TW202200384A - 偏光薄膜積層體 - Google Patents

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TW202200384A
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山下智弘
八木汐海
黑原薰
高田勝則
湯峯卓哉
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

一種偏光薄膜積層體，係依序積層有第1基材、偏光膜及第2基材者；前述第1基材及前述第2基材之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下；且存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層包含水溶性自由基捕捉劑。該偏光薄膜積層體之抑制在高溫環境下單體透射率降低之效果優異。

Description

偏光薄膜積層體
本發明涉及偏光薄膜積層體。
以往，用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置之偏光膜，出於兼具高透射率與高偏光度之理由而使用經染色處理之(含有碘或二色性染料等二色性物質之)聚乙烯醇系薄膜。該偏光膜係於浴中對聚乙烯醇系薄膜施行例如膨潤、染色、交聯、延伸等各處理後，施行洗淨處理然後進行乾燥來製造。
近年來，所述各種影像顯示裝置除了製成行動電話或平板電腦終端等行動設備使用之外，亦製成汽車導航裝置或後照監視器等車載用影像顯示裝置使用等，其用途廣泛。伴隨於此，具有偏光膜之偏光薄膜積層體便被要求具有比以往所要求來說能在更嚴酷環境下(例如高溫環境下)之高耐久性，從而有提出一種以確保所述耐久性為目的之偏光薄膜積層體(專利文獻2-3)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2014-102353號公報 專利文獻2：日本專利特表2012-516468號公報 專利文獻3：日本專利特開2018-101117號公報
發明欲解決之課題 以上述車載用影像顯示裝置來說，因近年來自動駕駛技術的發展，顯示器設計之異形化或大型化亦不斷進展。隨著所述顯示器設計之變化，對於偏光薄膜積層體就要尋求進一步提升在高溫環境下之耐久性之手段。
鑒於以上情事，本發明目的在於提供一種抑制在高溫環境下單體透射率降低之效果優異的偏光薄膜積層體。
用以解決課題之手段 即，本發明涉及一種偏光薄膜積層體，其係依序積層有第1基材、偏光膜及第2基材者；前述第1基材及前述第2基材之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下；且存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層包含水溶性自由基捕捉劑。
發明效果 雖本發明偏光薄膜積層體之效果的作用機制的細節尚有不明瞭的部分，但吾等推測如下。惟，本發明不受該作用機制解釋限制。
本發明偏光薄膜積層體係依序積層有第1基材、偏光膜及第2基材者；前述第1基材及前述第2基材之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下；且存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層包含水溶性自由基捕捉劑。吾等推測偏光膜在高溫環境下會因聚乙烯醇劣化造成自由基產生而引發多烯化，導致單體透射率降低。但另一方面，本發明偏光薄膜積層體在暴露於高溫環境下時，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層所含之水溶性自由基捕捉劑，會與偏光膜所含之水分一同在透濕度為300g/(m2 ・24h)以下之前述第1基材與前述第2基材之間滯留(移動)，藉此可有效率地捕捉於偏光膜產生的自由基，故抑制在高溫環境下單體透射率降低之效果優異。
本發明偏光薄膜積層體係依序積層有第1基材、偏光膜及第2基材者；前述第1基材及前述第2基材之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下；且存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層包含水溶性自由基捕捉劑。
＜水溶性自由基捕捉劑＞ 前述水溶性自由基捕捉劑由容易移動至偏光膜中之水分之觀點來看，宜為相對於25℃之水100重量份可溶解1重量份以上之化合物，相對於25℃之水100重量份可溶解2重量份以上之化合物較佳，相對於25℃之水100重量份可溶解5重量份以上之化合物更佳。前述水溶性自由基捕捉劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
推測前述水溶性自由基捕捉劑可抑制偏光膜在高溫環境下之多烯化。前述水溶性自由基捕捉劑可舉例如受阻酚系、受阻胺系、磷系、硫系、苯并三唑系、二苯基酮系、羥胺系、水楊酸酯系、三𠯤系化合物等具有自由基捕捉功能之化合物。由在偏光膜產生之自由基種之觀點來看，前述水溶性自由基捕捉劑宜為具有氮氧自由基或氮氧基之化合物。
前述具有氮氧自由基或氮氧基之化合物由具有在室溫、空氣中較穩定之自由基之觀點來看，可舉N-氧基化合物(具有C-N(-C)-O・ 作為官能基之化合物(O・ 表示氧自由基))，且可使用公知者。N-氧基化合物可舉例如具有以下結構之有機基的化合物等。 [化學式1]
Figure 02_image001
…(1) (通式(1)中，R1 表示氧自由基，R2 至R5 獨立表示氫原子或碳原子數1~10烷基，n表示0或1)。此外，通式(1)中虛線部之左邊表示任意的有機基。
具有上述有機基之化合物可舉例如以下通式(2)~(5)所示化合物等。 [化學式2]
Figure 02_image003
…(2) (通式(2)中，R1 至R5 及n與上述相同，R6 表示氫原子或碳原子數1~10烷基、醯基或伸芳基，n表示0或1)。 [化學式3]
Figure 02_image005
…(3) (通式(3)中，R1 至R5 及n與上述相同，R7 及R8 獨立表示氫原子或碳原子數1~10烷基、醯基或芳基)。 [化學式4]
Figure 02_image007
…(4) (通式(4)中，R1 至R5 及n與上述相同，R9 至R11 獨立表示氫原子或碳原子數1~10烷基、醯基、胺基、烷氧基、羥基或芳基)。 [化學式5]
Figure 02_image009
…(5) (通式(5)中，R1 至R5 及n與上述相同，R12 表示氫原子或碳原子數1~10烷基、胺基、烷氧基、羥基或芳基)。
前述通式(1)~(5)中，R2 至R5 由取得容易度之觀點來看，宜為碳原子數1~6烷基，碳原子數1~3烷基較佳。又，前述通式(2)中，由取得容易度之觀點來看，R6 宜為氫原子或碳原子數1~10烷基，氫原子較佳。又，前述通式(3)中，由取得容易度之觀點來看，R7 及R8 宜獨立為氫原子或碳原子數1~10烷基，氫原子較佳。又，前述通式(4)中，由取得容易度之觀點來看，R9 至R11 宜為氫原子或碳原子數1~10烷基。又，前述通式(5)中，由取得容易度之觀點來看，R12 宜為羥基、胺基或烷氧基。前述通式(1)~(5)中，n由取得容易度之觀點來看宜為1。
又，前述N-氧基化合物可舉日本專利特開2003-64022號公報、日本專利特開平11-222462號公報、日本專利特開2002-284737號公報、國際專利公開第2016/047655號等記載之N-氧基化合物。
又，前述具有氮氧自由基或氮氧基之化合物可舉例如以下化合物等。 [化學式6]
Figure 02_image011
…(6) (通式(6)中，R表示氫原子或碳原子數1~10烷基、醯基或芳基)。 [化學式7]
Figure 02_image013
…(7) [化學式8]
Figure 02_image015
…(8)
又，在高溫環境下，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層所含之水溶性自由基捕捉劑會與偏光膜所含之水分一同在前述第1基材與前述第2基材之間滯留(移動)，藉此可有效率地捕捉於偏光膜產生的自由基，由此觀點來看，前述水溶性自由基捕捉劑之分子量宜為1000以下，且500以下較佳，300以下更佳。
＜偏光膜＞ 前述偏光膜係碘或二色性染料等二色性物質吸附定向於聚乙烯醇系薄膜而形成。由偏光膜之初始之偏光性能之觀點來看，宜為含碘作為前述二色性物質之碘系偏光膜。
前述聚乙烯醇(PVA)系薄膜可無特別限制地使用在可見光區域具有透光性且可分散吸附碘或二色性染料等二色性物質者。作為前述聚乙烯醇系薄膜的材料可舉聚乙烯醇或其衍生物。前述聚乙烯醇之衍生物可舉例如聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯縮醛；經乙烯、丙烯等烯烴、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸及其烷基酯、丙烯醯胺等改質者等。前述聚乙烯醇之平均聚合度宜為100~10,000左右，1,000~10,000左右較佳，1,500~4,500左右更佳。又，前述聚乙烯醇之皂化度宜為80~100莫耳%左右，95莫耳%~99.95莫耳左右較佳。另，前述平均聚合度及前述皂化度可依循JIS K 6726求得。
前述偏光膜可藉由以往之偏光膜之製造方法而得，例如可對前述聚乙烯醇系薄膜施行任意之膨潤步驟及洗淨步驟，以及至少施行染色步驟、交聯步驟及延伸步驟而得。前述偏光膜含有前述水溶性自由基捕捉劑時，只要前述膨潤步驟、前述洗淨步驟、前述染色步驟、前述交聯步驟及前述延伸步驟中之任1個以上處理步驟中之處理浴包含有前述水溶性自由基捕捉劑即可。
由使偏光膜之初始偏光度提升之觀點來看，前述偏光膜之厚度宜為1µm以上，2µm以上較佳，而由防止面板翹曲之觀點來看，宜為20µm以下，15µm以下較佳，10µm以下更佳，8µm以下又更佳。尤其為了獲得厚度為8µm左右以下之偏光膜，可應用以下使用包含在熱塑性樹脂基材上製膜成之聚乙烯醇系樹脂層的積層體作為前述聚乙烯醇系薄膜的薄型偏光膜之製造方法。
偏光膜(薄型偏光膜)可藉由以往之偏光膜之製造方法獲得，例如可施行以下步驟而獲得：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)來準備積層體的步驟，並且，一邊將所得積層體沿長邊方向輸送，一邊對前述積層體施行任意之不溶解處理步驟、交聯處理步驟及洗淨處理步驟，以及至少施行空中輔助延伸處理步驟、染色處理步驟及水中延伸處理步驟而得。前述偏光膜含有前述水溶性自由基捕捉劑時，只要前述不溶解處理步驟、前述交聯處理步驟、前述洗淨處理步驟、前述染色處理步驟及前述水中延伸步驟中之任1個以上處理步驟中之處理浴包含有前述水溶性自由基捕捉劑即可。
＜第1基材及第2基材＞ 前述第1基材及前述第2基材若透濕度為300g/(m2 ・24h)以下則無特別限制，例如可使用可用於偏光薄膜之透明保護薄膜、相位差薄膜等有機基材等。前述第1基材及前述第2基材可相同亦可互異。此外，透濕度可依循JIS Z0208之透濕度試驗(透濕杯法(cup method))，將切斷成直徑60mm之試樣設置於裝有約15g氯化鈣之透濕杯中，並放入溫度40℃、濕度90%R.H.之恆溫機中，測定放置24小時之前與之後的氯化鈣之重量增加，藉此來算出。
構成前述透明保護薄膜之材料可舉例如纖維素酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂等。作為前述相位差薄膜，可舉例如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。又，前述透明保護薄膜及前述相位差薄膜上亦可設置有1層或2層以上之下述者：硬塗層、抗反射層、抗黏層、擴散層乃至防眩層等其他層；反射板或半透射板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等可用於影像顯示裝置之形成的光學層。
又，前述第1基材與前述第2基材在高溫環境下時，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層所含之水溶性自由基捕捉劑會與偏光膜所含之水分一同在前述第1基材與前述第2基材之間滯留(移動)，藉此可有效率地捕捉於偏光膜產生的自由基，由此觀點來看，前述第1基材及前述第2基材之透濕度的合計宜為300g/(m2 ・24h)以下，且200g/(m2 ・24h)以下較佳，100g/(m2 ・24h)以下更佳。尤其，後述活性能量線硬化型接著劑層作為存在於第1基材與第2基材之間之層存在時，與該接著劑層鄰接之第1基材或第2基材之透濕度宜為100g/(m2 ・24h)以下，且50g/(m2 ・24h)以下較佳，20g/(m2 ・24h)以下更佳。
＜存在於第1基材與第2基材之間之層＞ 在高溫環境下，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層所含之水溶性自由基捕捉劑會與偏光膜所含之水分一同在前述第1基材與前述第2基材之間滯留(移動)，藉此可有效率地捕捉於偏光膜產生的自由基，由此觀點來看，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之層的厚度合計宜為50µm以下，且30µm以下較佳，20µm以下更佳。
在高溫環境下，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層所含之水溶性自由基捕捉劑會與偏光膜所含之水分一同在前述第1基材與前述第2基材之間滯留(移動)，藉此可有效率地捕捉於偏光膜產生的自由基，由此觀點來看，存在於前述第1基材與前述第2基材之間之層的厚度合計相對於偏光膜之厚度宜為3倍以下，且2.5倍以下較佳，2倍以下更佳。
存在於前述第1基材與前述第2基材之間之層除了前述偏光膜外，還可舉黏著劑層、接著劑層、機能層等。
形成前述黏著劑層之黏著劑可應用可用於偏光薄膜之各種黏著劑，可舉例如丙烯酸系黏著劑。又，形成前述接著劑層之接著劑可應用可用於偏光薄膜之各種接著劑，可舉例如聚乙烯醇系接著劑、活性能量線硬化型接著劑等。前述活性能量線硬化型接著劑可舉例如(甲基)丙烯酸酯系接著劑。前述(甲基)丙烯酸酯系接著劑之硬化性成分可舉例如具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。具有(甲基)丙烯醯基之化合物可舉例如碳數1~20鏈狀烷基(甲基)丙烯酸酯、脂環式烷基(甲基)丙烯酸酯、多環式烷基(甲基)丙烯酸酯等烷基(甲基)丙烯酸酯；含羥基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯等。(甲基)丙烯酸酯系接著劑亦可包含有羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N‐羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N‐甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N‐乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福林等含氮單體。(甲基)丙烯酸酯系接著劑中作為交聯成分可包含有三丙二醇二丙烯酸酯、1,9‐壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷甲縮醛丙烯酸酯、二㗁烷二醇二丙烯酸酯、EO改質二甘油四丙烯酸酯等多官能單體。又，陽離子聚合硬化型接著劑亦可使用具有環氧基或氧雜環丁烷基之化合物。具有環氧基之化合物若為分子內具有至少2個環氧基者則無特別限制，可使用一般已知的各種硬化性環氧化合物。
作為前述機能層可舉：具有用以防止從透明保護薄膜等溶出之寡聚物或離子等不純物移動(侵入)至偏光膜中之功能的阻隔層；為了抑制隨在透明保護薄膜與偏光膜等折射率不同之層間的反射造成之透射率降低所設置的折射率調整層；用以防止偏光膜之彎折的補強層；具有相位差功能的液晶塗佈層等。此外，由可有效率地捕捉在高溫環境下於偏光膜產生之自由基之觀點來看，要添加水溶性自由基捕捉劑之層宜為添加於偏光膜、水系接著劑或機能層(補強層)這類包含PVA系樹脂之層中。
前述第1基材、前述第2基材、存在於前述第1基材與前述第2基材之間之層可業經表面改質處理、易接著處理。
實施例 以下列舉實施例來更詳細說明本發明，惟本發明不被該等實施例所限定。
＜實施例1＞ ＜偏光膜之製作＞ 對吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100µm)基材的單面施加電暈處理，並於該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比包含聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液並乾燥，形成厚度11µm的PVA系樹脂層，而製作出積層體。將所得積層體於120℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.0倍(空中輔助延伸處理)。接著，使積層體浸漬於液溫30℃之不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。接著，一邊使其浸漬於液溫30℃的染色浴中一邊調整碘濃度、浸漬時間以使偏光膜成為預定之透射率(染色處理)。接著，使其浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份，摻混3重量份之碘化鉀並摻混3重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。其後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份的水摻混4重量份之硼酸並摻混5重量份之碘化鉀所得之水溶液)中，一邊於不同周速之輥間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸)。接著使積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(碘化鉀濃度3重量%且作為水溶性自由基捕捉劑的下述通式(9)所示化合物濃度為1重量%之水溶液)中(洗淨處理)。之後，一邊在經保持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度經保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。以上述方式獲得了包含厚度5.4µm之偏光膜的光學薄膜積層體。利用以下測定方法求得之偏光膜中之自由基捕捉劑之含量為0.19重量%。 [化學式9]
Figure 02_image017
…(9)
[偏光膜中之水溶性自由基捕捉劑之含量(重量%)的測定方法] 採取約20mg的偏光膜並定量，於水1mL中加熱溶解後，以甲醇4.5mL稀釋，再將所得萃取液以膜濾器過濾，並將濾液使用HPLC(Waters公司製 ACQUITY UPLC H-class Bio)測定水溶性自由基捕捉劑之濃度。
＜偏光薄膜積層體之製作＞ 接著劑係使用以下水溶液：以重量比3:1含有含乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂(平均聚合度1,200，皂化度98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度5莫耳%)與羥甲基三聚氰胺者。於上述所得光學薄膜積層體之偏光膜面，使用輥貼合機透過上述接著劑(乾燥膜厚0.1µm)貼合由(甲基)丙烯酸系樹脂(具有內酯環結構之改質丙烯酸系聚合物)構成之厚度30µm的透明保護薄膜(透濕度為125g/(m2 ・24h))作為第1基材後，接續於烘箱內使其加熱乾燥(溫度為60℃，時間為4分鐘)。接著，剝離聚對苯二甲酸乙二酯薄膜，並於剝離後之面透過紫外線硬化型接著劑接著厚度27µm之環烯烴系樹脂薄膜(日本ZEON公司製，ZF14，透濕度為10g/(m2 ・24h))作為第2基材。之後，從第2基材面照射UV光線使接著劑硬化，而製作出偏光薄膜積層體。紫外線硬化型接著劑之詳細內容如下。混合N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份與光引發劑「IRGACURE 819」(BASF公司製)3重量份，而調製出接著劑。以使硬化後之接著劑層之厚度成為1.0µm的方式塗佈於偏光膜上，並照射紫外線作為活性能量線使接著劑硬化。紫外線照射是使用充有鎵之金屬鹵素燈、照射裝置：Fusion UV Systems,Inc公司製的Light HAMMER10、燈泡：V燈泡、峰值照度：1600mW/cm2 、累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)，紫外線的照度是使用Solatell公司製的Sola-Check系統來測定。
＜丙烯酸系黏著劑之調製＞ 將含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物饋入具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中。並相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一起饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)180萬之丙烯酸系聚合物之溶液。之後，相對於所得丙烯酸系聚合物之溶液的固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(Tosoh(東曹)公司製，商品名「TAKENATE D110N」，三羥甲丙烷/二異氰酸伸茬酯加成物)0.02份、矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「X-41-1056」)0.2份，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。
＜附黏著劑之偏光薄膜積層體之製作＞ 以使乾燥後的黏著劑層的厚度成為20µm之方式，將上述所得丙烯酸系黏著劑組成物之溶液塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱化學聚酯薄膜製，商品名「MRF38」，分離薄膜)之單面上並在90℃下乾燥1分鐘，而於分離薄膜之表面形成黏著劑層。接著，將形成於分離薄膜上的黏著劑層轉印至上述製出之偏光薄膜積層體之一面，而製作出了附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
[在高溫環境下之單體透射率之評估] 將上述所得附黏著劑層之偏光薄膜積層體以使偏光膜之吸收軸與長邊平行之方式切斷成45×40mm之尺寸，並透過黏著劑層貼合玻璃板(平岡特殊硝子製作公司製EG-XG，50×45mm，厚度0.7mm)，於50℃、0.5MPa下進行15分鐘高壓釜處理，而製作出積層體。將所得積層體靜置於溫度105℃之熱風烘箱內500小時，測定了投入(加熱)前後之單體透射率(ΔTs)。單體透射率係使用紫外線可見光分光光度計(大塚電子製，「LPF-200」)測定光學特性，而獲得單體透射率。該單體透射率係以JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度校正所得的Y值。此外，測定波長為380~780nm(每5nm)。 ΔTs(%)=Ts500 -Ts0 在此，Ts0 為積層體加熱前之單體透射率，Ts500 為積層體加熱500小時後之單體透射率。將結果列於表1。前述ΔTs(%)宜為5≧ΔTs(%)≧0，且3≧ΔTs(%)≧0較佳。
＜實施例2＞ 在製作偏光薄膜積層體時，第1基材係使用厚度為23µm之環烯烴系薄膜(日本ZEON公司製，ZF12，透濕度為10g/(m2 ・24h))，且接著劑係使用實施例1記載之紫外線硬化型接著劑，除此之外依與實施例1相同操作而製作出附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
＜實施例3＞ 在製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(9)所示水溶性自由基捕捉劑，且於製作偏光薄膜積層體時，於用來貼合偏光膜與第1基材之接著劑中以重量比計成為4：3之方式添加通式(9)所示水溶性自由基捕捉劑與聚乙烯醇樹脂，並在不影響接著劑之硬化反應下，相對於水溶性自由基捕捉劑以莫耳比計成為1：1之方式添加氫氧化鉀來調整pH(進行中和)，除此之外依與實施例1相同操作，而製作出附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
＜實施例4＞ 在製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(9)所示水溶性自由基捕捉劑，且於製作偏光薄膜積層體時，對露出有偏光膜之面施行電暈處理，並用線棒以使乾燥後之厚度成為0.8µm之方式塗佈樹脂組成物(以燥成膜後之重量比3：1含有將聚合度2500、皂化度99.8莫耳%的聚乙烯醇樹脂(JAPAN VAM & POVAL公司製，商品名：JC-25H)溶解於純水者、與下述通式(9)所示水溶性自由基捕捉劑之水溶液(固體成分25重量%))後，在60℃下乾燥5分鐘，於偏光膜上形成機能層(補強層)，之後透過水系接著劑貼合第1基材，除此之外依與實施例1相同操作，而製作出附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
＜比較例1＞ 除了在製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(9)所示化合物外，依與實施例1相同操作而製作出附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
＜比較例2＞ 除了在製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(9)所示化合物外，依與實施例2相同操作而製作出附黏著劑層之偏光薄膜積層體。
使用上述所得各實施例及比較例之附黏著劑層之偏光薄膜積層體，進行上述之[在高溫環境下之單體透射率之評估]。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image019
(無)

Claims (5)

  1. 一種偏光薄膜積層體，係依序積層有第1基材、偏光膜及第2基材者，且其特徵在於： 前述第1基材及前述第2基材之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下；且 存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層包含水溶性自由基捕捉劑。
  2. 如請求項1之偏光薄膜積層體，其中存在於前述第1基材與前述第2基材之間之層的合計厚度為50µm以下。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜積層體，其中存在於前述第1基材與前述第2基材之間之至少1層係選自於由前述偏光膜、黏著劑層、接著劑層及機能層所構成群組中之1者以上。
  4. 如請求項1或2之偏光薄膜積層體，其中前述偏光膜之厚度為20µm以下。
  5. 如請求項1或2之偏光薄膜積層體，其中前述偏光膜係碘吸附定向而成之碘系偏光膜。
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