TW201838044A - 濺鍍靶的加工方法、濺鍍靶的加工裝置、濺鍍靶及濺鍍靶製品的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種將包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面之濺鍍靶予以加工的加工方法,係具備:將前述濺鍍靶之前述濺鍍面或前述對向面設置於固定台,而將前述濺鍍靶固定在前述固定台的步驟;以及一邊使切削工具沿著前述濺鍍靶之前述外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由前述切削工具切削前述濺鍍靶之前述外周面的步驟。

Description

濺鍍靶的加工方法、濺鍍靶的加工裝置、濺鍍靶及濺鍍靶製品的製造方法
本發明係有關濺鍍靶的加工方法、濺鍍靶的加工裝置、濺鍍靶及濺鍍靶製品的製造方法。
濺鍍靶製品的製造中,以往係有利用車刀切削濺鍍靶的外周面,並對構成該外周面的每一邊加工濺鍍靶的外周面的步驟(例如參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] (專利文獻)
專利文獻1:日本特開平5-84682號公報
就濺鍍靶製品而言,通常要求是濺鍍靶的外周面沒有歪曲的製品。濺鍍靶的外周面有歪曲的狀態 下,若在基板和濺鍍靶之間施加高電壓時,有引起異常放電之虞。
本發明係提供一種可製造歪曲少之濺鍍靶的濺鍍靶的加工方法、濺鍍靶的加工裝置、濺鍍靶及濺鍍靶製品的製造方法。
濺鍍靶的加工方法係將包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面之濺鍍靶予以加工,該加工方法係具備:將前述濺鍍靶之前述濺鍍面或前述對向面設置於固定台,而將前述濺鍍靶固定在前述固定台的步驟;以及一邊使切削工具沿著前述濺鍍靶之前述外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由前述切削工具切削前述濺鍍靶之前述外周面的步驟。
根據前述濺鍍靶的加工方法,係一邊使切削工具沿著濺鍍靶之外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由切削工具切削濺鍍靶之外周面。藉此,可在釋放濺鍍靶之外周面產生的熱之狀態下切削濺鍍靶的外周面。因此,可減少因加工時產生之熱造成的歪曲,實現歪曲少的濺鍍靶。
濺鍍靶的加工方法之一實施形態中,前述固定台係藉由真空吸力吸附前述濺鍍靶的前述濺鍍面或前述對向面,將前述濺鍍靶固定。
根據前述實施形態,固定台係藉由真空吸力吸附濺鍍靶的濺鍍面或對向面,將濺鍍靶固定。藉此,切削工具沿 著濺鍍靶之外周面的周圍方向移動時,固定台不會阻礙切削工具的移動,可確保切削工具的軌道。
濺鍍靶的加工裝置係將包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面之濺鍍靶予以加工,該加工裝置係具備:固定台,係設置前述濺鍍靶之前述濺鍍面或前述對向面,將前述濺鍍靶予以固定;切削工具,係切削前述濺鍍靶;以及控制裝置,係以一邊使前述切削工具沿著前述濺鍍靶之前述外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由前述切削工具切削前述濺鍍靶之前述外周面的方式,控制前述切削工具。
前述控制裝置係以一邊使切削工具沿著濺鍍靶之外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由切削工具切削濺鍍靶之外周面的方式,控制切削工具。藉此,可在釋放濺鍍靶之外周面產生的熱之狀態下切削濺鍍靶的外周面。因此,可減少因加工時產生之熱造成的歪曲,實現歪曲少的濺鍍靶。
濺鍍靶係包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面,前述外周面由側面側觀之,為大致長方形,前述濺鍍靶之長邊側的側面的最大歪曲係在0.15mm以下。
根據前述濺鍍靶,由於最大歪曲在0.15mm以下,可實現精度高的濺鍍靶。
前述濺鍍靶之一實施形態中,前述濺鍍靶之長邊側的側面的最大歪曲相對於前述濺鍍靶之長邊方向 的長度的比例為0.0075%以下。
根據前述實施形態,由於最大歪曲的比例在0.0075%以下,可實現精度高的濺鍍靶。
前述濺鍍靶之一實施形態中,前述濺鍍靶之長邊方向的長度為1500mm以上4000mm以下。
根據前述實施形態,濺鍍靶之長邊方向的長度雖長,但仍可製造歪曲少的濺鍍靶。
前述濺鍍靶之一實施形態中,前述濺鍍靶之長邊方向的長度與短邊方向的長度的長寬比為5以上25以下。長寬比係指(長邊方向的長度/短邊方向的長度)。
濺鍍靶製品的製造方法中,包含藉由前述濺鍍靶的加工方法來加工濺鍍靶的步驟。
根據前述製造方法,因藉由前述濺鍍靶的加工方法來製造濺鍍靶製品,故可獲得歪曲少的濺鍍靶製品。
根據本發明之濺鍍靶的加工方法,可製造歪曲少的濺鍍靶。
根據本發明之濺鍍靶的加工裝置,可製造歪曲少的濺鍍靶。
根據本發明之濺鍍靶,可製造精度高的濺鍍靶。
根據本發明之濺鍍靶製品的製造方法,可得到歪曲少的濺鍍靶製品。
1‧‧‧濺鍍靶的加工裝置
2‧‧‧固定台
3‧‧‧切削工具
4‧‧‧控制裝置
5‧‧‧夾頭部
10‧‧‧濺鍍靶
11‧‧‧濺鍍面
12‧‧‧對向面
13‧‧‧外周面
13a‧‧‧第1側面
13b‧‧‧第2側面
13c‧‧‧第3側面
13d‧‧‧第4側面
20‧‧‧設置面
21‧‧‧吸氣漕
22‧‧‧吸氣孔
23‧‧‧吸氣通道
24‧‧‧密封構件
100‧‧‧濺鍍靶
L‧‧‧濺鍍靶之長邊方向的長度
T‧‧‧最大歪曲
W‧‧‧濺鍍靶之短邊方向的長度
第1圖係顯示濺鍍靶的加工裝置之一實施形態的平面圖。
第2圖係顯示濺鍍靶的加工裝置之一實施形態的剖面圖。
第3圖係顯示濺鍍靶的加工方法之一實施形態的平面圖。
第4圖係顯示濺鍍靶的加工方法之一實施形態的平面圖。
第5圖係顯示加工後之濺鍍靶的平面圖。
第6圖係顯示濺鍍靶的加工方法之比較例的平面圖。
第7圖係顯示濺鍍靶的加工方法之比較例的平面圖。
第8圖係顯示濺鍍靶的加工方法之比較例的平面圖。
第9圖係顯示濺鍍靶的加工方法之比較例的平面圖。
以下,根據圖式所示的實施形態詳細說明本發明。
第1圖係顯示濺鍍靶的加工裝置之一實施形態的平面圖。第2圖係顯示濺鍍靶的加工裝置的剖面圖。如第1圖及第2圖所示,濺鍍靶的加工裝置(以下稱為加工裝置1)係切削加工濺鍍靶10。切削係指削刮、磨削、研磨等。
濺鍍靶10係包含濺鍍面11、位於濺鍍面11之相反側的對向面12、以及濺鍍面11與對向面12之間的外周面13。濺鍍靶10係形成為長條的板狀。外周面13由 側面側觀之,為大致長方形。外周面13係由彼此對向之長邊側的第1側面13a和第2側面13b、及彼此對向之短邊側的第3側面13c和第4側面13d構成。
濺鍍時,離子化的惰性氣體藉由濺鍍碰撞濺鍍靶10的濺鍍面11。受到離子化的惰性氣體碰撞的濺鍍面11會撞出包含於濺鍍靶10中的靶原子。被撞出的原子係堆積在與濺鍍面11對向配置的基板上,而在此基板上形成薄膜。
濺鍍靶10可選自鋁(Al)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、鉭(Ta)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鵭(W)、鉬(Mo)、鈮(Nb)、銦(In)等的金屬及該等的合金所成之群的材料來製造。
構成濺鍍靶10的材料並不限於此等。就作為電極、配線材料用之濺鍍靶10的材料而言,較理想為鋁。鋁的純度較理想為99.99%以上,更理想為99.999%以上。由於高純度鋁具有高導電性,故適合作為電極、配線材料用之濺鍍靶材1的材料,鋁的純度愈高,材質柔軟愈容易變形,故本發明的加工方法可適當使用在以高純度鋁作為材料之靶材的製造。
加工裝置1係具有固定濺鍍靶10的固定台2、切削濺鍍靶10的切削工具3、及控制切削工具3的控制裝置4。
固定台2係設置濺鍍靶10的對向面12並固定濺鍍靶10。若具體敍述,固定台2係包含設置濺鍍靶10的設置面20。設置面20設有格子狀的吸氣漕21。吸氣 漕21的底面設有複數個吸氣孔22。複數個吸氣孔22係連通於吸氣通道23。吸氣通道23係與未圖示的真空裝置連結。設置面20上,以包圍吸氣漕21的方式,設有環狀的密封構件24。
藉此,將濺鍍靶10放置在密封構件24上,啟動真空裝置後,經由吸氣漕21、吸氣孔22以及吸氣通道23真空吸力,藉以吸附濺鍍靶10的對向面12。
切削工具3例如為端銑刀、圓角銑刀、弧面銑刀等刀具。切削工具3可在繞著軸心旋轉(自轉)的狀態下接觸濺鍍靶10而藉以切削濺鍍靶10。
控制裝置4係控制切削工具3的動作。若具體敍述,控制裝置4係將切削工具3控制成一邊使切削工具3沿著濺鍍靶10的外周面13的周圍方向旋轉(公轉),一邊藉由切削工具3切削濺鍍靶10的外周面13。
控制裝置4可變更濺鍍靶10的自轉及公轉的旋轉速度。
就加工裝置1的種類而言,可列舉銑床、NC銑床、綜合加工機等。
接著,針對濺鍍靶10的加工方法進行說明。
將濺鍍靶10的對向面12設置於固定台2,使濺鍍靶10固定於固定台2。此時,例如藉由真空吸力吸附濺鍍靶10的對向面12,使濺鍍靶10固定。
然後,如第3圖所示,使切削工具3沿著箭頭方向移動,藉由切削工具3切削外周面13,例如外周 面13的角部。之後,如第4圖所示,一邊使自轉的切削工具3沿著濺鍍靶10的外周面13的周圍方向(箭頭方向)旋轉(環繞),一邊藉由切削工具3切削濺鍍靶10的外周面13。
又,在切削外周面13的步驟中,可多次進行藉由切削工具3切削外周面13的操作,但一次的操作中,係環繞構成外周面13的全部側面(亦即外周面13整體)。例如第3圖之一實施形態中,一次操作中係使切削工具3依第1側面13a、第4側面13d、第2側面13b、第3側面13c的順序移動,切削各側面。切削工具3的移動方向亦可為逆向。
藉由切削工具3切削外周面13時,固定台2較理想為藉由真空吸力吸附濺鍍靶10的對向面12,使濺鍍靶10固定。在本發明之加工方法中,由於固定濺鍍靶10,切削工具3沿著濺鍍靶10之外周面13的周圍方向移動時,固定台2不會阻礙切削工具3的移動,可確保切削工具3的軌道。
就可適用的加工條件而言,較理想為設定成轉速100至10000rpm、工具進給速度100至3000mm/分。
單次的切削量大時,容易產生因加工造成的歪曲,但若減少單一次的切削量,則切削工具3的環繞次數會增加,會有生產性降低且加工後無法得到完整的表面狀態的情況。因此,為抑制因加工造成的歪曲,且有效率地形成良好的表面狀態,單次的切削量通常為0.1至10mm,較理想為0.3mm至7.5mm,更理想為0.5mm至5mm。加工處理之切削工具3的環繞次數通常為一至五 次,較理想為一至三次,更理想為一至二次。
因為一邊使切削工具3沿著濺鍍靶10的外周面13的周圍方向旋轉,一邊利用切削工具3切削濺鍍靶10的外周面13,故可在釋放濺鍍靶10之外周面13產生的熱之狀態下切削濺鍍靶10的外周面13。因此,可減少因加工時產生之熱造成的歪曲,實現歪曲少的濺鍍靶10。
第5圖係顯示加工後的濺鍍靶10。外周面13由側面側觀之,為大致長方形。濺鍍靶10之長邊側的第1側面13a、第2側面13b的最大歪曲T係在0.15mm以下。又,在第5圖中,為了令人能容易理解而誇大描繪最大歪曲T。
在此,最大歪曲T係指以虛線表示沒有歪曲之長方形的長邊時,偏離該虛線之長邊的最大歪曲量。又,最大歪曲T的測量方法係以連結濺鍍靶的長邊側的側面(第1側面13a、第2側面13b)之兩端的直線(虛線)為基準,測量該直線(虛線)與濺鍍靶之長邊側的側面(第1側面13a、第2側面13b)的距離,並記錄最大的距離。
例如,最大歪曲T的測量方法,係在加工機上,將解除夾持之濺鍍靶的長邊側的側面(13a或13b)的兩端,設置成載於與加工機的掃瞄軸平行的直線(虛線)上,使用安裝在加工機的千分錶等測量器,以濺鍍靶之長邊側的側面的端部為原點,使加工機直線移動,測量前述長邊側的側面與虛線的距離,並記錄最大值作為最大歪曲T。
再者,換句話說,濺鍍靶10之長邊側的第1側面13a、 第2側面13b的最大歪曲T相對於濺鍍靶10之長邊方向的長度L的比例可設為0.0075%以下。亦即,濺鍍靶10之長邊方向的長度L為2000mm以上,最大歪曲T為0.15mm以下。濺鍍靶10之短邊方向的寬度W,例如為200mm。總之,最大歪曲T為0.15mm以下時,最大歪曲T的比例可設為0.0075%以下。
換言之,最大歪曲T為0.15mm以下,最大歪曲T的比例為0.0075%以下時,可製造精度高的濺鍍靶10。又,關於外周面13之短邊側的第3側面13c、第4側面13d,由於長度比長邊側短許多,原本即難以產生歪曲。如此,長度相對於上述短邊長許多的長邊側容易產生歪曲,濺鍍靶10的長邊長度通常在1.5至4m的範圍,相對於此,濺鍍靶10的長邊:短邊的長度比在5:1至25:1的範圍中,其長邊側容易產生歪曲,但只要是依據本發明的製造方法,就能夠有效地抑制歪曲產生。
最大歪曲T為0.15mm以下,最大歪曲T的比例為0.0075%以下時,可有效防止因濺鍍靶之外周面的歪曲所引起的異常放電。又,也能夠有效地抑制由於濺鍍靶的歪曲使得底板材的表面被濺鍍的風險。
針對作為比較例之藉由機械式夾頭進行固定的加工方法進行說明。如第6圖所示,以複數個夾頭部5夾持固定濺鍍靶100之外周面13的第1側面13a、第2側面13b,使切削工具3沿著箭頭方向移動複數次,藉由切削工具3切削外周面13的角部後,如第7圖所示,使切 削工具3沿著箭頭方向移動複數次,藉由切削工具3切削外周面13的第3側面13c、第4側面13d。
之後,如第8圖所示,移除第1側面13a的夾頭部5,而以複數個夾頭部5固定第2側面13b的狀態,藉由切削工具3切削第1側面13a。此時,由於一邊使切削工具3沿著箭頭方向移動複數次一邊進行切削,加工第1側面13a時產生的熱不會釋放,使得第1側面13a伸長。
進一步地,如第9圖所示,移除第2側面13b的夾頭部5,而以複數個夾頭部5固定第1側面13a的狀態,藉由切削工具3切削第2側面13b。此時,由於一邊使切削工具3沿著箭頭方向移動複數次一邊進行切削,加工第2側面13b時產生的熱不會釋放,使的第2側面13b伸長。
因此,加工後的濺鍍靶100中,第1側面13a、第2側面13b的最大歪曲T變得比0.15mm大,成為歪曲大精度低的濺鍍靶100。
依據本發明之濺鍍靶的加工方法來加工濺鍍靶並製造濺鍍靶製品的方法,亦在本發明的範疇內。
若具體敍述本發明之製造方法的一實施形態,例如將靶材料藉由溶解、鑄造等形成長方體形狀後,利用滾軋加工、鍛造加工、擠壓加工等的塑性加工,得到板狀的濺鍍靶。之後,藉由前述加工方法加工濺鍍靶。此時,濺鍍靶的表面可依照需要進行精細加工。之後,將經加工過的濺鍍靶與底板接合,製造濺鍍靶製品。又,亦可省略底板,僅用經加工過的濺鍍靶製造濺鍍靶製品。
底板係由導電性的材料構成,包含金屬或其合金等。就金屬而言,有銅、鋁、鈦等。接合濺鍍靶及底板時,例如可使用焊材。就焊材的材料而言,有銦、錫、鋅、鉛等金屬或其合金等。
濺鍍靶製品的製造方法中,由於包含藉由前述加工方法加工濺鍍靶的步驟,可得到歪曲少的濺鍍靶製品。
又,本發明不限於上述實施形態,在不脫離本發明之主旨的範圍可變更設計。
前述實施形態中,雖藉由真空吸力將濺鍍靶固定在固定台,只要不妨礙切削工具沿著濺鍍靶之外周面的周圍方向的移動,亦可將濺鍍靶機械性地固定在固定台。
前述實施形態中,以將濺鍍靶的對向面設置於固定台而進行固定進行說明,惟亦可設置濺鍍靶的濺鍍面而進行固定。若將濺鍍面設置於固定台,則必須在濺鍍面的精加工步驟重新設置濺鍍靶(使濺鍍面在表面側),故較理想為將對向面設置於固定台進行固定。
(實施例)
接著,針對實施例1(第3圖、第4圖)和比較例1(第6圖至第9圖)的實驗數據進行說明。準備純度99.999%的高純度鋁製的滾軋板,在具有控制裝置、固定台的門型綜合加工機固定該滾軋板。實施例1中,以真空夾頭將該滾軋 板固定在固定台的設置面,比較例1中,則使用機械式夾具將該滾軋板固定在固定台的設置面。
此外,於該門型綜合加工機安裝 30mm的端銑刀,藉由控制裝置設定端銑刀轉速500rpm、工具進給速度250mm/分、一次的加工動作中之端銑刀(切削工具3)環繞次數二次、第一圈的切削量4mm、第二圈的切削量1mm等加工條件,進行切削該滾軋板之外周面的操作,得到長邊為2650mm、短邊為185mm的濺鍍靶。比較例中,於該門型綜合加工機安裝 30mm的端銑刀,藉由控制裝置設定端銑刀轉速500rpm、工具進給速度250mm/分、一次的加工動作中之端銑刀(切削工具3)的每一邊加工次數二次、第一次的切削量4mm、第二次的切削量1mm等加工條件,進行切削該滾軋板之外周面的操作,得到長邊為2650mm、短邊為185mm的濺鍍靶。
結果,實施例1的加工方法中,最大歪曲為0.0065mm,此時,最大歪曲的比例為:(0.0065/2650)×100=0.0002%。相對於此,比較例1的加工方法中,最大歪曲為0.1755mm,此時,最大歪曲的比例為:(0.1755/2650)×100=0.0066%。比較例1中,最大歪曲超過0.15mm。
實施例1中,將該滾軋板固定在門型綜合加工機上,進一步一邊使切削工具沿著濺鍍靶的外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由切削工具切削濺鍍靶的外周面。結果,濺鍍靶的外周面產生的熱能夠釋放,而可製造歪曲少的濺鍍靶。
相對於此,比較例中,由於使用機械式夾具,分別切削濺鍍靶之外周面的兩個長邊的每一邊,加工時產生的熱無法釋放,成為歪曲大的濺鍍靶。
又,以其他的條件檢討本案的實施例和比較例時,本案實施例中,最大歪曲為0.15mm以下,比較例中,最大歪曲大於0.15mm。
例如:就實施例2而言,以與實施例1相同的條件加工,得到長邊為2300mm、短邊為200mm的濺鍍靶時,最大歪曲為0.018mm,最大歪曲的比例為0.0008%。又,就實施例3而言,以與實施例1相同的條件加工,得到長邊為2500mm、短邊為295mm的濺鍍靶時,最大歪曲為0.009mm,最大歪曲的比例為0.0004%。
(較佳形態)
最大歪曲T雖然為0.15mm以下,理想為0.1mm以下,較理想為0.05mm以下,0.01mm以下更理想。藉此,可製造歪曲更少、精度更高的濺鍍靶。
濺鍍靶之長邊方向的長度為1500mm以上4000mm以下,理想為2000mm以上3500mm以下,較理想為2200mm以上3200mm以下,2500mm以上2800mm以下更理想。藉此,濺鍍靶之長邊方向的長度雖長,但仍可製造歪曲少的濺鍍靶。
接著,將最大歪曲為0.15mm、0.1mm、0.05mm、0.01mm,濺鍍靶之長邊方向的長度為2000mm、 2300mm、2650mm、3000mm、3500mm時之最大歪曲的比例顯示於表1。由表1可知,最大歪曲的比例為0.00029%以上0.0075%以下。
濺鍍靶之長邊方向的長度與短邊方向的長度的長寬比為5以上25以下,理想為6以上20以下,較 理想為7以上18以下,8以上15以下更理想。長寬比係(長邊方向的長度/短邊方向的長度)。藉此,濺鍍靶雖成為細長的形狀,但亦可製造歪曲少的濺鍍靶。
此時之實施例4至6顯示於表2。關於各個實施例,針對三個樣品,使用真空夾頭來固定濺鍍靶,並一邊使端銑刀沿著濺鍍靶的外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由端銑刀,以與實施例1相同的條件加工濺鍍靶的外周面,調查所獲得之濺鍍靶的最大歪曲以及最大歪曲的比例。實施例4至6中,顯示濺鍍靶的尺寸、及長寬比變更時之最大歪曲和最大歪曲的比例。由表2可知,長寬比雖在5以上25以下,但仍可縮小最大歪曲及最大歪曲的比例。
最大歪曲的下限理想為0.003mm以上,較理想為0.005mm以上。根據上述,濺鍍靶與底板為不同種類的材料時,若進行濺鍍靶與底板的接合(例如焊材接合),由於原料間的膨脹線性係數不同,接合時的加熱會在接合後的濺鍍靶製品發生翹曲。濺鍍靶為鋁,底板為銅時,由於鋁的膨脹線性係數較大,加熱會使得鋁較為伸長,但 若鋁稍微歪曲,鋁的伸長方向稍微偏離直線方向,與原料為銅的底板之直線方向的伸長的差變小,冷卻時不易產生收縮量的差,則濺鍍靶製品難以發生翹曲。又,於加工後排列複數個濺鍍靶時,若濺鍍靶稍微歪曲,則相鄰之濺鍍靶的接觸面積變小,而能夠使因接觸相鄰之濺鍍靶所產生的傷痕變小。

Claims (8)

  1. 一種濺鍍靶的加工方法,係將包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面之濺鍍靶予以加工,該加工方法係具備:將前述濺鍍靶之前述濺鍍面或前述對向面設置於固定台,而將前述濺鍍靶固定在前述固定台的步驟;以及一邊使切削工具沿著前述濺鍍靶之前述外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由前述切削工具切削前述濺鍍靶之前述外周面的步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之濺鍍靶的加工方法,其中,前述固定台係藉由真空吸力吸附前述濺鍍靶的前述濺鍍面或前述對向面,將前述濺鍍靶固定。
  3. 一種濺鍍靶的加工裝置,係將包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面之濺鍍靶予以加工,該加工裝置係具備:固定台,係設置前述濺鍍靶之前述濺鍍面或前述對向面,將前述濺鍍靶予以固定;切削工具,係切削前述濺鍍靶;以及控制裝置,係以一邊使前述切削工具沿著前述濺鍍靶之前述外周面的周圍方向旋轉,一邊藉由前述切削工具切削前述濺鍍靶之前述外周面的方式,控制前述切削工具。
  4. 一種濺鍍靶,係包含濺鍍面、位於前述濺鍍面之相反側 的對向面、以及前述濺鍍面與前述對向面之間的外周面,前述外周面由側面側觀之,為大致長方形,前述濺鍍靶之長邊側的側面的最大歪曲係在0.15mm以下。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之濺鍍靶,其中,前述濺鍍靶之長邊側的側面的最大歪曲相對於前述濺鍍靶之長邊方向的長度的比例為0.0075%以下。
  6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述之濺鍍靶,其中,前述濺鍍靶之長邊方向的長度為1500mm以上4000mm以下。
  7. 如申請專利範圍第4至6項中任一項所述之濺鍍靶,其中,前述濺鍍靶之長邊方向的長度與短邊方向的長度的長寬比為5以上25以下。
  8. 一種濺鍍靶的製造方法,係使用申請專利範圍第1項或第2項所述之濺鍍靶的加工方法來加工濺鍍靶而製造濺鍍靶製品。
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