TW201912976A - 一種線性模組及其工作方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種線性模組，包括殼體，以及直線傳動裝置，所述殼體具有內腔，所述直線傳動裝置至少部分設置於所述內腔中，所述殼體上設有沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的輸出開口，所述輸出開口處設有密封帶，所述線性模組還包括用於與所述直線傳動裝置同步移動的第一滾動機構，所述第一滾動機構設置於所述密封帶背離所述內腔的一側，所述第一滾動機構與所述密封帶滾動接觸。該線性模組潔淨度高、密封性好、精度高、且穩定性好。

Description

一種線性模組及其工作方法

本發明涉及一種線性模組，特別涉及一種設有密封帶防塵結構的線性模組。

線性模組是一種直線傳動裝置。線性模組按照驅動方式的不同大致分為皮帶式線性模組和螺桿式線性模組。

目前，線性模組包括殼體和直線傳動裝置。殼體具有內腔，一個貫穿內腔的輸出開口，設置在輸出開口處的密封帶。直線傳動裝置至少部分設置於內腔，且直線傳動裝置的輸出端穿過輸出開口和密封帶之間的間隙與外部執行裝置連接。這種線性模組一方面避免了外部灰塵進入模組內部，影響線性模組使用壽命和運動精度，另一方面也避免了線性模組內揮發的潤滑油脂，摩擦產生的金屬顆粒影響線性模組的外部環境。因此廣泛應用於自動化工業領域，特別是對於生產環境的潔淨度，以及半導體生產設備本身的潔淨度要求較高的半導體製造領域。

但這種線性模組的密封帶在使用一段時間後容易發生形變和磨損，影響直線傳動裝置移動的平滑度，即影響線性模組的精度和穩定性；此外仍有部分顆粒溢出影響設備和生產環境的潔淨度，且密封帶變形後線性模組的密封性降低，使線性模組內部形成的顆粒更易溢出影響設備和生產環境的潔淨度。

本發明的目的在於提供一種潔淨度高、密封性好、精度高、穩定性好的線性模組。

為解決上述技術問題，本發明提供一種線性模組，包括殼體，以及直線傳動裝置，所述殼體具有內腔，所述直線傳動裝置至少部分設置於所述內腔中，所述殼體上設有沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的輸出開口，所述輸出開口處設有密封帶，所述線性模組還包括用於與所述直線傳動裝置同步移動的第一滾動機構，所述第一滾動機構設置於所述密封帶背離所述內腔的一側，所述第一滾動機構與所述密封帶滾動接觸。

進一步地，所述線性模組還包括用於與所述直線傳動裝置同步移動的第二滾動機構，所述第二滾動機構設置於所述密封帶面向所述內腔的一側，所述第二滾動機構與所述密封帶滾動接觸。

進一步地，所述第二滾動機構的數量為一個，所述第一滾動機構的數量為多個並沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的對稱設置在所述第二滾動機構的兩端。

進一步地，所述第一滾動機構的數量為兩個。

進一步地，所述第二滾動機構的數量為多個並沿所述直線傳動裝置的移動方向間隔設置，所述第一滾動機構的數量為兩個並沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的對稱設置在所述第二滾動機構的兩端。

進一步地，所述第二滾動機構的數量為兩個。

進一步地，所述直線傳動裝置包括用於作直線運動的 滑台，所述第二滾動機構和第一滾動機構均設置於所述滑台上並與所述滑台轉動連接。

進一步地，所述第一滾動機構靠近所述滑台邊緣設置，所述第二滾動機構設置在所述滑台內部。

進一步地，所述滑台包括轉接件和固定設置在所述轉接件上的滑塊，所述第二滾動機構和所述第一滾動機構設置在所述轉接件和/或所述滑塊上。

進一步地，所述第一滾動機構包括與所述密封帶滾動接觸的第一耐磨轉動件，所述第一耐磨轉動件的材質為磁性耐磨材料。

進一步地，所述第一滾動機構還包括第一軸承調整螺母、第一軸承、第一擋圈和第一支撐轉軸；所述第一軸承套接在所述第一支撐轉軸的兩端，所述第一軸承固定在所述滑台上；所述第一耐磨轉動件固定設置在所述第一支撐轉軸上；所述第一擋圈套設在所述第一支撐轉軸上，且靠近所述第一耐磨轉動件的一端，用於固定所述第一軸承的外圈；所述第一軸承調整螺母套設在所述第一支撐轉軸上，且遠離所述第一耐磨轉動件的一端，用於固定第一軸承的內圈。

進一步地，所述第二滾動機構包括與所述密封帶滾動接觸的第二耐磨轉動件，所述第二耐磨轉動件的材質為輕質耐磨材料。

進一步地，所述第二滾動機構還包括第二軸承調整螺母、第二軸承、第二擋圈和第二支撐轉軸；所述第二軸承套接在所述第二支撐轉軸的兩端，所述第二軸承固定在所述滑台上；所述第 二耐磨轉動件固定設置在所述第二支撐轉軸上；所述第二擋圈套設在所述第二支撐轉軸上，且靠近所述第二耐磨轉動件的一端，用於固定所述第二軸承的外圈；所述第二軸承調整螺母套設在所述第二支撐轉軸上，且遠離所述第二耐磨轉動件的一端，用於固定第二軸承的內圈。

進一步地，所述殼體包括底板以及設置在所述底板上的罩殼，所述底板和所述罩殼之間形成所述內腔，且所述罩殼上設置有磁條，所述磁條沿著所述直線傳動裝置的移動方向設置在所述輸出開口的兩側邊上，且所述密封帶至少部分覆蓋在所述磁條上。

進一步地，所述罩殼上設置有前端座和後端座，所述直線傳動裝置包括位於所述殼體內的螺桿、螺母、導軌、軸承，以及至少部分位於所述殼體外的滑台，所述螺桿的一端通過軸承設置在所述前端座，且所述螺桿穿過所述前端座與位於所述殼體外的驅動裝置連接，所述螺桿的另一端通過軸承與後端座轉動連接，所述螺母活動設置在所述螺桿上並與所述滑台連接，所述導軌設置在所述底板上，所述滑台活動設置在所述導軌上。

本發明還提供一種線性模組的工作方法，所述線性模組包括殼體、直線傳動裝置以及第一滾動機構，所述殼體具有內腔，所述直線傳動裝置至少部分設置於所述內腔，所述殼體上設有輸出開口，所述輸出開口處設有密封帶，所述工作方法包括：驅動所述第一滾動機構與所述直線傳動裝置同步移動，在此過程中，所述第一滾動機構相對於所述密封帶滾動；以及通過所述第一滾動機構，將所述直線傳動裝置經過位置處的一部分所述密封帶沿著靠近所述內腔的方向抵壓。

進一步地，所述線性模組還包括第二滾動機構，所述工作方法還包括：驅動所述第二滾動機構與所述直線傳動裝置同步移動，在此過程中，所述第二滾動機構相對於所述密封帶滾動；以及通過所述第二滾動機構，將與所述第二滾動機構接觸的一部分所述密封帶沿著遠離所述內腔的方向從所述輸出開口處抬起，以形成間隙。

本發明提供的一種線性模組，具有以下有益效果：

第一、線性模組的密封帶和第二滾動機構之間為滾動接觸，即直線傳動裝置在移動的過程中，原有的滑動摩擦變為滾動摩擦，減小了滑動摩擦形成的顆粒數量，降低了密封帶在較大摩擦力下磨損變形的可能性，以及密封帶在這些顆粒的影響下磨損變形的可能性，避免這些顆粒影響設備和生產環境的潔淨度，也避免了密封帶變形使線性模組的密封性能降低，進一步影響設備和生產環境的潔淨度，也避免了密封帶變形或者顆粒影響直線傳動裝置移動的平滑度，即影響線性模組的精度和穩定性。

第二、線性模組同時設置有第二滾動機構和第一滾動機構，密封帶的兩面分別與第二滾動機構和第一滾動機構滾動接觸，摩擦阻力小，摩擦形成的顆粒減少，且可將密封帶壓向罩殼，減小直線傳動裝置移動過程中密封帶與罩殼之間的間隙，避免線性模組內部的顆粒溢出影響設備和生產環境的潔淨度。

第三、罩殼上設置的密封帶覆蓋在磁條上，既增加了模組密封性，又可即時收集由滾動摩擦產生的少量金屬顆粒，防止金屬顆粒掉落影響設備其他部分潔淨度，也便於線性模組的清理和維護。

10‧‧‧底板

11‧‧‧前端座

12‧‧‧後端座

20‧‧‧直線傳動裝置

21‧‧‧螺桿

22‧‧‧螺母

23‧‧‧導軌

24‧‧‧前端軸承

25‧‧‧後端軸承

26‧‧‧滑台

30‧‧‧罩殼

31‧‧‧輸出開口

32‧‧‧密封帶

34‧‧‧抽排口

40‧‧‧第二滾動機構

41‧‧‧第二軸承調整螺母

42‧‧‧第二軸承

43‧‧‧第二擋圈

44‧‧‧第二支撐轉軸

45‧‧‧第二耐磨轉動件

50‧‧‧第一滾動機構

51‧‧‧第一軸承調整螺母

52‧‧‧第一軸承

53‧‧‧第一擋圈

54‧‧‧第一支撐轉軸

55‧‧‧第一耐磨轉動件

60‧‧‧磁條

261‧‧‧轉接件

262‧‧‧滑塊

圖1是實施例中線性模組的立體結構示意圖；圖2是實施例中線性模組沿滑台移動方向的截面圖；圖3是實施例中線性模組沿第二滾動機構軸向的截面圖；圖4是實施例中線性模組沿第一滾動機構軸向的截面圖。

目前，雖然線性模組避免了其內部的直線傳動裝置摩擦產生的顆粒污染設備和生產環境，以及模組內部的潤滑油脂揮發到模組外部。但是這種模組在實際使用過程中仍然會有一部分顆粒污染設備和生產環境。

本領域技術人員多認為這些顆粒是由於線性模組的密封不夠，是從模組內部溢出的，例如密封帶與輸出開口處密封不良。另外，本領域技術人員在維護過程中發現，模組在使用一段時間後會有一些顆粒沉積在密封帶與直線傳動裝置的連接處。

為了保證直線傳動裝置的輸出端能與外部執行裝置連接，需在密封帶和輸出開口處設置一個可以與外部連通的間隙，且直線傳動裝置的輸出端相對殼體滑動，因此該間隙需要隨著直線傳動裝置的輸出端移動。目前，多通過直線傳動裝置的輸出端，將位於直線傳動裝置輸出端處的密封帶抬起，使得密封帶與輸出開口之間形成一定間隙，並且該間隙隨著輸出端移動。輸出端在移動過程中先前被抬起的密封帶，在輸出端移開後再次覆蓋在輸出開口處，對輸出開口進行密封。即直線傳動裝置的輸出端與輸出開口之間始終存在一個便於直線傳動裝置的輸出端和外部執行裝置連接 的間隙。因此，本領域技術人員多認為這些顆粒是從上述間隙處溢出。

此外，發明人發現，線性模組在使用一段時間後密封帶容易發生形變和磨損，線性模組的精度降低，直線傳動裝置移動的平滑度受到影響，並且密封帶變形後線性模座的密封性能降低。

發明人經過大量的試驗分析後發現，這些顆粒多由直線傳動裝置的輸出端和密封帶之間的滑動摩擦產生。因此發明人提出了一種用於減少輸出端與密封帶之間的滑動摩擦的線性模組，且該線性模組潔淨度高，密封性好、精度高、且穩定性好。

以下結合附圖和具體實施例對本發明提出的線性模組作進一步詳細說明。需說明的是，附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。

本實施例中的線性模組，包括殼體和直線傳動裝置20。殼體具有內腔，直線傳動裝置20至少部分設置於內腔，殼體上設有沿橫向延伸的輸出開口31，輸出開口31處設有同樣沿橫向延伸的密封帶32，密封帶32的長度與輸出開口31相匹配。在本實施例中的輸出開口31和密封帶32為長條形，當然也可以為其他形狀。線性模組還包括用於與直線傳動裝置同步移動的第二滾動機構40，第二滾動機構40設置於密封帶32面向內腔的一側，第二滾動機構40與密封帶32滾動接觸並用於使密封帶32相對於所述第二滾動機構40滾動，將與所述第二滾動機構40接觸的一部分所述密封帶沿著遠離所述內腔的方向從所述輸出開口31處抬起，以與輸出開口31間形成間隙。

其中，殼體包括底板10和罩殼30。罩殼30固定設置在底板10上，直線傳動裝置20沿橫向延伸且至少部分設置在底板10和罩殼30形成的密閉空腔內，且直線傳動裝置20安裝在底板10上。

參考圖2，直線傳動裝置20包括螺桿21、螺母22、導軌23、前端軸承24、後端軸承25、前端套筒(圖中未示出)、後端套筒(圖中未示出)、前端蓋(圖中未示出)、後端蓋(圖中未示出)和滑台26。底板10上固定有前端座11和後端座12。

螺桿21前端通過前端軸承24與前端座11轉動連接，且螺桿21前端穿過前端座11與驅動裝置(如電機)連接。螺桿21後端通過後端軸承25與後端座12轉動連接。罩殼的一端具有開口，供螺桿21穿過。前端套筒和前端蓋分別套設在螺桿21前端上，位於前端軸承24的兩端，且前端蓋設置在前端軸承24遠離螺母22的一端。前端套筒用於固定前端軸承24的外圈，前端蓋用於固定前端軸承24的內圈。後端套筒和後端蓋分別套設在螺桿21後端上，位於後端軸承25的兩端，且後端蓋設置在後端軸承25遠離螺母22的一端。後端套筒用於固定後端軸承25的外圈，後端蓋用於固定後端軸承25的內圈。前端蓋和後端蓋分別固定在前端座11和後端座12上。

參考圖2、圖3和圖4，螺母22與滑台26固定連接，導軌23固定在底板10上，導軌23用於支撐滑台26，並用於滑台26導向。螺桿21的旋轉驅動螺母22沿螺桿21的軸向線性移動。

參考圖2，罩殼30還設置有輸出開口31，滑台26穿過輸出開口31與執行裝置連接。具體的，本實施例中的輸出開口 31為一長條形的開口。在其他的實施例中，長條形開口也可以為其他的形狀，比如為腰圓形等。

參考圖1和圖2，罩殼30上還設置有密封帶32，密封帶32穿過滑台26覆蓋在輸出開口31上，密封帶32沿著滑台26滑動方向延伸的兩側邊搭設在罩殼30上，密封帶32垂直於滑台26滑動方向延伸的兩端部固定設置在罩殼30上。較佳地，所述密封帶32為鋼帶。

罩殼30上，例如罩殼30的側面，還設置有抽排口34，可通過該抽排口34將線性模組內部的顆粒排出。

參考圖2、圖3、圖4，滑台26上設置有第二滾動機構40，第二滾動機構40與滑台26轉動連接，第二滾動機構40的軸向垂直於滑台26的移動方向，且密封帶32面向空腔的一面與第二滾動機構40相接觸。滑台26在移動的過程中通過第二滾動機構40將前進方向上的密封帶32從罩殼30上抬起，此時密封帶32僅面向空腔的一面與第二滾動機構40接觸，相比較於現有技術中密封帶32與滑台26之間的滑動摩擦，密封帶32與第二滾動機構40之間為滾動摩擦，滑台26在滑動的過程中受到的摩擦阻力較小，密封帶32與第二滾動機構40摩擦後形成的摩擦顆粒減少，降低了密封帶32在較大摩擦力下磨損變形的可能性，同時也降低了密封帶32在這些顆粒的影響下磨損變形的可能性，避免這些顆粒影響設備和生產環境的潔淨度，也避免了密封帶變形使線性模組的密封性能降低，影響設備和生產環境的潔淨度，也避免密封帶變形或者顆粒影響滑台滑動的平滑度，即影響線性模組的精度和穩定性。

滑台26上還設置有垂直於滑台26的移動方向的第一 滾動機構50，第一滾動機構50與滑台26轉動連接，密封帶32背離空腔的一面與第一滾動機構50接觸，第一滾動機構50較佳靠近滑台26邊緣，第二滾動機構40可選設置在滑台26內部。此時密封帶32的兩面分別與第二滾動機構40、第一滾動機構50滾動接觸，摩擦阻力小，摩擦形成的顆粒減少，且第一滾動機構50靠近滑台26的邊緣設置，可將密封帶32壓向罩殼30，減小滑台26滑動過程中密封帶32與罩殼30之間的間隙，避免線性模組內部的顆粒溢出影響設備和生產環境的潔淨度。

滑台26包括轉接件261和固定設置在轉接件261上的滑塊262，轉接件261和滑塊262可分開設置，也可一體設置。密封帶32通過穿過261和262之間覆蓋在輸出開口31上，其中第二滾動機構40和第一滾動機構50均可設置在轉接件261上，或者均設置在滑塊262上，或者轉接件261和滑塊262上分別設置有第二滾動機構40和第一滾動機構50。滑塊262和轉接件261分開設置，製造難度降低，生產成本降低，且滑塊262、轉接件261、第二滾動機構40和第一滾動機構50的組裝和維護方便。

較佳的，參考圖2，第二滾動機構40的數量為兩個並沿滑台26的移動方向間隔設置，第一滾動機構50的數量與第二滾動機構40的數量相匹配並對稱設置在第二滾動機構40的兩端的外側。

兩個第二滾動機構40對稱設置在轉接件261上，兩個第一滾動機構50對稱設置在滑塊262上。一個第一滾動機構50與一個第二滾動機構40對應，且第二滾動機構40靠近第一滾動機構50。在滑台26的一端，一個第二滾動機構40與一個第一滾動機 構50對應設置，一方面使該處的密封帶32與第二滾動機構40之間為滾動連接，滑台26移動的摩擦阻力小，一方面第一滾動機構設置在外側，第二滾動機構40相對於第一滾動機構50設置在滑台26的內部，且兩者靠近，既保證了滑台26移動時，密封帶32抬起，方便滑台26移動，也減小了在滑台26移動方向上密封帶32抬起的長度，以及密封帶32抬起的高度，即降低了滑台26處密封帶32和罩殼30之間的間隙，提高了線性模組的密封性能。另外，滑台26上沿滑台26的移動方向對稱設置有兩組第二滾動機構40和第一滾動機構50，當兩外側設置的第一滾動機構50位置不變時，在靠近兩第一滾動機構50位置處分別設置第二滾動機構40，在保證密封帶32與第一滾動機構50和第二滾動機構40之間為滾動接觸的同時，減小了第一滾動機構50和第二滾動機構40之間的間隙，即進一步的減小了滑台26處密封帶32和罩殼30之間的間隙，提高了密封性能；同時，減小了滑塊262和轉接件261之間的高度，提高了滑台26的平穩性。

圖3是本實施例中線性模組沿第二滾動機構軸向的截面圖，即對應於圖2中線性模組的AA剖面圖。參考圖3，第二滾動機構40包括第二軸承調整螺母41、第二軸承42、第二擋圈43、第二支撐轉軸44和第二耐磨轉動件45；第二軸承42套接在第二支撐轉軸44的兩端，第二軸承42固定在滑台26上；第二耐磨轉動件45固定設置在第二支撐轉軸44上；第二擋圈43套設在第二支撐轉軸44上，且設置在第二軸承42靠近第二耐磨轉動件45的一端，用於固定第二軸承42的外圈；第二軸承調整螺母41套設在第二支撐轉軸44上，且設置在第二軸承42遠離第二耐磨轉動件45 的一端，用於固定第二軸承42的內圈。

參考圖4，第一滾動機構50包括第一軸承調整螺母51、第一軸承52、第一擋圈53、第一支撐轉軸54和第一耐磨轉動件55；第一軸承52套接在第一支撐轉軸54的兩端，第一軸承52固定在滑台上；第一耐磨轉動件55固定設置在第一支撐轉軸54上；第一擋圈53套設在第一支撐轉軸54上，且設置在第一軸承52靠近第一耐磨轉動件55的一端，用於固定第一軸承52的外圈；第一軸承調整螺母51套設在第一支撐轉軸54上，且設置在第一軸承52遠離第一耐磨轉動件55的一端，用於固定第一軸承52的內圈。

第二耐磨轉動件45較佳為輕質耐磨材料。第二耐磨轉動件45一方面可以便於將在第二滾動機構40處產生的顆粒排出，一方面使得密封帶32在第二滾動機構40或者是第一滾動機構50上運行平穩。

第一耐磨轉動件55較佳為磁性耐磨材料。第一耐磨轉動件55為磁性耐磨材料，一方面可以吸附在第一滾動機構50處產生的的金屬顆粒，一方面使得密封帶32在第一滾動機構50上運行平穩。

本實施例中，罩殼30上還設置有凹槽33，凹槽33內固定設置有磁條60，磁條60沿著滑台26移動方向設置在輸出開口31的兩側邊上，且密封帶32覆蓋在磁條60上。既增加了模組密封性，又可即時收集由滾動摩擦產生的少量金屬顆粒，防止金屬顆粒掉落影響設備其他部分潔淨度，也便於維護。

線性模組的滑台26移動時，驅動裝置驅動螺桿21轉動，螺桿21帶動螺母22直線移動，螺母22驅動滑台26直線移動， 滑台26驅動設置在其上的執行裝置移動，滑台26移動時密封帶32與第二滾動機構40和第一滾動機構50之間相對滾動，通過第二滾動機構40將前進方向上的密封帶32從罩殼30上抬起，滑台26經過之處的磁條60將密封帶32吸附在罩殼30上。

在本實施例中，滑台26還可設置在殼體內部，外部連接件穿過輸出開口31與密封帶32之間的間隙與滑台26連接。

在本實施例中，第二滾動機構40或者第一滾動機構50還可以均設置在殼體上，且均與殼體活動連接，同時通過連接件與直線傳動裝置20的輸出端固定連接，使第二滾動機構40或者第一滾動機構50相對於殼體移動，且第二滾動機構40或者第一滾動機構50均可自轉。

在本實施例中，螺桿21與罩殼30還可以通過其他的結構連接。例如，前端軸承和後端軸承的固定方式可以為鎖緊螺母和套筒，端蓋與擋圈，鎖緊螺母和擋圈，鎖緊螺釘和擋圈等其他方式的組合；或者，前端軸承和後端軸承可以為滾珠軸承或者其他的軸承；或者，螺桿和螺母可以為滾珠螺桿螺母副；或者，導軌可以為線性滑軌，此時，轉接件固定在線性滑軌的螺母上。

在本實施例中，直線傳動裝置20還可以為其他輸出線性運動的結構。例如為皮帶傳動機構(圖中未示出)，其中滑台26固定在皮帶上，通過皮帶的正反轉動，驅動固定在皮帶上的滑台沿著導軌滑動。具體的，直線傳動裝置包括皮帶、滑台、導軌、前帶輪、後帶輪、前端支撐軸和後端支撐軸。直線傳動裝置包括皮帶，固定在皮帶上的滑台，設置在底板或者罩殼上用於支撐滑台的導軌，與皮帶相配合的前帶輪和後帶輪，分別用於支撐前帶輪和後帶 輪的前端支撐軸和後端支撐軸；滑台相對於底板直線運動；前端支撐軸和後端支撐軸轉動設置在罩殼上，且前端支撐軸穿過罩殼與驅動裝置連接。

本實施例還提供一種線性模組的工作方法，線性模組包括殼體、直線傳動裝置以及第二滾動機構，殼體具有內腔，直線傳動裝置至少部分設置於內腔，殼體上設有輸出開口，輸出開口處設有密封帶，工作方法包括：驅動第一滾動機構與直線傳動裝置同步移動，同時使第一滾動機構在密封帶的作用下滾動；以及通過第一滾動機構，將被第二滾動機構抬起的一部分密封帶沿著靠近內腔的方向抵壓。

線性模組還包括第一滾動機構，線性模組的工作方法還包括：驅動第二滾動機構與直線傳動裝置同步移動，同時使第二滾動機構在密封帶的作用下滾動；以及通過第二滾動機構，將與第二滾動機構接觸的一部分密封帶沿著遠離內腔的方向從輸出開口處抬起，以形成間隙。

綜上所述，本發明的線性模組尤其適合於對於生產環境和生產設備潔淨度要求較高的場所。

與現有技術相比，本發明的線性模組，通過將密封帶32和第二滾動機構40之間設為滾動接觸，即滑台26在滑動的過程中，密封帶32與滑台26之間原有的滑動摩擦變為滾動摩擦，減少了由密封帶和滑台之間的相對滑動形成的摩擦顆粒，以及降低了密封帶在較大的摩擦力下磨損變形的可能性，同時也降低了密封帶在這些顆粒的影響下磨損變形的可能性，避免這些顆粒影響設備和生產環境的潔淨度，也避免了密封帶變形使線性模組的密封性能降 低，影響設備和生產環境的潔淨度，也避免了密封帶變形或者顆粒影響滑台滑動的平滑度，即影響線性模組的精度和穩定性。

同時設置有第二滾動機構40和第一滾動機構50，密封帶32的兩面分別與第二滾動機構40和第一滾動機構50滾動接觸，摩擦阻力小，摩擦形成的顆粒減少，且第一滾動機構靠近滑台26的邊緣設置，可將密封帶32壓向罩殼，減小滑台滑動過程中密封帶與罩殼之間的間隙，避免線性模組內部的顆粒溢出影響設備和生產環境的潔淨度。

罩殼30上設置的密封帶32覆蓋在磁條60上。既增加了模組密封性，又可即時收集由滾動摩擦產生的少量金屬顆粒，防止金屬顆粒掉落影響設備其他部分潔淨度，也便於線性模組的清理維護。

上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，並非對本發明範圍的任何限定，本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬於請求項的保護範圍。

Claims (17)

1. 一種線性模組，包括殼體以及直線傳動裝置，所述殼體具有內腔，所述直線傳動裝置至少部分設置於所述內腔中，所述殼體上設有沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的輸出開口，所述輸出開口處設有密封帶，其特徵在於，所述線性模組還包括用於與所述直線傳動裝置同步移動的第一滾動機構，所述第一滾動機構設置於所述密封帶背離所述內腔的一側，所述第一滾動機構與所述密封帶滾動接觸。
2. 如請求項1之線性模組，其中，還包括用於與所述直線傳動裝置同步移動的第二滾動機構，所述第二滾動機構設置於所述密封帶面向所述內腔的一側，所述第二滾動機構與所述密封帶滾動接觸。
3. 如請求項2之線性模組，其中，所述第二滾動機構的數量為一個，所述第一滾動機構的數量為多個並沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的對稱設置在所述第二滾動機構的兩端。
4. 如請求項3之線性模組，其中，所述第一滾動機構的數量為兩個。
5. 如請求項2之線性模組，其中，所述第二滾動機構的數量為多個並沿所述直線傳動裝置的移動方向間隔設置，所述第一滾動機構的數量為兩個並沿所述直線傳動裝置的移動方向延伸的對稱設置在所述第二滾動機構的兩端。
6. 如請求項5之線性模組，其中，所述第二滾動機構的數量為兩個。
7. 如請求項2至6中任一項之線性模組，其中，所述直線傳動裝置包括用於作直線運動的滑台，所述第二滾動機構和第一滾動機構 均設置於所述滑台上並與所述滑台轉動連接。
8. 如請求項7之線性模組，其中，所述第一滾動機構靠近所述滑台邊緣設置，所述第二滾動機構設置在所述滑台內部。
9. 如請求項7之線性模組，其中，所述滑台包括轉接件和固定設置在所述轉接件上的滑塊，所述第二滾動機構和所述第一滾動機構設置在所述轉接件和/或所述滑塊上。
10. 如請求項2之線性模組，其中，所述第一滾動機構包括與所述密封帶滾動接觸的第一耐磨轉動件，所述第一耐磨轉動件的材質為磁性耐磨材料。
11. 如請求項10之線性模組，其中，所述第一滾動機構還包括第一軸承調整螺母、第一軸承、第一擋圈和第一支撐轉軸；所述第一軸承套接在所述第一支撐轉軸的兩端，所述第一軸承固定在所述滑台上；所述第一耐磨轉動件固定設置在所述第一支撐轉軸上；所述第一擋圈套設在所述第一支撐轉軸上，且靠近所述第一耐磨轉動件的一端，用於固定所述第一軸承的外圈；所述第一軸承調整螺母套設在所述第一支撐轉軸上，且遠離所述第一耐磨轉動件的一端，用於固定第一軸承的內圈。
12. 如請求項2之線性模組，其中，所述第二滾動機構包括與所述密封帶滾動接觸的第二耐磨轉動件，所述第二耐磨轉動件的材質為輕質耐磨材料。
13. 如請求項12之線性模組，其中，所述第二滾動機構還包括第二軸承調整螺母、第二軸承、第二擋圈和第二支撐轉軸；所述第二軸承套接在所述第二支撐轉軸的兩端，所述第二軸承固定在所述滑台上；所述第二耐磨轉動件固定設置在所述第二支撐轉軸上；所述 第二擋圈套設在所述第二支撐轉軸上，且靠近所述第二耐磨轉動件的一端，用於固定所述第二軸承的外圈；所述第二軸承調整螺母套設在所述第二支撐轉軸上，且遠離所述第二耐磨轉動件的一端，用於固定第二軸承的內圈。
14. 如請求項1之線性模組，其中，所述殼體包括底板以及設置在所述底板上的罩殼，所述底板和所述罩殼之間形成所述內腔，且所述罩殼上設置有磁條，所述磁條沿著所述直線傳動裝置的移動方向設置在所述輸出開口的兩側邊上，且所述密封帶至少部分覆蓋在所述磁條上。
15. 如請求項14之線性模組，其中，所述罩殼上設置有前端座和後端座，所述直線傳動裝置包括位於所述殼體內的螺桿、螺母、導軌、軸承，以及至少部分位於所述殼體外的滑台，所述螺桿的一端通過軸承設置在所述前端座，且所述螺桿穿過所述前端座與位於所述殼體外的驅動裝置連接，所述螺桿的另一端通過軸承與後端座轉動連接，所述螺母活動設置在所述螺桿上並與所述滑台連接，所述導軌設置在所述底板上，所述滑台活動設置在所述導軌上。
16. 一種線性模組的工作方法，其特徵在於，所述線性模組包括殼體、直線傳動裝置以及第一滾動機構，所述殼體具有內腔，所述直線傳動裝置至少部分設置於所述內腔，所述殼體上設有輸出開口，所述輸出開口處設有密封帶，所述工作方法包括：驅動所述第一滾動機構與所述直線傳動裝置同步移動，在此過程中，所述第一滾動機構相對於所述密封帶滾動；以及通過所述第一滾動機構，將所述直線傳動裝置經過位置處的一部分所述密封帶沿著靠近所述內腔的方向抵壓。
17. 如請求項16之線性模組的工作方法，其中，所述線性模組還包括第二滾動機構，所述工作方法還包括：驅動所述第二滾動機構與所述直線傳動裝置同步移動，在此過程中，所述第二滾動機構相對於所述密封帶滾動；以及通過所述第二滾動機構，將與所述第二滾動機構接觸的一部分所述密封帶沿著遠離所述內腔的方向從所述輸出開口處抬起，以形成間隙。