TW202208898A - 光學積層體及包含該光學積層體之附相位差層之偏光板之圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種光學積層體，其包含薄型且具有優異彎折性之附相位差層之偏光板，且切斷時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良得到抑制。本發明之光學積層體具備：附相位差層之偏光板，其具有：偏光板、經由第1接著劑層貼合於與偏光板之視認側相反之側的第1相位差層、經由第2接著劑層貼合於第1相位差層的第2相位差層、及設置於第2相位差層之與第1相位差層相反之側的黏著劑層；表面保護膜，其以可剝離之方式暫時黏於附相位差層之偏光板之視認側；及隔離件，其以可剝離之方式暫時黏於附相位差層之偏光板之黏著劑層。當將黏著劑層之厚度設為TPSA ，將附相位差層之偏光板之厚度設為TPWR ，將光學積層體之厚度設為TOL 時，該光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29。

Description

光學積層體及包含該光學積層體之附相位差層之偏光板之圖像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體及包含該光學積層體之附相位差層之偏光板之圖像顯示裝置。
近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之圖像顯示裝置正在迅速普及。於圖像顯示裝置中典型的是使用偏光板及相位差板。自實用方面考慮，廣泛使用由偏光板、相位差板及黏著劑層一體化所得之附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)，而最近隨著對圖像顯示裝置之薄型化之要求越來越強烈，對附相位差層之偏光板之薄型化之要求亦越來越強烈。又，近年來，對彎曲之圖像顯示裝置及/或可曲折或可摺疊之圖像顯示裝置之要求正在提高。然而，可應用於此種圖像顯示裝置之薄型且彎折性優異之附相位差層之偏光板存在切斷為特定尺寸或特定形狀時產生黏著劑缺失(黏著劑層之端部缺失之現象)、黏著劑污染(黏著劑層之端部產生污漬之現象)及切斷不良之情況。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前問題而完成者，主要目的在於提供一種光學積層體，其包含薄型且具有優異彎折性之附相位差層之偏光板，且切斷時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良得到抑制。 [解決問題之技術手段]
本發明之光學積層體具備：附相位差層之偏光板，其具有：包含偏光元件及至少在該偏光元件之視認側之保護層的偏光板、經由第1接著劑層貼合於與該偏光板之視認側相反之側的第1相位差層、經由第2接著劑層貼合於該第1相位差層的第2相位差層、及設置於該第2相位差層之與該第1相位差層相反之側的黏著劑層；表面保護膜，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之視認側；及隔離件，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之該黏著劑層。當將該黏著劑層之厚度設為TPSA ，將該附相位差層之偏光板之厚度設為TPWR ，將該光學積層體之厚度設為TOL 時，該光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29。 本發明之另一光學積層體係，當將上述黏著劑層之厚度設為TPSA ，將上述附相位差層之偏光板之厚度設為TPWR ，將上述隔離件之厚度設為TSP 時，滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TSP /TPSA ≧0.8。 於一實施方式中，上述光學積層體之上述TPSA 、上述TPWR 、上述TOL 及上述TSP 滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29 TSP /TPSA ≧0.8。 於一實施方式中，上述黏著劑層之厚度TPSA 為20 μm以上。 於一實施方式中，上述偏光元件之厚度為8 μm以下。 於一實施方式中，上述黏著劑層之25℃下之儲存模數為1.0×104 Pa～1.0×106 Pa。 於一實施方式中，上述附相位差層之偏光板之厚度TPWR 為100 μm以下。 於一實施方式中，上述偏光板僅於上述偏光元件之視認側具有保護層。 於一實施方式中，上述第1相位差層及上述第2相位差層分別為液晶化合物之配向固化層。 於一實施方式中，上述第1相位差層之Re(550)為200 nm～300 nm，其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所形成之角度為10°～20°；上述第2相位差層之Re(550)為100 nm～190 nm，其遲相軸與該偏光元件之吸收軸所形成之角度為70°～80°。 根據本發明之另一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具備上述光學積層體之上述附相位差層之偏光板。 於一實施方式中，上述圖像顯示裝置為有機電致發光顯示裝置。 [發明之效果]
根據本發明，可實現如下之光學積層體，其包含薄型且具有優異彎折性之附相位差層之偏光板、表面保護膜、及隔離件，且藉由使光學積層體之厚度、附相位差層之偏光板之厚度、黏著劑層之厚度及隔離件之厚度的相互關係最佳化，而抑制了切斷時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良。
以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不受該等實施方式限定。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1) 折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2) 面內相位差(Re) 「Re(λ)」係23℃下以波長λ nm之光測得之面內相位差。例如，「Re(550)」係23℃下以波長550 nm之光測得之面內相位差。當將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx－ny)×d求出Re(λ)。 (3) 厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係23℃下以波長λ nm之光測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係23℃下以波長550 nm之光測得之厚度方向之相位差。當將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d求出Rth(λ)。 (4) Nz係數 Nz係數係藉由Nz＝Rth/Re求出。 (5) 角度 本說明書中，當提及角度時，該角度包括相對於基準方向呈順時針方向及逆時針方向兩種情況。因此，例如「45°」意指±45°。
A.附相位差層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施方式之光學積層體之概略剖視圖。圖中例示之光學積層體100具備：附相位差層之偏光板70、以可剝離之方式暫時黏於附相位差層之偏光板70之視認側的表面保護膜50、及以可剝離之方式暫時黏於與附相位差層之偏光板70之視認側相反之側的隔離件60。附相位差層之偏光板70具代表性的是，自視認側依序具有偏光板10、第1相位差層21、及第2相位差層22。偏光板10包含偏光元件11及在偏光元件11之視認側的保護層12。亦可根據目的，在與偏光元件11之視認側相反之側設置其他保護層(未圖示)。第1相位差層21經由第1接著劑層31貼合於與偏光板10之視認側相反之側。第2相位差層22經由第2接著劑層32貼合於與第1相位差層21之視認側相反之側。自實用方面考慮，在第2相位差層22之與第1相位差層21相反之側(即與視認側相反之側之最外層)設置黏著劑層40，附相位差層之偏光板可貼附於圖像顯示單元。隔離件60以可剝離之方式暫時黏於黏著劑層40之表面。藉由暫時黏著隔離件，能夠在保護黏著劑層之同時，進行光學積層體之輥形成。表面保護膜50具代表性的是，具有基材及黏著劑層(均未圖示)，經由該黏著劑層以可剝離之方式暫時黏於附相位差層之偏光板(實質上為視認側保護層12)。在實際使用光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)時，剝離去除隔離件60，經由黏著劑層40將附相位差層之偏光板70貼合於圖像顯示裝置(實質上為圖像顯示單元)。表面保護膜50亦在實際使用光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)時被剝離去除。
第1相位差層21及第2相位差層22具代表性的是，分別為液晶化合物之配向固化層。藉由使用液晶化合物，可使所獲得之相位差層之nx與ny之差明顯大於非液晶材料之nx與ny之差，因此可明顯縮小用以獲得所需之面內相位差之相位差層之厚度。結果，可實現附相位差層之偏光板之顯著的薄型化。本說明書中，所謂「配向固化層」，係指液晶化合物於層內朝向特定方向配向，且其配向狀態得以固定之層。再者，「配向固化層」之概念如下所述包括使液晶單體硬化所得之配向硬化層。於第1相位差層21及第2相位差層22中，具代表性的是，棒狀液晶化合物於在第1相位差層或第2相位差層之遲相軸方向上並排之狀態下配向(水平配向)。具代表性的是，第1相位差層21或第2相位差層22中之任一者可發揮λ/2板之功能，另一者可發揮λ/4板之功能。例如，於第1相位差層21可發揮λ/2板之功能，第2相位差層22可發揮λ/4板之功能之情形時，第1相位差層21之Re(550)較佳為200 nm～300 nm，其遲相軸與偏光元件10之吸收軸所形成之角度較佳為10°～20°；第2相位差層22之Re(550)較佳為100 nm～190 nm，其遲相軸與偏光元件10之吸收軸所形成之角度較佳為70°～80°。
本發明之於一實施方式中，當將光學積層體100之厚度設為TOL ，將附相位差層之偏光板70之厚度設為TPWR ，將黏著劑層40之厚度設為TPSA ，將隔離件60之厚度設為TSP 時，光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29。 TPSA /TPWR 為0.4以上意味著，具代表性的是，於整體厚度較薄之附相位差層之偏光板中，黏著劑層之厚度較大。例如當試圖將附相位差層之偏光板應用於可彎曲或可摺疊之圖像顯示裝置時，先前之附相位差層之偏光板無法確保有能夠經受住於此種圖像顯示裝置中使用之彎折性。相對於此，藉由使整體厚度變薄，並且使黏著劑層相對較厚，可實現具有特定彎折性之附相位差層之偏光板。本發明人發現一個新的課題，即，當將此種附相位差層之偏光板切斷為特定尺寸或特定形狀時，有可能產生黏著劑缺失、黏著劑污染及/或切斷不良等情況。本發明人推測，因相較於膜而言彈性率較低之黏著劑之比率較大，故切斷時之黏著劑層之變形可能與該課題有關，本發明人基於該推測進行了銳意研究，結果發現，藉由控制暫時黏於附相位差層之偏光板之表面保護膜及隔離件之厚度，將TPSA /TOL 設為0.29以下，可解決該課題，從而完成本發明。即，藉由控制表面保護膜及隔離件之厚度，增加光學積層體整體之(即表觀之)彈性率，減小切斷時對黏著劑層所施加之力(結果減小切斷時之黏著劑層之變形)，可抑制切斷附相位差層之偏光板時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良，而不會變更實際使用之附相位差層之偏光板的較佳之構成。進而，如以下實施例中所述，確認到例如關於黏著劑污染，TPSA /TOL 為約0.3時100%會產生黏著劑污染，相對於此，TPSA /TOL 為約0.28時黏著劑污染之產生率驟降至20%。即，可知TPSA /TOL 於0.29附近存在臨界值。如上所述，本發明之實施方式之光學積層體係為了解決附相位差層之偏光板的新課題，並且其效果係具有關鍵意義，且出乎意料地優異。
於本發明之另一實施方式中，光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TSP /TPSA ≧0.8。 本發明人基於與上述同樣之推測及研究發現，亦可藉由將TSP /TPSA 設為0.8以上，解決例如關於應用於可彎曲或可摺疊之圖像顯示裝置之薄型且具有優異彎折性的附相位差層之偏光板的上述新課題(切斷時之黏著劑缺失、黏著劑污染及/或切斷不良)。更詳細地而言，藉由增加與黏著劑層相鄰之隔離件之厚度，非常有助於防止切斷時之黏著劑之變形，結果可抑制切斷時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良。
較佳為光學積層體之上述TPSA 、上述TPWR 、上述TOL 及上述TSP 滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29 TSP /TPSA ≧0.8。 TPSA /TPWR 較佳為0.42～0.75，更佳為0.45～0.65。TPSA /TOL 較佳為0.25以下，更佳為0.20以下，進而較佳為0.18以下。TPSA /TOL 例如可為0.10以上。TSP /TPSA 較佳為0.9以上，更佳為1.2以上，進而較佳為1.4以上。TSP /TPSA 例如可為3.0以下。
附相位差層之偏光板之總厚度較佳為100 μm以下，更佳為85 μm以下，進而較佳為70 μm以下，特佳為60 μm以下。總厚度之下限例如可為42 μm。具有此種總厚度之附相位差層之偏光板可具有極其優異之可撓性及彎折性。結果，附相位差層之偏光板尤其適宜用於彎曲之圖像顯示裝置及/或可彎曲或可彎折之圖像顯示裝置。
附相位差層之偏光板可進而包含其他光學功能層。可設置於附相位差層之偏光板之光學功能層之種類、特性、數量、組合、配置位置等可根據目的適當設定。例如，附相位差層之偏光板可進而具有導電層或附導電層之各向同性基材(均未圖示)。導電層或附導電層之各向同性基材具代表性的是，設置於第2相位差層22之外側(與偏光板10相反之側)。導電層或附導電層之各向同性基材代表性地而言係視需要而設置之任意之層，亦可省略。再者，於設置導電層或附導電層之各向同性基材之情形時，附相位差層之偏光板可應用於在圖像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組裝有觸控感測器之所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。又例如，附相位差層之偏光板亦可進而包含其他相位差層。其他相位差層之光學的特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可根據目的適當設定。
上述實施方式可適當組合，亦可對上述實施方式中之構成要素施以業界周知之改變，亦可將上述實施方式之構成置換為光學上同等之構成。
光學積層體可為單片狀亦可為長條狀。本說明書中，所謂「長條狀」，係指長度相對於寬度足夠長之細長形狀，例如包含長度為寬度之10倍以上，較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之附相位差層之偏光板可捲繞為卷狀。
以下，更詳細地對附相位差層之偏光板之構成要素進行說明。
B.偏光板 B-1.偏光元件 作為偏光元件11，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可例舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜利用碘或二色性染料等二色性物質實施了染色處理及延伸處理所得者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。自光學特性優異之方面而言，較佳為使用利用碘將PVA系膜染色並進行單軸延伸所得之偏光元件。
上述利用碘所進行之染色，例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可先延伸再染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色之前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可將PVA系膜表面之污漬及抗黏連劑洗淨，而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體所獲得之偏光元件之具體例，可例舉：使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體所獲得之偏光元件例如可藉由以下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色，而將PVA系樹脂層設為偏光元件。本實施方式中，延伸具代表性的是，包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，延伸可進而視需要包括，於在硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材設為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體將樹脂基材剝離，並於該剝離面積層符合目的之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細情況例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。該等公報之所有記載係作為參考而引用至本說明書中。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，特佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度處於此種範圍內，則可容易實現上述所需之TPSA /TPWR 及TPSA /TOL 。進而，可良好地抑制加熱時之捲曲，並且可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm中之任意波長顯現吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為41.5%～46.0%，更佳為43.0%～46.0%，進而較佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層 保護層12及其他保護層(存在之情況下)分別由可作為偏光元件之保護層使用之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂；聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可例舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可例舉具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
附相位差層之偏光板如下所述，具代表性的是，配置於圖像顯示裝置之視認側，保護層12配置於其視認側。因此，可視需要對保護層12實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者，亦可視需要對保護層12實施改善經由偏光太陽鏡進行視認之情形時之視認性的處理(具代表性的是，賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便是經由偏光太陽鏡等偏光鏡視認顯示畫面之情形，亦可實現優異之視認性。因此，附相位差層之偏光板亦適宜用於能夠於室外使用之圖像顯示裝置中。
保護層12之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。再者，於實施表面處理之情形時，保護層12之厚度係包含表面處理層之厚度在內的厚度。
其他保護層(於存在之情形)，於一實施方式中，較佳為光學上為各向同性。本說明書中所謂「光學上為各向同性」，係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。其他保護層之厚度較佳為5 μm～80 μm，更佳為10 μm～40 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。就薄型化之方面而言，較佳為可省略其他保護層。
C.第1相位差層及第2相位差層 如上所述，第1相位差層21及第2相位差層22(以下有時統稱為相位差層)分別為液晶化合物之配向固化層(以下稱為液晶配向固化層)。作為液晶化合物，例如可例舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之顯現機構可為溶致型亦可為熱致型。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可進行組合。
於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於，藉由使液晶單體聚合或交聯(即硬化)，可固定液晶單體之配向狀態。在使液晶單體配向後，例如，若使液晶單體彼此聚合或交聯，則可藉此固定上述配向狀態。此處，藉由聚合形成聚合物，藉由交聯形成立體網狀結構，但其等為非液晶性。因此，所形成之相位差層不會發生例如因液晶性化合物特有之溫度變化所致之向液晶相、玻璃相、結晶相之轉移。結果，相位差層成為不受溫度變化影響之安定性極其優異之相位差層。
液晶單體顯現液晶性之溫度範圍因其種類而異。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。
作為上述液晶單體，可採用任意適當之液晶單體。例如，可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可例舉：巴斯夫公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。
液晶配向固化層可藉由以下方式形成，即，對特定基材之表面實施配向處理，於該表面塗佈包含液晶化合物之塗佈液，使該液晶化合物於與上述配向處理相對應之方向上配向，並固定該配向狀態。於一實施方式中，基材為任意適當之樹脂膜，形成於該基材上之液晶配向固化層(第1相位差層21)可經由第1接著劑層31轉印至偏光板10之表面。同樣地，形成於基材上之液晶配向固化層(第2相位差層22)可經由第2接著劑層32轉印至第1相位差層21之表面。
作為上述配向處理，可採用任意適當之配向處理。具體而言，可例舉機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例，可例舉摩擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例，可例舉磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例，可例舉斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件可根據目的採用任意適當之條件。
液晶化合物之配向係藉由根據液晶化合物之種類於顯現液晶相之溫度下進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，液晶化合物成為液晶狀態，該液晶化合物根據基材表面之配向處理方向進行配向。
於一實施方式中，配向狀態之固定係藉由將以上述方式配向之液晶化合物加以冷卻而進行的。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定係藉由對以如上方式配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行的。
液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細情況記載於日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。
相位差層具代表性的是，折射率特性顯現nx＞ny＝nz之關係。再者，「ny＝nz」不僅僅是指ny與nz完全相等之情形，亦包括實質上相等之情形。因此，於不損害本發明之效果之範圍內，有可能存在ny＞nz或ny＜nz之情形。
如上所述，第1相位差層21或第2相位差層22中之任一者可發揮λ/2板之功能，另一者可發揮λ/4板之功能。此處，將對第1相位差層21可發揮λ/2板之功能、第2相位差層22可發揮λ/4板之功能之情形時進行說明，但其等亦可相反。第1相位差層21之厚度可以能夠獲得λ/2板之所需之面內相位差之方式進行調整，例如可為2.0 μm～4.0 μm。第2相位差層22之厚度可以能夠獲得λ/4板之所需之面內相位差之方式進行調整，例如可為1.0 μm～2.5 μm。第1相位差層之面內相位差Re(550)如上所述，較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為250 nm～280 nm。第2相位差層之面內相位差Re(550)如上所述，較佳為100 nm～190 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為130 nm～160 nm。第1相位差層21之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所形成之角度如上所述，較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為約15°。第2相位差層22之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所形成之角度如上所述，較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為約75°。若為此種構成，則可獲得理想的接近逆波長分散特性之特性，結果，可實現非常優異之抗反射特性。
相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。藉由滿足此種關係，於將所獲得之附相位差層之偏光板用於圖像顯示裝置之情形時，可達成非常優異之反射色相。
相位差層可顯現相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性，亦可顯現相位差值根據測定光之波長而變小正波長分散特性，亦可顯現相位差值幾乎不隨測定光之波長而變化之較平的波長分散特性。
D.接著劑層 將第1接著劑層31及第2接著劑層32統一作為接著劑層進行說明。再者，第1接著劑層及第2接著劑層可具有相同構成，亦可具有彼此不同之構成。作為構成接著劑層之接著劑，可採用任意適當之接著劑。作為接著劑，具代表性的是，可例舉活性能量線硬化型接著劑。作為活性能量線硬化型接著劑，例如可例舉紫外線硬化型接著劑、電子線硬化型接著劑。又，就硬化機制之觀點而言，作為活性能量線硬化型接著劑，例如可例舉：自由基硬化型、陽離子硬化型、陰離子硬化型、自由基硬化型與陽離子硬化型之混合。具代表性的是，可使用自由基硬化型之紫外線硬化型接著劑。其原因在於，通用性優異，並且容易調整特性(構成)。
接著劑具代表性的是，含有硬化成分及光聚合起始劑。作為硬化成分，具代表性的是，可例舉：具有(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯醯胺基等官能基之單體及/或低聚物。作為硬化成分之具體例，可例舉：三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二㗁烷二醇二丙烯酸酯、EO改性雙甘油四丙烯酸酯、γ-丁內酯丙烯酸酯、丙烯醯𠰌啉、不飽和脂肪酸羥烷基酯改性ε-己內酯、N-甲基吡咯啶酮、羥乙基丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺。該等硬化成分可單獨使用，亦可將2種以上加以併用。
較佳為接著劑包含具有雜環之硬化成分。作為具有雜環之硬化成分，例如可例舉：丙烯醯𠰌啉、γ-丁內酯丙烯酸酯、不飽和脂肪酸羥烷基酯改性ε-己內酯、N-甲基吡咯啶酮。更佳之硬化成分為不飽和脂肪酸羥烷基酯改性ε-己內酯及丙烯醯𠰌啉，特佳之硬化成分為丙烯醯𠰌啉。相對於硬化成分(存在下述低聚物成分之情形時為硬化成分與低聚物成分之合計)100重量份，具有雜環之硬化成分可較佳為以50重量份以上，更佳為以60重量份以上，進而較佳為以70重量份～95重量份之比率包含於接著劑中。丙烯醯𠰌啉相對於硬化成分(於存在低聚物成分之情形時為硬化成分與低聚物成分之合計)100重量份，可較佳為以5重量份～60重量份，更佳為以10重量份～50重量份之比率包含於接著劑中。
接著劑除上述硬化成分外，可進而含有低聚物成分。藉由使用低聚物成分，可降低硬化前之接著劑之黏度，提高操作性。作為低聚物成分之代表例，可例舉(甲基)丙烯酸系低聚物。作為構成(甲基)丙烯酸系低聚物之(甲基)丙烯酸單體，例如可例舉：(甲基)丙烯酸(碳數1～20)烷基酯類、(甲基)丙烯酸環烷基酯(例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷基酯(例如(甲基)丙烯酸苄酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如(甲基)丙烯酸2-異𦯉基酯、(甲基)丙烯酸2-降𦯉基甲酯、(甲基)丙烯酸5-降𦯉烯-2-基-甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-降𦯉基甲酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)甲基丙烯酸2,3-二羥丙基甲基-丁酯等)、含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類((甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等)、含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等)、含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙基乙基酯、(甲基)丙烯酸四氟丙基酯、(甲基)丙烯酸六氟丙基酯、(甲基)丙烯酸八氟戊基酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸基酯等)、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯(例如(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯等)。作為(甲基)丙烯酸(碳數1～20)烷基酯類之具體例，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-硝基丙基酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、(甲基)丙烯酸3-戊酯、(甲基)丙烯酸2,2-二甲基丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸4-甲基-2-丙基戊酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用，亦可將2種以上併用。
光聚合起始劑由於可以業界眾所周知之調配量使用業界眾所周知之光聚合起始劑，故省略詳細說明。
接著劑層(接著劑硬化後)之厚度較佳為0.1 μm～3.0 μm。若接著劑層為此種厚度，則可容易實現上述所需之TPSA /TPWR 及TPSA /TOL 。
接著劑之詳細情況例如記載於日本專利特開2018-017996號公報中。該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。
E.黏著劑層 黏著劑層之25℃下之儲存模數較佳為1.0×104 Pa～1.0×106 Pa，更佳為1.0×104 Pa～1.0×105 Pa。若黏著劑層之儲存模數處於此種範圍內，則藉由與使上述TPSA /TPWR 、TPSA /TOL 及TSP /TPSA 最佳化所帶來之效果之協同效應，可抑制切斷光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良。再者，儲存模數可藉由動態黏彈性測定獲得。
黏著劑層之70℃下之蠕變量ΔCr例如為65 μm以下，亦可為50 μm以下、45 μm以下、40 μm以下、35 μm以下、30 μm以下、25 μm以下、20 μm以下，進而亦可為15 μm以下。蠕變量ΔCr之下限例如為0.5 μm。若蠕變量處於此種範圍內，則與儲存模數之情形同樣地，可抑制切斷光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)時之黏著劑缺失、黏著劑污染及切斷不良。再者，蠕變值例如可按照以下順序測得：於縱20 mm×橫20 mm之接合面，對貼附於不鏽鋼製試驗板之黏著劑層於已將試驗板固定之狀態下，朝向鉛直下方施加500 gf之負載。測定開始施加負載100秒後及3600秒後之各時點之黏著劑層相對於試驗板之蠕變量(偏差量)，分別設為Cr100 及Cr3600 。可根據測得之Cr100 及Cr3600 ，藉由式ΔCr＝Cr3600 －Cr100 求出蠕變量ΔCr。
作為構成黏著劑層之黏著劑，可採用任意適當之構成。作為構成黏著劑層之黏著劑之具體例，可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑。可藉由調整形成黏著劑之基質樹脂之單體之種類、數量、組合及調配比、以及交聯劑之調配量、反應溫度、反應時間等，製備具有符合目標所需特性之黏著劑。黏著劑之基質樹脂可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。就透明性、加工性及耐久性等觀點而言，較佳為丙烯酸系黏著劑(丙烯酸系黏著劑組合物)。丙烯酸系黏著劑組合物中所含之主成分具代表性的是，(甲基)丙烯酸系聚合物。於黏著劑組合物之固形物成分中，(甲基)丙烯酸系聚合物例如可以50重量%以上、較佳為以70重量%以上，更佳為以90重量%以上之比率包含於黏著劑組合物中。(甲基)丙烯酸系聚合物中所含之主成分係作為單體單元之(甲基)丙烯酸烷基酯。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯較佳為可以80重量%以上、更佳為以90重量%以上之比率包含於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中。作為(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基，例如可例舉具有1個～18個碳原子之直鏈狀或支鏈狀之烷基。該烷基之平均碳數較佳為3個～9個，更佳為3個～6個。較佳之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸丁酯。作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體(共聚單體)，除(甲基)丙烯酸烷基酯以外，可例舉：含羧基之單體、含羥基之單體、含醯胺基之單體、含芳香環之(甲基)丙烯酸酯、含雜環之乙烯系單體等。作為共聚單體之代表例，可例舉：丙烯酸、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N-乙烯基-2-吡咯啶酮。丙烯酸系黏著劑組合物較佳為可含有矽烷偶合劑及/或交聯劑。作為矽烷偶合劑，例如可例舉含環氧基之矽烷偶合劑。作為交聯劑，例如可例舉異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑。進而，丙烯酸系黏著劑組合物亦可含有抗氧化劑及/或導電劑。黏著劑層或丙烯酸系黏著劑組合物之詳細情況例如記載於日本專利特開2006-183022號公報、日本專利特開2015-199942號公報、日本專利特開2018-053114號公報、日本專利特開2016-190996號公報、國際公開第2018/008712號中，該等公報之記載係作為參考引用至本說明書中。
黏著劑層之厚度較佳為20 μm以上，更佳為20 μm～70 μm，進而較佳為20 μm～65 μm，特佳為25 μm～55 μm。若黏著劑層之厚度處於此種範圍內，則可容易實現上述所需之TPSA /TPWR 、TPSA /TOL 及TSP /TPSA 。
F.表面保護膜 表面保護膜50如上所述，具代表性的是，具有基材及黏著劑層。再者，為了與黏著劑層40進行區分，有時將表面保護膜之黏著劑層稱為PF黏著劑層。基材可由任意適當之材料構成。作為構成材料之具體例，可例舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系聚合物；聚降冰片烯等之環烯烴系聚合物。該等可單獨使用亦可將2種以上組合使用。
基材之拉伸彈性模數較佳為1.0×108 Pa～1.0×1010 Pa，更佳為1.0×109 Pa～1.0×1010 Pa。若基材之拉伸彈性模數處於此種範圍內，則將TPSA /TPWR 、TPSA /TOL 及TSP /TPSA 設為上述特定範圍所帶來之效果變得明顯。再者，拉伸彈性模數係依據JIS K 7161測得。
作為PF黏著劑層，可採用任意適當之構成。作為具體例，可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑。可藉由調整形成黏著劑之基質樹脂之單體之種類、數量、組合及調配比、以及交聯劑之調配量、反應溫度、反應時間等，製備具有符合目標所需特性之黏著劑。黏著劑之基質樹脂可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。基質樹脂較佳為丙烯酸樹脂(即PF黏著劑層較佳為由丙烯酸系黏著劑構成)。PF黏著劑層之25℃下之儲存模數例如可為1.0×105 Pa～1.0×107 Pa。
表面保護膜之厚度較佳為30 μm～80 μm，更佳為40 μm～60 μm。若表面保護膜之厚度處於此種範圍內，則可容易實現上述所需之TPSA /TOL 。再者，表面保護膜之厚度係指基材與PF黏著劑層之合計厚度。
G.隔離件 作為隔離件60，可採用任意適當之隔離件。作為具體例，可例舉：表面經剝離劑塗佈所得之塑膠膜、不織布或紙。作為剝離劑之具體例，可例舉矽酮系剝離劑、氟系剝離劑、丙烯酸長鏈烷基酯系剝離劑。作為塑膠膜之具體例，可例舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜。
隔離件之厚度較佳為20 μm～80 μm，更佳為35 μm～55 μm。隔離件之厚度處於此種範圍內，則可容易實現上述所需之TPSA /TOL 。
H.圖像顯示裝置 上述A項至G項中記載之光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)可應用於圖像顯示裝置中。因此，包含光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)之圖像顯示裝置亦包含於本發明之實施方式中。圖像顯示裝置具代表性的是，包含圖像顯示單元、及經由黏著劑層貼合於圖像顯示單元之附相位差層之偏光板。作為圖像顯示裝置之代表例，可例舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。於一實施方式中，圖像顯示裝置為有機EL顯示裝置。於一實施方式中，圖像顯示裝置具有彎曲形狀(實質上具有彎曲顯示畫面)，並且/或者可彎曲或可彎折。於此種圖像顯示裝置中，本發明之實施方式之光學積層體(實質上為附相位差層之偏光板)之效果變得明顯。 [實施例]
以下，藉由實施例具體地對本發明進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。各特性之測定方法如下。再者，若無特別說明，則實施例及比較例中之「份」及「%」為重量基準。 (1)厚度 10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造，產品名「MCPD-3000」)測得。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(Anritsu公司製造，產品名「KC-351C」)測得。 (2)黏著劑污染 使用切割機將實施例、比較例及參考例中獲得之光學積層體切斷為100 mm×50 mm尺寸。藉由目視及光學顯微鏡觀察所切下之光學積層體之端部有無由黏著劑所致之污染。對所切下之50個光學積層體同樣地進行觀察，算出黏著劑污染之產生比率。
[實施例1] 1.偏光板之製作 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀之Tg約為75℃之非晶質之間苯二甲共聚聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)，對樹脂基材之單面實施電暈處理。 向以9：1之比率混合有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER」)之PVA系樹脂100重量份中添加碘化鉀13重量份，將所得者溶於水中，製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由將上述PVA水溶液塗佈於樹脂基材之電暈處理面，並於60℃下進行乾燥，形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 於130℃之烘箱內使所獲得之積層體於縱向(長度方向)上單軸延伸(空中補助延伸處理)至2.4倍。 繼而，使積層體浸漬於液溫40℃之不溶解浴(相對於水100重量份，調配硼酸4重量份所得之硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 繼而，一面以最終所獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)成為所需之值之方面調整濃度，一面浸漬於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比調配碘及碘化鉀所獲得之碘水溶液)中60秒(染色處理)。 繼而，浸漬於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀3重量份，調配硼酸5重量份所獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4重量%，碘化鉀濃度5重量%)中，同時於周速不同之輥間於縱向(長度方向)上以總延伸倍率成為5.5倍之方式進行單軸延伸(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份，調配碘化鉀4重量份所得之水溶液)(洗淨處理)。 之後，一面於保持在約90℃之烘箱中進行乾燥，一面使其接觸表面溫度保持在約75℃之SUS製加熱輥(乾燥收縮處理)。 藉此，於樹脂基材上形成厚度約5 μm之偏光元件，獲得具有樹脂基材/偏光元件之構成之偏光板。 進而，經由紫外線硬化型接著劑將作為保護基材(保護層)之丙烯酸系膜(東洋鋼鈑公司製造之「RV-20UB」，厚度20 μm)貼合於所獲得之偏光元件之表面(與樹脂基材相反之側之面)。具體而言，以硬化型接著劑之總厚度成為約1.0 μm之方式進行塗佈，並使用輥機進行貼合。之後，自環烯烴系膜側照射UV光線，使接著劑硬化。繼而，將樹脂基材剝離，獲得具有環烯烴系膜(保護層)/偏光元件之構成之偏光板。
2.第1相位差層及第2相位差層之製作 將顯現向列型液晶相之聚合性液晶(巴斯夫公司製造：商品名「Paliocolor LC242」，由下述式表示)10 g、及對於該聚合性液晶化合物之光聚合起始劑(巴斯夫公司製造：商品名「Irgacure 907」)3 g溶解於甲苯40 g中，製備液晶組合物(塗佈液)。 [化1]
Figure 02_image001
使用摩擦布對聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面進行摩擦，實施配向處理。配向處理之方向設為貼合於偏光板時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側看呈15°之方向。藉由棒式塗佈機將上述液晶塗佈液塗佈於該配向處理表面，於90℃下加熱乾燥2分鐘，藉此將液晶化合物配向。使用金屬鹵素燈對藉由如上方式形成之液晶層照射1 mJ/cm2 之光，使該液晶層硬化，藉此於PET膜上形成液晶配向固化層A。液晶配向固化層A之厚度為2 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，液晶配向固化層A具有nx＞ny＝nz之折射率分佈。使用液晶配向固化層A作為第1相位差層。 變更塗佈厚度，並將配向處理方向設為相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側看呈75°之方向，除此以外，藉由與上述同樣之方式，於PET膜上形成液晶配向固化層B。液晶配向固化層B之厚度為1 μm，面內相位差Re(550)為140 nm。進而，液晶配向固化層B具有nx＞ny＝nz之折射率分佈。使用液晶配向固化層B作為第2相位差層。
3.附相位差層之偏光板之製作 將上述2.中所獲得之液晶配向固化層A(第1相位差層)及液晶配向固化層B(第2相位差層)依序轉印至上述1.中所獲得之偏光板之偏光元件表面。此時，以偏光元件之吸收軸與配向固化層A之遲相軸所形成之角度為15°，偏光元件之吸收軸與配向固化層B之遲相軸所形成之角度為75°之方式進行轉印(貼合)。再者，各個轉印(貼合)係經由紫外線硬化型接著劑(厚度1.0 μm)進行的。最後，於配向固化層B(第2相位差層)之表面配置丙烯酸系黏著劑層(厚度TPSA ：25 μm)。藉此，獲得具有保護層/接著劑/偏光元件/第1接著劑層/第1相位差層/第2接著劑層/第2相位差層/黏著劑層之構成的附相位差層之偏光板。所獲得之附相位差層之偏光板之厚度TPWR 為56 μm。
4.光學積層體之製作 將表面保護膜(厚度48 μm)貼合於上述3.中所獲得之附相位差層之偏光板之保護層表面，進而，將隔離件(厚度TSP ：38 μm)貼合於黏著劑層表面，獲得光學積層體。所獲得之光學積層體之厚度TOL 為142 μm。將所獲得之光學積層體供於上述(2)之評估。將結果示於表1。
[實施例2] 將黏著劑層之厚度TPSA 設為50 μm，除此以外，藉由與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。使用該附相位差層之偏光板，並將隔離件之TSP 設為50 μm，除此以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1同樣之評估。將結果示於表1。
[實施例3] 藉由與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。除將隔離件之TSP 設為50 μm以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[比較例1] 除將黏著劑層之厚度TPSA 設為50 μm以外，藉由與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。除使用該附相位差層之偏光板以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[參考例1] 使用厚度27 μm之HC-COP膜作為保護層，並將黏著劑層之厚度TPSA 設為15 μm，除此以外，藉由與實施例1同樣之方式製作附相位差層之偏光板。再者，HC-COP膜係於厚度25 μm之環烯烴系樹脂(COP)膜上形成有厚度2 μm之硬塗(HC)層者，以使HC層成為視認側之方式進行貼合。除使用該附相位差層之偏光板以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[參考例2] 使用厚度27 μm之HC-COP膜作為保護層，並將黏著劑層之厚度TPSA 設為15 μm，除此以外，藉由與實施例2同樣之方式製作附相位差層之偏光板。再者，HC-COP膜係於厚度25 μm之環烯烴系樹脂(COP)膜上形成有厚度2 μm之硬塗(HC)層者，以使HC層成為視認側之方式進行貼合。除使用該附相位差層之偏光板以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[參考例3] 藉由輥延伸機以總延伸倍率成為6.0倍之方式將厚度30 μm之PVA系樹脂膜之長條輥於長條方向上進行單軸延伸，同時實施膨潤、染色、交聯及洗淨處理，最後實施乾燥處理，藉此製作厚度12 μm之偏光元件。經由PVA系接著劑(厚度1 μm)將COP-HC膜作為視認側保護層貼合於所獲得之偏光元件之一面。再者，COP-HC膜係於厚度25 μm之環烯烴系樹脂(COP)膜上形成有厚度7 μm之硬塗(HC)層者，以使HC層成為視認側之方式進行貼合。進而，經由PVA系接著劑將三乙醯纖維素(TAC)膜(厚度25 μm)貼合於偏光元件之另一面，獲得具有保護層(COP-HC膜)/偏光元件/保護層(TAC膜)之構成之偏光板。以下，除將黏著劑層之厚度TPSA 設為30 μm以外，藉由與實施例1同樣之方式，獲得具有視認側保護層/接著劑/偏光元件/接著劑/保護層/第1接著劑層/第1相位差層/第2接著劑層/第2相位差層/黏著劑層之構成的附相位差層之偏光板。所獲得之附相位差層之偏光板之厚度TPWR 為105 μm。除使用該附相位差層之偏光板以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[參考例4] 藉由與參考例3同樣之方式製作附相位差層之偏光板。使用該附相位差層之偏光板，並將隔離件之TSP 設為50 μm，除此以外，藉由與實施例1同樣之方式製作光學積層體。將所獲得之光學積層體供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[表1]
   TOL (μm) TPWR (μm) TPSA (μm) TSP (μm) TPSA /TPWR TPSA /TOL TSP /TPSA 黏著劑污染 (%)
實施例1 142 56 25 38 0.446 0.176 1.52 20
實施例2 179 81 50 50 0.617 0.279 1.00 20
實施例3 154 56 25 50 0.446 0.162 2.00 0
比較例1 167 81 50 38 0.617 0.299 0.76 100
參考例1 139 53 15 38 0.283 0.108 2.53 0
參考例2 151 53 15 50 0.283 0.099 3.33 0
參考例3 191 105 30 38 0.286 0.157 1.27 0
參考例4 203 105 30 50 0.286 0.148 1.67 0
[評估] 根據表1可知，根據本發明之實施例，藉由將TPSA /TPWR 為0.4以上之附相位差層之偏光板之TPSA /TOL 設為特定值以下，或藉由將TSP /TPSA 設為特定值以上，切斷附相位差層之偏光板時之黏著劑污染明顯地得到抑制。進而，對比實施例2與比較例1可知，TPSA /TOL 約為0.3之情況下100%會產生黏著劑污染，與此相對，TPSA /TOL 約為0.28之情況下黏著劑污染之產生率驟降至20%。即，可知TPSA /TOL 於0.29附近存在臨界值。此外，根據參考例可知，於TPSA /TPWR 小於0.4之附相位差層之偏光板中未產生黏著劑污染，而對於TPSA /TPWR 為0.4以上之附相位差層之偏光板而言黏著劑污染為新的課題。 [產業上之可利用性]
由本發明之光學積層體獲得之附相位差層之偏光板適宜作為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及無機EL顯示裝置用之圓偏光板使用。
10:偏光板 11:偏光元件 12:保護層 21:第1相位差層 22:第2相位差層 31:第1接著劑層 32:第2接著劑層 40:黏著劑層 50:表面保護膜 60:隔離件 70:附相位差層之偏光板 100:光學積層體
圖1係本發明之一實施方式之光學積層體之概略剖視圖。
10:偏光板
11:偏光元件
12:保護層
21:第1相位差層
22:第2相位差層
31:第1接著劑層
32:第2接著劑層
40:黏著劑層
50:表面保護膜
60:隔離件
70:附相位差層之偏光板
100:光學積層體

Claims (12)

  1. 一種光學積層體，其具備： 附相位差層之偏光板，其具有：包含偏光元件及至少在該偏光元件之視認側之保護層的偏光板、經由第1接著劑層貼合於與該偏光板之視認側相反之側的第1相位差層、經由第2接著劑層貼合於該第1相位差層的第2相位差層、及設置於該第2相位差層之與該第1相位差層相反之側的黏著劑層； 表面保護膜，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之視認側；及 隔離件，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之該黏著劑層； 當將該黏著劑層之厚度設為TPSA ，將該附相位差層之偏光板之厚度設為TPWR ，將該光學積層體之厚度設為TOL 時，該光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29。
  2. 一種光學積層體，其具備： 附相位差層之偏光板，其具有：包含偏光元件及至少在該偏光元件之視認側之保護層的偏光板、經由第1接著劑層貼合於與該偏光板之視認側相反之側的第1相位差層、經由第2接著劑層貼合於該第1相位差層的第2相位差層、及設置於該第2相位差層之與該第1相位差層相反之側的黏著劑層； 表面保護膜，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之視認側；及 隔離件，其以可剝離之方式暫時黏於該附相位差層之偏光板之該黏著劑層； 當將該黏著劑層之厚度設為TPSA ，將該附相位差層之偏光板之厚度設為TPWR ，將該隔離件之厚度設為TSP 時，該光學積層體滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TSP /TPSA ≧0.8。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中上述TPSA 、上述TPWR 、上述TOL 及上述TSP 滿足下述關係： TPSA /TPWR ≧0.4 TPSA /TOL ≦0.29 TSP /TPSA ≧0.8。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學積層體，其中上述黏著劑層之厚度TPSA 為20 μm以上。
  5. 如請求項1至4中任一項之光學積層體，其中上述偏光元件之厚度為8 μm以下。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學積層體，其中上述黏著劑層之25℃下之儲存模數為1.0×104 Pa～1.0×106 Pa。
  7. 如請求項1至6中任一項之光學積層體，其中上述附相位差層之偏光板之厚度TPWR 為100 μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項之光學積層體，其中上述偏光板僅於上述偏光元件之視認側具有保護層。
  9. 如請求項1至8中任一項之光學積層體，其中上述第1相位差層及上述第2相位差層分別為液晶化合物之配向固化層。
  10. 如請求項9之光學積層體，其中上述第1相位差層之Re(550)為200 nm～300 nm，其遲相軸與上述偏光元件之吸收軸所形成之角度為10°～20°， 上述第2相位差層之Re(550)為100 nm～190 nm，其遲相軸與該偏光元件之吸收軸所形成之角度為70°～80°。
  11. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至10中任一項之光學積層體之上述附相位差層之偏光板。
  12. 如請求項11之圖像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置。
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