TW201922367A - 擦洗構件之保存容器及其封裝 - Google Patents

Abstract

一種擦洗構件之保存容器，在具有容器本體、嚙合於容器本體的蓋體，被前述容器本體與前述蓋體包圍的保存容器內部，收容擦洗構件，在前述容器本體與前述蓋體嚙合的嚙合面，形成有連通前述保存容器內部與保存容器外部的通氣溝。

Description

擦洗構件之保存容器及其封裝

本發明是關於一種擦洗構件之保存容器及其封裝。 本申請案主張2017年11月14日申請的日本專利申請號第2017-219223號的優先權，引用其內容於此。

以往，已知例如下述專利文獻1所記載的安裝於基板洗淨裝置的洗淨部件做為擦洗構件。洗淨部件被保持再洗淨部件保持機構，旋轉並擦洗洗淨基板表面。洗淨部件保持機構，採用一種筒夾夾頭結構，具備：夾持部件（套筒），下方部被複數個夾頭爪分割；以及環部件，嵌入該夾持部件的外緣，藉由該洗淨部件的端部插入以該夾持部件的複數個夾頭爪形成的插入孔，該環部件嵌入該夾持部件的外緣，來以該複數個夾頭爪鎖緊固定該洗淨部件。

[先前技術文獻] [專利文獻] 　　[專利文獻1]日本特開2000-173966號公報

[發明所欲解決的問題] 像這樣的擦洗構件，為了防止變形或污染，收容在保存容器中。若擦洗構件乾燥會風化並產生塵埃，所以在浸濕狀態下收容於保存容器為較佳，但如此一來，細菌會有在擦洗構件增殖並污染的情況。因此，以往，在保存容器形成通氣口，在覆蓋保存容器的封裝中，一起放入抑制細菌增殖的氧吸收劑來保存擦洗部件。但是，保存容器的通氣口是在後加工形成，所以通氣口周圍產生毛邊，損傷擦洗部件，且毛邊附著於擦洗部件，會有產生微粒的狀況。

本發明有鑑於上述問題點，提供一種擦洗構件之保存容器及其封裝，可抑制擦洗構件的變形或污染，以及產生微粒。

[解決問題的手段] （1）關於本發明的一態樣的擦洗構件的保存容器，具有：容器本體；以及蓋體，嚙合於前述容器本體，其中將擦洗構件收容在前述容器本體與前述蓋體所包圍的保存容器內部，在前述容器本體與前述蓋體嚙合的嚙合面，形成有連通前述保存容器內部與保存容器外部的通氣溝。

（2）如上述（1）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述通氣溝也可以形成有複數個前述嚙合面。 （3）如上述（1）或（2）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述容器本體也可以具有：嚙合溝，可嚙合於前述擦洗構件。 （4）如上述（3）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述容器本體也可以具有：環狀壁，以內壁面形成前述嚙合溝的側面；在前述環狀壁的外壁面，形成前述通氣溝。 （5）如上述（4）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述擦洗構件也可以具有：本體部，具有擦洗面；以及突出部，從前述本體部向前述擦洗面的相反側突出；前述突出部嚙合於前述嚙合溝時，前述環狀壁的頂面與前述本體部為非接觸。 （6）如上述（5）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述蓋體也可以相對於前述本體部的前述擦洗面，開出前述嚙合溝的深度以下的空隙，且前述蓋體嚙合於前述容器本體。 （7）如上述（5）或（6）所述的擦洗構件的保存容器，其中前述蓋體也可以具有向著前述本體部的前述擦洗面突出的複數個凸部。

（8）一種擦洗構件的封裝，具有：如上述（1）～（7）任一項所述的擦洗構件的保存容器；以及氧吸收劑，配置於前述保存容器的容器外部。

[發明效果] 根據上述本發明的態樣，可抑制擦洗構件的變形或污染，以及產生微粒。

以下，參照圖式來說明關於本發明的一實施形態。 第一圖是關於一實施形態的擦洗構件2的保存容器1的剖面圖。 如圖所示，保存容器1具有容器本體10；以及蓋體20，嚙合於容器本體10。保存容器1在容器本體10與蓋體20所包圍的容器內部S1收容擦洗構件2。又，在以下說明，將除了容器內部S1的容器本體10及蓋體20外部稱為容器外部S2。

保存容器1是由透明的塑膠材料所形成。做為形成保存容器1的塑膠材料，可採用例如聚乙烯（PE）、聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚丙烯（PP）或其他通用塑膠材料。容器本體10及蓋體20較佳材料為，例如熱軟化的塑膠材料，藉由抽真空密接於特定成形模具，經冷卻形成的真空成形品。

第二A圖是關於一實施形態的容器本體10的平面圖，第二B圖是關於一實施形態的容器本體10的正面圖。第三A圖是關於一實施形態的容器本體10的平面側斜視圖，第三B圖是關於一實施形態的容器本體10的底面側斜視圖。 容器本體10如上述圖所示，具有嚙合溝11、環狀壁12以及凸緣部13。嚙合溝11形成於容器本體10的中心部。本實施形態的嚙合溝11具有有底圓桶形狀。

環狀壁12是在嚙合溝11周圍形成為圓環狀的環狀突起。環狀壁12在內壁面12a形成嚙合溝11的側面。環狀壁12的外壁面12b形成與蓋體20的嚙合面10a。在嚙合面10a形成有通氣溝30。通氣溝30在第二A圖所示的平面視角，以嚙合溝11為中心間隔90°形成四個。

凸緣部13從環狀壁12的外壁面12b的下端向徑方向外側環狀延伸。在凸緣部13也形成有通氣溝30。也就是說，通氣溝30從環狀壁12的外壁面12b的上端形成到下端並彎曲，從凸緣部13的內緣形成到外緣。因此，通氣溝30在第一圖所示的剖面視角形成為L字形。

第四A圖是關於一實施形態的蓋體20的平面圖，第四B圖是關於一實施形態的蓋體20的正面圖。第五A圖是關於一實施形態的蓋體20的平面側斜視圖，第五B圖是關於一實施形態的蓋體20的底面側斜視圖。 蓋體20如上述圖所示，具有上面部21、側面部22以及凸緣部23。上面部21形成為具有與環狀壁12的外徑大致相同的外徑的圓板狀。

在上面部21的表面，如第四A及五A圖所示，以固定深度形成有複數個凹部25。複數個凹部25即「UP SIDE」，形成指出保存容器1的上面的刻痕（文字）。在上面部21的背面，對應前述複數個凹部25，如第五B圖所示，形成有複數個凸部24。複數個凸部24的形成面積比上面部21的背面的平面部的面積更小。

側面部22如第四B圖所示，具有從上面部21的外緣向下方延伸的大致圓筒形狀。從側面部22的上端到下端為止的長度，如第一圖所示，比從環狀壁12的外壁面12b的上端（頂面12c）到下端（凸緣部13為止）的長度更長。側面部22的下端部內面，是嚙合於環狀壁12的外壁面12b（嚙合面10a）的嚙合面20a。

凸緣部23從側面部22的下端向徑方向外側環狀延伸。凸緣部23在上下方向面對容器本體10的凸緣部13。藉由凸緣部23的下面抵接於凸緣部13的上面，進行對於容器本體10的蓋體20的上下方向的定位。又，藉由側面部22的下端部內面嚙合於環狀壁12的外壁面12b，進行對於容器本體10的蓋體20的徑方向（前後左右方向）的定位。

如第一圖所示，在容器本體10與蓋體20嚙合的嚙合面10a、20a之中環狀壁12的外壁面12b（嚙合面10a），形成有連通容器內部S1與容器外部S2的通氣溝30。也就是說，通氣溝30形成於容器本體10與蓋體20的接合面。通氣溝30在環狀壁12的外壁面12b（嚙合面10a）形成有複數個，並形成複數個通氣流路。

形成在容器本體10的嚙合溝11，具有可與擦洗構件2嚙合的內徑，擦洗構件2具有：本體部3，具有擦洗面3a；以及突出部4，從本體部3向擦洗面3a的相反側突出。本實施形態的擦洗構件2是安裝於基板洗淨裝置的筆型海綿，為被純水等保存液弄濕的狀態。又，擦洗構件2並非保存液滴下程度的濕潤狀態。

做為擦洗構件2的材料，若為吸液性多孔質體，則沒有特別限制，可使用例如PVA（聚乙烯醇）海綿（=多孔質基材PVF（聚乙烯甲醛））。此外，做為擦洗構件2，也可以是貼附布料於本體部3的擦洗面3a的塑膠材料（包括軟質、硬質材料）。做為布料的材料，如以聚胺酯樹脂固定發泡胺基甲酸乙酯、纖維的不織布或麂皮型研磨布等，在表面上形成有細微孔，也可以是在細微孔中取出灰塵等異物性質的材料。

本體部3形成為具有比嚙合溝11的內徑更大的外徑的圓柱狀。本體部3的一端面成為圓形的擦洗面3a。擦洗面3a在擦洗構件2安裝於基板洗淨裝置時向下使用。突出部4形成為比本體部3外徑更小的圓柱狀。突出部4的外緣面在安裝於基板洗淨裝置時被夾持。突出部4的外徑大致等於嚙合溝11的內徑（又，也可以略大於嚙合溝11的內徑），嚙合於嚙合溝11。

如第一圖所示，突出部4嚙合於嚙合溝11時，環狀壁12的頂面12c與本體部3為非接觸。也就是說，突出部4的長度為A1，嚙合溝11的深度為A2時，具有A1＞A2的關係為較佳。又，A1是從本體部3的擦洗面3a的相反側的端面到突出部4的前端為止的長度。又，A2是從嚙合溝11的開口端（與環狀壁12的頂面12c相等）到嚙合溝11的底面為止的深度。

又，蓋體20對於本體部3的擦洗面3a，打開嚙合溝11深度以下的空隙，嚙合於容器本體10。也就是說，蓋體20與擦洗面3a的空隙大小為A3時，具有A2≧A3的關係為較佳。又，A3是從本體部3的擦洗面3a到形成於蓋體20的凸部24的前端為止的上下方向的距離。A1、A2、A3的關係，較佳為A1＞A2≧A3。

第六圖是關於一實施形態的擦洗構件2的封裝100的剖面圖。 如圖所示，在封裝100，一起收容有上述擦洗構件2的保存容器1、吸收氧的氧吸收劑102以及檢測氧的氧檢測劑103，保存容器1被包在具有通氣性的透明內袋101。又，包在內袋101的保存容器1、氧吸收劑102以及氧檢測劑103被包在透明的外袋104。外袋104是具有比內袋101通氣性低的屏蔽性的袋。

保存容器1的容器本體10為真空成形品，在環狀壁12的背側等形成有一定程度大小的空間（背側空間S3）。氧吸收劑102及氧檢測劑103被配置在背側空間S3（容器外部S2）。藉此，可防止封裝100的小型化、以及氧吸收劑102及氧檢測劑103經由通氣溝30侵入容器內部S1。此外，由於依外袋104的大小，氧吸收劑102及氧檢測劑103不會從背側空間S3出來，所以也可以沒有內袋101。

第七圖是關於一實施形態的安裝有擦洗構件2的基板洗淨裝置31的斜視圖。 基板洗淨裝置31為例如第七圖所示的筆型洗淨模組31B。洗淨模組31B具備：旋轉機構90，使基板W（例如半導體基板）旋轉；以及筆洗淨機構91，使擦洗構件2的擦洗面3a接觸基板W並旋轉。旋轉機構90具備：複數個夾頭90a1，保持基板W的外緣；以及旋轉台90a，在鉛直方向延伸的軸周圍使基板W旋轉。旋轉台90a在基板W的下面W2側，與馬達等電驅動部連接並水平旋轉。

筆洗淨機構91具備：擦洗構件2；以及臂91b，用以保持擦洗構件2。擦洗構件2被安裝於臂91b的前端，同時藉由配置於臂91b內部的馬達等電驅動部，在鉛直方向延伸的軸周圍旋轉。臂91b被配置在基板W的上方。在臂91b的基端部連接有旋轉軸91c。在旋轉軸91c，連接有使臂91b旋轉的馬達等電驅動部。臂91b以旋轉軸91c為中心，在平行基板W的平面內旋轉。也就是說，藉由臂91b的旋轉，被支持於此的擦洗構件2在基板W的半徑方向移動。基板W的上面W1（圖案面）被擦洗洗淨。

接著，說明關於擦洗構件2的保存容器1的作用。

如第一圖所示，擦洗構件2的保存容器1具有容器本體10、嚙合於容器本體10的蓋體20，在容器本體10與蓋體20所包圍的容器內部S1收容擦洗構件2。在容器本體10與蓋體20嚙合的嚙合面10a形成有通氣溝30。通氣溝30連通容器內部S1與容器外部S2，防止容器內部S1（擦洗構件2）產生黴菌。

透氣溝是30形成於容器本體10與蓋體20的接合面，並非在後加工（例如鑽頭等穿孔加工）設置，所以不會產生毛邊。因此，不會因毛邊損傷擦洗構件2，毛邊也不會附著於擦洗構件1而成為微粒。因此，根據像這樣的擦洗構件2的保存容器1，可抑制擦洗構件2的變形或污染、以及產生微粒。

又，在本實施形態中，通氣溝30在嚙合面10a形成複數個。根據如此結構，因為以複數個通氣溝30可在保存容器1形成空氣的入口與出口，所以保存容器1的通氣性變好。又，因為藉由複數個通氣溝30變大通氣流路的合計流路面積，所以保存容器1的通氣性變好。

又，在本實施形態中，容器本體10具有可與擦洗構件2嚙合的嚙合溝11。根據如此結構，擦洗構件2在容器內部S1被定位，不能自由移動，所以可解除擦洗構件2的邊緣部抵住保存容器1的內面而變形的疑慮。

再者，在本實施形態中，容器本體10具有：環狀壁12，在內壁面12a形成嚙合溝11的側面，在環狀壁12的外壁面12b形成有通氣溝30。根據如此結構，即使保存液積存於與擦洗構件2嚙合的嚙合溝11，環狀壁12也會成為堤防，所以可防止液體經由通氣溝30從嚙合溝11漏出。

在本實施形態中，擦洗構件2具有：本體部3，具有擦洗面3a；以及突出部4，從本體部3突出於擦洗面3a的相反側，當突出部4嚙合於嚙合溝11時，環狀壁12的頂面12c與本體部3非接觸。根據如此結構，可防止本體部3接觸環狀壁12的頂面12c而變形或污染。

此外，在本實施形態，蓋體20相對於本體部3的擦洗面3a，開出嚙合溝11的深度以下的空隙，嚙合於容器本體10。根據如此結構，例如，即使保存容器在搬送中受到衝擊等，擦洗構件2也不會從嚙合溝11的尺寸上脫離，所以可防止擦洗構件2的變形或污染。又，蓋體20具有向本體部3的擦洗面3a突出的複數個凸部24，所以與擦洗面3a的接觸面積變小，可防止擦洗面3a的變形或污染。

以上，記載說明本發明的較佳實施形態，但是應理解這些是本發明的例示，並非做為限定來考慮。追加、省略、置換及其他變更可在不脫離本發明範圍下進行。因此，本發明不應視為以前述說明來限定，而是以申請專利範圍來限制。

例如，在上述實施形態中，例示了形成有複數個通氣溝30，但若能確保通氣流路的流路面積，通氣溝30也可以是一個。

又，例如在上述實施形態中，例示了通氣溝30形成於容器本體10的嚙合面10a的結構，但通氣溝30也可以形成在蓋體20的嚙合面20a，又，也可以形成在容器本體10的嚙合面10a與蓋體20的嚙合面20a兩者。

又，例如在上述實施形態中，例示了擦洗構件2的本體部3的外形比突出部4的外形更大的結構，但也可以是本體部3的外形比突出部4的外形更小的結構。

又，例如在上述實施形態中，例示了容器本體10的嚙合溝11在平面視角形成為圓形的結構，但嚙合溝11若為對應擦洗構件2形狀的形狀也可以。例如嚙合溝11也可以是四角形、其他多角形或除此之外的異形。又，在嚙合溝11的底面，也可以形成定位擦洗構件2的定位銷。

又，例如在上述實施形態中，例示了形成於蓋體20的複數個凹部25形成「UP SIDE」的文字的結構，但也可以形成其他文字或模樣。但是，為了不局部負重於擦洗構件2的擦洗面3a，複數個凹部25（凸部24）較佳為佈置成在面對擦洗面3a的區域大致均勻地擴張。

又，例如在上述實施形態中，例示了保存容器1收容基板洗淨裝置31的筆型海綿的結構，也可以是保存容器1收容擦洗基板的基板研磨裝置的研磨構件（擦洗構件）的結構。

1‧‧‧保存容器

2‧‧‧擦洗構件

3‧‧‧本體部

3a‧‧‧擦洗面

4‧‧‧突出部

10‧‧‧容器本體

10a、20a‧‧‧嚙合面

11‧‧‧嚙合溝

12‧‧‧環狀壁

12a‧‧‧內壁面

12b‧‧‧外壁面

12c‧‧‧頂面

13、23‧‧‧凸緣部

20‧‧‧蓋體

21‧‧‧上面部

22‧‧‧側面部

24‧‧‧凸部

25‧‧‧凹部

30‧‧‧通氣溝

31‧‧‧基板洗淨裝置

31B‧‧‧洗淨模組

90‧‧‧旋轉機構

90a‧‧‧旋轉台

90a1‧‧‧夾頭

91‧‧‧筆洗淨機構

91b‧‧‧臂

91c‧‧‧旋轉軸

100‧‧‧封裝

101‧‧‧內袋

102‧‧‧氧吸收劑

103‧‧‧氧檢測劑

104‧‧‧外袋

A1‧‧‧突出部的長度

A2‧‧‧嚙合溝的深度

A3‧‧‧擦洗面至凸部的距離

S1‧‧‧容器內部

S2‧‧‧容器外部

S3‧‧‧背側空間

W‧‧‧基板

W1‧‧‧基板上面

W2‧‧‧基板下面

［第一圖］是關於一實施形態的擦洗構件2的保存容器1的剖面圖。 ［第二A圖］是關於一實施形態的容器本體10的平面圖。 ［第二B圖］是關於一實施形態的容器本體10的正面圖。 ［第三A圖］是關於一實施形態的容器本體10的平面側斜視圖。 ［第三B圖］是關於一實施形態的容器本體10的底面側斜視圖。 ［第四A圖］是關於一實施形態的蓋體20的平面圖。 ［第四B圖］是關於一實施形態的蓋體20的正面圖。 ［第五A圖］是關於一實施形態的蓋體20的平面側斜視圖。 ［第五B圖］是關於一實施形態的蓋體20的底面側斜視圖。 ［第六圖］是關於一實施形態的擦洗構件2的封裝100的剖面圖。 ［第七圖］是關於一實施形態之安裝有擦洗構件2的基板洗淨裝置31的斜視圖。

Claims (8)

1. 一種擦洗構件的保存容器，具有： 容器本體；以及 蓋體，嚙合於前述容器本體，其中將擦洗構件收容在前述容器本體與前述蓋體所包圍的保存容器內部； 前述容器本體與前述蓋體嚙合的嚙合面，形成有連通前述保存容器內部與保存容器外部的通氣溝。
2. 如申請專利範圍第1項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述通氣溝形成有複數個前述嚙合面。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述容器本體具有：嚙合溝，可嚙合於前述擦洗構件。
4. 如申請專利範圍第3項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述容器本體具有：環狀壁，以內壁面形成前述嚙合溝的側面； 在前述環狀壁的外壁面，形成前述通氣溝。
5. 如申請專利範圍第4項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述擦洗構件具有：本體部，具有擦洗面；以及突出部，從前述本體部向前述擦洗面的相反側突出； 前述突出部嚙合於前述嚙合溝時，前述環狀壁的頂面與前述本體部為非接觸。
6. 如申請專利範圍第5項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述蓋體相對於前述本體部的前述擦洗面，開出前述嚙合溝的深度以下的空隙，且前述蓋體嚙合於前述容器本體。
7. 如申請專利範圍第5或6項所述的擦洗構件的保存容器，其中前述蓋體具有向著前述本體部的前述擦洗面突出的複數個凸部。
8. 一種擦洗構件的封裝，具有： 如申請專利範圍第1～7項中任一項所述的擦洗構件的保存容器；以及