TW201913149A - 濾色器的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器 - Google Patents
濾色器的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201913149A TW201913149A TW107126781A TW107126781A TW201913149A TW 201913149 A TW201913149 A TW 201913149A TW 107126781 A TW107126781 A TW 107126781A TW 107126781 A TW107126781 A TW 107126781A TW 201913149 A TW201913149 A TW 201913149A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- pixel
- compound
- mass
- transparent layer
- forming
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 207
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 168
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 56
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 177
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 42
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 6
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 94
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 94
- -1 methylol group Chemical group 0.000 description 58
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 44
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 39
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 39
- 239000010408 film Substances 0.000 description 38
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 30
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 23
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 21
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 19
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 17
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 13
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical class CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 4
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 3
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical group C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical class 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical group C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 125000003523 triterpene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N (ne)-n-[(4-nitrophenyl)-phenylmethylidene]hydroxylamine Chemical compound C=1C=C([N+]([O-])=O)C=CC=1C(=N/O)/C1=CC=CC=C1 LNOLJFCCYQZFBQ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWWEZIJUCPALZ-UHFFFAOYSA-N 1-aminobutan-2-one Chemical compound CCC(=O)CN QCWWEZIJUCPALZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzodioxol-5-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=C3OCOC3=CC=2)=N1 BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyloxirane Chemical compound CC1CO1.CCC(CO)(CO)CO SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABZLRXBAERZNRD-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyiminobutan-2-one Chemical compound CCON=C(C)C(C)=O ABZLRXBAERZNRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYZBQLYHLUXXSO-UHFFFAOYSA-N C(C)ON=C(C(=O)C1=CC=CC=C1)C Chemical compound C(C)ON=C(C(=O)C1=CC=CC=C1)C PYZBQLYHLUXXSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVPIAQITBXPKHU-UHFFFAOYSA-N C(C)ON=C(C)C(CC)=O Chemical compound C(C)ON=C(C)C(CC)=O HVPIAQITBXPKHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical group [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003006 anti-agglomeration agent Substances 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical compound [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- CZPLANDPABRVHX-UHFFFAOYSA-N cascade blue Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2C(NCC)=CC=1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 CZPLANDPABRVHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical group 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N cyclobenzothiazole Natural products C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000567 diterpene group Chemical group 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC([O-])=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 239000000040 green colorant Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical group 0.000 description 1
- 229940070765 laurate Drugs 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxy-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)OC AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical class O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- WNEYXFDRCSFJCU-UHFFFAOYSA-N propan-1-amine;hydrate Chemical compound [OH-].CCC[NH3+] WNEYXFDRCSFJCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIRLFJPTCUCJB-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)OC CYIRLFJPTCUCJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 description 1
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 description 1
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical group S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
本發明提供一種像素的圖案形成性良好並且能夠抑制像素形成後的其他像素上的殘渣的產生或相鄰之像素之間的色移的產生之濾色器的製造方法。又，提供一種固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器。該濾色器的製造方法包括：在形成於支撐體（1）上之第1像素（2）的表面運用透明層形成用組成物形成平均厚度300nm以下的透明層（3）之步驟；在形成有透明層（3）之第1像素（2）上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層（4a）之步驟；及對像素形成用組成物層（4a）進行圖案形成，而形成與第1像素（2）不同之顏色的第2像素（4）之步驟。
Description
本發明關於濾色器的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器。
近年來，由於數位照相機、附帶照相機之行動電話等的普及，電荷耦合元件（CCD）圖像感測器等固體攝像元件的需求大幅增長。使用濾色器作為顯示器和光學元件的關鍵設備。
又，專利文獻1中記載了如下發明：係有關一種濾色器的製造方法，其在透明基板上至少具有圖案形狀的紅綠藍像素及非圖案形狀的透明保護膜，紅色及綠色像素的區域在紅色及綠色像素上形成有透明保護膜，藍色像素的區域在透明保護膜上積層有藍色像素，該方法包括：將透明非感光性樹脂以非圖案形狀塗佈於以圖案狀形成有紅色及綠色像素之透明基板上後，在80～160℃下進行預熱處理，而形成透明非感光性樹脂層之步驟；將藍色感光性樹脂塗佈於透明非感光性樹脂層上之後，在80～160℃下進行預熱處理，形成藍色感光性樹脂層之步驟；經由光罩對藍色感光性樹脂層進行曝光之步驟；藉由顯影液僅將藍色感光性樹脂層進行蝕刻之步驟；及在160～210℃下對透明非感光性樹脂層及藍色感光性樹脂層一併進行加熱處理之步驟。又，段落號0021中記載了，藍色像素區域的透明保護膜的膜厚係1.5μm以上為較佳，1.6μm以上為更佳。依專利文獻1，記載了藉由該各種結構，能夠抑制藍色像素的透射率降低，並能夠兼顧高透射率和白色平衡。
又，專利文獻2中記載了如下發明：係有關一種濾色器的製造方法，其包括：（1）在基板上形成第1顏色的著色層，並向成為著色像素之區域以外的部分照射雷射光，藉由使被照射第1顏色的著色層的雷射光之部分蒸發，而形成第1顏色的著色像素之步驟；（2）從第1顏色的著色像素的上方在基板上形成不與第1顏色的著色像素混合之第1透明樹脂層之步驟；（3）在第1透明樹脂層的上方形成第2顏色的著色層，並向成為第2顏色的著色像素之區域以外的部分照射雷射光，並且控制雷射光的輸出，藉由使位於第1透明樹脂層的上方之第2顏色的著色層蒸發而形成第2顏色的著色像素之步驟；（4）從第2顏色的著色像素的上方在基板上形成不與第2顏色的著色像素混合之第2透明樹脂層之步驟；及（5）在第3顏色的著色層的上方形成第2透明樹脂層，並向成為第3顏色的著色像素之區域以外的部分照射雷射光，並且控制雷射光的輸出，藉由使位於第2透明樹脂層的上方之第3顏色的著色層蒸發而形成第3顏色的著色像素之步驟。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2013-088691號公報 [專利文獻2]日本特開平09-113719號公報
通常，濾色器具有複數種顏色的像素。具有該種複數種顏色的像素之濾色器藉由逐一顏色依次形成像素而製造。例如，在支撐體50上形成第1像素51（參閱圖4），接著，在形成有第1像素51之支撐體50上塗佈像素形成用組成物而形成組成物層52a（參閱圖5），接著，對該組成物層52a進行圖案形成而形成第2像素52（參閱圖6）。藉由反覆進行該種步驟來製造具有複數種顏色的像素之濾色器。
然而，在習知之方法中，在第2像素52的圖案形成後，有時在第1像素51上產生殘渣100或在相鄰像素（例如，第1像素51和第2像素52）之間發生色移而產生混色。從各種顏色的像素的顏色分解性能的觀點考慮，期望抑制該種殘渣的產生或色移的產生。
又，本發明人對專利文獻1、2所記載之發明進行了研究之結果，可知在專利文獻1、2所記載之發明中，像素的圖案形成性不充分。
藉此，本發明的目的在於提供一種像素的圖案形成性良好，並且能夠抑制像素形成後的其他像素上的殘渣的產生或相鄰之像素之間的色移的產生之濾色器的製造方法。又，本發明的目的在於提供一種固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器。
本發明人進行了深入研究之結果發現，藉由經後述步驟製造濾色器，像素的圖案形成性良好，並且，能夠抑制像素形成後的其他像素上的殘渣的產生或相鄰之像素之間的色移的產生，從而完成了本發明。亦即，本發明為如以下。 ＜1＞一種濾色器的製造方法，其包括： 在形成於支撐體上之第1像素的表面運用包含硬化性化合物之透明層形成用組成物形成平均厚度300nm以下的透明層之步驟； 在形成有透明層之第1像素上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層之步驟；及 對像素形成用組成物層進行圖案形成，而形成與第1像素不同之顏色的第2像素之步驟。 ＜2＞如＜1＞所述之濾色器的製造方法，其中 藉由光微影法對像素形成用組成物層進行圖案形成而形成第2像素。 ＜3＞如＜1＞或＜2＞所述之濾色器的製造方法，其中第1像素及第2像素中的至少一者含有50質量%以上的著色劑。 ＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 像素形成用組成物含有選自彩色著色劑及黑色著色劑中之至少一種。 ＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 在第1像素的表面運用透明層形成用組成物形成平均厚度5～100nm的透明層之步驟。 ＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 透明層形成用組成物包含具有交聯性基之化合物作為硬化性化合物。 ＜7＞一種固體攝像元件的製造方法，其包括＜1＞至＜6＞中任一項所述之濾色器的製造方法。 ＜8＞一種圖像顯示裝置的製造方法，其包括＜1＞至＜6＞中任一項所述之濾色器的製造方法。 ＜9＞一種濾色器，其在支撐體上具有第1像素、及與第1像素不同之顏色的第2像素， 在第1像素的表面具有平均厚度300nm以下的透明層， 在第2像素與支撐體之間具有平均厚度300nm以下的透明層。 ＜10＞如＜9＞所述之濾色器，其在第1像素與第2像素之間具有平均厚度300nm以下的透明層。 [發明效果]
依本發明，能夠提供一種濾色器的製造方法，像素的圖案形成性良好，並且，能夠抑制像素形成後的其他像素上的殘渣的產生或相鄰之像素之間的色移的產生。又，能夠提供一種固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器。
以下，對本發明的內容進行詳細說明。 本說明書中的基團（原子團）的標記中，未記載取代及未取代之標記包含不具有取代基者的同時還包含具有取代基者。例如，“烷基”係指，不僅包含不具有取代基之烷基（未經取代之烷基），亦包含具有取代基之烷基（經取代之烷基）者。 本說明書中所謂“曝光”除非另有說明，則不僅係使用光進行之曝光，使用電子束、離子束等粒子束之描繪亦包含於曝光中。又，作為曝光中所使用之光，通常可舉出水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表之遠紫外線、極紫外線（EUV光）、X射線、電子束等光化射線或放射線。 本說明書中使用“～”所表示之數值範圍係指將“～”的前後記載之數值作為下限值及上限值包含之範圍。 本說明書中，總固體成分係指從組成物的總成分去除溶劑之成分的總計質量。 在本說明書中，“（甲基）丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者或任一者，“（甲基）丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者或任一者，“（甲基）烯丙基”表示烯丙基及甲基烯丙基兩者或任一者，“（甲基）丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者或任一者。 本說明書中，“步驟”這一詞不僅包含獨立的步驟，即使無法與其他步驟明確區別之情況下，只要實現該步驟的預期作用，則亦包含於本術語中。 本說明書中，重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）被定義為藉由凝膠滲透層析法（GPC）測量之聚苯乙烯換算值。
＜濾色器的製造方法＞ 本發明的濾色器的製造方法的特徵在於，包括： 在形成於支撐體上之第1像素的表面運用包含硬化性化合物之透明層形成用組成物形成平均厚度300nm以下的透明層之步驟； 在形成有透明層之第1像素上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層之步驟；及 對像素形成用組成物層進行圖案形成，並形成與第1像素不同之顏色的第2像素之步驟。
藉由本發明的濾色器的製造方法，在形成有上述透明層之第1像素上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層，並對該像素形成用組成物層進行圖案形成，形成與第1像素顏色不同的第2像素，因此，在第2像素的圖案形成之後，能夠有效地抑制在第1像素上產生來自於像素形成用組成物層之殘渣。又，藉由在第1像素的表面形成上述透明層，能夠有效地抑制第1像素與第2像素之間的色移。又，由於透明層的平均厚度係300nm以下，因此對第2像素的圖案形成性沒有影響，並且第2像素的圖案形成性良好。
在本發明的濾色器的製造方法中，在第1像素及第2像素中的至少一者含有50質量%以上（更佳為55質量%以上，進一步較佳為60質量%以上）的著色劑之情況下，能夠更顯著地獲得本發明的效果，在至少第2像素含有50質量%以上（更佳為55質量%以上，進一步較佳為60質量%以上）的著色劑之情況下，能夠進一步顯著地獲得本發明的效果，在第1像素及第2像素兩者含有50質量%以上（更佳為55質量%以上，進一步較佳為60質量%以上）的著色劑之情況下，能夠尤其顯著地獲得本發明的效果。亦即，在習知之方法中，在欲製造第1像素或第2像素包含更多著色劑之濾色器之情況下，有在第1像素上產生殘渣或者在像素之間易產生色移之傾向，但藉由本發明，即使在製造第1像素或第2像素包含較多的著色劑之濾色器之情況下，亦能夠有效地抑制像素上產生殘渣或像素之間產生色移，因此能夠更顯著地獲得本發明的效果。
又，在本發明的濾色器的製造方法中，透明層形成用組成物包含具有交聯性基之化合物作為硬化性化合物為較佳。藉由利用該種透明層形成用組成物來形成透明層，能夠形成對支撐體和第1像素的密接性和耐溶劑型等特性優異之透明層。進而，能夠有效地抑制像素上產生殘渣或像素之間的混色等。 以下對本發明的濾色器的製造方法的各步驟進行詳細說明。
（形成透明層之步驟） 藉由本發明的濾色器的製造方法，首先，在形成於支撐體1上之第1像素2的表面運用包含硬化性化合物之透明層形成用組成物形成平均厚度300nm以下的透明層3。藉此，如圖1所示，透明層3大致沿著第1像素2的形狀形成於支撐體1及第1像素2的表面。另外，在本發明中所說之透明表示可見光的透射率係75%以上，較佳為80%以上，尤其較佳為90%以上。
透明層3的平均厚度係300nm以下，5～300nm為較佳，5～100nm為更佳，5～50nm為進一步較佳。由於透明層3的平均厚度係300nm以下，能夠使在下一步驟中設置之第2像素的圖案形成性良好，並且能夠有效地抑制第1像素上的殘渣的產生或像素之間的色移的產生。
另外，在本發明中，關於透明層的厚度，從第1像素的表面或側面至透明層的表面為止距離、及從支撐體1的表面至透明層的表面為止的距離中，將較短的一方的值設為透明層的厚度。例如，在圖1中，形成於第1像素的表面2a之透明層的厚度係t1。又，形成於第1像素的側面2b之透明層的厚度係t2。又，形成於支撐體的表面1a上之透明層的厚度係t3。又，透明層的厚度能夠從相對於支撐體垂直地切斷而得之截面的掃描型電子顯微鏡（SEM）圖像測量。針對第1像素及第2像素的厚度亦相同。 又，本發明的濾色器的製造方法中的透明層3的平均厚度係指，形成於第1像素的上表面2a之透明層的任意3個部位的厚度與形成於支撐體的表面1a上之透明層的任意3個部位的厚度的平均值。
作為第1像素2的種類，只要為構成濾色器之像素，則並無特別限定。例如，可列舉紅色像素、藍色像素、綠色像素、黃色像素、品紅色像素、藍色像素等著色像素、透明像素、黑色像素等。又，第1像素2係含有著色劑之像素為較佳，係含有選自彩色著色劑及黑色著色劑中之至少一種之像素為更佳。
第1像素2的厚度係0.1～10.0μm為較佳。上限係5.0μm以下為較佳，2.0μm以下為更佳，1.0μm以下為進一步較佳。下限係0.3μm以上為較佳，0.4μm以上為更佳。又，第1像素2的厚度係透明層3的平均厚度的2～1000倍為較佳，4～400倍為更佳，8～200倍為進一步較佳。
第1像素2例如能夠藉由如下步驟來形成：在支撐體上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層，並藉由以往公知的方法對該像素形成用組成物層進行圖案形成。作為像素形成用組成物，可列舉後述像素形成用組成物。作為圖案形成方法，可列舉光微影法或乾式蝕刻法。作為利用光微影法的圖案形成方法，包括：以圖案狀對像素形成用組成物層進行曝光之步驟（曝光步驟）；及將未曝光部的像素形成用組成物層顯影去除而形成圖案（像素）之步驟（顯影步驟）為較佳。根據需要，可以設置烘烤經顯影之圖案（像素）之步驟（後烘烤步驟）。作為利用乾式蝕刻法的圖案形成，包括：將像素形成用組成物層硬化而形成硬化物層之步驟；在該硬化物層上形成圖案化之光阻劑層之步驟；將圖案化之光阻劑層作為遮罩，利用蝕刻氣體對硬化物層進行乾式蝕刻之步驟為較佳。
作為支撐體1的種類並無特別限定。能夠使用固體攝像元件等各種電子元件等中所使用之基板（矽晶片、碳化矽晶片、氮化矽晶片、藍寶石晶片、玻璃晶片等）。又，能夠使用形成有光二極體之固體攝像元件用基板等。
作為透明層形成用組成物的運用方法並無特別限定，可列舉旋塗法、狹縫塗佈法、噴墨法、浸塗法、網板印刷法等。其中，從能夠以少量均勻地製膜之原因考慮，旋塗法為較佳。
在第1像素2的表面上運用透明層形成用組成物之後，進一步進行乾燥亦較佳。乾燥條件並無特別限定。例如，乾燥溫度係60～150℃為較佳。乾燥溫度的上限係130℃以下為較佳，110℃以下為更佳。乾燥溫度的下限係80℃以上為較佳，90℃以上為更佳。乾燥時間係60秒～600秒為較佳。乾燥時間的上限係300秒以下為較佳，180秒以下為更佳。乾燥時間的下限係80秒以上為較佳，100秒以上為更佳。乾燥能夠使用加熱板、烘箱等來進行。
又，在實施上述乾燥之後，進一步進行加熱處理（後烘烤）為較佳。進行後烘烤時，後烘烤溫度例如係180～260℃為較佳。後烘烤溫度的上限係250℃以下為較佳，240℃以下為更佳。後烘烤溫度的下限係190℃以上為較佳，200℃以上為更佳。後烘烤時間係60～600秒為較佳。後烘烤時間的上限係300秒以下為較佳，180秒以下為更佳。後烘烤時間的下限係80秒以上為較佳，100秒以上為更佳。後烘烤能夠使用加熱板、烘箱等來進行。
又，除了上述加熱處理以外，還可進行曝光。例如，作為曝光時能夠使用之放射線（光），g射線、i射線等紫外線為較佳，i射線為更佳。照射量（曝光量）例如係0.03～2.5J/cm2
為較佳，0.05～1.0J/cm2
為更佳。關於曝光時的氧濃度，能夠適當選擇。亦可對曝光後的透明層進一步進行加熱處理（後烘烤）。
（形成像素形成用組成物層之步驟） 接著，在本發明的濾色器的製造方法中，如上所述，在形成有透明層3之第1像素2上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層4a（參閱圖2）。在此，如圖2所示，在除了形成有透明層3之第1像素2上以外的形成有透明層3之區域中亦可形成像素形成用組成物層4a。在形成有透明層3之第1像素2上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層4a之步驟、及在除了形成有透明層3之第1像素2上以外的區域形成像素形成用組成物層4a之步驟可在相同步驟中進行。作為像素形成用組成物，適當地選擇形成有與第1像素顏色不同的像素者來使用。例如，在第1像素為綠色像素之情況下，在該步驟中，作為像素形成用組成物，使用除了綠色像素形成用的組成物以外的組成物（例如，紅色像素形成用組成物、藍色像素形成用組成物等）。關於像素形成用組成物的詳細內容，將在後面進行敘述。
作為像素形成用組成物的運用方法，能夠使用以往公知的方法。例如，可列舉旋塗法、狹縫塗佈法、噴墨法、浸塗法、網板印刷法等。
對形成於支撐體1上之像素形成用組成物層4a進行乾燥亦較佳。乾燥條件並無特別限定。例如，乾燥溫度係60～150℃為較佳。乾燥溫度的上限係130℃以下為較佳，110℃以下為更佳。乾燥溫度的下限係80℃以上為較佳，90℃以上為更佳。乾燥時間係10～600秒為較佳。乾燥時間的上限係300秒以下為較佳，180秒以下為更佳。乾燥時間的下限係40秒以上為較佳，60秒以上為更佳。乾燥能夠使用加熱板、烘箱等來進行。
（形成第2像素之步驟） 接著，對如上述形成之支撐體1上的像素形成用組成物層4a進行圖案形成，並在支撐體1上形成與第1像素2顏色不同的第2像素4（圖3）。藉此，如圖3所示，能夠製造具有如下結構之濾色器：在支撐體1上分別形成有第1像素2和第2像素4，並且，在第1像素2的表面及第2像素4與支撐體1之間分別形成有平均厚度300nm以下的透明層3。
在本發明中，利用光微影發對像素形成用組成物層4a進行圖案形成，而形成第2像素4為較佳。作為利用光微影法的圖案形成方法，包括：以圖案狀對像素形成用組成物層4a進行曝光之步驟（曝光步驟）；及將未曝光部的像素形成用組成物層4a顯影去除而形成圖案之步驟（顯影步驟）為較佳。根據需要，可以設置烘烤經顯影之圖案之步驟（後烘烤步驟）。以下，對各步驟進行詳細說明。
在曝光步驟中，以圖案狀對像素形成用組成物層4a進行曝光。例如，使用步進機等曝光裝置經由具有規定的遮罩圖案之遮罩，對像素形成用組成物層4a進行曝光，藉此能夠以圖案狀進行曝光。藉此，能夠使曝光部分硬化。作為能夠在曝光時使用之放射線（光），可較佳地使用g射線、i射線等紫外線（特佳為i射線）。照射量（曝光量）例如係0.03～2.5J/cm2
為較佳，0.05～1.0J/cm2
為更佳。關於曝光時之氧濃度，能夠進行適當選擇，除了在大氣下進行以外，亦可以例如在氧濃度為19體積%以下的低氧環境下（例如15體積%、5體積%、實質上無氧）進行曝光，亦可以在氧濃度大於21體積%之高氧環境下（例如22體積%、30體積%、50體積%）進行曝光。又，能夠適當設定曝光照度，通常可從1000W/m2
～100000W/m2
（例如，5000W/m2
，15000W/m2
，35000W/m2
）的範圍選擇。氧濃度與曝光照度可以組合適當條件，例如能夠在氧濃度10體積%下設為照度10000W/m2
，在氧濃度35體積%下設為照度20000W/m2
等。
在顯影步驟中，顯影去除像素形成用組成物層4a的未曝光部。能夠利用顯影液來進行像素形成用組成物層4a的未曝光部的顯影去除。作為顯影液，鹼顯影液為較佳。顯影液的溫度例如為20～30℃為較佳。顯影時間為20～180秒為較佳。
作為顯影液較佳地使用以純水稀釋鹼劑而得之鹼性水溶液。作為鹼劑，例如可以列舉氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、羥胺、乙二胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、二甲基雙（2-羥乙基）氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等有機鹼性化合物、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等無機鹼性化合物。鹼性水溶液的鹼劑的濃度係0.001～10質量%為較佳，0.01～1質量%為更佳。又，顯影液中可進一步包含界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可列舉後述界面活性劑、非離子系界面活性劑為較佳。從方便運輸和保管等觀點考慮，顯影液可以暫且作為濃縮液製造，並在使用時稀釋成所需之濃度。對於稀釋倍率並無特別限定，但例如能夠設定在1.5～100倍的範圍。另外，使用了包括該些鹼性水溶液之顯影液之情況下，顯影後用純水進行清洗（沖洗）為較佳。
顯影後，還能夠在實施乾燥之後進行加熱處理（後烘烤）。後烘烤係用於使膜完全硬化之顯影後的加熱處理。進行後烘烤時，後烘烤溫度例如為100～240℃為較佳。從膜硬化的觀點考慮，200～230℃更為佳。
第2像素4的厚度係0.1～10.0μm為較佳。上限係5.0μm以下為較佳，2.0μm以下為更佳，1.0μm以下為進一步較佳。下限係0.3μm以上為較佳，0.4μm以上為更佳。又，第2像素4的厚度係透明層3的平均厚度的2～1000倍為較佳，4～400倍為更佳，8～200倍為進一步較佳。
這樣，能夠製造具備第1像素和第2像素之濾色器。又，藉由依次反覆上述各步驟，能夠在具有3種以上的像素之濾色器。
＜透明層形成用組成物＞ 接著，對本發明的濾色器的製造方法中所使用之透明層形成用組成物進行說明。
透明層形成用組成物的黏度在25℃下係0.1～5.0mPa･s為較佳。下限係0.5mPa･s以上為較佳，0.7mPa･s以上為更佳。上限係4.0mPa･s以下為較佳，3.0mPa･s以下為更佳。若透明層形成用組成物的黏度在上述範圍內，則能夠容易形成透明層形成用組成物的塗佈性良好，薄膜且膜厚的偏差小的透明層。作為黏度的測定方法，例如能夠使用TOKI SANGYO CO.,LTD.製黏度儀RE85L（轉子：1°34’×R24、測定範圍0.6～1200mPa･s），並在25℃下進行溫度調整之狀態下進行測定。又，透明層形成用組成物的固體成分濃度係0.01～10質量%為較佳，0.01～5質量%為更佳，0.01～3質量%為進一步較佳，0.01～1質量%為特佳。若透明層形成用組成物的固體成分濃度在上述範圍內，則能夠容易形成透明層形成用組成物的塗佈性良好且膜薄，膜厚的偏差小的透明層。以下，對用於透明層形成用組成物之成分進行說明。
＜＜硬化性化合物＞＞ 透明層形成用組成物包含硬化性化合物。作為硬化性化合物，可列舉具有交聯性基之化合物、不具有交聯性基之樹脂等。從容易更顯著地獲得本發明的效果之原因考慮，本發明中所使用之硬化性化合物包含具有交聯性基之化合物為較佳。作為交聯性基，可列舉具有乙烯性不飽和鍵之基團、環氧基、羥甲基、烷氧基甲基等。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可列舉乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基等。硬化性化合物係具有交聯性基之化合物為較佳，含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為更佳。含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物可以為單體，亦可以為聚合物等樹脂。作為含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，係樹脂為較佳。在使用樹脂類型的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物之情況下，容易將透明層形成用組成物更均勻地塗佈於第1像素。因此，能夠提高透明層形成用組成物的製膜性。又，作為含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，併用單體類型的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物和樹脂類型的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物亦較佳。以下，將單體類型的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物以稱為單體A。又，將樹脂類型的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物亦稱為樹脂A。
作為單體A的分子量，係100～3000為較佳。上限係2000以下為較佳，1500以下為進一步較佳。下限係150以上為較佳，250以上為進一步較佳。作為樹脂A的重量平均分子量，係5000～20000為較佳。上限係19000以下為較佳，18000以下為更佳。下限係8000以上為較佳，10000以上為更佳。
（單體A） 作為單體A，係3～15官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為較佳，3～6官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為更佳。作為具體例，可舉出日本特開2009-288705號公報的段落號0095～0108、日本特開2013-029760號公報的段落號0227、日本特開2008-292970號公報的段落號0254～0257中所記載的化合物，將該些內容編入本說明書中。
作為單體A，還能夠較佳使用由式（MO-1）～式（MO-5）所表示之化合物。另外，式中，當T為氧化烯基時，碳原子側的末端與R鍵結。
[化學式1]
[化學式2]
上述式中，n為0～14，m為1～8。在1分子內存在複數個之R、T各自可以相同，亦可以不同。在由式（MO-1）～（MO-5）所表示之化合物各自中，存在複數個之R中的至少一個表示由-OC（=O）CH=CH2
或-OC（=O）C（CH3
）=CH2
所表示之基團。作為由式（MO-1）～（MO-5）所表示之化合物的具體例，可列舉日本特開2007-269779號公報的段落號0248～0251中所記載之化合物，該內容被編入本說明書中。
又，作為單體A，能夠較佳地使用二新戊四醇三丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-330；NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）、二新戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-320；NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-310；NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD DPHA；NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製造、A-DPH-12E；SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.製）、及該等之（甲基）丙烯醯基經由乙二醇及/或丙二醇殘基鍵結之結構的化合物（例如由Sartomer Company,Inc.市售之SR454、SR499）為較佳。亦能夠使用該等寡聚物類型。又，作為作為單體A，使用三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三（甲基）丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改質三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯等3官能的（甲基）丙烯酸酯化合物亦為較佳。作為3官能的（甲基）丙烯酸酯化合物的市售品，可列舉ARONIX M-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-306、M-305、M-303、M-452、M-450（TOAGOSEI CO.,LTD.製）、NK酯A9300、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、TMPT（SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.製）、KAYARAD GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-330、PET-30（NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）等。
作為單體A，亦較佳地使用具有羧基、磺基、磷酸基等酸基之化合物。作為市售品，例如可列舉TOAGOSEI CO.,LTD.製的ARONIX M-305、M-510、M-520等。
作為單體A，亦較佳地使用具有己內酯結構之化合物。作為市售品，例如可列舉KAYARAD DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120（NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）等。 作為單體A，亦較佳地使用具有伸烷氧基之化合物。作為具有伸烷氧基之化合物，係具有伸乙氧基及/或伸丙氧基之化合物為較佳，具有伸乙氧基之化合物為更佳，具有4～20個伸乙氧基之3～6官能（甲基）丙烯酸酯化合物為進一步較佳。作為具有伸烷氧基之化合物的市售品，可列舉SR-494（Sartomer Company,Inc.製，具有4個伸乙氧基之4官能（甲基）丙烯酸酯）、KAYARAD TPA-330（NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製，具有3個異伸丁氧基之3官能（甲基）丙烯酸酯）等。
（樹脂A） 作為樹脂A，係包含在側鏈上具有含有乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元之聚合物為較佳，係具有由式（1）所表示之重複單元之聚合物為更佳。 [化學式3]式中，R1
表示氫原子或烷基，L1
表示單鍵或2價的連接基，P1
表示具有乙烯性不飽和鍵之基團。
R1
所表示之烷基係碳數1～3的烷基為較佳，甲基為更佳。R1
係氫原子或甲基為較佳。
L1
表示單鍵或2價的連接基。作為2價的連接基，可列舉碳數1～30的伸烷基、碳數6～12的伸芳基、將該等和選自-CO-、-OCO-、-O-、-NH-及-SO2
-中之一種組合而成之基團。伸烷基及伸芳基可以具有取代基，亦可以係未經取代。作為取代基，鹵素原子、烷基、芳基、羥基、羧基、烷氧基、芳氧基等。羥基為較佳。伸烷基可以係直鏈、分支、環狀的任一個。
P1
表示具有乙烯性不飽和鍵之基團。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基為較佳，從聚合反應性高，進一步容易獲得更優異的耐濕性之原因考慮，（甲基）丙烯醯基為更佳。
在樹脂A中，在側鏈上具有含有乙烯性不飽和鍵之基團之重複單元的含量係所有重複單元的5～100質量%為較佳。下限係10質量%以上為較佳，15質量%以上為更佳。上限係90質量%以下為較佳，80質量%以下為更佳，75質量%以下為進一步較佳，70質量%以下尤為佳。
樹脂A還包含具有酸基之重複單元為較佳。作為酸基，可例示羧基、磺基、磷酸基。酸基可以僅包含一種，亦可包含兩種以上。具有酸基之重複單元的比例係構成聚合物之所有重複單元的1～50質量%為較佳。下限係2質量%以上為更佳，3質量%以上為進一步較佳。上限係35質量%以下為更佳，30質量%以下為進一步較佳。
當樹脂A具有酸基時，作為樹脂A的酸值，係10～100mgKOH/g為較佳。下限係15mgKOH/g以上為較佳，20mgKOH/g以上為更佳。上限係90mgKOH/g以下為較佳，80mgKOH/g以下為更佳，70mgKOH/g以下為進一步較佳，60mgKOH/g以下為特佳。
樹脂A還包含在側鏈上具有芳基之重複單元亦較佳。在側鏈上具有芳基之重複單元的比例係構成聚合物之所有重複單元的1～80質量%為較佳。下限係10質量%以上為更佳，15質量%以上為進一步較佳。上限係70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳。
樹脂A包含以下聚合物亦較佳，該聚合物係將包含選自由下述式（ED1）所表示之化合物及日本特開2010-168539號公報的式（1）所表示之化合物中的至少一種化合物（以下，將該等化合物亦稱為“醚二聚物”。）之單體成分聚合而成。
[化學式4]
式（ED1）中，R1
及R2
分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳原子數1～25的烴基。
作為醚二聚體的具體例，例如，能夠參閱日本特開2013-029760號公報的段落號0317，並將該內容併入本說明書中。醚二聚物可僅為一種，亦可為兩種以上。
作為樹脂A的具體例，例如可列舉下述結構的聚合物。以下的結構式中，Me表示甲基。 [化學式5]
樹脂A亦能夠使用市售品。例如可列舉Dianal NR系列（Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製）、Photomer6173（含有COOH之聚胺酯丙烯酸寡聚物（polyurethane acrylic oligomer）。Diamond Shamrock Co.,Ltd.製）、Viscote R-264、KS Resist106（均為Osaka Organic Chemical Industry Co.,Ltd.製）、PLACCEL CF200系列（Daicel Corporation製）、Ebecryl3800（Daicel UCB Co.,Ltd.製）、Acrycure-RD-F8（Nippon Shokubai Co.,Ltd.製）等。
相對於透明層形成用組成物的總質量，硬化性化合物的含量係0.01～1質量%為較佳。下限係0.05質量%以上為較佳，0.1質量%以上為更佳。上限係0.9質量%以下為較佳，0.8質量%以下為更佳。又，透明層形成用組成物的總固體成分中的硬化性化合物的含量係50～100質量%為較佳，下限係70質量%以上為較佳，90質量%以上為更佳。又，硬化性化合物的總量中的具有交聯性基之化合物的含量係50～100質量%為較佳，下限係70質量%以上為較佳，90質量%以上為更佳，實際上僅由具有交聯性基之化合物構成為特佳。另外，在硬化性化合物實際上僅由具有交聯性基之化合物構成之情況下，硬化性化合物的總量中的具有交聯性基之化合物的含量係99質量%以上為較佳，99.5質量%以上為進一步較佳，99.9質量%以上為更佳，僅由具有交聯性基之化合物構成為特佳。
又，相對於透明層形成用組成物的總質量，含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物的含量係0.01～1質量%為較佳。下限係0.05質量%以上為較佳，0.1質量%以上為更佳。上限係0.9質量%以下為較佳，0.8質量%以下為更佳。又，透明層形成用組成物的總固體成分中的含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物的含量係50～100質量%為較佳，下限係70質量%以上為較佳，90質量%以上為更佳。
硬化性化合物的總量中的樹脂A的含量係50～100質量%為較佳，70～100質量%為更佳，90～100質量%為進一步較佳，實際上僅由樹脂A構成為特佳。藉由該態樣，透明層形成用組成物的製膜性良好。另外，在硬化性化合物實際上僅由樹脂A構成之情況下，硬化性化合物的總量中的樹脂A的含量係99質量%以上為較佳，99.5質量%以上為更佳，99.9質量%以上為進一步較佳，僅由樹脂A構成為特佳。
＜＜界面活性劑＞＞ 透明層形成用組成物可以含有界面活性劑。藉由在透明層形成用組成物中含有界面活性劑，能夠提高透明層形成用組成物的塗佈性。作為界面活性劑，能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。其中，氟系界面活性劑為較佳。藉由在透明層形成用組成物中含有氟系界面活性劑，可容易獲得更優異之塗佈性。因此，容易形成薄膜且均勻膜厚的透明層。
氟系界面活性劑中的氟含有率係3～40質量%為較佳，更佳為5～30質量%，特佳為7～25質量%。氟含有率為上述範圍內之氟系界面活性劑在塗佈膜的厚度的均勻性和省液性的觀點而言是有效的。
作為氟系界面活性劑，例如可列舉MEGAFACE F171、MEGAFACE F172、MEGAFACE F173、MEGAFACE F176、MEGAFACE F177、MEGAFACE F141、MEGAFACE F142、MEGAFACE F143、MEGAFACE F144、MEGAFACE R30、MEGAFACE F437、MEGAFACE F475、MEGAFACE F479、MEGAFACE F482、MEGAFACE F554、MEGAFACE F780（以上，DIC CORPORATION製）、FLUORAD FC430、FLUORAD FC431、FLUORAD FC171（以上，Sumitomo 3M Limited製）、SURFLON S-382、SURFLON SC-101、SURFLON SC-103、SURFLON SC-104、SURFLON SC-105、SURFLON SC-1068、SURFLON SC-381、SURFLON SC-383、SURFLON S-393、SURFLON KH-40（以上，ASAHI GLASS CO.,LTD.製）、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002（以上為OMNOVA SOLUTIONS INC.製）等。氟系界面活性劑還能夠使用日本特開2015-117327號公報的段落號0015～0158中記載之化合物、日本特開2011-132503號公報的段落號0117～0132中記載之化合物。
氟系界面活性劑亦能夠較佳地使用丙烯酸系化合物，該丙烯酸系化合物為具有含氟原子之官能基之分子結構，若施加熱則具有氟原子之官能基的一部分被切斷而氟原子揮發。作為該些氟系界面活性劑，可舉出DIC CORPORATION製的MEGAFACE DS系列（化學工業日報，2016年2月22日）（日經產業新聞，2016年2月23日）、例如MEGAFACE DS-21。
關於氟系界面活性劑，使用具有氟化烷基或氟化伸烷基醚之含有氟原子之乙烯基醚化合物與親水性乙烯基醚化合物的聚合物亦較佳。該種氟系界面活性劑能夠參閱日本特開2016-216602號公報的記載，該內容被併入本說明書中。
氟系界面活性劑還能夠使用嵌段聚合物。例如可列舉日本特開2011-089090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑還能夠較佳地使用含氟高分子化合物，該含氟高分子化合物含有：源自具有氟原子之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元；及源自具有2個以上（較佳為5個以上）伸烷氧基（較佳為伸乙氧基、伸丙氧基）之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元。作為本發明中所使用之氟系界面活性劑，還例示出下述化合物。下述式中，表示重複單元的比例之%為莫耳%。 [化學式6]上述化合物的重量平均分子量較佳為3,000～50,000，例如為14,000。
作為氟系界面活性劑，亦能夠使用在側鏈上具有乙烯性不飽和鍵結基之含氟聚合物。作為具體例，可列舉日本特開2010-164965號公報的段落號0050～0090及段落號0289～0295中記載之化合物。作為市售品，可列舉例如DIC CORPORATION製造的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718-K、RS-72-K等。
作為非離子系界面活性劑，可以舉出甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該等的乙氧基化物及丙氧基化物（例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等）、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2（BASF公司製）、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1（BASF公司製）、Solsperse 20000（Japan Lubrizol Corporation製）、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002（Wako Pure Chemical Industries,Ltd.製）、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315（Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製）、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440（Nissin Chemical Co.,Ltd.製）等。
作為陽離子系界面活性劑，可以舉出有機矽氧烷聚合物KP-341（Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製）、（甲基）丙烯酸系（共）聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95（KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD.製）、W001（Yusho Co.,Ltd.製）等。
作為陰離子系界面活性劑，可以舉出W004、W005、W017（Yusho Co.,Ltd.製）、Sundet BL（Sanyo Chemical Industries,Ltd.製）等。
作為矽酮系界面活性劑，例如可舉出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400（以上，Dow Corning Toray Co.,Ltd製）、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452（以上，Momentive Performance Materials Inc.製）、KP-341、KF6001、KF6002（以上，Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製）、BYK307、BYK323、BYK330（以上、BYK Chemie GmbH製）等。又，使用下述結構的化合物亦較佳。 [化學式7]
界面活性劑的含量相對於透明層形成用組成物的總質量係0.0001～0.1質量%為較佳，下限係0.0005質量%以上為較佳，0.001質量%以上為更佳。上限係0.05質量%以下為較佳，0.01質量%以下為更佳。透明層形成用組成物的總固體成分中的界面活性劑的含量係0.01～2.0質量%為較佳，下限係0.05質量%以上為較佳，0.1質量%以上為更佳。上限係1.5質量%以下為較佳，1.0質量%以下為更佳。界面活性劑可僅使用一種，亦可將兩種以上組合使用。當組合使用兩種以上時，總計量係上述範圍為較佳。
＜＜溶劑＞＞ 透明層形成用組成物含有溶劑為較佳。溶劑係有機溶劑為較佳。溶劑只要滿足各成分的溶解性或透明層形成用組成物的塗佈性則並無特別限定。
作為有機溶劑的例，例如可列舉以下有機溶劑。作為酯類，例如可列舉乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯（例如氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯（例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等））、3-氧基丙酸烷基酯類（例如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等（例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等））、2-氧基丙酸烷基酯類（例如：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等（例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯））、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯（例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等）、丙酮酸甲酯（methyl pyruvate）、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯（methyl 2-oxobutanoate）、2-氧代丁酸乙酯等。作為醚類，例如可舉出二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等。作為酮類，例如可適當地舉出甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等。作為芳香族烴類，例如可較佳地舉出甲苯、二甲苯等。又，從溶解性提高之觀點考慮，3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺亦較佳。有機溶劑可以單獨使用一種，亦可將兩種以上組合使用。但是作為溶劑的芳香族烴類（苯、甲苯、二甲苯、乙基苯等），有時藉由環境方面等的理由降低為宜（例如，相對於有機溶劑總量，能夠設為50質量ppm（百万分率，parts per million）以下，10質量ppm以下，或者1質量ppm以下）。
在本發明中，作為溶劑使用金屬含量少的溶劑為較佳。溶劑中的金屬含量例如係10質量ppb（十億分點：parts per billion）以下為較佳。視需要可以使用金屬含量為質量ppt（parts per trillion，兆分率）級別的溶劑，該種高純度溶劑例如由Toyo Gosei Co.,Ltd.提供（化學工業日報，2015年11月13日）。
作為從溶劑中去除金屬等雜質之方法，例如能夠舉出蒸餾（分子蒸餾或薄膜蒸餾等）或使用了過濾器之過濾。作為過濾中所使用之過濾器的過濾器孔徑，10μm以下為較佳，5μm以下為更佳，3μm以下為進一步較佳。過濾器的材質係聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。
溶劑亦可以包含異構物（原子數相同但結構不同之化合物）。又，異構體可以僅包含一種，亦可包含複數種。
本發明中，有機溶劑中過氧化物的含有率係0.8mmol/L以下為較佳，實質上不含有過氧化物為更佳。
溶劑的含量相對於透明層形成用組成物的總質量係90～99.99質量%為較佳，下限係95質量%以上為較佳，97質量%以上為更佳，99質量%以上為進一步較佳。溶劑的含量只要在上述範圍內，則容易形成透明層形成用組成物的塗佈性良好，薄膜且膜厚的偏差小的透明層。
＜＜光聚合起始劑＞＞ 本發明中所使用之透明層形成用組成物作為硬化性化合物包含含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物時，透明層形成用組成物能夠還含有光聚合起始劑。作為光聚合起始劑並無特別限制，能夠從公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如，對從紫外線區域至可見區域的光線具有感光性之化合物為較佳。又，可以為與被光激發之敏化劑產生某種作用並生成活性自由基之化合物。
作為光聚合起始劑，例如可列舉鹵化烴衍生物（例如，具有三𠯤骨架之化合物、具有噁二唑骨架之化合物等）、醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟化合物、有機過氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物等。從曝光靈敏度的觀點而言，光聚合引發劑為選自三鹵甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、環戊二烯-苯-鐵錯合物、鹵甲基噁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物中之化合物為較佳，選自肟化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物及醯基膦化合物之化合物為更佳，肟化合物為進一步較佳。作為光聚合起始劑，能夠參閱日本特開2014-130173號公報的段落號0065～0111的記載，該內容併入本說明書中。
作為羥基酮化合物的市售品，可列舉IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959，IRGACURE-127（以上，BASF公司製）等。作為α-胺基酮化合物的市售品，可列舉IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG（以上為BASF公司製）等。作為醯基膦化合物的市售品，可列舉IRGACURE-819、DAROCUR-TPO（以上為BASF公司製）等。
作為肟化合物，例如能夠使用日本特開2001-233842號公報中所記載的化合物、日本特開2000-080068號公報中所記載的化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載的化合物。作為肟化合物的具體例，例如可以列舉3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-（4-甲苯磺醯氧基）亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
作為肟化合物，亦能夠使用J.C.S.Perkin II（1979年、pp.1653-1660）、J.C.S.Perkin II（1979年、pp.156-162）、Journal of Photopolymer Science and Technology（1995年、pp.202-232）、日本特開2000-066385號公報、日本特開2000-080068號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物等。作為市售品，亦可以較佳地使用IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04（以上為BASF公司製）。又，能夠使用TRONLY TR-PBG-304、TRONLY TR-PBG-309、TRONLY TR-PBG-305（常州強力電子新材料股份有限公司（CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD）製）、Adeka Arkls NCI-930、Adeka Optomer N-1919（日本特開2012-014052號公報的光聚合起始劑2）（以上，ADEKA CORPORATION製）。
又，作為上述以外的肟化合物，亦可使用肟連接於咔唑環的N位之日本特表2009-519904號公報中記載的化合物、在二苯甲酮部位導入有雜取代基之美國專利第7626957號公報中記載的化合物、在色素部位導入有硝基之日本特開2010-015025號公報及美國日本特開2009-292039號中記載的化合物、國際公開第2009/131189號公報中記載的酮肟化合物、在同一分子內含有三𠯤骨架和肟骨架之在美國專利第7556910號公報中記載之化合物、在405nm具有最大吸收，且對g線光源具有良好的感度之日本特開2009-221114號公報中記載的化合物等。較佳地、例如，能夠參閱日本特開2013-029760號公報的段落號0274～0306，並將該內容併入本說明書中。
又，作為光聚合起始劑，亦能夠使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2014-137466號公報中記載之化合物。該內容被併入本說明書中。 又，作為光聚合起始劑，亦能夠使用具有苯并呋喃骨架之肟化合物。作為具體例，可列舉國際公開第2015/036910號公報中記載之化合物OE-01～OE-75。
又，作為光聚合起始劑，亦可使用具有咔唑環的至少一個苯環成為萘環之骨架之肟化合物。作為該種肟化合物的具體例，可列舉國際公開第2013/083505號公報中記載之化合物。
又，作為光聚合起始劑，亦能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2010-262028號公報中記載之化合物、日本特表2014-500852號公報中記載之化合物24和化合物36～40、日本特開2013-164471號公報中記載之化合物（C-3）等。該內容被併入本說明書中。
又，作為光聚合起始劑能夠使用具有硝基之肟化合物。具有硝基之肟化合物作為二聚體亦較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2013-114249號公報的段落號0031～0047、日本特開2014-137466號公報的段落號0008～0012、段落號0070～0079中所記載之化合物、日本專利4223071號公報的段落號0007～0025中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831（ADEKA CORPORATION製）等。
以下示出在本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例，但本發明不限定於該等。
[化學式8][化學式9]
肟化合物為於350nm～500nm的波長區域具有極大吸收波長之化合物為較佳，於360nm～480nm的波長區域具有極大吸收波長之化合物為更佳。又，肟化合物係365nm及405nm的吸光度高的化合物為較佳。
從靈敏度的觀點考慮，肟化合物在365nm或405nm下之莫耳吸光係數係1,000～300,000為較佳，2,000～300,000為更佳，5,000～200,000尤為佳。化合物的莫耳吸光係數能夠利用公知的方法來測量。例如，藉由紫外可見分光光度計（Varian公司製造之Cary-5 spectrophotometer），並使用乙酸乙酯溶劑，以0.01g/L的濃度進行測量為較佳。
本發明中作為光聚合起始劑可以使用2官能或3官能以上的光聚合起始劑。作為該種光聚合起始劑的具體例，可列舉日本特表2010-527339號公報、日本特表2011-524436號公報、國際公開第2015/004565號公報、日本特表2016-532675號公報的段落號0417～0412、國際公開第2017/033680號公報的段落號0039～0055中記載之肟化合物的二聚體、日本特表2013-522445號公報中記載之化合物（E）及化合物（G）、國際公開2016/034963號公報中記載之Cmpd1～7等。
光聚合起始劑的含量相對於透明層形成用組成物的總質量係3質量%以下為較佳，2.5質量%以下為更佳，1.5質量%以下為進一步較佳。下限例如亦能夠設為0.01質量%以上。又，透明層形成用組成物的總固體成分中的光聚合起始劑的含量係35質量%以下為較佳，30質量%以下為更佳，25質量%以下為進一步較佳。下限係5質量%以上為較佳。 又，透明層形成用組成物實際上不含有光聚合起始劑亦較佳。另外，實際上不含有光聚合起始劑時，光聚合起始劑的含量相對於透明層形成用組成物的總固體成分係1質量%以下為較佳，0.1質量%以下為更佳，0.01質量%以下為進一步較佳，不含有為特佳。
＜＜其他添加劑＞＞ 透明層形成用組成物還能夠摻合矽烷偶聯劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗凝聚劑等添加劑。該等其他添加劑的含量相對於透明層形成用組成物的總固體成分係5質量%以下為較佳，3質量%以下為更佳，1質量%以下為進一步較佳，實際上不含有為特佳。另外，當實際上不含有其他添加劑時，其他添加劑的含量相對於透明層形成用組成物的總固體成分係0.01質量%以下為較佳，0.005質量%以下為更佳，0.001質量%以下為進一步較佳，不含有為特佳。
＜像素形成用組成物＞ 接著，對本發明的濾色器的製造方法中所使用之像素形成用組成物進行說明。作為本發明中所使用之像素形成用組成物，係濾色器中的著色像素的形成用組成物為較佳。作為著色像素，可列舉紅色像素、藍色像素、綠色像素、黃色像素、品紅色像素、藍色像素等。
＜＜著色劑＞＞ 像素形成用組成物含有著色劑為較佳。作為著色劑，可列舉彩色著色劑、黑色著色劑。作為彩色著色劑，可列舉黃色著色劑、橙色著色劑、紅色著色劑、綠色著色劑、紫色著色劑、藍色著色劑等。作為彩色著色劑的具體例，能夠列舉以下。
色指數（Color Index）（C.I.）顏料黃1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214（以上為黃色顏料）； C.I.顏料橙2、5、13、16、17：1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73（以上為橙色顏料）； C.I.顏料紅1，2，3，4，5，6，7，9，10，14，17，22，23，31，38，41，48:1，48:2，48:3，48:4，49，49:1，49:2，52:1，52:2，53:1，57:1，60:1，63:1，66，67，81:1，81:2，81:3，83，88，90，105，112，119，122，123，144，146，149，150，155，166，168，169，170，171，172，175，176，177，178，179，184，185，187，188，190，200，202，206，207，208，209，210，216，220，224，226，242，246，254，255，264，270，272，279（以上為紅色顏料）； C.I.顏料綠7、10、36、37、58、59（以上為綠色顏料）； C.I.顏料紫1、19、23、27、32、37、42、58、59（以上為紫色顏料）； C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80（以上為藍色顏料）。
又，作為綠色著色劑，還能夠使用分子中的鹵素原子數為平均10～14個、溴原子數為平均8～12個、氯原子數為平均2～5個之鹵化鋅酞青顏料。作為具體例，可列舉國際公開第2015/118720號公報中記載之化合物。
又，作為藍色著色劑，還能夠使用具有磷原子之鋁酞青化合物。作為具體例，可列舉日本特開2012-247591號公報的段落號0022～0030、日本特開2011-157478號公報的段落號0047中記載之化合物等。
又，作為黃色著色劑，還能夠使用日本特開2013-54339號公報的段落號0011～0034中記載之喹啉黃（quinophthalone）化合物、日本特開2014-26228號公報的段落號0013～0058中記載之喹啉黃化合物等。
作為彩色著色劑亦能夠使用染料。作為染料，例如可列舉日本特開昭64-090403號公報、日本特開昭64-091102號公報、日本特開平1-094301號公報、日本特開平6-011614號公報、美國專利第4808501號說明書、日本特開平5-333207號公報、日本特開平6-035183號公報、日本特開平6-051115號公報、日本特開平6-194828號公報等中揭示之染料。若作為化學結構而區分，則能夠列舉吡唑偶氮化合物、吡咯亞甲基化合物、苯胺基偶氮化合物、三芳基甲烷化合物、蒽醌化合物、亞芐基化合物、氧雜菁化合物、吡唑并三唑偶氮化合物、吡啶酮偶氮化合物、花青化合物、啡噻嗪化合物、吡咯并吡唑偶氮次甲基（pyrrolo pyrazole azomethine）化合物等。
又，作為著色劑可使用色素多聚體。色素多聚體係溶解在溶劑中而使用之染料為較佳，但亦可形成粒子。當色素多聚體為粒子時，將色素多聚體分散在溶劑等中而使用。粒子狀態的色素多聚體例如能夠藉由乳化聚合來獲得。作為粒子狀態的色素多聚體，例如可列舉日本特開2015-214682號公報中記載之化合物。又，作為色素多聚體，還能夠使用日本特開2011-213925號公報、日本特開2013-041097號公報、日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-030742號公報等中記載之化合物。
作為黑色著色劑，可列舉碳黑、鈦黑等無機系黑色著色劑、雙苯并呋喃酮化合物、甲亞胺化合物、苝化合物等有機系黑色著色劑。作為雙苯并呋喃酮化合物，可以舉出日本特表2010-534726號公報、日本特表2012-515233號公報、日本特表2012-515234號公報等中所記載之化合物，例如能夠作為BASF公司製之“Irgaphor Black”而獲得。作為苝化合物，可舉出C.I.Pigment Black 31、32等。作為甲亞胺化合物，可舉出日本特開平1-170601號公報、日本特開平2-34664號公報等中記載者，例如可作為Dainichiseika Color & Chemicals Mfg.Co.,Ltd.製的“CHROMOFINEBLACK A1103”來獲得。
著色劑的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係30質量%以上為較佳，40質量%以上為更佳，50質量%以上為進一步較佳，55質量%以上為更進一步較佳，60質量%以上為更進一步較佳，65質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，75質量%以下為更佳，70質量%以下為進一步較佳。像素形成用組成物中所含之著色劑可以為一種，亦可以為兩種以上。當包含兩種以上的著色劑時，總計量成為上述範圍為較佳。
＜＜聚合性化合物＞＞ 像素形成用組成物能夠含有聚合性化合物。作為聚合性化合物，能夠使用能夠藉由自由基、酸、熱進行交聯之公知的化合物。作為聚合性化合物，可列舉含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物等。 作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可列舉乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基等。 聚合性化合物係自由基聚合性化合物為更佳。作為聚合性化合物，可以是單體、預聚物、低聚物等化學形態的任一種，但單體為較佳。聚合性化合物的分子量為100～3000為較佳。上限係2，000以下為更佳，1，500以下為進一步較佳。下限係150以上為更佳，250以上為進一步較佳。聚合性化合物為3～15官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為較佳，3～6官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為更佳。作為該等的具體化合物，可列舉日本特開2009-288705號公報的段落號0095～0108、日本特開2013-029760號公報的段落號0227、日本特開2008-292970號公報的段落號0254～0257中記載之化合物，該等內容併入本說明書中。又，作為聚合性化合物，亦能夠較佳地使用上所述透明層形成用組成物一項中說明之含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物（例如為單體A）。
聚合性化合物的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳。下限係0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳。上限係45質量%以下為更佳，40質量%以下為進一步較佳。聚合性化合物可以係單獨一種，亦可以併用兩種以上。併用兩種以上時，總計量成為上述範圍為較佳。
＜＜光聚合起始劑＞＞ 像素形成用組成物能夠含有光聚合起始劑。作為光聚合起始劑並無特別限制，能夠從公知的光聚合起始劑中適當選擇。關於該等的詳細內容，可列舉上述透明層形成用組成物一項中說明之光聚合起始劑。光聚合起始劑的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分，係0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。光聚合起始劑可以為單獨一種，亦可以併用兩種以上。併用兩種以上時，總計量成為上述範圍為較佳。
＜＜具有環氧基之化合物＞＞ 像素形成用組成物能夠含有具有環氧基之化合物。依該態樣、能夠提高膜的機械強度等。作為具有環氧基之化合物，在1分子內具有2個以上環氧基之化合物為較佳。環氧基的上限係100個以下為較佳，10個以下為更佳，5個以下為進一步較佳。
具有環氧基之化合物係具有芳香環及/或脂肪環之結構的化合物為較佳，具有脂肪環之結構的化合物為進一步較佳。環氧基經由單鍵或連接基與芳香環及/或脂肪環鍵結為較佳。作為連接基，可列舉伸烷基、伸芳基、-NR’-（R’表示氫原子、可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，氫原子為較佳）、-SO2
-、-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-及將該等組合而成之基團。 在具有脂肪環之化合物之情況下，環氧基直接鍵結（單鍵）於脂肪環而成之化合物為較佳。在具有芳香環之化合物之情況下，環氧基經由連接基鍵合於芳香環而成之化合物為較佳。連接基係伸烷基或伸烷基與-O-的組合而成之基團為較佳。 又，具有環氧基之化合物能夠使用具有2個以上的芳香環有烴基連接而成之結構之化合物。烴基係碳數1～6的伸烷基為較佳。環氧基經由上述連接基連接為較佳。
具有環氧基之化合物的環氧基當量（=具有環氧基之化合物的分子量/環氧基的數量）係500g/eq以下為較佳，100～400g/eq為更佳，100～300g/eq為進一步較佳。
具有環氧基之化合物可以係低分子化合物（例如，分子量小於1000），亦可以係高分子化合物（macromolecule）（例如，分子量1000以上，當為聚合物時，重量平均分子量為1000以上）的任一個。具有環氧基之化合物的分子量（聚合物的情況下，重量平均分子量）係200～100000為較佳，500～50000為更佳。分子量（聚合物的情況下，重量平均分子量）的上限係3000以下為較佳，2000以下為更佳，1500以下為進一步較佳。
具有環氧基之化合物能夠使用日本特開2013-011869號公報的段落號0034～0036、日本特開2014-043556號公報的段落號0147～0156、日本特開2014-089408號公報的段落號0085～0092中所記載之化合物。該等內容被併入本說明書中。關於市售品，例如作為雙酚A型環氧樹脂，為jER825、jER827、jER828、jER834、jER1001、jER1002、jER1003、jER1055、jER1007、jER1009、jER1010（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055（以上為DIC CORPORATION製）等，作為雙酚F型環氧樹脂，為jER806、jER807、jER4004、jER4005、jER4007、jER4010（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON830、EPICLON835（以上為DIC CORPORATION製）、LCE-21、RE-602S（以上為NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）等，作為苯酚酚醛清漆型環氧樹脂，為jER152、jER154、jER157S70、jER157S65（以上為Mitsubishi Chemical Corporation製）、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775（以上為DIC CORPORATION製）等，作為甲酚酚醛清漆型環氧樹脂，為EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695（以上為DIC CORPORATION製）、EOCN-1020（NIPPON KAYAKU CO.,LTD.製）等，作為脂肪環氧樹脂，為ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S（以上為ADEKA CORPORATION製）、CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 2081、CELLOXIDE 2083、CELLOXIDE 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700（以上為Daicel Chemical Industries,Ltd.製）、Denacol EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L（以上為Nagase Chemtex Corporation等。此外，可以舉出ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESIN EP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S（以上為ADEKA CORPORATION製）、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502（以上為ADEKA CORPORATION製）、jER1031S（Mitsubishi Chemical Corporation製）等。
具有環氧基之化合物的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係0.1～40質量%為較佳。下限例如係0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳。上限例如係30質量%以下為更佳，20質量%以下為進一步較佳。具有環氧基之化合物可以單獨為一種，亦可以同時使用兩種以上。併用兩種以上時，總計量成為上述範圍為較佳。又，當併用聚合性化合物和具有環氧基之化合物時，兩者的比例（質量比）係聚合性化合物的質量:具有環氧基之化合物的質量=100:1～100:400為較佳，100:1～100:100為更佳，100:1～100:50為進一步較佳。
＜＜樹脂＞＞ 像素形成用組成物能夠含有樹脂。作為樹脂，可以舉出（甲基）丙烯酸樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂，矽烷樹脂等。樹脂例如以使顏料等粒子分散於組成物中之用途或黏合劑的用途調合。另外，將主要為了使顏料等的粒子分散而使用之樹脂亦稱為分散劑。但是，如樹脂之類的用途為一例，亦能夠以該種用途以外的目的使用。樹脂的重量平均分子量（Mw）係5,000～100,000為較佳。又，樹脂的數平均分子量（Mn）係1000～20,000為較佳。
在本發明中，作為樹脂亦較佳地使用具有酸基之樹脂。作為酸基，例如可列舉羧基、磷酸基、磺基、酚性羥基等，羧基為較佳。作為具有酸基之樹脂的酸值，係25～200mgKOH/g為較佳。下限係30mgKOH/g以上為更佳，40mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係150mgKOH/g以下為更佳，120mgKOH/g以下為進一步較佳，100mgKOH/g以下尤為佳。具有酸基之樹脂亦能夠作為鹼可溶性樹脂而較佳地使用。
在本發明中，作為樹脂亦較佳地使用含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之樹脂。作為含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之樹脂，亦能夠使用上述透明層形成用組成物一項中說明之樹脂A。
在本發明中，作為分散劑亦能夠使用樹脂。作為分散劑，可列舉日本特開2015-151530號公報的段落號0173～0179中記載之顏料分散劑，該內容被併入本說明書中。作為分散劑的市售品，例如可列舉Disperbyk-161（BYK Chemie GmbH公司製）等。又，還能夠使用日本特開2012-137564號公報的段落號0129中記載之產品作為分散劑。
樹脂的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係1～80質量%為較佳。下限係5質量%以上為更佳，10質量%以上為進一步較佳。上限係70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳。
＜＜溶劑＞＞ 像素形成用組成物含有溶劑為較佳。作為溶劑，可列舉上述透明層形成用組成物一項中說明之溶劑等。溶劑的含量係像素形成用組成物的總固體成分成為5～80質量%之量為較佳。下限係10質量%以上為較佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳，40質量%以下為進一步較佳。
＜＜界面活性劑＞＞ 像素形成用組成物能夠含有界面活性劑。作為界面活性劑，可列舉上述透明層形成用組成物一項中說明之界面活性劑，氟系界面活性劑為較佳。界面活性劑的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係0.001～2.0質量%為較佳，0.005～1.0質量%為更佳。界面活性劑可以為單獨一種，亦可以併用兩種以上。併用兩種以上時，總計量成為上述範圍為較佳。
＜＜顏料衍生物＞＞ 像素形成用組成物能夠含有顏料衍生物。作為顏料衍生物，可以舉出具有由酸基、鹼性基或鄰苯二甲醯亞胺甲基取代了發色團的一部分之結構之化合物。作為構成顏料衍生物之發色團，可列舉喹啉系骨架、苯并咪唑酮系骨架、二酮吡咯并吡咯系骨架、偶氮系骨架、酞青系骨架、蒽醌系骨架、喹吖酮系骨架、二㗁𠯤系骨架、紫環酮系骨架、苝系骨架、硫靛藍系骨架、異吲哚啉系骨架、異吲哚啉酮系骨架、喹啉黃系骨架、陰丹士林系骨架、金屬錯合物系骨架等，喹啉系骨架、苯并咪唑酮系骨架、二酮吡咯并吡咯系骨架、偶氮系骨架、喹啉黃系骨架、異吲哚啉系骨架及酞青系骨架為較佳，偶氮系骨架及苯并咪唑酮系骨架為更佳。作為具有顏料衍生物之酸基，磺基、羧基為較佳，磺基為更佳。作為顏料衍生物所具有之鹼性基，胺基為較佳，三級胺基為更佳。作為顏料衍生物的具體例，例如能夠參閱日本特開2011-252065號公報的段落號0162～0183的記載，該內容被併入本說明書中。在像素形成用組成物含有顏料衍生物之情況下，顏料衍生物的含量相對於顏料100質量份，係1～30質量份為較佳，3～20質量份為進一步較佳。顏料衍生物可以僅使用一種，亦可以併用兩種以上。
＜＜矽烷偶合劑＞＞ 像素形成用組成物能夠含有矽烷偶聯劑。本發明中，矽烷偶合劑係指具有水解性基和其以外的官能基之矽烷化合物。又，水解性基係指可與矽原子直接連結並藉由水解反應及/或縮合反應而產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基團，例如可以舉出，鹵素原子、烷氧基、醯氧基等。矽烷偶合劑係具有選自乙烯基、環氧基、甲基丙烯醯基、胺基、異氰脲酸酯基、脲基、巰基、硫醚基及異氰酸酯基中之至少一種基團及烷氧基之矽烷化合物為較佳。關於矽烷偶合劑的詳細內容，能夠參閱日本特開2013-254047號公報的段落號0155～0158中的記載，將該內容併入本說明書中。在像素形成用組成物含有矽烷偶聯劑之情況下，矽烷偶聯劑的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分係0.001～20質量%為較佳，0.01～10質量%為更佳，0.1～5質量%為特佳。像素形成用組成物可以僅包含一種矽烷偶聯劑，亦可以包含兩種以上。
＜＜聚合抑制劑＞＞ 像素形成用組成物能夠含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑，可列舉對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-三級丁基對甲酚、五倍子酚、三級丁基兒茶酚、苯醌、4,4’-硫代雙（3-甲基-6-三級丁基苯酚）、2,2’-亞甲基雙（4-甲基-6-三級丁基苯酚）、N-亞硝基苯基羥胺鹽（銨鹽、第一鈰鹽等）等。在像素形成用組成物含有聚合抑制劑之情況下，聚合抑制劑的含量相對於像素形成用組成物的總固體成分，係0.01～5質量%為較佳。像素形成用組成物可以僅包含一種聚合抑制劑，亦可以包含兩種以上。
＜＜其他添加劑＞＞ 像素形成用組成物能夠還摻合紫外線吸收劑、抗氧化劑、填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、抗凝聚劑等其他添加劑。作為該等的其他添加劑，能夠列舉日本特開2016-102191號公報的段落號0164～0300中記載之添加劑，將該內容併入本說明書中。
＜濾色器＞ 接著，對本發明的濾色器進行說明。本發明的濾色器的特徵在於，在支撐體上具有第1像素及與該第1像素顏色不同之第2像素，在第1像素的表面具有平均厚度300nm以下的透明層，在第2像素與支撐體之間具有平均厚度300nm以下的透明層。
參閱圖3，第1像素2的厚度係0.1～10.0μm為較佳。上限係5.0μm以下為較佳，2.0μm以下為更佳，1.0μm以下為進一步較佳。下限係0.3μm以上為較佳，0.4μm以上為更佳。又，形成於第1像素2的表面上之透明層3的平均厚度係5～300nm為較佳，5～100nm為更佳，5～50nm為進一步較佳。又，第1像素2的厚度係形成於第1像素2的表面上之透明層3的平均厚度的2～1000倍為較佳，4～400倍為更佳，8～200倍為進一步較佳。
第2像素4的厚度係0.1～10.0μm為較佳。上限係5.0μm以下為較佳，2.0μm以下為更佳，1.0μm以下為進一步較佳。下限係0.3μm以上為較佳，0.4μm以上為更佳。又，形成於第2像素4和支撐體1之間之透明層3的平均厚度係5～300nm為較佳，5～100nm為更佳，5～50nm為進一步較佳。又，第2像素4的厚度係形成於第2像素4和支撐體1之間之透明層3的平均厚度的2～1000倍為較佳，4～400倍為更佳，8～200倍為進一步較佳。
本發明的濾色器在第1像素和第2像素之間具有平均厚度300nm以下的透明層為較佳。位於第1像素和第2像素之間之透明層的平均厚度係5～300nm為較佳，5～100nm為更佳，5～50nm為進一步較佳。
另外，在本發明的濾色器中，形成於第1像素的表面上之透明層的平均厚度係前述透明層的任意3個部位的厚度的平均值。又，形成於第2像素4和支撐體之間之透明層的平均厚度係前述透明層的任意3個部位的厚度的平均值。又，形成於第1像素和第2像素之間之透明層的平均厚度係前述透明層的任意3個部位的厚度的平均值。又，透明層的厚度能夠由相對於支撐體垂直地切斷而成之截面的掃描型電子顯微鏡（SEM）圖像測定。關於第1像素及第2像素的厚度亦相同。
在本發明的濾色器中，第1像素及第2像素中的至少一者含有55質量%以上之著色劑為較佳，至少第2像素含有55質量%以上的著色劑為更佳，第1像素及第2像素兩者含有55質量%以上的著色劑為進一步較佳。
本發明的濾色器可以還形成有保護層等功能層。本發明的濾色器能夠用於CCD（電荷耦合元件）和CMOS（互補金屬氧化膜半導體）等固體攝像元件和圖像顯示裝置等。
＜固體攝像元件的製造方法＞ 本發明的固體攝像元件的製造方法包括上述本發明的濾色器的製造方法。作為固體攝像元件的構成，只要是作為固體攝像元件而發揮功能之構成，則無特別限定，但例如可以列舉如下的構成。
在基板上如下構成：具有包括構成固體攝像元件（CCD（電荷耦合元件）影像感測器、CMOS（互補金屬氧化膜半導體）影像感測器等）的受光區域之複數個二極體及多晶矽等之傳輸電極，在二極體及傳輸電極上具有僅開口二極體的受光部之遮光膜，在遮光膜上具有包括以覆蓋遮光膜整面及二極體受光部的方式形成之氮化矽等之元件保護膜，在元件保護膜上具有濾色器。另外，亦可以為在元件保護膜上且濾色器之下（接近於基板之側）具有聚光機構（例如，微透鏡等。以下相同）之結構、或在濾色器具有聚光機構之結構等。具備了固體攝像元件之攝像裝置，除了數位相機或具有攝像機能之電子設備（移動電話等）以外，能夠用作車載相機或監控相機用。
＜圖像顯示裝置的製造方法＞ 圖像顯示裝置的製造方法包括上述本發明的濾色器的製造方法。作為圖像顯示裝置，可列舉液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置等。關於圖像顯示裝置的定義和各圖像顯示裝置的詳細內容，例如記載於“電子顯示器設備（佐佐木 昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd. 1990年發行）”、“顯示器設備（伊吹 順章著、Sanyo Tosho Publishing Co.,Ltd.1989年發行）”等中。又，關於液晶顯示裝置，例如記載於“下一代液晶顯示器技術（內田龍男編輯、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd. 1994年發行）”中。能夠適用本發明之液晶顯示裝置並無特別限制，例如能夠適用於上述“下一代液晶顯示器技術”中記載之各種方式的液晶顯示裝置。 [實施例]
以下舉出實施例對本發明進行具體地說明。關於以下的實施例所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等，只要不脫離本發明的宗旨，則能夠適當變更。因此，本發明的範圍並不限定於以下所示之具體例。另外，若無特別說明，“份”、“%”為質量基準。
＜透明層形成用組成物的製備＞ （透明層形成用組成物1） 混合以下所示之原料而製備了透明層形成用組成物。該透明層形成用組成物在25℃下的黏度係1.20mPa･s。 硬化性化合物1······0.35質量份 丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）······99.65質量份
（透明層形成用組成物2） 混合以下所示之原料而製備了透明層形成用組成物。該透明層形成用組成物在25℃下的黏度係1.20mPa･s。 硬化性化合物2······0.35質量份 丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）······99.65質量份
（透明層形成用組成物3） 混合以下所示之原料而製備了透明層形成用組成物。該透明層形成用組成物在25℃下的黏度係1.20mPa･s。 硬化性化合物1······0.35質量份 光聚合起始劑1······0.005質量份 丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）······99.65質量份
硬化性化合物1：下述結構的樹脂（Mw=14000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式10]硬化性化合物2：下述結構的樹脂（Mw=11000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式11]光聚合起始劑1：下述結構的化合物 [化學式12]
＜像素形成用組成物的製備＞ ＜＜Green分散液的製備＞＞ 利用珠磨機（氧化鋯珠0.3mm系）將9.5質量份的下述表中記載之Green顏料、2.4質量份的C.I.顏料黃185、1.2質量份的下述表中記載之衍生物、4.6質量份的下述表中記載之分散劑、82.3質量份的PGMEA的混合液混合及分散3小時。然後，進一步使用帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon BEE Co.,Ltd.製），在2000kg/cm3
的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。重複10次該分散處理，得到了綠色分散液。
[表1]
＜＜Red分散液的製備＞＞ 利用珠磨機（氧化鋯珠0.3mm系）將8.3質量份的下述表中記載之Red顏料、2.3質量份的C.I.顏料黃139、2.4質量份的下述表中記載之衍生物、3.9質量份的下述表中記載之分散劑、83.1質量份的PGMEA的混合液混合及分散3小時後，進一步利用帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon BEE Co.,Ltd.製），在2000kg/cm3
的壓力下以流量500g/min進行了分散處理。重複10次該分散處理，得到了紅色分散液。 [表2]
用於製備Green分散液及Red分散液之原料為如下。 （Green顏料） Green顏料1：C.I.顏料綠7 Green顏料2：C.I.顏料綠36 Green顏料3：C.I.顏料綠58 （Red顏料） Red顏料1：C.I.顏料紅254 Red顏料2：C.I.顏料紅264 （衍生物） 衍生物1：下述結構的化合物 [化學式13]衍生物2：下述結構的化合物 [化學式14]（分散劑） 分散劑1：下述結構的樹脂（Mw=20000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比，附在側鏈上個數值係重複單元的數量。） [化學式15]分散劑2：下述結構的樹脂（Mw=24000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比，附在側鏈上之數值係重複單元的數量。） [化學式16]分散劑3：下述結構的樹脂（Mw=38900，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比，附在側鏈上之數值係重複單元的數量。） [化學式17]分散劑4：下述結構的樹脂（Mw=32683，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比，附在側鏈上之數值係重複單元的數量。） [化學式18]
＜＜Green組成物的製備＞＞ 混合下述原料而製備了Green組成物。 [Green配方1] 下述表中記載之Green分散液······71.8質量份 下述表中記載之樹脂······1.1質量份 下述表中記載之聚合性化合物······1.8質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.8質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.3質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.0009質量份 PGMEA……24.1質量份
[Green配方2] 下述表中記載之Green分散液······78.2質量份 下述表中記載之樹脂······0.3質量份 下述表中記載之聚合性化合物······1.6質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.7質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.3質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.00079質量份 PGMEA……18.8質量份
[Green配方3] 下述表中記載之Green分散液······85.9質量份 下述表中記載之樹脂······0.3質量份 下述表中記載之聚合性化合物······0.6質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.3質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.3質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.00032質量份 PGMEA······12.5質量份
[表3]
＜＜Red組成物的製備＞＞ 混合下述原料而製備了Red組成物。 [Red配方1] 下述表中記載之Red分散液······66.2質量份 下述表中記載之樹脂······1.3質量份 下述表中記載之聚合性化合物······1.1質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.5質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.04質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.00054質量份 PGMEA······30.9質量份
[Red配方2] 下述表中記載之Red分散液······72.9質量份 下述表中記載之樹脂······0.4質量份 下述表中記載之聚合性化合物······0.9質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.4質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.04質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.00045質量份 PGMEA······25.4質量份
[Red配方3] 下述表中記載之Red分散液······79.5質量份 下述表中記載之樹脂······0.1質量份 下述表中記載之聚合性化合物······0.3質量份 下述表中記載之光聚合起始劑······0.1質量份 下述表中記載之界面活性劑······0.04質量份 下述表中記載之聚合抑制劑······0.00016質量份 PGMEA······19.9質量份
[表4]
用於製備Green組成物、Red組成物之原料為如下。 （Green分散液） Green分散液1～12：上述Green分散液1～12 （Red分散液） Red分散液1～10：上述Red分散液1～10 （樹脂） 樹脂1：下述結構的樹脂（Mw=14000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式19]樹脂2：下述結構的樹脂（Mw=5000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式20]樹脂3：下述結構的樹脂（Mw=11000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式21]樹脂4：下述結構的樹脂（Mw=11000，主鏈上標註之數值係重複單元的莫耳比。） [化學式22]（聚合性化合物） 聚合性化合物1：下述化合物的混合物（左側化合物與右側化合物的莫耳比為7：3的混合物） [化學式23]聚合性化合物2：下述化合物 [化學式24]聚合性化合物3：下述結構的化合物 [化學式25]（光聚合起始劑） 光聚合起始劑1：上述光聚合起始劑1 光聚合起始劑2：下述結構的化合物 [化學式26]光聚合起始劑3：下述結構的化合物 [化學式27]光聚合起始劑4：下述結構的化合物 [化學式28]（界面活性劑） 界面活性劑1：下述混合物（Mw=14000）。下述式中，表示重複單元的比例之%為莫耳%。 [化學式29]界面活性劑2：下述結構的化合物 [化學式30]（聚合抑制劑） 聚合抑制劑1：對甲氧基苯酚
＜評價＞ （殘渣、圖案形成性的評價） 利用旋塗法以製膜後的膜厚成為0.5μm之方式將下述表中記載之第1像素形成用組成物塗佈於支撐體上。接著，使用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，利用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）經由具有0.9μm的Bayer圖案之遮罩以150mJ/cm2
的曝光量進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲基銨（TMAH）0.3質量%水溶液在23℃下進行60秒覆液顯影。然後，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而利用純水進行水洗之後，利用加熱板在220℃下加熱5分鐘，從而形成了具有圖案之第1像素。 接著，利用旋塗法將透明層形成用組成物塗佈於形成有第1像素之支撐體上，接著利用加熱板在100℃下加熱2分鐘。關於使用了透明層形成用組成物1、2之情況，接著，使用加熱板在230℃下加熱2分鐘，在第1像素及支撐體上形成了下述表中記載之平均厚度的透明層。關於使用了透明層形成用組成物3之情況，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）以150mJ/cm2
的曝光量進行曝光，在第1像素及支撐體上形成了下述表中記載之平均厚度的透明層。另外，下述表中的透明層的平均厚度的數值係形成於第1像素的上表面上之透明層的任意3個部位的厚度與形成於支撐體的表面上之透明層的任意3個部位的厚度的平均值。又，透明層的厚度由相對於支撐體垂直地切斷而得之截面的掃描型電子顯微鏡（SEM）圖像測定。 使用MCPD-3700（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製），測量了形成有透明層之後的第1像素的波長400～700nm的範圍的透射率（分光1）。 利用旋塗法以製膜後的膜厚成為0.5μm之方式將下述表中記載之第2像素形成用組成物塗佈於形成有透明層之支撐體上，接著，使用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，利用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）經由具有0.9μm的Bayer圖案之遮罩以150mJ/cm2
的曝光量進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲基銨（TMAH）0.3質量%水溶液在23℃下進行60秒覆液顯影。然後，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而利用純水進行水洗之後，利用加熱板在220℃下加熱5分鐘，從而形成了第2像素。 利用MCPD-3700（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製），測量了形成有第2像素之後的第1像素的波長400～700nm的範圍的透射率（分光2）。 利用第1像素的分光1和分光2求出透射率的變化量的最大值T1。另外，透射率的變化量的最大值係指，針對第2像素形成前後的第1像素，波長400～700nm的範圍的透射率的變化量最大的波長下的該變化量。
接著，除了未形成透明層以外，以與上述相同的方法，形成第1像素及第2像素，並利用第1像素的分光1和分光2求出透射率的變化量的最大值T2。
利用未形成透明層之情況下的透射率的變化量的最大值T2和形成有透明層之情況下的透射率的變化量的最大值T1，由以下基準評價了殘渣。若T1/T2的值小於1，則係指與未形成透明層之情況相比，能夠抑制殘渣的產生。 （殘渣的判定基準） 5：T1/T2的值小於0.2 4：T1/T2的值為0.2以上且小於0.5 3：T1/T2的值為0.5以上且小於0.8 2：T1/T2的值為0.8以上且小於1.0 1：T1/T2的值為1.0
圖案形成性將第2像素的上部的橫寬設為L1、將第2像素的下部的橫寬設為L2，並由以下的基準進行了評價。 （圖案形成性的判定基準） 5：L1-L2小於0.05μm 4：L1-L2為0.05μm以上且小於0.10μm 3：L1-L2為0.10μm以上且小於0.15μm 2：L1-L2為0.15μm以上且小於0.20μm 1：L1-L2為0.20μm以上
（混色的評價） 混合以下的原料而製備出底塗層用組成物。 PGMEA······19.20質量份 乳酸乙酯······36.67質量份 樹脂：（甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸-2-羥乙基共聚物（莫耳比=60:20:20）41%乙酸乙酯溶液）······30.51質量份 二新戊四醇六丙烯酸酯······12.20質量份 聚合抑制劑1······0.006質量份 界面活性1······0.83質量份 光聚合起始劑（TAZ-107，Midori Kagaku Co.,Ltd.製）······0.59質量份
利用旋塗法將上述底塗層用組成物塗佈於200mm（8英吋）玻璃晶片上而形成塗佈膜，利用120℃的加熱板將所形成之塗佈膜進行120秒的加熱處理。再者，旋轉塗佈的塗佈轉速調整為加熱處理後的塗佈膜的膜厚成為約0.5μm。進一步用220℃的烘箱對加熱處理後的塗佈膜進行1小時處理，使塗佈膜硬化，從而形成了底塗層。如以上方式，獲得了在玻璃晶圓上形成有底塗層之具有底塗層之玻璃晶圓。 利用旋塗法以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式將下述表中記載之第1像素形成用組成物塗佈於帶底塗層之玻璃晶片上。接著，利用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，利用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）經由具有7.0μm的Bayer圖案之遮罩以1000mJ/cm2
的曝光量進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲基銨（TMAH）0.3質量%水溶液在23℃下進行60秒覆液顯影。然後，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而利用純水進行水洗之後，利用加熱板在220℃下加熱5分鐘，從而形成了具有圖案之第1像素。 接著，利用旋塗法將下述表中記載之透明層形成用組成物塗佈於形成有第1像素之支撐體上，接著利用加熱板在100℃下加熱2分鐘。關於使用了透明層形成用組成物1、2之情況，接著，使用加熱板在230℃下加熱2分鐘，在第1像素及支撐體上形成了下述表中記載之平均厚度的透明層。關於使用了透明層形成用組成物3之情況，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）以150mJ/cm2
的曝光量進行曝光，在第1像素及支撐體上形成了下述表中記載之平均厚度的透明層。 接著，利用旋塗法以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式將下述表中記載之第2像素形成用組成物塗佈於形成有透明層之支撐體上，接著，使用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，利用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製）經由具有7.0μm的Bayer圖案之遮罩以1000mJ/cm2
的曝光量進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲基銨（TMAH）0.3質量%水溶液在23℃下進行60秒覆液顯影。然後，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而利用純水進行水洗而形成了第2像素。接著，使用加熱板，在220℃下加熱了5分鐘。 利用顯微光譜儀（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製LCF-1500M）測量了對第2像素的加熱處理前後的第1像素和第2像素在波長400～700nm下的吸光度。求出對第2像素的加熱前後的第1像素的吸光度的變化率的最大值及第2像素的吸光度的變化率的最大值。另外，所謂吸光度的變化率的最大值，係指針對第2像素的加熱處理前後的各像素，在波長400～700nm的範圍下的吸光度的變化量最大的波長下的該變化量。 又，吸光度的變化率以如下方式求出。 第1像素的吸光度的變化率（%）=|1-對第2像素的加熱處理後的第1像素的吸光度/對第2像素的加熱處理前的第1像素的吸光度|×100 第2像素的吸光度的變化率（%）=|1-對第2像素的加熱處理後的第2像素的吸光度/對第2像素的加熱處理前的第2像素的吸光度|×100 -判定基準- A：吸光度的變化率小於10% B：吸光度的變化率為10%以上
[表5]
[表6]
如上述表所示，實施例中，殘渣、圖案形成性、混色的評價良好。 即使在使用將Green組成物中或Red組成物中的顏料置換成藍色顏料而製備之Blue組成物形成第1像素或第2像素之情況下，獲得與上述實施例相同的結果。
1‧‧‧支撐體
1a‧‧‧表面
2‧‧‧第1像素
2a‧‧‧上表面
2b‧‧‧側面
3‧‧‧透明層
4‧‧‧第2像素
4a‧‧‧像素形成用組成物層
50‧‧‧支撐體
51‧‧‧第1像素
52‧‧‧第2像素
52a‧‧‧組成物層
100‧‧‧殘渣
t1、t2、t3‧‧‧厚度
圖1係本發明的濾色器的製造方法的說明圖。 圖2係本發明的濾色器的製造方法的說明圖。 圖3係本發明的濾色器的製造方法的說明圖。 圖4係習知之濾色器的製造方法的說明圖。 圖5係習知之濾色器的製造方法的說明圖。 圖6係習知之濾色器的製造方法的說明圖。
Claims (10)
- 一種濾色器的製造方法，其包括： 在形成於支撐體上之第1像素的表面運用包含硬化性化合物之透明層形成用組成物形成平均厚度300nm以下的透明層之步驟； 在形成有該透明層之第1像素上運用像素形成用組成物形成像素形成用組成物層之步驟；及 對該像素形成用組成物層進行圖案形成，而形成與該第1像素不同之顏色的第2像素之步驟。
- 如申請專利範圍第1項所述之濾色器的製造方法，其中 藉由光微影法對該像素形成用組成物層進行圖案形成而形成該第2像素。
- 如申請專利範圍第1項所述之濾色器的製造方法，其中 該第1像素及該第2像素中的至少一者含有50質量%以上的著色劑。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 該像素形成用組成物含有選自彩色著色劑及黑色著色劑中之至少一種。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 形成該透明層之步驟係在形成於支撐體上之第1像素的表面運用包含硬化性化合物之透明層形成用組成物形成平均厚度5～100nm的透明層之步驟。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之濾色器的製造方法，其中 該透明層形成用組成物包含具有交聯性基之化合物作為該硬化性化合物。
- 一種固體攝像元件的製造方法，其包括如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之濾色器的製造方法。
- 一種圖像顯示裝置的製造方法，其包括如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之濾色器的製造方法。
- 一種濾色器，其在支撐體上具有第1像素、及與該第1像素不同之顏色的第2像素， 在該第1像素的表面具有平均厚度300nm以下的透明層， 在該第2像素與該支撐體之間具有平均厚度300nm以下的透明層。
- 如申請專利範圍第9項所述之濾色器，其在該第1像素與該第2像素之間具有平均厚度300nm以下的透明層。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017165504 | 2017-08-30 | ||
| JP2017-165504 | 2017-08-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201913149A true TW201913149A (zh) | 2019-04-01 |
Family
ID=65527289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107126781A TW201913149A (zh) | 2017-08-30 | 2018-08-02 | 濾色器的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及濾色器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPWO2019044277A1 (zh) |
| TW (1) | TW201913149A (zh) |
| WO (1) | WO2019044277A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020184245A1 (ja) * | 2019-03-13 | 2020-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 |
| KR20220104777A (ko) * | 2019-12-25 | 2022-07-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 조성물, 막, 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6079331A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-07 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−液晶表示装置の製造方法 |
| JPS6177804A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-21 | Kyodo Printing Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
| JPH01227471A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-11 | Fujitsu Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタ |
| KR920005444B1 (ko) * | 1989-12-02 | 1992-07-04 | 삼성전자 주식회사 | 칼라필터 및 그 제조방법 |
| JP3248696B2 (ja) * | 1992-03-12 | 2002-01-21 | 東レ株式会社 | カラ−フィルタ |
| JPH08271728A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 保護層形成方法及びそれによって作製されたカラーフィルター |
| JPH09113719A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Sekisui Chem Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| US6147730A (en) * | 1998-11-30 | 2000-11-14 | International Business Machines Corporation | Color filters formed sequentially with intervening protective films for flat panel displays |
| JP4258180B2 (ja) | 2001-10-11 | 2009-04-30 | 東レ株式会社 | カラーフィルター及び液晶表示装置 |
-
2018
- 2018-07-24 WO PCT/JP2018/027631 patent/WO2019044277A1/ja active Application Filing
- 2018-07-24 JP JP2019539070A patent/JPWO2019044277A1/ja active Pending
- 2018-08-02 TW TW107126781A patent/TW201913149A/zh unknown
-
2021
- 2021-04-26 JP JP2021073831A patent/JP7241797B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2021131545A (ja) | 2021-09-09 |
| JP7241797B2 (ja) | 2023-03-17 |
| JPWO2019044277A1 (ja) | 2020-10-01 |
| WO2019044277A1 (ja) | 2019-03-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI736595B (zh) | 感光性組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
| JP6617201B2 (ja) | 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 | |
| US10719012B2 (en) | Curable composition, method of manufacturing curable composition, film, infrared cut filter, infrared transmitting filter, pattern forming method, and device | |
| TWI740063B (zh) | 著色組成物、硬化膜、圖案形成方法、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
| WO2019176975A1 (ja) | 構造体、近赤外線カットフィルタ用組成物、ドライフィルム、構造体の製造方法、光センサおよび画像表示装置 | |
| JPWO2019039172A1 (ja) | 構造体、構造体の製造方法、吸収層形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| JP7241797B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタ | |
| TW201706731A (zh) | 硬化膜的製造方法及硬化膜 | |
| JP7057412B2 (ja) | 着色組成物、顔料分散液、顔料分散液の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| US20210079210A1 (en) | Composition, film, optical filter, laminate, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor | |
| US20210130617A1 (en) | Coloring composition, film, color filter, method for manufacturing color filter, solid-state imaging element, and image display device | |
| JP2018146630A (ja) | カラーフィルタの下地膜用組成物、積層体、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| WO2020022248A1 (ja) | 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| JP6604928B2 (ja) | 着色組成物、膜および膜の製造方法 | |
| JP6587697B2 (ja) | 着色組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| WO2020075568A1 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
| WO2019172005A1 (ja) | 感光性着色組成物、硬化膜、パターンの形成方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
| TW202010758A (zh) | 硬化性組成物、硬化性組成物的製造方法、膜、濾色器、濾色器的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
| TW202001425A (zh) | 感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
| TW201940968A (zh) | 感光性組成物 | |
| JPWO2017213028A1 (ja) | 着色組成物および膜の製造方法 |