TW201920721A - 附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法 - Google Patents

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Abstract

提供一種將對於「扭曲」作了抑制的蒸鍍遮 罩固定於框架上之附框架蒸鍍遮罩，並提供一種能夠以良好精確度來製造有機半導體元件之有機半導體元件之製造裝置和有機半導體元件之製造方法，並且提供一種能夠對於在將蒸鍍遮罩作拉張時所產生的「扭曲」作抑制之拉張裝置。
在附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係包 含有：準備由被形成有細縫(15)之金屬遮罩(10)和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部(25)的樹脂遮罩(20)之兩者層積所成的蒸鍍遮罩(100)之準備工程；和藉由保持構件(80)來保持在準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由保持構件(80)所保持的蒸鍍遮罩(100)朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和在拉張工程之後，將被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架(60)處之固定工程，在拉張工程中，係對於被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張蒸鍍遮罩的同時，而進行該 蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。

Description

附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法
本發明，係有關於附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體之製造裝置及有機半導體元件之製造方法。
伴隨著使用有機EL元件之製品的大型化或者是基板尺寸的大型化，對於蒸鍍遮罩之大型化的要求亦日益提昇。並且，在由金屬所構成之蒸鍍遮罩的製造中所使用之金屬板亦係大型化。然而，在現行之金屬加工技術中，想要以良好之精確度來在大型之金屬板上形成開口部一事係為困難，而仍無法對於開口部之高精細化一事有所對應。又，當作成僅由金屬所成之蒸鍍遮罩的情況時，伴隨著大型化，其質量也會增大，並且在追加了框架後之總質量也會增大，因此在處理上會成為有所不便。
於此種狀況下，於專利文獻1中，係揭示有一種蒸鍍遮罩，其係由被設置有細縫之金屬遮罩、和位於金屬遮罩之表面並於縱橫方向配列有複數列之與進行蒸鍍 製作之圖案相對應的開口部之樹脂遮罩，此兩者之層積所成。若依據在專利文獻1中所提案之蒸鍍遮罩，則就算是在作了大型化的情況時，亦能夠滿足高精細化和輕量化之雙方，並且亦成為能夠進行高精細之蒸鍍圖案的形成。
在使用蒸鍍遮罩來在蒸鍍加工對象物上形成蒸鍍圖案時，係使用將蒸鍍遮罩固定在一般而言為由金屬材料或陶瓷材料等所構成的框架上之附框架蒸鍍遮罩。在對於框架而進行蒸鍍遮罩之固定時，在將蒸鍍遮罩之位置作了正確之對位的狀態下來進行固定一事係為重要，而係將蒸鍍遮罩之一部分、例如將蒸鍍遮罩之相對向的2邊(兩端)藉由例如夾鉗等之保持構件來作保持，並使被與身為保持構件之夾鉗等相連結之馬達或空氣汽缸等的驅動手段動作，而在將蒸鍍遮罩作了拉張的狀態下來進行對於框架之固定。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本專利第5288072號公報
當為了將蒸鍍遮罩固定在框架上，而將蒸鍍遮罩之一部分、例如將蒸鍍遮罩之相對向的2邊(兩端)藉由夾鉗等之保持構件來作保持，並使該保持構件朝向蒸 鍍遮罩之外方向作拉張時，當並未將蒸鍍遮罩正確地保持在夾鉗等之保持構件上的情況時，例如雖然將蒸鍍遮罩之兩端相互平行地作了保持但是卻將蒸鍍遮罩之兩端非對稱性地作保持的情況時、或者是並未將蒸鍍遮罩之兩端相互平行地作保持的情況時，亦即是當將蒸鍍遮罩以朝向斜方向而作了傾斜的狀態來作保持的情況時，如同圖8(a)、圖9(a)中所示一般，在將蒸鍍遮罩作拉張時，會在該蒸鍍遮罩處產生「扭曲」。在上述專利文獻1中所提案之蒸鍍遮罩，由於係在樹脂遮罩上形成與所蒸鍍製作之圖案相對應的開口部，因此係容易起因於「扭曲」而產生開口部之尺寸的變動。故而，就算是在樹脂遮罩上形成有尺寸精確度極高之開口部的情況時，若是並不對當在將包含有該樹脂遮罩之蒸鍍遮罩作了拉張的狀態下而固定於框架時所發生的「扭曲」之問題作改善，其結果，高精細之蒸鍍圖案的形成仍會變得困難。
本發明，係為有鑑於此種狀況而進行者，其主要的課題，係在於提供一種：在對於「扭曲」作了抑制的狀態下，而將蒸鍍遮罩固定於框架上之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，並提供一種在上述附框架蒸鍍遮罩之製造中所使用的拉張裝置，並且提供一種能夠以良好精確度來製造有機半導體元件之有機半導體元件之製造裝置和有機半導體元件之製造方法。
為了解決上述課題，本發明，係為一種附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵為，係包含有：準備由被形成有細縫之金屬遮罩和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部的樹脂遮罩之兩者層積所成的蒸鍍遮罩之準備工程；和藉由保持構件來保持在前述準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由該保持構件所保持的蒸鍍遮罩朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和在前述拉張工程之後，將前述被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架處之固定工程，在前述拉張工程中，係對於前述被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張前述蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為：在前述拉張工程中，係更進而包含有：將進行了前述旋轉調整以及移動調整之其中一方或者是雙方之調整的前述蒸鍍遮罩，以維持於該調整後之狀態的方式來作鎖定之鎖定工程，在前述固定工程中，係將前述被作了鎖定的蒸鍍遮罩固定在被形成有貫通孔之框架處。
又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為，係更進而包含有：在前述框架上載置前述蒸鍍遮罩之第1載置工程；和在前述第1載置工程之後，使前述蒸鍍遮罩從前述框架而分離之分離工程；和在 前述分離工程之後，將前述蒸鍍遮罩再度載置於前述框架上之第2載置工程，於前述第1載置工程前、或者是於前述第1載置工程和前述分離工程之間，係進行有前述拉張工程，於前述第2載置工程後，係進行有前述固定工程。
又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為：在前述拉張工程後，係更進而包含有：在前述被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩的其中一面上重疊輔助構件，並於前述蒸鍍遮罩之其中一面和前述輔助構件所相互重疊之部分的至少一部分處，將前述輔助構件固定於前述蒸鍍遮罩處，再藉由將該輔助構件作拉張，而進行蒸鍍遮罩的精密調整之精密調整工程，於前述精密調整工程後，係進行有前述固定工程。
又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為：於前述拉張工程中，將前述蒸鍍遮罩之一部分作保持的前述保持構件，係具備有：能夠以與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以不與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構、以及能夠進行直線移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構，於前述拉張工程中，係藉由前述保持構件之前述第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構中之其中1個機構，來進行前述蒸鍍遮罩之旋轉調整、移動調整之其中一者。
又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為：在前述準備工程中所準備之蒸鍍遮 罩，係由被設置有複數之細縫之金屬遮罩和為了構成複數畫面而被設置有必要之開口部的樹脂遮罩層積所成，各前述細縫，係被設置在至少與1個畫面全體相互重疊之位置處。又，在上述之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係亦可構成為：在前述準備工程中所準備之蒸鍍遮罩，係由被設置有1個的細縫之金屬遮罩和被設置有複數之開口部的樹脂遮罩層積所成，前述複數之開口部的全部，係被設置在與前述1個的細縫相互重疊之位置處。
又，為了解決上述問題，本發明，係為一種拉張裝置，其係為用以拉張蒸鍍遮罩之裝置，其特徵為，係具備有：將前述蒸鍍遮罩之一部分作保持之保持構件；和用以將被前述保持構件所保持之前述蒸鍍遮罩作拉張之拉張機構，前述保持構件，係具備有：能夠以與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以不與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構、以及能夠進行直線移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構。
又，係亦可構成為：前述拉張裝置，係具備有用以驅動框架之驅動平台，前述驅動平台，係具備有能夠在與前述拉張裝置之設置面相交叉的方向上移動之移動機構。
又，在上述拉張裝置中之前述保持構件，係亦可具備有能夠在與前述拉張裝置之設置面相交叉的方向上移動之移動機構。
又，為了解決上述課題，本發明，係為一種有機半導體元件之製造裝置，其特徵為：係被組入有上述之拉張裝置。
又，為了解決上述課題，本發明，係為一種有機半導體元件之製造方法，其特徵為：係包含有使用在框架上固定有蒸鍍遮罩之附框架蒸鍍遮罩來在蒸鍍對象物上形成蒸鍍圖案之工程，在形成前述蒸鍍圖案之工程中所使用的前述附框架蒸鍍遮罩，係為藉由拉張工程以及固定工程所得到者，該拉張工程，係藉由保持構件來保持前述蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由該保持構件所保持的蒸鍍遮罩朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張，並對於被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張前述蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，該固定工程，係於前述拉張工程後，將前述被拉張了的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架上。
若依據本發明之附框架蒸鍍遮罩之製造方法或拉張裝置，則係能夠在對於「扭曲」作了抑制的狀態下，來製造將蒸鍍遮罩固定於框架上所成之附框架蒸鍍遮罩。又，若依據本發明之有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法，則係能夠以良好精確度來製造有機半導體元件。
10‧‧‧金屬遮罩
15‧‧‧細縫
20‧‧‧樹脂遮罩
25‧‧‧開口部
60‧‧‧框架
80‧‧‧保持構件
81‧‧‧本體部
82‧‧‧凸部
85‧‧‧驅動手段
90‧‧‧保持構件支持用框架
100‧‧‧蒸鍍遮罩
200‧‧‧附框架蒸鍍遮罩
〔圖1〕係為對於在準備工程中所準備之蒸鍍遮罩的其中一例作展示之圖，(a)係為從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖，(b)係為(a)之A-A剖面圖。
〔圖2〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(A)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖3〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(A)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖4〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(A)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖5〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(A)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖6〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(B)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖7〕係為對於在準備工程中所準備之實施形態(B)的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
〔圖8〕係為對於在拉張工程中而被作了拉張的蒸鍍遮罩之其中一例作展示之上面圖，(a)係為對於在蒸鍍遮罩處產生有「扭曲」的狀態作展示之上面圖，(b)係為對於將蒸鍍遮罩之「扭曲」作了抑制的狀態作展示之上面圖。
〔圖9〕係為對於在拉張工程中而被作了拉張的蒸鍍 遮罩之其中一例作展示之上面圖，(a)係為對於在蒸鍍遮罩處產生有「扭曲」的狀態作展示之上面圖，(b)係為對於將蒸鍍遮罩之「扭曲」作了抑制的狀態作展示之上面圖。
〔圖10〕用以對於第1旋轉機構作說明之立體圖。
〔圖11〕用以對於第2旋轉機構作說明之立體圖。
〔圖12〕用以對於移動機構作說明之立體圖。
〔圖13〕用以對於拉張工程作說明之上面圖。
〔圖14〕(a)係為用以對於拉張工程作說明之上面圖，(b)係為正面圖。
〔圖15〕用以對於拉張工程作說明之正面圖。
〔圖16〕用以對於拉張工程作說明之上面圖。
〔圖17〕用以對於拉張工程作說明之上面圖。
〔圖18〕用以對於拉張工程作說明之上面圖。
〔圖19〕用以對於固定工程作說明之上面圖。
〔圖20〕用以對於固定工程作說明之上面圖。
〔圖21〕(a)~(c)係為對於框架之其中一例作展示之上面圖。
〔圖22〕係為對於附框架蒸鍍遮罩之其中一例作展示之上面圖。
〔圖23〕係為對於附框架蒸鍍遮罩之其中一例作展示之上面圖。
〔圖24〕係為用以對於精密調整工程作說明之圖，(a)、(b)係為對於蒸鍍遮罩而從樹脂遮罩側來作了觀 察之正面圖。
〔圖25〕(a)~(c)，係為對於藉由保持構件80而將蒸鍍遮罩100作保持的狀態作展示之部分概略剖面圖，(d)~(f)，係為對於對具備有凸部之保持構件80而從凸部82側來作了平面性觀察時的其中一例作展示之圖。
以下，參考圖面，針對本發明之其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法作具體性說明。
〈附框架蒸鍍遮罩之製造方法〉
其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵為，係包含有：準備由被形成有細縫15之金屬遮罩10和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部25的樹脂遮罩20之兩者層積所成的蒸鍍遮罩100之準備工程；和藉由保持構件80來保持在準備工程中所準備的蒸鍍遮罩100之一部分，並將藉由保持構件80所保持的蒸鍍遮罩朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和在拉張工程之後，將被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架60處之固定工程，在拉張工程中，係對於被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
作為其中一例之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係包含有：準備由被形成有細縫15之金屬遮罩10和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部25的樹脂遮罩20之兩者層積所成的蒸鍍遮罩100之準備工程；和藉由保持構件80來保持在準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之相對向之2邊，並將該保持構件80之至少1個朝向蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和將在拉張工程中而被作了拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架處之固定工程，在拉張工程中，將蒸鍍遮罩作保持之保持構件80之至少1個，係為具備有第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構中之至少1個的機構，該第1旋轉機構，係為能夠以與蒸鍍遮罩之面相交叉之第1旋轉軸、例如與蒸鍍遮罩之面相正交之第1旋轉軸作為軸而旋轉者，該第2旋轉機構，係為能夠以並不與蒸鍍遮罩之面相交叉之第2旋轉軸、例如與蒸鍍遮罩之面相平行之第2旋轉軸作為軸而旋轉者，該移動機構，係為能夠進行直線移動、例如能夠朝向與蒸鍍遮罩被作拉張之方向相正交之方向而直線移動者，在拉張工程中，係藉由保持構件80，來對於被作了拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張蒸鍍遮罩的同時，而進行蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。 以下，針對各工程作說明。
〈準備工程〉
準備工程，係如同圖1(a)、(b)中所示一般，乃身為準備由被形成有細縫15之金屬遮罩10和被形成有與被蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部25之樹脂遮罩20，此兩者之層積所成的蒸鍍遮罩100之工程。
(樹脂遮罩)
如圖1中所示一般，在樹脂遮罩20處，係被設置有複數之開口部25。圖1(a)，係為對於在其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中所使用的蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖，圖1(b)，係為圖1(a)之A-A概略剖面圖。
在圖示之型態中，開口部25之開口形狀，係呈現矩形狀，但是，針對開口形狀，係並未特別作限定，只要是與進行蒸鍍製作之圖案相對應的形狀，則不論是何種形狀均可。例如，開口部25之開口形狀，係亦可為菱形、多角形，亦可為圓或橢圓等之具備有曲率的形狀。另外，矩形或多角形狀之開口形狀，相較於圓或橢圓等之具備有曲率的開口形狀，係能夠取得較大之發光面積，在此觀點上，可以說係為較理想之開口部25之開口形狀。
針對樹脂遮罩20之材料，係並未特別作限定，例如，係以能夠藉由雷射加工等來形成高精細之開口部25，並且起因於熱或時間之經過所導致的尺寸變化率和吸濕率為小，且為輕量之材料為理想。作為此種材料， 係可列舉出：聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚乙烯酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丙烯腈樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯-乙烯醇共聚物樹脂、乙烯-甲基丙烯酸共聚物樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、玻璃紙、離子聚合物樹脂等。在上述所例示之材料中，係以熱膨脹係數為16ppm/℃以下之樹脂材料為理想，並以吸濕率為1.0%以下之樹脂材料為理想，又以具備有此雙方之條件的樹脂材料為特別理想。藉由設為使用有此種樹脂材料之樹脂遮罩，係能夠使開口部25之尺寸精確度提昇，並且能夠將起因於熱或時間之經過所導致的尺寸變化率和吸濕率縮小。
針對樹脂遮罩20之厚度，雖並未特別限定，但是，當想要更進一步將對於陰影之發生的抑制效果提昇的情況時，樹脂遮罩20之厚度，係以身為25μm以下為理想，又以身為未滿10μm為更理想。針對下限值之理想範圍，係並未特別作限定，但是，當樹脂遮罩20之厚度為未滿3μm的情況時，係容易產生針孔等之缺陷，並且產生變形等的風險亦為高。特別是，藉由將樹脂遮罩20之厚度設為3μm以上未滿10μm、更理想為4μm以上8μm以下，係能夠更有效地防止當形成超過400ppi之高精細圖案時的陰影之影響。又，樹脂遮罩20和後述之金屬遮罩10，係可直接性地作接合，亦可經由黏著劑層來作接合，但是，當經由黏著劑層來將樹脂遮罩20和金屬遮罩 10作接合的情況時，係以使樹脂遮罩20和黏著劑層之合計厚度落在上述理想之厚度的範圍內為理想。另外，所謂陰影，係指起因於從蒸鍍源所放出之蒸鍍材料的一部分與金屬遮罩之細縫或者是樹脂遮罩之開口部的內壁面相碰撞而並未到達蒸鍍對象物處一事，而導致產生有相較於目的之蒸鍍膜厚而更薄之膜厚的未蒸鍍部分之現象。
針對開口部25之剖面形狀，亦並未特別作限定，形成開口部25之樹脂遮罩的相互對向之端面彼此係亦可成為略平行，但是，如圖1(b)中所示一般，開口部25，係以使其之剖面形狀成為如同會朝向蒸鍍源而擴廣一般之形狀為理想。換言之，係以具備有朝向金屬遮罩10側而擴廣之錐狀面為理想。針對錐狀角，係可對於樹脂遮罩20之厚度等作考慮而適宜設定，但是，將在樹脂遮罩之開口部處的下底前端和同樣之在樹脂遮罩之開口部處的上底前端作了連結的直線、和樹脂遮罩之底面，此兩者間所成之角度，換言之，在樹脂遮罩20之構成開口部25的內壁面之厚度方向剖面上的開口部25之內壁面、與樹脂遮罩20之並未與金屬遮罩10相接之側之面(於圖示之形態中，係為樹脂遮罩之下面)，此兩者間所成之角度，係以落在5°~85°之範圍內為理想，又以落在15°~75°之範圍內為更理想，又以落在25°~65°之範圍內為更加理想。特別是，在此範圍中，又以成為較所使用之蒸鍍機之蒸鍍角度而更小之角度為理想。又，在圖示之形態中，形成開口部25之端面，雖係呈現直線形狀，但是，係並不 被限定於此，亦可成為向外凸出之彎曲形狀，亦即是開口部25之全體的形狀係亦可成為碗狀。
(金屬遮罩)
如圖1(b)中所示一般，在樹脂遮罩20之其中一面上，係被層積有金屬遮罩10。金屬遮罩10，係由金屬所構成，並被配置有朝向縱方向或橫方向而延伸之細縫15。細縫15係等同於開口。針對細縫之配置例，係並未特別作限定，可將朝向縱方向以及橫方向而延伸之細縫在縱方向以及橫方向上作複數列之配置，亦可將朝向縱方向而延伸之細縫於橫方向上作複數列之配置，亦可將朝向橫方向而延伸之細縫於縱方向上作複數列之配置。又，係亦可在縱方向或橫方向上而僅配置有一列。另外，在本案說明書中之所謂「縱方向」、「橫方向」，係指圖面之上下方向、左右方向，而可為蒸鍍遮罩、樹脂遮罩、金屬遮罩之長邊方向、寬幅方向的任一方向。例如，係可將蒸鍍遮罩、樹脂遮罩、金屬遮罩之長邊方向作為「縱方向」，亦可將寬幅方向作為「縱方向」。又，在本案說明書中，雖係列舉出當對於蒸鍍遮罩作平面性觀察時的形狀乃身為矩形狀的情況為例來作說明，但是，係亦可設為此以外之形狀，例如設為圓形狀、或者是菱形狀等之多角形狀。於此情況，係只要將對角線之長邊方向或直徑方向或者是任意之方向作為「長邊方向」，並將與此「長邊方向」相正交之方向作為「寬幅方向(亦有稱作短邊方向的情況)」即 可。
針對金屬遮罩10之材料，係並未特別限定，而可適宜選擇在蒸鍍遮罩之技術領域中之先前技術所周知者來使用，例如，係可列舉出不鏽鋼、鐵鎳合金、鋁合金等之金屬材料。其中，又以身為鐵鎳合金之恆範鋼(invar)，由於其之起因於熱所導致的變形係為少，因此係可合適地使用。
針對金屬遮罩10之厚度，雖並未特別限定，但是，為了更有效地防止陰影之發生，係以身為100μm以下為理想，又以身為50μm以下為更理想，又以身為35μm以下為特別理想。另外，當設為較5μm而更薄的情況時，係會使破斷或變形的風險提高，並且會有導致處理上之困難的傾向。
又，在圖1(a)所示之形態中，當對於細縫15之開口作了平面觀察時之形狀，係呈現矩形狀，但是，針對開口形狀，係並未特別作限定，細縫15之開口形狀，係亦可為梯形狀、圓形狀等之任意之形狀。
針對被形成於金屬遮罩10上之細縫15的剖面形狀，亦並未特別作限定，但是，如圖1(b)中所示一般，係以身為如同會朝向蒸鍍源而擴廣一般之形狀為理想。更具體而言，將在金屬遮罩10之細縫15處的下底前端和同樣之在金屬遮罩10之細縫15處的上底前端作了連結的直線、和金屬遮罩10之底面，此兩者間所成之角度，換言之，在金屬遮罩10之構成細縫15的內壁面之厚 度方向剖面上的細縫15之內壁面、與細縫15之內壁面和金屬遮罩10之樹脂遮罩20相接之側之面(於圖示之形態中，係為金屬遮罩之下面)，此兩者間所成之角度，係以落在5°~85°之範圍內為理想，又以落在15°~80°之範圍內為更理想，又以落在25°~65°之範圍內為更加理想。特別是，在此範圍中，又以成為較所使用之蒸鍍機之蒸鍍角度而更小之角度為理想。
針對在樹脂遮罩上層積金屬遮罩10之方法，係並未特別作限定，亦可使用各種黏著劑來將樹脂遮罩20和金屬遮罩10作貼合，亦可使用具備有自我黏著性之樹脂遮罩。樹脂遮罩20和金屬遮罩10之大小，係可為相同，亦可為相異之大小。另外，對於後續所任意進行之對於框架之固定作考慮，若是將樹脂遮罩20之大小設為較金屬遮罩10更小，而預先設為使金屬遮罩10之外周部分作了露出的狀態，則金屬遮罩10與框架間之固定係變得容易，而為理想。
以下，針對在本工程中所準備的理想之蒸鍍遮罩之形態，列舉出實施形態(A)以及實施形態(B)為例來作說明。另外，在本工程中所準備之蒸鍍遮罩100，係並不被限定於以下所說明之實施形態(A)以及實施形態(B)，只要是滿足將被形成有細縫15之金屬遮罩10和被形成有與被蒸鍍製作於和該細縫15相重疊之位置處的圖案相對應之開口部25之樹脂遮罩20的兩者作層積之條件，則係可為任意之形態。例如，被形成於金屬遮罩 10處之細縫15，係亦可為條狀(未圖示)。又，係亦可在不會與1個畫面全體相互重疊之位置處，而設置有金屬遮罩10之細縫15。
〈實施形態(A)之蒸鍍遮罩〉
如圖2中所示一般，實施形態(A)之蒸鍍遮罩100，係為用以同時形成複數畫面之蒸鍍圖案的蒸鍍遮罩，其特徵為：係在樹脂遮罩20之其中一面上層積被設置有複數之細縫15之金屬遮罩10所成，於樹脂遮罩20處，係被設置有為了構成複數畫面所需要之開口部25，各細縫15，係被設置在至少與1個畫面全體相互重疊之位置處。
實施形態(A)之蒸鍍遮罩100，係為為了同時形成複數畫面之蒸鍍圖案所使用的蒸鍍遮罩，而能夠藉由1個的蒸鍍遮罩100來同時形成與複數之製品相對應之蒸鍍圖案。在實施形態(A)之蒸鍍遮罩中的所謂「開口部」，係指想要使用實施形態(A)之蒸鍍遮罩100而製作之圖案，例如，當將該蒸鍍遮罩使用於在有機EL顯示器中之有機層之形成中的情況時，開口部25之形狀係成為該有機層之形狀。又，所謂「1個畫面」，係由與1個的製品相對應之開口部25之集合體所成，當該1個的製品乃身為有機EL顯示器的情況時，為了形成1個的有機EL顯示器所需要的有機層之集合體、亦即是成為有機層之開口部25之集合體，係成為「1個畫面」。而，實施 形態(A)之蒸鍍遮罩100，係為了同時形成複數畫面之蒸鍍圖案，而在樹脂遮罩20處，將上述之「1個畫面」空出有特定之間隔地來配置有複數之畫面。亦即是，在樹脂遮罩20處，係被設置有為了構成複數畫面所需要之開口部25。
實施形態(A)之蒸鍍遮罩，其特徵為：係在樹脂遮罩20之其中一面上，設置被設置有複數之細縫15之金屬遮罩10，各細縫，係被設置在至少與1個畫面全體相互重疊之位置處。換言之，其特徵為：在為了構成1個畫面所需要的開口部25之間，於在橫方向上相互鄰接之開口部25之間，係並不存在有身為與細縫15之縱方向之長度相同的長度並且具有與金屬遮罩10相同之厚度的金屬線部分，於在縱方向上相互鄰接之開口部25之間，係並不存在有身為與細縫15之橫方向之長度相同的長度並且具有與金屬遮罩10相同之厚度的金屬線部分。以下，係有對於身為與細縫15之縱方向之長度相同的長度並且具有與金屬遮罩10相同之厚度的金屬線部分以及身為與細縫15之橫方向之長度相同的長度並且具有與金屬遮罩10相同之厚度的金屬線部分，而將其單純總稱為金屬線部分的情況。
若依據實施形態(A)之蒸鍍遮罩100，則就算是當將為了構成1個畫面所需要的開口部25之大小和構成1個畫面的開口部25間之節距縮窄的情況時，例如當為了進行超過400ppi之畫面的形成而將開口部25之大 小和開口部25間之節距設為極為微小的情況時，亦能夠防止起因於金屬線部分所導致的干涉，而成為能夠進行高精細之畫像的形成。另外，當1個畫面被複數之細縫所分割的情況時，換言之，當在構成1個畫面的開口部25間存在有具備與金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分的情況時，伴隨著構成1個畫面的開口部25間之節距的縮窄，存在於開口部25間之金屬線部分會成為在對於蒸鍍對象物形成蒸鍍圖案時之阻礙，形成高精細之蒸鍍圖案一事係變得困難。換言之，當在構成1個畫面的開口部25間存在有具備與金屬遮罩10相同厚度之金屬線部分的情況時，在將其製作成附框架蒸鍍遮罩時，該金屬線部分會導致陰影之發生，形成高精細之畫面一事係變得困難。
接著，參考圖2~圖6，針對構成1個畫面的開口部25之其中一例作說明。另外，在圖示之形態中，以虛線而作了封閉之區域，係成為1個畫面。於圖示之形態中，為了方便說明，係將少數的開口部25之集合體設為1個畫面，但是，係並不被限定於此形態，例如，當將1個的開口部25作為1個像素時，於1個畫面中係亦可存在有數百萬像素之開口部25。
於圖2所示之形態中，係藉由以在縱方向、橫方向上設置有複數之開口部25所成的開口部25之集合體，來構成1個畫面。於圖3所示之形態中，係藉由以在橫方向上設置有複數之開口部25所成的開口部25之集合體，來構成1個畫面。又，於圖4所示之形態中，係藉由 以在縱方向上設置有複數之開口部25所成的開口部25之集合體，來構成1個畫面。又，在圖2~圖4中，係於會與1個畫面全體相互重疊之位置處，而設置細縫15。
如同上述所說明一般，細縫15，係可被設置在僅與1個畫面相互重疊之位置處，亦可如同圖5(a)、(b)中所示一般，被設置在會與2以上之畫面全體相互重疊之位置處。在圖5(a)中，係於圖2所示之樹脂遮罩10處，在與於橫方向上而相連續之2個畫面全體相互重疊之位置處設置有細縫15。在圖5(b)中，係在與於縱方向上而相連續之3個畫面全體相互重疊之位置處設置有細縫15。
接著，列舉圖2中所示之形態為例，針對構成1個畫面的開口部25間之節距、畫面間之節距作說明。針對構成1個畫面的開口部25間之節距和開口部25之大小，係並未特別作限定，而可因應於進行蒸鍍製作之圖案來適宜作設定。例如，當進行400ppi之高精細之蒸鍍圖案之形成的情況時，於構成1個畫面的開口部25處之相鄰接之開口部25之橫方向的節距(P1)、縱方向的節距(P2)，係成為60μm程度。又，開口部之大小，係成為500μm2~1000μm2程度。又，1個的開口部25，係並不被限定於與1個像素相對應，例如，依存於像素之配列，亦可將複數像素作整合而設為1個的開口部25。
針對畫面間之橫方向節距(P3)、縱方向節距(P4)，亦並未特別作限定，但是，如同圖2中所示一 般，當1個的細縫15為被設置在與1個畫面全體相互重疊之位置處的情況時，於各畫面間係成為存在有金屬線部分。故而，當各畫面間之縱方向節距(P4)、橫方向節距(P3)為較被設置在1個的畫面內之開口部25之縱方向節距(P2)、橫方向節距(P1)而更小的情況時、或者是略同等的情況時，存在於各畫面間之金屬線部分係變得容易斷線。故而，若是對於此點作考慮，則較理想，畫面間之節距(P3、P4)，係較構成1個畫面的開口部25間之節距(P1、P2)而更廣。作為畫面間之節距(P3、P4)的其中一例，係為1mm~100mm程度。另外，所謂畫面間之節距，係指在1個的畫面和與該1個的畫面相鄰接之其他的畫面處的相鄰接之開口部間之節距。此事，針對後述之實施形態(B)之蒸鍍遮罩處的開口部25間之節距、畫面間之節距而言，亦為相同。
另外，如圖5中所示一般，當1個的細縫15為被設置在與2個以上的畫面全體相互重疊之位置處的情況時，於在1個的細縫15內所設置的複數之畫面間，係成為並不存在構成細縫之內壁面的金屬線部分。故而，於此情況，被設置在與1個的細縫15相互重疊之位置處之2個以上的畫面間之節距，係亦可成為與構成1個畫面的開口部25間之節距略同等。
又，於樹脂遮罩20處，係亦可被形成有在樹脂遮罩20之縱方向或橫方向上而延伸之溝(未圖示)。當於蒸鍍時被施加有熱的情況時，樹脂遮罩20係會產生 熱膨脹，起因於此，會有在開口部25之尺寸和位置中產生變化的可能性，但是，藉由形成溝，係能夠吸收樹脂遮罩之膨脹，而能夠對起因於在樹脂遮罩之各場所處所產生的熱膨脹之累積而導致樹脂遮罩20作為全體而朝向特定之方向膨脹並使開口部25之尺寸和位置有所變化的情形作防止。針對溝之形成位置，係並未作限定，而亦可設置在構成1個畫面的開口部25間，或者是設置在與開口部25相互重疊之位置處，但是，係以設置在畫面間為理想。又，溝係亦可僅設置在樹脂遮罩之其中一面上，例如僅可設置在與金屬遮罩相接之面上，亦可僅設置在並不與金屬遮罩相接之面上。或者是，係亦可設置在樹脂遮罩20之兩面上。
又，係可設為於相鄰接之畫面間而在縱方向上延伸之溝，亦可形成於相鄰接之畫面間而在橫方向上延伸之溝。進而，係亦能夠以將此些作了組合的形態來形成溝。
針對溝之深度及其寬幅，係並未特別作限定，但是，當溝之深度過深的情況或者是寬幅過廣的情況時，由於樹脂遮罩20之剛性係會有降低的傾向，因此，係有必要對於此點作考慮而進行設定。又，針對溝之剖面形狀，亦並未特別作限定，只要對於加工方法等作考慮，而任意選擇像是U字形狀或V字形狀等。針對後述之實施形態(B)之蒸鍍遮罩而言，亦為相同。
〈實施形態(B)之蒸鍍遮罩〉
接著，針對實施形態(B)之蒸鍍遮罩作說明。如圖6中所示一般，實施形態(B)之蒸鍍遮罩100，其特徵為：係在樹脂遮罩20之其中一面上層積被設置有1個的細縫(1個的孔16)之金屬遮罩10所成，於樹脂遮罩20處，係被設置有複數之與所蒸鍍製作之圖案相對應之開口部25，該複數之開口部25的全部，均係被設置在與設置於金屬遮罩10上之1個的孔16相互重疊之位置處。
在實施形態(B)之蒸鍍遮罩中的所謂開口部25，係指為了在蒸鍍對象物上形成蒸鍍圖案所需要的開口部，並非為為了在蒸鍍對象物上形成蒸鍍圖案所需要的開口部，係亦可設置在並不與1個的孔16相重疊之位置處。另外，圖6，係為對於代表實施形態(B)的蒸鍍遮罩之其中一例之蒸鍍遮罩而從金屬遮罩側來作了觀察的上面圖。
實施形態(B)之蒸鍍遮罩100，係在具備有複數之開口部25的樹脂遮罩20上，設置有具備1個的孔16之金屬遮罩10，並且，複數之開口部25的全部，均係被設置在與該1個的孔16相互重疊之位置處。在具備有此種構成之實施形態(B)之蒸鍍遮罩100中，於開口部25之間，由於係並不存在厚度為與金屬遮罩之厚度相同或者是為較金屬遮罩之厚度而更厚的金屬線部分，因此，如同在上述之實施形態(A)之蒸鍍遮罩中所作了說明一般，係成為能夠並不受到起因於金屬線部分所導致之干涉 地來如同被設置在樹脂遮罩20處之開口部25之尺寸一般地而形成高精細之蒸鍍圖案。
又，若依據實施形態(B)之蒸鍍遮罩，則由於就算是在將金屬遮罩10之厚度設為較厚的情況時，也幾乎不會受到陰影的影響，因此，係能夠將金屬遮罩10之厚度構成為能夠充分地滿足耐久性和處理性之厚度，而能夠在成為可形成高精細之蒸鍍圖案的同時亦使耐久性和處理性有所提昇。
在實施形態(B)之蒸鍍遮罩中的樹脂遮罩20，係由樹脂所構成，並如圖6中所示一般，在與1個的孔16相重疊之位置處，被設置有複數之與所蒸鍍製作之圖案相對應之開口部25。開口部25，係與所蒸鍍製作之圖案相對應，藉由使從蒸鍍源所放出之蒸鍍材通過開口部25，於蒸鍍對象物上係被形成有與開口部25相對應之蒸鍍圖案。另外，在圖示之形態中，雖係列舉出將開口部於縱橫方向上作了複數列配置之例來作了說明，但是係亦可僅配置在縱方向上或僅配置在橫方向上。
在實施形態(B)之蒸鍍遮罩100中的所謂「1個畫面」，係指與1個的製品相對應之開口部25之集合體，當該1個的製品乃身為有機EL顯示器的情況時，為了形成1個的有機EL顯示器所需要的有機層之集合體、亦即是成為有機層之開口部25之集合體，係成為「1個畫面」。實施形態(B)之蒸鍍遮罩，係可為僅由「1個畫面」所成者，亦可為將該「1個畫面」作了複數 畫面配置者，但是，當將「1個畫面」作了複數畫面配置的情況時，係以於每畫面單位均空出有特定之間隔的方式來設置開口部25為理想(參考實施形態(A)之蒸鍍遮罩之圖5)。針對「1個畫面」之形態，係並未特別作限定，例如，當將1個的開口部25作為1個像素時，係亦可藉由數百萬個的開口部25來構成1個畫面。
在實施形態(B)之蒸鍍遮罩100中的金屬遮罩10，係由金屬所構成，並具備有1個的孔16。又，在本發明中，該1個的孔16，當從金屬遮罩10之正面作了觀察時，係被配置在會與全部的開口部25相重疊之位置處，換言之，係被配置在成為能夠看到被配置在樹脂遮罩20上之全部的開口部25之位置處。
構成金屬遮罩10之金屬部分、亦即是1個的孔16以外之部分，係可如圖6中所示一般沿著蒸鍍遮罩100之外緣來設置，亦可如圖7中所示一般，將金屬遮罩10之大小設為較樹脂遮罩20更小並使樹脂遮罩20之外周部分露出。又，亦可將金屬遮罩10之大小設為較樹脂遮罩20更大，並使金屬部分之一部分突出於樹脂遮罩之橫方向外側或者是縱方向外側。另外，不論是在何者的情況中，1個的孔16之大小，均係構成為較樹脂遮罩20之大小而更小。
針對圖6中所示之金屬遮罩10的構成1個的孔16之壁面之金屬部分的橫方向之寬幅(W1)以及縱方向之寬幅(W2)，係並未特別作限定，但是，隨著W1、 W2之寬幅的變窄，會有使耐久性和處理性降低的傾向。故而，W1、W2，係以設為能夠充分地滿足耐久性和處理性之寬幅為理想。雖可因應於金屬遮罩10之厚度來適宜設定適當之寬幅，但是，作為理想之寬幅的其中一例，係與實施形態(A)之蒸鍍遮罩的金屬遮罩相同，W1、W2均為1mm~100mm程度。
以下，針對在本工程中所準備的蒸鍍遮罩之製造方法，列舉出其中一例來作說明。在準備工程中所準備之蒸鍍遮罩100，係可藉由準備在樹脂板之其中一面上層積被設置有細縫15之金屬遮罩10所得的附樹脂板金屬遮罩，接著對於附樹脂板金屬遮罩而從金屬遮罩10側來通過細縫15而照射雷射，以在樹脂板上形成與進行蒸鍍製作位置相對應的開口部25，來形成之。
作為附樹脂板金屬遮罩之形成方法，係在樹脂板之其中一面上，層積被設置有細縫15之金屬遮罩10。樹脂板，係可使用在上述之樹脂遮罩20中所說明的材料。
作為被設置有細縫15之金屬遮罩10的形成方法，係可藉由在金屬板之表面上塗布遮蔽構件、例如塗布光阻材，並對特定之場所進行曝光、顯像，來形成將最終會被形成有細縫15之位置作了殘留的光阻圖案。作為遮蔽構件來使用之光阻材，係以處理性為佳且具有所期望之解像性者為理想。接著，藉由將此光阻圖案作為耐蝕刻遮罩來使用之蝕刻法，而進行蝕刻加工。在蝕刻結束後， 將光阻圖案作洗淨除去。藉由此，係能夠得到設置有細縫15之金屬遮罩10。用以形成細縫15之蝕刻，係可從金屬板之單面側來進行，亦可從兩面來進行。又，當使用在金屬板上設置有樹脂板之層積體，而在金屬板上形成細縫15的情況時，係在金屬板之並未與樹脂板相接之側的表面上塗布遮蔽構件，並藉由從單面側所進行之蝕刻來形成細縫15。另外，樹脂板，當相對於金屬板之蝕刻材而具備有耐蝕刻性的情況時，係並不需要對於樹脂板之表面進行遮蔽，但是，當樹脂板相對於金屬板之蝕刻材而並不具備有耐蝕刻性的情況時，係有必要在樹脂板之表面上預先塗布遮蔽構件。又，於上述說明中，作為遮蔽構件，雖係以光阻材作為中心而作了說明，但是，代替塗布光阻材，係亦可將該薄膜光阻作層壓並進行同樣之圖案化。
在上述之方法中，構成附樹脂板金屬遮罩之樹脂板，係並不被限定於板狀之樹脂，亦可為藉由敷層所形成之樹脂層或樹脂膜。亦即是，樹脂板，係可為預先所作了準備者，又，在使用金屬板和樹脂板而形成附樹脂板金屬遮罩的情況時，係亦可在金屬板上，藉由先前技術所周知之敷層法等來形成最終會成為樹脂遮罩之樹脂層或樹脂膜。
作為開口部25之形成方法，係對於上述所準備的附樹脂板金屬遮罩，而使用雷射加工法、精密沖壓加工法、光微影加工等，來貫通樹脂板，並形成與被蒸鍍製作於樹脂板上之圖案相對應的開口部25，藉由此，來得 到在被設置有與所蒸鍍製作之圖案相對應的開口部25之樹脂遮罩20的其中一面上層積有被設置了細縫15之金屬遮罩10之其中一種實施形態之蒸鍍遮罩100。另外，從能夠容易地形成高精細之開口部25的觀點來看，於開口部25之形成中，係以使用雷射加工法為理想。
於各圖中所示之形態的蒸鍍遮罩100，當對於該蒸鍍遮罩進行平面觀察時之形狀，係呈現矩形狀，但是，在對於蒸鍍遮罩進行平面觀察時所呈現之形狀，係並不被限定於此形狀，而亦可為任意之形狀，例如可列舉出圓形狀、多角形狀等。
〈拉張工程〉
拉張工程，係為藉由保持構件80來將在準備工程中所準備了的蒸鍍遮罩100之一部分作保持，並將藉由保持構件80而作了保持的蒸鍍遮罩朝向其之外方向來進行拉張之工程。在其中一例之拉張工程中，係藉由保持構件80來將在準備工程中所準備了的蒸鍍遮罩之相對向之二邊作保持，並將該保持構件80之至少1個朝向蒸鍍遮罩之外方向來進行拉張。例如，係使被與保持構件80作了連結之馬達或空氣汽缸等的驅動手段動作，並將藉由保持構件80而作了保持的蒸鍍遮罩100朝向其之外方向來進行拉張。
又，在其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，於拉張工程中，係將蒸鍍遮罩100之一部 分藉由保持構件80來作保持，並一面將藉由保持構件80而作了保持的蒸鍍遮罩朝向其之外方向來作拉張，一面進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整、或者是對於被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
關於由保持構件80所致之蒸鍍遮罩100之保持位置，係並未特別作限定，但是，通常，蒸鍍遮罩100之端部近旁係成為由保持構件80所致之蒸鍍遮罩100之保持位置。由保持構件80所致之蒸鍍遮罩100之保持，係可僅使用1個的保持構件80來進行，亦可使用複數之保持構件80來進行。
以下，針對在拉張工程中之用以實現旋轉調整以及移動調整的具體性之手段，以保持構件80所具有的機構為例來進行說明。另外，旋轉調整、移動調整，係亦可藉由以下所說明之手段以外的手段來實現之。
在其中一例之拉張工程中，將蒸鍍遮罩100之一部分作保持的保持構件80，係具備有：能夠以與蒸鍍遮罩100之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構(以下，亦有單純稱作第1旋轉機構的情況)、和能夠以不與蒸鍍遮罩100之面相交叉的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構(以下，亦有單純稱作第2旋轉機構的情況)、以及能夠進行直線移動之移動機構(以下，亦有單純稱作移動機構的情況)，此些機構中之至少 1個的機構，藉由該保持構件80，來進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整之其中一者、或者是雙方的調整。
在本案說明書中之所謂與第1旋轉軸相交叉之蒸鍍遮罩之面、不與第2旋轉軸相交叉之蒸鍍遮罩之面，係指包含有蒸鍍遮罩之面全體中的任意選擇之3個點的區域。
上述第1旋轉機構，只要滿足能夠將與蒸鍍遮罩之面相交叉之第1旋轉軸作為軸來旋轉的條件，則針對蒸鍍遮罩之面和第1旋轉軸之間所成的角度，係並未特別作限定，但是，較理想，係為45°~135°，更理想，係為85°~95°，特別理想，係為90°。
上述移動機構，只要滿足能夠進行直線移動的條件，則針對其之移動方向，係並未特別作限定，但是，將蒸鍍遮罩作拉張之方向的軸和保持構件80所移動之方向的軸，此兩者間所成之角度，較理想，係為45°~135°，更理想，係為85°~95°，特別理想，係為90°。
作為上述保持構件80之具體例，係可列舉出具備有能夠以與蒸鍍遮罩100之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以與蒸鍍遮罩之面相平行的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構、以及能夠朝向與將蒸鍍遮罩作拉張之方向相正交的方向來移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構之保持構件80等。
於拉張工程之說明中，係亦對於在並不進行 旋轉調整或移動調整地而將蒸鍍遮罩作了拉張時的「扭曲之發生」、亦即是對於當使用並未具備上述之第1旋轉機構、第2旋轉機構、移動機構之任一者之機構的保持構件(以下，亦有稱作「先前技術之保持構件」的情況)來將蒸鍍遮罩作了拉張時所導致的「扭曲」之發生有所提及地，來針對使用具備有上述之第1旋轉機構、第2旋轉機構、移動機構中之至少一者的機構之保持構件來將蒸鍍遮罩作拉張之本發明之其中一種實施形態作說明。另外，圖8(a)、圖9(a)，係為對於在拉張工程後而在蒸鍍遮罩處產生有「扭曲」的狀態作展示之上面圖，圖8(b)、圖9(b)，係為對於藉由使用具有上述特徵之保持構件來將蒸鍍遮罩作拉張而對於蒸鍍遮罩之「扭曲」作了抑制的狀態作展示之上面圖。另外，在圖8、圖9中，係將在蒸鍍遮罩處之開口部25和細縫15作省略。又，係將「扭曲」作了誇張性的展示。
在本案說明書中之所謂「扭曲」，係指包含有當拉張蒸鍍遮罩時在蒸鍍遮罩處所產生的波狀之皺紋或變形等的概念。又，在本案說明書中之所謂「將蒸鍍遮罩作拉張」，係指對於使上述所準備的蒸鍍遮罩100伸張的方向而施加外力(張力)。
又，在本案說明書中之所謂「保持構件」，係指能夠藉由某些之手段來將蒸鍍遮罩之一部分、例如將蒸鍍遮罩之邊作保持的構件。針對將蒸鍍遮罩作保持之形態，係並未特別作限定，例如，當作為保持構件而使用夾 鉗的情況時，係藉由以該夾鉗來將蒸鍍遮罩之端部等作把持，而保持蒸鍍遮罩。又，當作為保持構件而使用金屬板或樹脂板等之構件的情況時，係藉由以黏著劑來將該構件和蒸鍍遮罩之端部作貼合，或者是以熔接等來將該構件和蒸鍍遮罩之端部作固定，而保持蒸鍍遮罩。又，當作為保持構件而使用具有磁性之磁性構件的情況時，係藉由使用磁力來將該磁性構件和位置於蒸鍍遮罩之端部近旁的金屬遮罩作吸附，而保持蒸鍍遮罩。亦可藉由上述以外之形態來保持蒸鍍遮罩。另外，當由保持構件所致之蒸鍍遮罩之保持力為弱的情況時，在將藉由保持構件80而作了保持的蒸鍍遮罩朝向其之外方向來作拉張時，由於會有導致從初始之保持位置而有所變動的情況，因此，由保持構件所致之蒸鍍遮罩之保持力，係有必要具備有能夠在對蒸鍍遮罩作拉張時不會產生保持位置之變動的程度之保持力。若是對於此些之保持力和將蒸鍍遮罩作保持時之簡易性作考慮，則作為保持構件，係以使用夾鉗為理想。另外，在各圖所示之形態中，係列舉出保持構件80乃身為夾鉗的情況為例來進行說明。
在使用上述之先前技術之保持構件來對於蒸鍍遮罩進行拉張時，當並未將蒸鍍遮罩正確地保持在保持構件上的情況時，例如雖然藉由保持構件80來將蒸鍍遮罩100之兩端相互平行地作了保持但是卻將蒸鍍遮罩100之兩端非對稱性地作保持的情況時，在使連結於保持構件80之馬達或空氣汽缸等之驅動手段動作並將蒸鍍遮罩作 拉張時，會成為在蒸鍍遮罩100處產生「扭曲」(參考圖8(a))。又，當並未藉由保持構件80而將蒸鍍遮罩之兩端平行地作保持的情況時、亦即是當藉由保持構件80而將蒸鍍遮罩100以朝向斜方向傾斜之狀態來作了保持的情況時，起因於對蒸鍍遮罩進行拉張一事，會成為在該蒸鍍遮罩100處產生「扭曲」(參考圖9(a))。
構成在上述準備工程中所準備之蒸鍍遮罩100的樹脂遮罩20，由於係由樹脂材料所構成，因此，係有著能夠形成高精細度之開口部25的優點，另一方面，則係有著容易起因於從外部所施加之應力等而產生開口部25之尺寸的變動之問題。而，在拉張工程中，當於蒸鍍遮罩100處產生有「扭曲」的情況時，被形成於樹脂遮罩20處之開口部25之尺寸係容易產生變動，而成為對於使用附框架蒸鍍遮罩來形成高精細度之蒸鍍圖案一事造成阻礙。
在其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係藉由對於被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩100，而進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，或者是一面將蒸鍍遮罩100作拉張，一面進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，來對可能會起因於將蒸鍍遮罩作拉張一事而產生的「扭曲」作抑制。在作為其中一例之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係藉由具備有上述第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之至少一者的保持 構件80，來保持蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由該保持構件80而作了保持的蒸鍍遮罩100朝向其之外方向來作拉張。若依據此例，則藉由保持構件80所具備之機構的作用，係成為能夠在對於可能會在蒸鍍遮罩處所產生之「扭曲」作了抑制的狀態下，來將蒸鍍遮罩作拉張。具體而言，在本工程中，保持構件80，係藉由對於被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩100，而進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，或者是一面將蒸鍍遮罩100作拉張，一面進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，來對可能會起因於將蒸鍍遮罩作拉張一事而產生的「扭曲」作抑制。以下，係有將上述第1旋轉機構、第2旋轉機構、移動機構總稱為「本發明中之機構」的情形。又，在本案說明書中之所謂「旋轉調整」，係代表藉由使用第1旋轉機構或者是第2旋轉機構來使蒸鍍遮罩旋轉而對於上述「扭曲」作抑制之調整，所謂「移動調整」，係指藉由使用上述移動機構來使蒸鍍遮罩移動而對於上述「扭曲」作抑制之調整。
圖10，係為對於藉由具備有第1旋轉機構之保持構件80來使保持構件80作了旋轉的狀態作展示之立體圖。在圖示之形態中，係採用以與蒸鍍遮罩100之面相正交之第1旋轉軸(L1)作為軸來使保持構件80朝向箭頭之方向旋轉的構成。圖11，係為對於藉由具備有第2旋轉機構之保持構件80來使保持構件80作了旋轉的狀態 作展示之立體圖。在圖示之形態中，係採用以與蒸鍍遮罩100之面相平行之第2旋轉軸(L2)作為軸來使保持構件80朝向箭頭之方向旋轉的構成。圖12，係為對於藉由具備有移動機構之保持構件80來使保持構件80作了移動的狀態作展示之立體圖。在圖示之形態中，係採用能夠朝向與將蒸鍍遮罩作拉張之方向相正交的方向(L3方向)來移動的構成。在圖10~圖12中，係將在蒸鍍遮罩100處之開口部25和細縫15作省略。
第1旋轉軸、第2旋轉軸，係並不被限定於圖示之形態，如同於上述所說明一般，只要與蒸鍍遮罩之面相交叉之軸為成為第1旋轉軸、並不會與蒸鍍遮罩之面相交叉之軸為成為第2旋轉軸即可。另外，圖10~圖12，係為保持構件所具備之機構的理想形態。
理想形態之保持構件，係將與蒸鍍遮罩之面相正交之軸作為第1旋轉軸，並將與蒸鍍遮罩之面相平行之軸作為第2旋轉軸，且將與將蒸鍍遮罩作拉張之方向相正交的方向作為移動方向，但是，在本案說明書中，所謂「與蒸鍍遮罩100之面相正交」的記載以及「與將蒸鍍遮罩作拉張之方向相正交的方向」之記載，係並非代表一定會相對於蒸鍍遮罩之面或者是將蒸鍍遮罩作拉張之方向而成為90°之角度，而係為亦容許有在能夠發揮本發明之作用效果的範圍內之角度者。亦即是，只要是能夠以可對於蒸鍍遮罩之「扭曲」作抑制的程度而使蒸鍍遮罩旋轉的角度即可，而只要為相對於蒸鍍遮罩之面或者是將蒸鍍遮罩 作拉張之方向而包含有正交成分者即可。又，所謂「與蒸鍍遮罩之面相平行」之記載，係並非代表一定會相對於蒸鍍遮罩之面而成為0°之角度，而係為亦容許有在能夠發揮本發明之作用效果的範圍內之角度者。亦即是，只要是能夠以可對於蒸鍍遮罩之「扭曲」作抑制的程度而使蒸鍍遮罩移動的角度即可，而只要為相對於蒸鍍遮罩之面而包含有平行成分者即可。
其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，雖係以使將蒸鍍遮罩之一部分作保持的保持構件具備有上述之「本發明中之機構」中的至少1個的機構一事作為必要條件，但是，作為理想形態，係可列舉出：蒸鍍遮罩之相對向之二邊，係藉由相互獨立之保持構件80而被作保持，並且，(i)將蒸鍍遮罩之相對向之二邊中的其中一邊作保持之保持構件80，係具備有第1旋轉機構和第2旋轉機構之其中一方或者是雙方，而保持另外一邊之保持構件80為具備有移動機構之形態；(ii)將蒸鍍遮罩之相對向之二邊中的其中一邊作保持之保持構件80，係具備有第1旋轉機構和第2旋轉機構之其中一方或者是雙方，以及移動機構之形態。在(ii)所示之形態中，將蒸鍍遮罩之另外一邊作保持的保持構件80，係並非絕對需要具備有上述之「本發明中之機構」。(i)、(ii)中所示之形態，係能夠萬能地抑制在拉張工程中可能會於蒸鍍遮罩處而產生的「扭曲」，在此觀點上，係身為理想之形態。換言之，在對於蒸鍍遮罩作拉張時，不論是在何種 方向上產生有「扭曲」，均能夠將此「扭曲」消除。又，「扭曲」，多數之情況係能夠藉由具備有第1旋轉機構之保持構件來作抑制，故而，作為旋轉機構，係以構成為具備有第1旋轉機構之保持構件為理想。以下，針對對於在拉張工程中所可能產生之「扭曲」的抑制，列舉出具備有上述「本發明中之機構」的保持構件之其中一例來作說明。
在圖8(a)、圖9(a)中，雖然係起因於將蒸鍍遮罩100作拉張一事而於該蒸鍍遮罩100處產生有「扭曲」，但是，藉由對於圖8中所示之保持構件80a賦予移動機構，並對於保持構件80b賦予第1旋轉機構，且使保持構件80a朝向箭頭之方向移動，並使保持構件80b朝向箭頭之方向旋轉，或者是藉由對於圖9中所示之保持構件80a賦予移動機構，並使保持構件80a朝向箭頭之方向移動，如同圖8(b)、圖9(b)中所示一般，係能夠在對於「扭曲」作了抑制的狀態下來將蒸鍍遮罩100作拉張。
於拉張工程中，保持構件80，係將蒸鍍遮罩100之一部分作保持，並將該蒸鍍遮罩100朝向其之外方向來作拉張，而與將蒸鍍遮罩作拉張一事同時地、或者是在作了拉張之後，藉由保持構件80所具備之「本發明中之機構」來進行蒸鍍遮罩100之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。而，藉由此調整，起因於將蒸鍍遮罩100作拉張一事而可能會產生的「扭曲」係被作 抑制。以下，係針對能夠對於「扭曲」作抑制之更具體之實施形態，列舉出其中一例來作說明，但是本發明係並不被限定於此形態。
圖13，係為對於將蒸鍍遮罩100作拉張並將該被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩100固定於框架60上時的狀態作展示之上面圖。在圖示之形態中，具備有「本發明中之機構」之保持構件80，係被設置在保持構件支持用框架90上。具備有「本發明中之機構」之保持構件80，係成為能夠相對於保持構件支持用框架90而進行旋轉以及/或者是移動。
作為能夠一面拉張蒸鍍遮罩一面對於「扭曲」作抑制之實施形態，係可列舉出：於保持構件80處，設置軸承(球軸承)等之旋轉對偶(pair)、直進對偶、滑動對偶等，並在拉張工程中仿效於蒸鍍遮罩所受到之力(張力)來被動性地使保持構件80旋轉之形態。若依據此些之形態，則保持構件80係被動性地進行移動、旋轉等，其結果，係能夠一面對於「扭曲」作抑制一面將蒸鍍遮罩作拉張。
圖14(a)，係為對於一面藉由被設置有旋轉對偶之保持構件80來拉張蒸鍍遮罩100一面對於「扭曲」作了抑制的狀態作展示之部分擴大上面圖，圖14(b)，係為圖14(a)之正面圖。在圖14所示之形態中，藉由被設置有旋轉對偶之保持構件80，該保持構件80，係成為能夠以與蒸鍍遮罩之面相交叉之第1旋轉軸作 為軸、例如以與蒸鍍遮罩100之面相正交的第1旋轉軸作為軸(在圖示之形態中，係以與被設置有旋轉對偶之保持構件80相正交的旋轉軸作為軸)，來進行旋轉。在圖14(a)中之以虛線來作了閉合之區域，係分別為並未進行「扭曲」之抑制時的蒸鍍遮罩、以及旋轉前的保持構件。又，藉由使用直進對偶，係能夠將保持構件80構成為可移動。
作為在將蒸鍍遮罩拉張之後再對於「扭曲」作抑制之實施形態，係可列舉出對起因於將蒸鍍遮罩100作拉張一事所產生的「扭曲」作機械性的控制之形態。例如，藉由經介於轉矩感測器等(未圖示)來將保持構件80和馬達等之控制手段作連接，並以轉矩感測器等來檢測出起因於當將蒸鍍遮罩作了拉張時之「扭曲」所產生的保持構件80之轉矩，再以使轉矩成為0的方式來藉由馬達等之控制手段來對於保持構件80之移動量(距離)或旋轉角度等作控制，係能夠對於在將蒸鍍遮罩100作拉張時所產生了的「扭曲」作抑制。換言之，係對起因於將蒸鍍遮罩100作拉張一事所產生的「扭曲」作主動性的控制，其結果，係能夠對於「扭曲」作抑制。在本形態中，係以與被設置有馬達等之控制手段的保持構件80相正交之旋轉軸作為軸，來使被設置有該控制手段之保持構件80旋轉。
又，係亦可將一面拉張蒸鍍遮罩100一面對於「扭曲」作抑制的形態和在將蒸鍍遮罩拉張之後再對於 「扭曲」作抑制的形態作組合。又，如同圖15中所示一般，在保持構件支持用框架90上，係亦可藉由將各種之機構(在圖示之形態中，係為移動機構、第2旋轉機構、第1旋轉機構)堆積重疊，並將該些機構與保持構件相固定，來構成為任意之機構之組合。例如，藉由作為第1旋轉機構而使用上述旋轉對偶，並作為第2旋轉機構以及移動機構而使用馬達等之控制手段，係能夠在藉由第1旋轉機構而被動性地對在將蒸鍍遮罩作拉張時所產生之「扭曲」作抑制的同時，亦藉由第2旋轉機構以及移動機構來主動性地對於「扭曲」作抑制。又，在圖15所示之形態中，於第1旋轉機構和保持構件80之間，係亦可設置於上述記載中所說明了的轉矩感測器等。
圖16中所示之形態，保持構件80係被與測角台作固定，藉由使被固定在保持構件支持用框架90處之蝸輪之軸旋轉，來以與並不具備該測角台之保持構件80相正交的旋轉軸作為軸而使測角台搖動(移動)，而對於被保持在保持構件80處之蒸鍍遮罩100的「扭曲」作抑制。具體而言，藉由使用轉矩感測器等，而以轉矩感測器等來檢測出起因於當將蒸鍍遮罩作了拉張時之「扭曲」所產生的保持構件80之轉矩，再以使轉矩成為0的方式來使蝸輪之軸旋轉而對於測角台之搖動(移動)作控制，係能夠對於蒸鍍遮罩之「扭曲」作抑制。
針對用以驅動保持構件80之驅動手段，係並未特別限定，例如，係可列舉出馬達或空氣汽缸等。驅動 手段85，係在不會與由「本發明中之機構」所致之機構相互干涉的位置處，被與保持構件80作連接，藉由驅動該驅動手段，來驅動保持構件80，並進行蒸鍍遮罩100之拉張。
圖17，係為對於對被保持在保持構件80處之蒸鍍遮罩100施加有張力的狀態作展示之平面圖，於(a)中，係藉由朝向縱方向之外側施加張力，來進行蒸鍍遮罩之拉張，於(b)中，係藉由朝向縱方向以及橫方向之外側施加張力，來進行蒸鍍遮罩之拉張。施加張力之方向，係並不被限定於圖示之形態，亦可朝向橫方向之外側施加張力。又，亦可朝向此些以外之方向、例如朝向斜方向施加張力。又，在圖17(a)中，雖係朝向縱方向之外側，而驅動雙方之保持構件80，但是，係亦可僅驅動其中一方之保持構件80。另外，於此情況，亦同樣的，朝向外側驅動之保持構件80和並未被朝向外側驅動之保持構件80，只要其中一方之保持構件80為具備有上述之「本發明中之機構」即可。
在圖17所示之形態中，雖係藉由1個的保持構件80來將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持，但是，如圖18中所示一般，亦可將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊藉由複數之保持構件80來作保持(於圖示之形態中，係將相對向之二邊的雙方之邊藉由複數之保持構件來作保持)。藉由採用此構成，係能夠在左右、中央之各個場所而消除「扭曲」，而能夠更為有效地 抑制蒸鍍遮罩全體之「扭曲」。當將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊藉由複數之保持構件80來作保持的情況時，較理想，將該一邊作保持之所有的保持構件，均具備有上述之「本發明中之機構」。特別是，較理想，將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持之所有的保持構件之各者，均係具備有第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之全部的機構，或者是，將其中一邊作保持之所有的保持構件之各者，均係具備有第1旋轉機構和移動機構。又，如同圖示一般，係亦可將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的雙方之邊藉由複數之保持構件來作保持。
當將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊藉由複數之保持構件來作保持的情況時，亦可構成為(A)如圖18中所示一般，於該複數之保持構件之每一者處分別連結驅動手段85，並使被與各保持構件作連接之驅動手段分別作驅動，以拉張蒸鍍遮罩，或者是(B)使複數之保持構件與1個的驅動手段作連結(未圖示)，並驅動該1個的驅動手段，以拉張蒸鍍遮罩。
於採用上述(A)之形態的情況時，係能夠針對保持構件之每一者而對於在拉張蒸鍍遮罩時之拉張量作控制，而能夠更有效地進行「扭曲」之抑制。另外，在圖18所示之形態中，由於保持構件之各者係分別藉由相對應之驅動手段來個別地作控制，因此，係不會有起因於複數之保持構件中之1個的保持構件而導致其他保持構件之動作受到限制的情況。故而，於採用上述(A)之形態的 情況時，複數之保持構件之各者所具備的機構，係可為相同之機構，亦可為相異之機構。例如，在圖18所示之形態中，亦可構成為：複數之保持構件中之1個的保持構件為具備有「移動機構」，其他之保持構件則係具備有「第1旋轉機構」以及「第2旋轉機構」之其中一方或者是雙方。另外，關於此事，係並非為將保持構件之各者為具備有相異之機構一事作為必要條件，在上述(A)之形態中，將蒸鍍遮罩之其中一邊作保持的全部之保持構件，係亦可具備有相同之機構。例如，係亦可構成為：所有的保持構件，均係具備有第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之全部的機構，或者是，所有的保持構件，均係具備有第1旋轉機構和移動機構。又，當在將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持的保持構件80中採用上述(A)之形態的情況時，將蒸鍍遮罩之相對向之二邊中的另外一邊作保持之保持構件80，係亦可並不具備有「本發明中之機構」，但是，如同圖18中所示一般，係以具備有上述(A)之形態為理想。
另一方面，當採用上述(B)之形態的情況時，複數之保持構件係成為藉由1個的驅動手段而被同時驅動。故而，當複數之保持構件之各者為具備有相異之機構的情況時，可能會有複數之保持構件中之1個的保持構件對於其他保持構件之動作造成妨礙之虞。若是考慮到此點，則當採用上述(B)之形態的情況時，較理想，複數之保持構件的全部係均具備有相同之機構。例如，較理 想，將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持之所有的保持構件之各者，均係具備有第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之全部的機構，或者是，所有的保持構件之各者，均係具備有第1旋轉機構和移動機構。又，當在將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持的保持構件80中採用上述(B)之形態的情況時，將蒸鍍遮罩之相對向之二邊中的另外一邊作保持之保持構件80，係亦可並不具備有「本發明中之機構」，但是，較理想，將蒸鍍遮罩之相對向之二邊的其中一邊作保持的保持構件80、和將另外一邊作保持之保持構件80，係分別具備有相同之機構。
於上述記載中，雖係列舉出在對於蒸鍍遮罩作了平面觀察時之形狀乃身為矩形狀的情況為例，並針對將蒸鍍遮罩之相對向之二邊藉由保持構件80來作保持的形態而作了說明，但是，當使用平面觀察時之形狀乃身為矩形狀以外之形狀之蒸鍍遮罩的情況時，係只要將「上述蒸鍍遮罩之相對向之二邊」的記載替換為「蒸鍍遮罩之外周的任意之2個場所」，並將「相對向之二邊中的一邊」的記載替換為「任意之2個場所中的1個場所」，且將「相對向之二邊中的另外一邊」的記載替換為「任意之2個場所中的另外1個場所」即可。針對任意之2個場所，雖並未特別限定，但是，較理想，係構成為當對於蒸鍍遮罩作平面觀察時的通過略中心之直線和蒸鍍遮罩之外周所相交的部份。
若依據以上所說明的拉張工程，則由於係與將蒸鍍遮罩作拉張一事同時地、或者是在作了拉張之後，來進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方，因此，係能夠對於蒸鍍遮罩之「扭曲」的發生作抑制。具體而言，藉由使用具備有「本發明中之機構」之保持構件80來進行拉張工程，係能夠在對於「扭曲」作了抑制的狀態下，來將蒸鍍遮罩100作拉張。
於上述記載中所說明的保持構件80，當採用仿效於蒸鍍遮罩100所受到之力來被動性地旋轉或者是移動之形態的情況時，於拉張工程後，當使正藉由保持構件80而被作保持之蒸鍍遮罩100作了移動時，例如在為了將蒸鍍遮罩100載置於框架60上而使正藉由保持構件80而被作保持之蒸鍍遮罩100作了移動時、或者是在為了進行蒸鍍遮罩100和框架60間之對位而使正藉由保持構件80而被作保持之蒸鍍遮罩100作了移動時，保持構件80會仿效於進行該移動時之力而被動性地產生旋轉或者是移動，而會有無法將在上述拉張工程中而對於「扭曲」作了抑制的蒸鍍遮罩100之狀態作維持的情況。
若是對於此點作考慮，則在拉張工程後，為了對於被進行了「扭曲」之抑制的蒸鍍遮罩之狀態作維持，較理想，係將被形成了旋轉調整、移動調整之任一者的蒸鍍遮罩之狀態，藉由保持構件80來作鎖定。亦即是，在拉張工程中，較理想，係更進而包含有：將進行了旋轉調整以及移動調整之其中一方或者是雙方之調整的蒸 鍍遮罩，以維持於該調整後之狀態的方式來作鎖定之鎖定工程。在作為其中一例之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，於鎖定工程後，係對於被形成有貫通孔之框架而進行被作了鎖定的蒸鍍遮罩100之固定。藉由將保持構件80作鎖定，於拉張工程結束後，就算是有使正藉由保持構件80而被作保持之蒸鍍遮罩100進行移動等的情況時，亦能夠將對於「扭曲」作了抑制的狀態維持為原樣，而能夠防止在對於「扭曲」作了抑制的蒸鍍遮罩100處產生有變動的情況。針對鎖定機構，係並未特別作限定，只要是能夠將進行有朝向外側之拉張並且進行有「旋轉調整」或「移動調整」之蒸鍍遮罩之狀態作維持的機構即可。亦即是，只要是在拉張工程後不會使蒸鍍遮罩100進行旋轉或移動之機構即可。鎖定機構，係亦可為保持構件80自身所並未具備之外部機構，亦可為保持構件80自身所具備之內部機構。
作為外部機構，係為能夠對於保持構件80施加應力之機構，例如，係可列舉出從外部而對於保持構件80施加應力並在拉張工程後對於蒸鍍遮罩之旋轉或者是移動作抑制的機構。總結而言，係為藉由從外部施加應力來使保持構件80所具備之第1旋轉機構、第2旋轉機構或者是移動機構無效化之機構。作為此種機構，例如，係可列舉出空氣汽缸或馬達等，藉由利用空氣汽缸或馬達等來對於保持構件80施加垂直方向之應力，係能夠使由保持構件80所致之第1旋轉機構、第2旋轉機構或者是移 動機構無效化，亦即是係能夠對於蒸鍍遮罩之在拉張工程後的旋轉、移動作抑制。
作為內部機構，係可列舉出能夠藉由上述所例示之馬達等的控制手段來對於蒸鍍遮罩100之移動量或旋轉角度作控制的保持構件80。換言之，係可列舉出能夠主動性地對於蒸鍍遮罩100之移動量或旋轉角度作控制的保持構件80。若依據此種保持構件80，則能夠對於在拉張工程後而蒸鍍遮罩產生旋轉或者是移動的情況作機械性之控制。
對於框架60之蒸鍍遮罩100的固定，由於係在使框架60和蒸鍍遮罩100相接的狀態下、換言之，係在將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的狀態下而進行，因此，如同後述一般，作為被與蒸鍍遮罩100作固定之框架60，當使用被設置有補強框架65之框架60(參考圖21)的情況時，係成為使補強框架60與蒸鍍遮罩100相接。當將在拉張工程中而對於「扭曲」作了抑制的蒸鍍遮罩100載置於框架60上時，當補強框架65與蒸鍍遮罩100相互作了接觸的情況時，於該相互接觸的場所，會在蒸鍍遮罩100處產生變形，而會有導致被設置於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25之尺寸產生變動的情況。又，當在將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的狀態下而進行後述之對位工程的情況時，於進行對位之階段中，也會有在蒸鍍遮罩100處產生變形的情況。又，當在將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的狀態下而進行了上述拉張工程 的情況時，雖然係成為能夠對於蒸鍍遮罩之「扭曲」作抑制，但是，於框架60與蒸鍍遮罩100相互接觸之場所，係會有於蒸鍍遮罩100處產生變形的情況。
因此，理想實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係具備有下述特徵：亦即是，係為了將起因於框架60與蒸鍍遮罩100相接一事所產生的蒸鍍遮罩100之變形消除，而更進而包含有：在框架60上載置蒸鍍遮罩100之第1載置工程；和在第1載置工程之後，使蒸鍍遮罩100從框架60而分離之分離工程；和在分離工程之後，將蒸鍍遮罩100再度載置於框架60上之第2載置工程，於第2載置工程後，係進行有固定工程。若依據更進而包含有第1載置工程、分離工程、第2載置工程之其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，則當在將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的第1次之載置工程中所可能在蒸鍍遮罩處產生之變形，係藉由分離工程而被消除，並藉由將使變形作了消除的蒸鍍遮罩100再度載置於框架60上(第2載置工程)，而能夠在後述之固定工程中，將使變形作了消除的蒸鍍遮罩固定於框架60上。總結而言，理想實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係為將當在第1載置工程中之起因於框架60和蒸鍍遮罩100相接一事所可能在蒸鍍遮罩100處產生之變形，藉由分離工程來作消除。另外，上述所說明了的拉張工程，雖然係亦可在第1載置工程之前、在第1載置工程與分離工程之間、在分離工程和第2載置工程之間、或者是在第2載置 工程之後，此些之任一之階段中而進行，但是，較理想，係在進行使可能會在蒸鍍遮罩處所產生之變形消除的分離工程之前，來進行之。換言之，較理想，上述之拉張工程，係在第1載置工程之前，或者是在第1載置工程與分離工程之間，來進行之。此係因為，當在分離工程之後而進行了拉張工程的情況時，會容易導致已使變形作了消除的蒸鍍遮罩之狀態產生變動之故。
包含有上述之第1載置工程、分離工程、第2載置工程之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，針對在藉由第1載置工程而將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的狀態下來將被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相對應之位置處的情況而言，係為特別合適。亦即是，針對在第1載置工程與分離工程之間的工程間來進行對位的情況而言，係為特別合適。其原因係在於：當在將蒸鍍遮罩100載置於框架60上的狀態下而進行對位的情況時，於蒸鍍遮罩100處係容易產生變形之故。以下，針對將被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相對應之位置處的對位工程作說明。
〈對位工程〉
對位工程，係為在本發明之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中之任意的工程，並為將被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相 對應之位置處之工程。亦即是，係身為以使被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相對應之位置處的方式，來決定相對於框架60之蒸鍍遮罩100的位置座標之工程。藉由進行對位工程，係可得到能夠以良好之位置精確度來在蒸鍍對象物上製作蒸鍍圖案之附框架蒸鍍遮罩。
針對將被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相對應之位置處的方法，係並未特別作限定，而可適宜選擇先前技術所公知之對位方法等來使用。例如，係可列舉出：在框架60處，組入用以將被形成於樹脂遮罩20處的開口部25對位於與欲進行蒸鍍形成之圖案相對應之位置處的基準板，並使用該基準板和被設置於蒸鍍遮罩處之對位記號等，來決定蒸鍍遮罩100的位置座標之方法。代替在框架60處組入基準板，係亦能夠使基準板以不會與該蒸鍍遮罩相接的方式來位置於被載置在框架上之蒸鍍遮罩之上方。又，係亦可並不使用基準板，而是利用被形成於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25之座標等，來決定蒸鍍遮罩之位置座標。針對用以決定蒸鍍遮罩之位置座標的蒸鍍遮罩100和框架60等之移動方法，係可適宜選擇先前技術所公知之移動手段(驅動手段)來使用。例如，係可設置使保持蒸鍍遮罩之保持構件80或者是框架60在面內方向而移動之驅動平台，並藉由馬達(電動)或者是測微計(手動)來調整蒸鍍遮罩之位置座標。
在本實施形態中，於第2載置工程中，由於係再度將蒸鍍遮罩100載置於框架60上，因此，其結果，會造成框架60與蒸鍍遮罩100相接，但是，藉由將起因於第1載置工程所在蒸鍍遮罩100處產生之變形藉由分離工程來消除，相較於藉由並未包含分離工程以及第2載置工程之製造方法來製造附框架蒸鍍遮罩的情況，係能夠製造對於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20的開口部25之尺寸變動作了抑制的附框架蒸鍍遮罩。又，當在第2載置工程後而依然於蒸鍍遮罩處產生有變形的情況時，係只要反覆進行分離工程、第2載置工程即可。
針對使框架60和蒸鍍遮罩100分離之方法，係並未特別限定，例如，係可對於保持蒸鍍遮罩100之保持構件80賦予移動機構、例如賦予垂直移動機構，並將該保持構件80朝向與蒸鍍遮罩之面相交叉的方向、例如朝向略正交之方向驅動，藉由此，係能夠使框架60和蒸鍍遮罩100分離。又，藉由對於驅動框架60之驅動平台(未圖示)賦予移動機構、例如賦予垂直移動機構，並將該驅動平台朝向與蒸鍍遮罩之面相交叉的方向、例如朝向略正交之方向驅動，亦能夠使框架60和蒸鍍遮罩100分離。另外，在驅動保持構件80的情況時，係有必要同時驅動保持蒸鍍遮罩100之一對的保持構件80，又，由於起因於該驅動，係會有在蒸鍍遮罩100處產生變形或「扭曲」的可能性，因此，較理想，係使用不會導致在蒸鍍遮罩100處產生變形或「扭曲」之驅動平台來使框架60和 蒸鍍遮罩100分離。
於上述記載中，雖係以在第1載置工程和分離工程之間而進行對位工程的例子為中心來作了說明，但是，對位工程，係亦可在第1載置工程之前而進行，亦可在分離工程和第2載置工程之間而進行，亦可在第2載置工程之後而進行。另外，當在分離工程之後而進行了對位工程的情況時，會容易導致已藉由分離工程而使變形作了消除的蒸鍍遮罩之狀態產生變動。若是考慮到此點，則較理想，對位工程，係在分離工程之前、亦即是在第1載置工程之前或者是在第1載置工程與分離工程之間，來進行之。又，當並非特別需要進行對位工程的情況時，係亦可並不進行對位工程地而將在第1載置工程中之可能會在蒸鍍遮罩處產生的變形藉由上述分離工程、第2載置工程來消除之。此事，針對後述之精密調整工程而言，亦為相同。
在上述理想形態中，雖係藉由分離工程來消除在第1載置工程中所可能在蒸鍍遮罩100處產生之變形，但是，係亦可使用物理性之手段，來對起因於變形所導致的被設置在蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處的開口部25之尺寸變動或形狀變動進行修正。於此之所謂尺寸變動，係為包含有開口部之位置座標變動和開口部的尺寸變動之概念。
其他之理想形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係如圖24中所示一般，在拉張工程後，係更進而包 含有：在將被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩100載置於框架60上，並於被載置在框架60上的狀態下之蒸鍍遮罩100之其中一面上重疊輔助構件50，並於蒸鍍遮罩100之其中一面和輔助構件50所相互重疊之部分的至少一部分處，將輔助構件50固定於蒸鍍遮罩100處，再藉由將該輔助構件作拉張，而對於該蒸鍍遮罩進行精密調整之精密調整工程，於前述精密調整工程後，係進行有固定工程。若依據其他理想形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，則藉由使用有輔助構件50之物理性手段，係能夠對於開口部25之尺寸變動或形狀變動進行修正，並在將開口部25之尺寸精確度維持於高精確度的狀態下，將具備被設置有該開口部25之樹脂遮罩20的蒸鍍遮罩100固定在框架60上。
圖24(a)、(b)，係為對於蒸鍍遮罩100而從樹脂遮罩20側來作了觀察之圖，又，係將框架60之記載省略。在圖24(a)中，於以元件符號A所示之場所處，係針對起因於蒸鍍遮罩100和框架60之相接等而導致產生有開口部25之形狀或者是尺寸之變動的狀態作展示。
又，在圖24(a)中，係於蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20側之面與輔助構件50所相互重疊的部份之至少一部分處，而將輔助構件50固定在蒸鍍遮罩100上。之後，藉由將輔助構件50朝向箭頭之方向作拉張，如圖24(b)中所示一般，係能夠作成對於樹脂遮罩20之開口部 25的尺寸變動或者是形狀變動作了抑制的蒸鍍遮罩100。
本實施形態，係具備有下述特徵：亦即是，係並非為藉由分離工程來將變形消除，而是對起因於變形所產生的開口部25之尺寸或形狀的變動，藉由使用有物理性手段、例如使用有上述之輔助構件50的精密調整，來將變形消除，在此點上，係與上述之包含有第1載置工程、分離工程、第2載置工程之附框架蒸鍍遮罩之製造方法相異。不論是在何者的實施形態中，在後述之固定工程中，均能夠在將開口部25之尺寸精確度維持於高精確度的狀態下，將具備被設置有該開口部25之樹脂遮罩20的蒸鍍遮罩100固定在框架60上。
又，在本實施形態中，亦同樣的，係可在精密調整工程之前或者是之後，來進行上述所說明之對位工程。又，從能夠將在對位工程中之可能會在蒸鍍遮罩處產生的變形藉由精密調整工程來消除的觀點來看，較理想，係在精密調整工程之前進行對位工程。又，係亦可將上述所說明了的第1載置工程/分離工程/第2載置工程與精密調整工程作組合使用。藉由將此些之工程組合，係能夠更有效地將起因於框架60和蒸鍍遮罩100相接一事所產生的變形消除。另外，精密調整工程，係只要在第1載置工程之前、第2載置工程之後、或者是第1載置工程和第2載置工程之某一者的工程間來進行即可。另外，從能夠藉由精密調整工程來消除開口部之位置座標變動和開口部之尺寸變動的觀點來看，較理想，係緊接於固定工程之前 而進行精密調整工程之前。
如同圖25(a)~(c)中所示一般，理想形態之保持構件80，係於其表面上具備有凸部82。具體而言，理想形態之保持構件80，係由本體部81和凸部82所構成，當藉由保持構件80而保持蒸鍍遮罩100之一部分時，凸部82之前端部分係與蒸鍍遮罩100相接。若依據理想形態之保持構件80，則係能夠將蒸鍍遮罩100和保持構件80之間的接觸面積縮小，而能夠對於在藉由保持構件80而保持蒸鍍遮罩100時所可能在蒸鍍遮罩處產生之皺紋等的發生作抑制。圖25(a)~(c)，係為對於正藉由保持構件80而將蒸鍍遮罩100作保持的狀態作展示之部分概略剖面圖。
針對凸部82之前端部分的形狀，係並未特別限定，但是，如同圖25(a)中所示一般，較理想，前端部分之形狀係成為R形狀，換言之，前端部分之形狀係成為具有曲率的形狀。針對曲率之方向，係並不作限制，前端部分之R形狀，係可構成為於保持構件之長邊方向上具有曲率，亦可構成為於短邊方向上具有曲率。或者是，係亦可如同半球狀一般地而具有曲率。若依據前端部分成為R形狀之凸部82，則係能夠將蒸鍍遮罩100和保持構件80之間的接觸面積更進一步縮小，並且亦能夠對起因於凸部82而導致的蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20所受到之損傷作抑制。如圖25(d)中所示一般，凸部82，係能夠以朝向保持構件80之長邊方向或短邊方向延伸的方式來作 配置，亦能夠如同圖25(e)、(f)所示一般，在保持構件80之本體部81的長邊方向或短邊方向上空出有特定之間隔地來作複數配置。圖25(d)~(f)，係為對於對在表面上具備有凸部之保持構件80而從凸部82側來作了平面性觀察時的其中一例作展示之圖。
針對凸部82之材料，亦並未特別限定，而可適宜選擇在先前技術所周知之金屬材料或樹脂材料等來使用，但是，起因於凸部82所造成之蒸鍍遮罩100和保持構件80間的接觸面積之縮小，會有使由保持構件80所致之蒸鍍遮罩100之保持力降低的傾向。若是考慮到此點，則凸部82，較理想，係藉由保持力為高之材料、換句話說，係藉由抓握(GRIP)力為高之材料來構成。作為抓握力為高之材料，係可列舉出作為上述樹脂遮罩之材料所例示者，或者是其以外的先前技術所周知之樹脂等。其中，從能夠更加提高蒸鍍遮罩100和保持構件80之間之抓握力的觀點來看，又以由高彈性材料、例如由彈性橡膠所構成之凸部82為理想。另外，本體部81，由於係並不會與蒸鍍遮罩100直接作接觸，因此，係亦可使用金屬材料、樹脂材料或者是此些以外等的任意之材料。
在圖示之形態中，僅有與蒸鍍遮罩100之其中一面(在圖示之形態中，係為上面)相接之側的保持構件80為具備有凸部82，與蒸鍍遮罩100之另外一面(在圖示之形態中，係為下面)相接之側的保持構件80係並未具備有凸部82，但是，係亦能夠使與蒸鍍遮罩100之 另外一面相接之側的保持構件80具備有凸部82。又，亦可構成為僅有與蒸鍍遮罩100之另外一面相接之側的保持構件80為具備有凸部82。
〈固定工程〉
固定工程，係如同圖19、圖20中所示一般，為於被形成有貫通孔之框架60處，以使該框架60之框架部分和身為在拉張工程中而被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩之金屬遮罩10相對向的方式來作重疊，並將身為在拉張工程中而被作了拉張的狀態下之蒸鍍遮罩100固定於框架60上的工程。框架60和蒸鍍遮罩100間之固定，係針對框架60和蒸鍍遮罩之金屬部分的相互接觸之位置來進行，關於該位置，係並未特別作限定(參考圖19、圖20中之「固定位置」)。圖19，係為對於在框架60上固定有1個的蒸鍍遮罩之附框架蒸鍍遮罩而從樹脂遮罩側來作了觀察的上面圖。圖20，係為對於在框架60上固定有複數之蒸鍍遮罩100之附框架蒸鍍遮罩200而從樹脂遮罩側來作了觀察的上面圖。另外，在圖示之形態中，蒸鍍遮罩100之端部，係從框架之端部而朝向外側突出，該突出了的部份，係藉由保持構件80而被作保持。
(框架)
框架60，係為略矩形形狀之框構件，並具備有用以使被設置在最終所固定之蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20處 的開口部25露出於蒸鍍源側之貫通孔。針對框架之材料，係並未特別作限制，但是，係以剛性為大之金屬材料、例如以SUS或者是銦鋼材等為理想。亦可使用陶瓷材料等。其中，金屬框架，由於係能夠藉由熔接等來容易地進行其與蒸鍍遮罩之金屬遮罩間的固定，並且變形等的影響係為小，因此係為合適。
針對框架60之厚度，亦並未特別作限定，但是，從剛性等之觀點來看，係以身為10mm~30mm程度為理想。框架之開口的內周端面和框架的外周端面間之寬幅，只要是能夠將該框架和蒸鍍遮罩之金屬遮罩作固定之寬幅，則並未特別作限定，例如，係可例示有10mm~70mm程度之寬幅。
又，如圖21(a)~(c)中所示一般，在不會對於構成蒸鍍遮罩100之樹脂遮罩20的開口部25之露出造成妨礙的範圍內，係亦可使用於貫通孔之區域處設置有補強框架65等的框架60。藉由設置補強框架65，係能夠利用該補強框架65來將框架60和蒸鍍遮罩100作固定。
針對固定方法，係並未特別作限制，而可使用雷射熔接、電弧熔接、電阻熔接、電子束熔接法等之先前技術所周知之各種熔接法，或者是使用接著劑、螺絲鎖合等，來將蒸鍍遮罩100固定於框架60上。在將蒸鍍遮罩固定於框架上之後，藉由將從框架所突出之部分的蒸鍍遮罩切斷，係如同圖22、圖23中所示一般，能夠得到在 框架上固定有蒸鍍遮罩所成的附框架蒸鍍遮罩200。圖22，係為對於附框架蒸鍍遮罩200之其中一例作展示的上面圖，並為從樹脂遮罩側所作了觀察之圖，該附框架蒸鍍遮罩200，係為藉由在將圖19中所示之蒸鍍遮罩100固定在框架60上之後，將突出之部分作切斷所得到者。圖23，係為對於附框架蒸鍍遮罩200之其中一例作展示的上面圖，並為從樹脂遮罩側所作了觀察之圖，該附框架蒸鍍遮罩200，係為藉由在將圖20中所示之蒸鍍遮罩100分別固定在框架60上之後，將突出之部分作切斷所得到者。
在上述其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係在將蒸鍍遮罩作了拉張後的狀態下、亦即是在對於蒸鍍遮罩而施加了張力的狀態下，來進行對於框架60之蒸鍍遮罩的固定。於此，若是對於結束了固定工程之後的蒸鍍遮罩100作注目，則於蒸鍍遮罩100處，係於與在拉張工程中而將蒸鍍遮罩作拉張之方向相反的方向處，而產生有與張力相對應之反作用力，當此反作用力為大的情況時，係會有引起在被固定於框架上之蒸鍍遮罩處產生有變形等的問題之情形。
因此，在理想形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法中，係對於可能會在固定後之蒸鍍遮罩100處所產生的反作用力有所考慮地，而進行對於框架60之蒸鍍遮罩的固定。具體而言，係以將可能會在固定後之蒸鍍遮罩100處所產生的反作用力抵消的方式，來進行對於框架60 之蒸鍍遮罩100的固定。更具體而言，係對於在固定工程後可能會於蒸鍍遮罩100處產生的反作用力作考慮，而在對於框架60施加有與該反作用力相對應之壓縮應力的狀態下，來進行對於框架之蒸鍍遮罩的固定。若依據此形態，則在固定工程後，藉由將被施加於框架處之壓縮應力解除，係能夠將可能會在蒸鍍遮罩100處所產生的反作用力抵消，並能夠對起因於可能會在蒸鍍遮罩處所產生之反作用力而導致在被固定於框架上之蒸鍍遮罩處產生變形等的情況作抑制。另外，所謂在固定後之蒸鍍遮罩100處所可能產生的反作用力，係身為與在拉張工程中所被施加於蒸鍍遮罩100處的張力相對應之力。
亦即是，理想形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係更進而包含有：在固定工程中對於框架施加壓縮應力之工程、和在固定工程後將壓縮應力解除之工程。
施加於框架60處之壓縮應力，係只要對在蒸鍍遮罩處所可能產生的反作用力作考慮、亦即是對在拉張工程中所被施加於蒸鍍遮罩處的張力作考慮，來進行即可。例如，當製造在框架上固定1個的蒸鍍遮罩100所成之附框架蒸鍍遮罩的情況時，係只要在對於框架60施加有與被施加於該1個的蒸鍍遮罩處之張力相對應之壓縮應力的狀態下，來將蒸鍍遮罩100固定在框架60上即可。具體而言，若是將在拉張工程中所施加於蒸鍍遮罩處的張力假定為「1」，則係只要在對於框架60施加有「1」的壓縮應力的狀態下，來將蒸鍍遮罩100固定在框架60上 即可。若依據此方法，則在固定工程後，藉由將被施加於框架處之壓縮應力解除，係能夠將可能會在蒸鍍遮罩100處所產生的反作用力抵消，並能夠對起因於反作用力而導致在被固定於框架60上之蒸鍍遮罩處產生變形等的情況作抑制。
接著，針對在框架60處固定複數之蒸鍍遮罩的情況作說明。當在框架60處固定複數之蒸鍍遮罩100的情況時，係對於可能會在各個蒸鍍遮罩100處所產生的反作用力作考慮，而對於框架60施加壓縮應力，並一面階段性地使壓縮應力改變，一面進行對於框架60之蒸鍍遮罩100的固定。具體而言，係從複數之蒸鍍遮罩之合計的反作用力來將已被固定在框架上之蒸鍍遮罩的反作用力減去，並在對於框架60施加有與減算後之反作用力相對應之壓縮應力的狀態下，來進行固定。
例如，在將3個的蒸鍍遮罩依序固定於框架60上的情況時，在將被施加於各個蒸鍍遮罩處之張力以及在各個蒸鍍遮罩處所產生之反作用力假設為「1」的情況時，蒸鍍遮罩之合計的反作用力係成為「3」。
當在框架上並未被固定有蒸鍍遮罩的階段時、亦即是在要將第1個的蒸鍍遮罩固定在框架上時，係以對於框架60施加有身為蒸鍍遮罩全體之反作用力的「3」之壓縮應力的狀態下，來進行固定。接著，在第2個的蒸鍍遮罩之固定時，係以對於框架60施加有從身為蒸鍍遮罩全體之反作用力的「3」而減去了已被固定在框 架60上之1個的蒸鍍遮罩100之反作用力後之壓縮應力、亦即是在對於框架60而施加了「2」之壓縮應力的狀態下，來進行固定。在第3個的蒸鍍遮罩之固定時，係以對於框架60施加有從身為蒸鍍遮罩全體之反作用力的「3」而減去了已被固定在框架60上之2個的蒸鍍遮罩100之合計的反作用力後之壓縮應力、亦即是在對於框架60而施加了「1」之壓縮應力的狀態下，來進行固定。之後，在結束了全部的蒸鍍遮罩之對於框架的固定之後，係進行壓縮應力之解除。
若依據此方法，則在固定工程後，藉由將被施加於框架處之壓縮應力解除，係能夠將在複數之蒸鍍遮罩之各者處所產生的反作用力全部抵消，並能夠在全部的蒸鍍遮罩處對起因於反作用力而導致產生變形等的情況作抑制。
針對對於框架60施加壓縮應力之方法，係並未特別限定，例如，係可使用空氣汽缸或馬達等。壓縮應力，係只要朝向與在拉張工程中而將蒸鍍遮罩作拉張之方向相反的方向、亦即是朝向與反作用力所產生之方向相同的方向來施加即可。
以上，雖係針對本發明之附框架蒸鍍遮罩之製造方法作了說明，但是，本發明之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，係不被上述實施形態所限定，在不脫離發明之要旨的範圍內，係可作適當的變更。例如，於上述記載中，作為將蒸鍍遮罩100之一部分作保持的形態，雖係以將蒸 鍍遮罩100之相對向之二邊藉由保持構件80來作保持的形態為中心而進行了說明，但是，係亦可將蒸鍍遮罩100之全部的邊藉由保持構件80來作保持。於此情況，只要使正保持蒸鍍遮罩100之保持構件80之至少1個的保持構件具備有上述第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之其中一者之機構即可，亦可使2個以上的保持構件或者是所有的保持構件80均具備有上述第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構之其中一者之機構。
(拉張裝置)
以下，針對本發明之其中一種實施形態的拉張裝置作說明。本發明之其中一種實施形態之拉張裝置，係為用以拉張蒸鍍遮罩之裝置，其特徵為，係具備有：將蒸鍍遮罩之一部分作保持之保持構件；和用以將被保持構件所保持之蒸鍍遮罩作拉張之拉張機構，保持構件，係具備有：能夠以與蒸鍍遮罩之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以不與蒸鍍遮罩之面相交叉的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構、以及能夠進行直線移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構。
作為其中一例之拉張裝置，其特徵為，係具備有用以保持蒸鍍遮罩之一部分的保持構件，保持構件，係具備有能夠以與蒸鍍遮罩之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以與蒸鍍遮罩之面相平行的第2旋轉軸作為軸而旋轉之第2旋轉機構、以及能夠 朝向與將蒸鍍遮罩作拉張之方向相正交的方向來移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構。
構成拉張裝置之保持構件，係可適宜選擇在上述附框架蒸鍍遮罩之製造方法中所說明了的保持構件80之各種形態來使用，於此係省略詳細之說明。又，針對藉由拉張裝置來作拉張之蒸鍍遮罩，亦係可適宜選擇在上述附框架蒸鍍遮罩之製造方法中所說明了的蒸鍍遮罩100之各種形態來使用，於此係省略詳細之說明。
若依據本發明之其中一種實施形態之拉張裝置，則係能夠對起因於將蒸鍍遮罩作拉張一事所可能產生的「扭曲」之發生作抑制。
又，理想形態之拉張裝置中，構成拉張裝置之保持構件，係具備有鎖定機構。若依據理想形態之拉張裝置，則係能夠更進一步對「扭曲」之發生作抑制。針對鎖定機構，係如同在上述附框架蒸鍍遮罩之製造方法中所說明一般，於此係省略詳細之說明。
又，理想形態之拉張裝置，係具備有用以驅動框架之驅動平台，驅動平台，係具備有能夠在與拉張裝置之設置面相交叉的方向上、亦即是在與蒸鍍遮罩之面相交叉的方向上而移動之移動機構。更理想，係具備有能夠在與蒸鍍遮罩之面略正交的方向上而移動之垂直移動機構。又，其他理想形態之拉張裝置中，保持構件，係具備有能夠在與拉張裝置之設置面相交叉的方向上、亦即是在與蒸鍍遮罩之面相交叉的方向上而移動之移動機構。更理 想，係具備有能夠在與蒸鍍遮罩之面略正交的方向上而移動之垂直移動機構。針對與拉張裝置之設置面相交叉之方向，係並未特別作限定，而可適宜設定之。又，於此之所謂略正交，係指相對於拉張裝置之設置面而成85°~95°之方向，較理想係為90°。
(有機半導體元件之製造裝置)
以下，針對本發明之其中一種實施形態的有機半導體元件之製造裝置(以下，稱作其中一種實施形態之有機半導體元件之製造裝置)作說明。其中一種實施形態之有機半導體元件之製造裝置，其特徵為：係在用以製造有機半導體元件之先前技術之周知的有機半導體裝置中，被組入有於上述所說明之其中一種實施形態之拉張裝置。針對被組入至其中一種實施形態之有機半導體元件之製造裝置中的拉張裝置，係可適宜選擇上述其中一種實施形態之拉張裝置來使用，於此係省略詳細之說明。
其中一種實施形態之有機半導體元件之製造裝置，除了係被組入有其中一種實施形態之拉張裝置以外，係並未被作任何之限定，只要適宜選擇藉由使用有蒸鍍遮罩之蒸鍍法來形成有機半導體元件之蒸鍍圖案的先前技術所周知之有機半導體元件之製造裝置，並於其中組入上述之其中一種實施形態之拉張裝置即可。
若依據其中一種實施形態之有機半導體元件之製造裝置，則藉由被組入至該製造裝置中之拉張裝置， 係能夠使用將對於「扭曲」作了抑制的狀態下之蒸鍍遮罩固定於框架上所成之附框架蒸鍍遮罩，來製造有機半導體元件，故而，係能夠與被形成於蒸鍍遮罩上之開口部的尺寸相同地來形成具備有高精細之圖案的有機半導體元件。
(有機半導體元件之製造方法)
接著，針對本發明之有機半導體元件之製造方法的其中一種實施形態作說明。本發明之其中一種實施形態之有機半導體元件之製造方法，其特徵為：係具備有藉由使用有附框架蒸鍍遮罩之蒸鍍法來形成蒸鍍圖案之工程，在該形成有機半導體元件之工程中，係使用有以下之附框架蒸鍍遮罩。針對使用有附框架蒸鍍遮罩之蒸鍍法，係並不作任何之限定，例如，係可列舉出反應性濺鍍法、真空蒸鍍法、離子噴鍍法、電子束蒸鍍法等之物理性氣相成長法(Physical Vapor Deposition)、熱CVD、電漿CVD、光CVD法等之化學氣相成長法(Chemical Vapor Deposition)等。
具備有藉由使用有附框架蒸鍍遮罩之蒸鍍法來形成蒸鍍圖案的工程之其中一種實施形態之有機半導體元件之製造方法，係具備有在基板上形成電極之電極形成工程、有機層形成工程、對向電極形成工程、密封層形成工程等，並在各任意之工程中，藉由使用有附框架蒸鍍遮罩之蒸鍍法來在基板上形成蒸鍍圖案。例如，當在有機層形成工程中適用使用有附框架蒸鍍遮罩之蒸鍍法的情況 時，在基板上係被形成有機層之蒸鍍圖案。另外，本發明之有機半導體元件之製造方法，係並不被限定於此些之工程，而可適用在使用有蒸鍍法之先前技術所周知之有機半導體元件的任意之工程中。
上述有機半導體元件之其中一種實施形態之製造方法，其特徵為：係包含有使用在框架上固定有蒸鍍遮罩之附框架蒸鍍遮罩來在蒸鍍對象物上形成蒸鍍圖案之工程，在形成蒸鍍圖案之工程中所使用的附框架蒸鍍遮罩，係為藉由拉張工程以及固定工程所得到者，該拉張工程，係藉由保持構件來保持蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由保持構件所保持的蒸鍍遮罩朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張，並對於被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整，該固定工程，係於拉張工程後，將被拉張了的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架上。
作為其中一例之有機半導體元件之其中一種實施形態之製造方法，其特徵為：在形成蒸鍍圖案之工程中，被固定在框架上之蒸鍍遮罩，係身為藉由包含準備工程和拉張工程以及固定工程之工程而製造者，該準備工程，係準備由被形成有複數細縫之金屬遮罩和被形成有與蒸鍍製作於和該細縫相重疊之位置處的圖案相對應之開口部的樹脂遮罩之兩者層積所成的蒸鍍遮罩，該拉張工程，係藉由保持構件來保持在準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之 相對向之2邊，並將該保持構件之至少1個朝向蒸鍍遮罩之外側來作拉張，藉此而拉張該蒸鍍遮罩，該固定工程，係在將蒸鍍遮罩作了拉張後的狀態下，將該蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架處，在拉張工程中，將蒸鍍遮罩作保持之保持構件的至少1個，係身為具備有第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構中之至少1個的機構之保持構件，該第1旋轉機構，係為能夠以與蒸鍍遮罩之面相垂直之第1旋轉軸作為軸而旋轉者，該第2旋轉機構，係為能夠以與蒸鍍遮罩之面相平行之第2旋轉軸作為軸而旋轉者，該移動機構，係為能夠朝向與蒸鍍遮罩被作拉張之方向相正交之方向而移動者，在拉張工程中，係藉由保持構件，來對於被朝向其之外側而作了拉張的蒸鍍遮罩、或者是一面將蒸鍍遮罩朝向其之外側作拉張，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
亦即是，在有機半導體元件之製造方法中所使用的附框架蒸鍍遮罩，其特徵為：係身為藉由上述所說明了的本發明之其中一種實施形態之附框架蒸鍍遮罩之製造方法所製造的附框架蒸鍍遮罩。若依據此特徵之附框架蒸鍍遮罩，則由於係在框架上，固定有對於「扭曲」作了抑制的狀態下之蒸鍍遮罩，因此，係能夠與被形成於蒸鍍遮罩上之開口部的尺寸相同地來形成具備有高精細之圖案的有機半導體元件。作為藉由本發明之製造方法所製造之有機半導體元件，例如，係可列舉出有機EL元件之有機 層、發光層、或者是陰極電極等。特別是，本發明之有機半導體元件之製造方法，係可合適地使用在對於高精細之圖案精確度有所要求的有機EL元件之R、G、B發光層的製造中。

Claims (5)

  1. 一種附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其特徵為，係包含有：準備由金屬遮罩和被形成有與蒸鍍製作的圖案相對應之開口部的樹脂遮罩之兩者層積所成的蒸鍍遮罩之準備工程；和藉由保持構件來保持在前述準備工程中所準備的蒸鍍遮罩之一部分，並將藉由該保持構件所保持的蒸鍍遮罩朝向該蒸鍍遮罩之外側來作拉張之拉張工程；和在前述拉張工程之後，將前述被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩固定於被形成有貫通孔之框架處之固定工程，在前述拉張工程中，係對於前述被拉張後的狀態之蒸鍍遮罩、或者是拉張前述蒸鍍遮罩的同時，而進行該蒸鍍遮罩之旋轉調整以及移動調整的其中一方或者是雙方之調整。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其中，在前述拉張工程中，係更進而包含有：將進行了前述旋轉調整以及移動調整之其中一方或者是雙方之調整的前述蒸鍍遮罩，以維持於該調整後之狀態的方式來作鎖定之鎖定工程，在前述固定工程中，係將前述被作了鎖定的蒸鍍遮罩固定在被形成有貫通孔之框架處。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之附框架 蒸鍍遮罩之製造方法，其中，係更進而包含有：在前述框架上載置前述蒸鍍遮罩之第1載置工程；和在前述第1載置工程之後，使前述蒸鍍遮罩從前述框架而分離之分離工程；和在前述分離工程之後，將前述蒸鍍遮罩再度載置於前述框架上之第2載置工程，於前述第1載置工程前、或者是於前述第1載置工程和前述分離工程之間，係進行有前述拉張工程，於前述第2載置工程後，係進行有前述固定工程。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其中，在前述拉張工程後，係更進而包含有：在前述被拉張後的狀態下之蒸鍍遮罩的其中一面上重疊輔助構件，並於前述蒸鍍遮罩之其中一面和前述輔助構件所相互重疊之部分的至少一部分處，將前述輔助構件固定於前述蒸鍍遮罩處，再藉由將該輔助構件作拉張，而進行蒸鍍遮罩的精密調整之精密調整工程，於前述精密調整工程後，係進行有前述固定工程。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之附框架蒸鍍遮罩之製造方法，其中，於前述拉張工程中，將前述蒸鍍遮罩之一部分作保持的前述保持構件，係具備有：能夠以與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第1旋轉軸作為軸而旋轉之第1旋轉機構、和能夠以不與前述蒸鍍遮罩之面相交叉的第2旋轉軸作為軸而 旋轉之第2旋轉機構、以及能夠進行直線移動之移動機構，此些機構中之至少1個的機構，於前述拉張工程中，係藉由前述保持構件之前述第1旋轉機構、第2旋轉機構以及移動機構中之其中1個機構，來進行前述蒸鍍遮罩之旋轉調整、移動調整之其中一者。
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