TW202042606A - 電路板結構及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種電路板結構，包含：第一軟性電路板、第二軟性電路板及硬板結構。第一軟性電路板包含第一介電層及第一導電線路。第二軟性電路板包含第二介電層及第二導電線路。硬板結構連接第一軟性電路板及第二軟性電路板，並包含第三介電層及第三導電線路。第三介電層的介電損失值低於第一介電層及第二介電層的介電損失值。第三導電線路電性連接第一導電線路及第二導電線路。

Description

電路板結構及其製造方法
本發明係關於電路板結構及其製造方法。
為了因應印刷電路板產業的發展趨勢，高頻與高速電路板材料、電路板的設計發展已經成為未來高頻、高速技術追求精進的首要目標。然而目前的高頻與高速電路板仍然具有訊號傳輸損失及散熱等問題。
因此，有必要針對高頻與高速電路板的訊號傳輸損失、散熱等問題提出解決方法，以因應未來高頻、高速技術的需求。
本發明的一態樣係提供一種電路板結構。電路板結構包含：第一軟性電路板、第二軟性電路板及硬板結構。第一軟性電路板包含第一介電層及位在第一介電層上的第一導電線路。第二軟性電路板包含第二介電層及位在第二介電層上的第二導電線路。第一介電層與第二介電層分別具有第一介電損失值及第二介電損失值。硬板結構連接第一軟性電路板及第二軟性電路板，並具有一厚度方向。第一軟性 電路板及第二軟性電路板在厚度方向上不重疊。硬板結構包含第三介電層及第三導電線路。第三介電層具有第三介電損失值，且第三介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。第三導電線路設置於第三介電層上，且電性連接第一及第二導電線路。
在本發明的一實施方式中，硬板結構覆蓋第一軟性電路板的一部份及第二軟性電路板的一部份。
在本發明的一實施方式中，第三介電層包含鐵氟龍、液晶聚合物、改質聚醯亞胺、碳氫材料及改質聚苯醚樹脂等其中之一或二者以上之複合材料。
在本發明的一實施方式中，第一軟性電路板更包含部分覆蓋第一導電線路的第一覆蓋層，且硬板結構覆蓋第一覆蓋層的一部份。
在本發明的一實施方式中，第二軟性電路板更包含部分覆蓋第二導電線路的第二覆蓋層，且硬板結構覆蓋第二覆蓋層的一部份。
在本發明的一實施方式中，硬板結構更包含位於第三介電層中的第一導通孔及第二導通孔，其中第三導電線路分別經由第一導通孔及第二導通孔電性連接第一導電線路及第二導電線路。
在本發明的一實施方式中，硬板結構更包含第四介電層、第四導電線路及多個第三導通孔。第四介電層位於第三導電線路上，並具有第四介電損失值。第四介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。第四導電線路係設置於第四介電層上。多個第三導通孔係位於第四介電層 中，並電性連接第三導電線路及第四導電線路。
在本發明的一實施方式中，電路板結構更包含屏蔽層，覆蓋硬板結構的一外側表面。
在本發明的一實施方式中，第三介電損失值為0.001至0.002。
本發明亦提供一種製造電路板結構的方法。上述方法包含以下步驟。首先，提供第一軟性電路板及第二軟性電路板。第一軟性電路板包含第一介電層及位在第一介電層上的第一導電線路。第二軟性電路板包含第二介電層及位在第二介電層上的第二導電線路。第一介電層及第二介電層分別具有第一介電損失值及第二介電損失值。
接下來，設置硬板結構連接第一軟性電路板及第二軟性電路板。硬板結構包含第三介電層、第一金屬層、第一孔及第二孔。第三介電層具有第三介電損失值，且第三介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。第一金屬層係位於第三介電層上。第一孔及第二孔係位於第三介電層內並貫穿第一金屬層，以分別暴露出第一導電線路及第二導電線路。
接下來，在第一孔及第二孔內分別形成第一導電栓及第二導電栓，第一導電栓及第二導電栓分別連接第一導電線路及第二導電線路。接著，圖案化第一金屬層，以形成第一圖案化金屬層。
在本發明的一實施方式中，上述方法更包含：形成第四介電層及第二金屬層於第一圖案化金屬層上，其中第四介電層位於第一圖案化金屬層與第二金屬層之間。
在本發明的一實施方式中，上述方法更包含：形成多個第三孔貫穿第四介電層及第二金屬層，以暴露出第一圖案化金屬層；形成多個第三導電栓填充第三孔；以及圖案化第二金屬層，以形成第二圖案化金屬層。
在本發明的一實施方式中，上述方法更包含：形成第一圖案化金屬層之後，設置屏蔽層於第一圖案化金屬層上方。
10‧‧‧電路板結構
100‧‧‧第一軟性電路板
110‧‧‧第一介電層
120‧‧‧第一上導電線路
120a‧‧‧上表面
122‧‧‧第一下導電線路
130‧‧‧第一上覆蓋層
130a‧‧‧第一上黏著層
130b‧‧‧第一上絕緣層
132‧‧‧第一下覆蓋層
132a‧‧‧第一下黏著層
132b‧‧‧第一下絕緣層
200‧‧‧第二軟性電路板
210‧‧‧第二介電層
220‧‧‧第二上導電線路
220a‧‧‧上表面
222‧‧‧第二下導電線路
230‧‧‧第二上覆蓋層
230a‧‧‧第二上黏著層
230b‧‧‧第二上絕緣層
232‧‧‧第二下覆蓋層
232a‧‧‧第二下黏著層
232b‧‧‧第二下絕緣層
300‧‧‧硬板結構
330‧‧‧第三介電層
340a‧‧‧第一上金屬層
342b‧‧‧第一下金屬層
340‧‧‧第一圖案化上金屬層/第三上導電線路
342‧‧‧第一圖案化下金屬層/第三下導電線路
351a‧‧‧第一孔
352a‧‧‧第二孔
353a‧‧‧第三孔
354a‧‧‧第四孔
355a‧‧‧第五孔
356a‧‧‧第六孔
357a‧‧‧第七孔
358a‧‧‧第八孔
351‧‧‧第一導通孔/第一導電栓
352‧‧‧第二導通孔/第二導電栓
353‧‧‧第三導通孔/第三導電栓
354‧‧‧第四導通孔/第四導電栓
355‧‧‧第五導通孔/第五導電栓
356‧‧‧第六導通孔/第六導電栓
357‧‧‧第七導通孔/第七導電栓
358‧‧‧第八導通孔/第八導電栓
360‧‧‧第四上介電層
362‧‧‧第四下介電層
370a‧‧‧第二上金屬層
372a‧‧‧第二下金屬層
370‧‧‧第二圖案化上金屬層/第四上導電線路
372‧‧‧第二圖案化下金屬層/第四下導電線路
380‧‧‧第五上介電層
382‧‧‧第五下介電層
390a‧‧‧第三上金屬層
390‧‧‧第三圖案化上金屬層/第五上導電線路
392a‧‧‧第三下金屬層
392‧‧‧第三圖案化下金屬層/第五下導電線路
410‧‧‧第六介電層
420‧‧‧第一屏蔽層
412‧‧‧第七介電層
422‧‧‧第二屏蔽層
S10、S20、S30、S40、S50、S60、S70、S80、S90‧‧‧步驟
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖繪示本發明之一實施方式之電路板結構的剖面示意圖。
第2圖繪示根據本發明之多個實施方式之電路板結構的製造方法的流程圖。
第3圖至第16圖繪示本發明之一實施方式之電路板結構的製造方法中各製程階段的剖面示意圖。
為了使本發明內容的敘述更加詳盡與完備，下文針對了本發明的實施態樣與具體實施例提出了說明性的描述；但這並非實施或運用本發明具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例，在有益的情形下可相互組合或取代，也可在一實施例中附加其他的實施例，而無須進一步的記載或說明。
在以下描述中，將詳細敘述許多特定細節以使讀者能夠充分理解以下的實施例。然而，可在無此等特定細節之情況下實踐本發明之實施例。在其他情況下，為簡化圖式，熟知的結構與裝置僅示意性地繪示於圖中。
另外，本發明在各實施例中可重複元件符號及/或字母。此重複是為了簡化及清楚之目的，且本身不指示所論述各實施方式及/或配置之間的關係。此外，在後續的本發明中，一個特徵形成於另一特徵上、連接至及/或耦合至另一特徵，可包括這些特徵直接接觸的實施方式，亦可包括有另一特徵可形成並中介於這些特徵之間，使得這些特徵可不直接接觸的實施方式。
此外，本文中使用空間性相對用詞，例如「上」、「下」、「上方」、「下方」及其類似用語，係利於敘述圖式中一個元件或特徵與另一個元件或特徵的關係。這些空間性相對用詞本意上涵蓋除了圖中所繪示的位向之外，也涵蓋使用或操作中之裝置的不同位向。裝置也可被轉換成其他位向(旋轉90度或其他位向)，因此本文中使用的空間性相對描述以應做類似的解釋。
本發明的一態樣係提供一種電路板結構10。參照第1圖，電路板結構10包含第一軟性電路板100、第二軟性電路板200及硬板結構300。第一軟性電路板100包含第一介電層110、第一上導電線路120及第一下導電線路122。第一上導電線路120及第一下導電線路122分別設置於第一介電層110的相對兩表面上。值得注意的是，在另一 些實施方式中，第一軟性電路板100可不包含第一下導電線路122。
第二軟性電路板200包含第二介電層210、第二上導電線路220及第二下導電線路222。第二上導電線路220及第二下導電線路222分別設置於第二介電層210的相對兩表面上。值得注意的是，在另一些實施方式中，第二軟性電路板200可不包含第二下導電線路222。
第一介電層110與第二介電層210分別具有第一介電損失值及第二介電損失值，第一介電損失值及第二介電損失值可以相同或不同。在一些實施方式中，第一介電損失值及第二介電損失值的範圍分別為0.003至0.01及0.003至0.01。在一些實施例中，第一介電層110與第二介電層210包含聚亞醯胺樹脂(Polyimide resin)、酚醛樹脂(Phenolic resin)、環氧樹脂(Epoxy resin)、雙順丁烯二酸醯亞胺/三氮阱(Bismaleimide triazine,BT)等有機聚合材料之其中之一或二者以上之複合材料。第一上導電線路120、第一下導電線路122、第二上導電線路220及第二下導電線路222可包含任何導電材料，例如銅、鋁、鎳、銀、金或其合金。
在本發明的一實施方式中，第一軟性電路板100更包含第一上覆蓋層130。第一上覆蓋層130設置於第一上導電線路120的一上表面120a上，並部分覆蓋第一上導電線路120。在一實施方式中，第一上覆蓋層130包含第一上黏著層130a及第一上絕緣層130b，其中第一上黏著層 130a位於第一上導電線路120與第一上絕緣層130b之間。在本發明的另一實施方式中，第一軟性電路板100更包含第一下覆蓋層132。第一下覆蓋層132設置於第一下導電線路122的一上表面122a上，並部分覆蓋第一下導電線路122。第一下覆蓋層132包含第一下黏著層132a及第一下絕緣層132b，其中第一上黏著層132a位於第一下導電線路122與第一下絕緣層132b之間。
在本發明的一實施方式中，第二軟性電路板200更包含第二上覆蓋層230。第二上覆蓋層230設置於第二上導電線路220的一上表面220a上，並部分覆蓋第二上導電線路220。在一實施方式中，第二上覆蓋層230包含第二上黏著層230a及第二上絕緣層230b，其中第二上黏著層230a位於第二上導電線路220與第二上絕緣層230b之間。在本發明的另一實施方式中，第二軟性電路板200更包含第二下覆蓋層232。第二下覆蓋層232設置於第二下導電線路222的一上表面222a上，並部分覆蓋第二下導電線路222。第二下覆蓋層232包含第二下黏著層232a及第二下絕緣層232b，其中第二下黏著層232a位於第二下導電線路222與第二下絕緣層232b之間。
硬板結構300連接第一軟性電路板100及第二軟性電路板200，並具有一厚度方向D1。值得注意的是，第一軟性電路板100及第二軟性電路板200在硬板結構300的厚度方向D1上不重疊。硬板結構300包含第三介電層330及第三上導電線路340。在本發明的另一些實施方式中，硬板 結構300更包含第三下導電線路342，第三上導電線路340與第三下導電線路342設置在第三介電層330的相對兩側。
第三介電層330具有第三介電損失值。在一些實施方式中，第三介電損失值的範圍為0.001至0.002。值得注意的是，第三介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。在一些實施例中，第三介電層330包含鐵氟龍、液晶聚合物、改質聚醯亞胺、碳氫材料及改質聚苯醚樹脂之其中之一或二者以上之複合材料。
第三上導電線路340設置於第三介電層330上，且電性連接第一上導電線路120及第二上導電線路220。在一些實施例中，第三上導電線路340可包含任何導電材料，例如銅、鋁、鎳、銀、金或其合金。
在本發明的一實施方式中，硬板結構300覆蓋第一軟性電路板100的一部份及第二軟性電路板200的一部份。具體地，硬板結構300的第三介電層330部分覆蓋第一上導電線路120的上表面120a及第二上導電線路220的上表面220a。在另一實施方式中，硬板結構300的第三介電層330亦部分地覆蓋第一上覆蓋層130及第二上覆蓋層230。
在本發明的一實施方式中，硬板結構300更包含第一導通孔351及第一導通孔352。第一導通孔351及第一導通孔352位於第三介電層330中。第三上導電線路340分別經由第一導通孔351及第一導通孔352電性連接第一上導電線路120及第二上導電線路220。在一些實施例中，第一導通孔351及第一導通孔352包含任何導電材料，例如 銅、鋁、鎳、銀、金或其合金。
在本發明的另一實施方式中，硬板結構300更包含第四上介電層360、第四上導電線路370及多個第三導通孔353。第四上介電層360位於第三上導電線路340上，並具有第四上介電損失值。第四上介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。在一實施方式中，第四上介電損失值相等於第三介電損失值，但不限於此。第四上導電線路370設置於第四上介電層360上。多個第三導通孔353位於第四上介電層360中，並電性連接第三上導電線路340及第四上導電線路370。在本發明的再一實施方式中，硬板結構300更包含第五上介電層380、第五上導電線路390及多個第四導通孔354。第四導通孔354位於第五上介電層380中，並電性連接第四上導電線路370與第五上導電線路390。在一些實施例中，第三導通孔353、第四導通孔354與第一導通孔351具有類似的材料，在此不再贅述。
在本發明的又一實施方式中，硬板結構300更包含第五導通孔355及第六導通孔356。第五導通孔355及第六導通孔356位於第三介電層330中。第三下導電線路342分別經由第五導通孔355及第六導通孔356電性連接第一下導電線路122及第二下導電線路222。在一些實施例中，第五導通孔355及第六導通孔356與第一導通孔351具有類似的材料，在此不再贅述。
在本發明的另一實施方式中，硬板結構300更包含第四下介電層362、第四下導電線路372及多個第七導 通孔357。第四下介電層362位於第三下導電線路342上。在一實施方式中，第四上介電層360與第四下介電層362具有相同的介電損失值，但不限於此。第四下導電線路372設置於第四下介電層362上。多個第七導通孔357位於第四下介電層362中，並電性連接第三下導電線路342及第四下導電線路372。在本發明的再一實施方式中，硬板結構300更包含第五下介電層382、第五下導電線路392及多個第八導通孔358。第八導通孔358位於第五下介電層382中，並電性連接第四下導電線路372與第五下導電線路392。在一些實施例中，第七導通孔357、第八導通孔358與第一導通孔351具有類似的材料，在此不再贅述。在一些實施例中，第五上導電線路390、第五下導電線路392與第三上導電線路340具有類似的材料，在此不再贅述。
在本發明的一實施方式中，電路板結構10更包含第六介電層410及第七介電層412，分別位於第五上導電線路390及第五下導電線路392上。第六介電層410及第七介電層412與第三介電層330具有類似的材料，在此不再贅述。
在本發明的一實施方式中，電路板結構10更包含第一屏蔽層420及/或第二屏蔽層422，分別覆蓋硬板結構300的外側兩表面。具體地，第一屏蔽層420設置於第六介電層410上，第二屏蔽層422設置於第七介電層412上。第一屏蔽層420及/或第二屏蔽層422的材料種類可包含銀箔(Tatsuta)、銀漿(Toyobo、ASAHI)、導電膠帶、導電 泡綿、導電鋁箔膠帶、導電銅箔膠帶、導電布膠帶等。
本發明之另一態樣是提供一種製造電路板結構的方法。藉由此製造方法所得到的電路板結構具有較低的訊號傳輸損失，適用於高頻及高速電路板的運作需求。第2圖繪示根據本發明一實施方式之電路板結構10的製造方法20的流程圖。第2圖至第16圖繪示製造方法20的各製程階段的剖面示意圖。如第2圖所示，方法20包含步驟S10至步驟S90。在步驟S10中，提供第一軟性電路板及第二軟性電路板。如第3圖所示，提供第一軟性電路板100及第二軟性電路板200。第一軟性電路板100包含第一介電層110、第一上導電線路120及第一下導電線路122，而第二軟性電路板200包含第二介電層210、第二上導電線路220及第二下導電線路222。值得注意的是，在另一些實施方式中，第一軟性電路板100可不包含第一下導電線路122，第二軟性電路板200可不包含第二下導電線路222。第一介電層110、第一上導電線路120、第一下導電線路122、第二介電層210、第二上導電線路220及第二下導電線路222的材料已於前文敘述，因此不再贅述。
在本發明的一實施方式中，第一軟性電路板100更包含第一上覆蓋層130。第一上覆蓋層130設置於第一上導電線路120的一上表面120a上，並部分覆蓋第一上導電線路120。第一上覆蓋層130包含第一上黏著層130a及第一上絕緣層130b，其中第一上黏著層130a位於第一上導電鎳路120與第一上絕緣層130b之間。在本發明的另一實施方 式中，第二軟性電路板200更包含第二上覆蓋層230。第二上覆蓋層230設置於第二上導電線路220的一上表面220a上，並部分覆蓋第二上導電線路220。第二上覆蓋層230包含第二上黏著層230a及第二上絕緣層230b，其中第二上黏著層230a位於第二上導電線路220與第二上絕緣層230b之間。
接下來，參照步驟S20，設置一硬板結構連接第一軟性電路板及第二軟性電路板。詳細而言，第4圖及第5圖繪示本發明一實施方式之實現步驟S20的細部流程。如第4圖所示，硬板結構300包含第三介電層330、第一上金屬層340a及第一下金屬層342a。第一上金屬層340a及第一下金屬層342a設置於第三介電層330的相對兩表面上。在一實施方式中，硬板結構300的第三介電層330覆蓋第一軟性電路板100的一部份及第二軟性電路板200的一部份。在另一實施方式中，硬板結構300的第三介電層330亦部分覆蓋第一上覆蓋層130及第二上覆蓋層230。
設置硬板結構300的方式包括但不限於先將第三介電層330形成於第一軟性電路板100及第二軟性電路板200之間，接著再將第一上金屬層340a及第一下金屬層342a分別形成於第三介電層330的相對兩表面上。形成第三介電層330的方式包括但不限於壓合，例如層壓(Lamination)或其他合適的製程。形成第一上金屬層340a及第一下金屬層342a的方式包括但不限於壓合、電鍍、化學氣相沉積、物理氣相沉積或其他合適的製程。
第三介電層330的材料已於前文敘述，因此不再贅述。值得注意的是，第三介電層330的第三介電損失值低於第一介電損失值及第二介電損失值。在一實施方式中，第一上金屬層340a及第一下金屬層342a可包含任何導電材料，例如銅、鋁、鎳、銀、金或其合金。
接下來，在硬板結構300中形成第一孔351a及第二孔352a，如第5圖所示。第一孔351a及第二孔352a位於第三介電層330內並貫穿第一上金屬層340a。第一孔351a及第二孔352a分別暴露出第一上導電線路120及第二上導電線路220。形成第一孔351a及第二孔352a的方式包括但不限於通過對第一上金屬層340a進行曝光顯影，以在第一上金屬層340a上所欲形成第一孔351a及第二孔352a的位置形成開口，接著使用雷射燒蝕(laser ablation)在第三介電層330內形成對應的第一孔351a及第二孔352a。
在另一些實施方式中，步驟S20也包含在硬板結構300中形成第五孔355a及第六孔356a，如第5圖所示。第五孔355a及第六孔356a位於第三介電層330內並貫穿第一下金屬層342a。第五孔355a及第六孔356a分別暴露出第一下導電線路122及第二下導電線路222。第五孔355a及第六孔356a的形成方式類似於第一孔351a，在此不再贅述。
接下來，執行步驟S30。如第6圖所示，在第一孔351a及第二孔352a內分別形成第一導電栓351及第二導電栓352。換言之，第一導電栓351及第二導電栓352分別填入第一孔351a及第二孔352a中。第一導電栓351連接第 一上導電線路120，而第二導電栓352連接第二上導電線路220。在另一些實施方式中，步驟S30也包含在第五孔355a及第六孔356a內分別形成第五導電栓355及第六導電栓356，如第6圖所示。在一些實施例中，第一導電栓351、第二導電栓352、第五導電栓355及第六導電栓356包含任何導電材料，例如銅、鋁、鎳、銀、金或其合金。
接下來，執行步驟S40。如第7圖所示，對第一上金屬層340a進行圖案化，以形成第一圖案化上金屬層340。在一些實施方式中，形成第一圖案化上金屬層340的方式包括，但不限於，首先在第一上金屬層340a上形成光阻層(圖未示)，並經過曝光和顯影來形成圖案化光阻層，從而露出部分的第一上金屬層340a。接下來，使用此圖案化光阻層作為蝕刻遮罩來蝕刻第一上金屬層340a，從而形成第一圖案化上金屬層340，隨後再移除光阻層。
在另一些實施方式中，步驟S40也包含對第一下金屬層342a進行圖案化，以形成第一圖案化下金屬層342。第一圖案化下金屬層342的形成方式類似於第一圖案化上金屬層340的形成方式，在此不再贅述。如第7圖所示，第一圖案化上金屬層340及第一圖案化下金屬層342分別暴露出第三介電層330的一部份。
接著，執行步驟S50。如第8圖所示，形成第四上介電層360及第二上金屬層370a於第一圖案化上金屬層340上。第四上介電層360位於第一圖案化上金屬層340與第二上金屬層370a之間。在另一些實施方式中，步驟S50 也包含形成第四下介電層362及第二下金屬層372a於第一圖案化下金屬層342上，如第8圖所示。第四下介電層362位於第一圖案化下金屬層342與第二下金屬層372a之間。
第四上介電層360及第四下介電層362的形成方式及材料類似於第三介電層330，因此不再贅述。第二上金屬層370a及第二下金屬層372a的形成方式及材料類似於第一上金屬層340a，因此不再贅述。
接著，執行步驟S60。如第9圖所示，形成多個第三孔353a貫穿第四上介電層360及第二上金屬層370a，以暴露出第一圖案化上金屬層340。在另一些實施方式中，步驟S60也包含形成多個第七孔357a貫穿第二下金屬層372a及第四下介電層362，以暴露出第一圖案化下金屬層342。形成第三孔353a、第七孔357a的方式類似於形成第一孔351a的方式，因此不再贅述。
執行步驟S70。如第10圖所示，形成多個第三導電栓353填充第三孔353a。第三導電栓353電性連接第一圖案化上金屬層340及第二上金屬層370a。在另一些實施方式中，步驟S70也包含形成多個第七導電栓357填充第七孔357a，如第10圖所示。第七導電栓357電性連接第一圖案化下金屬層342及第二下金屬層372a。在一些實施方式中，第三導電栓353、第七導電栓357與第一導電栓351可具有相同的材料組成，因此不再贅述。
接著執行步驟S80。如第11圖所示，對第二上金屬層370a進行圖案化，以形成第二圖案化上金屬層370。 在另一些實施方式中，步驟S70也包含對第二下金屬層372a進行圖案化，以形成第二圖案化下金屬層372，如第11圖所示。形成第二圖案化上金屬層370及形成第二圖案化下金屬層372的方式類似於形成第一圖案化上金屬層340的方式，在此不再贅述。
應注意的是，本發明的方法包含重複執行步驟S50至S80，以形成多個介電層及圖案化金屬層。換言之，硬板結構300可以包含一或多個介電層及一或多個圖案化金屬層。舉例而言，參照第12圖，在一些實施方式中，本發明的方法包含在執行步驟S80後再次執行步驟S50，從而形成第五上介電層380及第三上金屬層390a於第二圖案化上金屬層370上，如第12圖所示。在另一些實施方式中，再次執行步驟S50也包含形成第五下介電層382及第三下金屬層392a於第二圖案化下金屬層372上方。第五上介電層380及第五下介電層382的形成方式及材料類似於第三介電層330，在此不再贅述。第三上金屬層390a及第三下金屬層392a的形成方式及材料類似於第一上金屬層340a，在此不再贅述。
接著再次執行步驟S60。如第13圖所示，形成多個第四孔354a貫穿第五上介電層380及第三上金屬層390a，以暴露出第二圖案化上金屬層370。在另一些實施方式中，再次執行步驟S60也包含形成多個第八孔358a貫穿第三下金屬層392a及第五下介電層382，以暴露出第二圖案化下金屬層372。第四孔354a及第八孔358a的形成方式類似 於第一孔351a的形成方式，在此不再贅述。
接下來再次執行步驟S70。如第14圖所示，形成多個第四導電栓354填充第四孔354a。在另一些實施方式中，再次執行步驟S70也包含形成多個第八導電栓358填充第八孔358a。第四導電栓354及第八導電栓358的形成方式及材料類似於第一導電栓351，在此不再贅述。
接著再次執行步驟S80。如第15圖所示，對第三上金屬層390a進行圖案化，以形成第三圖案化上金屬層390。在另一些實施方式中，再次執行步驟S80也包含對第三下金屬層392a進行圖案化，以形成第三圖案化下金屬層392。第三圖案化上金屬層390及第三圖案化下金屬層392的形成方式類似於第一圖案化上金屬層340的形成方式，在此不再贅述。
應注意的是，第15圖中所繪示的介電層數及圖案化金屬層數僅為示意性的，本領域中具有通常知識者可根據實際需要適當選擇所欲的介電層數及圖案化金屬層數。
在達到所欲的介電層數及圖案化金屬層數後，方法20更包含執行步驟S90。如第16圖所示，設置第一屏蔽層420於第三圖案化上金屬層390上方。在一實施方式中，第一屏蔽層420位於第六介電層410上，而第六介電層410覆蓋第三圖案化上金屬層390。在一實施方式中，步驟S90包含先在第三圖案化上金屬層390上設置第六介電層410，再形成第一屏蔽層420於第六介電層410上。在另一實施方式中，步驟S90也包含先在第三圖案化下金屬層392 上設置第七介電層412，再形成第二屏蔽層422於第七介電層412上。
形成第一屏蔽層420及第二屏蔽層422的方式包括但不限於分別塗佈或貼附一屏蔽材料於第六介電層410及第七介電層412上。屏蔽材料的材料已於前文敘述，因此不再贅述。第六介電層410及第七介電層412的形成方式及材料類似或相同於第三介電層330，在此不再贅述。
綜合以上，本發明提供了一種電路板結構及其製造方法。相較於傳統的電路板結構，本發明的電路板結構具有較低的訊號傳輸損失，適用於高頻及高速電路板的運作需求。
雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧電路板結構
100‧‧‧第一軟性電路板
110‧‧‧第一介電層
120‧‧‧第一上導電線路
120a‧‧‧上表面
122‧‧‧第一下導電線路
122a‧‧‧上表面
130‧‧‧第一上覆蓋層
130a‧‧‧第一上黏著層
130b‧‧‧第一上絕緣層
132‧‧‧第一下覆蓋層
132a‧‧‧第一下黏著層
132b‧‧‧第一下絕緣層
200‧‧‧第二軟性電路板
210‧‧‧第二介電層
220‧‧‧第二上導電線路
220a‧‧‧上表面
222‧‧‧第二下導電線路
222a‧‧‧上表面
230‧‧‧第二上覆蓋層
230a‧‧‧第二上黏著層
230b‧‧‧第二上絕緣層
232‧‧‧第二下覆蓋層
232a‧‧‧第二下黏著層
232b‧‧‧第二下絕緣層
300‧‧‧硬板結構
330‧‧‧第三介電層
340‧‧‧第三上導電線路
342‧‧‧第三下導電線路
351‧‧‧第一導通孔
352‧‧‧第二導通孔
353‧‧‧第三導通孔
354‧‧‧第四導通孔
355‧‧‧第五導通孔
356‧‧‧第六導通孔
357‧‧‧第七導通孔
358‧‧‧第八導通孔
360‧‧‧第四上介電層
362‧‧‧第四下介電層
370‧‧‧第四上導電線路
372‧‧‧第四下導電線路
380‧‧‧第五上介電層
382‧‧‧第五下介電層
390‧‧‧第五上導電線路
392‧‧‧第五下導電線路
410‧‧‧第六介電層
420‧‧‧第一屏蔽層
412‧‧‧第七介電層
422‧‧‧第二屏蔽層
D1‧‧‧厚度方向

Claims (13)

  1. 一種電路板結構，包含：一第一軟性電路板，包含一第一介電層及位在該第一介電層上的一第一導電線路，該第一介電層具有一第一介電損失值；一第二軟性電路板，包含一第二介電層及位在該第二介電層上的一第二導電線路，該第二介電層具有一第二介電損失值；以及一硬板結構，連接該第一軟性電路板及該第二軟性電路板，該硬板結構具有一厚度方向，且該第一及該第二軟性電路板在該厚度方向上不重疊，該硬板結構包含：一第三介電層，具有一第三介電損失值，該第三介電損失值低於該第一介電損失值及該第二介電損失值；以及一第三導電線路，設置於該第三介電層上，且電性連接該第一及該第二導電線路。
  2. 如請求項1所述的電路板結構，其中該硬板結構覆蓋該第一軟性電路板的一部份及該第二軟性電路板的一部份。
  3. 如請求項1所述的電路板結構，其中該第三介電層包含鐵氟龍、液晶聚合物、改質聚醯亞胺、碳氫材料及改質聚苯醚樹脂等其中之一或二者以上之複合材料。
  4. 如請求項1所述的電路板結構，其中該第一軟性電路板更包含一第一覆蓋層，部分覆蓋該第一導電線路，且該硬板結構覆蓋該第一覆蓋層的一部份。
  5. 如請求項1所述的電路板結構，其中該第二軟性電路板更包含一第二覆蓋層，部分覆蓋該第二導電線路，且該硬板結構覆蓋該第二覆蓋層的一部份。
  6. 如請求項1所述的電路板結構，其中該硬板結構更包含：一第一導通孔及一第二導通孔，位於該第三介電層中，其中該第三導電線路分別經由該第一及該第二導通孔電性連接該第一導電線路及該第二導電線路。
  7. 如請求項6所述的電路板結構，其中該硬板結構更包含：一第四介電層，位於該第三導電線路上，且具有一第四介電損失值，該第四介電損失值低於該第一介電損失值及該第二介電損失值；一第四導電線路，設置於該第四介電層上；以及多個第三導通孔，位於該第四介電層中，且電性連接該第三導電線路及該第四導電線路。
  8. 如請求項1所述的電路板結構，更包含一 屏蔽層，覆蓋該硬板結構的一外側表面。
  9. 如請求項1所述的電路板結構，其中該第三介電損失值為0.001至0.002。
  10. 一種製造電路板結構的方法，包含：提供一第一軟性電路板及一第二軟性電路板，該第一軟性電路板包含一第一介電層及位在該第一介電層上的一第一導電線路，該第二軟性電路板包含一第二介電層及位在該第二介電層上的一第二導電線路，其中該第一及該第二介電層分別具有一第一介電損失值及一第二介電損失值；設置一硬板結構連接該第一及該第二軟性電路板，其中該硬板結構包含：一第三介電層，具有一第三介電損失值，該第三介電損失值低於該第一介電損失值及該第二介電損失值；一第一金屬層，位於該第三介電層上；以及一第一孔及一第二孔，位於該第三介電層內並貫穿該第一金屬層，以分別暴露出該第一及該第二導電線路；在該第一孔及該第二孔內分別形成一第一導電栓及一第二導電栓，該第一及該第二導電栓分別連接該第一及該第二導電線路；以及圖案化該第一金屬層，以形成一第一圖案化金屬層。
  11. 如請求項10所述的方法，更包含：形成一第四介電層及一第二金屬層於該第一圖案化金屬層上，其中該第四介電層位於該第一圖案化金屬層與該第二金屬層之間。
  12. 如請求項11所述的方法，更包含：形成多個第三孔貫穿該第四介電層及該第二金屬層，以暴露出該第一圖案化金屬層；形成多個第三導電栓填充該些第三孔；以及圖案化該第二金屬層，以形成一第二圖案化金屬層。
  13. 如請求項10所述的方法，更包含：形成該第一圖案化金屬層之後，設置一屏蔽層於該第一圖案化金屬層上方。
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