TW201840658A - 遮罩及成膜裝置 - Google Patents

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矢島貴浩
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日商愛發科股份有限公司
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Abstract

本發明之遮罩係用以通過設置於遮罩本體之開口部對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液狀之樹脂材料膜。於上述遮罩本體之構成上述開口部之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由較之上述遮罩本體之材質，而上述液狀之有機材料之接觸角更大之材質所構成。

Description

遮罩及成膜裝置
本發明係關於一種能抑制於形成丙烯酸樹脂膜後將遮罩去除時產生之如下現象之遮罩及成膜裝置，該現象係指於與遮罩鄰接之部分，樹脂膜之膜厚局部增加。
作為包含高分子有機物之樹脂膜之製法，廣泛使用蒸鍍聚合法或紫外線硬化法。此兩種製法均為如下所述之方法，即：向減壓後之處理槽內導入低分子有機物氣體，使供給至被處理體上之有機物產生聚合反應，而將高分子樹脂膜形成於被處理體之表面上；其等具有樹脂膜對被處理體表面之覆蓋(被覆率)良好之優點。於日本專利第4112702號公報中，揭示有適於此等方法之成膜裝置。 然而，於通過遮罩之開口部而於基板上形成樹脂膜之方法中，有於將遮罩拆除時產生之問題，該問題係指於與遮罩鄰接之部分，樹脂膜之膜厚局部增加。
本發明係鑒於上述狀況而完成者，其第一目的在於提供一種能抑制於形成樹脂膜後將遮罩拆除時產生之如下現象之遮罩，該現象係指於與遮罩鄰接之部分，樹脂膜之膜厚局部增加。 本發明之第二目的在於提供一種具有使用上述遮罩形成樹脂膜之較佳機構之成膜裝置。 本發明人等使用圖4A所示之遮罩ME，對作為樹脂膜之代表例而眾所周知之丙烯酸樹脂膜之表面分佈進行了評價。具體而言，針對以如下方式所形成之試料，進行了丙烯酸樹脂膜F之表面分佈評價，即：於在玻璃(或樹脂)基板S之上成膜丙烯酸材料膜後，使丙烯酸材料膜紫外線硬化而使之聚合，形成丙烯酸樹脂膜F後，將遮罩ME卸除。此處，作為遮罩ME，使用厚度MET為0.1 mm、由鎳鋼材構成之邊框狀構件。再者，鎳鋼(invar)係一種於常溫附近熱膨脹率較小之合金，更詳細而言，其係鐵與鎳之合金，作為微量成分含有錳及碳。 於圖4A中，符號MW係設置於遮罩ME之開口部，通過該開口部MW而於基板S上成膜丙烯酸材料膜。 圖4B係圖4A中地點d1～地點d2之局部剖視圖。於圖4B中，符號ex表示遮罩ME之側面之位置，且係丙烯酸樹脂膜F與遮罩ME接觸之位置。符號MET係遮罩ME之厚度，符號Ft(1)係丙烯酸樹脂膜F之中央部之厚度，符號Ft(2)係丙烯酸樹脂膜F與遮罩ME接觸之部位的丙烯酸樹脂膜F之厚度。 圖5係表示於圖4B之區域K，沿著自地點e1向地點e2之方向，對丙烯酸樹脂膜F之表面分佈進行評價所得之結果的曲線圖。 自圖5所示之結果可知：於所製作出之丙烯酸樹脂膜F中，俯視時位於膜之中央部之膜厚Ft(1)為約1000 Å，中央部為平坦之分佈。另一方面，確認到：丙烯酸樹脂膜F之與遮罩ME接觸之部位之厚度Ft(2)為約3000 Å，隨著靠近與遮罩ME接觸之部位，有丙烯酸樹脂膜F之膜厚急增之傾向。於以下說明中，將丙烯酸樹脂膜F之膜厚如此地急增之表面分佈稱為「陡峻之凸部」。圖5中以符號MP表示之部分為陡峻之凸部。 作為此種丙烯酸樹脂膜之用途，期待對因水分而劣化之有機EL顯示器之密封膜、或能彎曲之可撓性顯示器之密封膜等使用丙烯酸樹脂膜。於該用途下，對丙烯酸樹脂膜要求遍及丙烯酸樹脂膜之全域(不僅於樹脂膜之中央部，於樹脂膜之端部亦同樣)不形成陡峻之凸部。若於由丙烯酸樹脂膜形成之密封膜之膜厚上存在陡峻之凸部，則陡峻之凸部會破損而導致微粒產生、無法均勻地成膜要於丙烯酸樹脂膜之上成膜之無機膜、蝕刻丙烯酸樹脂膜時非必要部分殘留、或於視認性上產生缺陷。因此，較佳為於樹脂膜不形成陡峻之凸部。 但如自圖5所示之結果所獲知般，於使用由鎳鋼材構成之遮罩MB形成丙烯酸樹脂膜之情形時，中央部之厚度Ft(1)為約1000 Å，而相對地端部之厚度Ft(2)為約3000 Å，厚度Ft(2)成為厚度Ft(1)之3倍。藉此，確認到：於使用通常用作遮罩之鎳鋼材形成丙烯酸樹脂膜之情形時，遮罩端會以常規之數倍增厚。 為抑制於形成樹脂膜後將遮罩拆除時產生之如下現象，即，於與遮罩鄰接之部分，樹脂膜之膜厚局部增加之現象，本發明人等發現了以下發明。 本發明之第1態樣之遮罩係用以通過設置於遮罩本體之開口部對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液狀之樹脂材料膜者，且於上述遮罩本體之構成上述開口部之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由較之上述遮罩本體之材質，而上述液狀之有機材料之接觸角更大之材質所構成。 於本發明之第1態樣之遮罩中，亦可為：上述遮罩本體包含金屬材料，且至少位於上述基板之附近之部位被實施氟樹脂塗覆。 於本發明之第1態樣之遮罩中，亦可為：上述遮罩本體包含金屬材料，且至少位於上述基板之附近之部位具有使呈粒子狀析出之Ni-P之多孔性皮膜與氟樹脂複合而成之被膜。 於本發明之第1態樣之遮罩中，亦可為：位於上述基板之附近之部位包含黏著性之構件。 於本發明之第1態樣之遮罩中，亦可為：於上述遮罩本體之上述開口部之厚度方向上，位於上述基板之附近之部位之長度大於形成在該基板上之膜之厚度。 本發明之第2態樣之成膜裝置係用以使用上述第1態樣之遮罩，對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液體之樹脂材料膜者，且載置上述基板之支持台內置有將該基板保持於零度以下之溫度段之溫度控制裝置。 本發明之第2態樣之成膜裝置亦可進而具有紫外線照射部，該紫外線照射部向配置有上述遮罩且形成有上述液體之樹脂材料膜之基板照射紫外線。 發明之效果 本發明之態樣之遮罩係用以通過設置於遮罩本體之開口部對基板供給膜材料，藉此於該基板上形成液狀之樹脂材料膜，並使該樹脂材料膜聚合而獲得樹脂膜。上述遮罩本體包含金屬材料，且於上述遮罩本體之構成開口部之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由較之上述遮罩本體之材質，而上述液狀之樹脂材料之接觸角更大之材質所構成。藉此，能抑制於形成液狀之樹脂材料膜並使該樹脂材料膜聚合而獲得樹脂膜後將遮罩去除時產生之如下現象，該現象係指於與遮罩鄰接之部分(亦稱為遮罩端)，樹脂膜之膜厚局部增加。此處，作為上述樹脂材料之代表例，可列舉丙烯酸材料。 因此，根據本發明之態樣，不會於樹脂膜形成陡峻之凸部，故而微粒之產生得以抑制，且使要於樹脂膜之上成膜之無機膜等均勻地成膜，從而密封性能提高。進而，能提供一種實現膜厚均勻之密封膜之遮罩，其中密封膜之膜厚不均較小，良好視認性得到確保。作為本發明之態樣之遮罩之用途，例如，可較佳地用於可撓性顯示器之密封膜。 本發明之態樣之成膜裝置係使用上述態樣之遮罩，藉由對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液體之樹脂材料膜之成膜裝置，且載置上述基板之支持台內置有將該基板保持於樹脂材料之凝縮溫度、例如零度以下之溫度段之溫度控制裝置。藉由使用上述遮罩，能抑制於形成樹脂膜後將遮罩去除時產生之如下現象，該現象係指於與遮罩鄰接之部分，樹脂膜之膜厚局部增加。 因此，本發明之態樣之成膜裝置能形成不具有陡峻之凸部之樹脂膜，故而能抑制微粒之產生，且能均勻地成膜要於樹脂膜之上成膜之無機膜等，從而有助於提供密封性能提高之密封膜。進而，有助於提供密封膜之膜厚不均較小、良好視認性得到確保、膜厚均勻之密封膜。
以下，基於圖式對本發明之實施形態之遮罩進行說明。於各實施形態中，對使用丙烯酸材料作為樹脂材料之情形時進行敍述。 ＜第一實施形態＞ 圖1A及圖1B係表示使用本實施形態之遮罩MA(M)之情形時之圖。圖1A係遮罩之俯視圖，圖1B係製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖1B係圖1A中地點a1～地點a2之局部剖視圖。於圖1B中，符號ax表示遮罩MA之側面之位置，且係丙烯酸樹脂膜F與遮罩MA接觸之位置。符號MAT係遮罩MA之厚度，符號Ft係丙烯酸樹脂膜F之厚度。 遮罩MA係用以通過設置於遮罩本體M10之開口部MW對基板S供給樹脂材料而於該基板S上形成液狀之樹脂材料膜之遮罩。遮罩本體M10包含金屬材料，於遮罩本體M10之構成開口部MW之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由材質Q所構成，該材質Q較之上述遮罩本體之材質P，而上述液狀之樹脂材料之接觸角(對於液狀之樹脂材料之接觸角)更大。 於圖1B所示之例中，遮罩MA具有包含材質P之遮罩本體M10之所有外表面(整個表面)已利用材質Q實施過表面處理之構成。此處，所謂遮罩MA之所有外表面(整個表面)係指與配置有供給膜材料之供給部(簇射板等)之空間對向之上表面MAs1、位於基板S與遮罩MA接觸之接觸面之下表面MAs2、及形成開口部MW之側面MAs3。 已利用材質Q實施過表面處理之部位(MAs1、MAs2、MAs3)之厚度MAt不特別限定，但作為厚度MAt，要求為遮罩之表面被均勻覆蓋之厚度。 遮罩MA用於如下目的，即：通過設置於遮罩本體10之開口部MW對基板S供給丙烯酸材料(樹脂材料)，而於基板S上形成液體之丙烯酸材料膜(樹脂材料膜)之後，使丙烯酸材料膜聚合而形成丙烯酸樹脂膜F(樹脂膜)。 於遮罩MA中，如上所述，遮罩MA之所有外表面(整個表面)為已利用材質Q實施過表面處理之部位(MAs1、MAs2、MAs3)。 藉此，於遮罩MA之情形時，基本上成膜時，於存在遮罩本體M10之區域不在基板S上形成丙烯酸樹脂膜，於存在開口部MW之區域在基板S上形成丙烯酸樹脂膜。 再者，向基板S之丙烯酸材料之供給例如係藉由將經氣化之丙烯酸材料供給至基板上，並於基板S上使丙烯酸材料凝縮而進行。 於遮罩MA，遮罩本體10例如由鎳鋼材、Inconel(註冊商標)、或不鏽鋼等金屬材料構成。已利用材質Q實施過表面處理之部位(MAs1、MAs2、MAs3)較之遮罩本體M10之材質P，而液狀之丙烯酸材料之接觸角更大。 具有上述構成之遮罩MA例如係藉由對包含由鎳鋼材構成之構件的遮罩本體M10之所有外表面(整個表面)實施表面處理而形成。具體而言，可藉由對遮罩本體M10之所有外表面，實施氟樹脂塗覆處理、或使以無電解鍍鎳為基底而析出之鎳皮膜與氟樹脂複合之表面處理、或者使呈粒子狀析出之Ni-P之多孔性皮膜與氟樹脂複合而形成被膜之表面處理(例如，NEDOX(註冊商標)處理等)而形成。藉由該處理，遮罩本體M10之所有外表面(整個表面)可由材質Q構成，該材質Q較之上述遮罩本體之材質P，而液狀之丙烯酸材料之接觸角更大。 確認到：較之上述先前之遮罩ME之情形時，於使用具有上述構成之遮罩MA形成丙烯酸樹脂膜後將遮罩MA去除時產生之如下現象(陡峻之凸部之產生)得到抑制，該現象係指於與遮罩MA鄰接之部分(亦稱為遮罩端)，樹脂膜之膜厚局部增加。 ＜第二實施形態＞ 圖2A及圖2B係表示使用本實施形態之遮罩MB(M)之情形時之圖。圖2A係遮罩之俯視圖，圖2B係製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖2B係圖2A中地點b1～地點b2之局部剖視圖。於圖2B中，符號bx表示遮罩MB之側面之位置，係與丙烯酸樹脂膜F接觸之位置。符號MBT係遮罩MB之厚度，符號Ft係丙烯酸樹脂膜F之厚度。 遮罩MB與上述遮罩MA同樣地，係用以通過設置於遮罩本體M10之開口部MW對基板S供給樹脂材料而於該基板S上形成液狀之樹脂材料膜，並使樹脂材料膜聚合而形成樹脂膜之遮罩。遮罩本體M10包含金屬材料，於遮罩本體M10之構成開口部MW之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由材質Q所構成，該材質Q較之上述遮罩本體之材質P，上述液狀之樹脂材料之接觸角更大。 於圖2B所示之例中，遮罩MB具有包含材質P之遮罩本體M10之外表面中僅形成開口部MW之側面MBs3已利用材質Q實施過表面處理之構成。即，包含材質P之遮罩本體M10之外表面中，與配置有供給膜材料之供給部(簇射板等)之空間對向之上表面MBs1、及位於基板S與遮罩MB接觸之接觸面之下表面MBs2兩者係遮罩本體M10之材質P露出，未利用材質Q實施過表面處理。 已利用材質Q實施過表面處理之部位(MAs3)之厚度MBt不特別限定，但作為厚度MBt，要求為遮罩之表面被均勻覆蓋之厚度。 與上述遮罩MA同樣地，確認到：較之上述先前之遮罩ME之情形時，於使用具有上述構成之遮罩MB之情形時，形成丙烯酸樹脂膜後將遮罩MB去除時產生之如下現象(陡峻之凸部之產生)亦得到抑制，該現象係指於與遮罩MB鄰接之部分(亦稱為遮罩端)，樹脂膜之膜厚局部增加。 ＜第三實施形態＞ 圖3A及圖3B係表示使用本實施形態之遮罩MC(M)之情形時之圖。圖3A係遮罩之俯視圖，圖3B係製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖3B係圖3A中地點c1～地點c2之局部剖視圖。於圖3B中，符號cx表示遮罩MC之側面之位置，係與丙烯酸樹脂膜F接觸之位置。符號MCT係遮罩MC之厚度，符號Jt係黏著性之構件J之厚度，符號Ft係丙烯酸樹脂膜F之厚度。 遮罩MC與上述遮罩MA或遮罩MB同樣地，係用以通過設置於遮罩本體M10之開口部MW對基板S供給樹脂材料而於該基板S上形成液狀之樹脂材料膜之遮罩。但遮罩MC與遮罩MA或遮罩MB不同，位於基板附近之部位包含黏著性之構件J。 作為上述黏著性之構件J之材質，較佳可使用斥液性材質，例如，具有斥液性之矽酮系、丙烯酸系、環氧系、胺基甲酸酯系、聚醯亞胺系之樹脂、或混入有斥液成分之樹脂等。 於遮罩MC中，遮罩本體M10包含金屬材料，且遍及遮罩本體之背面MCs2之整個表面而配置有黏著性之構件J。黏著性之構件J係由材質Q所構成，該材質Q較之上述遮罩本體之材質P，而上述液狀之樹脂材料之接觸角更大。於該構成中，由材質Q構成之黏著性之構件J之厚度Jt與丙烯酸樹脂膜F之厚度Ft之關係較為重要。即，以黏著性之構件J之厚度Jt大於丙烯酸樹脂膜F之厚度Ft之方式構成。 藉此，丙烯酸樹脂膜F之與遮罩MC鄰接之部分(亦稱為遮罩端)被確實地收斂於黏著性之構件J之厚度範圍內。故而，確認到：較之上述先前之遮罩ME之情形時，於形成丙烯酸樹脂膜後將遮罩MC去除時產生之如下現象(陡峻之凸部之產生)得到抑制，該現象係指於與遮罩MB鄰接之部分(亦稱為遮罩端)，樹脂膜之膜厚局部增加。 再者，於本實施形態中，遮罩本體M10之材質並非必須為金屬，亦可使用樹脂板或膜狀樹脂。 又，為於形成丙烯酸樹脂膜後，容易進行將遮罩MC去除之作業，於黏著性之構件J中，較佳為以對遮罩MC之接著力大於對基板S之接著力之方式進行設定。 如上述第一至第三實施形態所示，根據本發明之實施形態，能形成無陡峻之凸部之樹脂膜，因此能抑制微粒之產生，且能均勻地成膜要於樹脂膜之上成膜之無機膜等。因此，能形成密封性能提高之密封膜。進而，能提供一種實現膜厚均勻之密封膜之遮罩，其中密封膜之膜厚不均較小，良好視認性得到確保。作為本發明之實施形態之遮罩之用途，例如可較佳地用於可撓性顯示器之密封膜。 ＜成膜裝置＞ 圖6係成膜裝置100之一構成例，該成膜裝置100使用上述本發明之實施形態之遮罩，藉由對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液體之樹脂材料膜，並使樹脂材料膜聚合而形成樹脂膜。以下，對成膜作為樹脂材料膜之一例之丙烯酸膜之情形時進行詳細敍述。 成膜裝置100具有內部空間能減壓之腔室110、及將經氣化之樹脂材料供給至腔室110(處理室)之氣化器300。 如下所述，腔室110之內部空間由上部空間107及下部空間108構成。 於腔室110，連接有未圖示之真空排氣裝置(真空排氣設備、真空泵等)，真空排氣裝置係以能將內部空間之氣體排出以使腔室110之內部空間成為真空環境之方式構成。 如圖6所示，於腔室110之內部空間配置有簇射板105，腔室110內較簇射板105更靠上側之空間構成上部空間107。於腔室110之最上部設置有由能透過紫外光之構件構成之頂板120，於頂板120之上側配置有紫外光之照射裝置122(UV(ultraviolet，紫外線)照射裝置)。此處，簇射板105亦係由能透過紫外光之構件所形成，藉此自照射裝置122通過頂板120導入至上部空間107之紫外光能進而通過簇射板105，向位於簇射板105下側之下部空間108行進。藉此，能於成膜後對下述形成於基板S上之丙烯酸材料膜(樹脂材料膜)照射紫外光，使丙烯酸材料膜硬化而形成丙烯酸樹脂膜(樹脂膜)。 於腔室110配置有未圖示之加熱裝置。構成上部空間107及下部空間108之腔室110之內壁面之溫度能以成為樹脂材料之露點溫度以上、較佳成為40～250℃左右之方式設定，其係由加熱裝置控制。 在腔室110內位於較簇射板105更靠下側之下部空間108，配置有載置供形成丙烯酸膜之基板S之載台102(基板保持部)。 於載台102中，預先設定有表面應配置基板之位置。載台102係以使該表面露出之狀態配置於腔室110內。符號S表示配置於基板載台102表面之特定位置之基板。於載台102設置有冷卻基板S之基板冷卻裝置102a。 基板冷卻裝置102a係對載台102內部供給冷媒而將載台102上表面之基板S冷卻。具體而言，基板S之溫度由內置於載置基板S之載台102(基板保持部)之冷卻裝置102a控制，被控制於樹脂材料之露點溫度以下、較佳為零度(0℃)以下、例如-30℃～0℃左右。 於載台102之上側位置，相對於載台102之整個表面而設置有簇射板105。簇射板105係由設置有多個貫通孔之板狀構件所構成，該板狀構件由石英等紫外線透過材料構成，上述簇射板105將腔室110之內部空間分割為上空間與下空間。 於下部空間108設置有未圖示之遮罩，該遮罩之位置於成膜時可被設定為特定位置。於基板移動時，遮罩能以自基板退避之方式移動。 腔室110之上部空間107經由配管112(樹脂材料供給管)及閥112V與氣化器300連通。能經由該樹脂材料供給管112對腔室110之上部空間107供給經氣化之樹脂材料。 於樹脂材料供給管112(第一配管)之較閥112V靠氣化器300更近之位置，連接有具有閥113V之樹脂材料迂迴管113(第二配管)之一端。樹脂材料迂迴管113(第二配管)之另一端經由排氣管114連接於外部，氣體能通過樹脂材料迂迴管113排出。 閥112V及閥113V之開閉驅動由控制部400控制。控制部400係以能於成膜狀態與非成膜狀態之間切換之方式進行控制，上述成膜狀態係指將來自氣化器300之經氣化之樹脂材料供給至腔室110內；上述非成膜狀態係指向外部進行來自氣化器300之經氣化之樹脂材料之排氣，而不將其供給至腔室110內。 閥112V、閥113V及控制部400構成切換部，該切換部具有對腔室110之內部供給樹脂材料、或向腔室110之外部進行樹脂材料排氣之選擇功能。 氣化器300能對腔室110供給經氣化之樹脂材料。如圖6所示，氣化器300具有氣化槽130、噴出部132及樹脂材料原料容器150。 如圖6所示，氣化槽130具備用以使液狀之樹脂材料氣化之內部空間，於內部空間之上方，配置有以霧態噴佈液狀之樹脂材料之噴出部132。氣化槽130形成為大致圓筒狀，但亦可設定為其他截面形狀。氣化槽130之內表面例如可由SUS、或鋁等構成。 於噴出部132，連接有與樹脂材料原料容器150經由閥140V而連接之樹脂材料液供給管140之一端、及供給氮氣等載氣之載氣供給管130G。樹脂材料液供給管140之另一端連接於樹脂材料原料容器150，並且位於樹脂材料原料容器150內所貯存之液狀之樹脂材料之內部。 於樹脂材料原料容器150，連接有氮氣等材料液供給用之加壓氣體供給管150G，能向樹脂材料液供給管140進行使樹脂材料原料容器150之內壓上升而得以加壓後之液狀之樹脂材料之送液。 噴出部132係以將供自樹脂材料液供給管140之液狀之樹脂材料以霧態連同載氣一併向氣化槽130之內部空間噴佈之方式構成。 關於氣化槽130，如圖6所示，於氣化槽130之下側位置設置有加溫部135。加溫部135係以將內部空間分割為上空間與下空間之方式進行配置，於較加溫部135更靠上方形成有氣化空間，於較加溫部135更靠下方形成有貯存部。 加溫部135設置於較噴出部132更靠下方之位置，係對自噴出部132以霧態噴佈之液狀之樹脂材料進行加熱而使之氣化者。 使樹脂材料原料容器150之內壓上升，將供自樹脂材料液供給管140之液狀之樹脂材料以霧態連同載氣一併，自噴出部132向氣化槽130之內部空間噴佈。此時，亦可對供給至噴出部132之樹脂材料及載氣進而進行加溫。 自噴出部132以霧態連同載氣一併向氣化槽130之內部空間噴佈之樹脂材料於加溫後之氣化槽130內部氣化。 於樹脂材料之氣化穩態地進行之期間，藉由控制部400，使閥112V成為打開狀態，而形成氣體能流入至腔室110之狀態，並且使閥113V成為關閉狀態。而後，使樹脂材料迂迴管113(第二配管)成為氣體無法流入之狀態。藉此，能對腔室110供給經氣化之樹脂材料，而進行成膜處理。 藉由切換部之驅動，即，藉由利用控制部400對閥112V及閥113V之開閉狀態進行切換，便能於對腔室110供給樹脂材料與對樹脂材料迂迴管113(第二配管)供給樹脂材料兩者間進行選擇。因此，能使供給至腔室110之經氣化之樹脂材料之供給量穩定化，故而能防止成膜速率變動，而穩定地形成膜特性優異之樹脂材料膜。進而，於進行腔室110中之基板之更換時、及遮罩之對位時，不向腔室110導入樹脂材料便能連續地進行樹脂材料之氣化，故而無需反覆執行蒸氣產生之停止/開始而能使蒸氣之產生速率大致固定。 成膜裝置100例如係以能於同一腔室110內進行成膜及紫外線照射之方式構成，上述成膜係以40℃～250℃左右之氣化溫度，對採用紫外線硬化型丙烯酸樹脂之樹脂材料進行之成膜；上述紫外線照射係用以使成膜後之樹脂材料硬化。藉此，能以相同之裝置構成進行任一處理步驟，從而能提高生產性。 產業上之可利用性 本發明可廣泛應用於樹脂材料膜形成用之遮罩及成膜裝置。此種遮罩例如可較佳地用於製作丙烯酸樹脂膜作為可撓性顯示器之密封膜之情形時。
100‧‧‧成膜裝置
102‧‧‧載台
102a‧‧‧基板冷卻裝置
105‧‧‧簇射板
107‧‧‧上部空間
108‧‧‧下部空間
110‧‧‧腔室
112‧‧‧樹脂材料供給管(第一配管)
112V‧‧‧閥
113‧‧‧樹脂材料迂迴管(第二配管)
113V‧‧‧閥
114‧‧‧排氣管
120‧‧‧頂板
122‧‧‧UV照射裝置
130‧‧‧氣化槽
130G‧‧‧載氣供給管
132‧‧‧噴出部
135‧‧‧加溫部
140‧‧‧樹脂材料液供給管
140V‧‧‧閥
150‧‧‧樹脂材料原料容器
150G‧‧‧加壓氣體供給管
300‧‧‧氣化器
400‧‧‧控制部
a1‧‧‧地點
a2‧‧‧地點
ax‧‧‧遮罩之側面之位置(丙烯酸樹脂膜與遮罩接觸之位置)
b1‧‧‧地點
b2‧‧‧地點
bx‧‧‧遮罩之側面之位置(丙烯酸樹脂膜與遮罩接觸之位置)
c1‧‧‧地點
c2‧‧‧地點
cx‧‧‧遮罩之側面之位置(丙烯酸樹脂膜與遮罩接觸之位置)
d1‧‧‧地點
d2‧‧‧地點
dx‧‧‧遮罩之側面之位置(丙烯酸樹脂膜與遮罩接觸之位置)
e1‧‧‧地點
e2‧‧‧地點
ex‧‧‧遮罩之側面之位置(丙烯酸樹脂膜與遮罩接觸之位置)
F‧‧‧樹脂材料膜
Ft‧‧‧厚度
Ft(1)‧‧‧厚度
Ft(2)‧‧‧厚度
J‧‧‧黏著性之構件
Jt‧‧‧厚度
K‧‧‧區域
M10‧‧‧遮罩本體
MA‧‧‧遮罩
MAs1‧‧‧部位
MAs2‧‧‧部位
MAs3‧‧‧部位
MAT‧‧‧厚度
MAt‧‧‧厚度
MB‧‧‧遮罩
MBs1‧‧‧部位
MBs2‧‧‧部位
MBs3‧‧‧部位
MBT‧‧‧厚度
MBt‧‧‧厚度
MC‧‧‧遮罩
MCs1‧‧‧部位
MCs2‧‧‧部位
MCs3‧‧‧部位
MCT‧‧‧厚度
ME‧‧‧遮罩
MET‧‧‧厚度
MP‧‧‧陡峻之凸部
MW‧‧‧開口部
S‧‧‧基板
TA‧‧‧位於基板附近之部位
圖1A係表示使用遮罩MA之情形時(第一實施形態)之圖，且係表示遮罩之俯視圖。 圖1B係表示使用遮罩MA之情形時(第一實施形態)之圖，且係表示製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖2A係表示使用遮罩MB之情形時(第二實施形態)之圖，且係表示遮罩之俯視圖。 圖2B係表示使用遮罩MB之情形時(第二實施形態)之圖，且係表示製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖3A係表示使用遮罩MC之情形時(第三實施形態)之圖，且係表示遮罩之俯視圖。 圖3B係表示使用遮罩MC之情形時(第三實施形態)之圖，且係表示製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖4A係表示使用遮罩ME之情形時(比較例)之圖，且係表示遮罩之俯視圖。 圖4B係表示使用遮罩ME之情形時(比較例)之圖，且係表示製作丙烯酸樹脂膜時之剖視圖。 圖5係表示圖4B中之區域K之局部放大圖。 圖6係表示本發明之實施形態之成膜裝置之一例的模式圖。

Claims (7)

  1. 一種遮罩，其係用以通過設置於遮罩本體之開口部對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液狀之樹脂材料膜者，且 於上述遮罩本體之構成上述開口部之側面，至少位於上述基板之附近之部位係由較之上述遮罩本體之材質，而上述液狀之有機材料之接觸角更大之材質所構成。
  2. 如請求項1之遮罩，其中上述遮罩本體包含金屬材料，且 至少位於上述基板之附近之部位被實施氟樹脂塗覆。
  3. 如請求項1之遮罩，其中上述遮罩本體包含金屬材料，且 至少位於上述基板之附近之部位具有使呈粒子狀析出之Ni-P之多孔性皮膜與氟樹脂複合而成之被膜。
  4. 如請求項1之遮罩，其中位於上述基板之附近之部位包含黏著性之構件。
  5. 如請求項1至4中任一項之遮罩，其中於上述遮罩本體之上述開口部之厚度方向上， 位於上述基板之附近之部位之長度大於形成在該基板上之膜之厚度。
  6. 一種成膜裝置，其係用以使用如請求項1至4中任一項之遮罩，對基板供給樹脂材料而於該基板上形成液體之樹脂材料膜者，且 載置上述基板之支持台內置有將該基板保持於零度以下之溫度段之溫度控制裝置。
  7. 如請求項6之成膜裝置，其進而具有紫外線照射部，該紫外線照射部向配置有上述遮罩且形成有上述液體之樹脂材料膜之基板照射紫外線。
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