JP2021504732A - レーザビームモニタリングシステム - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2017年11月29日に出願された欧州出願第17204356.4号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (22)
- 入射レーザビームの特性をモニタリングするように構成されたレーザビームモニタリングシステムであって、
ビーム分離要素と、複数のセンサと、を備え、
前記ビーム分離要素は、前記入射レーザビームから複数のサブビームを形成するように構成され、前記複数のセンサのうちの第1のセンサへと第1のサブビームが誘導され、前記複数のセンサのうちの第2のセンサへと第2のサブビームが誘導され、
前記入射レーザビームが前記ビーム分離要素に入射する空間位置によって、前記第1および第2のサブビームの相対強度が決定される、レーザビームモニタリングシステム。 - 前記第1のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第1の部分は、前記第2のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第2の部分と互いに組み合わされている、請求項1に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素の第1の領域において前記第1の部分が占める割合は、前記第2の部分が占める割合より大きく、
前記ビーム分離要素の前記第2の領域において前記第2の部分が占める割合は、前記第1の部分が占める割合より大きい、請求項2に記載のレーザビームモニタリングシステム。 - 前記ビーム分離要素は、前記複数のセンサのうちの第3のセンサへと誘導される第3のサブビームと、前記複数のセンサのうちの第4のセンサへと誘導される第4のサブビームと、をさらに形成するように構成され、
前記入射レーザビームが前記ビーム分離要素に入射する前記空間位置によって、前記第1、第2、第3および第4のサブビームの相対強度が決定される、請求項1に記載のレーザビームモニタリングシステム。 - 前記第1のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第1の部分と、前記第2のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第2の部分と、前記第3のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第3の部分と、前記第4のサブビームを形成する前記ビーム分離要素の第4の部分とは互いに組み合わされている、請求項4に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素の第1の領域において前記第1の部分が占める割合は、前記第2、第3または第4の部分のいずれの部分が占める割合よりも大きい、請求項5に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 異なる前記部分は、前記ビーム分離要素にわたって重み付けされた空間分布を与えられる、請求項2、3、5または6のいずれかに記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記入射レーザビームが前記ビーム分離要素の第1のゾーンに入射した場合、前記入射レーザビームから主として前記第1のサブビームが形成されるように、前記第1の部分の前記空間分布は、前記第1のゾーンに向かって重み付けされる、請求項7に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記入射レーザビームが前記ビーム分離要素の第2のゾーンに入射した場合、前記入射レーザビームから主として前記第2のサブビームが形成されるように、前記第2の部分の前記空間分布は、前記第2のゾーンに向かって重み付けされる、請求項7または8に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記第1のゾーンおよび前記第2のゾーンは、それぞれ、前記ビーム分離要素の4分の1を含む、請求項8または9に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素は、異なる前記部分からなるセルを含む、請求項7に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記セルを形成する異なる部分の面積は、前記ビーム分離要素にわたる空間セル位置の関数として変動する、請求項11に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素は、屈折型光学要素である、請求項1〜12のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素は、回折型光学要素である、請求項1〜13のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素と前記センサとの間に合焦光学系が設けられる、請求項1〜14のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- 前記ビーム分離要素は、透過型である、請求項1〜15のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステム。
- レーザシステムと、請求項1〜16のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステムと、燃料放出器と、放射コレクタと、を備える、放射源。
- 前記複数のセンサから受け取られる出力を用いて前記レーザビームを調整するように配置されたコントローラをさらに備える、請求項17に記載の放射源。
- 前記放射源は、燃料ターゲットから反射した後の前記レーザビームの特性をモニタリングするように構成された第2のレーザビームモニタリングシステムをさらに備える、請求項17または18に記載の放射源。
- パターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するように配置されたリソグラフィ装置と、請求項17〜19のいずれか一項に記載の放射源と、を備える、リソグラフィシステム。
- レーザビームをモニタリングする方法であって、
入射レーザビームをビーム分離要素上に誘導することと、
前記入射レーザビームから複数のサブビームを形成することと、
複数のセンサのうちの第1のセンサを使用して第1のサブビームを検出することと、
前記複数のセンサのうちの第2のセンサを使用して第2のサブビームを検出することと、を含み、
前記入射レーザビームが前記ビーム分離要素に入射する空間位置によって、前記第1および第2のサブビームの相対強度が決定される、方法。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載のレーザビームモニタリングシステムで使用されるように構成された、ビーム分離要素。
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