TW201928533A - 雷射光束監視系統 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種經組態以監視一入射雷射光束之一屬性的雷射光束監視系統，該雷射光束監視系統包含一光束分離元件及複數個感測器，其中該光束分離元件經組態以自該入射雷射光束形成複數個子光束，一第一子光束經導向該複數個感測器中之一第一感測器且一第二子光束經導向該複數個感測器中之一第二感測器，其中該第一子光束及該第二子光束之相對強度係藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置予以判定。

Description

雷射光束監視系統
本發明係關於一種雷射光束監視系統。雷射光束監視系統可形成用於微影設備之輻射源的部分。
微影設備係經建構以將所要圖案施加至基板上之機器。微影設備可用於例如積體電路(integrated circuit，IC)之製造中。微影設備可例如將圖案自圖案化裝置(例如，光罩)投影至設置於基板上之一層輻射敏感材料(抗蝕劑)上。
由微影設備使用以將圖案投影至基板上的輻射之波長判定可形成於彼基板上的特徵之最小大小。相比於習知微影設備(其可例如使用具有193 nm之波長之電磁輻射)，使用為具有在4至20 nm範圍內之波長之電磁輻射的EUV輻射之微影設備可用以在基板上形成較小特徵。
可使用EUV發射電漿來產生由微影設備使用之EUV輻射。在被稱作雷射產生電漿(laser produced plasma，LPP)源之一個配置中，雷射將能量沈積至諸如錫之燃料中。此將燃料轉換成發射EUV輻射之電漿。燃料呈跨越輻射源內置開放空間行進的小滴形式。雷射光束之脈衝與燃料小滴同步。除了同步雷射脈衝與燃料小滴以外，亦調整雷射光束之空間位置以確保雷射光束脈衝入射於燃料小滴上。可參考燃料小滴之軌跡進行雷射光束位置之調整。為了進行對雷射光束之充分準確的調整，需要能夠監視雷射光束之位置。可能需要監視燃料小滴之軌跡。亦可能需要監視雷射光束或燃料小滴之其他屬性。
因此，可能需要提供以先前技術未教示或表明之方式提供雷射光束監視之雷射光束監視系統。
根據本發明之一第一態樣，提供一種經組態以監視一入射雷射光束之一屬性的雷射光束監視系統，該雷射光束監視系統包含一光束分離元件及複數個感測器，其中該光束分離元件經組態以自該入射雷射光束形成複數個子光束，一第一子光束經導向該複數個感測器中之一第一感測器且一第二子光束經導向該複數個感測器中之一第二感測器，其中該第一子光束及該第二子光束之相對強度係藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置予以判定。
本發明有利地允許以一直接方式判定該入射雷射光束之一「重心」。對該重心之此判定基本上不受該入射雷射光束之一橫截面形狀的變化影響。
該光束分離元件之形成該第一子光束的第一部分可與該光束分離元件之形成該第二子光束的第二部分互混。
該等第一部分可比該等第二部分佔據該光束分離元件之一第一區域的一更大比例。該等第二部分可比該等第一部分佔據該光束分離元件之第二區域的一更大比例。
該光束分離元件可經組態以亦形成經導向該複數個感測器中之一第三感測器的一第三子光束及經導向該複數個感測器中之一第四感測器的一第四子光束可藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置判定該第一子光束、該第二子光束、該第三子光束及該第四子光束的相對強度。
該光束分離元件之形成該第一子光束的第一部分、該光束分離元件之形成該第二子光束的第二部分、該光束分離元件之形成該第三子光束的第三部分與該光束分離元件之形成該第四子光束的第四部分可彼此互混。
該等第一部分可比該等第二部分、該等第三部分或該等第四部分中之任一者佔據該光束分離元件之一第一區域的一更大比例。該等第二部分可比該等第一部分、該等第三部分或該等第四部分中之任一者佔據該光束分離元件之一第二區域的一更大比例。該等第三部分可比該等第一部分、該等第二部分或該等第四部分中之任一者佔據該光束分離元件之一第三區域的一更大比例。該等第四部分可比該等第一部分、該等第二部分或該等第三部分中之任一者佔據該光束分離元件之一第四區域的一更大比例。
該等不同部分可具備跨越該光束分離元件之加權空間分佈。
該等第一部分之該空間分佈可朝向該光束分離元件之一第一區帶加權，使得當該入射雷射光束入射於該第一區帶上時，該入射雷射光束主要形成該第一子光束。該等第二部分之該空間分佈可朝向該光束分離元件之一第二區帶加權，使得當該入射雷射光束入射於該第二區帶上時，該入射雷射光束主要形成該第二子光束。可為該光束分離元件之第三及第四部分提供對應空間分佈。
該第一區帶及該第二區帶可各自包含該光束分離元件之四分之一。
該光束分離元件可包含由該等不同部分形成之單元。
形成該等單元之不同部分的面積可依據跨越該光束分離元件之空間單元位置而變化。
該光束分離元件可係一折射光學元件。替代地，該光束分離元件可係一反射光學元件。大體而言，可使用反射元件而非透射元件來形成本發明之實施例。
該光束分離元件可係一繞射光學元件。
聚焦光學件可設置於該光束分離元件與該等感測器之間。
該光束分離元件可係透射的。
根據本發明之一第二態樣提供一種包含一雷射系統、一雷射光束監視系統、一燃料發射器及一輻射收集器之輻射源。該雷射光束監視系統可包含一光束分離元件及複數個感測器，其中該光束分離元件經組態以自該入射雷射光束形成複數個子光束，一第一子光束經導向該複數個感測器中之一第一感測器且一第二子光束經導向該複數個感測器中之一第二感測器，其中該第一子光束及該第二子光束之相對強度係藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置予以判定。
該輻射源可進一步包含經配置以使用自該複數個感測器接收到之輸出來調整該雷射光束之一控制器。
該輻射源可進一步包含經組態以在自一燃料目標反射之後監視該雷射光束之一屬性的一第二雷射光束監視系統。
根據本發明之一第三態樣，提供一種微影系統，其包含經配置以將來自一圖案化裝置之一圖案投影至一基板上的一微影設備，且包含本發明之該第二態樣的該輻射源。
根據本發明之一第四態樣，提供一種監視一雷射光束之方法，該方法包含：將一入射雷射光束導引至一光束分離元件上、自該入射雷射光束形成複數個子光束、使用複數個感測器中之一第一感測器來偵測一第一子光束、及使用複數個感測器中之一第二感測器來偵測一第二子光束，其中藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置判定該第一子光束及該第二子光束的相對強度。
根據本發明之一第五態樣，提供一種光束分離元件，其經組態以用於本發明之該第一態樣的該雷射光束監視系統中。
本發明之不同態樣之不同特徵可組合在一起。
圖1展示根據本發明之一實施例的包括雷射光束監視系統20之微影系統。該微影系統包含輻射源SO及微影設備LA。輻射源SO經組態以產生極紫外線(extreme ultraviolet，EUV)輻射光束B。微影設備LA包含照明系統IL、經組態以支撐圖案化裝置MA (例如，光罩)之支撐結構MT、投影系統PS、及經組態以支撐基板W之基板台WT。照明系統IL經組態以在輻射光束B入射於圖案化裝置MA上之前調節輻射光束。投影系統經組態以將輻射光束B (現在由光罩MA而圖案化)投影至基板W上。基板W可包括先前形成之圖案。在此類狀況下，微影設備將經圖案化輻射光束B與先前形成於基板W上之圖案對準。
輻射源SO、照明系統IL及投影系統PS可皆經建構及配置使得其可與外部環境隔離。處於低於大氣壓力之壓力下之氣體(例如，氫氣)可提供於輻射源SO中。真空可提供於照明系統IL及/或投影系統PS中。在充分地低於大氣壓力之壓力下之少量氣體(例如，氫氣)可提供於照明系統IL及/或投影系統PS中。
圖1所展示之輻射源SO係屬於可被稱作雷射產生電漿(laser produced plasma，LPP)源之類型。可例如係脈衝CO2 雷射之雷射系統1經配置以經由雷射光束2將能量沈積至自燃料發射器3提供之諸如錫(Sn)的燃料目標中。儘管在以下描述中參考錫，但可使用任何適合之燃料，諸如金屬或合金。燃料發射器3可包含噴嘴，該噴嘴經組態以沿著朝向電漿形成區4之軌跡而導引例如呈小滴之形式的燃料。雷射光束2在電漿形成區4處入射於燃料目標上。雷射能量至燃料目標中之沈積在電漿形成區4處產生電漿7。在電漿之離子及電子之去激發及再結合期間自電漿7發射包括EUV輻射之輻射。
EUV輻射由近正入射輻射收集器5 (有時更通常被稱作正入射輻射收集器)收集且聚焦。收集器5可具有經配置以反射EUV輻射(例如，具有諸如13.5 nm之所要波長之EVU輻射)之多層結構。收集器5可具有橢球形組態，其具有兩個焦點。第一焦點可處於電漿形成區4處，且第二焦點可處於中間焦點6處，如下文所論述。
由收集器5反射之輻射形成輻射光束B。輻射光束B聚焦在點6處以形成充當用於照明系統IL之虛擬的輻射源之電漿形成區4之影像。輻射光束B聚焦之點6可被稱作中間焦點。輻射源SO經配置使得中間焦點6位於輻射源之圍封結構9中之開口8處或附近。
輻射光束B自輻射源SO傳送至照明系統IL中，該照明系統IL經組態以調節輻射光束。照明系統IL可包括琢面化場鏡面裝置10及琢面化光瞳鏡面裝置11。琢面化場鏡面裝置10及琢面化光瞳鏡面裝置11一起向輻射光束B提供在該輻射光束B之橫截面中之所要橫截面形狀及所要角強度分佈。輻射光束B自照明系統IL傳遞且入射於由支撐結構MT固持之圖案化裝置MA上。圖案化裝置MA反射且圖案化輻射光束B。除了琢面化場鏡面裝置10及琢面化光瞳鏡面裝置11以外或替代琢面化場鏡面裝置10及琢面化光瞳鏡面裝置11，照明系統IL亦可包括其他鏡面或裝置。
在自圖案化裝置MA反射之後，經圖案化輻射光束B進入投影系統PS。投影系統PS包含複數個鏡面，該複數個鏡面經組態以將輻射光束B投影至由基板台WT固持之基板W上。投影系統PS可將減小因數應用於輻射光束B，從而形成具有小於圖案化裝置MA上之對應特徵之特徵的影像。舉例而言，可應用為4之減小因數。儘管投影系統PS在圖1中具有兩個鏡面，但投影系統可包括任何數目個鏡面(例如，六個鏡面)。
輻射源SO進一步包含根據本發明之實施例的雷射光束監視系統20a、20b。光束分光器22經配置以分裂雷射光束2之部分24且將其導向第一雷射光束監視系統20a。第一雷射光束監視系統20a經組態以監視雷射光束2之分裂部分24的空間位置。此允許判定雷射光束2在電漿形成區4處入射之空間位置。來自第一雷射光束監視系統20a之輸出信號傳遞至控制器CT。控制器CT使用此信號以調整雷射光束2之位置。輻射源亦可包括成像系統(未展示)或在燃料目標跨越輻射源SO之圍封結構9行進時追蹤該等燃料目標之軌跡的其他系統。來自此追蹤系統之輸出信號亦可傳遞至控制器CT。來自第一雷射光束監視系統20a及來自燃料目標追蹤系統之輸出信號可由控制器CT使用以確保雷射光束2之脈衝入射於電漿形成區4中之燃料目標上。控制器CT可將調整應用於自雷射系統1輸出之雷射光束2的空間位置或指向方向，以適應例如燃料目標軌跡之偏離及/或雷射光束2自身之變化。雷射光束2之變化可例如係雷射光束之位置波動，此可起因於雷射系統1內之某一不穩定性。雷射光束2之變化可例如係雷射光束之最高強度區域的空間位置移動(例如，自高斯輪廓改變至某一其他輪廓)。
燃料目標具有某一反射率，且結果，自燃料目標反射雷射光束2之未由燃料目標吸收的一部分。此部分可被稱作經反射雷射光束。經反射雷射光束傳遞至光束分光器22，該光束分光器分裂經反射雷射光束之部分25且將其導向第二雷射光束監視系統20b。第二雷射光束監視系統20b經組態以監視經反射雷射光束之分裂部分25的空間位置。此允許判定自雷射光束2反射之燃料目標的位置。來自第二雷射光束監視系統20b之輸出信號傳遞至控制器CT。此信號亦可由控制器在調整雷射光束2之位置或指向時使用。在一實施例中，控制器CT可比較來自第一雷射光束監視系統20a之輸出與來自第二雷射光束監視系統20b之輸出，以獲得關於雷射光束2與燃料目標之間的相對對準之資訊。
在圖2中示意性地描繪雷射光束監視系統20a、20b之一實施例。第一雷射光束監視系統20a與第二雷射光束監視系統20b可彼此相同，且在本說明書之剩餘部分中被稱作雷射光束監視系統20。僅為了易於術語解釋，描繪且標記雷射光束2之分裂部分24。未展示經反射雷射光束之分裂部分25，儘管本發明之實施例可判定經反射雷射光束之分裂部分的位置。圖2A以橫截面描繪雷射光束監視系統20，且圖2B描繪自前放檢視之雷射光束監視系統的感測器。雷射光束監視系統20包含光束分離元件30、會聚透鏡32及四個感測器34a至34d。在圖2A中指示系統20之光軸OA。光束分離元件30可例如係所謂折射光學元件(refractive optical element，ROE)、或所謂繞射光學元件(diffractive optical element，DOE)或可取得某一其他形成(如在下文進一步解釋)。在圖2A中僅描繪兩個感測器34a、34b，而在圖2B中描繪所有四個感測器34a至34d。
感測器34a至34d可遠離會聚透鏡32按焦距定位。會聚透鏡32確保由光束分離元件30形成之子光束(下文所描述)在其入射於感測器34a至34d之前完全分離。儘管在圖2A中描繪單個折射透鏡32，但任何適合之聚焦光學件可用以分離子光束。
雷射光束之分裂部分24入射於光束分離元件30上。僅為了易於術語解釋，此雷射光束在下文被稱作入射雷射光束24。光束分離元件30經由在下文進一步描述之機構將入射雷射光束24分離成四個子光束24a至24d。各子光束24a至24d由會聚透鏡32聚焦至不同感測器34a至34d上。當雷射光束24入射於光束分離元件30上時，光束分離元件30經配置成使得分離成子光束24a至24d中之一特定者之入射雷射光束24的比例取決於雷射光束24相對於光束分離元件30之空間位置。在圖2中描繪兩個子光束24a、24b。具有長度不同之短劃的短劃線依序用以允許在圖式中易於彼此區分子光束24a、24b。
在一些實施例中，會聚透鏡(未描繪)或鏡面(未描繪)可設置於光束分離元件30上游。此可例如在會聚透鏡(或鏡面)亦定位於光束分光器22與輻射源SO之電漿形成區4之間以便將雷射光束2聚焦至電漿形成區上的情況下完成。在此實施例中，光束分離元件30上游之會聚透鏡模仿電漿形成區4上游之會聚透鏡的效應，使得第一雷射光束監視系統20a之輸出與電漿形成區4處置雷射光束2的特性一致。在其他實施例中，可省略光束分離元件30上游之會聚透鏡。
儘管在圖2中描繪四個子光束及四個感測器，但可使用任何其他數目個子光束及任何其他數目個感測器。感測器可具有例如由由光束分離元件30應用於子光束之方向決定的任何所要空間分佈。在一實施例中，光束分離元件30可產生多個繞射階，例如第一及第二繞射階。在此狀況下，多個繞射階(例如，第一及第二繞射階)可皆入射於同一感測器上。替代地，多個繞射階可入射於不同感測器上。
圖3示意性地描繪(在一個實施例中)光束分離元件30將入射雷射光束24分離成四個子光束24a至24d之方式。在圖3A中，入射雷射光束24在光束分離元件30之中心36處入射。中心36可被稱作中心參考位置。中心參考位置可與光束監視系統20之光軸OA一致。光束分離元件30將入射雷射光束24分離成具有相等強度之四個子光束24a至24d。各感測器34a至34d提供指示入射於彼特定感測器上之子光束24a至24d之強度的相關聯輸出信號。在圖3A中所描繪之情形下，各感測器34a至34d產生類似輸出信號，其指示入射雷射光束24在光束分離元件30之中心36處入射。自感測器34a至34d輸出之信號可由於感測器之效能之間的差異而略微彼此不同。校準可用以考慮此類差異。
儘管在此實施例中光束分離元件30之中心36將入射雷射光束24分離成具有相等強度之四個子光束24a至24d，但在其他實施例中，光束分離元件之中心可將入射雷射光束分離成具有不相等強度之子光束。在此狀況下，可在信號之處理期間校準自感測器34a至34d輸出之信號的不相等強度。因此，仍可判定入射雷射光束24相對於光束分離元件30之中心的位置。儘管在此實施例中相對於光束分離元件30之中心判定入射雷射光束24之位置，但在其他實施例中，可參考光束分離元件上之並非光束分離元件之中心的位置判定入射雷射光束之位置。
在圖3B中，入射雷射光束24經移位至光束分離元件30上之中心參考位置36的右方。在此圖及其他圖上包括笛卡兒座標。向右移位可被稱作x方向上之移位。光束分離元件30再次將入射雷射光束分離成四個子光束24a至24d，該等子光束中之一個別者入射於感測器34a至34d中之一個別者上。然而，在此狀況下，右側感測器34c、34d上之子光束24c、24d的強度大於左側感測器34a、34b上之子光束24a、24b的強度。此藉由以短劃線描繪左側感測器34a、34b上之子光束24a、24b的強度來示意性地指示。來自右側感測器24c、24d之輸出信號比來自左側感測器24a、24d之輸出信號具有更高量值。此指示入射雷射光束24之x方向移位。來自上側感測器24a、24d之輸出信號與來自下側感測器24b、24c之輸出信號一致，因此指示尚未存在入射雷射光束24之y方向移位。
在此實施例中，入射雷射光束24向右之移位提高入射於右側感測器34c、34d上之子光束24c、24d的強度。然而，在一替代性實施例中，入射雷射光束24向右之移位可提高入射於左側感測器34a、34b上之子光束24a、24b的強度。此可經由在光束分離元件30上使用適當單元配置來達成(在下文進一步論述單元)。
在圖3C中，入射雷射光束24已相對於光束分離元件30上之中心參考位置36朝下且向左移動。此可被稱作-x及-y方向上之移位。光束分離元件30再次將入射雷射光束24分離成入射於感測器34a至34d上之四個子光束24a至24d。然而，在此狀況下，入射於左下側感測器34b上之子光束24b具有入射於其他感測器34a、34c、34d上之子光束24a、24c、24d比更高強度(使用短劃線來描繪更低強度子光束)。來自左下側感測器34b之輸出信號比來自其他感測器34a、34c、34d之輸出信號具有更高量值。此指示-x及-y方向上之入射雷射光束24的移位。
光束分離元件30經組態以使得其將入射雷射光束24分離成子光束24a至24d，該等子光束具有依據光束分離元件上之入射雷射光束位置而逐漸變化的強度。舉例而言，入射雷射光束24之逐漸移動將引起由光束分離元件30形成之子光束24a至24d之相對強度的逐漸改變。
自感測器34a至34d輸出之信號可在其由控制器CT使用以控制雷射系統1時組合在一起。舉例而言，來自左側對感測器34a、34b之輸出信號可一起相加以形成左側總和，且來自右側對感測器34c、34d之輸出信號可一起相加以形成右側總和。可自右側總和減除左側總和，以得到指示入射雷射光束24之x方向位置的值。此值可用以調整由雷射系統1輸出之雷射光束2的x方向位置。對應方法可用以獲得指示入射雷射光束24之y方向位置的值、及調整由雷射系統1輸出之雷射光束2的y方向位置。可以其他方式處理自感測器34a至34d輸出之信號以判定入射雷射光束24之位置。可在對輸出信號進行求和或減除之前執行對輸出信號之某一處理，以考慮感測器34a至34d之不同回應。處理可包含將補償不同回應之加權因素應用於信號。
圖4示意性地描繪根據一簡化實施例之光束分離元件40。光束分離元件40在此實例中經組態以將入射雷射光束24分離成兩個子光束而非四個子光束。光束分離元件40包含經組態以形成經導向第一感測器(未描繪)之子光束的第一部分42、及經組態以形成經導向第二感測器(未描繪)之子光束的第二部分43。如可見，在灰色顏色之更暗陰影中指示第一部分42，在灰色顏色之更淺陰影中指示第二部分43，且第一部分42包括與第二部分43之楔形部分互混的漸狹部分。此等漸狹部分提供子光束之強度的加權，強度之加權由入射光束24相對於光束分離元件40上之中心參考位置的位置決定。如將瞭解，入射雷射光束24相對於中心參考位置向右(x方向上)的位移將意謂雷射光束比光束分離元件40之第一部分42入射於第二部分43之較大比例上。因此，入射於第二偵測器上之子光束將比入射於第一偵測器上之子光束具有更大強度。類似地，若入射雷射光束24相對於中心參考位置向左(-x-方向)位移，則入射於第一偵測器上之子光束將大於入射於第二偵測器上之另一子光束的強度。光束分離元件40之第一部分42與第二部分43之互混部分的漸狹性質係使得所形成子光束之強度依據光束分離元件上之入射雷射光束24的x方向位置而逐漸變化。入射雷射光束24之逐漸移動將引起由光束分離元件40形成之子光束之相對強度的逐漸改變。入射雷射光束41向上及向下移動(在y方向上)將不會在此簡化實施例中改變入射於第一及第二感測器上之子光束的相對強度。
圖5A以透視圖描繪上文結合圖4所描述之光束分離元件40的實施方案。該實施方案包含在交替定向上堆疊之一系列斜楔稜鏡。表達式「斜楔」在此處用以指示各稜鏡在自一側檢視時形狀像楔形件且在自上方檢視時係等腰三角形。等腰三角形之尖端與楔形件之粗端一致。光束分離元件40之輸入面46與由充當折射光學元件之斜楔稜鏡組成的輸出面共平面。在圖5B中示意性地描繪單個楔形稜鏡45a之側視圖。入射雷射光束24之部分以正入射角入射於楔形稜鏡45a之平面輸入面46上。楔形稜鏡45之成角輸出面47a形成相對於光軸OA按某一角度傳播的子光束24a。在圖5C中描繪光束分離元件40之另一第二楔形稜鏡45b的側視圖。此楔形稜鏡45b之成角輸出面47b在與圖5B中所描繪之楔形稜鏡45a之成角輸出面47a相對的方向上傾斜。結果，形成在與藉由第一楔形稜鏡形成之子光束24a相對的方向上傳播的子光束24b。再次參考圖4，光束分離元件40之第一部分42由如圖5B中所描繪之斜楔稜鏡45a形成，且第二部分43由如圖5C中所描繪之斜楔稜鏡45b形成。
在圖4及圖5之簡化實施例中，如上文所提及，入射雷射光束24僅分離成兩個子光束24a、24b。可使用第二光束分離元件(未描繪)來將此兩個子光束24a、24b中之每一者分離成另外兩個子光束，該第二光束分離元件對應於第一光束分離元件40但已圍繞光軸OA旋轉90度。此將會將入射雷射光束24分離成具有取決於入射雷射光束24之位置之相對強度的四個子光束24a至24d。
本發明之以上實施例說明本發明之操作原理，且可使用斜楔稜鏡來形成。然而，在實踐中，可能難以運用圖5A中所描繪之配置來定位斜楔稜鏡。其他實施例，如下文所論述，可更易於實施且更便宜。
在圖6及圖7中描繪根據本發明之一替代性實施例的光束分離元件50。此實施例可被稱作折射光學元件(refractive optical element，ROE)。圖6及圖7之光束分離元件50提供與圖4及圖5之光束分離元件40連同已圍繞光軸旋轉達90度(如上文所描述)之第二光束分離元件相同的功能性。在圖6及圖7之實施例中，折射光學元件50可被視為單元陣列。給定單元包括形成經導向第一感測器之第一子光束的第一區域、形成經導向第二感測器之第二子光束的第二區域、形成經導向第三感測器之第三子光束的第三區域、及形成經導向第四感測器之第四子光束的第四區域。單元內之第一至第四區域的相對大小決定子光束之輻射影像的相對強度。
圖6A描繪根據一實施例之折射光學元件50，且圖6B更詳細地描繪該實施例之中心部分。陰影以微米指示折射光學元件50之厚度。入射雷射光束之波長可係約10微米。折射光學元件之單個單元52由點虛線指示之矩形標識。在圖7A中以放大視圖描繪此單元。圖7B係依據單個單元52上之橫截面位置指示由入射雷射光束經歷之光徑差的圖形。圖形之縱軸以微米指示單元之局部厚度，且橫軸以mm指示單元上之空間位置。
單元52可被視為具有中心部分53、四個隅角部分54a至54d、第一對側部分55a、55b及第二對側部分56a、56b。因為單元52係折射光學元件50之中心單元，所以各部分或部分集合具有相同面積。因此，中心部分53與四個隅角部分54a至54d組合且與第一對側部分55a、55b組合及與第二對側部分56a、56b組合具有相同面積。各不同部分或不同類似部分集合形成經導向不同感測器34a至34d之輻射子光束(見圖2B)。
首先考慮中心部分53，此部分具有在x = y方向上傾斜且因此具有隨x及y增大而增大之光徑差的輸出面。組合地參考圖7及圖2B，中心部分53之傾斜輸出面將輻射子光束24d導向右上側感測器34d。
考慮四個隅角部分54a至54d，在圖7B之圖形的x = y線上指示由兩個此等隅角部分54b、54d提供之光徑差。隅角部分54b、54d之輸出面的斜坡與中心部分之斜坡相對(光徑差隨x及y增大而減小)。組合地參考圖7及圖2B，兩個傾斜隅角部分54b、54d將輻射子光束24b導向左下側感測器34b。其他兩個隅角部分54a、54c亦具有相同傾斜輸出面且因此亦將輻射子光束導向左下側感測器34b。
第一對側部分55a、55b具有在x = -y方向上傾斜之輸出面。此斜坡部分地見於圖7B之y = 0線中。組合地參考圖7及圖2B，第一對側部分55a、55b將輻射子光束24c導向右下側感測器34c。
第二對側部分56a、56b具有在x = -y方向上傾斜但具有與第一對側部分55a、55b之相對標記之斜坡的輸出面。此斜坡部分地見於圖7B之x = 0線中。組合地參考圖7及圖2B，第二對側部分56a、56b將輻射子光束24a導向左上側感測器34a。
各單元52之部分或部分集合的相對面積一句折射光學元件50上之單元位置而改變。如上文所提及，在圖7A中所描繪之中心單元52中，中心部分與部分集合中之每一者具有相同區域。然而，在朝向折射光學元件50之右上側隅角定位之單元中，中心部分53比其他部分集合54a至54d、55a、55b、56a、56b中之每一者更大。因此，若入射輻射光束24之部分入射於單元上，則經導向右上側感測器34d之所得子光束將比將導向其他感測器34a至34c之子光束具有更高強度。類似地，在朝向折射光學元件50之左下側隅角定位之單元中，隅角部分54a至54d具有比中心部分53及側部分55a、55b、56a、56b中之每一者更大的組合面積。因此，若入射輻射光束24之部分入射於彼單元上，則經導向左下側感測器34b之所得子光束將比經導向其他感測器34a、34c、34d之所得子光束具有更高強度。
單元之部分或部分集合的面積可依據相對於折射光學元件50之中心單元52的空間位置而變化。在一實施例中，當沿著對角線(x = y或x = -y)行進時，一個部分或部分集合之面積以所有其他為代價增大或減小。舉例而言，中心部分53在其他部分集合全部變得更小時變得更大。當沿著x = 0或y = 0行進時，一部分組合以另一部分組合為代價變得更大。舉例而言，當沿著y = 0方向移動時，中心部分53及第一對側部分55a、55b在隅角部分54a至54d及第二對側部分56a、56b變得更小時變得更大。面積之改變可依據折射光學元件上之位置而係線性的或可係非線性的。
上文僅僅係一實例。大體而言，折射光學元件50之單元可具有不同部分或部分集合，其具有取決於折射光學元件上之單元之空間位置的面積。該等部分可將輻射子光束導向設置於任何適合配置中之感測器。
此配置之漸增效應係不同部分或部分集合53、54a至54d、55a、55b、56a、56b之加權跨越折射光學元件50變化。舉例而言，將輻射子光束24d導向右上感測器34d之中心部分53的加權依據折射光學元件50上之空間位置而變化。
在一實施例中，部分53、54a至54d、55a、55b、56a、55b之不同部分或集合可各自朝向折射光學元件之不同區帶加權。不同區帶可各自包含折射光學元件50之四分之一。中心部分53可朝向係折射光學元件50之右上側四分之一的區帶加權。隅角部分54a至54d可朝向係折射光學元件50之左下側四分之一的區帶加權。第一對側部分55a、55b可朝向係折射光學元件之右下側四分之一的區帶加權。第二對側部分56a、56b可朝向係折射光學元件之左上側四分之一的區帶加權。可使用朝向其他區帶之其他加權。
圖8A描繪根據一實施例之繞射光學元件60，且圖8B更詳細地描繪該實施例之中心部分。陰影指示繞射光學元件60之厚度。繞射光學元件之單個中心單元62由點虛線標識。在圖9A中以放大視圖描繪此單元。圖9B係依據單個單元62上之橫截面位置指示由入射雷射光束經歷之光徑差的圖形。圖形之縱軸以微米指示單元之厚度，且橫軸以mm指示單元上之空間位置。
繞射光學元件60與折射光學元件一致，惟其具有階梯形輸出面而非具有由斜坡形成之輸出面除外。在此實施例中，階梯之深度對應於約三分之一微米。入射輻射光束之波長在此實施例中係10微米。階梯之深度係使得在特定方向上發生離開繞射光學元件之輻射的相長干擾。換言之，發生繞射。繞射提供具有與上文在圖2中進一步描繪之形式一致之形式的輻射子光束。
與圖7A中所描繪之單元相同，圖9A之單元62可被視為具有中心部分63、四個隅角部分64a至64d、第一對側部分55a、55b及第二對側部分66a、66b。因為單元62係折射光學元件60之中心單元，所以各部分或部分集合具有相同面積。因此，中心部分63與四個隅角部分64a至64d、第一對側部分65a、65b及第二對側部分66a、66b具有相同面積。各部分或部分集合形成經導向不同感測器34a至34d之輻射子光束(見圖2B)。
首先考慮中心部分63，此部分具有在x = y方向上成階梯形且因此具有隨x及y增大而增大之光徑差的輸出面。組合地參考圖9及圖2B，中心部分63之傾斜輸出面將輻射子光束24d導向右上側感測器34d。
考慮四個隅角部分64a至64d，在圖9B之圖形的x = y線上指示由兩個此等隅角部分64b、64d提供之光徑差。隅角部分54b、54d之輸出面的階梯與中心部分之階梯相對(光徑差隨x及y增大而減小)。組合地參考圖9及圖2B，兩個傾斜隅角部分64b、64d將輻射子光束24b導向左下側感測器34b。其他兩個隅角部分64a、64c亦具有相同階梯形輸出面且因此亦將輻射子光束導向左下側感測器34b。
第一對側部分65a、65b具有在x = -y方向上呈階梯形之輸出面。此等階梯見於圖9B之y = 0線中。組合地參考圖9及圖2B，第一對側部分65a、65b將輻射子光束24c導向右下側感測器34c。
第二對側部分66a、66b具有在x = -y方向上呈階梯形但具有與第一對側部分65a、65b之相對標記之階梯的輸出面。此斜坡見於圖9B之x = 0線中。組合地參考圖9及圖2B，第二對側部分66a、66b將輻射子光束24a導向左上側感測器34a。
單元之部分或部分集合的面積可依據相對於繞射光學元件60之中心單元62的空間位置而變化。此變化可例如如上文結合折射光學元件50所描述。
上文僅僅係一實例。大體而言，繞射光學元件之單元可具有不同部分或部分集合，其具有取決於繞射光學元件上之單元之空間位置的面積。該等部分可將輻射子光束導向設置於任何適合配置中之感測器。
此配置之漸增效應係不同部分或部分集合63、64a至64d、65a、65b、66a、66b之加權跨越繞射光學元件60變化。舉例而言，將輻射子光束24d導向右上感測器34d之中心部分63的加權依據折射光學元件60上之空間位置而變化。
在一實施例中，部分63、64a至64d、65a、65b、66a、66b之不同部分或集合可各自朝向折射光學元件之不同區帶加權。不同區帶可各自包含折射光學元件60之四分之一。中心部分63可朝向係折射光學元件60之右上側四分之一的區帶加權。隅角部分64a至64d可朝向係折射光學元件60之左下側四分之一的區帶加權。第一對側部分65a、65b可朝向係折射光學元件之右下側四分之一的區帶加權。第二對側部分56a、56b可朝向係折射光學元件之左上側四分之一的區帶加權。可使用朝向其他區帶之其他加權。
繞射光學元件60可比折射光學元件50生產起來更容易且更便宜。此係因為階梯形表面可比傾斜表面更易於形成。大體而言，係繞射光學元件之光束分離元件可比係折射光學元件之光束分離元件更易於生產。
可參考入射雷射光束24之大小選擇光束分離元件50、60之單元的大小，使得若干單元(例如，至少5個單元)將在使用期間定位於入射雷射光束之半高寬內。此避免在入射雷射光束24跨越光束分離元件50、60移動時來自偵測器34a至34d之輸出的顯著漣波。在一個實例中，入射雷射光束24可具有約5 mm之半高寬。在此實例中，單元可例如具有1 mm或更小之間距。大體而言，單元可具有1 mm或更小之間距。單元可例如具有約100微米之間距。單元之最小間距可受限於用以製造光束分離元件50、60之製程。大體而言，單元之間距可取決於判定入射雷射光束24之位置所要的空間解析率。
光束分離元件30、40、50、60可足夠大以確保雷射光束始終入射於光束分離元件50、60上。光束分離元件30、40、50、60可例如量成至少1 cm寬。光束分離元件30、40、50、60可例如量成直至5 cm寬，且可例如量成直至10 cm寬。光束分離元件30、40、50、60可例如量成至少約25 mm寬。可自所要空間解析率與光束分離元件大小之一組合判定光束分離元件中之單元的數目。
本發明之優點係其允許以不會在雷射光束之橫截面中的空間強度分佈改變之情況下遭受誤差的直接方式監視入射雷射光束24之位置。舉例而言，可發生雷射光束之最高強度區域之橫截面空間位置的改變(例如，自高斯輪廓改變成某一其他輪廓)。當發生此改變時，此又將見於自偵測器34a至34d輸出之信號中。換言之，自偵測器34a至34d輸出之信號指示入射雷射光束24之「重心」。輸出信號因此將允許輻射源SO之雷射光束2的重心導向電漿形成區4。雷射光束2之「重心」可係雷射光束之中心(依據雷射光束強度判定)。
本發明之其他實施例可用以監視雷射光束之除其空間位置以外的屬性。舉例而言，可使用具有徑向配置之單元的光束分離元件來判定雷射光束之徑向光束大小。此配置可例如使用形成加權子光束之兩個感測器及單元，此取決於光束分離元件上之彼等單元的徑向位置。光束分離元件之中心處的單元可將具有基本上所有入射雷射輻射之子光束導向第一偵測器。當徑向朝外移動時，單元可將愈來愈少之入射雷射導向第一感測器且將愈來愈多之入射雷射導向第二感測器。在此實施例中，第一及第二偵測器處入射之子光束的相對強度由入射雷射光束之徑向大小決定。本發明之實施例，諸如上文進一步描述之實施例，可用以在必要時糾正入射雷射光束遠離光束分離元件之中心之空間移動的效應。換言之，本發明之兩個不同實施例可用以監視相同雷射光束。一個實施例可量測雷射光束之空間位置，且一個實施例可量測徑向大小。
儘管上文所描述之雷射光束監視系統形成用於微影設備之輻射源的部分，但雷射光束監視系統具有其他應用。大體而言，根據本發明之一實施例的雷射光束監視系統可用於需要監視雷射光束之屬性的任何應用中。
雷射光束監視系統可形成光罩檢測設備之部分。光罩檢測設備可使用EUV輻射以照明光罩且使用成像感應器以監視自光罩反射之輻射。由成像感應器接收之影像係用以判定缺陷是否存在於光罩中。光罩檢測設備可包括經組態以自EUV輻射源接收EUV輻射且將其形成至待在光罩處導引之輻射光束中的光學件(例如，鏡面)。光罩檢測設備可進一步包括經組態以收集自光罩反射之EUV輻射且在成像感測器處形成光罩之影像的光學件(例如，鏡面）。光罩檢測設備可包括處理器，該處理器經組態以分析成像感測器處之光罩之影像且自彼分析判定在光罩上是否存在任何缺陷。處理器可經進一步組態以判定經偵測到之光罩缺陷在由微影設備使用光罩時是否將在投影至基板上之影像中產生不可接受的缺陷。
雷射光束監視系統可形成度量衡設備之部分。度量衡設備可用以量測形成於基板上之抗蝕劑中之經投影圖案相對於已經存在於基板上之圖案之對準。相對對準之此量測可被稱作疊對。度量衡設備可例如經定位成緊鄰於微影設備且可用以量測在基板(及抗蝕劑)已被處理之前的疊對。
儘管可在本文中特定地參考在微影設備之內容背景中之本發明之實施例，但本發明之實施例可用於其他設備中。本發明之實施例可形成光罩檢測設備、度量衡設備或量測或處理諸如晶圓(或其他基板)或光罩(或其他圖案化裝置)之物件之任何設備之部分。此等設備通常可被稱作微影工具。此微影工具可使用真空條件或周圍(非真空)條件。
術語「EUV輻射」可被認為涵蓋具有介於4 nm至20 nm之範圍內，例如介於13 nm至14 nm之範圍內之波長的電磁輻射。EUV輻射可具有小於10 nm之波長，例如介於4 nm至10 nm之範圍內，諸如6.7 nm或6.8 nm。
儘管上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述方式不同之其他方式來實踐本發明。以上描述意欲係說明性的而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對如所描述之本發明進行修改。
1‧‧‧雷射系統
2‧‧‧雷射光束
3‧‧‧燃料發射器
4‧‧‧電漿形成區
5‧‧‧近正入射輻射收集器
6‧‧‧中間焦點
7‧‧‧電漿
8‧‧‧開口
9‧‧‧圍封結構
10‧‧‧琢面化場鏡面裝置
11‧‧‧琢面化光瞳鏡面裝置
20‧‧‧雷射光束監視系統
20a‧‧‧第一雷射光束監視系統
20b‧‧‧第二雷射光束監視系統
22‧‧‧光束分光器
24‧‧‧雷射光束之分裂部分/入射雷射光束
24a‧‧‧子光束
24b‧‧‧子光束
24c‧‧‧子光束
24d‧‧‧子光束
25‧‧‧經反射雷射光束之分裂部分
30‧‧‧光束分離元件
32‧‧‧會聚透鏡
34a‧‧‧左上側感測器
34b‧‧‧左下側感測器
34c‧‧‧右下側感測器
34d‧‧‧右上側感測器
36‧‧‧中心
40‧‧‧光束分離元件
42‧‧‧第一部分
43‧‧‧第二部分
45‧‧‧楔形稜鏡
45a‧‧‧斜楔稜鏡
45b‧‧‧第二楔形稜鏡
46‧‧‧平面輸入面
47a‧‧‧成角輸出面
47b‧‧‧成角輸出面
50‧‧‧光束分離元件
52‧‧‧中心單元
53‧‧‧中心部分
54a‧‧‧隅角部分
54b‧‧‧隅角部分
54c‧‧‧隅角部分
54d‧‧‧隅角部分
55a‧‧‧側部分
55b‧‧‧側部分
56a‧‧‧側部分
56b‧‧‧側部分
60‧‧‧光束分離元件
62‧‧‧中心單元
63‧‧‧中心部分
64a‧‧‧隅角部分
64b‧‧‧隅角部分
64c‧‧‧隅角部分
64d‧‧‧隅角部分
65a‧‧‧側部分
65b‧‧‧側部分
66a‧‧‧側部分
66b‧‧‧側部分
B‧‧‧輻射光束
CT‧‧‧控制器
IL‧‧‧照明系統
LA‧‧‧微影設備
MA‧‧‧圖案化裝置/光罩
MT‧‧‧支撐結構
OA‧‧‧光軸
PS‧‧‧投影系統
SO‧‧‧輻射源
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台
x‧‧‧方向
y‧‧‧方向
現將參看隨附示意性圖式而僅藉助於實例來描述本發明之實施例，其中：
- 圖1描繪根據本發明之一實施例的包含微影設備及輻射源之微影系統；
- 圖2，包含圖2A及圖2B，描繪根據本發明之一實施例的雷射光束監視系統；
- 圖3，包含圖3A、圖3B及圖3C，描繪圖2之雷射光束監視系統的操作；
- 圖4描繪根據本發明之一實施例的可形成雷射光束監視系統之部分的光束分離元件；
- 圖5，包含圖5A、圖5B及圖5C，描繪可用以形成圖4之光束分離元件的構造；
- 圖6，包含圖6A及圖6B，描繪根據本發明之一實施例的可形成雷射光束監視系統之部分的替代性光束分離元件；
- 圖7，包含圖7A及圖7B，描繪圖6之光束分離元件的單個單元，及依據單元上之橫截面位置而展示由彼單元提供之光徑差的圖形；
- 圖8，包含圖8A及圖8B，描繪根據本發明之一實施例的可形成雷射光束監視系統之部分的另一替代性光束分離元件；且
- 圖9，包含圖9A及圖9B，描繪圖8之光束分離元件的單個單元，及依據單元上之橫截面位置而展示由彼單元提供之光徑差的圖形。
在整個圖式中，相同附圖標記指示類似或對應特徵。

Claims (22)

  1. 一種經組態以監視一入射雷射光束之一屬性的雷射光束監視系統，該雷射光束監視系統包含一光束分離元件及複數個感測器，其中該光束分離元件經組態以自該入射雷射光束形成複數個子光束，一第一子光束經導向該複數個感測器中之一第一感測器且一第二子光束經導向該複數個感測器中之一第二感測器，其中該第一子光束及該第二子光束之相對強度係藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置予以判定。
  2. 如請求項1之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件之形成該第一子光束的第一部分與該光束分離元件之形成該第二子光束的第二部分互混。
  3. 如請求項2之雷射光束監視系統，其中該等第一部分比該等第二部分佔據該光束分離元件之一第一區域的一更大比例，且其中該等第二部分比該等第一部分佔據該光束分離元件之第二區域的一更大比例。
  4. 如請求項1之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件經組態以亦形成經導向該複數個感測器中之一第三感測器的一第三子光束及經導向該複數個感測器中之一第四感測器的一第四子光束，且其中該第一子光束、該第二子光束、該第三子光束及該第四子光束之相對強度係藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之該空間位置予以判定。
  5. 如請求項4之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件之形成該第一子光束的第一部分、該光束分離元件之形成該第二子光束的第二部分、該光束分離元件之形成該第三子光束的第三部分與該光束分離元件之形成該第四子光束的第四部分彼此互混。
  6. 如請求項5之雷射光束監視系統，其中該等第一部分比該等第二部分、該等第三部分或該等第四部分中之任一者佔據該光束分離元件之一第一區域的一更大比例。
  7. 3、5或6中任一項之雷射光束監視系統，其中該等不同部分具備跨越該光束分離元件之加權空間分佈。
  8. 如請求項7之雷射光束監視系統，其中該第一部分之該空間分佈朝向該光束分離元件之一第一區帶加權，使得當該入射雷射光束入射於該第一區帶上時，該入射雷射光束主要形成該第一子光束。
  9. 如請求項7之雷射光束監視系統，其中該第二部分之該空間分佈朝向該光束分離元件之一第二區帶加權，使得當該入射雷射光束入射於該第二區帶上時，該入射雷射光束主要形成該第二子光束。
  10. 如請求項8之雷射光束監視系統，其中該第一區帶及該第二區帶各自包含該光束分離元件之四分之一。
  11. 如請求項7之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件包含由該等不同部分形成之單元。
  12. 如請求項11之雷射光束監視系統，其中形成該等單元之不同部分的面積依據跨越該光束分離元件之空間單元位置而變化。
  13. 如請求項1至6中任一項之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件係一折射光學元件。
  14. 如請求項1至6中任一項之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件係一繞射光學元件。
  15. 如請求項1至6中任一項之雷射光束監視系統，其中聚焦光學件設置於該光束分離元件與該等感測器之間。
  16. 如請求項1至6中任一項之雷射光束監視系統，其中該光束分離元件係透射的。
  17. 一種輻射源，其包含一雷射系統、一如請求項1至16中任一項之雷射光束監視系統、一燃料發射器及一輻射收集器。
  18. 如請求項17之輻射源，其進一步包含經配置以使用自該複數個感測器接收到之輸出來調整該雷射光束之一控制器。
  19. 如請求項17或請求項18之輻射源，其中該輻射源進一步包含經組態以在自一燃料目標反射之後監視該雷射光束之一屬性的一第二雷射光束監視系統。
  20. 一種微影系統，其包含經配置以將來自一圖案化裝置之一圖案投影至一基板上的一微影設備，且包含如請求項17至19中任一項之輻射源。
  21. 一種監視一雷射光束之方法，該方法包含： 將一入射雷射光束導引至一光束分離元件上； 自該入射雷射光束形成複數個子光束； 使用複數個感測器中之一第一感測器來偵測一第一子光束；及 使用複數個感測器中之一第二感測器來偵測一第二子光束； 其中藉由該入射雷射光束入射於該光束分離元件上之一空間位置判定該第一子光束及該第二子光束的相對強度。
  22. 一種光束分離元件，其經組態以用於如請求項1至16中任一項之雷射光束監視系統中。
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