TW202206274A

TW202206274A - 具保護膜之積層玻璃

Info

Publication number: TW202206274A
Application number: TW110140044A
Authority: TW
Inventors: 藤井健輔
Original assignee: 日商Ａｇｃ股份有限公司
Priority date: 2015-12-18
Filing date: 2016-12-15
Publication date: 2022-02-16
Also published as: CN106985468A; TWI748750B; JP2017109447A; TWI719932B; DE102016015021A1; JP6561823B2; TWI772214B; TWI713653B; TW202108372A; TW201730000A; TW202110631A; KR20170073502A

Abstract

本發明係關於具有保護膜之積層玻璃，其含有：積層玻璃，其包含具有第一主表面及第二主表面之透明基板、該第一主表面上方之抗反射層及設於該第二主表面之周邊區域上方之遮光層；及具有黏著劑層之保護膜，其中該保護膜黏貼在該積層玻璃上之如下位置：在該積層玻璃之前視圖中，該保護膜之周邊邊緣相對於該遮光層之內周側朝向外周側定位，且其相對於該遮光層之外周側朝向內周側定位，且該積層玻璃與該黏著劑層之間之黏著性為0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm。

Description

具保護膜之積層玻璃

本發明係關於具有保護膜之積層玻璃。

近年來，具有高品質質地、高強度及優良耐熱性之玻璃板作為顯示裝置面板用於保護顯示裝置之目的之應用有所增加。作為用於車載儀器(例如車輛導航系統或儀錶板)之顯示器之面板，或作為用於移動裝置(例如行動電話)之顯示器之面板，自防止背景反射及污跡黏著之觀點而言，需要配備有抗反射層或防污層之面板。此外，自在顯示裝置上安裝面板時保護產品之觀點而言，需要將最終將自面板剝離之保護膜黏貼在面板之頂面側(顯示器表面)上(參見專利文件1及專利文件2)。專利文件1：WO2011/148990 專利文件2：WO2011/118367。

在用作顯示裝置面板之積層玻璃上，經由黏著劑介質黏貼保護膜。然而，在剝離保護膜時，發生如下情形：其中構成在透明基板主表面上形成之抗反射層或防污層之材料之至少一部分藉由在保護膜上形成之黏著劑層之黏著劑剝離，或構成黏著劑層之黏著劑保留在積層玻璃表面之至少一部分上，端視構成添加至黏貼在積層玻璃上之保護膜之黏著劑層之黏著劑之黏著性而定。由於此一困難可造成以下問題：在保護膜黏貼區域與非保護膜黏貼區域之間之邊界處，色彩之色調變化，且該邊界因此變得顯著而影響視覺鑒賞。該問題之主要原因在於，低反射層之附接降低表面反射率，引起色彩之色調的微小變化在視覺上易於識別之情況，且由於其中利用光學干涉，低反射層在表面受膜厚度折射率變化之影響而造成色彩之色調及反射性變化。此外，在保護膜之大小大於用作面板之積層玻璃之情形中，可造成以下問題：例如在顯示裝置上安裝面板時保護膜陷於顯示裝置外殼之間隙中，從而自生產觀點而言造成困難。本發明之具有保護膜之積層玻璃係具有保護膜之積層玻璃，其含有：積層玻璃，其至少含有具有第一主表面及第二主表面之透明基板、第一主表面上方之抗反射層及設於第二主表面之周邊區域上方之遮光層，及具有黏著劑層之保護膜，其中具有黏著劑層之保護膜黏貼在積層玻璃上之如下位置：在積層玻璃之前視圖中，具有黏著劑層之保護膜之周邊邊緣相對於遮光層之內周側朝向外周側定位，且其相對於遮光層之外周側朝向內周側定位，及積層玻璃與黏著劑層之間之黏著性為0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，積層玻璃較佳進一步含有在該透明基板之相對側之在該抗反射層上方之防污層，且該積層玻璃與該黏著劑層之間之黏著性為0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地在長度t定義為連接該積層玻璃最表層表面之周邊邊緣上之任意點與通過該任意點自該積層玻璃最表層表面之周邊邊緣向該保護膜之周邊邊緣延伸之垂直定向之直線與該保護膜之最近周邊邊緣交叉之點之線段之長度時，該長度t大於0 mm且小於10 mm。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，該遮光層係在自該透明基板之該第二主表面之外周側超過0 mm至低於30 mm之範圍內形成。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，黏著劑層含有黏著劑，該黏著劑包含基於丙烯酸之黏著劑或基於聚胺基甲酸酯之黏著劑作為主要成份。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，該積層玻璃在形成該遮光層之區域中在由該抗反射層形成之表面具有2%或更低之光反射率，其中該光反射率係藉由移除源自背側反射之效應來測定。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，該積層玻璃在形成該遮光層之區域中在藉由該抗反射層及該防污層形成之表面具有2%或更低之光反射率，其中該光反射率係藉由移除源自背側反射之效應來測定。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，防污層係由含有含氟化合物之防污劑形成。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，透明基板之第一主表面具有凹凸。在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，較佳地，透明基板係化學韌化玻璃。根據如上文所提及之本發明，構成保護膜之黏著劑層之黏著劑之黏著性經調節落在指定範圍內，且由此使得可能防止黏著劑保留在積層玻璃最表層表面之至少一部分上並抑制構成抗反射層、防污層或諸如此類之材料之至少一部分被剝離，從而獲得在顯示器表面上在不同色調之間無視覺可識別邊界之良好外觀。此外，在本發明之具有保護膜之積層玻璃中，具有黏著劑層之保護膜黏貼在積層玻璃上之如下位置：保護膜之周邊邊緣相對於遮光層之內周側朝向外周側定位，且另外，其相對於遮光層之外周側朝向內周側定位，由此在安裝具有保護膜之積層玻璃作為顯示裝置面板時增強處置性質。

本發明之具有保護膜之積層玻璃參照圖式詳細闡述於下文中。儘管下文以具體實施例闡釋本發明，但不應將本發明視為以任何方式受限於下文關於該等具體實施例之說明，且無需贅言，在不背離本發明之精神及範圍之情況下，若適當，可對多種組份作出各種增加、省略、修改、取代及其他變化。圖1至圖3係橫斷面圖，其圖解說明本發明之具有保護膜之積層玻璃之例示實施例。在下文中，具有保護膜之積層玻璃有時稱為「載有保護膜之積層玻璃」。類似地，具有黏著劑層之保護膜有時稱為「附接黏著劑層之保護膜」。順便提及，在第一至第三實施例中之每一者所闡釋之載有保護膜之積層玻璃1設於顯示板之影像顯示側(觀察者側)上時，其可用作保護顯示板之面板。 (第一實施例) 本發明之具有保護膜之積層玻璃之第一實施例係如圖1中所圖解說明。載有保護膜之積層玻璃1含有附接黏著劑層之保護膜80以及積層玻璃90，該積層玻璃90含有具有第一主表面及第二主表面之透明基板10、在透明基板10之第一主表面上形成之抗反射層20及在透明基板10之第二主表面之周邊部分上形成之遮光層70。附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90上。在積層玻璃90之前視圖中，附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90之如下位置：附接黏著劑層之保護膜80之周邊邊緣相對於遮光層70之內周側朝向外周側定位，且相對於遮光層70之外周側朝向內周側定位。此外，作為積層玻璃90之最表層表面形成之抗反射層20與黏著劑層40之間之黏著性經調節落在0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm範圍內。藉由將黏著劑層40與欲作為積層玻璃90主表面形成之抗反射層20之間之黏著性調節至落在0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm範圍內，可能避免構成黏著劑層之黏著劑保留在積層玻璃90最表層表面之至少一部分上。藉由將黏著劑層40與欲作為積層玻璃90主表面形成之抗反射層20之間之黏著性調節至落在0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm範圍內，可能避免構成作為積層玻璃90最表層表面形成之抗反射層20之材料之至少一部分藉由構成黏著劑層之黏著劑剝離。此外，根據本發明之具有保護膜之積層玻璃之第一實施例，附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90上，使得在長度t定義為連接積層玻璃90最表層表面之周邊邊緣上之任意點與通過該任意點自該積層玻璃最表層表面之周邊邊緣向該保護膜之周邊邊緣延伸之垂直定向之直線與該保護膜之最近周邊邊緣交叉之點之線段之長度時，該長度t大於0 mm且小於10 mm (參見圖4)。在本實施例中，在透明基板10第二主表面之周邊區域上形成之遮光層70形成帶狀區域，該帶狀區域具有自周邊邊緣朝向透明基板10第二主表面中心之預定寬度。 (第二實施例) 本發明之具有保護膜之積層玻璃之第二實施例係如圖2中圖解說明。載有保護膜之積層玻璃1含有附接黏著劑層之保護膜80以及積層玻璃90，該積層玻璃90含有具有第一主表面及第二主表面之透明基板10、在透明基板10之第一主表面上形成之抗反射層20及在透明基板10之第二主表面之周邊部分上形成之遮光層70。本發明之具有保護膜之積層玻璃之第二實施例中之積層玻璃90進一步設有抗反射層主表面上之防污層30。附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90上。在積層玻璃90之前視圖中，附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90之如下位置：附接黏著劑層之保護膜80之周邊邊緣相對於遮光層70之內周側朝向外周側定位，且相對於遮光層70之外周側朝向內周側定位。此外，作為積層玻璃90最表層表面形成之防污層30與黏著劑層40之間之黏著性經調節落在0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm範圍內。藉由將黏著劑層40與欲作為積層玻璃90主表面形成之防污層30之間之黏著性調節至落於0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm範圍內，可能避免構成黏著劑層之黏著劑保留在積層玻璃90最表層表面之至少一部分上。藉由將黏著劑層40與欲作為積層玻璃90主表面形成之防污層30之間之黏著性調節至落於0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm範圍內，可能避免構成作為積層玻璃90最表層表面形成之防污層30之材料之至少一部分藉由構成黏著劑層之黏著劑剝離。此外，根據本發明之具有保護膜之積層玻璃之第二實施例，附接黏著劑層之保護膜80黏貼於積層玻璃90上，使得在長度t定義為連接積層玻璃90最表層表面之周邊邊緣上之任意點與通過該任意點自設有防污層之積層玻璃最表層表面之周邊邊緣向保護膜周邊邊緣延伸之垂直定向之直線與該保護膜之最近周邊邊緣交叉之點之線段之長度時，該長度t大於0 mm且小於10 mm (參見圖4)。 (第三實施例) 本發明之具有保護膜之積層玻璃之第三實施例係如圖3中圖解說明。本發明之第三實施例係係如下實施例：在如第一實施例所呈現，其中設有抗反射層20之積層玻璃90中，或在如第二實施例所呈現，其中按此順序設有抗反射層20及防污層30之積層玻璃90中，在透明基板10之第一主表面與抗反射層20之間進一步形成防眩光層60。在圖3圖解說明如下實施例：在具有防污層30之積層玻璃(第二實施例)中，在透明基板10之第一主表面與抗反射層20之間形成防眩光層60。然而，無需贅言，亦可在不具有防污層30之積層玻璃中(第一實施例)形成防眩光層60。＜積層玻璃＞積層玻璃至少含有具有第一主表面及第二主表面之透明基板、在透明基板之第一主表面上/上方形成之抗反射層及在毗連透明基板第二主表面之端面之周邊區域上/上方形成之遮光層。積層玻璃可進一步含有在抗反射層主表面上/上方之防污層。在積層玻璃中，可在透明基板之第一主表面與抗反射層之間形成防眩光層。＜具有黏著劑層之保護膜＞藉由將黏著劑層附接至保護膜之一側形成具有黏著劑層之保護膜。為在生產製程及產品運輸期間提供對安裝在顯示裝置上之顯示板之保護，具有黏著劑層之保護膜保持黏貼在積層玻璃之最表層表面上，由此保護積層玻璃。在使用顯示裝置時，自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜。藉由調節構成欲附接至保護膜之黏著劑層之黏著劑之黏著性，可能避免構成黏著劑層之黏著劑保留在積層玻璃最表層表面之至少一部分上。藉由調節構成欲附接至保護膜之黏著劑層之黏著劑之黏著性，可能避免構成作為積層玻璃最表層表面形成之抗反射或防污層之材料之至少一部分藉由構成黏著劑層之黏著劑剝離。具有黏著劑層之保護膜黏貼於積層玻璃之最表層表面上。具有黏著劑層之保護膜黏貼在積層玻璃上之如下位置：在自前側觀察積層玻璃時，保護膜之周邊邊緣相對於遮光層之內周側朝向外周側定位，且相對於遮光層之外周側朝向內周側定位。因此，在安裝積層玻璃作為顯示裝置(例如液晶顯示器(LCD)、電漿顯示板(PDP)或電發光顯示器(ELD))之面板時，可能減少因例如具有黏著劑層之保護膜陷於裝置外殼中造成之困難，且由此在顯示裝置上安裝具有保護膜之積層玻璃時增強處置性質。術語「具有黏著劑層之保護膜之周邊邊緣」係指遠離具有黏著劑層之保護膜之中心之邊緣。一般而言，具有黏著劑層之保護膜具有矩形形狀，且在矩形形狀之情形中，周邊邊緣之至少一部分係由直線形成。若適當，具有黏著劑層之保護膜之形狀因應積層玻璃之形狀變化，且因此周邊邊緣之至少一部分可由曲線形成。另外，具有黏著劑層之保護膜黏貼在積層玻璃上之如下位置：在長度t定義為連接積層玻璃最表層表面之周邊邊緣上之任意點與通過該任意點自該積層玻璃最表層表面之周邊邊緣向該保護膜之周邊邊緣延伸之垂直定向之直線與具有黏著劑層之保護膜之最近周邊邊緣交叉之點之線段之長度時，該長度t大於0 mm且小於10 mm。因此，可能在顯示裝置上安裝具有保護膜之積層玻璃時增強處置性質。保護膜較佳經放置使得其周邊邊緣存於遠離積層玻璃之周邊邊緣朝向積層玻璃中心小於10 mm之位置正上方。此乃因保護積層玻璃免受衝擊及諸如此類之目的變得易於達成所致。此外，出於增強自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜之便捷性之目的，可設有使得易於拾取保護膜之邊緣之舌片段，或可在具有黏著劑層之保護膜之周邊邊緣之至少一部分中設有其上未形成黏著劑層之區域。因此，具有黏著劑層之保護膜可易於自積層玻璃剝離。偶然地，基於使得易於剝離之目的所設之舌片段可延伸出周邊至不影響處置性質之程度。在具有抗反射層及/或防污層之積層玻璃與具有黏著劑層之保護膜結合在一起之情況下，可採取手動工作。然而，自生產效率之觀點而言較佳地，以捲起之卷軸形式供應之具有黏著劑層之保護膜藉助橡膠輥或諸如此類經受積層，或根據積層玻璃之尺寸預先將具有黏著劑層之保護膜切割成片形保護膜，然後藉助貼標機、密封黏貼機或諸如此類經受積層。＜黏著劑層＞在保護膜之一側上設置黏著劑層以形成附接黏著劑層之保護膜。適於黏著劑層之黏著劑係黏著度使得在自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜時，黏著劑甚至抵抗保留在積層玻璃最表層表面之至少一部分上之黏著劑。適於黏著劑層之黏著劑係黏著度使得在自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜時抑制黏著劑甚至剝離構成積層玻璃之抗反射層或防污層之材料之至少一部分之黏著劑。作為如上文所指定之黏著劑層之黏著劑，根據黏著性及剝離性質，較佳可使用基於丙烯酸之黏著劑、基於聚胺基甲酸酯之黏著劑及諸如此類。只要黏著劑層具有0.01 N/10 mm或更大之黏著性，黏著劑即可均勻黏著至積層玻璃之最表層表面，且在將附接黏著劑層之保護膜黏貼至積層玻璃時容許黏著劑層均勻黏著至作為積層玻璃最表層表面形成之抗反射層或防污層之表面處理劑之表面。另外，無需擔心在運輸等期間因保護膜自積層玻璃發生脫層而損害作為保護膜之功能。只要黏著劑層具有0.3 N/10 mm或更小之黏著性，黏著劑層即具有適度黏著，且因此無需擔心引起缺陷條件使得在剝離附接黏著劑層之保護膜時，用於作為積層玻璃最表層表面形成之抗反射層之表面處理劑之至少一部分以大於所需之量藉由黏著劑剝離，或構成附接黏著劑層之保護膜之黏著劑層之黏著劑仍留在積層玻璃最表層之至少一部分中，且因此可見性降低並發生沾污。在將附接黏著劑層之保護膜黏貼於形成抗反射層作為最表層表面之積層玻璃上情形中，黏著劑層與抗反射層之間之黏著性較佳係0.03 N/10 mm至0.3 N/10 mm，且更佳係0.05 N/10 mm至0.15 N/10 mm。藉由將黏著性調節至較佳範圍內之數值，可能抑制黏著劑留在抗反射層上及抑制構成抗反射層之材料藉由黏著劑剝離。在將附接黏著劑層之保護膜黏貼至形成防污層作為最表層表面之積層玻璃情形中，黏著劑層與防污層之間之黏著性較佳係0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm，且更佳係0.02 N/10 mm至0.04 N/10 mm。藉由將黏著性調節至較佳範圍內之數值，可能抑制黏著劑保留在防污層上及抑制構成防污層之材料藉由黏著劑剝離。具體而言，黏著劑往往保留在防污層表面上或構成防污層之材料易於藉由黏著劑剝離。因此應瞭解，將黏著劑層與防污層之間之黏著性調節至低於黏著劑層與抗反射層之間之黏著性之數值。根據附接黏著劑層之保護膜之黏著劑層相對於抗反射層或防污層之黏著能力及剝離能力，黏著劑層之厚度較佳係3 μm至50 μm，且更佳係5 μm至25 μm。＜保護膜＞關於保護膜無特定限制，只要其係由樹脂製得且具有膜狀形式即可。另外，保護膜可具有單層結構或藉由使複數個層積層形成之多層結構，該複數個層包括抗靜電層、硬塗層及易黏著層。此外，保護膜可以任何色彩著色以避免忘記自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜。作為保護膜，可利用例如聚酯膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯膜；聚烯烴膜，例如聚乙烯膜及聚丙烯膜；聚氯乙烯膜或諸如此類。在該等膜中，聚酯膜在與黏著劑層之黏著性、耐久性及光學特徵方面較佳。保護膜關於其厚度無特定限制，但厚度較佳係例如5 μm至100 μm。在15 μm至75 μm範圍內之厚度更佳，此乃因具有此一範圍厚度之膜易於彎曲且易於剝離。另一方面，薄於5 μm之保護膜可能無法獲得對積層玻璃之足夠保護，且厚於100 μm之保護膜可使成本增加。＜透明基板＞透明基板之實例包括通常使用之玻璃板，例如自鈉鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃及無鹼玻璃製得之板、自具有各種組成之無機材料製得之無機玻璃板及透明樹脂板。最適玻璃板之材料之實例包括玻璃材料，例如鈉鈣玻璃、石英玻璃、水晶玻璃及藍寶石玻璃。在該等材料中，較佳者係鐵含量較低且藍色調較少之高度透明之玻璃。作為透明樹脂板之材料，高度透明之樹脂材料係適宜的。透明樹脂板之實例包括聚酯樹脂，例如聚碳酸酯及聚對苯二甲酸乙二酯；聚烯烴樹脂，例如聚丙烯、聚氯乙烯；丙烯酸樹脂、聚醚碸、聚芳酯、三乙醯基纖維素及聚甲基丙烯酸甲酯。作為透明基板，玻璃板最佳，此乃因其不僅具有高透明度，且亦具有耐光性、耐熱性、低折射性、高平整度準確性、表面抗刮性及高機械強度。出於增加玻璃板安全性之目的，可提高機械強度。為提高玻璃板之機械強度，使玻璃板預先經受韌化處理。韌化處理之實例包括藉由使玻璃板暴露於高溫氣氛然後在空氣中冷卻玻璃板實現之物理韌化，及藉由將玻璃板浸沒於含有鹼金屬之熔融鹽中以用存於熔融鹽中且原子直徑大之鹼金屬(離子)置換存於玻璃板最外表面中且原子直徑小之鹼金屬(離子)實現之化學韌化。尤其在使用薄玻璃板之情形中，所用玻璃板較佳係已經歷化學韌化之玻璃板(亦稱為化學韌化玻璃)。作為透明基板之化學韌化玻璃較佳滿足以下條件。具體而言，較佳地，玻璃基板之表面壓應力(下文縮寫為CS)為400 MPa至1,200 MPa，且更佳為700 MPa至900 MPa。自實際強度觀點而言，400 MPa或更大之CS足夠。另一方面，只要玻璃基板具有1,200 MPa或更小之CS，玻璃基板即可耐受其自身之壓應力且無自發破裂之可能性。在使用本發明之載有保護膜之積層玻璃1作為顯示裝置或諸如此類之面板(蓋玻璃)之情形中，玻璃基板之CS較佳在700 MPa至850 MPa範圍內。此外，較佳地，玻璃基板之應力值深度(下文稱為DOL)為15 μm至50 μm，且較佳為20 μm至40 μm。只要玻璃基板具有15 μm或更大之DOL，既無需擔心玻璃基板易於刮傷及破裂。另一方面，只要玻璃基板具有40 μm或更小之DOL，玻璃基板可耐受其自身壓應力且無自發破裂之可能性。在使用本發明之載有保護膜之積層玻璃1作為顯示裝置或諸如此類之面板(蓋玻璃)之情形中，較佳地，玻璃基板之DOL在25 μm至35 μm範圍內。就機械強度而言，藍寶石玻璃亦適宜作為玻璃基板。透明基板通常平滑且具有矩形形狀。若適當，透明基板所需形狀可因應顯示裝置上之顯示板之形狀、顯示裝置之設計、顯示裝置之安裝位置等而變化。換言之，透明基板之形狀不限於平滑幾何學及矩形形狀。舉例而言，透明基板可為表面上具有凹性及凸性之圖案化玻璃，且其可具有多邊形形狀、圓形形狀或橢圓形形狀。另外，透明基板可不僅係平整玻璃板亦可係具有彎曲表面之玻璃板。術語「透明基板之周邊邊緣」係指遠離透明基板中心之端側。一般而言，透明基板具有矩形形狀，且在矩形形狀之情形中，周邊邊緣之至少一部分係由直線形成。若適當，透明基板之形狀因應顯示板之形狀或諸如此類而變化，且因此周邊邊緣之至少一部分可由曲線形成。透明基板之尺寸係根據顯示板之尺寸或使用顯示裝置之目的適當選擇。舉例而言，在用作移動裝置之蓋玻璃之情形中，透明基板之大小較佳在30 mm × 50 mm至300 mm × 400 mm範圍內，且其厚度在0.1 mm至2.5 mm範圍內；而在用於車輛導航系統、操縱板、儀錶板或諸如此類之顯示器中之情形中，透明基板之大小較佳在50 mm × 100 mm至2,000 mm × 1,500 mm範圍內且其厚度在0.5 mm至4 mm範圍內。然而，透明基板關於其厚度無特定限制，且玻璃板只要厚度為10 mm或更低即可用作透明基板。關於機械強度、透明度等，用作透明基板之玻璃板之厚度通常為約0.1 mm至6 mm。尤其在使用玻璃板作為車載顯示裝置中之透明基板之情形中，需要玻璃板之安全性，且因此自機械強度之觀點而言，其厚度較佳在0.2 mm至2 mm範圍內。在出於高效實施化學韌化處理之目的使用化學韌化玻璃之情形中，玻璃基板之適宜厚度通常為5 mm或更低，且較佳為3 mm或更低。在使用透明樹脂板之情形中，板之適宜厚度為2 mm至10 mm。基板厚度愈小，光吸收減輕愈多，且因此就改良可見性亦及透明度而言，玻璃板之使用較佳。另外，不需要透明基板一定具有由單層形成之單層結構，且其可具有由複數個層形成之多層結構，例如積層玻璃結構。＜抗反射層＞抗反射層係出於經由抑制環境光反射提高顯示器影像品質之目的形成之層，且其通常在透明基板之第一主表面上/上方形成。在已對透明基板之第一主表面實施防眩光處理之情形中，適當地，抗反射層20係在藉由防眩光處理產生之防眩光層60上/上方形成。抗反射層關於其結構無特定限制，只要結構容許將光反射降低至某一範圍即可。舉例而言，抗反射層可具有包括低折射率層及高折射率層之積層結構。在本文中，高折射率層係指如使用550 nm波長之光所量測，折射率為例如1.9或更高之層，而低折射率層係指如使用550 nm光所量測，折射率為例如1.6或更低之層。關於抗反射層中高折射率層及低折射率層之數目，可採取包括各一個高折射率層及低折射率層之形式，或可形成具有各自一個以上高折射率層及低折射率層之結構。在採取包括各一個高折射率層及低折射率層之形式的情形中，適當地，高折射率層及低折射率層按所述順序堆疊在透明基板之主表面上。另一方面，在形成具有各自一個以上高折射率層及低折射率層之結構之情形中，適當地採取包括按所述順序交替堆疊之高折射率層及低折射率層之形式。對於增強抗反射性能，較佳地，抗反射層係其中兩個或更多個層彼此上下堆疊之積層。積層較佳具有總計2至8個彼此上下堆疊之層，更佳總計2至6個彼此上下堆疊之層，且進一步較佳總計2至4個彼此上下堆疊之層。如上文所提及，本文中較佳之積層係其中高折射率層及低折射率層交替堆疊且高折射率層及低折射率層之總數在上文所指定範圍內之積層。另外，可在不影響光學特徵之範圍內添加其他層。舉例而言，為防止Na自玻璃基板擴散，可在玻璃與第一層之間插入SiO₂ 膜。高折射率層及低折射率層各自之主要成份無特定限制，且其可在考慮所需抗反射程度及生產力之後經選擇。高折射率層中主要成份之實例包括氧化鈮(Nb₂ O₅ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鋯(ZrO₂ )、氧化鉭(Ta₂ O₅₎ 、氧化鋁(Al₂ O₃ )及氮化矽(SiN)。一或多個選自該等材料之種類可較佳用作高折射率層中之主要成份。低折射率層中之主要成份之實例包括氧化矽(尤其二氧化矽SiO₂ )、含有Si-Sn混合氧化物之材料、含有Si-Zr混合氧化物之材料及含有Si-Al混合氧化物之材料。一或多個選自該等材料之種類可較佳用於低折射率層中。自生產力及折射率之觀點而言，較佳地，高折射率層係由一個選自氧化鈮、氧化鉭或氮化矽之種類構成，且低折射率層係由氧化矽構成。抗反射層可適宜地藉由使用在其欲形成於其上之表面上直接形成無機薄層之方法、經由使用蝕刻技術或諸如此類實施表面處理之方法或乾式製程(例如化學氣相沈積(CVD)製程或物理氣相沈積(PVD)製程，尤其作為物理氣相沈積製程中之一者之真空沈積製程或濺鍍製程)來形成。亦可能採取其中抗反射層及防污層按所述順序設於透明基板之第一主表面上/上方之形式。在此情形中，在意欲使得易於將防污層施加至抗反射層時，抗反射層可藉由濕式製程形成。作為藉由濕式製程形成之抗反射層之實例，可提及含有低折射率粒子之層，尤其在用作黏合劑之基質成份中含有低折射率粒子之層。或者，抗反射層可藉由使用將具有抗反射功能之透明樹脂膜黏貼於透明基板上之方法而設置。抗反射層之厚度較佳為100 nm至500 nm。有利地將抗反射層之厚度調節至100 nm或更大，此乃因此一厚度容許有效降低環境光之反射。＜防污層＞防污層至少具有撥油性或親脂性。防污層可具有防止不同污跡黏著之功能，該等污跡不僅包括指紋痕跡且亦包括汗液及灰塵，使得易於擦除該等污跡或使該等污跡不顯著，且由此保持顯示器表面清潔。另外，防污層可在觸摸面板操作期間容許手指無阻礙地平滑滑動。關於防污層之性質，較佳地，藉由在抗反射層上/上方設置防污層，作為積層玻璃之最表層表面形成防污層。作為形成防污層之方法，可利用例如真空蒸發法(乾式方法)，其中含氟有機化合物或諸如此類在真空室中蒸發且沈積於抗反射層表面上，或利用將含氟有機化合物或諸如此類溶解於有機溶劑中以製備具有預定濃度之溶液且將溶液施加至抗反射層表面之方法(濕式方法)。若適當，乾式方法可選自離子束輔助沈積法、離子鍍法、濺鍍法或電漿CVD法，而濕式方法可適當地選自旋塗法、浸塗法、澆鑄法、狹縫塗佈法或噴霧法。可採取乾式方法及濕式方法二者。關於抗刮性，較佳使用乾型膜形成方法。防污層(防污劑)中之主要成份可適當地選自可賦予抗污性、撥水性及撥油性之含氟化合物(含氟有機化合物)及諸如此類。該等化合物之實例包括含氟有機矽化合物及含氟可水解化合物。含氟有機化合物之使用可無特定限制，只要其可賦予抗污性、撥水性及撥油性即可。 (含氟有機矽化合物塗層) 在於透明基板主表面上或於防眩光層之經處理表面上形成抗反射層之情形中，較佳在抗反射層表面上設置用於形成防污層之含氟有機矽化合物塗層。另一方面，在使用已經歷表面處理(例如防眩光處理或化學韌化處理)且表面上無抗反射層之玻璃基板作為透明基板之情形中，較佳地，直接在已經歷此一表面處理之面上形成含氟有機矽化合物塗層。作為形成含氟有機矽化合物塗層之方法之實例，可提及如下方法：藉由使用旋塗法、浸塗法、澆鑄法、狹縫塗佈法、噴霧法等塗佈含有具有氟烷基(例如全氟烷基或具有全氟(聚氧化烯)鏈之氟烷基)之矽烷偶合劑之組合物，然後使經塗佈組合物經受熱處理；或真空蒸發法，其中使含氟有機矽化合物經受氣相沈積，然後進行熱處理。為獲得高黏著性之含氟有機矽化合物塗層，較佳地，經由使用真空蒸發法形成塗層。經由使用真空蒸發法形成含氟有機矽化合物塗層較佳藉由使用含有含氟可水解矽化合物之用於塗層形成之組合物來實施。 (含氟可水解矽化合物) 在涉及防污層時，用於形成含氟有機矽化合物塗層之含氟可水解矽化合物無特定限制，只要所獲得含氟有機矽化合物塗層具有抗污性質(包括撥水性及撥油性)即可。此一含氟可水解矽化合物之具體實例包括各自具有至少一個選自由全氟聚醚基團、全氟伸烷基及全氟烷基組成之群之基團之彼等。防污層亦可藉由使用使具有抗污功能之透明樹脂膜積層之方法而設置。一般而言，在抗反射層上形成之防污層之厚度無特定限制，但其較佳係2 nm至20 nm，更佳2 nm至15 nm，且進一步較佳3至10 nm。只要防污層具有2 nm或更大之厚度，防污層即可產生抗反射層之表面經防污層均勻覆蓋之狀態，且可易於獲得能耐受實際使用之抗刮性。另一方面，只要其厚度為20 mm或更小，積層狀態之防污層可將諸如光反射率及濁度等光學特徵保持良好狀況。＜防眩光層＞意欲向積層玻璃賦予防眩光性質時，防眩光層可設於透明基板之第一主表面上/上方。為賦予防眩光性質，可在透明基板之主表面中形成凹凸。具有凹凸之主表面可係透明基板之至少一個主表面，且凹凸較佳於透明基板之第一主表面中形成。對於形成凹凸之方法，通常已知之方法適用。舉例而言，在使用玻璃基板作為透明基板之情形中，適用者係給予玻璃基板之主表面化學或物理表面處理以形成具有期望表面粗糙度之凹凸之方法，或濕式塗佈方法。作為以化學方式實施防眩光處理之方法之具體實例，可提及給予霜化處理之方法。霜化處理可藉由例如將作為欲處理材料之玻璃基板浸沒於含有氟化氫及氟化銨之混合溶液中來實施。作為以物理方式實施防眩光處理之方法之實例，可提及噴砂處理，其中將載有結晶二氧化矽粉末、碳化矽粉末或諸如此類之加壓空氣流輸送至玻璃基板主表面上；或用其上置有結晶二氧化矽粉末、碳化矽粉末或諸如此類之蘸水刷摩擦玻璃基板主表面之方法。在上文所提及之處理中，於對玻璃基板賦予防眩光處理之方法時較佳為霜化處理，此乃因其幾乎不於所處理材料表面中引起微小裂縫形成，因此其幾乎不引起機械強度降低。已經歷如上文所提及之該化學或物理防眩光處理之玻璃基板主表面較佳經受蝕刻處理以固定表面輪廓。對於蝕刻處理，可利用例如將玻璃板浸沒於作為蝕刻溶液之氟化氫水溶液中之化學蝕刻方法。在經歷如上文所提及之該防眩光處理及後續蝕刻處理後，玻璃基板主表面較佳具有0.01 μm至0.5 μm之表面粗糙度(均方根粗糙度，RMS)。表面粗糙度(RMS)更佳係0.01 μm至0.3 μm，且進一步更佳係0.02 μm至0.2 μm。藉由將表面粗糙度(RMS)調節至落於上文所指定範圍內，可在防眩光處理後控制玻璃基板之濁度值落於1%至30%之範圍內，從而對設有抗反射層之透明基板10賦予優良防眩光性質。附帶說明，濁度值係JIS K 7136 (2000)中指定之值。關於形成防眩光層之方法，防眩光層可經由使具有防眩光功能之透明樹脂膜及透明基板積層而設置。＜遮光層＞在透明基板第二主表面之周邊區域之至少一部分上/上方形成遮光層。形成遮光層目的用於遮蔽置於顯示板周邊區域上之佈線構件及其他構件，以使得不可能自觀察者側視覺識別顯示板中除影像顯示區域以外之任何區域，及增強顯示裝置之設計品質。遮光層可改良顯示器之可見性及外觀。術語「透明基板之周邊區域」係指自除透明基板中心以外之邊緣朝向透明基板中心具有預定寬度之帶狀區域。遮光層形成於整個周邊區域上或周邊區域之至少一部分上。一般而言，遮光層毗連透明基板之周邊邊緣，且係具有預定寬度之帶狀區域。因此，遮光層之外周側通常與其上形成遮光層之透明基板第二主表面之周邊邊緣幾乎相同。術語「遮光層之內周側」係指在具有預定寬度之遮光層區域中更靠近透明基板中心之端側。遮光層形成區域通常係根據透明基板之形狀成型。在透明基板具有矩形形狀之情形中，遮光層外周側之至少一部分係以直線形成。遮光層之內周側可以直線及曲線形成。另外，在遮光層形成區域之一部分中可形成操作狀態之顯示區域以顯示顯示裝置所處狀態或接受來自遠程控制器之操作光(例如紅外輻射)之傳光區域。遮光層係於透明基板第二主表面之周邊區域上/上方形成。較佳地，遮光層形成於自透明基板第二主表面之外周側超過0 mm至低於30 mm範圍內。遮光層可藉由用黑色油墨印刷之方法來形成。印刷方法之實例包括條碼製程、逆塗製程、凹版塗佈製程、模具塗佈製程、輥塗製程及網版印刷製程。在該等製程中，網版印刷製程較佳，此乃因其不僅容許容易且簡單之印刷，且亦容許在多種類型之基板上印刷及根據不同基板大小中之每一者印刷。可無特定限制地使用黑色油墨。作為可用黑色油墨之實例，可提及含有燒製陶瓷或諸如此類之無機油墨及含有諸如顏料或染料等著色材料及有機樹脂之有機油墨。藉由用含有著色顏料之陶瓷印刷形成之遮光層較佳，此乃因其具有高不透光性。遮光層通常以黑色形成，但亦可使用除黑色以外之任何色彩，只要其具有高不透光性即可。或者，遮光層可藉由使具有遮光功能之透明膜及透明基板積層形成。併入無機黑色油墨之陶瓷之實例包括氧化物，例如氧化鉻及氧化鐵；碳化物，例如碳化鉻及碳化鎢、碳黑及雲母。黑色印刷區域6可藉由熔融含有如上文所列舉之陶瓷及二氧化矽之油墨，用經熔融油墨以期望圖案在基板上印刷，然後燒製所印刷油墨來獲得。此一無機油墨需要經受熔融及燒製過程，且其通常用作玻璃專用油墨。有機油墨可為含有黑色染料或顏料及有機樹脂之組合物。有機樹脂之實例包括均聚物，例如環氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚芳酯、聚碳酸酯、酚樹脂、聚胺基甲酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯基樹脂、聚乙烯丁醛、聚醚醚酮、聚乙烯、聚酯、聚丙烯、聚醯胺及聚醯亞胺；及透明ABS (丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂及包括自該等樹脂之單體中之任一者及可與該等單體共聚合之任何單體形成之共聚物之樹脂。染料或顏料之使用可無特定限制，只要其呈黑色即可。使用有機油墨優於使用無機油墨，此乃因有機油墨之燒製溫度低於無機油墨。此外，使用含有顏料之有機油墨在耐化學性方面較佳。＜光反射率＞本發明積層玻璃含有透明基板、在透明基板之第一主表面上/上方形成之抗反射層及在透明基板第二主表面之周邊區域之至少一部分上/上方形成之遮光層。本發明積層玻璃之光反射率在形成遮光層之區域中較佳為2%或更低，其中光反射率係針對自抗反射層之側入射之光來量測且藉由在透明基板與遮光層之界面移除源自背側反射之效應來測定。積層玻璃之光反射率係指積層玻璃在第一主表面側之最表層表面之光反射率，亦即在積層玻璃不具有防污層之情形中係指抗反射層之光反射率，但在積層玻璃具有防污層之情形中係指抗反射層及防污層之總光反射率。通常作為在僅量測鏡面反射之情形中移除背側反射之效應之方法實施之方法係如下方法：用砂紙或諸如此類韌化透明基板之第二主表面且用黑色標記物或諸如此類進一步降低反射率，由此消除第二主表面之鏡面反射。然而，此一方法在以SCI模式量測之情形中不足，其中亦包括漫反射光。此乃因來自第二主表面之漫射光即使在實施前述處理處理後亦存在。然而，在此一情形中，可藉由以下計算移除背側反射之效應。在設有欲獲得之低反射層之第一主表面之反射率表示為R1時，透明基板之反射率表示為R0且考慮自第一主表面入射，在第二主表面與空氣之間之界面反射出去，然後傳遞穿過第一主表面之光，在對應於其上無遮光層之第二主表面區域中自第一主表面側量測之SCI模式反射率(該反射率表示為Rg)表示為以下方程： Rg = R1 + (1 - R1) × R0 × (1 - R1)。由於R0可藉由在透明基板上藉由使用例如橢圓偏光計進行之折射率量測得出，故量測值Rg及R0成為已知量以容許測定R1。順便提及，實際上，關於在透明基板內側重複往返程之光之項亦存在於前述方程中之第二項之後，但透明基板通常具有約4%之低R0值，且因此該等隨後項小至可忽略不計。由於在本發明中積層玻璃具有2%或更低之低光反射率且黏著劑層具有經適當調節之黏著性，故積層玻璃具有低環境光反射，在遮光層形成區域中令人滿意地免於經受源於黏著劑殘留物或黏著劑所致抗反射層表皮剝落之色彩不均勻，且在其上黏貼有附接黏著劑層之保護膜之區域與其上不黏貼附接黏著劑層之保護膜之區域之間之邊界不引起色彩之色調變化。因此，本發明積層玻璃可確保令人滿意的可見性。光反射率較佳為1.5%或更低，且更佳為1%或更低。在該等情形中，可達成更顯著效應。藉由將積層玻璃之光反射率控制在低至較佳2%或更低，且對用於黏著劑層中之黏著劑之黏著性進行適當調節，可令人滿意地防止積層玻璃經受源於黏著劑殘留物及黏著劑所致抗反射層表皮剝落之色彩不均勻，且在將積層玻璃安裝在顯示裝置上時，不僅可獲得令人滿意的顯示器可見性及顯示器面上之低環境光反射，且亦可獲得優良設計品質及優美外觀。另外，即使在形成防污層作為積層玻璃最表層表面之情形中，只要防污層之厚度足夠小(例如20 nm或更小)，呈積層狀態之防污層對光反射率即無顯著影響。藉由在移除背側反射之效應後將抗反射層及防污層之總光反射率控制在較佳2%或更低，且另外藉由將黏著劑層調節至具有適當黏著性，可令人滿意地防止積層玻璃經由源於黏著劑殘留物及黏著劑所致防污層表皮剝落之色彩不均勻，且在將積層玻璃安裝在顯示裝置上時，不僅可獲得令人滿意的顯示器可見性及顯示器面上之低環境光反射，且亦可獲得優良設計品質及優美外觀。實例在以下實例及比較實例中，將主要闡釋具體使用之材料及程序組合。根據以下程序製備設有防污膜之玻璃基板。首先，採用化學韌化用玻璃Dragontrail (商標，由Asahi Glass Co., Ltd.製造，下文亦縮寫為「DT」)作為透明基板。 (1) 防眩光處理根據以下程序，利用霜化處理使玻璃基板之第一主表面經受防眩光處理。首先，將耐酸性保護膜黏貼至無需防眩光處理之玻璃基板表面側。然後，將所得玻璃基板浸沒至3 wt%氟化氫溶液中3分鐘以移除黏著至玻璃基板表面之污物。此外，經由浸沒至含有15 wt%氟化氫及15 wt%氟化鉀之混合溶液中3分鐘使已移除污物之玻璃基板經受霜化處理，且由此實施對玻璃板第一主表面之霜化處理。藉由浸沒至10%氟化氫溶液中對由此經防眩光處理之玻璃基板進行濁度調節。 (2) 化學韌化處理根據以下程序使經防眩光處理之玻璃基板經受化學韌化處理。首先，使經防眩光處理之玻璃基板經受浸沒至藉由在450℃下加熱熔融之硝酸鉀熔融鹽中2小時，然後自熔融鹽中上升，且進一步經受經1小時逐漸冷卻至室溫，由此獲得化學韌化玻璃。由此獲得之化學韌化玻璃基板具有730 MPa之表面壓應力(CS)及30 μm之應力層深度(DOL)。在上文步驟後，將化學韌化玻璃浸沒至鹼溶液(SUNWASH TL-75，由Lion Specialty Chemicals Co., Ltd.製造) 4小時。 (3) 遮光層之形成其次，根據以下程序在已經歷防眩光處理及化學韌化處理之玻璃基板之第二主表面上實施網版印刷。在玻璃基板第二主表面之外周區域之4個側面上，以具有2 cm寬度之黑色框架形狀實施印刷，以形成遮光層。更具體而言，藉助網版印刷機以5 μm厚度施加黑色油墨(GLSHF，商標名，由Teikoku Printing Inks Mfg. Co., Ltd.製造)，然後經由在150℃下保持10分鐘來乾燥，由此形成第一印刷層。在此之後，以5 μm厚度將黑色油墨施加至第一印刷層，然後經由以與上文所提及相同之方式在150℃下保持40分鐘來乾燥，由此形成第二印刷層。因此，形成具有第一及第二印刷層之積層結構之遮光層，且由此獲得在玻璃基板之一個主表面之外周區域上設有遮光層之玻璃基板。 (4) 高折射率層之形成以以下方式在經防眩光處理之玻璃基板之第一主表面側上形成抗反射層。首先，在將含有10 vol%氧氣之氬氣混合物接納至薄膜形成設備中時，藉由使用氧化鈮靶(NBO靶，商標名，由AGC Ceramics Co., Ltd.製造)在壓力為0.3 Pa，頻率為20 kHz，功率密度為3.8 W/cm² 且倒脈衝寬度為5 μsec之條件下實施脈衝式濺鍍，由此在玻璃基板上形成折射率(n)為2.3且厚度為13 nm之由氧化鈮(Nb₂ O₅ )構成之高折射率層(第一層)。在實例4中，以類似於上文之方式在玻璃基板之第一主表面側上形成高折射率層，但是用氮化矽(SiN)代替氧化鈮(Nb₂ O₅ )。更具體而言，由氮化矽構成之高折射率層係以以下方式形成。在將含有50 vol%氮氣之氬氣混合物接納至真空室中時，藉由使用矽靶在壓力為0.3 Pa，頻率為20 kHz，功率密度為3.8 W/cm² 且倒脈衝寬度為5 μsec之條件下實施脈衝式濺鍍，由此形成折射率(n)為2.0且厚度為15 nm之由氮化矽(SiN)構成之高折射率層，該高折射率層全部在其上欲形成高折射率層之玻璃基板表面上。 (5) 低折射率層之形成在將含有40 vol%氧氣之氬氣混合物接納至設備中時，藉由使用矽靶在壓力為0.3 Pa，頻率為20 kHz，功率密度為3.8 W/cm² ，倒脈衝寬度為5 μsec且脈衝寬度為5 μsec之條件下實施脈衝式濺鍍，由此形成折射率(n)為1.45之由氧化矽(SiO₂ )構成之低折射率層。 (6) 抗反射層之形成抗反射層係藉由交替實施高折射率層及低折射率層之形成來形成。 (7) 防污層之形成將防污層以以下方式形成膜。首先，將用於形成含氟有機矽化合物膜之材料作為防污層材料引入加熱器皿中。然後，藉助真空幫浦使加熱器皿經受除氣10小時或更久以自溶液排除溶劑，由此提供用於形成含氟有機矽化合物膜之組合物(下文稱為用於形成防污層之組合物)。在此之後，將含有用於形成防污層之組合物之加熱器皿加熱至270℃，且在達到270℃後，將此情況保持10分鐘直至溫度穩定為止。然後，將設有抗反射層20之玻璃基板置於真空室中，且自連接至含有用於形成防污層之組合物之加熱器皿之噴嘴向玻璃基板之抗反射層上進給用於形成防污層之組合物，由此實施膜形成。在真空室中，在實施膜形成的同時用配備有石英振盪器之監測器組量測膜厚度，且繼續進行直至低折射率層上之含氟有機矽化合物膜之厚度達到4 nm為止。在此之後，自真空室取出玻璃基板，且將其安裝在熱板上，使得含氟有機矽化合物膜之表面面朝上並在空氣中在150℃下熱處理60分鐘。以此方式，獲得具有在抗反射層上形成之防污層之積層玻璃。 (8) 附接黏著劑層之保護膜之黏貼其次，將附接黏著劑層之保護膜置於以前述方式獲得之其上形成防污層之玻璃基板主表面上。此時，黏貼保護膜之黏著劑層，使得其周邊定位於遠離積層玻璃周邊內部2 mm。該積層可能藉由例如預先將保護膜切割至在任一側上較玻璃基板之大小小2 mm之大小來實施。因此，獲得具有保護膜之積層玻璃，其中積層玻璃具有抗反射層、防污層及防眩光層，且另外，將附接黏著劑層之保護膜黏貼至積層玻璃之主表面側，使得保護膜周邊定位於遠離積層玻璃周邊內部2 mm。將在每一實例之說明以及表1中提及用於以下實例及比較實例中之各自具有抗反射層、防污層及防眩光層以及欲黏貼至積層玻璃之具有黏著劑層之保護膜之積層玻璃。表1

	實例1	實例2	實例3	實例4	實例5	實例6	比較實例1	比較實例2
基板	DT	DT	DT	DT	DT	DT	DT	DT
基板厚度	1.3 mm	2 mm	1.3 mm	1.3 mm	1.3 mm	1.3 mm	1.3 mm	1.3 mm
防眩光處理	已實施	已實施	未實施	已實施	已實施	已實施	已實施	已實施
化學韌化	已實施	已實施	已實施	已實施	已實施	已實施	已實施	已實施
抗反射層 (厚度)	Nb₂ O₅ (13nm)	Nb₂ O₅ (13nm)	Nb₂ O₅ (13nm)	SiN (15 nm)	Nb₂ O₅ (13nm)	Nb₂ O₅ (13nm)	Nb₂ O₅ (13nm)	Nb₂ O₅ (13nm)
SiO₂ (35 nm)	SiO₂ (35 nm)	SiO₂ (120 nm)	SiO₂ (70 nm)	SiO₂ (35 nm)	SiO₂ (120 nm)	SiO₂ (35 nm)	SiO₂ (35 nm)
Nb₂ O₅ (115 nm)	Nb₂ O₅ (115 nm)		SiN (17 nm)	Nb₂ O₅ (115 nm)		Nb₂ O₅ (115 nm)	Nb₂ O₅ (115 nm)
SiO₂ (90 nm)	SiO₂ (90 nm)		SiO₂ (105 nm)	SiO₂ (90 nm)		SiO₂ (90 nm)	SiO₂ (90 nm)
			SiN (15 nm)
			SiO₂ (50 nm)
			SiN (120 nm)
			SiO₂ (80 nm)
防污層	KY-185	KY-185	OPTOOL DSX	KY-195	-	-	KY-185	KY-185
包裝膜	EC-9005ASL	UA-3004ASL	Y16FAS	EC-610B2L	EC-9005ASL	Y16FAS	SAF-010	TTG-3370
基板種類	PET	PET	基於聚乙烯	基於聚乙烯	PET	PET	基於聚丙烯	PET
黏著劑材料	基於丙烯酸	基於聚胺基甲酸酯	基於丙烯酸	基於丙烯酸	基於丙烯酸	基於聚胺基甲酸酯	-	基於丙烯酸
長度(t)	2 mm	2 mm	2 mm	2 mm	2 mm	2 mm	2 mm	2 mm
濁度	2%	25%	0%	2%	2%	2%	2%	2%
光反射率	0.30%	0.30%	0.80%	1%	0.30%	0.80%	0.30%	0.30%
黏著性	0.012N/10mm	0.015N/10mm	0.05N/10mm	0.02N/10mm	0.11N/10mm	0.3N/10mm	0.008N/10mm	0.1N/10mm
可見度不均勻性	無不均勻	無不均勻	無不均勻	無不均勻	無不均勻	無不均勻	黏貼不均勻	邊界兩側色彩不均勻

KY-185：由Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.生產 OPTOOL DSX：由Daikin Industries Ltd.生產 KY-195：由Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.生產 EC-9005ASL：由Sumiron Co., Ltd.生產 UA-3004ASL：由Sumiron Co., Ltd.生產 Y16FAS：由Sun A. Kaken Co., Ltd.生產 EC-610B2L：由Sumiron Co., Ltd.生產 SAF-010：由Futamura Chemical Co. Ltd.生產 TTG-3370：由Sumiron Co., Ltd.生產 (實例1) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為四(4)。關於每一層之厚度，第一氧化鈮層之厚度為13 nm，第二氧化矽層之厚度為35 nm，第三氧化鈮層之厚度為115 nm，且第四氧化矽層之厚度為90 nm。此後，藉由使用KY-185 (由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.生產)作為氣相蒸發材料實施防污層之形成，且向其黏貼EC-9005ASL (由Sumiron Co., Ltd.生產)，其係具有由基於丙烯酸之黏著劑構成之黏著劑層之PET保護膜。保護膜基底之厚度為25 μm。 (實例2) 以與實例1之情形相同之方式，使厚度為2.0 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將濁度調節至25%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為四(4)。關於每一層之厚度，第一氧化鈮層之厚度為13 nm，第二氧化矽層之厚度為35 nm，第三氧化鈮層之厚度為115 nm，且第四氧化矽層之厚度為90 nm。此後，藉由使用KY-185 (由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.生產)作為氣相蒸發材料實施防污層之形成，且向其黏貼UA-3004ASL (由Sumiron Co., Ltd.生產)，其係具有由基於聚胺基甲酸酯之黏著劑構成之黏著劑層之PET保護膜。 (實例3) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(2) 化學韌化處理而不經歷防眩光處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，按所述順序實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成以形成抗反射層，從而使積層數為二(2)。第一氧化鈮層之厚度為13 nm且第二氧化矽層之厚度為120 nm。此後，用OPTOOL DSK (Daikin Industries Ltd.)實施防污層之形成，且向其黏貼Y16FAS (由Sun A. Kaken Co., Ltd.生產)，其係具有由基於丙烯酸之黏著劑構成之黏著劑層之基於聚乙烯之保護膜。 (實例4) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，(3) 形成遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氮化矽構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為八(8)。關於每一層之厚度，第一氮化矽層之厚度為15 nm，第二氧化矽層之厚度為70 nm，第三氮化矽層之厚度為17 nm，第四氧化矽層之厚度為105 nm，第五氮化矽層之厚度為15 nm，第六氧化矽層之厚度為50 nm，第七氮化矽層之厚度為120 nm，且第八氧化矽層之厚度為80 nm。此後，用KY-185 (由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.生產)實施防污層之形成，且向其黏貼EC-610B2L (由Sumiron Co., Ltd.生產)，其係具有由基於丙烯酸之黏著劑構成之黏著劑層之基於聚乙烯之保護膜。 (實例5) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為四(4)。關於每一層之厚度，第一氧化鈮層之厚度為13 nm，第二氧化矽層之厚度為35 nm，第三氧化鈮層之厚度為115 nm，且第四氧化矽層之厚度為90 nm。此後，黏貼EC-9005ASL (由Sumiron Co., Ltd.生產)，即具有由基於丙烯酸之黏著劑構成之黏著劑層之PET保護膜，且不形成任何防污層。 (實例6) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，按所述順序實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成以形成抗反射層20，從而使積層數為二(2)。第一氧化鈮層之厚度為13 nm且第二氧化矽層之厚度為120 nm。此後，黏貼Y16-FAS (由Sun A. Kaken Co., Ltd.生產)，即具有由基於聚胺基甲酸酯之黏著劑構成之黏著劑層之PET保護膜，且不形成任何防污層。 (比較實例1) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為四(4)。關於每一層之厚度，第一氧化鈮層之厚度為13 nm，第二氧化矽層之厚度為35 nm，第三氧化鈮層之厚度為115 nm，且第四氧化矽層之厚度為90 nm。此後，用KY-185 (由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.生產)實施防污層之形成，且向其黏貼SAF-010 (由Futamura Chemical Co., Ltd.生產)，其係具有由黏著劑構成之黏著劑層之基於聚丙烯之保護膜。 (比較實例2) 使厚度為1.3 mm之DT基板經受(1) 防眩光處理，隨後經由控制蝕刻時間將其濁度調節至2%，且進一步經受(2) 化學韌化處理。在此之後，實施(3)遮光層之形成。然後，交替實施(A) 由氧化鈮構成之高折射率層之形成及(B) 由氧化矽構成之低折射率層之形成，以形成抗反射層，從而使積層數為四(4)。關於每一層之厚度，第一氧化鈮層之厚度為13 nm，第二氧化矽層之厚度為35 nm，第三氧化鈮層之厚度為115 nm，且第四氧化矽層之厚度為90 nm。此後，用KY-185 (由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.生產)實施防污層之形成，且向其黏貼TTG-3370 (由Sumiron Co., Ltd.生產)，其係具有由基於丙烯酸之黏著劑構成之黏著劑層之PET保護膜。＜評估方法＞對每一具有附接黏著劑層之保護膜之積層玻璃實施以下評估，該等積層玻璃分別係在實例1至6及比較實例1及2中獲得。所獲得評估結果顯示於表1中。 (濁度) 根據JIS-K-7136 (2000)，用濁度計HZ-V3 (Suga Test Instruments Co., Ltd.之產品)實施濁度量測。 (光反射率) 術語光反射率係指定義於JIS Z8701 (1999)中之反射刺激值Y。在本發明中，用分光光度計(CM-2600d型，KONIKA MINOLTA, INC.之產品)根據SCI模式量測反射光，其中在D65光源下一起量測規則反射光及漫反射光，且自由此量測之反射率計算光反射率。 (色彩不均勻性之評估) 以以下方式實施對色彩不均勻性之評估。在置於與外部光隔絕之室中、例如黑暗小室中之螢光燈下，將基板固持在2,000勒克司(lux)之亮度級之位置。在此情況下，藉由自多種不同角度目測觀察來檢查是否存在色彩不均勻性。 (黏著性) 如下量測黏著性。在基板上，將經包裝積層膜切成寬度為10 mm之條帶。使一個條帶經受90°剝離測試。在測試中，使用剝離力量測儀器(FA PLUS，IMADA Co., Ltd.之產品)且將剝離速度設定為0.84 mm/sec。藉由使用其他條帶將測試實施3次，且採用所量測數據之平均值。＜量測結果＞本發明之具有保護膜之積層玻璃之實例(實例1至6)及用於比較之積層玻璃之實例(比較實例1及2)顯示於表1中。在實例1、2及4中形成之積層玻璃含有防眩光層、抗反射層及防污層，在實例3中形成之積層玻璃含有抗反射層及防污層，且在實例5及6中形成之積層玻璃含有防眩光層及抗反射層。在該等積層玻璃中，藉由將附接至每一保護膜之黏著劑層之黏著性調節至落於指定範圍內，在自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜後，在積層玻璃之前視圖中，在遮光層形成區域中未觀察到不均勻，且另外既無在保護膜黏貼區域與非保護膜黏貼區域之間之邊界處之色彩之色調變化，亦無明顯邊界之外觀。因此，達成視覺鑒賞之顯著改良。關於各自具有防眩光層及抗反射層之積層玻璃(實例5及6)，將黏著劑層之黏著性調節至落於0.01 N/10 mm至0.3 N/10 mm範圍內容許在自每一積層玻璃剝離每一具有黏著劑層之保護膜後，在積層玻璃之前視圖中，在遮光層形成區域中未觀察到不均勻，且另外既無在保護膜黏貼區域與非保護膜黏貼區域之間之邊界處之色彩之色調變化亦無明顯邊界之外觀。因此，達成視覺鑒賞之顯著改良。關於各自具有防眩光層、抗反射層及防污層之積層玻璃(實例1、2及4)及具有抗反射層及防污層之積層玻璃(實例3)，將黏著劑層之黏著性調節至落於0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm範圍內容許在自每一積層玻璃剝離每一具有黏著劑層之保護膜後，在積層玻璃之前視圖中，在遮光層形成區域中未觀察到不均勻，且另外既無在保護膜黏貼區域與非保護膜黏貼區域之間之邊界處之色彩之色調變化亦無明顯邊界之外觀。因此，達成視覺鑒賞之顯著改良。在比較實例1中形成之積層玻璃係具有防眩光層、抗反射層及防污層之積層玻璃。在此情形中，黏著劑層之黏著性為0.008 N/10 mm，且在自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜後，在積層玻璃之前視圖中在遮光層形成區域中觀察到不均勻性。因此，引起視覺鑒賞之降格。在比較實例2中形成之積層玻璃係具有防眩光層、抗反射層及防污層之積層玻璃。在此情形中，黏著劑層之黏著性為0.1 N/10 mm，且在自積層玻璃剝離具有黏著劑層之保護膜後，在積層玻璃之前視圖中，在遮光層形成區域中注意到出現不均勻性，且另外存在在保護膜黏貼區域與非保護膜黏貼區域之間之邊界處之色彩之色調變化及明顯邊界之外觀。因此，引起視覺鑒賞之降格。在本發明之每一具有保護膜之積層玻璃中，在黏貼保護膜之區域與不黏貼保護膜之區域之間，即使在剝離保護膜後，亦不發生視覺鑒賞變化。因此，本發明之具有保護膜之積層玻璃適宜作為顯示裝置之面板且不僅可確保令人滿意的顯示器可見性，亦可確保優良設計品質及優美外觀。本申請案係基於2015年12月18日申請之日本專利申請案第2015-247616號，其內容係以引用方式併入本文中。工業適用性本發明之具有保護膜之積層玻璃可適宜地用作顯示器之面板(蓋玻璃)，且其不僅可用於保護顯示器產品之面板，亦可用於在將其安裝於顯示裝置上時改良製造便捷性。

1:載有保護膜之積層玻璃 10:透明基板 20:抗反射層 30:防污層 40:黏著劑層 50:保護膜 60:防眩光層 70:遮光層 80:附接黏著劑層之保護膜 90:積層玻璃 t:長度

關於圖式中之說明，相同或相應構件或組件表示為相同或相應數字或符號，且因此可省略重複說明。另外，除非另外規定，否則該等圖式並非旨在顯示構件或組件之相對比例。因此，若適當可根據下文所提及之非限定性實施例選擇具體尺寸。圖1係圖解說明具有保護膜之積層玻璃之一個實例之橫斷面圖，其中透明基板具有第一主表面上之抗反射層及第二主表面上之遮光層，且具有黏著劑層之保護膜黏貼在抗反射層之表面上。圖2係圖解說明具有保護膜之積層玻璃之另一實例之橫斷面圖，其中透明基板在第一主表面上按此順序具有抗反射層及防污層且在第二主表面具有遮光層，且具有黏著劑層之保護膜黏貼在防污層之表面上。圖3係圖解說明具有保護膜之積層玻璃之另一實例之橫斷面圖，其中透明基板在第一主表面按此順序具有防眩光層、抗反射層及防污層且在第二主表面具有遮光層，且具有黏著劑層之保護膜黏貼在防污層之表面上。圖4係其上黏貼有具有黏著劑層之保護膜之積層玻璃之前視圖。

1:載有保護膜之積層玻璃

10:透明基板

20:抗反射層

40:黏著劑層

50:保護膜

70:遮光層

80:附接黏著劑層之保護膜

90:積層玻璃

t:長度

Claims

一種具有保護膜之積層玻璃，其包含：積層玻璃，其至少包含具有第一主表面及第二主表面之透明基板、該第一主表面上方之防汙層、設於該第二主表面之周邊區域上方之遮光層，及具有黏著劑層之保護膜，其中該具有黏著劑層之保護膜黏貼在該積層玻璃上之如下位置：在該積層玻璃之前視圖中，該具有黏著劑層之保護膜之周邊邊緣位於相對於該遮光層之內周側朝向外周側且相對於該遮光層之外周側朝向內周側之位置，且該防汙層與該黏著劑層之間之黏著性為0.01 N/10 mm至0.05 N/10 mm。
如請求項1之具有保護膜之積層玻璃，其中上述透明基板之第一主表面具有凹凸形狀。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中在長度t定義為連接該積層玻璃最表層表面之周邊邊緣上之任意點與通過任意點自該積層玻璃主表面之周邊邊緣向該保護膜之周邊邊緣延伸之垂直定向之直線與該保護膜之最近周邊邊緣交叉之點之線段之長度時，該長度t大於0 mm且小於10 mm。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中該透明基板之第2主表面之周邊區域之該遮光層設於距該透明基板之第二主表面之外周側超過0 mm至低於30 mm之範圍內。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中該黏著劑層包含以丙烯酸系樹脂或聚胺基甲酸酯系樹脂作為主要成份之黏著劑。
如請求項1之具有保護膜之積層玻璃，其中該防污層包含含氟之防污劑。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中該透明基板係化學韌化玻璃。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中上述防汙層係由矽烷偶合反應而形成。
如請求項1或2之具有保護膜之積層玻璃，其中該具有黏著劑層之保護膜具備使得易於拾取該保護膜之邊緣之舌片段。
一種用於車載儀器之顯示器前面板，其包含如請求項1至9中任一項之具有保護膜之積層玻璃。
一種用於車載儀器之顯示裝置，其具備如請求項10之用於車載儀器之顯示器前面板。