以再釋出，且其分散液係粒子的分散安定性優異。
如由實施例7所了解，即使使用鎂鋁海泡石時，惡臭原因物質之分解性亦優異，一旦吸附之惡臭原因物質難以再釋出，且其分散液係粒子的分散安定性優異。
如由實施例8所了解，即使使用疏水性氧化矽時，惡臭原因物質之分解性亦優異，一旦吸附之惡臭原因物質難以再釋出，且其分散液係粒子的分散安定性優異。
如由比較例1所了解，組成物中之成分A量較少時，由於自吸附劑所得之效果小，故惡臭原因物質之分解性低，進而分散液之粒子的分散安定性差。
如由比較例2所了解，組成物中之成分A量過多時，吸附於成分A之乙醛容易再釋出。
如由比較例3所了解，組成物中之成分B量較少時，由於對乙醛之吸附力弱，乙醛的分解性低，進而，一旦吸附之乙醛再釋出的比例較大。
如由比較例4所了解，組成物中之成分B量過多時，分散液之粒子的分散安定性降低。
從上述結果可知，本發明之組成物可有效分解惡臭原因物質，抑制惡臭原因物質之再釋出，分散體係粒子之分散安定性優異。

Claims (5)

  1. 一種氧化鈦組成物，其含有 氧化鈦粒子、 選自由海泡石(sepiolite)及鎂鋁海泡石(attapulgite)所成之群之至少一種的成分A、及 選自由高矽沸石(high silica zeolite)及疏水性氧化矽所成之群之至少一種的成分B， 成分A相對於氧化鈦粒子之質量比為0.75~3.25，且 成分B相對於成分A之質量比為0.25~3.0。
  2. 如請求項1之氧化鈦組成物，其中成分A為海泡石，成分B為高矽沸石。
  3. 如請求項1或2之氧化鈦組成物，其中氧化鈦粒子之平均粒徑為5~30nm。
  4. 如請求項1至3中任一項之氧化鈦組成物，其中進而包含水性分散介質。
  5. 一種構件，其表面具有如請求項1至3中任一項之氧化鈦組成物。
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