TW202223457A - 影像顯示面板 - Google Patents

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山下智弘
高見佳史
梨木智剛
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

一種影像顯示面板，係透過黏著劑層或接著劑層依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜、具有偏光膜之偏光薄膜及影像顯示單元；前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜的透濕度為50g/(m 2・24h)以下；並且，下述積層體在105℃、500小時之條件下的耐熱性試驗前後，單體透射率之變化量為0~3%，該積層體係於前述偏光薄膜之單面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、且於前述偏光薄膜之另一面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有玻璃板者。該影像顯示面板在高溫環境下及濕熱環境下之耐久性優異。

Description

影像顯示面板
本發明係涉及一種影像顯示面板。
以往，用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等各種影像顯示裝置之偏光膜，基於兼具高透射率與高偏光度之理由而使用經染色處理之(含有碘或二色性染料等二色性物質之)聚乙烯醇系薄膜。該偏光膜係藉由於浴中對聚乙烯醇系薄膜施行例如膨潤、染色、交聯、延伸等各處理後，施行洗淨處理然後進行乾燥來製造。又，前述偏光膜通常係製成於其單面或兩面使用接著劑貼合有三醋酸纖維素等之透明保護薄膜而成的偏光薄膜(偏光板)來使用。
前述偏光薄膜可因應需要與其他光學層積層而以積層偏光薄膜(光學積層體)之形式來使用，又前述偏光薄膜或前述積層偏光薄膜(光學積層體)可以貼合於液晶單元或有機EL元件等影像顯示單元而成之影像顯示面板之形式來使用(專利文獻1)。
以上述積層偏光薄膜來說，例如已知有一種附抗反射層之偏光薄膜，其係為了防止外光反射等造成畫質降低、提升對比等，而設於影像顯示裝置之視辨側表面者(專利文獻2-3)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2014-102353號公報 專利文獻2：日本專利特開2002-189211號公報 專利文獻3：日本專利特開2017-227898號公報
發明欲解決之課題 因近年自動駕駛技術的發展，在車載用影像顯示面板方面，顯示器設計之異形化或大型化等不斷進展。隨著這種顯示器設計之變化，便尋求進一步提升在高溫環境下或濕熱環境下之耐久性的手段。
鑒於以上情事，本發明目的在於提供一種在高溫環境下及濕熱環境下之耐久性優異的影像顯示面板。
用以解決課題之手段 即，本發明涉及一種影像顯示面板，其係透過黏著劑層或接著劑層依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜、具有偏光膜之偏光薄膜及影像顯示單元者；前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜的透濕度為50g/(m 2・24h)以下；並且，下述積層體在105℃、500小時之條件下的耐熱性試驗前後，單體透射率之變化量為0~3%，該積層體係於前述偏光薄膜之單面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、且於前述偏光薄膜之另一面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有玻璃板者。
發明效果 雖本發明影像顯示面板之效果的作用機制的細節尚有不明瞭的部分，但吾等推測如下。惟，本發明不受該作用機制解釋限制。
本發明影像顯示面板係透過黏著劑層或接著劑層依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜、具有偏光膜之偏光薄膜及影像顯示單元；前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜的透濕度為50g/(m 2・24h)以下；並且，下述積層體在105℃、500小時之條件下的耐熱性試驗前後，單體透射率之變化量為0~3%，該積層體係於前述偏光薄膜之單面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、且於前述偏光薄膜之另一面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有玻璃板者。上述玻璃板相當於影像顯示單元，故上述積層體相當於模擬影像顯示面板。至目前，尚未知一種積層體(模擬影像顯示面板)，其在上述耐熱性試驗之條件下，單體透射率之變化量為0~3%。本發明中，例如藉由將用以貼合於上述具有抗反射層之第1透明保護薄膜或影像顯示單元的偏光薄膜、或是附黏著劑層或接著劑層之偏光薄膜等進行加熱(熟化)處理，可減少該等所含之水分，結果可抑制偏光膜在高溫環境下之多烯化，故可滿足上述耐熱性試驗之規格。又，在本發明中，例如藉由使偏光膜含有水溶性自由基捕捉劑，則即使在高溫環境下，仍可捕捉偏光膜中產生之自由基而抑制多烯化，因此可滿足上述耐熱性試驗之規格。並且，在本發明中，藉由前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度為50g/(m 2・24h)以下，可防止水分從影像顯示面板之系統外(視辨側)進入，故可防止偏光薄膜在濕熱環境下從影像顯示單元剝離。
圖1係顯示本發明影像顯示面板之一形態的示意截面圖。圖1之影像顯示面板100中，係透過黏著劑層或接著劑層20、30依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜12、具有偏光膜11之偏光薄膜1及影像顯示單元90。又，偏光薄膜1至少具有偏光膜11，且可於前述偏光膜11之前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜12側貼合第2透明保護薄膜13，亦可於前述偏光膜11之前述影像顯示單元90側貼合第3透明保護薄膜14。
前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜12係於透明薄膜81上設有抗反射層6。抗反射層係2層以上薄膜的積層體，在圖1中圖示了由4層薄膜61、62、63、64的積層體構成之抗反射層6。又，透明薄膜81之抗反射層之形成面上亦可設有硬塗層71。
本發明影像顯示面板係透過黏著劑層或接著劑層依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜、具有偏光膜之偏光薄膜及影像顯示單元者；前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜的透濕度為50g/(m 2・24h)以下；並且，下述積層體在105℃、500小時之條件下的耐熱性試驗前後，單體透射率之變化量為0~3%，該積層體係於前述偏光薄膜之單面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、且於前述偏光薄膜之另一面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有玻璃板者。
＜具有抗反射層之第1透明保護薄膜＞ 本發明具有抗反射層之第1透明保護薄膜係於透明薄膜上設有由2層以上薄膜構成之抗反射層。一般而言，抗反射層係調整薄膜之光學膜厚(折射率與厚度之積)以使入射光與反射光的相反相位可互相抵消。藉由將抗反射層製成折射率不同之2層以上薄膜的多層積層體，可在可見光之寬頻帶波長範圍中縮小反射率。
構成前述抗反射層之薄膜的材料可舉例如金屬的氧化物、氮化物、氟化物等。在波長550nm下之折射率為1.6以下的低折射率材料可舉例如氧化矽、氟化鎂等。在波長550nm下之折射率為1.9以上之高折射材料可舉例如氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、錫摻雜氧化銦(ITO)、銻摻雜氧化錫(ATO)等。除了低折射率層與高折射率層，例如亦可形成由氧化鈦或上述低折射率材料與高折射材料之混合物構成之薄膜作為折射率1.50~1.85左右之中折射率層。構成抗反射層之薄膜宜可見光之光吸收小，可適宜使用在波長550nm下之消光係數為0.5以下之材料。
前述抗反射層之積層構成方面，從透明薄膜側起可列舉例如：光學膜厚240nm~260nm左右之高折射率層與光學膜厚120nm~140nm左右之低折射率層的2層構成；光學膜厚170nm~180nm左右之中折射率層、光學膜厚60nm~70nm左右之高折射率層及光學膜厚135nm~145nm左右之低折射率層的3層構成；光學膜厚20nm~55nm左右之高折射率層、光學膜厚15nm~70nm左右之低折射率層、光學膜厚60nm~330nm左右之高折射率層及光學膜厚100nm~160nm左右之低折射率層的4層構成；光學膜厚15nm~30nm左右之低折射率層、光學膜厚20nm~40nm左右之高折射率層、光學膜厚20nm~40nm左右之低折射率層、光學膜厚240nm~290nm左右之高折射率層及光學膜厚100nm~200nm左右之低折射率層的5層構成等。構成抗反射層之薄膜的折射率或膜厚之範圍不受上述例示所限。又，抗反射層亦可為6層以上薄膜的積層體。
前述抗反射層宜為低折射率層與高折射率層之交替積層體。為了減少在空氣界面之反射，作為抗反射層之最表面層(與透明薄膜為相反側之面)設置的薄膜(例如薄膜64)宜為低折射率層。低折射率層及高折射率層之材料如上述宜為氧化物。其中，抗反射層又宜為作為低折射率層之氧化矽(SiO 2)薄膜與作為高折射率層之氧化鈮(Nb 2O 5)薄膜的交替積層體。
前述透明薄膜之可見光透射率宜為80%以上，較宜為90%以上。透明薄膜之厚度無特別限定，由強度或處置性等作業性、薄層性等觀點來看，宜為5~300µm左右，較宜為10~300µm，更宜為20~200µm。
構成前述透明薄膜之樹脂材料可舉例如透明性、機械強度及熱穩定性優異之熱塑性樹脂。熱塑性樹脂之具體例可列舉：三醋酸纖維素等之纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂及該等之混合物。
前述透明薄膜中亦可包含有紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等任意適當之添加劑。
前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度為50g/(m 2・24h)以下。由提升在濕熱環境下之耐久性之觀點來看，前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度宜為30g/(m 2・24h)以下，較宜為10g/(m 2・24h)以下，更宜為5g/(m 2・24h)以下。此外，透濕度係在40℃、90%之相對濕度差下，水蒸氣在24小時內穿透面積1m 2之試料的重量，係依循JIS K7129：2008 附屬書B來測定。
於前述透明薄膜上形成前述抗反射層之方法無特別限制，例如參考日本專利特開2017-227898號公報中記載之方法。
由可提升抗反射層之硬度或彈性模數等機械特性之觀點來看，宜於前述透明薄膜之抗反射層側設有硬塗層。硬塗層宜為表面硬度高且耐擦傷性優異者，可藉由塗佈含有熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等硬化性樹脂之溶液來形成。
前述硬化性樹脂之種類可列舉例如聚酯系、丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、矽酸鹽系、環氧系、三聚氰胺系、氧雜環丁烷系、丙烯酸胺甲酸酯系等各種樹脂。該等中，由硬度高、可紫外線硬化且生產性優異來看，宜為丙烯酸系樹脂、丙烯酸胺甲酸酯系樹脂及環氧系樹脂。紫外線硬化型樹脂包含紫外線硬化型之單體、寡聚物、聚合物等。
又，前述硬塗層亦可具有防眩性。防眩性硬塗層可舉例如使上述硬化性樹脂中分散有微粒子者。前述微粒子可無特別限制地使用例如：氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等各種金屬氧化物微粒子、玻璃微粒子、由聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚胺甲酸酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各種透明聚合物構成之交聯或未交聯的有機系微粒子、聚矽氧系微粒子等具透明性之物。微粒子之平均粒徑為1~10µm左右。微粒子之比率無特別限制，相對於基質樹脂100重量份為5~20重量份左右。
前述硬塗層之厚度無特別限定，由實現高硬度之觀點來看，宜為0.5µm以上，較宜為1µm以上。由利用塗佈進行形成之容易性之觀點來看，前述硬塗層之厚度宜為15µm以下，較宜為10µm以下。
對於前述透明薄膜或前述硬塗層等之表面亦可進行電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底漆處理、輝光處理、皂化處理、利用矽烷耦合劑進行之處理等表面改質處理。又，前述透明薄膜或前述硬塗層等之表面亦可為了提升與抗反射層等之密著性等而設置金屬的氧化物及氮化物等底塗層。
＜偏光薄膜＞ 本發明偏光薄膜係於偏光膜之至少一面貼合有透明保護薄膜者。此處，將貼合於前述偏光膜之前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜側的透明保護薄膜稱為第2透明保護薄膜，且將貼合於前述偏光膜之前述影像顯示單元側的透明保護薄膜稱為第3透明保護薄膜。由處理作業時之外觀穩定性之觀點來看，前述偏光薄膜宜於前述偏光膜之前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜側貼合有第2透明保護薄膜。此外，前述偏光膜與前述透明保護薄膜通常係透過黏著劑層或接著劑層貼合。
＜偏光膜＞ 前述偏光薄膜具有碘或二色性染料等二色性物質吸附定向於聚乙烯醇系薄膜而形成之偏光膜。由偏光膜之初始之偏光性能之觀點來看，前述偏光膜宜為含碘作為前述二色性物質之碘系偏光膜。
前述聚乙烯醇(PVA)系薄膜可無特別限制地使用在可見光區域具有透光性且可分散吸附碘或二色性染料等二色性物質者。作為前述聚乙烯醇系薄膜的材料可舉聚乙烯醇或其衍生物。前述聚乙烯醇之衍生物可舉例如聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯縮醛；經乙烯、丙烯等烯烴、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸及其烷基酯、丙烯醯胺等改質者等。前述聚乙烯醇之平均聚合度宜為100~10,000左右，較宜為1,000~10,000左右，更宜為1,500~4,500左右。又，前述聚乙烯醇之皂化度宜為80~100莫耳%左右，較宜為95莫耳%~99.95莫耳左右。此外，前述平均聚合度及前述皂化度可依循JIS K 6726求得。
由提升在高溫環境下之耐久性之觀點來看，前述偏光膜宜包含水溶性自由基捕捉劑。前述水溶性自由基捕捉劑由容易移動至偏光膜中之水分之觀點來看，宜為相對於25℃之水100重量份可溶解1重量份以上之化合物，相對於25℃之水100重量份可溶解2重量份以上之化合物較佳，相對於25℃之水100重量份可溶解5重量份以上之化合物更佳。前述水溶性自由基捕捉劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
推測前述水溶性自由基捕捉劑可抑制偏光膜在高溫環境下之多烯化。前述水溶性自由基捕捉劑可舉例如受阻酚系、受阻胺系、磷系、硫系、苯并三唑系、二苯基酮系、羥胺系、水楊酸酯系、三𠯤系化合物等具有自由基捕捉功能之化合物。由在偏光膜產生之自由基種之觀點來看，前述水溶性自由基捕捉劑宜為具有硝醯自由基或氮氧自由基之化合物。
前述具有硝醯自由基或氮氧自由基之化合物由具有在室溫、空氣中較穩定之自由基之觀點來看，可舉N-氧基化合物(具有C-N(-C)-O ・作為官能基之化合物(O ・表示氧自由基))，且可使用公知者。N-氧基化合物可舉例如具有以下結構之有機基的化合物等。 [化學式1]
Figure 02_image001
…(1) (通式(1)中，R 1表示氧自由基，R 2至R 5獨立表示氫原子或碳原子數1~10烷基，n表示0或1)。此外，通式(1)中虛線部之左邊表示任意的有機基。
又，由可有效率地捕捉於偏光膜產生之自由基之觀點來看，前述水溶性自由基捕捉劑之分子量宜為1000以下，500以下較佳，300以下更佳。
前述偏光膜含有前述水溶性自由基捕捉劑時，由提升在高溫環境下之耐久性之觀點來看，前述水溶性自由基捕捉劑之含量宜為0.005重量%以上，較宜為0.01重量%以上，更宜為0.1重量%以上，並且宜為20重量%以下，較宜為15重量%以下，更宜為10重量%以下。
前述偏光膜可藉由以往之偏光膜之製造方法而得，例如可對前述聚乙烯醇系薄膜施行任意之膨潤步驟及洗淨步驟，以及至少施行染色步驟、交聯步驟及延伸步驟而得。前述偏光膜含有前述水溶性自由基捕捉劑時，前述膨潤步驟、前述洗淨步驟、前述染色步驟、前述交聯步驟及前述延伸步驟中之任1個以上處理步驟中之處理浴若包含有水溶性自由基捕捉劑即可。
由使偏光膜之初始偏光度提升之觀點來看，前述偏光膜之厚度宜為1µm以上，較宜為2µm以上，而由降低偏光膜中之水分、抑制在高溫環境下之多烯化之觀點來看，宜為20µm以下。尤其為了獲得厚度為8µm左右以下之偏光膜，可應用以下薄型偏光膜之製造方法，即：使用包含在熱塑性樹脂基材上製膜成之聚乙烯醇系樹脂層來作為前述聚乙烯醇系薄膜的積層體。
偏光膜(薄型偏光膜)可藉由以往之偏光膜之製造方法獲得，例如可施行以下步驟而獲得：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)來準備積層體的步驟，並且，一邊將所得積層體往長邊方向輸送，一邊對前述積層體施行任意之不溶解處理步驟、交聯處理步驟及洗淨處理步驟，以及至少施行空中輔助延伸處理步驟、染色處理步驟及水中延伸處理步驟而得。前述偏光膜含有前述水溶性自由基捕捉劑時，前述不溶解處理步驟、前述交聯處理步驟、前述洗淨處理步驟、前述染色處理步驟及前述水中延伸步驟中之任1個以上處理步驟中之處理浴若包含有前述水溶性自由基捕捉劑即可。
＜透明保護薄膜＞ 前述透明保護薄膜無特別限制，可使用可用於偏光薄膜之各種透明保護薄膜。構成前述透明保護薄膜之材料可使用例如透明性、機械性強度、熱穩定性、水分阻斷性、各向同性等優異之熱塑性樹脂。前述熱塑性樹脂可列舉例如：三醋酸纖維素等纖維素酯系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、尼龍或芳香族聚醯胺等聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、如聚乙烯、聚丙烯、乙烯・丙烯共聚物之聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、具有環系或降莰烯結構之環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂及該等之混合物。又，前述透明保護薄膜可使用由(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂形成之硬化層。該等中宜為纖維素酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂。
前述透明保護薄膜之厚度可適當決定，惟一般由強度或處置性等作業性、薄層性等觀點來看，宜為1~500μm左右，較宜為1~300μm左右，更宜為5~100μm左右。
將前述透明保護薄膜貼合於前述偏光膜之兩面時，其兩面透明保護薄膜可相同亦可互異。
前述透明保護薄膜可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常係控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常係控制在80~300nm之範圍。使用相位差板作為前述透明保護薄膜時，該相位差板亦可作為透明保護薄膜發揮功能，故可謀求薄型化。
作為前述相位差板，可舉例如將高分子素材進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、以薄膜支持液晶聚合物之定向層者等。相位差板之厚度無特別限制，一般為20~150μm左右。此外，亦可於不具相位差之透明保護薄膜貼合前述相位板來使用。
前述透明保護薄膜中亦可包含有紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等任意適當之添加劑。
由貼合後之乾燥步驟的生產效率之觀點來看，前述第3透明保護薄膜之透濕度宜為300g/(m 2・24h)以下，較宜為200g/(m 2・24h)以下。由偏光膜在高溫高濕下之耐久性、或貼合後之乾燥步驟的生產效率之觀點來看，前述第2透明保護薄膜之透濕度宜大於前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度，較宜為100g/(m 2・24h)以上，更宜為200g/(m 2・24h)以上，並且透濕度宜為1000g/(m 2・24h)以下，較宜為且600g/(m 2・24h)以下。此外，透濕度可依循JIS Z0208之透濕度試驗(透濕杯法(cup method))，將切斷成直徑60mm之試樣設置於裝有約15g氯化鈣之透濕杯中，並放入溫度40℃、濕度90%R.H.之恆溫機中，測定放置24小時之前與之後的氯化鈣之重量增加，藉此來算出。
前述透明保護薄膜之不貼合偏光膜之面上可設置硬塗層、抗黏層、擴散層乃至防眩層等其他層。此外，上述其他層除了可設於保護薄膜本身，亦可另外設成與保護薄膜為相異個體。
＜黏著劑層＞ 形成前述黏著劑層之黏著劑可應用可用於偏光薄膜之各種黏著劑，可列舉例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。其中宜為丙烯酸系黏著劑。前述丙烯酸系黏著劑係含有丙烯酸系聚合物作為基底聚合物者，可例示如日本專利特開2017-75998號公報等記載之丙烯酸系黏著劑。
前述丙烯酸系黏著劑中之丙烯酸系聚合物係以(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元為主骨架者。(甲基)丙烯酸烷基酯可適宜使用烷基之碳數為1~20之(甲基)丙烯酸烷基酯，該(甲基)丙烯酸烷基酯之含量相對於構成基底聚合物之單體成分總量宜為40重量%以上，較宜為60重量%以上。又，由可調整黏著劑之接著性之觀點來看，亦可包含有含氮單體單元或含羥基單體等之單體單元。並且，為了於黏著劑層形成交聯結構，亦可使用交聯劑，交聯劑可使用例如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、吖𠰂系交聯劑、碳二亞胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等一般所用之物。相對於基底聚合物100重量份，交聯劑之使用量一般為10重量份以下，宜為5重量份以下。
由可調整接著力之觀點來看，前述黏著劑中亦可添加矽烷耦合劑；萜系賦黏劑、苯乙烯系賦黏劑、酚系賦黏劑、松香系賦黏劑、環氧系賦黏劑等賦黏劑。又，由提升耐光性之觀點來看，亦可添加紫外線吸收劑。除上述例示之各成分外，黏著劑中亦可在不損及黏著劑之特性的範圍內使用塑化劑、軟化劑、抗劣化劑、充填劑、著色劑、抗氧化劑、界面活性劑、抗靜電劑等添加劑。
形成黏著劑層之方法可例示如：將前述黏著劑塗佈於經剝離處理之分離件等，並進行乾燥而形成黏著劑層後，轉印至偏光膜等之方法；或者，將前述黏著劑塗佈於偏光膜等，並進行乾燥而形成黏著劑層之方法等。前述黏著劑層之厚度無特別限制，例如為1~100μm左右，宜為2~50μm左右。
＜接著劑層＞ 形成前述接著劑層之接著劑可應用可用於偏光薄膜之各種接著劑，可舉例如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。該等接著劑通常係以由水溶液構成之接著劑(水系接著劑)作使用，含有0.5~60重量%之固體成分而成。該等中宜為聚乙烯醇系接著劑，較宜為含乙醯乙醯基之聚乙烯醇系接著劑。
前述水系接著劑亦可包含有交聯劑。前述交聯劑一般可使用1分子中具有至少2個與構成接著劑之聚合物等之成分具有反應性之官能基的化合物，可舉例如伸烷基二胺類；異氰酸酯類；環氧類；醛類；羥甲基脲、羥甲基三聚氰胺等胺-甲醛等。接著劑中之交聯劑之摻混量相對於構成接著劑之聚合物等成分100重量份，一般為10~60重量份左右。
前述接著劑除上述外，還可舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等活性能量線硬化型接著劑。前述活性能量線硬化型接著劑可舉例如(甲基)丙烯酸酯系接著劑。前述(甲基)丙烯酸酯系接著劑中之硬化性成分可舉例如具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。具有(甲基)丙烯醯基之化合物可舉例如碳數1~20鏈狀烷基(甲基)丙烯酸酯、脂環式烷基(甲基)丙烯酸酯、多環式烷基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸烷基酯；含羥基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯等。(甲基)丙烯酸酯系接著劑亦可包含有羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N‐羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N‐甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N‐乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福林等含氮單體。(甲基)丙烯酸酯系接著劑中作為交聯成分可包含有三丙二醇二丙烯酸酯、1,9‐壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷縮甲醛丙烯酸酯、二㗁烷二醇二丙烯酸酯、EO改質二甘油四丙烯酸酯等多官能單體。又，陽離子聚合硬化型接著劑亦可使用具有環氧基或氧雜環丁烷基之化合物。具有環氧基之化合物若為分子內具有至少2個環氧基者則無特別限制，可使用一般已知的各種硬化性環氧化合物。
前述接著劑亦可視需求包含有適當之添加劑。前述添加劑可列舉例如：矽烷耦合劑、鈦耦合劑等耦合劑、氧化乙烯等接著促進劑、紫外線吸收劑、抗劣化劑、染料、加工助劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、賦黏劑、充填劑、塑化劑、調平劑、發泡抑制劑、抗靜電劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等。
前述接著劑的塗佈可對後述透明保護薄膜側(或後述機能層側)、前述偏光膜側之任一者進行，亦可對兩者進行。於貼合後施行乾燥步驟，形成由塗佈乾燥層構成之接著劑層。前述乾燥步驟後，可因應需要照射紫外線或電子束。前述接著劑層之厚度無特別限制，於使用水系接著劑等時，宜為30~5000nm左右，較宜為100~1000nm左右，而於使用紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等時，宜為0.1~100μm左右，較宜為0.5~10μm左右。
前述透明保護薄膜與前述偏光膜亦可隔著表面改質處理層、易接著劑層、阻隔層、折射率調整層等中介層而積層。
形成前述表面改質層之表面改質處理可舉例如電暈處理、電漿處理、底塗處理、皂化處理等。
形成前述易接著層之易接著劑可舉例如包含具有下述骨架之各種樹脂的形成材：聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等。前述易接著層通常會事先設於保護薄膜上，並藉由前述黏著劑層或前述接著劑層將該保護薄膜之易接著層側與偏光膜積層。
前述阻隔層係具有用以防止從透明保護薄膜等溶出之寡聚物或離子等不純物移動(侵入)至偏光膜中之功能的層。前述阻隔層若為具有透明性且可防止從透明保護薄膜等溶出之不純物的層即可，形成阻隔層之材料可舉例如胺甲酸酯預聚物系形成材、氰基丙烯酸酯系形成材、環氧系形成材等。
前述折射率調整層係為了抑制透射率隨在前述透明保護薄膜與偏光膜等折射率不同之層間的反射而降低所設置之層。形成前述折射率調整層之折射率調整材可舉例如包含具有二氧化矽系、丙烯酸系、丙烯酸-苯乙烯系、三聚氰胺系等之各種樹脂及添加劑的形成劑。
又，前述偏光薄膜亦可為前述偏光薄膜貼合於光學層之積層偏光薄膜(光學積層體)。前述光學層無特別限定，例如可使用1層或2層以上之反射板或半透射板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜等可用於形成液晶顯示裝置等的光學層。作為前述偏光薄膜，尤可舉例如：於前述偏光薄膜上進一步積層反射板或半透射反射板而成的反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜、於前述偏光薄膜上進一步積層相位差板而成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於前述偏光薄膜上進一步積層視角補償薄膜而成的廣視角偏光薄膜、或於前述偏光薄膜上進一步積層增亮薄膜而成的偏光薄膜。
前述偏光薄膜之一面或兩面亦可事先附設前述黏著劑層或前述接著劑層，以貼合液晶單元或有機EL元件等影像顯示單元、或是前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜。
對於前述黏著劑層或前述接著劑層之露出面為防止其受污染，宜在供實際使用前之期間暫時貼附分離件來覆蓋。藉此可防止黏著劑層或前述接著劑層在通例之處置狀態下受汙染等。作為前述分離件，可使用例如經將塑膠薄膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔及該等之層合體等適當的單片體因應需要以聚矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當的剝離劑進行塗覆處理者等。
由加熱耐久性之觀點來看，前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜與前述偏光膜之間之厚度宜為100µm以下，較宜為80µm以下。
＜影像顯示面板＞ 本發明影像顯示面板係透過前述黏著劑層或前述接著劑層依序設有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、前述偏光薄膜及影像顯示單元。
＜影像顯示單元＞ 本發明影像顯示單元可舉例如液晶單元或有機EL單元等。前述液晶單元可使用例如利用外光之反射型液晶單元、利用來自背光等光源之光的透射型液晶單元、利用來自外部之光與來自光源之光兩者的半透射半反射型液晶單元中之任一者。當前述液晶單元為利用來自光源之光者時，影像顯示裝置(液晶顯示裝置)亦係於影像顯示單元(液晶單元)之與視辨側為相反側配置偏光薄膜，並配置光源。該光源側之偏光薄膜與液晶單元宜透過適當之接著劑層貼合。前述液晶單元的驅動方式可使用例如VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式或彎曲定向(π型)等任意型式。
前述有機EL單元可適宜使用例如於透明基板上依序積層有透明電極、有機發光層及金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)者等。前述有機發光層係多種有機薄膜之積層體，例如可採用以下各種層構成：由三苯胺衍生物等構成之電洞注入層與由蒽等螢光性有機固體構成之發光層的積層體；該等發光層與由苝衍生物等構成之電子注入層的積層體；或者電洞注入層、發光層及電子注入層之積層體等。
前述影像顯示單元通常最外表面(最外面層)為塑膠基板或玻璃基板，但由耐熱性或耐濕熱性之觀點來看，視辨側之最外表面宜為玻璃基板。
形成前述影像顯示面板時，由在高溫環境下抑制偏光膜之單體透射率降低之觀點來看，亦可對用以貼合於具有抗反射層之第1透明保護薄膜或影像顯示單元的偏光薄膜、或是附黏著劑層或附接著劑層之偏光薄膜等進行加熱(熟化)處理。加熱(熟化)處理之加熱條件若可充分降低設於偏光膜及偏光薄膜兩面的黏著劑層或接著劑層所含之水分則無特別限制，例如加熱溫度宜為70℃~90℃左右，較宜為75~85℃左右。又，加熱時間宜為30分鐘~5小時左右，較宜為1小時~3小時左右。又，在偏光薄膜兩面附有黏著劑層或接著劑層之狀態下進行加熱(熟化)處理時，黏著劑層或接著劑層之透濕性高者方為有效，另一方面，在單面附有黏著劑層或接著劑層之狀態下進行加熱(熟化)處理時，則是之後才進行積層之黏著劑層或接著劑層(另一面之黏著劑層或接著劑層)之含水率低者方為有效。
實施例 以下列舉實施例來更詳細說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。
＜實施例1＞ ＜偏光膜之製作＞ 準備平均聚合度為2,400、皂化度為99.9莫耳%且厚度為45µm之聚乙烯醇薄膜。於周速比相異之輥間一邊將聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃之膨潤浴(水浴)中30秒鐘進行膨潤，一邊往輸送方向延伸成2.2倍(膨潤步驟)，接著，在30℃之染色浴(相對於水100重量份，將碘與碘化鉀以1：7之重量比摻混而得之碘水溶液)中調整碘濃度並浸漬30秒鐘進行染色，以使偏光膜成為預定之透射率，並一邊以原本的聚乙烯醇薄膜(完全未往輸送方向延伸過的聚乙烯醇薄膜)為基準往輸送方向延伸成3.3倍(染色步驟)。接著，將已染色之聚乙烯醇薄膜在40℃之交聯浴(硼酸濃度為3.5重量%、碘化鉀濃度為3.0重量%、硫酸鋅濃度為3.6重量%之水溶液)中浸漬28秒鐘，並以原本的聚乙烯醇薄膜為基準往輸送方向延伸至3.6倍為止(交聯步驟)。再將所得聚乙烯醇薄膜於64℃之延伸浴(硼酸濃度為4.5重量%、碘化鉀濃度為5.0重量%、硫酸鋅濃度為5.0重量%之水溶液)中浸漬60秒鐘，並以原本的聚乙烯醇薄膜為基準往輸送方向延伸至6.0倍為止(延伸步驟)後，在27℃之洗淨浴(碘化鉀濃度為2.3重量%且作為水溶性自由基捕捉劑的下述通式(2)所示化合物濃度為1.0重量%之水溶液)中浸漬10秒鐘(洗淨步驟)。將洗淨後之聚乙烯醇薄膜在40℃下乾燥30秒鐘而製出偏光膜。偏光膜中之下述通式(2)所示化合物之含量為0.3重量%，偏光膜之厚度為18µm。 [化學式2]
Figure 02_image003
…(2)
＜偏光膜中之水溶性自由基捕捉劑之含量(重量%)的測定方法＞ 採取約20mg的偏光膜並定量，於水1mL中加熱溶解後，以甲醇4.5mL稀釋，再將所得萃取液以膜濾器過濾，並將濾液使用HPLC(Waters公司製 ACQUITY UPLC H-class Bio)測定水溶性自由基捕捉劑之濃度。
＜偏光薄膜之製作＞ 接著劑係使用以下水溶液：以重量比3:1含有含乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂(平均聚合度1,200，皂化度98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度5莫耳%)與羥甲基三聚氰胺者。使用該接著劑，以輥貼合機將厚度18µm之環烯烴系透明保護薄膜(日本ZEON公司製，ZT12，透濕度為10g/(m 2・24h))貼合於上述所得偏光膜之一面(影像顯示裝置單元側)作為第3透明保護薄膜，且將於三醋酸纖維素薄膜(FUJIFILM製，商品名「TJ40UL」)上形成有HC之厚度48µm的透明保護薄膜(透濕度為300g/(m 2・24h))貼合於另一面(視辨側)作為第2透明保護薄膜後，接著於烘箱內使其加熱乾燥(溫度為90℃，時間為10分鐘)，而製作出於偏光膜兩面貼合有透明保護薄膜的偏光薄膜。
＜丙烯酸系黏著劑之調製＞ 將含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物饋入具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中。並相對於前述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑之2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯100份一起饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近，進行8小時聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)180萬之丙烯酸系聚合物之溶液。之後，相對於所得丙烯酸系聚合物之溶液的固體成分100份，摻混異氰酸酯交聯劑(Tosoh(東曹)公司製，商品名「TAKENATE D110N」，三羥甲丙烷/二異氰酸伸茬酯加成物)0.02份、矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，商品名「X-41-1056」)0.2份，而調製出丙烯酸系黏著劑組成物之溶液。
＜附黏著劑層之偏光薄膜之製作＞ 以使乾燥後的黏著劑層的厚度成為20μm之方式，將上述所得丙烯酸系黏著劑組成物之溶液塗佈於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(Mitsubishi Polyester Film製，商品名「MRF38」，分離薄膜)之單面上，並在90℃下乾燥1分鐘，而於分離薄膜之表面形成黏著劑層。接著，將形成於分離薄膜上的黏著劑層轉印至上述製出之偏光薄膜之影像顯示單元側的保護薄膜面，而製作出了附黏著劑層之偏光薄膜。
＜具有抗反射層之第1透明保護薄膜之製作＞ 將紫外線硬化型丙烯酸系樹脂(DIC製，商品名「GRANDIC PC-1070」100重量份(固體成分)以使乾燥後之厚度成為5µm之方式，塗佈於厚度40µm之三醋酸纖維素薄膜(FUJIFILM製，商品名「FUJITAC」)之單面，並在80℃下乾燥3分鐘。然後，使用高壓水銀燈照射累積光量200mJ/cm 2之紫外線，使塗佈層硬化而獲得形成有硬塗層之三醋酸纖維素薄膜。將形成有硬塗層之三醋酸纖維素薄膜導入捲對捲式濺鍍成膜裝置，一邊使薄膜行進，一邊對硬塗層形成面進行轟擊處理(利用Ar氣體進行之電漿處理)後，成膜3.5nm之氧化矽層作為底塗層，並於其上依序成膜12nm之Nb 2O 5層、28nm之SiO 2層、100nm之Nb 2O 5層及85nm之SiO 2層，製作出具有抗反射層的第1透明保護薄膜(薄膜A)。此外，撞擊處理係在壓力0.5Pa下實施。作為底塗層之氧化矽層係使用Si靶材，在基板溫度-8℃、氬流量300sccm、壓力0.2Pa之條件下進行濺鍍成膜。SiO 2層之成膜係使用Si靶材、Nb 2O 5層之成膜係使用Nb靶材，在基板溫度-8℃、氬流量200sccm、壓力0.10Pa下進行成膜。在SiO 2層之成膜及Nb 2O 5層之成膜時，係藉由電漿光譜分析儀(PEM)控制，來調整導入之氧量以使成膜模式維持過度區域。此外，具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度如上述，係依循JIS K7129：2008 附屬書B來測定。
＜附具有抗反射層之第1透明保護薄膜之偏光薄膜之製作＞ 將上述所得附黏著劑層之偏光薄膜靜置於80℃之熱風烘箱內2小時進行熟化處理後，從烘箱取出，並在23℃、55%之環境下靜置1小時。接著，於上述所得具有抗反射層之第1透明保護薄膜中未形成抗反射層之面轉印厚度20µm之丙烯酸系黏著劑層，並積層於附黏著劑層之偏光薄膜之視辨側的透明保護薄膜面，而製作出附具有抗反射層之第1透明保護薄膜之偏光薄膜。
＜模擬影像顯示面板製作＞ 將上述所得附具有抗反射層之第1透明保護薄膜的偏光薄膜以使偏光膜之吸收軸與長邊平行之方式切斷成150×45mm之尺寸，並透過黏著劑層貼合玻璃板(平岡特殊硝子製作公司製EG-XG，165×50mm，厚度0.7mm)，於50℃、0.5MPa下進行15分鐘高壓釜處理，而製作出模擬影像顯示面板。
＜在高溫環境下之耐久性之評估＞ 將上述所得模擬影像顯示面板靜置於溫度105℃之熱風烘箱內500小時，測定了投入(加熱)前後之單體透射率(ΔTs)。單體透射率係使用分光光度計(大塚電子公司製，LPF-200)測定。該單體透射率係以JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度校正後之Y值。此外，測定波長為380~780nm(每5nm)。 ΔTs(%)=Ts 500-Ts 0在此，Ts 0為初始(加熱前)之單體透射率，而Ts 500為加熱500小時後之單體透射率。ΔTs(%)宜為0%以上且3%以下，較宜為0%以上且2%以下。將結果列於表1。
＜在濕熱環境下之耐久性之評估＞ 於上述所得模擬影像顯示面板捲附已含水之擦拭棒(Aillis公司製，商品名「TEXWIPE」)，放入塑膠袋中並密閉，並在60℃95%RH之濕熱烘箱內靜置100小時後，按下述基準以肉眼評估其外觀。 ○：未發生偏光薄膜與玻璃板之剝落。 △：有發生些微之偏光薄膜與玻璃板之剝落。 ×：有發生明顯之偏光薄膜與玻璃板之剝落。
＜實施例2＞ 除了使用下述附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜B)之偏光薄膜外，依與實施例1相同方法製作出模擬影像顯示面板，該附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜B)之偏光薄膜係在製作具有抗反射層之第1透明保護薄膜時，在將SiO 2層之成膜中之氬流量設為400sccm、壓力0.2Pa、且在將Nb 2O 5層之成膜中之氬流量設為1200sccm、壓力0.4Pa之條件下成膜者。
＜實施例3＞ 在製作附具有抗反射層之第1透明保護薄膜之偏光薄膜時，未將附黏著劑層之偏光薄膜靜置於80℃之熱風烘箱內2小時進行熟化處理，除此之外依與實施例2相同方法製作出模擬影像顯示面板。
＜實施例4＞ 在製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(2)所示化合物，除此之外依與實施例2相同方法製作出模擬影像顯示面板。
＜實施例5＞ 除了使用下述附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜C)之偏光薄膜外，依與實施例3相同方法製作出模擬影像顯示面板，該附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜C)之偏光薄膜係在製作具有抗反射層之第1透明保護薄膜時，在將SiO 2層之成膜中之氬流量設為800sccm、壓力0.3Pa、且在將Nb 2O 5層之成膜中之氬流量設為1300sccm、壓力0.4Pa之條件下成膜者。
＜比較例1＞ 除了使用下述附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜D)之偏光薄膜外，依與實施例3相同方法製作出模擬影像顯示面板，該附具有抗反射層之第1透明保護薄膜(薄膜D)之偏光薄膜係在製作具有抗反射層之第1透明保護薄膜時，在將SiO 2層之成膜中之氬流量設為1100sccm、壓力0.4Pa、且在將Nb 2O 5層之成膜中之氬流量設為1500sccm、壓力0.5Pa之條件下成膜者。
＜比較例2＞ 於製作偏光膜時，未於洗淨浴中添加通式(2)所示化合物，且於製作附具有抗反射層之附第1透明保護薄膜之偏光薄膜時，未將附黏著劑層之偏光薄膜靜置於80℃之熱風烘箱內2小時進行熟化處理，除此之外依與實施例1相同方法製作出模擬影像顯示面板。
使用上述所得實施例及比較例之模擬影像顯示面板，進行上述＜在高溫環境下之耐久性之評估＞及＜在濕熱環境下之剝落之評估＞。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image005
1:具有偏光膜之偏光薄膜 11:偏光膜 12:具有抗反射層之第1透明保護薄膜 13:第2透明保護薄膜 14:第3透明保護薄膜 20,30:黏著劑層或接著劑層 6:抗反射層 61,62,63,64:薄膜 71:硬塗層 81:透明薄膜 90:影像顯示單元 100:影像顯示面板
圖1係顯示影像顯示面板之一形態的示意截面圖。
1:具有偏光膜之偏光薄膜
11:偏光膜
12:具有抗反射層之第1透明保護薄膜
13:第2透明保護薄膜
14:第3透明保護薄膜
20,30:黏著劑層或接著劑層
6:抗反射層
61,62,63,64:薄膜
71:硬塗層
81:透明薄膜
90:影像顯示單元
100:影像顯示面板

Claims (9)

  1. 一種影像顯示面板，係透過黏著劑層或接著劑層依序設有具有抗反射層之第1透明保護薄膜、具有偏光膜之偏光薄膜及影像顯示單元； 該影像顯示面板之特徵在於： 前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜的透濕度為50g/(m 2・24h)以下；並且 下述積層體在105℃、500小時之條件下的耐熱性試驗前後，單體透射率之變化量為0~3%，該積層體係於前述偏光薄膜之單面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜、且於前述偏光薄膜之另一面透過前述黏著劑層或前述接著劑層貼合有玻璃板者。
  2. 如請求項1之影像顯示面板，其中前述偏光膜之厚度為20µm以下。
  3. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述偏光薄膜係於前述偏光膜之前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜側貼合有第2透明保護薄膜。
  4. 如請求項3之影像顯示面板，其中前述第2透明保護薄膜之透濕度大於前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜之透濕度。
  5. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜與前述偏光膜之間的厚度為100µm以下。
  6. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述偏光薄膜係於前述偏光膜之前述影像顯示單元側貼合有第3透明保護薄膜。
  7. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述抗反射層係由折射率不同之2層以上薄膜構成之層。
  8. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述具有抗反射層之第1透明保護薄膜係於透明薄膜上依序具備硬塗層及前述抗反射層。
  9. 如請求項1或2之影像顯示面板，其中前述影像顯示單元之視辨側之最外表面為玻璃基板。
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