TW202127095A - 光學裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之光學裝置1具備鏡驅動部11、加熱部15、及加熱控制部4。於鏡驅動部11中，於可動部23設置有鏡面31a。支持部22經由彈性連結部24支持可動部23。動力產生部50使動力產生於可動部23。驅動控制部3輸出使動力產生部50動作之驅動信號。可動部23於彈性連結部24被加熱前之狀態下，具有較驅動控制部3輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。可動部23藉由與動力產生部50之動力相應之彈性連結部24之彈性變形而擺動。加熱控制部4取得顯示可動部23之擺動狀態之信號，並基於所取得之信號之相位，反饋控制加熱部15對彈性連結部24之加熱。

Description

光學裝置

本發明係關於一種光學裝置。

已知有具備設置有鏡面之可動部的光學裝置(例如專利文獻1)。於專利文獻1，記載有以可動部以共振頻率擺動之方式藉由驅動信號控制可動部之擺動。 [先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2015-36782號公報

[發明所欲解決之問題]

存在因製造偏差引起之個體差及環境溫度等，可動部之共振頻率與期望者不同之情形。於驅動可動部之驅動信號之頻率與共振頻率不匹配之情形，有無法於可動部中獲得期望之擺動角、及上述可動部之動作不穩定的顧慮。若以與共振頻率匹配之方式控制驅動信號之頻率，則可於鏡中獲得良好之振幅。然而，於該構成中，較難以期望之頻率使鏡移動。

本發明之一態樣之目的在於提供一種可以期望之頻率且期望之擺動角實現穩定之可動部之擺動的光學裝置。 [解決問題之技術手段]

本發明之一態樣之光學裝置具備鏡驅動部、驅動控制部、加熱部、及加熱控制部。鏡驅動部具有可動部、彈性連結部、支持部及動力產生部。於可動部設置有鏡面。彈性連結部連接於可動部。支持部經由彈性連結部支持可動部。動力產生部使動力產生於可動部。驅動控制部輸出使動力產生部動作之驅動信號。加熱部加熱彈性連結部。加熱控制部控制加熱部。可動部於彈性連結部被加熱前之狀態下，具有較驅動控制部輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。可動部藉由與動力產生部之動力相應之彈性連結部之彈性變形而擺動。加熱控制部取得顯示可動部之擺動狀態之信號，並基於所取得之信號之相位，反饋控制加熱部對彈性連結部之加熱。

如上述一態樣，其中光學裝置具備加熱彈性連結部之加熱部。若藉由加熱部加熱彈性連結部，則彈性連結部之彈性率變化。其結果，可動部之共振頻率亦變化。因此，上述光學裝置可容易使可動部之共振頻率變化。其結果，該光學裝置可以期望之頻率且期望之擺動角穩定地使可動部擺動。於此種構成中，謀求於彈性連結部中進行精密且迅速之溫度調整。然而，例如於基於由溫度感測器檢測出之溫度而進行反饋控制之情形，於最有助於共振頻率之變化之彈性連結部之溫度檢測產生時滯。於在支持部設置有溫度感測器之情形，因檢測自彈性連結部傳遞至支持部之熱，故於反饋控制中產生與溫度之傳遞速度相應之時滯。上述加熱控制部基於顯示可動部之擺動狀態之信號之相位，反饋控制加熱部對彈性連結部之加熱。因此，該光學裝置至少基於由溫度感測器檢測出之溫度，實現較反饋控制時更精密且迅速之溫度調整。因此，亦提高可動部中之共振頻率之變更之精度。於彈性連結部被加熱前之狀態下，可動部具有較驅動控制部輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。此時，光學裝置可僅藉由加熱控制部之加熱控制，而使可動部之共振頻率與驅動信號之頻率匹配。上述光學裝置與至少使用冷卻元件之情形相比，謀求光學裝置之小型化。

如上述一態樣，其中可動部亦可包含第1可動部與第2可動部。於第1可動部亦可設置有鏡面。第2可動部亦可包圍第1可動部。彈性連結部亦可包含第1連結部與第2連結部。第1連結部亦可彈性連結第1可動部與第2可動部。第2連結部亦可彈性連結第2可動部與支持部。

如上述一態樣，其中加熱部亦可加熱第1連結部。

如上述一態樣，其中於彈性連結部被加熱前之狀態下，可動部亦可具有較驅動控制部輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。此時，光學裝置可僅藉由加熱控制部之加熱控制，而使可動部之共振頻率與驅動信號之頻率匹配。上述光學裝置與至少使用冷卻元件之情形相比，謀求光學裝置之小型化。

如上述一態樣，其中加熱控制部亦可藉由加熱部以第一功率加熱彈性連結部後，以較第一功率更小之第二功率加熱彈性連結部。此時，加熱控制部可於大致調整可動部之共振頻率後，精細調整可動部之共振頻率。其結果，光學裝置可更精密且迅速地調整可動部之共振頻率。

如上述一態樣，其中加熱部亦可包含第1加熱部與第2加熱部。第1加熱部亦可將第一熱量賦予彈性連結部。第2加熱部亦可將較第一熱量更小之第二熱量賦予彈性連結部。此時，加熱控制部可藉由第1加熱部大致調整可動部之共振頻率，且藉由第2加熱部精細調整可動部之共振頻率。因此，光學裝置可更精密且迅速地調整可動部之共振頻率。

如上述一態樣，其中第1加熱部亦可設置於支持部。第2加熱部亦可設置於第1連結部及可動部之至少1者。此時，光學裝置可以小型之構成，更精密且迅速地調整可動部之共振頻率。

如上述一態樣，其中加熱部亦可包含加熱彈性連結部之雷射照射部。此時，加熱部可更迅速地加熱彈性連結部。其結果，光學裝置可更精密且迅速地使可動部之共振頻率變化。

如上述一態樣，其中加熱部亦可包含加熱彈性連結部之電熱線。電熱線亦可以將鏡面之重心作為對稱點而成為點對稱之方式，設置於彈性連結部及可動部之至少1者。此時，加熱部可以小型之構成精密地加熱彈性連結部。因產生於電熱線之勞侖茲力相互抵消，故抑制可動部之擺動之混亂。

如上述一態樣，其中電熱線亦可以包圍鏡面之方式設置於可動部。此時，彈性連結部被更迅速且精密地加熱。因產生於電熱線之勞侖茲力相互抵消，故抑制可動部之擺動之混亂。

如上述一態樣，其中加熱控制部亦可以自驅動控制部輸出之驅動信號之相位與顯示可動部之擺動狀態之信號之相位之相位差變小之方式，控制加熱部對彈性連結部之加熱。此時，比較驅動信號之相位與顯示可動部之擺動狀態之信號之相位之情形，與比較驅動信號之頻率與顯示可動部之擺動狀態之信號之頻率之情形相比，可更精密地控制彈性連結部之加熱。因此，光學裝置可以期望之頻率更準確地獲得期望之擺動角。

如上述一態樣，其中亦可具備複數個鏡單元。各鏡單元亦可包含鏡驅動部與加熱部。加熱控制部亦可控制複數個鏡單元之各者中之彈性連結部之加熱。此時，光學裝置可使各可動部之共振頻率變化。因此，光學裝置可以期望之頻率且期望之擺動角使各可動部擺動。

如上述一態樣，其中該光學裝置具備之所有鏡單元之各者中之可動部亦可於加熱各可動部所連接之彈性連結部之前之狀態下，具有較驅動控制部輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。加熱控制部亦可藉由加熱部加熱所有鏡單元中之彈性連結部。因冷卻元件為相對較大型，故與使用冷卻元件之情形相比，謀求光學裝置之小型化。 [發明之效果]

本發明之一態樣提供一種可以期望之頻率且期望之擺動角實現穩定之可動部之擺動的光學裝置。

以下，參照附加圖式，詳細說明本發明之實施形態。另，於說明中，對同一要件或具有同一功能之要件，使用同一符號，省略重複之說明。

首先，參照圖1，說明本實施形態之光學裝置之概要。圖1係光學裝置之方塊圖。光學裝置1包含鏡面，且擺動該鏡面。光學裝置1用於例如光通信用光交換器、光掃描器等。光學裝置1具備至少1個鏡單元2、驅動控制部3、及加熱控制部4。於本實施形態中，光學裝置1具備複數個鏡單元2。

各鏡單元2具有鏡驅動部11、及加熱部15。鏡驅動部11例如構成為MEMS(Micro Electro Mechanical Systems：微機電系統)裝置。鏡驅動部11使用圖案化及蝕刻等之MEMS技術而製造。加熱部15加熱鏡驅動部11。驅動控制部3輸出驅動信號，且藉由該驅動信號控制鏡驅動部11之驅動。加熱控制部4控制加熱部15。

其次，參照圖2詳細說明鏡驅動部11之構成。圖2係鏡單元之概略俯視圖。

鏡驅動部11如圖2所示，具有磁場產生部21、支持部22、可動部23、及彈性連結部24。支持部22、可動部23、及彈性連結部24藉由例如SOI(Silicon on Insulator：絕緣體上覆矽)基板而一體地形成。支持部22、可動部23、及彈性連結部24例如藉由矽構成。支持部22、可動部23、及彈性連結部24之至少1者亦可藉由金屬構成。

磁場產生部21例如使俯視時相對於X軸及與X軸正交之Y軸之各者傾斜45度之方向D之磁場產生。藉由磁場產生部21產生之磁場之方向D亦可於俯視時相對於X軸及Y軸以45度以外之角度傾斜。於本實施形態中，磁場產生部21具有藉由海爾貝克排列(Halbach Array)配置之複數個永久磁鐵。

支持部22例如於俯視時具有四角形狀之外形，且形成為框狀。於本實施形態中，支持部22自磁場產生部21之永久磁鐵隔開，且於與X軸及Y軸正交之方向上與該永久磁鐵並排配置。

可動部23於自磁場產生部21隔開之狀態下，自正交於X軸及Y軸之方向而視，配置於由支持部22形成之框內。可動部23包含第1可動部31、及第2可動部32。於第1可動部31設置有鏡面31a。於鏡驅動部11中，第2可動部32繞Y軸擺動，第1可動部31繞X軸及Y軸擺動。第2可動部32形成為框狀，且以包圍第1可動部31之方式配置。第2可動部32由支持部22支持。

如圖2所示，第1可動部31具有本體部36、環狀部37、及一對保持部38。於本實施形態中，本體部36於俯視時呈圓形狀。本體部36亦可形成為橢圓形狀、四角形狀、菱形狀等任意形狀。於本體部36，於與X軸及Y軸正交之方向上與磁場產生部21之永久磁鐵相反之側，設置有鏡面31a。鏡面31a例如藉由金屬膜形成。金屬膜為例如鋁、鋁系合金、金、或銀。於俯視時，本體部36之重心P與X軸及Y軸之交點一致。於俯視時，鏡面31a之重心P與X軸及Y軸之交點一致。

環狀部37以俯視時包圍本體部36之方式形成為環狀。環狀部37於俯視時具有八角形狀之外形。環狀部37亦可具有圓形狀、橢圓形狀、四角形狀、菱形狀等任意外形。一對保持部38沿Y軸配置於本體部36之兩側，且將本體部36與環狀部37彼此連結。如此，於經由複數個保持部38連接於環狀部37之本體部36設置有鏡面31a。因此，即便第1可動部31以共振頻率位準繞X軸擺動，亦於鏡面31a抑制撓曲等變化。

彈性連結部24包含一對第1連結部41、42、及一對第2連結部43、44。第1連結部41、42及第2連結部43、44為例如扭桿。一對第1連結部41、42將第1可動部31與第2可動部32彈性連結。換言之，第1連結部41、42為與設置有鏡面31a之第1可動部31連接之彈性連結部。一對第2連結部43、44將支持部22與第2可動部32彈性連結。換言之，支持部22經由第1連結部41、42、第2可動部32及第2連結部43、44，支持第1可動部31。

第1連結部41、42以通過X軸之方式配置於第1可動部31之兩側。第1可動部31夾於一對第1連結部41、42間。一對第1連結部41、42將第1可動部31之環狀部37與第2可動部32彼此連結。因此，第1可動部31可藉由一對第1連結部41、42之彈性而繞X軸擺動。

各第1連結部41、42沿X軸直線狀延伸。於本實施形態中，各第1連結部41、42中之第1可動部31側之端部之寬度隨著接近第1可動部31而擴展。各第1連結部41、42中之第2可動部32側之端部之寬度隨著接近第2可動部32而擴展。因此，作用於第1連結部41、42之扭轉應力之影響被緩解，而抑制第1連結部41、42之劣化。

第2連結部43、44以通過Y軸之方式配置於第2可動部32之兩側。第2可動部32夾於一對第2連結部43、44間。一對第2連結部43、44將第2可動部32與支持部22彼此連結。

各第2連結部43、44於俯視時蜿蜒而延伸。各第2連結部43、44具有複數個直線狀部45、與複數個折回部46。直線狀部45沿平行於Y軸之方向延伸，且沿平行於X軸之方向並排配置。折回部46交替連結相鄰之直線狀部45之兩端。

鏡驅動部11進而具備動力產生部50。動力產生部50使動力產生於第1可動部31及第2可動部32。第1可動部31藉由與動力產生部50之動力相應之第1連結部41、42之彈性變形而擺動。第2可動部32藉由與動力產生部50之動力相應之第2連結部43、44之彈性變形而擺動。

動力產生部50具有一對驅動用線圈51、52、複數條配線61、62、63、64、及複數個電極焊墊66、67、68、69。驅動用線圈51、52以包圍第1可動部31之方式設置於第2可動部32。各驅動用線圈51、52於俯視時呈漩渦狀。各驅動用線圈51、52繞第1可動部31捲繞複數次。一對驅動用線圈51、52以於俯視時沿第2可動部32之寬度方向交錯排列之方式配置。於圖2中，配置有驅動用線圈51、52之區域R以陰影線顯示。

各驅動用線圈51、52藉由鑲嵌法形成。各驅動用線圈51、52埋入於第2可動部32。各驅動用線圈51、52由絕緣層55覆蓋。各驅動用線圈51、52埋入於第2可動部32。絕緣層55藉由例如氧化矽、氮化矽、氮氧化矽等構成。該絕緣層以覆蓋支持部22、第1可動部31、第2可動部32、第1連結部41、42、及第2連結部43、44之表面之方式一體地形成。

各驅動用線圈51、52藉由具有較構成第2可動部32之材料之密度更高之密度的金屬材料構成。於本實施形態中，第2可動部32藉由矽構成，各驅動用線圈51、52藉由銅構成。各驅動用線圈51、52亦可藉由金構成。

各電極焊墊66、67、68、69設置於支持部22，且自上述絕緣層55露出於外部。各電極焊墊66、67、68、69連接於驅動控制部3。配線61電性連接於驅動用線圈51之一端與電極焊墊66。配線61自驅動用線圈51之一端經由第2連結部43延伸至電極焊墊66。配線62電性連接於驅動用線圈51之另一端與電極焊墊67。配線62自驅動用線圈51之另一端經由第2連結部44延伸至電極焊墊67。各配線61、62與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。各配線61、62由絕緣層55覆蓋。

配線63電性連接於驅動用線圈52之一端與電極焊墊68。配線63自驅動用線圈52之一端經由第2連結部43延伸至電極焊墊68。配線64電性連接於驅動用線圈52之另一端與電極焊墊69。配線64自驅動用線圈52之另一端經由第2連結部44延伸至電極焊墊69。各配線63、64與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。各配線63、64由絕緣層55覆蓋。

驅動控制部3輸出使動力產生部50動作之驅動信號。驅動控制部3將驅動信號輸入至以上述方式構成之鏡驅動部11之動力產生部50。若經由電極焊墊66、67及配線61、62自驅動控制部3對驅動用線圈51輸入線性動作用之驅動信號，則藉由與利用磁場產生部21產生之磁場之相互作用而使勞侖茲力作用於驅動用線圈51。根據該勞侖茲力與第2連結部43、44之彈性力，第2可動部32與具有鏡面31a之第1可動部31一起繞Y軸線性動作。

若經由電極焊墊68、69及配線63、64自驅動控制部3對驅動用線圈52輸入共振動作用之驅動信號，則藉由與利用磁場產生部21產生之磁場之相互作用而使勞侖茲力作用於驅動用線圈52。藉由與該勞侖茲力相應之第1可動部31之共振，具有鏡面31a之第1可動部31繞X軸進行共振動作。具體而言，若來自驅動控制部3之驅動信號輸入至驅動用線圈52，則第2可動部32繞X軸以該驅動信號之頻率略微振動。該振動經由第1連結部41、42傳遞至第1可動部31，且第1可動部31繞X軸擺動。若繞X軸之第1可動部31之共振頻率與上述驅動信號之頻率一致，則第1可動部31繞X軸以該頻率穩定擺動。於本實施形態中，光學裝置1具備之所有鏡單元2之各者中之第1可動部31於連接於該第1可動部31之第1連結部41、42被加熱前之狀態下，具有較驅動控制部3輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。

其次，參照圖2對加熱部15之構成進行詳細說明。於光學裝置1中，複數個加熱部15設置於各鏡單元2。加熱控制部4取得顯示第1可動部31之擺動狀態之信號，並基於該信號之相位而反饋控制加熱部15對第1連結部41，42之加熱。於本實施形態中，顯示擺動狀態之信號意指顯示第1可動部31相對於支持部22之相對位置的信號。換言之，顯示擺動狀態之信號意指顯示第1可動部31之擺動角之相位的信號。加熱控制部4控制複數個鏡單元2之各者中之第1連結部41、42之加熱。於本實施形態中，加熱控制部4藉由加熱部15加熱所有鏡單元2中之第1連結部41、42。

加熱控制部4藉由加熱部15急速加熱第1連結部41、42後，和緩加熱第1連結部41、42。藉此，加熱控制部4精細調整第1連結部41、42之溫度。換言之，加熱控制部4藉由加熱部以第一功率加熱第1連結部41、42後，以較第一功率更小之第二功率加熱第1連結部41、42。

於本實施形態中，各加熱部15包含第1加熱部71、及第2加熱部72。第1加熱部71及第2加熱部72將互不相同之熱量賦予第1可動部31。第1加熱部71及第2加熱部72例如藉由雷射之照射或電熱線之發熱而加熱第1可動部31。

第1加熱部71根據來自加熱控制部4之信號，將第一熱量賦予第1連結部41、42。第2加熱部72根據來自加熱控制部4之信號，將較第一熱量更小之第二熱量賦予第1連結部41、42。加熱控制部4於藉由第1加熱部71較大地加熱第1連結部41、42後，藉由第2加熱部72較小地加熱第1連結部41、42。藉此，加熱控制部4調整第1連結部41、42之溫度。

於本實施形態中，如圖2所示，鏡單元2具有電熱線部73、及雷射照射部74。該等電熱線部73與雷射照射部74作為加熱第1連結部41、42之加熱部15發揮功能。換言之，加熱部15包含電熱線部73與雷射照射部74。

電熱線部73產生與所施加之電壓相應之熱。施加於電熱線部73之電壓由加熱控制部4控制。電熱線部73包含電熱線73a。鏡驅動部11進而具備配線76、77、及電極焊墊78、79。電熱線73a以包圍第2可動部32之方式設置於支持部22。電熱線73a於俯視時呈漩渦狀。

電熱線73a藉由金屬或半導體構成。例如，電熱線73a藉由銅或鋁合金構成。電熱線73a亦可藉由擴散層構成。

各電極焊墊78、79設置於支持部22，且自上述之絕緣層55露出於外部。配線76電性連接於電熱線73a之一端與電極焊墊78。配線77電性連接於電熱線73a之另一端與電極焊墊79。電極焊墊78、79與加熱控制部4電性連接。若對電極焊墊78、79施加電壓，則電熱線73a發熱，且可動部23被整體加熱。藉此，第1連結部41、42被加熱。電熱線73a包含於第1加熱部71。

雷射照射部74對第1可動部31與一對第1連結部41、42之至少一者照射雷射。雷射照射部74與加熱控制部4電性連接。自雷射照射部74照射之雷射之強度由加熱控制部4控制。於本實施形態中，雷射照射部74對第1可動部31照射雷射。藉此，第1可動部31被加熱，且熱自被加熱之第1可動部31傳遞至一對第1連結部41、42。其結果，第1連結部41、42被加熱。於對第1可動部31之鏡面31a照射有雷射之情形，亦藉由上述熱之傳遞，而使第1連結部41、42被加熱。於本實施形態中，雷射照射部74包含於第2加熱部72。

接著，參照圖3及圖4，對本實施形態之變化例之光學裝置之鏡單元進行說明。圖3係本實施形態之變化例之鏡單元之概略俯視圖。本變化例大致與上述之實施形態類似或相同。本變化例關於加熱部15不包含雷射照射部74之點、及電熱線部73包含電熱線73b、73c之點，與上述之實施形態不同。以下，主要說明上述之實施形態與變化例之不同點。另，圖3將一對驅動用線圈51、52、及複數條配線61、62、63、64省略而圖示。

於本變化例之鏡單元2A中，電熱線部73如圖3所示，除電熱線73a外包含電熱線73b、73c。鏡驅動部11進而具備配線81、82、83、84、與電極焊墊86、87、88、89。電熱線73b、73c設置於第2可動部32。電熱線73b、73c包含於第2加熱部72。電熱線73b、73c以將鏡面31a之重心作為對稱點而成為點對稱之方式設置。

電熱線73b自第2連結部43與第2可動部32之連接部分向第2可動部32與第1連結部41之連接部分延伸。電熱線73b於第2可動部32與第1連結部41之連接部分蜿蜒後，向第2連結部43與第2可動部32之連接部分延伸。電熱線73b於第2可動部32與第1連結部41之連接部分，具有複數個直線狀部85a、及複數個折回部85b。直線狀部75b沿平行於Y軸之方向延伸，且沿平行於X軸之方向並排配置。折回部85b交替連結相鄰之直線狀部85a之兩端。

電熱線73c自第2連結部44與第2可動部32之連接部分向第2可動部32與第1連結部42之連接部分延伸。電熱線73c於第2可動部32與第1連結部42之連接部分蜿蜒後，向第2連結部44與第2可動部32之連接部分延伸。電熱線73c於第2可動部32與第1連結部42之連接部分，具有複數個直線狀部85c、及複數個折回部85d。直線狀部85c沿平行於Y軸之方向延伸，且沿平行於X軸之方向並排配置。折回部85d交替連結相鄰之直線狀部85c之兩端。

於本變化例中，電熱線73b、73b藉由濺鍍及光微影而形成。電熱線73b、73c亦可自絕緣層55露出。電熱線73b、73c亦可與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。此時，電熱線73b、73c於與各驅動用線圈51、52不同之層中，埋入於第2可動部32。此時，電熱線73b、73c由絕緣層55覆蓋。

電熱線73b、73c藉由金屬或半導體構成。例如，電熱線73b、73c藉由銅或鋁合金構成。電熱線73b、73c亦可藉由擴散層構成。

配線81電性連接於電熱線73b之一端與電極焊墊86。配線81自電熱線73b之一端經由第2連結部43延伸至電極焊墊86。配線82電性連接於電熱線73b之另一端與電極焊墊87。配線82自電熱線73b之另一端經由第2連結部43延伸至電極焊墊87。各配線81、82與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成，且由絕緣層55覆蓋。

配線83電性連接於電熱線73c之一端與電極焊墊88。配線83自電熱線73c之一端經由第2連結部44延伸至電極焊墊88。配線84電性連接於電熱線73c之另一端與電極焊墊89。配線84自電熱線73c之另一端經由第2連結部44延伸至電極焊墊89。各配線83、84與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。各配線83、84由絕緣層55覆蓋。

電極焊墊86、87、88、89與加熱控制部4電性連接。若藉由加熱控制部4對電極焊墊86、87施加電壓，則電熱線73b發熱，且第2可動部32被加熱。尤其，第2可動部32與第1連結部41之連接部分被加熱。藉由熱自被加熱之部分傳遞至第1連結部41，第1連結部41被加熱。若藉由加熱控制部4對電極焊墊88、89施加電壓，則電熱線73c發熱，且第2可動部32被加熱。尤其，第2可動部32與第1連結部42之連接部分被加熱。藉由熱自被加熱之部分傳遞至第1連結部42，第1連結部42被加熱。電熱線73b、73c包含於第2加熱部72。

接著，參照圖4，對本實施形態之變化例之光學裝置之鏡單元進行說明。圖4係本實施形態之變化例之鏡單元之概略俯視圖。本變化例大致與上述之實施形態類似或相同。本變化例關於加熱部15不包含雷射照射部74之點、及電熱線部73包含電熱線73d、73e、73f之點，與上述之實施形態不同。以下，主要說明上述之實施形態與變化例之不同點。另，於圖4中，省略一對驅動用線圈51、52、及複數條配線61、62、63、64。

於本變化例之鏡單元2B中，電熱線部73如圖4所示，除電熱線73a外包含電熱線73d、73e、73f。鏡驅動部11進而具備配線91、92、及電極焊墊96、97。電熱線73d、73e、73f設置於第2可動部32。電熱線73d、73f以一點鏈線顯示。電熱線73e以虛線顯示。電熱線73d、73e、73f包含於第2加熱部72。電熱線73d、73e、73f以將鏡面31a之重心作為對稱點而成為點對稱之方式設置。

電熱線73d自第2連結部43與第2可動部32之連接部分延伸至第2可動部32與第1連結部41之連接部分。電熱線73e於第2可動部32與第1連結部41之連接部分連接於電熱線73d。電熱線73e設置於第1可動部31之環狀部37。電熱線73e自第2可動部32與第1連結部41之連接部分沿第1連結部41延伸至第1可動部31與第1連結部41之連接部分。電熱線73e以於第1可動部31與第1連結部41之連接部分一分為二，且沿第1可動部31之緣包圍鏡面31a之方式延伸。一分為二之電熱線73e於第1可動部31與第1連結部42之連接部分彼此連接。電熱線73e自第1可動部31與第1連結部42之連接部分沿第1連結部42延伸至第2可動部32與第1連結部42之連接部分。電熱線73e於第2可動部32與第1連結部42之連接部分連接於電熱線73f。電熱線73f自第2可動部32與第1連結部42之連接部分延伸至第2連結部44與第2可動部32之連接部分。

本變化例中，電熱線73d、73e、73f與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。電熱線73d、73e、73f埋入於第1可動部31、第2可動部32、及第1連結部41、42。電熱線73d、73e、73f由絕緣層55覆蓋。電熱線73d、73e、73f亦可於與各驅動用線圈51、52不同之層中，埋入於第1可動部31、第2可動部32、及第1連結部41、42。電熱線73d、73e、73f亦可自絕緣層55露出。

電熱線73d、73e、73f藉由金屬或半導體構成。例如，電熱線73d、73e、73f藉由銅或鋁合金構成。電熱線73d、73e、73f亦可藉由擴散層構成。電熱線73e較佳藉由擴散層或多晶矽構成。

配線91電性連接於電熱線73d之一端與電極焊墊96。配線91自電熱線73d之一端經由第2連結部43延伸至電極焊墊96。配線92電性連接於電熱線73f之一端與電極焊墊97。配線92自電熱線73f之一端經由第2連結部44延伸至電極焊墊97。各配線91、92與例如驅動用線圈51、52同樣，藉由鑲嵌法形成。各配線91、92由絕緣層55覆蓋。

電極焊墊96、97與加熱控制部4電性連接。若藉由加熱控制部4對電極焊墊96、97施加電壓，則電熱線73d、73e、73f發熱，且第1可動部31、第2可動部32、及第1連結部41、42被加熱。電熱線73d、73e、73f包含於第2加熱部72。

如以上所述，於圖3及圖4所示之變化例中，第1加熱部71設置於支持部22。第2加熱部72設置於第1連結部41、42、第1可動部31、第2可動部32之至少1者。

其次，參照圖5，說明光學裝置1中之控制方法之一例。圖5係顯示光學裝置1之控制方法之流程圖。

光學裝置1藉由加熱控制部4進行第1可動部31之相位穩定處理(處理S1)。加熱控制部4取得顯示第1可動部31之擺動狀態之信號。於本實施形態中，加熱控制部4取得顯示第1可動部31之擺動角之相位之信號，並基於取得之信號，控制加熱部15。加熱控制部4以自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位與顯示第1可動部31之擺動狀態之信號之相位之相位差變小之方式，控制加熱部15對第1連結部41、42之加熱。於本實施形態中，加熱控制部4於藉由第1加熱部71將大量之熱量賦予第1連結部41、42後，藉由第2加熱部72將少量之熱量賦予第1連結部41、42而微調整。

若藉由加熱部15加熱第1連結部41、42，則第1連結部41、42之彈性率變化。若第1連結部41、42之彈性率變化，則第1可動部31之擺動角之相位變化。加熱控制部4取得顯示變化之第1可動部31之擺動角之相位之信號，並基於取得之信號，控制加熱部15。即，加熱控制部4基於顯示可動部23之擺動角之相位之信號，反饋控制加熱部15。加熱控制部4藉由該反饋控制，以第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致之方式控制加熱部15。若第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致，則第1可動部31之擺動角之相位相對於驅動信號之相位成為超前90°之狀態。

於本實施形態中，加熱控制部4檢測顯示驅動用線圈51、52中之反電動勢之信號之相位。加熱控制部4基於顯示反電動勢之信號之相位與自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位之差分，控制加熱部15。藉由第1可動部31之加熱，顯示反電動勢之信號之相位變化。顯示反電動勢之信號之相位與第1可動部31之共振頻率對應。

作為本實施形態之變化例，光學裝置1亦可於可動部23另外具有電動勢監視用線圈。此時，加熱控制部4基於顯示電動勢監視用線圈中之電動勢之信號之相位與自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位之差分，控制加熱部15。即，顯示產生於電動勢監視用線圈之電動勢之信號與顯示上述之驅動用線圈51、52中之反電動勢之信號對應。顯示逆壓電之信號或來自檢測第1可動部31之位置之光感測器之信號亦可作為顯示第1可動部31之擺動狀態之信號使用。

光學裝置1若進行相位穩定處理，則藉由驅動控制部3進行第1可動部31之振幅控制(處理S2)。驅動控制部3基於第1可動部31之擺動之振幅，控制流動於驅動用線圈51、52之電流。例如，驅動控制部3基於顯示上述之反電動勢之信號之峰值，控制流動於驅動用線圈51、52之電流。亦可使用顯示產生於電動勢監視用線圈之電動勢之信號等，取代顯示驅動用線圈51、52中之反電動勢之信號。

其次，參照圖6對第1可動部31之相位穩定處理之一例進行詳細說明。圖6係顯示第1可動部31之相位穩定處理之流程圖。

首先，加熱控制部4取得顯示驅動用線圈51、52中之反電動勢的信號(處理S11)。繼而，加熱控制部4基於取得之信號，算出顯示反電動勢之信號之相位(處理S12)。

其次，加熱控制部4判斷顯示反電動勢之信號之取得及取得之信號之相位之算出是否重複特定次數(處理S13)。例如，加熱控制部4判斷顯示反電動勢之信號之取得及取得之信號之相位之算出是否重複50次(處理S13)。加熱控制部4於判斷為未重複50次之情形(處理S13之否(NO))，使處理返回處理S11。

加熱控制部4於判斷為重複50次之情形(處理S13之是(YES))，使處理前進至處理S14。加熱控制部4使藉由處理S11及處理S12之重複而取得之反電動勢之信號之相位平均(處理S14)。於本實施形態中，加熱控制部4使50個信號之相位平均。

其次，加熱控制部4判斷第1可動部31之擺動角之相位是否穩定(處理S15)。第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致時，第1可動部31之擺動角之相位穩定。於本實施形態中，加熱控制部4基於由處理S14求得之擺動角之相位之平均與自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位之差分，判斷第1可動部31之擺動角之相位是否穩定。若上述差分為90°，則第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致。加熱控制部4於上述差分位於距90°考慮誤差後之範圍內時，判斷第1可動部31之擺動角之相位穩定。例如，若上述差分為90±0.15°，則加熱控制部4判斷第1可動部31之擺動角之相位穩定。加熱控制部4亦可於第1可動部31之擺動角之最大值成為特定以上之值之情形，判斷第1可動部31之擺動角之相位穩定。

加熱控制部4於判斷相位不穩定之情形(處理S15之否(NO))，使處理前進至處理S16。加熱控制部4於判斷相位穩定之情形(處理S15之是(YES))，結束相位穩定處理。

加熱控制部4基於由處理S14求得之相位之平均，控制加熱部15(處理S16)。加熱控制部4基於上述相位之平均與自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位之差分，控制加熱部15。加熱控制部4以根據反電動勢之相位與驅動信號之相位之差分，使第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致之方式，藉由加熱部15加熱第1可動部31。

加熱控制部4以根據上述差分之值，決定加熱部15賦予第1可動部31之熱量，且對第1連結部41、42賦予所決定之熱量之方式控制加熱部15。例如，加熱控制部4根據上述差分之值，決定自雷射照射部74照射之雷射之強度。例如，加熱控制部4根據上述差分之值，決定施加於電熱線部73之電壓。加熱控制部4亦可於判斷第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率不一致之情形，以預先決定之熱量賦予第1連結部41、42之方式控制加熱部15。

加熱控制部4於進行處理S16後，待機特定時間(處理S17)。加熱控制部4於待機特定時間後，使處理返回處理S11。於本實施形態中，加熱控制部4於進行處理S16後，待機1秒。

接著，對上述之實施形態及變化例中之光學裝置之作用效果進行說明。

圖7顯示各鏡單元2中之第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率之關係。縱軸顯示振幅，橫軸顯示頻率。以粗實線顯示之波形101、102、103、104顯示藉由加熱部15加熱第1連結部41、42前之狀態下之第1可動部31之擺動之振幅與頻率之關係。波形101、102、103、104分別對應於不同之第1可動部31。因此，一點鏈線顯示與波形101對應之第1可動部31之共振頻率。虛線顯示驅動信號之頻率。

如此，於光學裝置1中，第1可動部31之共振頻率較驅動控制部3之驅動信號之頻率更高。於該狀態下，若藉由加熱部15加熱第1連結部41、42，則第1連結部41、42之彈性率變化。若第1連結部41、42之彈性率變化，則第1可動部31之共振頻率亦變化。

若第1連結部41、42之彈性率降低，則第1可動部31之共振頻率亦降低。因此，例如，若與波形101對應之第1可動部31所連接之第1連結部41、42被加熱，則波形101沿箭頭α方向位移。因此，藉由加熱第1連結部41、42，可使第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致。如此，上述光學裝置1可以與驅動信號之頻率匹配之方式使第1可動部31之共振頻率容易地變化。其結果，光學裝置1可以期望之頻率且期望之擺動角穩定地使第1可動部31擺動。

於此種構成中，謀求於第1連結部41，42中進行精密且迅速之溫度調整。然而，例如於基於由溫度感測器檢測出之溫度進行反饋控制之情形，於最有助於共振頻率之變化之第1連結部41、42之溫度檢測產生時滯。於在支持部22設置有溫度感測器之情形，因檢測自第1連結部41、42傳遞至支持部之熱，故於反饋控制中產生與溫度之傳遞速度相應之時滯。加熱控制部4基於顯示第1可動部31之擺動狀態之信號之相位，反饋控制加熱部15對第1連結部41、42之加熱。因此，光學裝置1至少基於由溫度感測器檢測出之溫度，實現較反饋控制時更精密且迅速之溫度調整。加熱控制部4例如可以0.003～0.005℃刻度進行第1連結部41、42之溫度調節。其結果，亦提高第1可動部31中之共振頻率之變更之精度。

加熱控制部4控制複數個鏡單元2之各者中之第1連結部41、42之加熱。因此，光學裝置1可以與驅動信號之頻率匹配之方式使各第1可動部31之共振頻率變化。其結果，光學裝置1可以期望之頻率且期望之擺動角使各第1可動部31擺動。

於藉由加熱部15加熱第1連結部41、42前之狀態下，第1可動部31如圖7所示，具有較驅動控制部3輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。因此，光學裝置1可僅藉由加熱控制部4對加熱之控制，而使第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率匹配。若藉由冷卻元件冷卻第1連結部41、42，則可沿與加熱時相反之方向使第1可動部31之共振頻率位移。然而，冷卻元件為相對較大型。光學裝置1與使用冷卻元件之情形相比，謀求小型化。

如圖7所示，該光學裝置1具備之所有鏡單元2之各者中之第1可動部31於加熱各第1可動部31所連接之第1連結部41、42前之狀態下，具有較驅動控制部3輸出之驅動信號之頻率更高之共振頻率。加熱控制部4藉由加熱部15加熱所有鏡單元2中之第1連結部41、42。因此，與使用冷卻元件之情形相比，謀求光學裝置之小型化。

加熱控制部4藉由加熱部15以第一功率加熱第1連結部41、42後，以較第一功率更小之第二功率加熱第1連結部41、42。因此，加熱控制部4可於大致調整第1可動部31之共振頻率後，精細調整第1可動部31之共振頻率。其結果，光學裝置1可更精密且迅速地調整第1可動部31之共振頻率。

加熱部15包含第1加熱部71及第2加熱部72。第1加熱部71將第一熱量賦予第1連結部41、42。第2加熱部72將較第一熱量更小之第二熱量賦予第1連結部41、42。因此，加熱控制部4可藉由第1加熱部71大致調整第1可動部31之共振頻率，且藉由第2加熱部72精細調整第1可動部31之共振頻率。因此，光學裝置1可更精密且迅速地調整第1可動部31之共振頻率。

加熱控制部4以自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位與顯示第1可動部31之擺動狀態之信號之相位之相位差變小之方式，控制加熱部15對第1連結部41、42之加熱。比較驅動信號之相位與顯示第1可動部31之擺動狀態之信號之相位之情形，與比較驅動信號之頻率與顯示第1可動部31之擺動狀態之信號之頻率之情形相比，可更精密地控制第1連結部41，42之加熱。因此，光學裝置1可以期望之頻率更準確地獲得期望之擺動角。

本實施形態中之加熱部15包含加熱第1連結部41、42之雷射照射部74。因此，加熱部15可更迅速地加熱第1連結部41、42。其結果，光學裝置1可使第1可動部31之共振頻率更精密且迅速地變化。因磁場產生部21中之永久磁鐵之溫度較難變化，故抑制第1可動部31之擺動角因磁場之變化而變化。

於圖3及圖4所示之變化例中，第1加熱部71設置於支持部22。第2加熱部72設置於第1連結部41、42、第1可動部31、及第2可動部32之至少1者。因此，光學裝置1可以小型之構成，更精密且迅速地調整第1可動部31之共振頻率。

於圖3及圖4所示之變化例中，加熱部15包含加熱第1連結部41、42之電熱線73b、73c、73d、73e、73f。電熱線73b、73c、73d、73e、73f以將鏡面31a之重心作為對稱點而成為點對稱之方式，設置於第1連結部41、42、第1可動部31、及第2可動部32之至少1者。因此，加熱部15可以小型之構成精密地加熱第1連結部41、42。因產生於電熱線73b、73c、73d、73e、73f之勞侖茲力相互抵消，故抑制第1可動部31之擺動之混亂。因磁場產生部21中之永久磁鐵之溫度較難變化，故抑制第1可動部31之擺動角因磁場之變化而變化。

於圖4所示之變化例中，電熱線73e以包圍鏡面31a之方式設置於第1可動部31。因此，第1連結部41、42被迅速且精密地加熱。因產生於電熱線73e之勞侖茲力相互抵消，故抑制第1可動部31之擺動之混亂。

以上，已對本發明之實施形態及變化例進行說明，但本發明未必限定於上述之實施形態及變化例，於不脫離其主旨之範圍內可進行各種變更。

於本實施形態及變化例中，已對加熱部15具有第1加熱部71及第2加熱部72之例進行說明。然而，加熱部15亦可為1個。例如，亦可僅使用1條電熱線作為加熱部15。此時，加熱控制部4例如亦可藉由調整施加於該電熱線之電壓，而使電熱線之功率變化。例如，加熱控制部4亦可於將第一電壓施加於電熱線後，將較第一電壓更小之第二電壓施加於電熱線。例如，亦可僅藉由電熱線73a加熱第1連結部41、42。亦可僅藉由電熱線73b、73c、73d、73e、73f之任一者加熱第1連結部41、42。

光學裝置1亦可僅使用1個雷射照射部74作為加熱部15。此時，加熱控制部4例如亦可於自雷射照射部74將第一強度之雷射照射至第1可動部31後，將較第一強度更小之第二強度之雷射照射至第1可動部31。於該等情形時，加熱控制部4亦可於大致調整第1可動部31之共振頻率後，精細調整第1可動部31之共振頻率。

於圖3及圖4所示之變化例之構成中，亦可進而設置有雷射照射部74。複數個雷射照射部74亦可設置於1個鏡單元2。

電熱線73a亦可作為溫度感測器用電阻而使用。於使用電熱線73a作為溫度感測器用電阻時，加熱控制部4不使電流流動於電熱線73a。

電熱線73a與溫度感測器用電阻之兩者亦可設置於支持部22。此時，亦可於俯視時於電熱線73a之外側或內側設置有溫度感測器用電阻。電熱線73a與溫度感測器用電阻亦可設置於互不相同之層。

電熱線部73亦可不設置於支持部22、可動部23、及彈性連結部24。例如，電熱線部73亦可以於支持部22、可動部23、及彈性連結部24之間設置間隙之狀態配置。

於本實施形態及變化例中，已對顯示第1可動部31之擺動狀態之信號為顯示第1可動部31之擺動角之相位之信號之情形進行說明。顯示第1可動部31之擺動狀態之信號亦可為顯示第1可動部31之速度之相位的信號。此時，加熱控制部4基於顯示速度之相位之信號與自驅動控制部3輸出之驅動信號之相位之差分，判斷第1可動部31之擺動角之相位是否穩定。若該差分為0°，則第1可動部31之共振頻率與驅動信號之頻率一致。加熱控制部4於上述差分位於距0°考慮誤差後之範圍內時，判斷第1可動部31之擺動角之相位穩定。例如，若上述差分為0±0.15°，則加熱控制部4判斷第1可動部31之擺動角之相位穩定。

於本實施形態及變化例中，說明可動部23以X軸及Y軸之2軸驅動之例。可動部23亦可以1軸驅動。此時，例如，第1可動部31與支持部22藉由第1連結部41、42連結。

於本實施形態及變化例中，已對可動部23以電磁式驅動之例進行說明。可動部23之驅動方式亦可為壓電驅動方式或靜電驅動方式。

1:光學裝置 2:鏡單元 2A:鏡單元 2B:鏡單元 3:驅動控制部 4:加熱控制部 11:鏡驅動部 15:加熱部 21:磁場產生部 22:支持部 23:可動部 24:彈性連結部 31:第1可動部 31a:鏡面 32:第2可動部 36:本體部 37:環狀部 38:保持部 41:第1連結部 42:第1連結部 43:第2連結部 44:第2連結部 45:直線狀部 46:折回部 50:動力產生部 51:驅動用線圈 52:驅動用線圈 55:絕緣層 61:配線 62:配線 63:配線 64:配線 66:電極焊墊 67:電極焊墊 68:電極焊墊 69:電極焊墊 71:第1加熱部 72:第2加熱部 73:電熱線部 73a:電熱線 73b:電熱線 73c:電熱線 73d:電熱線 73e:電熱線 73f:電熱線 74:雷射照射部 76:配線 77:配線 78:電極焊墊 79:電極焊墊 81:配線 82:配線 83:配線 84:配線 85a:直線狀部 85b:折回部 85c:直線狀部 85d:折回部 86:電極焊墊 87:電極焊墊 88:電極焊墊 89:電極焊墊 91:配線 92:配線 96:電極焊墊 97:電極焊墊 101:波形 102:波形 103:波形 104:波形 D:方向 P:重心 R:區域 S1:處理 S2:處理 S11:處理 S12:處理 S13:處理 S14:處理 S15:處理 S16:處理 S17:處理 α:箭頭

圖1係本實施形態之光學裝置之方塊圖。 圖2係鏡單元之概略俯視圖。 圖3係本實施形態之變化例之鏡單元之概略俯視圖。 圖4係本實施形態之變化例之鏡單元之概略俯視圖。 圖5係顯示光學裝置中之控制方法之流程圖。 圖6係顯示可動部之相位穩定處理之流程圖。 圖7係顯示各鏡單元中之可動部之共振頻率與驅動信號之頻率之關係之圖。

2:鏡單元

11:鏡驅動部

21:磁場產生部

22:支持部

23:可動部

24:彈性連結部

31:第1可動部

31a:鏡面

32:第2可動部

36:本體部

37:環狀部

38:保持部

41:第1連結部

42:第1連結部

43:第2連結部

44:第2連結部

45:直線狀部

46:折回部

50:動力產生部

51:驅動用線圈

52:驅動用線圈

55:絕緣層

61:配線

62:配線

63:配線

64:配線

66:電極焊墊

67:電極焊墊

68:電極焊墊

69:電極焊墊

71:第1加熱部

72:第2加熱部

73:電熱線部

73a:電熱線

74:雷射照射部

76:配線

77:配線

78:電極焊墊

79:電極焊墊

D:方向

P:重心

R:區域

Claims (12)

1. 一種光學裝置，其具備： 鏡驅動部，其具有：可動部，其設置有鏡面；彈性連結部，其連接於上述可動部；支持部，其經由上述彈性連結部支持上述可動部；及動力產生部，其使動力產生於上述可動部； 驅動控制部，其輸出使上述動力產生部動作之驅動信號； 加熱部，其加熱上述彈性連結部；及 加熱控制部，其控制上述加熱部；且 上述可動部於上述彈性連結部被加熱前之狀態下，具有較上述驅動控制部輸出之上述驅動信號之頻率更高之共振頻率，且藉由與上述動力產生部之動力相應之上述彈性連結部之彈性變形而擺動； 上述加熱控制部取得顯示上述可動部之擺動狀態之信號，並基於所取得之信號之相位，反饋控制上述加熱部對上述彈性連結部之加熱。
2. 如請求項1之光學裝置，其中 上述可動部包含：第1可動部，其設置有上述鏡面；及第2可動部，其包圍上述第1可動部；且 上述彈性連結部包含：第1連結部，其彈性連結上述第1可動部與上述第2可動部；及第2連結部，其彈性連結上述第2可動部與上述支持部。
3. 如請求項1或2之光學裝置，其中上述加熱部加熱第1連結部。
4. 如請求項1至3中任一項之光學裝置，其中上述加熱控制部藉由上述加熱部以第一功率加熱上述彈性連結部後，以較第一功率更小之第二功率加熱上述彈性連結部。
5. 如請求項1至4中任一項之光學裝置，其中上述加熱部包含：第1加熱部，其將第一熱量賦予上述彈性連結部；及第2加熱部，其將較上述第一熱量更小之第二熱量賦予上述彈性連結部。
6. 如請求項5之光學裝置，其中 上述第1加熱部設置於上述支持部；且 上述第2加熱部設置於上述彈性連結部及上述可動部之至少1者。
7. 如請求項1至5中任一項之光學裝置，其中上述加熱部包含加熱上述彈性連結部之雷射照射部。
8. 如請求項1至7中任一項之光學裝置，其中 上述加熱部包含加熱上述彈性連結部之電熱線；且 上述電熱線以將上述鏡面之重心作為對稱點而成為點對稱之方式，設置於上述彈性連結部及上述可動部之至少1者。
9. 如請求項8之光學裝置，其中上述電熱線以包圍上述鏡面之方式設置於上述可動部。
10. 如請求項1至9中任一項之光學裝置，其中上述加熱控制部以自上述驅動控制部輸出之上述驅動信號之相位與顯示上述可動部之擺動狀態之信號之相位之相位差變小之方式，控制上述加熱部對上述彈性連結部之加熱。
11. 如請求項1至10中任一項之光學裝置，其具備： 複數個鏡單元，其等各自包含上述鏡驅動部與上述加熱部；且 上述加熱控制部控制上述複數個鏡單元之各者中之上述彈性連結部之加熱。
12. 如請求項11之光學裝置，其中 上述光學裝置具備之所有上述鏡單元之各者中之上述可動部，於加熱各上述可動部所連接之上述彈性連結部前之狀態下，具有較上述驅動控制部輸出之上述驅動信號之頻率更高之共振頻率；且 上述加熱控制部藉由上述加熱部加熱上述所有鏡單元中之上述彈性連結部。

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