TW202200936A - 瓦斯爐及調理系統 - Google Patents

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TW109146779A
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林周作
杉本喜輝
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日商林內有限公司
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Abstract

[課題] 在具備有具備在外周處設置有火焰口(31)的爐心頭部(32)之爐頭之瓦斯爐中,成為能夠並不會發生加熱不足地而防止在煮麵時之泡沫溢出。 [解決手段] 在爐心頭部(32)之周方向之一部分處,設置被從其他部分而作了區分的特定領域(322 )。使從位置於特定領域(322 )處之各火焰口(31)而來的混合氣體之噴出量與從位置於身為特定領域(322 )以外之部分的一般領域(321 )處之各火焰口(31)而來的混合氣體之噴出量互為相異,而構成為能夠實行產生載置在爐架上的調理容器之加熱不均之加熱不均發生控制。之後,當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,實行加熱不均發生控制。

Description

瓦斯爐及調理系統
本發明,係有關於一種瓦斯爐、以及具備有此瓦斯爐之調理系統,該瓦斯爐,係具備有:爐頭,係具備有爐心頭部,該爐心頭部,係面臨開設於頂板處的爐心用開口,並於外周處存在有周方向之間隔地而被設置有多數之火焰口;和爐架,係包圍爐心用開口地而被載置於頂板上。
於先前技術中,在此種瓦斯爐中,係周知有:當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,係藉由將爐頭之火力交互切換至強、弱,來對於在煮麵時發生泡沫溢出的情形作抑制(例如,參照專利文獻1)。另外,在藉由具備有於外周處設置有火焰口的爐心頭部之爐頭來加熱調理容器並進行煮麵調理的情況時,由於若是火力為強則調理容器之側面也會被加熱,因此係容易發生泡沫溢出,而成為需要藉由上述之控制來對於泡沫溢出作抑制。
於此,在先前技術中,係基於載置於爐架上的調理容器內之水量(根據直到沸騰所需要的時間來算出),而設定在煮麵模式中的強火下之加熱時間與弱火下之加熱時間之間的比例。若是麵類係身為蕎麥麵等之熱容量為較低的麵,則係容易發生泡沫溢出。因此,係以就算是對熱容量為較低之麵類進行水煮也不會發生泡沫溢出的方式,來以會使弱火下之加熱時間變得較長的方式而設定強火下之加熱時間與弱火下之加熱時間之間的比例。
因此,在上述先前技術例之構成中,在對於烏龍麵等之熱容量為較大之麵類進行水煮的情況時,係並無法將沸騰狀態作充分的時間之維持,依存於使用者,也會有感到加熱不足的情形。又,就算是在對於熱容量為較小之麵類進行水煮的情況時,也同樣的,若是麵類的量變得過多,則同樣會有感到加熱不足的情形。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2014-233310號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明,係有鑑於上述之問題,而以提供一種能夠並不發生加熱不足地而防止煮麵時的泡沫溢出之瓦斯爐以及具備有此瓦斯爐之調理系統一事作為課題。 [用以解決問題的手段]
為了解決上述課題,本申請案之第1發明,係為一種瓦斯爐,其係具備有:爐頭,係具備有爐心頭部,該爐心頭部,係面臨開設於頂板處的爐心用開口,並於外周處存在有周方向之間隔地而被設置有多數之火焰口;和爐架,係包圍爐心用開口地而被載置於頂板上,該瓦斯爐,其特徵為:在爐心頭部之周方向之一部分處,係被設置有被與其他部分作了區分的特定領域,使從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量與從位置於身為特定領域以外之部分的一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量互為相異,而構成為能夠實行產生載置在爐架上的烹調容器之加熱不均之加熱不均發生控制。
又,本申請案之第2發明,係為一種調理系統,其係具備有上述第1發明之瓦斯爐,其特徵為:係具備有能夠檢測出調理容器內之起泡的起泡檢測手段,當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,係構成為實行將從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量而更少之前述加熱不均發生控制,在此加熱不均發生控制之實行時,當藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例成為了特定之臨限值以上時,係進行使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少之控制。
若依據第1發明之瓦斯爐,則在煮麵時,藉由實行加熱不均發生控制,係能夠在調理容器內而於沸騰中發生泡沫的發生不均。因此,泡沫係並非為在調理容器內全體而沸騰起泡,並產生如同使泡沫逃逸至泡沫之發生為少的場所處一般之對流。故而,就算是藉由具備在外周處設置有火焰口的爐心頭部之爐頭來加熱調理容器,也能夠在維持沸騰狀態的同時亦對於泡沫溢出有效地作防止。又,與交互切換為強火與弱火之先前技術例相異,不論是在對於熱容量為大之麵類進行水煮的情況或者是對於熱容量為小之大量的麵類進行水煮的情況之任一者中,均成為能夠並不產生加熱不足地而防止在煮麵時之泡沫溢出。
另外,較理想,在身為第1發明之瓦斯爐並且具備有進行爐頭之操作之操作部的構成中,係在爐心頭部的接近操作部之部分處,設置特定領域,在加熱不均發生控制中,係將從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量而更少。若依據此,則係能夠將對於操作部附近之起因於爐頭的火焰所導致之熱影響或起因於從調理容器等所產生的蒸氣等所致之熱影響降低,而能夠避免在對於操作部進行操作時使用者會覺得燙手。
又,若依據第2發明之調理系統,則當調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例成為了臨限值以上時,係能夠藉由使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少,來自動性且有效地防止泡沫溢出之發生。
另外,在第2發明之調理系統中,較理想,當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,係將從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較最大量而更少之特定之第1設定量,並且將從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較第1設定量而更少之第2設定量,而開始加熱不均發生控制,並進行使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量從第1設定量起而階段性增加之控制,直到藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例到達前述臨限值為止。若依據此,則就算是在調理容器為大或者是麵類之量為多等的容易發生加熱不足之狀態下,也能夠在防止泡沫溢出的同時亦增加由爐頭所致之加熱量並防止加熱不足。
於此情況,較理想,當在藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例尚未到達上述臨限值的狀態下,而從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量一直增加至較上述第1設定量而更多之特定之第3設定量時,係進行使從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量從上述第2設定量起而階段性增加之控制,直到藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例到達上述臨限值為止。若依據此,則係能夠更確實地防止加熱不足。
進而,較理想,當在使位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量較上述第2設定量而更為增加了的狀態下,藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例成為了上述臨限值以上時,首先,係使從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少至第2設定量,當在此之後而藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例仍係身為上述臨限值以上時,係進行使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少至較第1設定量而更少的特定之第4設定量之控制。若依據此,則防止泡沫溢出之確實性係提昇。
參照圖1以及圖2,本發明之實施形態之瓦斯爐1,係身為將爐本體2以落下嵌入至開設於系統式廚房之廚檯頂CT處的爐用開口CTa中的方式來作配置的嵌入式爐,並具備有左右2個的爐頭3、3。各爐頭3,係具備有爐心頭部32,該爐心頭部32,係面臨開設於將爐本體2之被作了開放的上面作覆蓋之頂板4處的各爐心用開口4a,並於外周處存在有周方向之間隔地而被設置有多數之火焰口31。在頂板4上,係以包圍各爐心用開口4a的方式而被載置有各爐架5。又,在系統式廚房之前面上部之位置於瓦斯爐1之前方的部分處,係被設置有身為操作部之操作面板6。在操作面板6處,係被配置有各爐頭3用之點、熄火釦61、和可自由突出陷沒之操作盤62(圖1係為陷沒狀態),該操作盤62,係具備有包含由各爐頭3所致之調理模式之選擇開關的各種開關。
亦參照圖3,在各爐頭3之爐心頭部32之周方向之一部分、亦即是在接近操作面板6之前側之1/4周部分處,係被設置有被從身為爐心頭部32之其他之周方向部分之一般領域321 而作了區分的特定領域322 。若是更具體性地作說明,則爐心頭部32,係藉由使下面被作了閉塞的環狀之下頭構件32L、和使上下兩面被作了開放的內外雙重之筒狀之中間頭構件32M、以及使上面被作了閉塞的環狀之上頭構件32U,而被構成。在上頭構件32U之外周處,係被設置有多數之火焰口31。在下頭構件32L處,係被設置有位置於特定領域322 之兩側處的區隔用之肋32La、32La,在中間頭構件32M處,亦係被設置有位置於特定領域322 之兩側處的區隔用之肋32Ma、32Ma,進而,在上頭構件32U處,雖係省略圖示,但是係亦被設置有位置於特定領域322 之兩側處的區隔用之肋。之後,藉由在下頭構件32L之上重疊中間頭構件32M,中間頭構件32M之各肋32Ma之下端係與下頭構件32L之各肋32La之上端相抵接,進而,藉由在中間頭構件32M之上重疊上頭構件32U,上頭構件32U之各肋之下端係與中間頭構件32M之各肋32Ma之上端相抵接,爐心頭部32之特定領域322 係成為被從一般領域321 而區分出來。
爐心頭部32,係藉由在被形成於被固定在爐本體2內之爐心支持器21處的複數之凹孔21a中將垂下設置於下頭構件32L處的複數之支柱32Lb之下端部作嵌入,而被爐心支持器21所支持。又,在下頭構件32L處,係被垂下設置有從一般領域321 之2個場所起而朝向下方延伸的一對之第1混合管部331 、331 ,和從特定領域322 之中央部起而朝向下方延伸的第2混合管部332 。又,在爐心支持器21處,係被設置有面臨兩第1混合管部331 、331 之下端開口的一對之第1瓦斯噴嘴341 、341 ,和面臨第2混合管部332 之下端開口的第2瓦斯噴嘴342 。又,在中間頭構件32M處,係被設置有:存在有些許之間隙地而與兩第1混合管部331 、331 之上端開口331 a、331 a相對向的一對之第1導引板部32Mb1 、32Mb1 ,和存在有些許之間隙地而與第2混合管部332 之上端開口332 a相對向的第2導引板部32Mb2
若是從各第1瓦斯噴嘴341 而噴射燃料瓦斯,則燃料瓦斯係通過各第1混合管部331 而與各第1導引板部32Mb1 相碰撞並擴散至一般領域321 處,藉由起因於此所產生的輻射文士里效果,一次空氣係從各第1混合管部331 之下端開口而被吸入。之後,在第1混合管部331 內所產生的混合氣體(燃料氣體與一次空氣之混合氣體)係被供給至一般領域321 處,此混合氣體係從位置於一般領域321 處之各火焰口31而噴出並燃燒。又,若是從第2瓦斯噴嘴342 而噴射燃料瓦斯,則燃料瓦斯係通過第2混合管部332 而與第2導引板部32Mb2 相碰撞並擴散至特定領域322 處,藉由起因於此所產生的輻射文士里效果,一次空氣係從第2混合管部332 之下端開口而被吸入。之後,在第2混合管部332 內所產生的混合氣體係被供給至特定領域322 處,此混合氣體係從位置於特定領域322 處之各火焰口31而噴出並燃燒。
在對於各爐頭3的瓦斯供給路徑35處,係被中介設置有安全閥351和開閉閥352。安全閥351,在由點、熄火釦61所致之點火操作時,係藉由由被輸入有點、熄火釦61之操作訊號的控制器7所致之控制而被開閥,並當後述之熱電偶37之起電力降低而偵測到熄火時或者是當後述之鍋底溫度感測器38偵測到調理容器之過熱時等,藉由由控制器7所致之控制而被閉閥。又,開閉閥352,係在由點、熄火釦61所致之點火操作時,藉由由控制器7所致之控制而被開閥,並在由點、熄火釦61所致之熄火操作時,藉由由控制器7所致之控制而被閉閥。
在爐心支持器21處,係被形成有與兩第1瓦斯噴嘴341 、341 相通連之通連路徑21b。瓦斯供給路徑35,係在開閉閥352之下游側處,被分歧為「經由通連路徑21b而被與兩第1瓦斯噴嘴341 、341 作連接之第1分歧路徑351 」和「被與第2瓦斯噴嘴342 作連接之第2分歧路徑352 」。在第1與第2之各分歧路徑351 、352 處,係被中介設置有藉由控制器7而被作控制的第1和第2之各流量調節閥3531 、3532 。之後,將從位置於一般領域321 處之各火焰口31而來的混合氣體之噴出量與從位置於特定領域322 處之各火焰口31而來的混合氣體之噴出量,分別藉由第1和第2之各流量調節閥3531 、3532 ,而構成為例如能夠以最小之「1」~最大之「9」的9個階段來作調節。
在各爐頭3處,係附隨設置有「在由點、熄火釦61所致之點火操作時藉由由控制器7所致之控制而作火花點火之點火電極36」和「作為火焰偵測元件之熱電偶37」以及「與被載置於爐架5上之調理容器之底面相抵接並檢測出其之溫度的鍋底溫度感測器38」。又,在中間頭構件32M處,係被外插有將爐心用開口4a從上方來作覆蓋的覆蓋環39。進而,本實施形態之調理系統,係如同圖4中所示一般,具備有被配置在位置於廚檯頂CT之上方處的抽油煙機RH之下面處的由CCD攝像機而成之左右一對之起泡檢測手段8、8。各起泡檢測手段8,係以俯瞰來對於載置於各爐架5上的調理容器進行攝像,並藉由畫像解析來檢測出調理容器內之起泡程度。之後,將此檢測結果對於控制器7作送訊。又,在控制器7處,係亦被輸入有從被設置於操作盤62處之各種開關而來之訊號。
於此,在藉由具備有於外周處設置有火焰口31的爐心頭部32之爐頭3來加熱調理容器並進行煮麵調理的情況時,若是設為強火,則調理容器之側面也會被加熱,並成為容易發生泡沫溢出。另一方面,在本實施形態之瓦斯爐1中,於爐頭2之燃燒中,係使從位置於爐心頭部32之特定領域322 處之各火焰口31而來的混合氣體之噴出量(以下,記載為特定領域噴出量)Q2 與從位置於一般領域321 處之各火焰口31而來的混合氣體之噴出量(以下,記載為一般領域噴出量)Q1 互為相異,而能夠實行產生載置在爐架5上的調理容器之加熱不均之加熱不均發生控制。若是在煮麵時實行加熱不均發生控制,則係能夠在調理容器內而於沸騰中發生泡沫的發生不均。因此,泡沫係並非為在調理容器內全體而沸騰起泡,並產生如同使泡沫逃逸至泡沫之發生為少的場所處一般之對流。故而,就算是藉由具備在外周處設置有火焰口31的爐心頭部32之爐頭3來加熱調理容器,也能夠在維持沸騰狀態的同時亦對於泡沫溢出有效地作防止。進而,與交互切換為強火與弱火之先前技術例相異,不論是在對於熱容量為大之麵類進行水煮的情況或者是對於熱容量為小之大量的麵類進行水煮的情況之任一者中,均成為能夠並不產生加熱不足地而防止在煮麵時之泡沫溢出。
又,在加熱不均發生控制中,係亦能夠將特定領域噴出量Q2 設為較一般領域噴出量Q1 而更多。但是,當如同本實施形態一般地而在爐心頭部32之接近操作面板6之前側部分處設置有特定領域322 的情況時,較理想,係將特定領域噴出量Q2 設為較一般領域噴出量Q1 而更少。若依據此,則係能夠將對於操作面板6附近之起因於爐頭3的火焰所導致之熱影響或起因於從調理容器等所產生的蒸氣等所致之熱影響降低。因此,係能夠避免在對於被設置在操作面板6處之點、熄火釦61等之操作構件進行操作時而使用者覺得燙手的情形。
以下,參照圖5,針對當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,控制器7所進行的煮麵控制作說明。在煮麵控制中,首先,於STEP1處,係判別是否被進行有由點、熄火釦61所致之點火操作,當被進行有點火操作時,在STEP2,係於爐頭3而點火。接著,前進至STEP3,並基於鍋底溫度感測器38之檢測溫度,來判別調理容器內之水是否作了沸騰。另外,係將一般領域噴出量Q1 以及特定領域噴出量Q2 均設為相當於最大量之「9」,直到沸騰為止。在作了沸騰時,係前進至STEP4,並基於直到沸騰為止所需要之時間等,來設定煮麵時間YT。接著,當在STEP5處藉由語音等來下達了對於調理容器內之麵的投入等之後,在STEP6處,判別煮麵之開始開關是否被設為ON。
若是開始開關被設為ON,則係前進至STEP7,並將一般領域噴出量Q1 設為較相當於最大量之「9」而更少的特定之第1設定量YQ1(例如,「4」),並將特定領域噴出量Q2 設為較第1設定量YQ1而更少之第2設定量YQ2(例如,「2」),而開始加熱不均發生控制。又,係在STEP8處而使煮麵計時器開始,並且在STEP9處而使判定計時器開始。接著,前進至STEP10,並判別煮麵計時器之計時時間T是否為未滿煮麵時間YT。之後,若是T<YT,則係前進至STEP11,並判別藉由起泡檢測手段8所檢測出的調理容器內之起泡場所(起因於起泡而成為白濁的場所)的相對於調理容器全體之面積比例(以下,記載為起泡率)Ra是否成為了特定之臨限值YRa(例如,90%)以上。
若是Ra<YRa,則係前進至STEP12,並判別判定計時器之計時時間t是否成為了90秒以上。之後,在成為了t≧90秒時,前進至STEP13,並判別一般領域噴出量Q1 是否一直增加至較第1設定量YQ1而更多的特定之第3設定量YQ3(例如,最大之「9」)。若是Q1 <YQ3,則在STEP14處係進行使一般領域噴出量Q1 作1個階段的增加之控制,並在STEP15處將增加後之噴出量作為一般領域噴出量記憶值MQ1 而作記憶。之後,在STEP19處將判定計時器重置,之後回到STEP9。又,當在STEP13處而判別為Q1 =YQ3時,係前進至STEP16,並判別特定領域噴出量Q2 是否一直增加至了第3設定量YQ3。而,若是Q2 <YQ3,則在STEP17處係進行使特定領域噴出量Q2 作1個階段的增加之控制,並在STEP18處將增加後之噴出量作為特定領域噴出量記憶值MQ2 而作記憶。之後,在STEP19處將判定計時器重置,之後回到STEP9。
故而,在直到起泡率Ra到達臨限值YRa為止的期間中,係進行有使一般領域噴出量Q1 從第1設定量YQ1起而至第3設定量YQ3地而以90秒間隔來1次1個階段地作增加之控制,就算是一般領域噴出量Q1 一直被增加至第3設定量YQ3,當起泡率Ra尚未到達臨限值YRa的情況時,係進行有使特定領域噴出量Q2 從第2設定量YQ2起而至第3設定量YQ3地而以90秒間隔來1次1個階段地作增加之控制。若依據此,則就算是在調理容器為大或者是麵類之量為多等的容易發生加熱不足之狀態下,也能夠增加由爐頭3所致之加熱量並防止加熱不足。
若是起泡率Ra成為臨限值YRa以上,則係從STEP11而前進至STEP20,並將判定計時器重置,而後使其開始。接著,在STEP21處,判別煮麵計時器之計時時間T是否為未滿煮麵時間YT。而,若是T<YT,則係在STEP22處判別判定計時器之計時時間t是否成為了5秒以上,在成為了t≧5秒時,係在STEP23處,判別特定領域噴出量Q2 是否超過第2設定量YQ2。若是Q2 >YQ2,則係在STEP24處,使特定領域噴出量Q2 減少至第2設定量YQ2,之後,在STEP25處,判定起泡率Ra是否為臨限值YRa以上,若是Ra<YRa,則回到STEP19,若是Ra≧YRa,則回到STEP21。之後,當再度前進至了STEP23時,係被判定為「NO」,並前進至STEP26,而進行使一般領域噴出量Q1 減少至較第1設定量YQ1而更少之特定之第4設定量YQ4(例如,「2」)之控制。藉由此,係能夠自動性且有效地防止泡沫溢出之發生。
若是使一般領域噴出量Q1 減少至第4設定量YQ4,則接著,係前進至STEP27,並判別起泡率Ra是否成為了不會有發生泡沫溢出之虞之特定之設定值YRaL(例如,20%)以下。之後,反覆進行「若是Ra>YRaL,則在STEP28處,判別煮麵計時器之計時時間T是否為未滿煮麵時間YT,若是T<YT,則回到STEP27」之處理。當起泡率Ra成為了設定值YRaL以下時,係在STEP29處,進行使一般領域噴出量Q1 和特定領域噴出量Q2 分別回復至一般領域噴出量記憶值MQ1 和特定領域噴出量記憶值MQ2 之控制,並回到STEP19。當在STEP10、STEP21以及STEP28處而判別出煮麵計時器之計時時間T係到達了煮麵時間YT時,係前進至STEP30並將爐頭3熄火,而結束煮麵控制。
另外,當調理容器係身為砂鍋等之熱容量為大者並且調理容器為被加熱至了就算是不賦予太多的熱量也無妨的程度時,或者是當在途中而將容易沸騰之食材(鹽等)加入至了調理容器內時,從STEP19而經由STEP9~STEP11、STEP20~STEP28並前進至STEP29處的一連串之處理,係在短時間內被進行。因此,雖並未圖示,但是,當STEP19~STEP29之處理為以被設定為較短之特定時間)(例如,10秒)中而被進行時,係亦可將一般領域噴出量Q1 以及特定領域噴出量Q2 分別設為較一般領域噴出量記憶值MQ1 以及特定領域噴出量記憶值MQ2 而更低一階段之量。
以上,雖係針對本發明之實施形態而參照圖面來作了說明,但是,本發明係並不被限定於此。例如,在上述實施形態中,雖係在爐心頭部32之周方向單一場所處設置有特定領域322 ,但是,係亦可將特定領域在周方向上分散地作複數設置。又,上述實施形態之瓦斯爐1,雖係身為嵌入式爐,但是,就算是被設置於瓦斯台上之桌上式爐,也能夠同樣地適用本發明。
1:瓦斯爐 3:爐頭 31:火焰口 32:爐心頭部 321 :一般領域 322 :特定領域 Q1 :一般領域噴出量(從位置於一般領域處的各火焰口而來之混合氣體之噴出量) Q2 :特定領域噴出量(從位置於特定領域處的各火焰口而來之混合氣體之噴出量) YQ1:第1設定量 YQ2:第2設定量 YQ3:第3設定量 YQ4:第4設定量 Ra:起泡率(調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例) YRa:臨限值
[圖1]係為對於本發明之實施形態的瓦斯爐以及調理系統作展示之立體圖。 [圖2]係為以圖1的II-II線而作了切斷的重要部分之擴大剖面圖。 [圖3]係為實施形態之瓦斯爐所具備的爐頭之分解立體圖。 [圖4]係為被設置於實施形態之調理系統處的抽油煙機之從斜下方來作了觀察之立體圖。 [圖5]係為對於藉由實施形態之調理系統所進行的煮麵控制之內容作展示之流程圖。
7:控制器
8:起泡檢測手段
21:爐心支持器
21a:凹孔
31:火焰口
32:爐心頭部
321 :一般領域
322 :特定領域
32L:下頭構件
32La:肋
32Lb:支柱
32M:中間頭構件
32Ma:肋
32Mb1 :第1導引板部
32Mb2 :第2導引板部
32U:上頭構件
331 :第1混合管部
331 a:上端開口
332 a:上端開口
332 :第2混合管部
341 :第1瓦斯噴嘴
342 :第2瓦斯噴嘴
35:瓦斯供給路徑
351 :第1分歧路徑
352 :第2分歧路徑
37:熱電偶
38:鍋底溫度感測器
61:點、熄火釦
62:操作盤
351:安全閥
352:開閉閥
3531 :流量調節閥
3532 :流量調節閥

Claims (6)

  1. 一種瓦斯爐,係具備有: 爐頭,係具備有爐心頭部,該爐心頭部,係面臨開設於頂板處的爐心用開口,並於外周處存在有周方向之間隔地而被設置有多數之火焰口;和 爐架,係包圍爐心用開口地而被載置於頂板上, 該瓦斯爐,其特徵為: 在爐心頭部之周方向之一部分處,係被設置有被與其他部分作了區分的特定領域,使從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量與從位置於身為特定領域以外之部分的一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量互為相異,而構成為能夠實行產生載置在爐架上的調理容器之加熱不均之加熱不均發生控制。
  2. 如請求項1所記載之瓦斯爐,其中, 係具備有進行前述爐頭之操作之操作部, 在前述爐心頭部的接近操作部之部分處,係被設置有前述特定領域,在前述加熱不均發生控制中,係將從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較從位置於前述一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量而更少。
  3. 一種調理系統,係具備有如請求項1或2所記載之瓦斯爐,其特徵為: 係具備有能夠檢測出調理容器內之起泡的起泡檢測手段, 當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,係構成為實行將從位置於前述特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較從位置於前述一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量而更少之前述加熱不均發生控制,在此加熱不均發生控制之實行時,當藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例成為了特定之臨限值以上時,係進行使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少之控制。
  4. 如請求項3所記載之調理系統,其中, 當作為調理模式而選擇了煮麵模式時,係將從位置於前述一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較最大量而更少之特定之第1設定量,並且將從位置於前述特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量設為較第1設定量而更少之第2設定量,而開始前述加熱不均發生控制,並進行使從位置於一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量從第1設定量起而階段性增加之控制,直到藉由前述起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例到達前述臨限值為止。
  5. 如請求項4所記載之調理系統,其中, 當在藉由前述起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例尚未到達前述臨限值的狀態下,而從位置於前述一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量一直增加至較前述第1設定量而更多之特定之第3設定量時,係進行使從位置於前述特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量從前述第2設定量起而階段性增加之控制,直到藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例到達前述臨限值為止。
  6. 如請求項5所記載之調理系統,其中, 當在使從位置於前述特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量較前述第2設定量而更為增加了的狀態下,藉由前述起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例成為了前述臨限值以上時,首先,係使從位置於特定領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少至第2設定量,當在此之後而藉由起泡檢測手段所檢測出的調理容器內之起泡場所的相對於調理容器全體之面積比例仍係身為前述臨限值以上時,係進行使從位置於前述一般領域處之各火焰口而來的混合氣體之噴出量減少至較前述第1設定量而更少的特定之第4設定量之控制。
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