JP2011021264A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の成膜装置1は、真空排気手段2を有する真空チャンバ3と、該真空チャンバの内部にそれぞれ配された、被処理体4を保持する支持手段5、前記支持手段と対向して配され、前記被処理体上に向けて原料ガスを吐出し、該被処理体上に被膜を形成する成膜手段、前記支持手段を囲んで配され、前記支持手段の方向に開口部を有する筒型の第一プレート6、及び前記第一プレートよりも外側において、前記支持手段を囲んで配された第二プレート7、を少なくとも備え、前記第一プレートは、前記支持手段と前記第二プレートとの間に位置する第一状態と、前記支持手段と前記成膜手段との間の第一空間を取り囲むように位置する第二状態と、の間で移動可能になされている。
【選択図】図2
Description
従来、蒸着重合法は、構造上の容易さから、基板に対して蒸発源が下方に位置するように構成された処理室内において、常に原料モノマーの蒸気が基板の下方から供給されることにより成膜が行われている(例えば、特許文献1参照)。
かかる問題を解決するために、処理室の外部に蒸発源を配設し、原料モノマーの蒸気を処理室の上部から供給することによりデポダウン方式で蒸着重合を行うようにすることが考えられる(例えば、特許文献2参照)。
本発明の請求項2に記載の成膜装置は、請求項1において、前記第一プレートが、加熱手段を備えていることを特徴とする。
本発明の請求項3に記載の成膜装置は、請求項1又は2において、前記第二状態において、前記第一プレートと前記第二プレートとは連続体をなし、前記第一空間から前記支持手段と前記第二プレートとの間の第二空間を通じて、前記原料ガスが排出されることを特徴とする。
例えば被処理体の搬入/搬出時において、第一プレートが前記第一状態となることで、該第一プレートが邪魔にならず、被処理体を容易に真空チャンバから搬入/搬出することができる。また、例えば成膜時においては、第一プレートが前記第二状態となることで、原料ガス粒子は第一プレート及び第二プレートの内壁に付着し、真空チャンバの内壁には付着しないため、該付着物により真空チャンバ内が汚染されないようにすることができる。
本発明の成膜装置1は、真空排気手段2を有する真空チャンバ3と、該真空チャンバ3の内部にそれぞれ配された、被処理体4を保持する支持手段5、前記支持手段5と対向して配され、前記被処理体4上に向けて原料ガスを吐出し、該被処理体4上に被膜を形成する成膜手段、前記支持手段5を囲んで配され、前記支持手段5の方向に開口部を有する筒型の第一プレート6、及び前記第一プレート6よりも外側において、前記支持手段5を囲んで配された第二プレート7、を少なくとも備える。
本発明では、第一プレート6及び第二プレート7と被処理体4との距離を大きくとることにより、高温の原料ガスによる被処理体4への熱の流入を抑え、特に被処理体4の外周域の温度上昇を低減することができる。また、真空排気のコンダクタンスを大きくとることができる。その結果、本発明の成膜装置1は、被処理体4上における温度分布の不均一を低減することができ、ひいては該被処理体4上に形成される被膜の膜厚分布を均一にすることが可能である。
さらに、各導入管41A、41Bの途中でバルブ15A、15Bと混合槽3aとの間には、各原料モノマーA、Bを加熱して気化するための気化手段17A、17Bが設けられている。
一方、処理槽3bは混合槽3aの下部に気密一体的に形成され、その下部には、被処理体4を支持するための支持手段5が設けられている。この支持手段5の内部にはヒーター及び冷媒循環路(図示略)が設けられ、これにより被処理体4を所定の温度に加熱又は冷却できるようになっている。
このモノマー吹き付け部材19は、例えばAl、Cu、SUS等熱伝導のよい金属製の板状の部材からなり、このモノマー吹き付け部材19には、モノマー混合蒸気が通過可能な複数の吹き出し口19aが形成されている。
そして、前記第一プレート6は、前記支持手段5と前記第二プレート7との間に位置する第一状態(図1参照)と、前記支持手段5と前記モノマー吹き付け部材との間の第一空間αを取り囲むように位置する第二状態(図2参照)と、の間で移動可能になされている。
第一状態は、例えば搬入/搬出時における状態であり、第一プレート6が下に逃げ、第二プレート7部分は固定される。
被処理体4を真空チャンバ3に搬入する際には、真空チャンバ3に設けられた搬入/搬出口(図示略)から、アーム部材8に保持された被処理体4が搬入され、支持手段5から上方に延びた支持部材5a上に載置される。支持部材5aが下降することにより、被処理体4が支持手段5上に保持される。
一方、被処理体4を真空チャンバ3から搬出する際には、支持部材5aが上昇することにより被処理体4が上に持ち上げられ、アーム部材8に保持されて搬入/搬出口から搬出される。このとき、第一プレート6が下に逃げているので、第一プレート6が邪魔にならず、被処理体4を容易に真空チャンバ3から搬入/搬出することができる。
第二状態は、例えば成膜(蒸着)時における状態であり、この第二状態において、第一プレート6及び第二プレート7は、蒸発源からの蒸発物が真空チャンバ3内の壁面に付着することを防止する防着板の役割を果たす。蒸発物粒子は第一プレート6及び第二プレート7の内壁に付着し、第一プレート6及び第二プレート7の外部にある真空チャンバ3の内壁には付着しないため、該付着物により真空チャンバ3内が汚染されないようにすることができる。
第一プレート6及び第二プレート7と被処理体4の距離を大きくとることにより、被処理体4への熱の流入を抑え、真空排気のコンダクタンスを大きくとることができる。
Claims (3)
- 真空排気手段を有する真空チャンバと、該真空チャンバの内部にそれぞれ配された、
被処理体を保持する支持手段、
前記支持手段と対向して配され、前記被処理体上に向けて原料ガスを吐出し、該被処理体上に被膜を形成する成膜手段、
前記支持手段を囲んで配され、前記支持手段の方向に開口部を有する筒型の第一プレート、及び、
前記第一プレートよりも外側において、前記支持手段を囲んで配された第二プレート、を少なくとも備え、
前記第一プレートは、前記支持手段と前記第二プレートとの間に位置する第一状態と、
前記支持手段と前記成膜手段との間の第一空間を取り囲むように位置する第二状態と、
の間で移動可能になされていることを特徴とする成膜装置。 - 前記第一プレートが、加熱手段を備えていることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記第二状態において、前記第一プレートと前記第二プレートとは連続体をなし、
前記第一空間から前記支持手段と前記第二プレートとの間の第二空間を通じて、前記原料ガスが排出されることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
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