TW201902690A - 可撓性裝置之承載用板片 - Google Patents

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Abstract

本發明提供在各步驟中，抗靜電性優異且可抑制為較低霧度值的承載用板片。
本發明所提供的可撓性裝置之承載用板片1，係用以保護‧搬送可撓性裝置的可撓性裝置之承載用板片1，具備有：基材2、在基材2的其中一面所積層的黏著劑層3、以及在黏著劑層3之與基材2相反側的面所積層之剝離板片4；其中，基材、黏著劑層及剝離板片均具有抗靜電性。

Description

可撓性裝置之承載用板片
本發明係關於可撓性裝置之保護‧搬送用的承載用板片。
光學構件、電子構件等裝置，在加工、組裝、檢查等步驟中，為了能在保護裝置表面的狀態下搬送，便在該裝置的表面上黏貼由基材與黏著劑層所構成的承載用板片。該承載用板片在裝置不需要保護‧搬送的時候會被從裝置上剝離。
以往屬於被搬送物的裝置大多呈硬質，但近年來出現了可撓性的裝置。例如，最近光學構件從硬質的液晶裝置，轉往可撓性有機發光二極體(OLED)裝置的動向已變得活躍。因此，承載用板片亦必須因應此種可撓性裝置。
但是，如上述的承載用板片，在使用時會將剝離板片從黏著劑層上剝離，且經使用後會被從裝置上剝離，此時會因剝離帶電而產生靜電。又，黏貼有承載用板片的裝置，在搬送中、製造步驟中會發生摩擦帶電。
一旦發生靜電，空氣中的垃圾與塵埃會附著於裝置上，導致裝置呈不良情況。因此，為了使靜電不致發生，要求對承載用板片賦予抗靜電性。
此處，專利文獻1中，揭示含有聚矽氧黏著劑與 抗靜電劑的可撓性基板搬送用聚矽氧黏著劑組成物。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第5406707號公報
專利文獻1的發明雖然考慮到與可撓性裝置相關之抗靜電性，但在各步驟中難以獲得充分的抗靜電性。又，若欲獲得充分的抗靜電性而增加抗靜電劑的添加量時，黏著劑層會出現白濁化導致霧度值上升，造成無法使用於光學系統的檢查步驟。
本發明係有鑑於上述實狀而完成，目的在於提供：在各步驟中抗靜電性優異且能抑制為較低霧度值的承載用板片。
為達成上述目的，第1，本發明所提供的可撓性裝置之承載用板片，係用以保護‧搬送可撓性裝置的可撓性裝置之承載用板片，具備有：基材、在上述基材的其中一面所積層的黏著劑層、以及在上述黏著劑層之與上述基材相反側的面所積層之剝離板片；其中，上述基材、上述黏著劑層及上述剝離板片均具有抗靜電性(發明1)。
上述發明(發明1)的承載用板片係藉由使基材、黏著劑層及剝離板片均具有抗靜電性，以在各步驟中呈優異的抗靜電性。例如：剝離板片從黏著劑層上剝離時、或該承載用 板片從可撓性裝置上剝離時、或在可撓性裝置的加工、積層、檢查等步驟中或搬送中、或在承載用板片繞出時，較不易發生靜電，可抑制因靜電導致空氣中的垃圾與塵埃附著於可撓性裝置。又，藉由使基材、黏著劑層及剝離板片分別具有抗靜電性，例如相較於由黏著劑層單層負責全體抗靜電性的情況下，可降低黏著劑層之抗靜電劑使用量。藉此，可使黏著劑層的霧度值抑制為較低，進而能夠使承載用板片全體的霧度值抑制為較低。
上述發明(發明1)中，較佳上述基材係具有：基材薄膜、以及在上述基材薄膜其中一面側所形成的抗靜電層，且上述黏著劑層係以配置於上述基材薄膜另一面側的方式，積層於上述基材上(發明2)。又，上述黏著劑層較佳係以接觸上述基材薄膜另一面的方式，積層於上述基材上。
上述發明(發明1,2)中，較佳為上述黏著劑層含有抗靜電劑(發明3)。
上述發明(發明1~3)中，較佳為上述剝離板片具有：支撐體、以及在上述支撐體的至少其中一面側所形成的抗靜電層(發明4)。
上述發明(發明1~4)中，較佳為在23℃、相對濕度50%環境下，對剝離上述剝離板片而成之上述可撓性裝置之承載用板片，施加100V的電壓10秒鐘時，上述黏著劑層的露出面的表面電阻率係1×107Ω/sq以上、且1×1011Ω/sq以下(發明5)。
上述發明(發明1~5)中，較佳為在23℃、相對 濕度50%的環境下，對上述基材施加100V的電壓10秒鐘時，上述基材之與上述黏著劑層相反側的面之表面電阻率係1×107Ω/sq以上、且1×1011Ω/sq以下(發明6)。
上述發明(發明1~6)中，較佳在23℃、相對濕度50%的環境下，對上述剝離板片施加100V的電壓10秒鐘時，上述剝離板片之上述黏著劑層側的面之表面電阻率係1×107Ω/sq以上、且1×1011Ω/sq以下(發明7)。
上述發明(發明1~7)中，在23℃、相對濕度50%的環境下，對上述剝離板片施加100V的電壓10秒鐘時，上述剝離板片之與上述黏著劑層相反側的面之表面電阻率係1×107Ω/sq以上、且1×1011Ω/sq以下(發明8)。
上述發明(發明1~8)中，除了上述剝離板片之上述可撓性裝置之承載用板片的霧度值較佳係8%以下(發明9)。
本發明的承載用板片在各步驟中的抗靜電性優異，且能夠使霧度值抑制為較低。
1‧‧‧可撓性裝置之承載用板片
2‧‧‧基材
21‧‧‧基材薄膜
22‧‧‧第1抗靜電層
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧剝離板片
41‧‧‧支撐體
42a‧‧‧第2抗靜電層
42b‧‧‧第3抗靜電層
43‧‧‧剝離劑層
圖1係本發明一實施形態的可撓性裝置之承載用板片之剖面圖。
圖2係顯示壓痕試驗所取得之影像及圖表之圖(彩色)。
以下，針對本發明實施形態進行說明。
本發明一實施形態的可撓性裝置之承載用板片(以下亦簡 稱「承載用板片」)，主要係在可撓性裝置的加工、積層、檢查等步驟中，使用於保護可撓性裝置的表面同時進行搬送。
本說明書中所謂「可撓性裝置」係指具柔軟性的光學構件、電子構件等裝置，例如：可撓性有機發光二極體(OLED)裝置、可撓性液晶裝置等，尤其較佳為可撓性OLED裝置。
本實施形態的承載用板片係具備有：基材、在該基材的其中一面側所積層的黏著劑層、以及在黏著劑層之與上述基材相反側的面上所積層之剝離板片，且基材、黏著劑層及剝離板片均具有抗靜電性。
本實施形態的承載用板片如上述，藉由使基材、黏著劑層及剝離板片均具有抗靜電性，當剝離板片從黏著劑層上剝離時、該承載用板片從可撓性裝置上剝離時、或在可撓性裝置進行加工、積層、檢查等步驟中或搬送中、抑或承載用板片繞出時，不易發生靜電，可抑制因靜電所造成空氣中的垃圾與塵埃附著於可撓性裝置。又，藉由使基材、黏著劑層及剝離板片分別具有抗靜電性，例如相較於由黏著劑層單層負責全體抗靜電性的情況下，可降低黏著劑層之抗靜電劑使用量。藉此，能使黏著劑層的霧度值抑制為較低，進而能使承載用板片全體的霧度值抑制為較低。如上述抑制為較低霧度值的承載用板片透明性高，可適用於可撓性OLED裝置等的發光檢查。
以下，參照圖式，針對本實施形態一例的承載用板片進行說明。
如圖1所示，本實施形態的承載用板片1係具備有：基材 2、黏著劑層3、及剝離板片4。基材2係具有：基材薄膜21、以及在基材薄膜21之與黏著劑層3相反側的面(圖1中上側的面)所形成的第1抗靜電層22。剝離板片4具有支撐體41，同時具有第2抗靜電層42a及第3抗靜電層42b之任一者或兩者，其中第2抗靜電層42a形成在支撐體41之靠黏著劑層3側之面(圖1中上側的面)，第3抗靜電層42b形成在支撐體41之與黏著劑層3相反側的面(圖1中下側的面)，較佳係具有第2抗靜電層42a與第3抗靜電層42b兩者。又，剝離板片4係在最靠近黏著劑層3的位置處設有剝離劑層43。當存在第2抗靜電層42a時，剝離劑層43設置於第2抗靜電層42a之與支撐體41相反側的面；當不存在第2抗靜電層42a時，便設置於支撐體41之靠黏著劑層3側之面上。黏著劑層3係以鄰接基材薄膜21的方式積層於基材2上。又，本實施形態的黏著劑層3含有抗靜電劑。
本實施形態的承載用板片1之較佳使用態樣之一，係可例如從承載用板片1的捲繞輥上繞出承載用板片1，將剝離板片4剝離，在露出的黏著劑層3上設置可撓性裝置，一邊進行搬送，一邊進行加工、積層、檢查等，然後從可撓性裝置上剝離承載用板片1的態樣。上述繞出步驟中，特別地，利用第1抗靜電層22所發揮之抗靜電性，並藉由設置第3抗靜電層42b，以使該抗靜電性更優異。在可撓性裝置進行加工、積層、檢查等步驟中或搬送中，特別利用第1抗靜電層22可抑制因摩擦帶電所造成的靜電發生。另一方面，從承載用板片1上將剝離板片4剝離時，特別地，利用含有抗靜電劑的黏著 劑層3所發揮之抗靜電性，並藉由設置第2抗靜電層42a，以使該抗靜電性更優異。又，承載用板片1從可撓性裝置上剝離時，特別藉由含有抗靜電劑的黏著劑層3以發揮抗靜電性。
另外，剝離板片4的第2抗靜電層42a或第3抗靜電層42b其中一者亦可省略。但，藉由在剝離板片4上形成第2抗靜電層42a與第3抗靜電層42b兩者，可使承載用板片1的抗靜電性更優異。
再者，本實施形態的承載用板片1，因為黏著劑層3具有抗靜電性，因而在基材薄膜21的黏著劑層3側不需要抗靜電層。但，在基材薄膜21的黏著劑層3側亦可形成抗靜電層。
1.各構件
(1)基材
(1-1)基材薄膜
基材薄膜21較佳係由具有可撓性裝置的保護‧搬送及各步驟之適當物性的塑膠薄膜所構成。該基材薄膜21較佳為由例如：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚碳酸酯、聚甲基戊烯、聚苯硫醚、液晶聚合物等樹脂所構成的塑膠薄膜，亦可為由單層所構成的薄膜，亦可為由同種或異種的複數層所積層的薄膜。上述中，從對可撓性裝置的操作性、透明性及成本的觀點來看，特別較佳係聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。
此處，當屬於被搬送物的可撓性裝置係可撓性OLED裝置之情況，由於可撓性OLED裝置的發光檢查係在較 液晶裝置等的發光檢查更嚴苛水準下進行檢查，故對承載用板片1要求高透明性。本實施形態的承載用板片1，如前述，因為可使霧度值抑制為較低，因而適用於如上述的發光檢查。但，為了進一步提高承載用板片1的透明性，基材薄膜21較佳為由未含填料的塑膠薄膜所構成。藉此，承載用板片1的透明度更高，更適用於可撓性OLED裝置的發光檢查。
另外，上述塑膠薄膜在不致損及本實施形態的前述效果的範圍內，亦可含有填料、耐熱性促進劑、紫外線吸收劑、折射率調整劑等添加劑。
上述基材薄膜21中，在提升與第1抗靜電層22及/或黏著劑層3之間的密接性之目的下，視所需可進行利用氧化法或凹凸化法等的表面處理、或底漆處理。上述氧化法可舉例如：電暈放電處理、電漿放電處理、鉻酸化處理(濕式)、火焰處理、熱風處理、臭氧、紫外線照射處理等，又，凹凸化法可舉例如：噴砂法、熔射處理法等。該等表面處理法係配合基材薄膜21的種類適當地選擇。
基材薄膜21的厚度，若考慮將可撓性裝置當作被搬送物時的操作性、特別係從可撓性裝置剝離的作業性，則較佳係25μm以上，若附加考慮耐壓痕性，則更佳係50μm以上、特佳係80μm以上。又，同樣的，若考慮操作性及成本，則該厚度較佳係188μm以下、更佳係150μm以下、特佳係125μm以下。
(1-2)抗靜電層
第1抗靜電層22係可對基材薄膜21賦予所期望的抗靜電 性，若由具所期望的透明性之材料所構成的話，並無特別限定。此種第1抗靜電層22較佳係例如由含有導電性高分子與黏結劑樹脂的抗靜電層用組成物所構成之層。
導電性高分子係可從以往習知的導電性高分子中，可適當選擇並任意使用，其中較佳係聚噻吩系、聚苯胺系或聚吡咯系的導電性高分子。導電性高分子可單獨使用1種、亦可組合使用2種以上。
聚噻吩系導電性高分子可舉例如：聚噻吩、聚(3-烷基噻吩)、聚(3-噻吩-β-乙磺酸)、聚伸烷基二氧噻吩與聚苯乙烯磺酸酯(PSS)的混合物(含經摻雜的物質在內)等。該等之中，較佳為聚伸烷基二氧噻吩與聚苯乙烯磺酸酯的混合物。上述聚伸烷基二氧噻吩可舉例如：聚(3,4-二氧伸乙基噻吩)(PEDOT)、聚二氧伸丙基噻吩、聚(乙烯/丙烯)二氧噻吩等，其中較佳為聚(3,4-二氧伸乙基噻吩)。即，上述之中，特別佳為聚(3,4-二氧伸乙基噻吩)與聚苯乙烯磺酸酯的混合物(經摻雜PSS的PEDOT)。
聚苯胺系導電性高分子可舉例如：聚苯胺、聚甲基苯胺、聚甲氧基苯胺等。聚吡咯系導電性高分子可舉例如：聚吡咯、聚3-甲基吡咯、聚3-辛基吡咯等。
抗靜電層用組成物中的導電性高分子含有量較佳係0.1~30質量%、更佳係0.2~20質量%、特佳係0.3~10質量%。若導電性高分子的含有量在上述範圍內，可獲得良好的抗靜電性能，且由該抗靜電層用組成物所形成之抗靜電層的強度變得充足。
上述抗靜電層用組成物所使用的黏結劑樹脂較佳為含有選自由聚酯樹脂、胺酯樹脂及丙烯酸樹脂所組成之群組的至少1種作為主成分。該等樹脂可為熱硬化性化合物、亦可為紫外硬化性化合物，但因為在形成紫外硬化性時必需將溶劑從水系取代為有機溶劑系，因此從步驟數、成本的觀點來看，較佳為熱硬化性化合物。上述中，從對塑膠薄膜的密接性較高之觀點來看，較佳為熱硬化性聚酯樹脂，更佳為具有會與交聯劑產生反應之反應性基(例如羥基等)的聚酯樹脂。
抗靜電層用組成物除了上述成分之外，亦可含有交聯劑、均塗劑、防污劑等。
交聯劑只要能夠使上述樹脂進行交聯者便可。例如：具有會與上述樹脂產生反應性基的羥基之前提下，較佳為使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、胺系交聯劑、三聚氰胺系交聯劑等。
交聯劑含有量相對於黏結劑樹脂100質量份，較佳係1~50質量份、更佳係5~40質量份、特佳係10~30質量份。
均塗劑可使用例如：二甲基矽氧烷系化合物、氟系化合物、界面活性劑等。第1抗靜電層22中，從與黏著劑層3之間的密接性的觀點來看，較佳係使用界面活性劑。藉由使抗靜電層用組成物含有均塗劑，可提升抗靜電層42a、42b的平滑性，使基材2的透視性更高。
抗靜電層用組成物中的均塗劑含有量較佳係0.1~10質量%、更佳係0.2~5質量%、特佳係0.5~3質量%。
第1抗靜電層22的厚度，若考慮抗靜電性能，較 佳係10nm以上、更佳係20nm以上、特佳係30nm以上。又，該厚度從強度與成本的觀點來看，較佳係200nm以下、更佳係150nm以下、特佳係100nm以下。
(1-3)基材物性
(1-3-1)表面電阻率
在23℃、相對濕度50%的環境下，當對基材2施加100V電壓10秒鐘時，基材2之與黏著劑層3相反側的面之表面電阻率，上限值較佳係1×1011Ω/sq以下、更佳係5×1010Ω/sq以下、特佳係1×1010Ω/sq以下。藉由使上述表面電阻率的上限值成為上述，當承載用板片1從捲繞輥上繞出承載用板片1時、對可撓性裝置進行加工、積層、檢查等步驟中或搬送中，可更有效地抑制靜電發生。又，上述表面電阻率的下限值並無特別的限定，通常較佳係1×107Ω/sq以上、更佳係5×107Ω/sq以上、特佳係1×108Ω/sq以上。
另外，本說明書中，表面電阻率係根據JIS K6911所測定的值，該表面電阻率的測定方法詳細內容，如後述試驗例所示。
(1-3-2)霧度值
基材2的霧度值較佳係8%以下、更佳係4%以下、特佳係1%以下。藉由使基材2的霧度值為上述，在被搬送物上所黏貼的承載用板片1之透明度高，且適用於可撓性OLED裝置的發光檢查。另外，上述霧度值的下限值並無特別的限定，特佳係0%。此處，本說明書中的霧度值係根據JIS K7136：2000所測定的值。
(2)黏著劑層
本實施形態的黏著劑層3含有抗靜電劑。具體而言，黏著劑層3係由含抗靜電劑的黏著劑所形成。
(2-1)黏著劑
作為構成黏著劑層3的黏著劑，較佳為選擇適用於黏貼在被搬送物(可撓性裝置)、及從被搬送物上剝離。特別地，較佳為以可從可撓性裝置輕易剝離承載用板片1的方式，選擇再剝離性優異的黏著劑。
黏著劑的種類可舉例如：丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺酯系黏著劑、聚酯系黏著劑等，從再剝離性的觀點來看，較佳係丙烯酸系黏著劑及聚矽氧系黏著劑。但，若將一般的抗靜電劑添加於聚矽氧系黏著劑，因為相溶性偏低，故所獲得之黏著劑層3的透明性降低，且基材密接性亦降低。另一方面，即便將一般的抗靜電劑添加於丙烯酸系黏著劑，如上述的相溶性影響較小。因此，特佳係丙烯酸系黏著劑。以下，針對含有抗靜電劑的丙烯酸系黏著劑進行說明。
本實施形態的丙烯酸系黏著劑中，較佳為由含有1種或2種以上(甲基)丙烯酸酯共聚合體及抗靜電劑、更佳係含有交聯劑的黏著性組成物進行交聯(硬化)者。另外，本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」係指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯二者。其他的類似用語亦同。
上述黏著性組成物從再剝離性的觀點來看，作為(甲基)丙烯酸酯共聚合體，較佳係含有重量平均分子量相對大的第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)、及重量平均分子 量相對小的第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)。該黏著性組成物中，特別地，較佳係含有：第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)[其作為構成共聚合體的單體單元，含有具羥基之單體及具羧基之單體]、第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)[其重量平均分子量小於第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的重量平均分子量，且作為構成共聚合體的單體單元，含有具羥基之單體及具羧基之單體]、異氰酸酯系交聯劑(C)、及抗靜電劑(D)的黏著性組成物。又，該黏著性組成物中(以下亦稱「黏著性組成物P」)，較佳為構成第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的單體中具羥基之單體的比例，大於構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的單體中具羥基之單體的比例，且相對於構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)之單體的質量份數合計100質量份，構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)之具羧基之單體的質量份數的合計係0.1~1.0質量份，以第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的質量作為基準之混合比係90：10~10：90。
由上述黏著性組成物P所獲得的黏著劑，當可撓性裝置進行加工‧搬送時，具有較長鏈長的第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)具有較少數量的交聯點、自由度更高、較容易變形，藉由上述，推定將呈現充分的密接力。另一方面，再剝離之際，因具較多交聯點的第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，使得上述共聚合體(A)的移動受限制，難以達到 既定量以上的變形，藉由上述，推定將呈現較小的黏著力。藉此，在步驟中，承載用板片1會密接於可撓性裝置，且步驟後的承載用板片1可輕易從可撓性裝置上剝離。
黏著性組成物P中，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，作為構成共聚合體之單體單元，各自含有具羧基的單體。具羧基的單體具有交聯的促進劑作用。因此，黏著性組成物P中，藉由使具羧基的單體作為單體構成單元並包含於共聚合體(A)與共聚合體(B)中，可省略使用例如錫觸媒之類的其他交聯促進劑。
黏著性組成物P中，相對於構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)之單體的質量份數的合計100質量份，構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)之具羧基之單體的質量份數的合計，較佳係0.1~1.0質量份、更佳係0.15~0.8質量份、特佳係0.3~0.6質量份。藉由使具羧基之單體的質量份數的合計在1.0質量份以下，可防止過度促進交聯反應而導致黏著性組成物P在形成黏著劑前便凝膠化，進而能夠確保充分的適用期(pot life)。另一方面，藉由將具羧基之單體的質量份數的合計設為0.1質量份以上，可獲得促進交聯的效果。
第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)中，作為構成該共聚合體的單體單元，具羧基之單體較佳係含有0.01~2.0質量%、更佳係含有0.05~1.5質量%、特佳係含有0.3~1.0質量%。藉由使該單體的含有量在2.0質量%以下，可使黏著性 組成物的適用期更優異。又，藉由使該單體的含有量達0.01質量%以上，可充分獲得由羧基所造成的促進交聯之效果，藉此，在以共聚合體(B)為主體所形成的交聯構造之其中一部分中，可良好地形成共聚合體(A)經由羥基鍵結而成的構造，進而能夠使所獲得之黏著板片的高速黏著力抑制為較低。
第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)中，作為構成該共聚合體的單體單元，具羧基之單體，較佳係含有0.01~0.99質量%、更佳係含有0.05~0.8質量%、特佳係含有0.2~0.6質量%。藉由使該單體的含有量在0.99質量%以下，可使黏著性組成物的適用期更優異。又，藉由使該單體的含有量達0.01質量%以上，可獲得由羧基所造成的促進交聯之效果，藉此，可形成良好的交聯構造，進而使所獲得之黏著板片的再剝離性更優異。
具羧基之單體可舉例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、衣康酸、檸康酸、醋酸乙烯酯等乙烯性不飽和羧酸。該等係可單獨使用、亦可組合使用2種以上。從促進交聯的觀點來看，特別地，具羧基之單體較佳係使用丙烯酸。
黏著性組成物P中，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，作為構成共聚合體的單體單元，各自含有具羥基的單體。本實施形態的黏著性組成物因為含有作為交聯劑之異氰酸酯系交聯劑(C)，因此與異氰酸酯基之間反應性優異的羥基，在共聚合體(A)與(B)中作為交聯點的作用。
黏著性組成物P中，構成第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的單體中具羥基單體的比例，較佳為大於構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的單體中具羥基的單體比例。藉此，藉由使較低分子量的共聚合體(B)具有較多羥基，當再剝離之際，共聚合體(B)較容易抑制共聚合體(A)，而充分地降低黏著力。
第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)中，作為構成該共聚合體的單體單元，具羥基之單體較佳係含有0.01~5質量%、更佳係含有0.05~1質量%、特佳係含有0.1~0.5質量%。
第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)中，作為構成該共聚合體的單體單元，具羥基之單體較佳係含有0.1~10質量%、更佳係含有0.6~8質量%、特佳係含有1.1~5質量%。
作為具羥基之單體，可舉例如：(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯等(甲基)丙烯酸羥烷酯等。該等係可單獨使用、亦可組合使用2種以上。特別地，丙烯酸-4-羥丁酯，因為在交聯反應中呈現高反應性，因此從再剝離性的觀點來看，具羥基之單體較佳係使用丙烯酸-4-羥丁酯。
黏著性組成物P中，第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，作為構成共聚合體的單體單元，較佳為含有具環氧烷鏈的(甲基)丙烯酸酯(以下亦稱「含環氧烷鏈之丙烯酸酯」)。作為環氧烷鏈的伸烷基，較佳係碳數2~4之伸烷基、更佳係碳數2之環氧乙烷。在此情況中，含環氧烷鏈之丙烯酸 酯1分子中的環氧烷鏈平均加成莫耳數較佳係1~20莫耳、更佳係3~15莫耳、特佳係6~10莫耳。藉由使第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的單體單元含有含環氧烷鏈之(甲基)丙烯酸酯，當在該黏著劑中添加離子傳導性的抗靜電劑(D)時，藉由提高黏著劑中抗靜電劑(D)的移動性，可進一步獲得抗靜電劑(D)的效果。另外，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)中，作為構成共聚合體的單體單元，雖然亦可含有含環氧烷鏈之(甲基)丙烯酸酯，但因共聚合體(A)屬於高分子量，因而導致黏著性組成物的黏度過度提高，會有造成加工性惡化的情況。因此，含環氧烷鏈之(甲基)丙烯酸酯較佳為僅包含於第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)中。又，環氧烷鏈的末端較佳為由不會與交聯劑(C)產生反應之碳數1~4的烷基所保護。又，從更加發揮抗靜電劑(D)的添加效果、且兼顧與共聚合體(A)之間的相溶性的觀點來看，在共聚合體(B)中，作為單體單元，含環氧烷鏈之(甲基)丙烯酸酯較佳係含有1~30質量%、更佳係含有5~20質量%、特佳係含有10~17質量%。
黏著性組成物P中，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，作為構成共聚合體的單體單元，較佳係各自含有烷基的碳數為1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯。藉此，可獲得呈現所期望之黏著性的黏著劑。
烷基的碳數為1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯(以下亦稱「(甲基)丙烯酸烷基酯」)可舉例如：丙烯酸甲酯、 (甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸肉荳蔻酯、(甲基)丙烯酸棕櫚酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等。其中，從獲得更佳黏著性的觀點來看，較佳係使用烷基的碳數為4~8的(甲基)丙烯酸烷基酯，此種例子可例如：丙烯酸丁酯及丙烯酸-2-乙基己酯。特別地，較佳係丙烯酸丁酯與丙烯酸-2-乙基己酯二者均有使用。
從對所獲得之黏著劑賦予黏著性，亦確保前述具羥基的單體與具羧基的單體之混合比例的觀點來看，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，較佳為分別含有作為單體構成單元的(甲基)丙烯酸烷基酯60~99.8質量%。又，共聚合體(A)，更佳為含有作為單體構成單元的(甲基)丙烯酸烷基酯85~99.6質量%。又，共聚合體(B)特佳為含有作為單體構成單元的(甲基)丙烯酸烷基酯65~85質量%。
作為(甲基)丙烯酸烷基酯，當使用丙烯酸-2-乙基己酯與丙烯酸丁酯二者的情況，從能夠依高水準獲得兼顧搬送等之時的密接性與再剝離性的觀點來看，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)各自的丙烯酸-2-乙基己酯與丙烯酸丁酯之比率，依質量換算較佳係95：5~50：50、更佳係90：10~60：40。另外，共聚合體(A)中，該比率依質量換算更佳係74：26~65：35。又，共聚合體 (B)中，該比率依質量換算更佳係85：15~76：24。
黏著性組成物P中，第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)根據所需，構成該聚合體的單體單元亦可含有其他單體。為使其他單體不致妨礙具羧基之單體及具羥基之單體的作用，較佳為未含具反應性官能基的單體。該其他單體可舉例如：(甲基)丙烯酸甲氧基甲酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等之含烷氧烷基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯等之具芳香族環的(甲基)丙烯酸酯；聚矽氧(甲基)丙烯酸酯、氟(甲基)丙烯酸酯等之丙烯酸酯；丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、丙烯醯基QQ1啉等之非交聯性丙烯醯胺；(甲基)丙烯酸-N,N-二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲胺基丙酯等之具非交聯性三級胺基的(甲基)丙烯酸酯；醋酸乙烯酯、N-乙烯吡咯啶酮、苯乙烯等乙烯基單體等等。該等可單獨使用、亦可組合使用2種以上。
黏著性組成物P中，上述第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)可單獨使用1種、亦可組合使用2種以上。又，上述第2(甲基)丙烯酸酯系共聚合體(B)可單獨使用1種、亦可組合使用2種以上。
黏著性組成物P中，如前述，除了第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)具有較第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)更多的交聯點之外，第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的重量平均分子量亦小於第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A) 的重量平均分子量。藉此，能有效兼顧再剝離性與可撓性裝置搬送等之時的密接性。
第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的重量平均分子量較佳係5萬~50萬、更佳係10萬~40萬、特佳係15萬~30萬。另外，本說明書的重量平均分子量係利用凝膠滲透色層分析(GPC)法所測定的標準聚苯乙烯換算值。
第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的重量平均分子量較佳係0.2萬~10萬、更佳係0.5萬~5萬、特佳係1萬~2萬。
黏著性組成物P中，以第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的質量作為基準之混合比，較佳係90：10~10：90。特別地，較佳係第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的混合量多於第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的混合量。具體而言，上述混合比較佳係45：55~10：90、更佳係42：58~20：80、特佳係40：60~30：70。藉由使第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的混合量較多，在可撓性裝置搬送‧加工時可發揮充分的密接性進而防止剝離，且在一連串步驟結束後可依高水準獲得能夠不殘膠地剝離可撓性裝置之效果。
異氰酸酯系交聯劑(C)至少含有聚異氰酸酯化合物。聚異氰酸酯化合物可舉例如：二異氰酸甲苯酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、伸苯二甲基二異氰酸酯等之芳香族聚異氰酸酯；六亞甲基二異氰酸酯等之脂肪族聚異氰酸酯；異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯等之脂環式聚異氰酸酯等；以及該等的雙脲體、異三聚氰酸酯體；及與乙二醇、丙二 醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等之含低分子活性氫化合物之反應物的加成體等。尤其較佳係使用1,6-六亞甲基二異氰酸酯的異三聚氰酸酯型三聚體。該等係可單獨使用1種、亦可組合使用2種以上。
異氰酸酯系交聯劑(C)的含有量，相對於第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的合計100質量份，較佳係0.1~10質量份、更佳係1~8質量份、特佳係2~6質量份。
抗靜電劑(D)係只要能對所獲得之黏著劑賦予抗靜電性者便可，較佳係例如離子性化合物、非離子性化合物等，尤其更佳係具離子導性的離子性化合物。離子性化合物在室溫可為液態、亦可為固態，但從即便暴露於耐久條件下亦可輕易呈現穩定抗靜電性的觀點來看，較佳為在室溫下呈固態。此處，本說明書中所謂的「離子性化合物」係指陽離子與陰離子主要利用靜電引力相結合而成的化合物。
離子性化合物較佳係含氮鎓鹽、含硫鎓鹽、含磷鎓鹽、鹼金屬鹽或鹼土族金屬鹽，從所獲得之黏著劑的耐久性優異之觀點來看，較佳係含氮鎓鹽或鹼金屬鹽、更佳係含氮鎓鹽。含氮鎓鹽較佳係由含氮雜環陽離子與其共軛陰離子所構成的離子性化合物。
含氮雜環陽離子的含氮雜環骨架較佳係吡啶環、嘧啶環、咪唑環、三唑環、吲哚環等，其中更佳係吡啶環。又，鹼金屬鹽的陽離子較佳係鋰離子、鉀離子或鈉離子，更佳係鋰離子或鉀離子。
另一方面，構成上述離子性化合物的陰離子係可例如鹵化磷酸陰離子或磺醯基醯亞胺系陰離子。鹵化磷酸陰離子係可例如六氟磷酸鹽等。又，磺醯基醯亞胺系陰離子較佳係可例如雙(氟烷基磺醯基)醯亞胺或雙(氟磺醯基)醯亞胺等。
上述抗靜電劑(D)的具體例可舉例如：N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-己基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-辛基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十二烷基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十四烷基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十六烷基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十二烷基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十四烷基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-十六烷基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽等之吡啶鎓六氟磷酸鹽系化合物；N-癸基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-乙基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-丁基-4-甲基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3,4-二甲基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、雙(氟磺醯基)醯亞胺鉀、雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰、雙(氟甲磺醯基)醯亞胺鉀、雙(氟甲磺醯基)醯亞胺鋰等之氟磺醯基醯亞胺系化合物等。該等之中，從與(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)之間的相溶性的觀點來看，較佳係N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-己基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、N-癸基吡啶鎓雙(氟磺醯基)醯亞胺、及雙(氟磺醯基)醯亞胺鉀，更佳係N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、及雙(氟 磺醯基)醯亞胺鉀。以上的抗靜電劑(D)可單獨使用1種、亦可組合使用2種以上。
組合2種以上的情況，較佳係使用吡啶鎓六氟磷酸鹽系化合物與氟磺醯基醯亞胺系化合物的組合，特別較佳係使用N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽與雙(氟磺醯基)醯亞胺鉀。藉此，所獲得之黏著劑的抗靜電性更優異。吡啶鎓六氟磷酸鹽系化合物與氟磺醯基醯亞胺系化合物的混合比(質量基準)，較佳係90：10~10：90、更佳係80：20~20：80、特佳係75：25~55：45。
黏著性組成物P中的抗靜電劑(D)含有量，相對於(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)100質量份，較佳係0.1質量份以上、更佳係0.5質量份以上、特佳係1.0質量份以上、最佳係1.5質量份以上。又，該含有量較佳係10質量份以下、更佳係8質量份以下、特佳係5質量份以下。本實施形態的承載用板片1，藉由使基材2、黏著劑層3及剝離板片4分別具有抗靜電性，如上述可使黏著性組成物P中的抗靜電劑(D)含有量變為較少。因此，可使所獲得之黏著劑層3的霧度值抑制為較低，進而使承載用板片1全體的霧度值抑制為較低。又，藉由使抗靜電劑(D)的含有量在上述範圍內，可有效發揮抗靜電性，且能防止耐久性、翹曲抑制性等物性降低。
黏著性組成物P亦可含有可塑劑。藉由含有可塑劑，可輕易控制所獲得之黏著劑的黏著力，且可具有優異的再剝離性。
作為可塑劑的具體例，可舉例如：乙醯檸檬酸三 丁酯、四乙二醇二甲醚等。
可塑劑的含有量，相對於第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的合計100質量份，較佳係1~20質量份、更佳係3~15質量份、特佳係6~12質量份。
在黏著性組成物P中，根據所需亦可於丙烯酸系黏著劑中添加通常所使用的各種添加劑，例如：賦黏劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、軟化劑、填充劑、折射率調整劑等。
另外，黏著性組成物P較佳係未含錫化合物、更佳係未含有機錫化合物。黏著性組成物P中，由於利用具羧基之單體而促進交聯，因此並不需要含有作為交聯促進劑之例如錫觸媒等錫化合物。藉由使黏著性組成物P未含有錫化合物，可獲得減輕對環境造成負荷的黏著劑。
舉例而言，黏著性組成物P可藉由以下進行製造。
即，首先將(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與(B)，較佳為在後述聚合溶劑中，分別藉由一般的自由基聚合法進行製備。接著，將所獲得之二共聚合體的溶液予以混合，依固形份濃度成為10~40質量%的方式添加稀釋溶劑。然後，添加異氰酸酯系交聯劑(C)、抗靜電劑(D)、及視所需的可塑劑、添加劑，經充分混合，便可獲得經溶劑稀釋的黏著性組成物(塗佈溶液)。
上述稀釋溶劑係可使用例如：己烷、庚烷、環己烷等之脂肪族烴；甲苯、二甲苯等之芳香族烴；二氯甲烷、氯乙 烯等之鹵化烴；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇等之醇；丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異佛爾酮、環己酮等之酮；醋酸乙酯、醋酸丁酯等之酯；乙基賽珞蘇等之賽珞蘇系溶劑等等。
再者，黏著性組成物P較佳為利用以下所示的一連串聚合進行製造。
具體而言，(1)針對含有構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)之單體的混合液(a)，依轉化率50~90%進行自由基聚合，而製造第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)後，(2)添加含有構成第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)之單體的混合液(b)，將該單體、與第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)聚合時所殘留的單體，在上述第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的存在下，依較佳轉化率70~100%進行自由基共聚合，而製造第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)，接著，(3)添加異氰酸酯系交聯劑(C)、抗靜電劑(D)、以及視所需的可塑劑與各種添加劑。
在混合液(a)中所含有之構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的單體，係與前述相同。又，混合液(a)中，具羧基之單體、具羥基之單體及(甲基)丙烯酸烷基酯的含有量，可分別與構成第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)的單體單元之前述含有量相同。
混合液(b)中所含有之構成第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的單體，係與前述相同。又，混合液(b)，具羧基之單體、具羥基之單體、含環氧烷鏈的(甲基)丙烯酸 酯、及(甲基)丙烯酸烷基酯的含有量，可分別與構成第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的單體單元之前述含有量相同。
混合液(a)與混合液(b)的混合比，依質量換算較佳係90：10~10：90。特別佳係混合液(b)的混合量多於混合液(a)的混合量，例如上述混合比較佳係45：55~10：90、更佳係42：58~20：80、特佳係40：60~30：70。
異氰酸酯系交聯劑(C)及可塑劑的混合量可分別與黏著性組成物P中的前述含有量相同。在此情況中，相對於在上述步驟(2)所生成的第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)的合計100質量份，可使用前述量的異氰酸酯系交聯劑(C)或可塑劑。
上述一連串聚合可視需要使用聚合起始劑，且可藉由溶液聚合法等來進行。聚合溶劑可舉例如：醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁基、甲苯、丙酮、己烷、甲乙酮等，亦可併用2種以上。
聚合起始劑可舉例如：偶氮系化合物、有機過氧化物等，亦可併用2種以上。偶氮系化合物可舉例如：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1'-偶氮雙(環己-1-羰腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2'-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)、2,2'-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]等。
有機過氧化物可舉例如：過氧化苯甲醯、過氧化第三丁基苄酯、異丙苯過氧化氫、過氧化二碳酸二異丙酯、過 氧化二碳酸二正丙酯、過氧化二碳酸二(2-乙氧基乙酯)、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物、過氧化二丙醯、過氧化二乙醯等。
依照上述所製備之黏著性組成物之塗佈溶液的濃度‧黏度，只要在可塗佈範圍內即可，並無特別的限制，可根據狀況再進行適當選定。例如：以使黏著性組成物P的濃度成為10~40質量%之方式進行稀釋。另外，在獲得塗佈溶液時，稀釋溶劑等的添加並非必要條件，若黏著性組成物P具有可塗佈的黏度等，亦可不添加稀釋溶劑。
構成黏著劑層3的較佳黏著劑，係由上述黏著性組成物P進行交聯而成者。黏著性組成物P的交聯可藉由加熱處理以進行。另外，該加熱處理亦可兼用為使黏著性組成物P之稀釋溶劑等揮發時的乾燥處理。
進行加熱處理時，加熱溫度較佳係50~150℃、更佳係70~120℃。又，加熱時間較佳係30秒鐘~3分鐘、更佳係50秒鐘~2分鐘。又，特佳係在經加熱處理後，設計於常溫(例如23℃、50%RH)下進行1~2週左右的固化期間(curing period)。
藉由上述加熱處理(及固化)，利用異氰酸酯系交聯劑(C)，使第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)與第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)進行交聯，而形成三維網狀構造。特別地，因為第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)具有較多的交聯點，因此推定第2(甲基)丙烯酸酯共聚合體(B)彼此間的交聯會優先產生。
如上述，若黏著劑層3係由含有抗靜電劑的丙烯酸 系黏著劑所形成，則黏著劑層3對基材2的密接性優異。藉此，製品的安定性‧可靠度高，且承載用板片1從可撓性裝置上剝離時，在可撓性裝置側不會有殘留黏著劑層3或黏著劑的可能性。
(2-2)厚度
黏著劑層3的厚度較佳係5μm以上、更佳係12μm以上、特佳係17μm以上。若黏著劑層3的厚度達5μm以上，則可獲得良好的黏著性。又，若黏著劑層3的厚度達12μm以上，即使在承載用板片1的黏著劑層3(黏著面)與可撓性裝置之間，附著垃圾或塵埃等異物，該異物也會被埋藏於黏著劑層3中。結果，可抑制承載用板片1與可撓性裝置之間，發生因異物而造成的空氣嚙入情形，進而能夠毫無問題地進行發光檢查等。
另一方面，黏著劑層3的厚度，從剝離性的觀點來看，較佳係75μm以下、更佳係50μm以下、特佳係30μm以下。
(2-3)黏著劑層之物性
在23℃、相對濕度50%的環境下，對經剝離之剝離板片4的承載用板片1施加100V的電壓10秒鐘時，黏著劑層3之露出面(黏著面)的表面電阻率上限值較佳係1×1011Ω/sq以下、更佳係5×1010Ω/s以下、特佳係1×1010Ω/s以下。藉由使上述表面電阻率的上限值設為上述之值，特別地，在從承載用板片1上將剝離板片4剝離時、從可撓性裝置上剝離承載用板片1時，均可更有效地抑制靜電發生。又，上述表面電阻率的下限值並無特別的限定，通常較佳係1×107Ω/sq以上、更佳係5×107Ω/sq以上、特佳係1×108Ω/sq以上。
(3)剝離板片
(3-1)支撐體
作為支撐體41，只要不會對黏著劑層3造成不良影響的話，則無特別的限定，可使用例如：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚合體薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚氨酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯薄膜、離子聚合物樹脂薄膜、乙烯‧(甲基)丙烯酸共聚合體薄膜、乙烯‧(甲基)丙烯酸酯共聚合體薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜等。又，亦可使用該等的交聯薄膜。又，亦可為該等的積層薄膜。上述中，較佳係操作性優異的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。
關於支撐體41的厚度並無特別的限制，通常較佳係15~100μm、更佳係25~75μm。
(3-2)抗靜電層
第2抗靜電層42a與第3抗靜電層42b任一者只要由能對剝離板片4賦予所需的抗靜電性的材料所構成的話，則無特別的限定。此種抗靜電層42a、42b的材料，較佳為使用與前述基材2之第1抗靜電層22同樣的材料。又，抗靜電層42a、42b的厚度較佳為與基材2的第1抗靜電層22同樣的厚度。
此處，如前述，本實施形態的承載用板片1中，第2抗靜電層42a或第3抗靜電層42b其中任一者可省略。但，在省略的情況中，較佳為省略第3抗靜電層42b。若存在接觸黏著劑層3的第2抗靜電層42a時，則可有效提高從黏著劑層3將剝離板片4剝離時的抗靜電性。
(3-3)剝離劑層
構成剝離劑層43的剝離劑並無特別的限制，可根據黏著劑層3的黏著劑種類，再從以往習知物中適當選擇並使用任意物。此種剝離劑可舉例如：聚矽氧樹脂系、氟樹脂系、醇酸樹脂系、烯烴樹脂系、丙烯酸系、長鏈烷基含有化合物系、橡膠系等之剝離劑。特別地，當黏著劑層3的黏著劑係丙烯酸系黏著劑時，從該黏著劑層3的剝離性觀點來看，較佳係聚矽氧樹脂系的剝離劑。另外，當黏著劑層3的黏著劑係聚矽氧系黏著劑時，亦可省略剝離劑層43。
剝離劑層43的厚度下限值較佳係0.01μm以上、更佳係0.03μm以上、特佳係0.05μm以上。藉由使厚度的下限值為上述之值，則可充分發揮作為剝離劑層43的機能。又，剝離劑層43的厚度上限值較佳係3μm以下、更佳係1μm以下、特佳係0.5μm以下。藉由使厚度的上限值為上述之值，則可使剝離劑層43充分地硬化。
(3-4)剝離板片之物性
在23℃、相對濕度50%的環境下，對剝離板片4施加100V的電壓10秒鐘時，剝離板片4之靠黏著劑層3側之面(剝離劑層43的露出面)的表面電阻率上限值，較佳係1×1011Ω/sq以下、更佳係5×1010Ω/sq以下、特佳係1×1010Ω/sq以下。藉由使上述表面電阻率的上限值為上述之值，當從承載用板片1(黏著劑層3)上將剝離板片4剝離時，可良好地抑制靜電發生，當將承載用板片1黏貼於可撓性裝置時，可更有效地抑制空氣中的垃圾或塵埃附著於裝置上。又，上述表面電阻率的下 限值並無特別的限定，通常較佳係1×107Ω/sq以上、更佳係5×107Ω/sq以上、特佳係1×108Ω/sq以上。
再者，在23℃、相對濕度50%的環境下，對剝離板片4施加100V的電壓10秒鐘時，剝離板片4之與黏著劑層3相反側的面(第3抗靜電層42b的露出面)之表面電阻率上限值，較佳係1×1011Ω/sq以下、更佳係5×1010Ω/sq以下、特佳係1×1010Ω/sq以下。藉由使上述表面電阻率的上限值為上述之值，當從承載用板片1的捲繞輥繞出承載用板片1時，可更有效地抑制靜電發生。又，上述表面電阻率的下限值並無特別的限定，通常較佳係1×107Ω/sq以上、更佳係5×107Ω/sq以上、特佳係1×108Ω/sq以上。
2.承載用板片之製造方法
(1)基材之製造
製造本實施形態的基材2時，作為其中一例，在基材薄膜21的其中一面上，塗佈含有抗靜電層用組成物及視所需之溶劑的塗佈液後，經乾燥並使其硬化，從而形成第1抗靜電層22。
上述溶劑並無特別的限制，可使用各種溶劑。可使用例如：醚系溶劑、醇系溶劑、醇系溶劑與純化水的混合溶劑等。
抗靜電層用組成物的塗佈液之塗佈，可依照常規方法進行，可藉由例如：凹版塗佈法、棒塗法、噴塗法、旋塗法、刀式塗佈法、輥塗法、模具塗佈法等進行。
上述塗佈液經塗佈後，較佳為對塗膜進行加熱乾燥。加熱乾燥時的加熱溫度較佳係70~140℃，加熱時間較佳 係30~60秒鐘左右。
(2)剝離板片之製造
在製造本實施形態的剝離板片4時，作為其中一例，在支撐體41的其中一面上，塗佈含有抗靜電層用組成物及視所需之溶劑的塗佈液後，經乾燥並使其硬化，從而形成第2抗靜電層42a。又，在支撐體41的另一面上，塗佈含有抗靜電層用組成物及視所需之溶劑的塗佈液後，經乾燥並使其硬化，從而形成第3抗靜電層42b。抗靜電層42a、42b的形成方法係與前述基材2的第1抗靜電層22之形成方法相同。
再者，在第2抗靜電層42a上形成剝離劑層43。在塗佈含有剝離劑及視所需之溶劑等的剝離劑塗佈液之後，視需要進行加熱、乾燥，從而可形成剝離劑層43。剝離劑塗佈液的塗佈方法係與抗靜電層的塗佈液之塗佈方法相同。
(3)承載用板片之製造
在製造本實施形態的承載用板片1時，作為其中一例，在基材2之與第1抗靜電層22相反側的面上，塗佈含有黏著劑組成物及視所需之稀釋劑的塗佈液，進行加熱處理而使黏著性組成物進行交聯，從而形成塗佈層。接著，在該塗佈層上，以鄰接剝離劑層43的方式貼合剝離板片4。當需要固化期間的情況則進行固化期間，從而使上述塗佈層形成黏著劑層3；當不需要固化期間的情況則直接使上述塗佈層成為黏著劑層3。藉此，可獲得上述承載用板片1。關於加熱處理及固化的條件與如前述相同。
上述黏著性組成物的塗佈液之塗佈方法，可利用 例如：棒塗法、刀式塗佈法、輥塗法、刮刀塗佈法、模具塗佈法、凹版塗佈法等。
另外，上述製造方法中，黏著性組成物的塗佈液係對基材2進行塗佈，但亦可對剝離板片4進行塗佈，然後再將基材2貼合於塗佈層上。
3.承載用板片之物性等
(1)總厚度
本實施形態的承載用板片1中，除剝離板片4以外的積層體(本實施形態中係基材2與黏著劑層3的積層體)的總厚度，下限值較佳係75μm以上、更佳係100μm以上、特佳係125μm以上。藉由使上述總厚度的下限值為上述之值，則黏貼有承載用板片1的可撓性裝置變得能夠輕易搬送。又，即使對承載用板片1根據點荷重施加外力時，該承載用板片1仍不容易出現壓痕，而成為耐壓痕性優異者。因此，承載能夠良好地保護黏貼有該承載用板片1的可撓性裝置。
另一方面，上述總厚度的上限值較佳係300μm以下、更佳係250μm以下、特佳係200μm以下。藉由使上述總厚度的上限值為上述之值，則能夠使承載用板片1的操作性良好，且能夠抑制成本變得過大。
(2)剝離帶電壓
在23℃、相對濕度50%的環境下，利用手動操作從本實施形態的承載用板片1之黏著劑層3上，以2.0m/min的剝離速度將剝離板片4剝離時，剝離5秒後所測定之距黏著劑層3之露出面(黏著面)2.0cm位置處的靜電電位(剝離帶電壓)， 較佳係200V以下、更佳係150V以下、特佳係100V以下。藉由使剝離帶電壓為上述之值，當從黏著劑層3上將剝離板片4剝離時不易發生靜電，進而能夠有效地抑制因靜電所造成之空氣中的垃圾、塵埃附著於裝置上。上述剝離帶電壓的下限值並無特別的限定，較佳係0V。另外，剝離帶電壓的測定方法之詳細內容，如後述試驗例所示。
再者，在23℃、相對濕度50%的環境下，利用手動操作從本實施形態的承載用板片1之黏著劑層3上，以2.0m/min的剝離速度將剝離板片4剝離時，剝離5秒後所測定之距剝離板片4之靠黏著劑層3側之露出面2.0cm位置處的靜電電位(剝離帶電壓)，較佳係200V以下、更佳係150V以下、特佳係100V以下。藉由使剝離帶電壓為上述之值，當從黏著劑層3上將剝離板片4剝離時不易發生靜電，進而能夠有效地抑制因靜電所造成之空氣中的垃圾、塵埃附著於裝置上。上述剝離帶電壓的下限值並無特別的限定，較佳係0V。
(3)黏著力
本實施形態的承載用板片1對鈉鈣玻璃之黏著力，上限值較佳係300mN/25mm以下、更佳係250mN/25mm以下、特佳係200mN/25mm以下。若使上述黏著力的上限值為上述之值，則該承載用板片1從可撓性裝置的剝離性優異。另一方面，上述黏著力的下限值較佳係50mN/25mm以上、更佳係75mN/25mm以上、特佳係100mN/25mm以上。若使上述黏著力的下限值為上述之值，則可抑制可撓性裝置上所黏貼的承載用板片1，於各步驟中發生意料之外地剝落之情形。
再者，本實施形態的承載用板片1對聚對苯二甲酸乙二酯薄膜之黏著力，上限值較佳係300mN/25mm以下、更佳係250mN/25mm以下、特佳係200mN/25mm以下。若使上述黏著力的上限值為上述之值，則該承載用板片1從可撓性裝置的剝離性優異。另一方面，上述黏著力的下限值較佳係50mN/25mm以上、更佳係75mN/25mm以上、特佳係100mN/25mm以上。若使上述黏著力的下限值為上述之值，則可抑制可撓性裝置上所黏貼的承載用板片1，於各步驟中發生意料之外地剝落之情形。
此處，本說明書的「黏著力」基本上係指根據JIS Z0237：2009的180度拉剝法所測定的黏著力，測定樣品為寬25mm、長100mm，將該測定樣品黏貼於受黏物，以0.5MPa、50℃進行20分鐘加壓後，再於常壓、23℃、50%RH的條件下放置24小時後，以剝離速度2.0m/min進行測定。
(4)霧度值
本實施形態的承載用板片1中，除剝離板片4以外的積層體(本實施形態中係基材2與黏著劑層3的積層體)的霧度值，較佳係8%以下、更佳係5%以下、特佳係2%以下。藉由使霧度值為上述之值以下，使其亦可適用於可撓性OLED裝置的發光檢查。本實施形態的承載用板片1中，藉由使基材2、黏著劑層3及剝離板片4分別具有抗靜電性，可減少黏著劑層3之抗靜電劑的使用量，進而能夠使黏著劑層3的霧度值抑制為較低。藉此，可達成如上述的低霧度值。另外，上述霧度值的下限值並無特別的限定，較佳係0%。此處，本說明書的霧度值係根據JIS K7136：2000所測定的值。
4.用途
如前述，本實施形態的承載用板片1主要係在可撓性裝置的加工、積層、檢查等步驟中，被使用於一邊保護可撓性裝置的表面，一邊進行搬送。
在使用本實施形態的承載用板片1時，首先從黏著劑層3上將剝離板片4剝離，經由所露出的黏著劑層3，將承載用板片1(基材2與黏著劑層3的積層體)黏貼於屬於被搬送物的可撓性裝置上。然後，可撓性裝置在黏貼有承載用板片1的狀態下，一邊進行搬送，一邊進行加工、積層、檢查等步驟。該等步驟中，藉由使可撓性裝置黏貼有承載用板片1，而防止表面遭刮傷。上述步驟結束後，在已不需要承載用板片1的時點，便將承載用板片1從可撓性裝置上剝離。
本實施形態的承載用板片1中，基材2、黏著劑層3及剝離板片4均具有抗靜電性。具體而言，基材2具有第1抗靜電層22，黏著劑層3含有抗靜電劑，剝離板片4含有第2抗靜電層42a及第3抗靜電層42b中之至少其中一者。藉此，承載用板片1在各步驟中發揮優異的抗靜電性。例如，在承載用板片1的繞出步驟中，當從黏著劑層3上將剝離板片4剝離，並將承載用板片1黏貼於可撓性裝置時，於可撓性裝置的加工、積層、檢查等步驟中，以及將承載用板片1從可撓性裝置上剝離時，不易發生靜電，可抑制因靜電所造成之空氣中的垃圾、塵埃附著於可撓性裝置上。又，本實施形態的承載用板片1中，藉由使基材2、黏著劑層3及剝離板片4分別具有抗靜電性，可減少黏著劑層3中抗靜電劑的使用量。藉此，可使黏 著劑層3的霧度值抑制為較低，進而使承載用板片1全體的霧度值抑制為較低。因此，可良好地進行黏貼有該承載用板片1之可撓性OLED裝置等的發光檢查。
以上所說明的實施形態係為了使本發明變得容易理解而記載，並非為了限定本發明而記載。因此，上述實施形態所揭示的各要件，亦涵蓋隸屬於本發明的技術範疇內的所有設計變更或均等物。
例如，在基材薄膜21上亦可更進一步形成第1抗靜電層22以外的層。又，剝離板片4的剝離劑層43亦可省略，在剝離板片4上亦可更進一步形成抗靜電層42a、42b及剝離劑層43以外的層。
[實施例]
以下，利用實施例等，針對本發明進行更具體地說明，惟本發明的範圍並非限定於該些實施例。
[實施例1]
1.基材之製造(抗靜電層之形成)
將水溶性之含羥基聚酯樹脂、與摻雜有PSS的PEDOT，對於利用二甲亞碸及水進行稀釋而形成的稀釋液(中京油脂公司製、製品名「S-495」、固形份8.2質量%)，混合由水溶性羥甲基三聚氰胺及水所構成的三聚氰胺化合物溶液(中京油脂公司製、製品名「P-795」、固形份70.0質量%)、與作為均塗劑之由界面活性劑及水所構成的均塗劑水溶液(中京油脂公司製、製品名「R-438」、固形份10.0質量%)，在其中更進一步添加水及異丙醇的混合溶劑(質量比1：1)，以成為固形份0.6 質量%的方式進行稀釋，而獲得抗靜電層用組成物的塗佈液。
在作為基材薄膜的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(三菱樹脂公司製、製品名「PET125T-100」、厚度：125μm、含填料)的其中一面(與黏著劑層側的相反面)上，利用刀式塗佈機塗佈上述抗靜電層用組成物的塗佈液後，以130℃進行60秒鐘加熱處理，而形成厚度50nm的第1抗靜電層，進而獲得由第1抗靜電層/基材薄膜所構成的基材。
2.黏著性組成物的塗佈液的製備
2-1.步驟(1)
製備丙烯酸-2-乙基己酯68.04質量份、丙烯酸丁酯30.46質量份、丙烯酸-4-羥丁酯0.23質量份及丙烯酸1.27質量份的混合液(a)100質量份，分取40質量份，藉由溶液聚合法進行共聚合，而製備第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)。該聚合體(A)的分子量使用後述凝膠滲透色層分析儀(GPC)進行測定，其重量平均分子量(Mw)係18萬。又，此時的轉化率(由單體進行聚合所得之共聚合體的質量，除以作為原料使用之單體的總質量之值)係80%。
2-2.步驟(2)
製備丙烯酸-2-乙基己酯65.25質量份、丙烯酸丁酯12.99質量份、含有具甲氧基末端之環氧乙烷鏈(平均加成莫耳數=9莫耳)的丙烯酸酯16.23質量份、丙烯酸-4-羥丁酯4.72質量份、及丙烯酸0.81質量份之混合液(b)100質量份，分取60質量份，添加於含有利用上述步驟(1)所得之共聚合體(A)的溶液中，而與在第1(甲基)丙烯酸酯共聚合體(A)進行 聚合時所殘留的單體一起共聚合。然後，對部分溶液使用GPC進行測定之後，確認上述共聚合體(A)的重量平均分子量在18萬的峰頂處幾乎沒有改變，且從本次的GPC測定結果減掉步驟(1)的GPC測定結果，確認新的重量平均分子量1.5萬之共聚合體(B)的生成。此處，共聚合體(A)與共聚合體(B)的混合比，因為上述步驟(1)的轉化率係80%，而成為32：68的質量比。
2-3.步驟(3)
分取由上述步驟(2)所獲得之丙烯酸系聚合物溶液的固形份換算100質量份，利用甲乙酮以成為固形份濃度20質量%的方式進行稀釋。然後，添加作為異氰酸酯系交聯劑(C)的1,6-六亞甲基二異氰酸酯之異三聚氰酸酯型三聚體(日本聚氨酯公司製、商品名「CORONATE HX」)3.5質量份(表示固形份換算值。以下亦同)、作為抗靜電劑(D)的N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽2.0質量份及雙(氟磺醯基)醯亞胺鉀(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals公司製、製品名「K-FSI」)1.0質量份、以及作為可塑劑的乙醯檸檬酸三丁酯1.0質量份，藉由充分攪拌以獲得黏著性組成物的塗佈液。
此處，前述重量平均分子量係使用凝膠滲透色層分析儀(GPC)，利用以下條件所測定(GPC測定)的標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量。
<測定條件>
‧GPC測定裝置：東曹公司製、HLC-8020
‧GPC管柱(依照以下順序通過)：東曹公司製
TSK guard column HXL-H
TSK gel GMHXL(×2)
TSK gel G2000HXL
‧測定溶劑：四氫呋喃
‧測定溫度：40℃
3.剝離板片之製造
在作為支撐體的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂公司製、製品名「PET25T-100」、厚度：25μm)的其中一面上，與前述第1抗靜電層同樣地形成第2抗靜電層，並在另一面上，與前述第1抗靜電層同樣地形成第3抗靜電層。
另一方面，將聚矽氧系剝離劑(信越化學工業公司製)、與硬化觸媒(信越化學工業公司製)進行混合，利用甲苯稀釋，並將其作為剝離劑層用的塗佈液。所獲得之塗佈液利用繞線棒均勻塗佈於上述第2抗靜電層上，然後以100℃進行30秒鐘乾燥，而形成厚度0.1μm的剝離劑層。藉此，獲得具有剝離劑層/第2抗靜電層/支撐體/第3抗靜電層之構成的剝離板片。
4.承載用板片之製造
在藉由上述步驟1所獲得之基材中不存在第1抗靜電層之一側的面上，利用刀式塗佈機塗佈藉由上述步驟2所獲得之黏著性組成物的塗佈液後，以90℃進行1分鐘加熱處理，而形成厚度25μm的黏著劑層。接著，將藉由上述步驟3所獲得之剝離板片，以該剝離板片的剝離劑層鄰接黏著劑層的方式貼合於上述黏著劑層上，以獲得承載用板片。
[實施例2~7、比較例1]
除了將基材薄膜、黏著劑層及剝離板片變更為如表1所示之外，與實施例1同樣地製造承載用板片。另外，實施例3的剝離板片係使用僅在黏著劑層側設有抗靜電層者。實施例4的基材薄膜係使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東麗公司製、製品名「PET75U48」、厚度：75μm、未含填料)。實施例6的剝離板片係使用在黏著劑層側未設有抗靜電層者。實施例7的基材薄膜係使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂公司製、製品名「T100F38」、厚度：38μm、含填料)。比較例1的黏著性組成物係除了未含有抗靜電劑之外，使用與實施例1的黏著性組成物相同之物。
[試驗例1](表面電阻率之測定)
針對實施例及比較例所使用之基材之與靠黏著劑層側相反側(承載用板片表面側)的面、從承載用板片上將剝離板片剝離而露出的黏著劑層之黏著面、以及剝離板片之靠黏著劑層側的面及其相反側(承載用板片背面側)的面，根據JIS K6911以測定表面電阻率。具體而言，在23℃、相對濕度50%的環境下，使用電阻率測定器(Mitsubishi Chemical Analytech公司製、製品名「Hiresta UP MCP-HT450型」)，對基材、已將剝離板片剝離的承載用板片(基材+黏著劑層)、或剝離板片(100mm×100mm)，施加100V的電壓10秒鐘後，測定各表面的表面電阻率(Ω/sq)。結果如表1所示。另外，實施例3所使用之剝離板片之靠承載用板片背面側的表面電阻率、實施例6所使用之剝離板片之靠黏著劑層側的表面電阻率、及比較例1的承載用板片之黏著劑層的黏著面的表面電阻率，均超越 測定極限的值。
[試驗例2](霧度值測定)
實施例及比較例所使用之基材的霧度值(%)係使用測霾計(日本電色工業公司製、製品名「NDH7000」)，並根據JIS K7136：2000進行測定。結果如表1所示。又，對從實施例及比較例所製造之承載用板片上將剝離板片剝離所獲得之積層體的霧度值(%)，同樣地進行測定。結果如表2所示。
[試驗例3](剝離帶電壓)
將實施例及比較例所製造的承載用板片裁剪為25mm×100mm，並將其設為樣品。在23℃、相對濕度50%的環境下，利用手動操作從樣品上以2.0m/min的剝離速度將剝離板片剝離，剝離5秒後，使用靜電測定器(SIMCO JAPAN公司製、製品名「FMX-003」)，測定距黏著劑層的露出面(黏著面)2.0cm位置處的靜電電位(剝離帶電壓；V)、及距剝離板片之靠黏著劑層側之露出面2.0cm位置處的靜電電位(剝離帶電壓；V)。結果如表2所示。
[試驗例4](黏著力測定)
從實施例及比較例所製造之承載用板片上將剝離板片剝離，將露出的黏著劑層黏貼於鈉鈣玻璃(Central Glass公司製)後，利用栗原製作所公司製熱壓鍋，以0.5MPa、50℃進行20分鐘加壓。然後，在23℃、50%RH的條件下放置24小時放置後，使用拉伸試驗機(ORIENTEC公司製、張力機)，以剝離速度2.0m/min、剝離角度180度的條件，測定黏著力(mN/25mm)。此處所記載以外的條件均根據JIS Z 0237：2009 進行測定。結果如表2所示。
再者，除了將受黏物變更為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(東麗公司製、製品名「LUMIRROR 50T60」、厚度50μm、固定於玻璃板上)之外，與上述同樣地測定黏著力(mN/25mm)。結果如表2所示。
[試驗例5](壓痕試驗)
將實施例及比較例所製造的承載用板片，以基材側朝上之狀態載置於硬質的平板上。然後，使用邵氏硬度計(Durometer)(高分子計器公司製、製品名「Asker橡膠硬度計C2型」、壓芯形狀係直徑2.54mm的半球狀)，在上述承載用板片的基材表面上施加400g的點荷重10秒鐘，而賦予壓痕。經1分鐘後，使用光干涉顯微鏡(Veeco公司製、製品名「表面形狀測定裝置WYKO NT110」)，測定壓痕深度。此時，測定條件VSI、倍率2.5倍、測定範圍2.5mm×1.9mm。另外，將該測定所取得的影像及圖形作為參考，如圖2所示。根據測定結果，依照以下評價基準，針對耐壓痕性進行評價。結果如表2所示。
◎：壓痕深度未滿0.5μm
○：壓痕深度0.5μm以上、且未滿1.0μm
×：壓痕深度達1.0μm以上
[試驗例6](異物埋藏試驗)
在7cm×7cm的鈉鈣玻璃板上，極微量散布聚矽氧樹脂填料(Momentive公司製、製品名「Tospearl 145L」、平均粒徑：4.5μm)，並使其單分散。從實施例及比較例所製造之承載用板片上將剝離板片剝離，再將露出的黏著劑層黏貼於上述鈉鈣玻璃 板上。接著，在50℃、0.5MPa的條件下進行20分鐘熱壓鍋處理後，於常壓、23℃、50%RH下放置24小時，並將其作為樣品。
針對所獲得之樣品，從承載用板片側以目視觀察填料是否被埋藏於黏著劑層中(是否有因填料而造成空氣嚙入之情形)，並依照以下基準評價異物埋藏性。結果如表2所示。
○：填料被充分埋藏於黏著劑層中
△：部分地發生空氣嚙入情形
×：全體地發生空氣嚙入情形
由表2得知，實施例所製造的承載用板片中，至少黏著劑層的黏著面之剝離抗靜電性優異，且使霧度值抑制為較低。又，實施例1~3、5、6所製造的承載用板片之耐壓痕性亦優異。又，實施例1、3、4及6所製造的承載用板片之異物埋藏性亦優異。
[產業上之可利用性]
本發明的可撓性裝置之承載用板片，特別適用為可撓性OLED裝置進行加工、積層、檢查等步驟時所使用的承載用板片。

Claims (9)

  1. 一種可撓性裝置之承載用板片，係用以保護‧搬送可撓性裝置的可撓性裝置之承載用板片，具備有：基材；黏著劑層，其係積層於上述基材的其中一面；以及剝離板片，其係積層於上述黏著劑層之與上述基材相反側的面；其中上述基材、上述黏著劑層及上述剝離板片均具有抗靜電性。
  2. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，上述基材具有：基材薄膜、以及在上述基材薄膜其中一面側所形成的抗靜電層；上述黏著劑層係以配置於上述基材薄膜另一面側的方式，積層於上述基材上。
  3. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，上述黏著劑層含有抗靜電劑。
  4. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，上述剝離板片具有：支撐體、以及在上述支撐體的至少其中一面側所形成的抗靜電層。
  5. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，在23℃、相對濕度50%的環境下，對剝離上述剝離板片而成之上述可撓性裝置之承載用板片，施加100V的電壓10秒鐘時，上述黏著劑層的露出面的表面電阻率係1×10 7Ω/sq以上、且1×10 11Ω/sq以下。
  6. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，在23℃、相對濕度50%的環境下，對上述基材施加100V的電壓10秒鐘時，上述基材之與上述黏著劑層相反側的面之表面電阻率係1×10 7Ω/sq以上、且1×10 11Ω/sq以下。
  7. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，在23℃、相對濕度50%的環境下，對上述剝離板片施加100V的電壓10秒鐘時，上述剝離板片之上述黏著劑層側的面之表面電阻率係1×10 7Ω/sq以上、且1×10 11Ω/sq以下。
  8. 如申請專利範圍第1項之可撓性裝置之承載用板片，其中，在23℃、相對濕度50%的環境下，對上述剝離板片施加100V的電壓10秒鐘時，上述剝離板片之與上述黏著劑層相反側的面之表面電阻率係1×10 7Ω/sq以上、且1×10 11Ω/sq以下。
  9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之可撓性裝置之承載用板片，其中，除了上述剝離板片之上述可撓性裝置的承載用板片的霧度值係8%以下。
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