TW202102787A - 具有磁致動器的隔振系統以及磁致動器 - Google Patents

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Abstract

具有磁致動器的主動式隔振系統。該磁致動器包括帶有至少一線圈的線圈架，該線圈架非接觸式地卡入磁體架，使得該磁致動器按線性馬達的樣式構建。該磁致動器配設有磁性屏蔽件，該屏蔽件具有開口，該線圈架經由該開口伸入該磁體架。

Description

具有磁致動器的隔振系統以及磁致動器
發明領域
本發明係有關於一種具有磁致動器的隔振系統。本發明特別是有關於一種靜止式隔振系統，該隔振系統上佈置有磁敏設備，如用於處理半導體器件的設備或者高精度量測器材，如電子顯微鏡。
本發明亦有關於一種用於隔振系統的磁致動器。
發明背景
主動式隔振系統已在實踐中為人所知。特別是在半導體工業中係有使用隔振系統，其中在至少三個隔振器上支承有用於處理半導體器件的設備，如用於照射或監測晶圓的設備。
佈置有此等設備的隔振系統亦被應用於高精度量測器材，如電子顯微鏡或透射電子顯微鏡(“TEM”)。透射電子顯微鏡能夠藉由電子束對物體進行直接成像。此類顯微鏡工作時，在系統所承受的振動以及干擾磁場方面皆存在極高要求。
主動式隔振系統包括在隔振支承之負載上及/或地面上之用來偵測振動的感測器。利用偵測到的振動，藉由控制器來控制致動器，其卡合在隔振支承之負載上並產生反作用力，從而減輕隔振支承之負載的振動。
致動器尤指磁致動器。磁致動器按線性馬達的原理構建，其優點在於能夠在較小的結構空間上產生寬頻範圍之相對較大的作用力。
但習知磁致動器之缺點在於永磁體及/或線圈所產生之磁場。
此等磁場可能對磁敏設備(如掃描電子顯微鏡或透射電子顯微鏡)造成干擾，因而通常無法安裝在設備附近。
其後果在於，磁敏設備，如用於處理半導體器件的設備或者高精度量測器材(如電子顯微鏡特別是透射電子顯微鏡)無法與用磁致動器工作的靜止式隔振系統一起工作，因為磁致動器的磁場會對量測結果造成影響或失真。
如此便產生另一缺點：此類高精度量測器材經常無法緊挨生產設備或可能產生地面振動的其他裝置進行工作，因為前述之具有磁致動器的靜止式隔振系統會因磁場所引起的干擾而無法使用。
發明人致力於從事此項任務。
有鑒於此，本發明之目的在於至少抑制先前技術中的上述缺點。
本發明之目的主要在於提供一種具有磁致動器的靜止式隔振系統，其亦可與用於處理半導體器件的設備或者高精度量測器材(如電子顯微鏡特別是透射電子顯微鏡)一起應用。
採用本發明後，此類設備及器材便能緊挨生產設備或可能產生地面振動的其他裝置進行工作，而此等設備或器材的工作不會例如因隔振系統的磁場而受到影響。 發明概要
本發明用以達成上述目的之解決方案為如獨立項所述之一種隔振系統以及一種用於隔振系統的磁致動器。
本發明之較佳實施方式及改良方案參閱附屬項、說明書以及附圖。
本發明係有關於一種隔振系統，其包括隔振支承之負載，其中該隔振系統具有至少一透過控制器而被控制的磁致動器。
本發明特別是有關於一種靜止式隔振系統，在該隔振系統中，一板件隔振支承在至少三個隔振器上。該隔振系統特別是用來容置用於處理半導體器件的設備(如蝕刻設備或晶圓監測設備)以及/或者用來容置高精度量測器材，如電子顯微鏡特別是透射電子顯微鏡。
因而在另一態樣中，本發明亦有包括一種高精度量測器材或一種高精度成像之光學裝置，特別是顯微鏡、電子顯微鏡或透射電子顯微鏡，其包括具有至少三個隔振器的隔振系統，其中較佳至少一隔振器，尤佳該等隔振器中的每個，包括一磁致動器。
因此，本發明之隔振系統適於應用在電子能量損失譜(“EELS”=electron energy loss spectroscopy)之設備中或者結合電子能量損失譜進行應用。
藉由上述方法例如就能對無機或有機結構實施化學計量的或電子的描述。就通常藉由透射電子顯微鏡來實施之電子能量損失譜而言，首先利用單能或單色電子與樣品的相互作用來測定能量損失譜。
“單能”此一概念係指以下情形：相對所測譜寬而言，初級電子之能量分佈的寬度應儘可能小，因為分佈寬度與該方法所能達到之光譜解析度相關。初級電子透過其磁場與樣品之帶電粒子(原子核中的中子及質子以及電子)發生相互作用。原子核的質量遠大於單個電子，因而初級電子對原子核的能量傳輸可忽略不計。而在與固態電子進行相互作用的過程中，可能出現顯著的能量損失，可藉由能量傳輸之特性概率分佈來測定能量損失。
重要之處在於，在待量測之樣品的區域內，儘可能不存在或者僅存在極小的干擾磁場，特別是不由隔振器產生任何干擾磁場，以便在不被此類磁場疊加的情況下實施高精度量測。
在下文中，該用來在量測期間容置樣品的區域亦被稱作量測區域。而伸入量測區域的額外磁場可使得初級電子偏轉從而造成量測結果失真。
在一種較佳實施方式中，進行成像之光學裝置的量測區域儘可能遠離隔振器，特別是遠離至少一磁致動器，因為單憑距離便可能引起磁致動器之磁場的衰減。
在例如具有三個彼此間隔一定距離之隔振器，特別是磁致動器的配置中，量測區域尤佳位於該等三個隔振器所形成之三角形的外心區域內。
在例如具有四個彼此間隔一定距離之隔振器，特別是磁致動器的配置中，量測區域尤佳位於該等四個隔振器所形成之矩形或正方形的中點區域內。
一般而言有利的是，該量測區域與該隔振系統的所有隔振器，至少與包括磁致動器的隔振器，具有相同的距離。量測區域係指通常具有樣品容置部之形狀例如為立方體或長方體的空間區域，其中待測樣品至少部分地佈置在此區域內以便實施量測。量測區域之距離係指與此空間區域(如立方體)之重心或者與樣品容置部之中點的距離。
該磁致動器卡合在隔振支承之負載上並產生反作用力以便在至少一個空間方向上減輕振動。
該磁致動器特別是構建為線性馬達並且包括帶有至少一線圈的線圈架，該線圈架佈置在呈U形之磁體架中。本發明之磁致動器的此種基本佈置方案特別有利於對結構組件進行最佳化，從而滿足極高的屏蔽要求，以便不帶干擾磁場地實施量測。
根據本發明，該磁致動器包括磁性屏蔽件。
因而根據本發明，為該磁致動器配設用作磁性屏蔽件的外殼。
該磁性屏蔽件特別是由軟金屬構成。
透過該磁性屏蔽件來使得在磁致動器內存在或產生之磁場偏轉或集中，遂使其大幅衰減。
該磁性屏蔽件特別是由磁導率µr 高於1000，較佳高於10000，尤佳高於50000的材料構成。
該磁性屏蔽件特別是由Mu金屬構成。此處涉及的是磁導率µr 通常為80000至500000的軟磁性鐵鎳合金。
該磁性屏蔽件較佳構建為殼體，其壁部中具有開口，該磁致動器的臂部，特別是線圈架，自該開口伸出。
該開口較佳如此地定尺寸，使得該線圈架非接觸式地伸入該磁體架，圍繞該線圈架延伸之該間隙保持得儘可能小，特別是具有小於2 mm，較佳小於1 mm的最大寬度。
該磁性屏蔽件特別是可被提供為具有若干插在一起之壁部的矩形殼體。因而毋需在製造過程中對此材料進行降低磁導率的變形操作。
在另一實施方式中，該磁致動器包括具有磁性屏蔽件的捲繞。該磁性屏蔽件特別是可呈多層狀。如此便能在存在捲繞的情況下將降低磁導率的變形降至最低。
實踐表明，單憑由Mu金屬構成的極薄捲繞，特別是總厚度小於1 mm，較佳小於0.5 mm之多層捲繞，便能大幅減輕磁致動器所引起的磁場。
該磁性屏蔽件特別是可具有0.1至10 mm，較佳0.2至1 mm的厚度。
根據本發明的一種實施方式，該磁致動器整合在隔振器中。該隔振器包括彈簧且用於對待隔絕負載進行隔振支承。
該彈簧例如可構建為氣動彈簧。本發明之磁致動器可佈置在該隔振器中，例如佈置在氣動彈簧的工作腔中或氣動彈簧的殼體中。
根據本發明，亦可將磁致動器安裝在用於處理半導體器件的設備附近。本發明之磁致動器特別是亦可與用於處理半導體器件的設備(如掃描電子顯微鏡)間隔小於50 cm。
本發明之磁致動器藉其屏蔽能力而特別有利於在高精度成像之光學裝置，特別是顯微鏡、電子顯微鏡或透射電子顯微鏡上工作或者與其一起工作。
如此便能提供一種佈置有隔振器(特別是磁致動器)之高精度成像的光學裝置，在該裝置中，在至少一隔振器(特別是磁致動器)之小於70 cm、小於50 cm、較佳小於45 cm且尤佳小於40 cm的工作過程中，該磁場在工作過程中小於15 nT，較佳小於10 nT，尤佳小於9 nT。
採用此種高屏蔽能力後，便能提供具有三個以上、較佳四個乃至四個以上隔振器(特別是磁致動器)的配置。具有四個而非三個此類隔振器(特別是磁致動器)的配置能夠大幅提高成像之光學裝置的穩定性並且例如能夠更好地防止該裝置意外翻倒。
此外採用該屏蔽件後，成像之光學裝置還能在會出現振動的工作環境中或時間段內工作。量測區域內的前述較小磁場例如可針對隔振系統在以下測試環境中實現：20 µm的峰至峰地面振幅以及0.5 Hz。
此外，磁致動器之高屏蔽能力還能實現相對較小的結構形式，因為如此便能將隔振系統及成像之光學裝置保持得極為緊密，因為磁致動器相對而言緊鄰量測區域。
在另一較佳實施方式中，該隔振系統包括至少兩個用於在至少兩個不同的空間方向上產生補償信號的磁致動器。
本發明亦有關於一種用於隔振系統，特別是用於前述隔振系統的磁致動器。
該磁致動器包括帶有相對佈置之磁體的磁體架。
該磁體架特別是呈U形且具有兩個相對佈置之側邊，其中該等磁體成對地相對佈置並且該等磁體的磁極同樣相對佈置，即相反的磁極相對佈置。
在該等磁體之間非接觸式地佈置有帶有至少一線圈的線圈架。
該磁致動器還包括磁性屏蔽件，該屏蔽件包括開口，該線圈架自該開口伸出。
該磁致動器特別是可採用此前結合該隔振系統所描述的構建方案，即具有此前結合磁致動器所描述的特徵。
該屏蔽件特別是可由磁導率µr 高於1000，較佳高於10000，尤佳高於50000的材料構成。
該磁性屏蔽件例如由Mu金屬構成。
根據一種實施方式，該磁性屏蔽件包圍該磁體架。
亦即，根據本發明的此種實施方式，該磁性屏蔽件構建為額外殼體，其圍繞先前技術所揭露之磁致動器延伸。
本發明之此種實施方式的優點在於，該磁性屏蔽件的材料僅需針對極佳之磁性屏蔽而最佳化。
根據本發明的另一實施方式，該磁體架本身形成該磁性屏蔽件的一部分。
亦即，根據本發明的此種實施方式，該磁體架由某種材料製成且如此地定尺寸，使得該線圈架的側邊及該二側邊的連接板本身即形成屏蔽件。
較佳地，將某種鐵磁軟鐵而非Mu金屬應用於本發明的此種實施方式，該軟鐵成本較低且易於加工。
用作屏蔽件之壁部的厚度必須大於Mu金屬，以便達到相同的屏蔽效果。
根據本發明的此種實施方式，為該U形磁體架的敞開側配設用作屏蔽件的壁部。
較佳地，該同時用作磁體架及屏蔽件的殼體僅包括單獨一個供該線圈架非接觸式地伸入的開口。
根據本發明的一種較佳實施方式，該磁致動器為了產生儘可能大的作用力而包括至少兩個相對佈置之磁體對，該線圈的繞組佈置在該等磁體對之間。
因而根據一種非常有利的佈置方案，設有至少兩個相對佈置之磁體對，在其間相應佈置有線圈繞組，其中較佳同樣設有兩個此類的線圈繞組。
換言之，在任一相對佈置之磁體對之間分別佈置有一個線圈的繞組，與其存在預設距離地設有另一相對佈置之磁體對，在其間同樣設有一個線圈的繞組。此種方案在最小化工作過程中所需之磁場的同時實現良好的力傳遞。
藉此便能設置多個線圈繞組或繞組配置，其可彼此間隔一定距離並較佳地對應於相對佈置之磁體對而佈置。亦可設有兩個以上各具一繞組配置之此類相對佈置的磁體對，如具有繞組配置的三個磁體對，其中在該等配置之間分別間隔一定距離，以便將工作過程中所需之磁場減至最小。相鄰磁體對之間及/或相鄰繞組配置之間的距離可為1至60 mm，較佳2至20 mm。
在一種特別有利的實施方式中，進一步將線圈繞組與磁體間的距離減至最小，以便亦將所需之驅動能量減至最小。有利地，該距離小於2 mm，較佳小於1 mm。
在一種同樣有利的實施方式中，該線圈架由鐵磁軟鐵構成或者包括鐵磁軟鐵以改進磁導率，從而有助於線圈架之區域內的磁化。
在本發明的另一改進方案中，該線圈架亦可配設有另一屏蔽件，其特別是可安裝在該線圈架之位於該屏蔽件以外的區域內。位於繞組配置之間之線圈架的區域或表面亦可配設有屏蔽件。
較佳實施例之詳細說明
圖1為磁致動器1之實施例的示意性截面圖，該磁致動器係應用於隔振系統中。
磁致動器1包括磁體架2。
磁體架2呈U形且包括兩個相對佈置之側邊5a、5b，其在一側上藉由板件6相連。
在此實施例中，在側邊5a、5b上各安裝有兩個相對佈置之磁體對3a、3b以及4a、4b。
磁體3a、3b、4a、4b固定、特別是黏貼在側邊5a、5b上。
磁體對3a、3b以及4a、4b的磁極分別相對佈置。相應地，磁場分別自一側邊5a延伸至另一側邊5b。
在此實施例中，磁體3a、3b、4a、4b如此地佈置，使得該二磁體對3a、3b以及4a、4b的磁場反向定向。
在此實施例中呈板狀之線圈架7非接觸式地伸入磁體架2，該線圈架包括線圈8，其繞組在磁體對3a、3b以及4a、4b之間延伸。
透過對線圈8施加電流並由此而產生磁場，便能藉由磁致動器1來在兩個方向上(具體視箭頭所示電流方向而定)產生作用力。
線圈架7例如可卡合在待隔絕負載上。亦可採用相反佈置方案，即磁體架2佈置在隔振支承之負載上，線圈架7卡合在隔振系統之基底上。
根據本發明，磁致動器1包括磁性屏蔽件9。
磁性屏蔽件9在此實施例中構建為磁體架2的外殼。
磁性屏蔽件包括側壁10以及後壁11。該截面圖中看不到前壁。
磁性屏蔽件9同樣沿由磁性屏蔽件9構成之殼體的底側19及頂側20延伸。
磁性屏蔽件9僅具一開口12，線圈架7經由該開口非接觸式地伸入由磁性屏蔽件9構成之殼體直至磁體架2。
該開口較佳如此地構建，使其僅形成一圍繞線圈架7延伸的較窄間隙。
磁性屏蔽件9在此實施例中較佳由Mu金屬構成。
該屏蔽件尤指由Mu金屬構成之多層捲繞。
圖2為本發明之替代實施方式的示意圖。
與圖1所示實施方式不同，磁體架2同時亦用作磁性屏蔽件。
磁體架2之側邊具有大於圖2所示實施例中的厚度且形成磁性屏蔽件9的側壁10。
用於連接磁體架2之側邊5a、5b的板件6用作底部。
與先前技術所揭露之磁致動器不同，此處係設有後壁11以及前壁(未予繪示)。僅在由磁性屏蔽件9構成之殼體的頂側20上，設有類似於圖1的開口12，經由該開口，具有線圈8a及8b的線圈架7非接觸式地伸入由磁性屏蔽件9構成之殼體，使得線圈8在磁體對3a、3b及4b、4b之間進行移動。
圖3為應用有圖1或圖2所示之磁致動器的隔振系統的示意圖。
隔振系統13構建為主動式隔振系統且包括板件14，該板件隔振支承在若干隔振器15上，如空氣彈簧上。
板件15係用來容置用於處理半導體器件的設備(未予繪示)。
在此實施例中，磁致動器1為了進行主動式隔振而整合在隔振器15的殼體中。
該隔振系統如此地構建，使得在板件14的中心，該等磁致動器在工作中所產生之磁場總是低於10 nT。
該隔振系統包括至少一個在隔振支承之負載上16及/或地面上17的感測器。
由控制器18來處理感測器16、17的信號，該控制器對磁致動器1進行控制以便主動地減輕振動。如此便能抵消自外部作用於系統的振動之延伸(Prolongation)。
此外亦可抵消對隔振支承之負載(如可移行之平台)所引起的振動。
基於磁致動器1的磁性屏蔽件，該等磁致動器亦可佈置在對磁場敏感的設備附近。
圖4為隔振器15之實施例的透視圖。隔振器15包括下部21，該下部在安裝狀態下與地面連接。
隔振器15亦包括上部22，其與隔振之負載連接，特定言之，該上部與圖3中繪示之板件(元件符號14)連接。
在上部22與下部21之間設有氣動彈簧，其在此圖中被磁致動器1a、1b遮蓋。
磁致動器1a、1b在此實施例中大體邊緣側地安裝在隔振器的兩個角上。
磁致動器1a用於進行水平隔振。
圖中可看出側邊5a。
線圈架7卡合在側邊5a與此圖中未予繪示之相對佈置的側邊之間。
在由側邊構成之磁體架的邊緣側上分別佈置有一側部23，其遮蓋由側邊5a構成之線圈架。
圖5為隔振器的詳圖，其線圈架被部分隱藏，亦即，兩個磁致動器1a、1b中的前側邊(圖4中的5a)被隱藏。用於進行豎向隔振的磁致動器1b對應於圖1所示結構，在該結構中，具有相反磁極的兩個磁體對在磁體架中豎向疊置。
此圖中示出了磁體3a及4a。
如此便能透過對此圖中被遮蓋的線圈進行控制來沿豎向產生補償力。
用於進行水平隔振的磁致動器1a中的磁體對係旋轉90°。
該等磁體對(圖中可看出磁體3a及4a)並非疊置，而是並排佈置。
線圈8如此地構建，使其繞組同樣穿過該等磁體對之間。
透過控制線圈便能沿水平方向產生補償力。
在此實施例中，例如黏合在線圈架7上的線圈8在俯視圖中具有大體呈矩形之橫截面，四角呈倒圓狀。
根據本發明，此處示出之磁致動器1a、1b的殼體配設有由Mu金屬構成之多層蓋部(未予繪示)，其用來大幅減輕磁致動器1a、1b所引起的磁場。
利用本發明便能非常簡單地擴大磁致動器在隔振系統中的應用範圍。
圖6示出用於測定與磁致動器存在預設距離之磁場的試驗配置。所示配置具有四個構建為磁致動器的隔振器61。此等配置可非常穩定地用來容置相應之器材及裝置，特別是容置高精度成像之光學裝置，如顯微鏡、電子顯微鏡或透射電子顯微鏡。
在該試驗配置中，該等四個隔振器61以均勻之矩形佈置方案佈置在底板62上，該底板出於穩定性考慮而非常適用。在該矩形配置的中點，在底板62的同一面上安裝有用於量測磁通密度的磁場感測器或磁力計60，其量測在隔振器61工作過程中存在的磁場。
因此，磁力計60相對隔振器61而言位於量測區域內，即通常用來量測樣品的地點上。在此配置方案中，隔振器61的間距為50至80 cm。工作過程中的實踐表明，磁致動器61在工作過程中所產生之磁場會低於10 nT，尤佳低於9 nT。即使在隔振器61之間距更小，即在磁力計60與隔振器61的距離更小的情況下，磁致動器在工作過程中所產生之磁場的強度僅會稍有增大，因此，即便一或多個隔振器61與量測區域間的距離為小於約70 cm，如30至70 cm或35至65 cm，亦足以例如使得電子顯微鏡特別是透射電子顯微鏡進行工作。
前述磁場數值可針對隔振系統在以下測試環境中實現：20 µm的峰至峰地面振幅以及0.5 Hz。
圖7a及7b示出具有磁體72及載架71之磁致動器70，該載架包括單層(einfach)鍍鎳的鋼材或者由此種鋼材構成。圖7b示出屏蔽件73，其包圍載架71的側壁及端側。磁性屏蔽件73由Mu金屬構成。
圖8示出具有改進型磁性屏蔽件83之磁致動器80，該屏蔽件整合在載架中或與其整合在一起。在此種實施方式中，該載架由鍍鎳軟鐵構成，其磁導率高於普通鋼材。
此外在此種實施方式中，線圈繞組與磁體的距離減至最小，約為1 mm。屏蔽件的整合式實施方式之另一優點在於，能夠增大壁厚而不同時提高結構空間方面的需求。換言之，磁性屏蔽因最佳化壁部結構而有所改進，因為壁部能夠更厚以及磁性屏蔽能夠在整個厚度範圍內起作用。
圖9a、9b、10a及10b結合具有較大距離(圖9a及9b)及較小距離(圖10a及10b)之磁體對與線圈繞組的佈置方案的磁場之比較，來示出差別。
在磁致動器100之圖10a及10b所示實施方式中，磁體101與繞組配置102(即線圈繞組)或者與線圈架103的距離減至最小且有利者僅為小於2 mm，較佳小於1 mm，而在圖9a及9b所示磁致動器90之實施方式中，該距離大於此值。
如圖所示，在圖10a及10b所示實施方式中，磁場明顯更佳。側向屏蔽件104亦有助於此點，該屏蔽件僅具一個供線圈架103穿過的較小開口112。
有鑒於此，本發明能夠提供一種高精度量測器材或一種高精度成像之光學裝置，特別是顯微鏡、電子顯微鏡或透射電子顯微鏡，其包括具有至少三個隔振器，特別是四個隔振器的隔振系統，其中較佳至少一隔振器，尤佳該等隔振器中的每個，包括一磁致動器。
採用本發明之隔振系統後，例如即使在生產設備附近乃至在生產環境中或者例如在會出現振動的白天時間，亦能為使用者提供較好的解析度及/或提供廣泛的應用範圍。
如此便能大幅提高此類高精度量測器材(如電子顯微鏡或透射電子顯微鏡)的應用靈活度。
1,61,70,80,90,100:磁致動器 2:磁體架 3a,3b,4a,4b,72,91,101:磁體 5a,5b:側邊 6,14:板件 7,93,103:線圈架 8:線圈 9:磁性屏蔽件 10:磁性屏蔽件的側壁 11:磁性屏蔽件的後壁 12:磁性屏蔽件的開口 13:隔振系統 15:隔振器 16:感測器(負載) 17:感測器(地面) 18:控制器 19:底側 20:頂側 21:基底部 22:上部 23:側部 60:磁場感測器 62:底板 71:載架 73,83:屏蔽件 92,102:繞組配置 104:側向屏蔽件 112:開口
下面結合圖1至圖3示意性示出之實施例以及圖4及5以透視圖的方式示出之一實施例對本發明的主題進行詳細說明。
圖1為本發明之第一實施例的示意性截面圖，其中磁致動器作為磁性屏蔽件而具有由高磁導率材料構成之外殼。
圖2為本發明之替代實施方式的示意圖，其中磁致動器的磁體架同時亦為磁性屏蔽件的部分。
圖3為裝有本發明之磁致動器的隔振系統的示意圖。
圖4為配設有兩個磁致動器之隔振器的透視圖。
圖5為示出磁致動器之內部的詳圖。
圖6為用於測定與磁致動器存在預設距離之磁場的試驗配置的俯視圖。
圖7a及7b為具有磁體及載架之磁致動器的示意性斜視圖。
圖8為具有改進型磁性屏蔽件之磁致動器的示意性斜視圖，該屏蔽件整合在載架中或與其整合在一起。
圖9a、9b、10a及10b結合具有較大距離及較小距離之磁體對與線圈繞組的佈置方案的磁場之比較，來示意性示出磁場的差別。
1:磁致動器
2:磁體架
3a,3b,4a,4b:磁體
5a,5b:側邊
6:板件
7:線圈架
8:線圈
9:磁性屏蔽件
10:磁性屏蔽件的側壁
11:磁性屏蔽件的後壁
12:磁性屏蔽件的開口
19:底側
20:頂側

Claims (15)

  1. 一種隔振系統，其包括隔振支承之負載，其中該隔振系統包括至少一透過控制器而被控制的磁致動器，該磁致動器卡合在該隔振支承之負載上並產生反作用力以減輕振動， 其特徵在於，該磁致動器包括磁性屏蔽件以及 帶有相對佈置之磁體的磁體架， 佈置在該等磁體之間之帶有至少一線圈的線圈架， 其中該磁性屏蔽件包括開口，該線圈架自該開口伸出，且其中 該磁致動器還包括至少兩個相對佈置之磁體對，該線圈的繞組在該等磁體對之間延伸。
  2. 如請求項1之隔振系統，其中，該磁性屏蔽件由磁導率µr 高於1000，較佳高於10000，尤佳高於50000的材料構成。
  3. 如請求項1或2之隔振系統，其中，該磁性屏蔽件由Mu金屬構成。
  4. 如請求項1至3中任一項之隔振系統，其中，該磁性屏蔽件構建為殼體，其壁部中具有開口，該磁致動器的臂部，特別是線圈架，自該開口伸出。
  5. 如請求項1至4中任一項之隔振系統，其中，該磁致動器整合在隔振器中。
  6. 如請求項1至5中任一項之隔振系統，其中，該隔振系統包括至少兩個用於在至少兩個不同的空間方向上產生補償信號的磁致動器。
  7. 如請求項1至6中任一項之隔振系統，包括支承在隔振器上之用於容置需要隔振支承之設備的板件，其中該等隔振器包括至少一磁致動器，其中在該板件的中心，該等磁致動器所產生之磁場低於10 nT。
  8. 一種用於如請求項1至7中任一項之隔振系統的磁致動器，包括帶有相對佈置之磁體的磁體架、佈置在該等磁體之間之帶有至少一線圈的線圈架，其中該磁致動器包括磁性屏蔽件，且其中該磁性屏蔽件包括開口，該線圈架自該開口伸出，且其中該磁致動器還包括至少兩個相對佈置之磁體對，該線圈的繞組在該等磁體對之間延伸。
  9. 如請求項8之磁致動器，其中，該磁性屏蔽件由磁導率µr 高於1000，較佳高於10000，尤佳高於50000的材料構成，特別是由Mu金屬構成。
  10. 如請求項8或9中任一項之磁致動器，其中，該磁性屏蔽件包圍該磁體架。
  11. 如請求項8或9之磁致動器，其中，該磁體架形成該磁性屏蔽件的一部分。
  12. 如請求項8至11中任一項之磁致動器，其中，該磁性屏蔽件之壁部具有0.1至10 mm，較佳0.2至1 mm的厚度。
  13. 如請求項8至12中任一項之磁致動器，其中，該等相對佈置之磁體的磁極係相對佈置。
  14. 如請求項8至13中任一項之磁致動器，其中，該磁體架呈U形。
  15. 一種高精度成像之光學裝置，特別是顯微鏡、電子顯微鏡或透射電子顯微鏡，其包括具有至少一隔振器的隔振系統，較佳如請求項1至7中任一項之隔振系統，其中較佳至少一隔振器，尤佳該隔振系統之該等隔振器中的每個，包括一磁致動器。
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