TW201734161A - 光濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑 - Google Patents
光濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201734161A TW201734161A TW105139786A TW105139786A TW201734161A TW 201734161 A TW201734161 A TW 201734161A TW 105139786 A TW105139786 A TW 105139786A TW 105139786 A TW105139786 A TW 105139786A TW 201734161 A TW201734161 A TW 201734161A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- resin composition
- moisture
- meth
- acrylate
- curable resin
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/08—Processes
- C08G18/10—Prepolymer processes involving reaction of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen in a first reaction step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
- C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
- C08K5/5419—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/544—Silicon-containing compounds containing nitrogen
- C08K5/5477—Silicon-containing compounds containing nitrogen containing nitrogen in a heterocyclic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/548—Silicon-containing compounds containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J4/00—Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
本發明之目的在於提供一種耐濕熱性優異之光濕氣硬化型樹脂組成物。又,本發明之目的在於提供一種使用該光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑。本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有自由基聚合性化合物、濕氣硬化型樹脂、光自由基聚合起始劑、及偶合劑,且上述偶合劑含有選自由下述式(1-1)所表示之化合物、下述式(1-2)所表示之化合物、及下述式(1-3)所表示之化合物所組成之群中至少1種。式(1-1)中,R1~R4分別獨立地為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R5為一部分可經雜原子取代之碳數1~10之伸烷基,n及m分別獨立地為1~3之整數。式(1-2)中,R6為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R7為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之伸烷基,X為下述式(2-1)或(2-2)所表示之基,l為1~3之整數。式(1-3)中,R8、R9分別獨立地為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R10為一部分可經雜原子取代之碳數1~10之伸烷基,R11為一部分可經雜原子取代之碳數1~15之烷基,k為1~3之整數。式(2-2)中,R12為氫、或一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基。□□□□□
Description
本發明係關於一種耐濕熱性優異之光濕氣硬化型樹脂組成物。又,本發明係關於一種使用該光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑。
近年來,作為具有薄型、輕量、低消耗電力等特徵之顯示元件,業界廣泛地利用液晶顯示元件、有機EL顯示元件等。該等顯示元件中,通常,將光硬化型樹脂組成物用於液晶或發光層之密封、基板、光學膜、保護膜等各種構件之接著等。
且說,於行動電話、攜帶型遊戲機等各種附有顯示元件之行動機器普及之現代,顯示元件之小型化為最需要之課題,作為小型化之方法,業界進行將圖像顯示部窄邊緣化(以下,亦稱為窄邊緣設計)。然而,於窄邊緣設計中,會有在光未充分地到達之部分塗佈光硬化型樹脂組成物之情形,結果有塗佈於光未到達之部分之光硬化型樹脂組成物之硬化變得不充分之問題。因此,雖然亦進行使用光熱硬化型樹脂組成物作為於塗佈於光未到達之部分之情形時亦可充分地硬化之樹脂組成物,併用光硬化與熱硬化,但有因高溫下之加熱而對元件等造成不良影響之虞。
又,近年來,半導體晶片等電子零件要求高積體化、小型化,例如進行經由接著劑層將多片較薄之半導體晶片接合而製成半導體晶片之積層體。此種半導體晶片之積層體例如係藉由如下方法而製造:於在一半導體晶片上塗佈接著劑後,經由該接著劑積層另一半導體晶片,其後,使接著劑硬化之方法;於隔開一定之間隔保持之半導體晶片間填充接著劑,其後,使接著劑硬化之方法等。
作為此種電子零件之接著所使用之接著劑,例如,專利文獻1中揭示有含有數量平均分子量為600~1000之環氧化合物之熱硬化型之接著劑。然而,如專利文獻1中所揭示之熱硬化型之接著劑不適合「有可能因熱而產生不良情況之電子零件之接著」。
作為不進行高溫下之加熱而使樹脂組成物硬化之方法,專利文獻2、3中揭示有如下方法:使用含有分子中具有至少1個異氰酸酯基與至少1個(甲基)丙烯醯基之胺酯(urethane)預聚物的光濕氣硬化型樹脂組成物,併用光硬化與濕氣硬化。然而,於使用如專利文獻2、3中所揭示之光濕氣硬化型樹脂組成物之情形時,存在於將基板等被接著體接著時,尤其是耐濕熱性變得不足之情形。
專利文獻1:日本特開2000-178342號公報
專利文獻2:日本特開2008-274131號公報
專利文獻3:日本特開2008-63406號公報
本發明之目的在於提供一種耐濕熱性優異之光濕氣硬化型樹脂組成物。又,本發明之目的在於提供一種使用該光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有自由基聚合性化合物、濕氣硬化型樹脂、光自由基聚合起始劑、及偶合劑,且上述偶合劑含有選自由下述式(1-1)所表示之化合物、下述式(1-2)所表示之化合物、及下述式(1-3)所表示之化合物所組成之群中至少1種。
式(1-1)中,R1~R4分別獨立地為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R5為一部分可經雜原子取代之碳數1~10之伸烷基,n及m分別獨立地為1~3之整數。
式(1-2)中,R6為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R7為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之伸烷基,X為下述式(2-1)或(2
-2)所表示之基,l為1~3之整數。
式(1-3)中,R8、R9分別獨立地為一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基,R10為一部分可經雜原子取代之碳數1~10之伸烷基,R11為一部分可經雜原子取代之碳數1~15之烷基,k為1~3之整數。
式(2-2)中,R12為氫、或一部分可經雜原子取代之碳數1~3之烷基。
以下對本發明進行詳細說明。
本發明人等發現,令人驚訝的是,藉由將具有特定之結構之偶合劑摻合至含有自由基聚合性化合物與濕氣硬化型樹脂之光濕氣硬化型樹脂組成物中,可大幅提高耐濕熱性,從而完成本發明。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有偶合劑。
上述偶合劑含有選自由上述式(1-1)所表示之化合物、上述式(1-2)所表示之化合物、及上述式(1-3)所表示之化合物所組成之群中至少1種(以下,亦稱為「本發明之偶合劑」)。本發明之偶合劑不僅提高接著性,亦在提高用於電子零件、顯示元件等之情形時重要之耐濕熱性的方面發揮出尤其優異之效果。
於上述式(1-1)中,較佳為R1及R3分別獨立地為甲基或乙基,R5較佳為三亞甲基,n及m較佳為3。於n為1或2之情形時,R2較佳為甲基或乙基,於m為1或2之情形時,R4較佳為甲基或乙基。
於上述式(1-2)中,R7較佳為三亞甲基,l較佳為3。於l為1或2之情形時,R6較佳為甲基或乙基。
於上述式(1-3)中,R8較佳為甲基或乙基,R10較佳為三亞甲基,k較佳為3。於k為1或2之情形時,R9較佳為甲基或乙基。R11較佳為碳數3~10之烷基,較佳為己基、庚基、或辛基。R11較佳為直鏈狀。
於上述式(2-2)中,R12較佳為氫。
作為本發明之偶合劑中之市售者,例如可列舉:X-12-1056ES、KBM-9007A、X-12-967C(均為信越化學工業公司製造)等。
關於本發明之偶合劑之含量,相對於自由基聚合性化合物與濕氣硬化型樹脂之合計100重量份,較佳之下限為0.05重量份,較佳之上限為5重量份。藉由使本發明之偶合劑之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為保持優異之保存穩定性,且耐濕熱性更優異者。本發明之偶合劑之含量之更佳之下限為0.5重量份,更佳之上限為1.5重量份。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有自由基聚合性化合物。
作為上述自由基聚合性化合物,只要為具有光聚合性之自由基聚合性化合物即可,只要為除包括於下述濕氣硬化型樹脂者以外,分子中具有自由基聚合性基之化合物,則並無特別限定,適宜為具有不飽和雙鍵作為自由基聚合性基之化合物,尤其就反應性之方面而言,適宜為具有(甲基)丙烯
醯基之化合物(以下,亦稱為「(甲基)丙烯酸系化合物」)。
再者,於本說明書中,上述「(甲基)丙烯醯基」係指丙烯醯基或甲基丙烯醯基,上述「(甲基)丙烯酸系」係指丙烯酸系或甲基丙烯酸系。
作為上述(甲基)丙烯酸系化合物,例如可列舉:藉由使(甲基)丙烯酸與具有羥基之化合物進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯化合物、藉由使(甲基)丙烯酸與環氧化合物進行反應而獲得之環氧(甲基)丙烯酸酯、藉由使具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物與異氰酸酯化合物進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸胺酯等。
再者,於本說明書中,上述所謂「(甲基)丙烯酸酯」係指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。又,成為上述(甲基)丙烯酸胺酯之原料之異氰酸酯化合物之異氰酸酯基全部用於胺酯鍵之形成,上述(甲基)丙烯酸胺酯不具有殘留異氰酸酯基。
作為上述(甲基)丙烯酸酯化合物中之單官能者,例如可列舉:N-丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲醯亞胺等鄰苯二甲醯亞胺(甲基)丙烯酸酯類,各種(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸雙環戊烯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)
丙烯酸2-丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1H,1H,5H-八氟戊酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、磷酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯等。
又,作為上述(甲基)丙烯酸酯化合物中之2官能者,例如可列舉:1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-正丁基-2-乙基-1,3-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成雙酚F二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二羥甲基二環戊二烯酯、環氧乙烷改質異三聚氰酸二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-(甲基)丙烯醯氧基丙酯、碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚醚二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚己內酯二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二烯二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
又,作為上述(甲基)丙烯酸酯化合物中之3官能以上者,例
如可列舉:三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷加成異三聚氰酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷加成甘油三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三(甲基)丙烯醯氧基乙酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
作為上述環氧(甲基)丙烯酸酯,例如可列舉藉由使環氧化合物與(甲基)丙烯酸根據常用方法於鹼性觸媒之存在下進行反應而獲得者等。
作為成為用以合成上述環氧(甲基)丙烯酸酯之原料之環氧化合物,例如可列舉:雙酚A型環氧化合物、雙酚F型環氧化合物、雙酚S型環氧化合物、2,2'-二烯丙基雙酚A型環氧化合物、氫化雙酚型環氧化合物、環氧丙烷加成雙酚A型環氧化合物、間苯二酚型環氧化合物、聯苯型環氧化合物、硫醚型環氧化合物、二苯醚型環氧化合物、二環戊二烯型環氧化合物、萘型環氧化合物、苯酚酚醛清漆型環氧化合物、鄰甲酚酚醛清漆型環氧化合物、二環戊二烯酚醛清漆型環氧化合物、聯苯酚醛清漆型環氧化合物、萘酚酚醛清漆型環氧化合物、縮水甘油胺型環氧化合物、烷基多元醇型環氧化合物、橡膠改質型環氧化合物、縮水甘油酯化合物等。
作為上述環氧(甲基)丙烯酸酯中之市售者,例如可列舉:EBECRYL 860、EBECRYL 3200、EBECRYL 3201、EBECRYL 3412、EBECRYL 3600、EBECRYL 3700、EBECRYL 3701、EBECRYL 3702、EBECRYL 3703、EBECRYL 3800、EBECRYL 6040、EBECRYL RDX63182(均為Daicel-Allnex
公司製造)、EA-1010、EA-1020、EA-5323、EA-5520、EA-CHD、EMA-1020(均為新中村化學工業公司製造)、Epoxy Ester M-600A、Epoxy Ester 40EM、Epoxy Ester 70PA、Epoxy Ester 200PA、Epoxy Ester 80MFA、Epoxy Ester 3002M、Epoxy Ester 3002A、Epoxy Ester 1600A、Epoxy Ester 3000M、Epoxy Ester 3000A、Epoxy Ester 200EA、Epoxy Ester 400EA(均為共榮社化學公司製造)、DENACOL ACRYLATE DA-141、DENACOL ACRYLATE DA-314、DENACOL ACRYLATE DA-911(均為Nagase Chemtex公司製造)等。
上述(甲基)丙烯酸胺酯例如可藉由使具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物與異氰酸酯化合物於觸媒量之錫系化合物存在下進行反應而獲得。
作為成為上述(甲基)丙烯酸胺酯之原料之異氰酸酯化合物,例如可列舉:異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯(MDI)、氫化MDI、聚合MDI、1,5-萘二異氰酸酯、降莰烷二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯(XDI)、氫化XDI、離胺酸二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯、硫代磷酸三(異氰酸酯基苯基)酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、1,6,11-十一烷三異氰酸酯等。
又,作為上述異氰酸酯化合物,例如亦可使用藉由使乙二醇、丙二醇、甘油、山梨糖醇、三羥甲基丙烷、碳酸酯二醇、聚醚二醇、聚酯二醇、聚己內酯二醇等多元醇與過量之異氰酸酯化合物之反應而獲得之經鏈延長之異氰酸酯化合物。
作為成為上述(甲基)丙烯酸胺酯之原料之具有羥基之(甲基)
丙烯酸衍生物,例如可列舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯,乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、聚乙二醇等二元醇之單(甲基)丙烯酸酯,三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油等三元醇之單(甲基)丙烯酸酯或二(甲基)丙烯酸酯,雙酚A型環氧丙烯酸酯等環氧(甲基)丙烯酸酯等。
作為上述(甲基)丙烯酸胺酯中之市售者,例如可列舉:M-1100、M-1200、M-1210、M-1600(均為東亞合成公司製造)、EBECRYL 230、EBECRYL 270、EBECRYL 4858、EBECRYL 8402、EBECRYL 8411、EBECRYL 8412、EBECRYL 8413、EBECRYL 8804、EBECRYL 8803、EBECRYL 8807、EBECRYL 9260、EBECRYL 1290、EBECRYL 5129、EBECRYL 4842、EBECRYL 210、EBECRYL 4827、EBECRYL 6700、EBECRYL 220、EBECRYL 2220、KRM7735、KRM-8295(均為Daicel-Allnex公司製造)、Artresin UN -9000H、Artresin UN-9000A、Artresin UN-7100、Artresin UN-1255、Artresin UN-330、Artresin UN-3320HB、Artresin UN-1200TPK、Artresin SH-500B(均為根上工業公司製造)、U-2HA、U-2PHA、U-3HA、U-4HA、U-6H、U-6LPA、U-6HA、U-10H、U-15HA、U-122A、U-122P、U-108、U-108A、U-324A、U-340A、U-340P、U-1084A、U-2061BA、UA-340P、UA-4100、UA-4000、UA-4200、UA-4400、UA-5201P、UA-7100、UA-7200、UA-W2A(均為新中村化學工業公司製造)、AI-600、AH-600、AT-600、UA-101I、UA-101T、UA-306H、UA-306I、UA-306T(均為共榮社化學公司製造)等。
又,亦可適當使用上述以外之其他自由基聚合性化合物。
作為上述其他自由基聚合性化合物,例如可列舉:N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(甲基)丙烯醯基啉、N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲胺基丙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺化合物,苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等乙烯系化合物等。
就調整硬化性之等觀點而言,上述自由基聚合性化合物較佳為含有單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物。藉由含有上述單官能自由基聚合性化合物與上述多官能自由基聚合性化合物,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為硬化性及黏性更優異者。其中,更佳為將作為上述單官能自由基聚合性化合物之分子中具有氮原子之化合物與作為上述多官能自由基聚合性化合物之(甲基)丙烯酸胺酯組合而使用。又,上述多官能自由基聚合性化合物較佳為2官能或3官能,更佳為2官能。
於上述自由基聚合性化合物含有上述單官能自由基聚合性化合物與上述多官能自由基聚合性化合物之情形時,關於上述多官能自由基聚合性化合物之含量,相對於上述單官能自由基聚合性化合物與上述多官能自由基聚合性化合物之合計100重量份,較佳之下限為2重量份,較佳之上限為45重量份。藉由使上述多官能自由基聚合性化合物之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為硬化性及黏性更優異者。上述多官能自由基聚合性化合物之含量之更佳之下限為5重量份,更佳之上限為35重量份。
關於上述自由基聚合性化合物之含量,於上述自由基聚合性
化合物與上述濕氣硬化型樹脂之合計100重量份中,較佳之下限為10重量份,較佳之上限為80重量份。藉由使上述自由基聚合性化合物之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為光硬化性及濕氣硬化性更優異者。上述自由基聚合性化合物之含量之更佳之下限為25重量份,更佳之上限為70重量份,進而較佳之下限為30重量份,進而較佳之上限為59重量份。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有濕氣硬化型樹脂。
作為上述濕氣硬化型樹脂,例如可列舉:濕氣硬化型胺酯樹脂、具有烷氧基之樹脂等,較佳為濕氣硬化型胺酯樹脂。上述濕氣硬化型胺酯樹脂具有胺酯鍵與異氰酸酯基,且分子內之異氰酸酯基與空氣中或被接著體中之水分進行反應而硬化。上述濕氣硬化型胺酯樹脂較佳為於分子之末端具有上述異氰酸酯基。
上述濕氣硬化型樹脂較佳為具有包含乙烯性不飽和雙鍵之基及/或烷氧基矽基,更佳為於分子之末端具有包含乙烯性不飽和雙鍵之基及/或烷氧基矽基。
再者,上述濕氣硬化型樹脂即便具有自由基聚合性基亦不包括於上述自由基聚合性化合物中,係作為濕氣硬化型樹脂對待。又,上述濕氣硬化型樹脂即便具有烷氧基矽基亦不包括於上述偶合劑中,係作為濕氣硬化型樹脂對待。
上述濕氣硬化型胺酯樹脂可於1分子中僅具有1個異氰酸酯基,亦可具有2個以上。其中,較佳為於兩末端具有異氰酸酯基。
上述濕氣硬化型胺酯樹脂可藉由使1分子中具有2個以上之羥基之多
元醇化合物與1分子中具有2個以上之異氰酸酯基之多異氰酸酯化合物進行反應而獲得。
上述多元醇化合物與上述多異氰酸酯化合物之反應通常係於上述多元醇化合物中之羥基(OH)與上述多異氰酸酯化合物中之異氰酸酯基(NCO)之莫耳比成為[NCO]/[OH]=2.0~2.5之範圍進行。
作為上述多元醇化合物,可使用聚胺酯之製造中通常所使用之公知之多元醇化合物,例如可列舉:聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚伸烷基多元醇、聚碳酸酯多元醇等。該等多元醇化合物可單獨使用,亦可組合兩種以上而使用。
作為上述聚酯多元醇,例如可列舉藉由多元羧酸與多元醇之反應而獲得之聚酯多元醇、使ε-己內酯進行開環聚合而獲得之聚-ε-己內酯多元醇等。
作為成為上述聚酯多元醇之原料之上述多元羧酸,例如可列舉:對苯二甲酸、間苯二甲酸、1,5-萘二甲酸、2,6-萘二甲酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十亞甲基二羧酸、十二亞甲基二羧酸等。
作為成為上述聚酯多元醇之原料之上述多元醇,例如可列舉:乙二醇、丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、環己二醇等。
作為上述聚醚多元醇,例如可列舉:乙二醇、丙二醇、四氫呋喃之開環聚合物、3-甲基四氫呋喃之開環聚合物、及該等或其衍生物之無規共聚物或嵌段共聚物、雙酚型之聚氧伸烷基改質體等。
上述雙酚型之聚氧伸烷基改質體係使環氧烷(例如環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷、環氧異丁烷等)與雙酚型分子骨架之活性氫部分進行加成反應而獲得之聚醚多元醇,可為無規共聚物,亦可為嵌段共聚物。上述雙酚型之聚氧伸烷基改質體較佳為於雙酚型分子骨架之兩末端加成有1種或2種以上之環氧烷。作為雙酚型,並無特別限定,可列舉:A型、F型、S型等,較佳為雙酚A型。
作為上述聚伸烷基多元醇,例如可列舉:聚丁二烯多元醇、氫化聚丁二烯多元醇、氫化聚異戊二烯多元醇等。
作為上述聚碳酸酯多元醇,例如可列舉:聚六亞甲基碳酸酯多元醇、聚環己二亞甲基碳酸酯多元醇等。
其中,上述濕氣硬化型胺酯樹脂較佳為使用具有下述式(3)所表示之結構之多元醇化合物所獲得者。藉由使用具有下述式(3)所表示之結構之多元醇化合物,所獲得之濕氣硬化型胺酯樹脂成為與上述自由基聚合性化合物之相溶性優異者,可獲得接著性優異之組成物及柔軟且伸長率良好硬化物。
其中,較佳為使用有由丙二醇、四氫呋喃之開環聚合物、具有甲基等取代基之四氫呋喃之開環聚合物所構成之聚醚多元醇者。
式(3)中,R表示氫、甲基、或乙基,p為1~10之整數,q為0~5之整數,r為1~500之整數。p較佳為1~5,q較佳為0~4,r較
佳為50~200。
再者,所謂q為0之情形係指與R鍵結之碳直接與氧鍵結之情形。
作為上述多異氰酸酯化合物,例如可列舉:二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯(MDI)、MDI之液狀改質物、聚合MDI、甲苯二異氰酸酯、萘-1,5-二異氰酸酯等。其中,就蒸氣壓及毒性較低之方面、處理容易性之方面而言,較佳為二苯基甲烷二異氰酸酯及其改質物。上述多異氰酸酯化合物可單獨使用,亦可組合兩種以上而使用。
又,上述濕氣硬化型樹脂可具有自由基聚合性基。
作為上述濕氣硬化型樹脂可具有之自由基聚合性基,較佳為具有不飽和雙鍵之基,尤其就反應性之方面而言,更佳為(甲基)丙烯醯基。
再者,如上所述,具有自由基聚合性基之濕氣硬化型樹脂不包括於自由基聚合性化合物中,係作為濕氣硬化型樹脂對待。
上述濕氣硬化型樹脂之重量平均分子量之較佳之下限為800,較佳之上限為1萬。藉由使上述濕氣硬化型樹脂之重量平均分子量為該範圍,交聯密度不會變得過高,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為柔軟性及塗佈性更優異者。上述濕氣硬化型樹脂之重量平均分子量之更佳之下限為2000,更佳之上限為8000,進而較佳之下限為2500,進而較佳之上限為6000。
再者,於本說明書中,上述重量平均分子量係藉由凝膠滲透層析法(GPC)進行測定,並藉由聚苯乙烯換算而求出之值。作為藉由GPC而測定利用聚苯乙烯換算所得之重量平均分子量時之管柱,例如可列舉Shodex LF-804(昭和電工公司製造)等。又,作為GPC中所使用之溶劑,可列舉
四氫呋喃等。
關於上述濕氣硬化型樹脂之含量,於上述自由基聚合性化合物與上述濕氣硬化型樹脂之合計100重量份中,較佳之下限為20重量份,較佳之上限為90重量份。藉由使上述濕氣硬化型樹脂之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為濕氣硬化性及光硬化性更優異者。上述濕氣硬化型樹脂之含量之更佳下限為30重量份,更佳之上限為75重量份,進而較佳之下限為41重量份,進而較佳之上限為70重量份。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物含有光自由基聚合起始劑。
作為上述光自由基聚合起始劑,例如可列舉:二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物、醯基氧化膦系化合物、二茂鈦系化合物、肟酯系化合物、安息香醚系化合物、9-氧硫(thioxanthone)等。
作為上述光自由基聚合起始劑中之市售者,例如可列舉:IRGACURE 184、IRGACURE 369、IRGACURE 379、IRGACURE 651、IRGACURE 784、IRGACURE 819、IRGACURE 907、IRGACURE 2959、IRGACURE OXE01、Lucirin TPO(均為BASF公司製造)、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚(均為東京化成工業公司製造)等。
關於上述光自由基聚合起始劑之含量,相對於上述自由基聚合性化合物100重量份,較佳之下限為0.01重量份,較佳之上限為10重量份。藉由使上述光自由基聚合起始劑之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為保持優異之保存穩定性且光硬化性更優異者。上述光自由基聚合起始劑之含量之更佳下限為0.1重量份,更佳之上限為5重量份。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物就調整所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物之塗佈性及形狀保持性等觀點而言,亦可含有填充劑。
上述填充劑之一次粒徑之較佳之下限為1nm,較佳之上限為50nm。藉由使上述填充劑之一次粒徑為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為塗佈性及塗佈後之形狀保持性更優異者。該形狀保持性例如於窄邊緣設計中,就可保持塗佈寬度之方面而言技術意義較大。又,於微細之半導體晶片之接著中,就可保持不會自接著面溢出之狀態之方面而言技術意義較大。上述填充劑之一次粒徑之更佳下限為5nm,更佳之上限為30nm,進而較佳之下限為10nm,進而較佳之上限為20nm。再者,上述填充劑之一次粒徑可使用NICOMP 380ZLS(PARTICLE SIZING SYSTEMS公司製造)等粒度分佈測定裝置,使上述填充劑分散於溶劑(水、有機溶劑等)中而加以測定。
又,上述填充劑有於本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物中以二次粒子(多個一次粒子聚集而成者)存在之情形,此種二次粒子之粒徑之較佳之下限為5nm,較佳之上限為500nm,更佳之下限為10nm,更佳之上限為100nm。上述填充劑之二次粒子之粒徑可藉由使用穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物或其硬化物而測定。
作為上述填充劑,例如可列舉:二氧化矽、滑石、氧化鈦、氧化鋅等。其中,就所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為UV光透過性優異者之方面而言,較佳為二氧化矽。該等填充劑可單獨使用,亦可組合兩種以上而使用。
上述填充劑較佳為經疏水性表面處理。藉由上述疏水性表面
處理,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為塗佈後之形狀保持性更優異者。
作為上述疏水性表面處理,可列舉:矽基化處理、烷基化處理、環氧化處理等。其中,就提高形狀保持性之效果優異之方面而言,較佳為矽基化處理,更佳為三甲基矽基化處理。
作為對上述填充劑進行疏水性表面處理之方法,例如可列舉使用矽烷偶合劑等表面處理劑對填充劑之表面進行處理之方法等。
具體而言,例如,上述三甲基矽基化處理二氧化矽例如可藉由如下方法製作:藉由溶膠凝膠法等方法合成二氧化矽,於使二氧化矽流動之狀態下噴霧六甲基二矽氮烷之方法;向醇、甲苯等有機溶劑中添加二氧化矽,進而添加六甲基二矽氮烷與水,然後利用蒸發器使水與有機溶劑蒸發乾燥之方法。
關於上述填充劑之含量,於本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物整體100重量份中,較佳之下限為1重量份,較佳之上限為20重量份。藉由使上述填充劑之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為塗佈性及塗佈後之形狀保持性更優異者。上述填充劑之含量之更佳下限為2重量份,更佳之上限為15重量份,進而較佳之下限為3重量份,進而較佳之上限為10重量份,尤佳之下限為4重量份。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物亦可含有遮光劑。藉由含有上述遮光劑,本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物成為遮光性優異者,可防止顯示元件之漏光。
再者,於本說明書中,上述「遮光劑」係指具有不易使可見光區域之
光透過之能力之材料。
作為上述遮光劑,例如可列舉:氧化鐵、鈦黑、苯胺黑、花青黑(cyanine black)、富勒烯、碳黑、樹脂被覆型碳黑等。又,上述遮光劑可並非呈現黑色者,只要為具有不易使可見光區域之光透過之能力之材料即可,二氧化矽、滑石、氧化鈦等作為填充劑而列舉之材料亦包含於上述遮光劑中。其中,較佳為鈦黑。
上述鈦黑係與對波長300~800nm之光之平均透光率相比,對紫外線區域附近、尤其是波長370~450nm之光之透過率更高的物質。即,上述鈦黑係如下遮光劑:其藉由充分地遮蔽可見光區域之波長之光,而對本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物賦予遮光性,另一方面,具有使紫外線區域附近之波長之光透過之性質。因此,藉由使用可利用上述鈦黑之透過率變高之波長(370~450nm)之光而開始反應之光自由基聚合起始劑,可進一步增大本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之光硬化性。又,另一方面,作為本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物中所含之遮光劑,較佳為絕緣性較高之物質,作為絕緣性較高之遮光劑,鈦黑亦較佳。
上述鈦黑之光學密度(OD值)較佳為3以上,更佳為4以上。又,上述鈦黑之黑色度(L值)較佳為9以上,更佳為11以上。上述鈦黑之遮光性越高則越佳,上述鈦黑之OD值並無較佳之上限,通常成為5以下。
上述鈦黑雖然即便為未經表面處理者亦發揮出充分之效果,但亦可使用表面經矽烷偶合劑等有機成分處理者、經氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鋯、氧化鎂等無機成分被覆者等經表面處理之鈦黑。其中,經有機成分處理者於可進一步提高絕緣性之方面較佳。
又,使用本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物製造之顯示元件由於光濕氣硬化型樹脂組成物具有充分之遮光性,故而成為無光之漏出而具有較高之對比度,具有優異之圖像顯示品質者。
上述鈦黑之比表面積之較佳之下限為5m2/g,較佳之上限為40m2/g,更佳之下限為10m2/g,更佳之上限為25m2/g。
又,關於上述鈦黑之薄片電阻之較佳之下限,於與樹脂混合之情形時(摻合70%)為109Ω/□,更佳之下限為1011Ω/□。
作為上述鈦黑中之市售者,例如可列舉:12S、13M、13M-C、13R-N(均為Mitsubishi Materials公司製造)、Tilack D(赤穗化成公司製造)等。
於本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物中,上述遮光劑之一次粒徑係根據用途而適當加以選擇,例如為顯示元件之基板間之距離以下等,較佳之下限為30nm,較佳之上限為500nm。藉由使上述遮光劑之一次粒徑為該範圍,黏度及搖變性不會大幅增大,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成為向基板之塗佈性及作業性更優異者。上述遮光劑之一次粒徑之更佳之下限為50nm,更佳之上限為200nm。
再者,上述遮光劑之粒徑可使用NICOMP 380ZLS(PARTICLE SIZING SYSTEMS公司製造),使上述遮光劑分散於溶劑(水、有機溶劑等)中而進行測定。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物整體中之上述遮光劑之含量並無特別限定,較佳之下限為0.05重量%,較佳之上限為10重量%。藉由使上述遮光劑之含量為該範圍,所獲得之光濕氣硬化型樹脂組成物成
為繪圖性、對基板等之接著性、硬化後之強度、及遮光性更優異者。上述遮光劑之含量之更佳之下限為0.1重量%,更佳之上限為2重量%,進而較佳之上限為1重量%。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物亦可進而視需要含有著色劑、離子液體、溶劑、含金屬之粒子、反應性稀釋劑等添加劑。
作為製造本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之方法,例如可列舉使用勻相分散機、均質攪拌機、萬能攪拌機、行星式攪拌機、捏合機、三輥研磨機等混合機,將自由基聚合性化合物、濕氣硬化型樹脂、光自由基聚合起始劑、偶合劑、及視需要添加之添加劑混合之方法等。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之使用錐板型黏度計於25℃、1rpm之條件下測定之黏度之較佳之下限為50Pa.s,較佳之上限為500Pa.s。藉由使上述黏度為該範圍,於將光濕氣硬化型樹脂組成物用於電子零件用接著劑或顯示元件用接著劑中之情形時,塗佈於基板等被接著體時之作業性成為更優異者。上述黏度之更佳之下限為80Pa.s,更佳之上限為300Pa.s,進而較佳之上限為200Pa.s。
再者,於本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之黏度過高之情形時,藉由在塗佈時進行加熱,可提高塗佈性。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之搖變指數之較佳之下限為1.3,較佳之上限為5.0。藉由使上述搖變指數為該範圍,所獲得之濕氣硬化型樹脂組成物成為塗佈性及塗佈後之形狀保持性更優異者。上述搖變指數之更佳之下限為1.5,更佳之上限為4.0。
再者,於本說明書中,所謂上述搖變指數係指將使用錐板型黏度計於
25℃、1rpm之條件下測得之黏度除以使用錐板型黏度計於25℃、10rpm之條件下測得之黏度所得之值。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之硬化物於25℃下之拉伸彈性模數之較佳之下限為0.5kgf/cm2,較佳之上限為6kgf/cm2。藉由使上述拉伸彈性模數為該範圍,維持優異之接著力,並且硬化物成為柔軟性更優異者。上述拉伸彈性模數之更佳之下限為1kgf/cm2,更佳之上限為5kgf/cm2。
再者,於本說明書中,上述「拉伸彈性模數」係指使用拉伸試驗機(例如島津製作所公司製造、「EZ-Graph」),以10mm/min之速度拉伸硬化物,成為伸長50%時之力而被測出之值。
作為可使用本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物接著之被接著體,可列舉:金屬、玻璃、塑膠等各種被接著體。
作為上述被接著體之形狀,例如可列舉:膜狀、片狀、板狀、平板狀、盤狀、桿(棒狀體)狀、箱體狀、殼體狀等。
作為上述金屬,例如可列舉:鋼鐵、不鏽鋼、鋁、銅、鎳、鉻或其合金等。
作為上述玻璃,例如可列舉:鹼玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃等。
作為上述塑膠,例如可列舉:高密度聚乙烯、超高分子量聚乙烯、同排聚丙烯、間規聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物樹脂等聚烯烴系樹脂,尼龍6(N6)、尼龍66(N66)、尼龍46(N46)、尼龍11(N11)、尼龍12(N12)、尼龍610(N610)、尼龍612(N612)、尼龍6/66共聚物(N6/66)、尼龍6/66/610共聚物(N6/66/610)、尼龍MXD6(MXD6)、尼龍6T、尼龍6
/6T共聚物、尼龍66/PP共聚物、尼龍66/PPS共聚物等聚醯胺系樹脂,聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚間苯二甲酸乙二酯(PEI)、PET/PEI共聚物、聚芳酯(PAR)、聚萘二甲酸丁二酯(PBN)、液晶聚酯、聚氧伸烷基二醯亞胺二酸/聚對苯二甲酸丁二酯共聚物等芳香族聚酯系樹脂,聚丙烯腈(PAN)、聚甲基丙烯腈、丙烯腈/苯乙烯共聚物(AS)、甲基丙烯腈/苯乙烯共聚物、甲基丙烯腈/苯乙烯/丁二烯共聚物等聚腈系樹脂、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸乙酯等聚甲基丙烯酸酯系樹脂,乙烯/乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚乙烯醇(PVA)、乙烯醇/乙烯共聚物(EVOH)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚氯乙烯(PVC)、氯乙烯/偏二氯乙烯共聚物、偏二氯乙烯/丙烯酸甲酯共聚物等聚乙烯系樹脂等。
又,作為上述被接著體,亦可列舉表面具有金屬鍍覆層之複合材料,作為該複合材料之鍍層之基底材,例如可列舉上述金屬、玻璃、塑膠等。
進而,作為上述被接著體,亦可列舉藉由對金屬表面進行鈍化處理而形成有鈍態皮膜之材料,作為該鈍化處理,例如可列舉加熱處理、陽極氧化處理等。尤其於國際鋁合金名為6000系列之材質之鋁合金等情形時,藉由進行硫酸耐酸鋁處理或磷酸耐酸鋁處理作為上述鈍化處理,可提高接著性。
作為使用本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物將被接著體接著之方法,例如可列舉包括如下步驟之方法等:於第1構件塗佈本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物之步驟;向塗佈於上述第1構件之本發明之光濕
氣硬化型樹脂組成物照射光,使本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物中之自由基聚合性化合物硬化之步驟(第1硬化步驟);經由上述第1硬化步驟後之光濕氣硬化型樹脂組成物將上述第1構件與第2構件貼合之步驟(貼合步驟);於上述貼合步驟後,藉由本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物中之濕氣硬化型樹脂之濕氣硬化而將上述第1構件與上述第2構件接著之步驟(第2硬化步驟);較佳為於上述貼合步驟後包括照射光之步驟。藉由於上述貼合步驟後包括照射光之步驟,可提高剛與被接著體接著後之接著性(初始接著性)。於上述第1構件及/或上述第2構件為使光透過之材質之情形時,較佳為隔著使光透過之上述第1構件及/或上述第2構件照射光,於上述第1構件及/或上述第2構件為不易使光透過之材質之情形時,較佳為向上述第1構件與上述第2構件經由上述光濕氣硬化型樹脂組成物接著而成之結構體之側面、即露出光濕氣硬化型樹脂組成物之部分照射光。
本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物可尤其適宜地用作電子零件用接著劑或顯示元件用接著劑。又,使用本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑、及使用本發明之光濕氣硬化型樹脂組成物而成之顯示元件用接著劑亦分別為本發明之一。
根據本發明,可提供一種耐濕熱性優異之光濕氣硬化型樹脂組成物。又,根據本發明,可提供一種使用該光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑。
1‧‧‧玻璃基板
2‧‧‧光濕氣硬化型樹脂組成物
3‧‧‧鋁基板
圖1(a)係表示自上方觀察接著性評價用樣品之情形之模式圖,(b)係表示自橫向觀察接著性評價用樣品之情形之模式圖。
以下揭示實施例更詳細地說明本發明,但本發明並不僅限定於該等實施例。
(合成例1(濕氣硬化型胺酯樹脂A之製作))
將作為多元醇化合物之100重量份之聚四亞甲基醚二醇(三菱化學公司製造、「PTMG-2000」)與0.01重量份之二月桂酸二丁基錫添加至500mL容積之可分離式燒瓶中,於真空下(20mmHg以下)、100℃下攪拌30分鐘而進行混合。其後設為常壓,添加作為多異氰酸酯化合物之二苯基甲烷二異氰酸酯(日曹商事公司製造、「Pure MDI」)26.5重量份,並於80℃攪拌3小時使之反應,而獲得濕氣硬化型胺酯樹脂A(重量平均分子量2700)。
(合成例2(濕氣硬化型胺酯樹脂B之製作))
將作為多元醇化合物之100重量份之聚丙二醇(Asahi Glass公司製造、「EXCENOL 2020」)與0.01重量份之二月桂酸二丁基錫添加至500mL容積之可分離式燒瓶中,於真空下(20mmHg以下)、100℃下攪拌30分鐘而進行混合。其後設為常壓,添加作為多異氰酸酯化合物之二苯基甲烷二異氰酸酯(日曹商事公司製造、「Pure MDI」)26.5重量份,並於80℃攪拌3小時使之反應,而獲得濕氣硬化型胺酯樹脂B(重量平均分子量2900)。
(合成例3(濕氣硬化型胺酯樹脂C之製作))
向添加有以與合成例1同樣之方式獲得之濕氣硬化型胺酯樹脂A之反
應容器中,添加甲基丙烯酸羥基乙酯1.3重量份與作為聚合抑制劑之N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽(和光純藥工業公司製造、「Q-1301」)0.14重量份,於氮氣氣流下、80℃下攪拌混合1小時,而獲得分子末端具有異氰酸酯基與甲基丙烯醯基之濕氣硬化型胺酯樹脂C(重量平均分子量2900)。
(實施例1~10、比較例1、2)
依據表1中所記載之摻合比,利用行星式攪拌裝置(Thinky公司製造、「脫泡練太郎」)對各材料進行攪拌後,利用陶瓷三輥研磨機均勻地混合而獲得實施例1~10、比較例1、2之光濕氣硬化型樹脂組成物。再者,表中之「X-12-1056ES」為下述式(4)所表示之化合物,「KBM-9007A」為下述式(5)所表示之化合物,「X-12-967C」為下述式(6)所表示之化合物,「NXT SILANE-J」為下述式(7)所表示之化合物,「KBE-9007」為下述式(8)所表示之化合物。
<評價>
對實施例及比較例中所獲得之各光濕氣硬化型樹脂組成物進行以下之評價。將結果示於表1。
(保存穩定性)
測定實施例及比較例中所獲得之各光濕氣硬化型樹脂組成物之剛製造後之初始黏度與於25℃下保管1週時之黏度,求出由(25℃、保管1週後之黏度)/(初始黏度)所表示之值作為黏度變化率。將黏度變化率未達1.2之情形評價為「◎」,將1.2以上且未達1.5之情形評價為「○」,將1.5以上且未達2.0之情形評價為「△」,將2.0以上之情形評價為「×」而對保存穩定性進行評價。
再者,黏度係使用錐板型黏度計(東機產業公司製造、「VISCOMETER TV-22」),25℃下於旋轉速度1rpm之條件進行測定。
(接著性)
使用分注裝置,將實施例及比較例中所獲得之各光濕氣硬化型樹脂組成物以約2mm之寬度塗佈於鋁基板。其後,藉由使用UV-LED(波長365nm)照射紫外線1000mJ/cm2,而使光濕氣硬化型樹脂組成物進行光硬化。其後,藉由將玻璃基板貼合於鋁基板,載置20g之重物並放置一晚而使之濕氣硬化,獲得接著性評價用樣品。圖1中示出表示自上方觀察接著性評價用樣品之情形之模式圖(圖1(a)),及自橫向觀察接著性評價用樣品之情形之模式圖(圖1(b))。
使用拉伸試驗機(島津製作所公司製造、「Ez-Grapf」),將所製作之接著性評價用樣品沿剪切方向以5mm/sec之速度拉伸,並測定鋁基板與玻璃基板剝離時之強度。
(耐濕熱性)
以與上述「(接著性)」之評價中之接著性評價用樣品同樣之方式製作耐濕熱性評價用樣品。於相對於地面垂直地懸掛所獲得之耐濕熱性評價用樣品,並在鋁基板端懸吊有300g之重物之狀態下放入60℃ 90%RH之烘箱中,靜置72小時。將靜置72小時後鋁基板與玻璃基板未剝離之情形評價為「◎」,將靜置後24小時以上且未達72小時內鋁基板與玻璃基板剝離之情形評價為「○」,將靜置後12小時以上且未達24小時內鋁基板與玻璃基板剝離之情形評價為「△」,將靜置後未達12小時內鋁基板與玻璃基板剝離之情形評價為「×」,而對耐濕熱性進行評價。
根據本發明,可提供一種耐濕熱性優異之光濕氣硬化型樹脂組成物。又,根據本發明,可提供一種使用該光濕氣硬化型樹脂組成物而成之電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑。
1‧‧‧玻璃基板
2‧‧‧光濕氣硬化型樹脂組成物
3‧‧‧鋁基板
Claims (6)
- 一種光濕氣硬化型樹脂組成物,其含有自由基聚合性化合物、濕氣硬化型樹脂、光自由基聚合起始劑、及偶合劑,上述偶合劑含有選自由下述式(1-1)所表示之化合物、下述式(1-2)所表示之化合物、及下述式(1-3)所表示之化合物所組成之群中至少1種,
- 如申請專利範圍第1項之光濕氣硬化型樹脂組成物,其中,偶合劑之含量相對於自由基聚合性化合物與濕氣硬化型樹脂之合計100重量份為0.05~5重量份。
- 如申請專利範圍第1或2項之光濕氣硬化型樹脂組成物,其含有一次粒徑為1~50nm之填充劑。
- 如申請專利範圍第1、2或3項之光濕氣硬化型樹脂組成物,其含有遮光劑。
- 一種電子零件用接著劑,係使用申請專利範圍第1、2、3或4項之光濕氣硬化型樹脂組成物而成者。
- 一種顯示元件用接著劑,係使用申請專利範圍第1、2、3或4項之光濕氣硬化型樹脂組成物而成者。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015235796 | 2015-12-02 | ||
JPJP2015-235796 | 2015-12-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201734161A true TW201734161A (zh) | 2017-10-01 |
TWI712665B TWI712665B (zh) | 2020-12-11 |
Family
ID=58796997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW105139786A TWI712665B (zh) | 2015-12-02 | 2016-12-02 | 光濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6921535B2 (zh) |
KR (1) | KR102653979B1 (zh) |
CN (1) | CN107709369B (zh) |
TW (1) | TWI712665B (zh) |
WO (1) | WO2017094831A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2019203277A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2021-03-18 | 積水化学工業株式会社 | 硬化性樹脂組成物、硬化体、電子部品及び組立部品 |
WO2020166414A1 (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-20 | 日立化成株式会社 | 反応性ホットメルト接着剤組成物、並びに接着体及びその製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000178342A (ja) | 1998-12-17 | 2000-06-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 絶縁ペースト |
JP3825368B2 (ja) * | 2002-05-16 | 2006-09-27 | アトミクス株式会社 | 湿気硬化型塗料組成物 |
JP4196160B2 (ja) * | 2002-07-31 | 2008-12-17 | 株式会社スリーボンド | アルミニウム合金用接着剤組成物 |
US7189781B2 (en) * | 2003-03-13 | 2007-03-13 | H.B. Fuller Licensing & Finance Inc. | Moisture curable, radiation curable sealant composition |
JP2006265349A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Lintec Corp | 感圧接着剤組成物及び光学部材 |
JP5013585B2 (ja) | 2006-09-06 | 2012-08-29 | 日立化成ポリマー株式会社 | 反応性ホットメルト接着剤組成物及びそれを用いた接着方法 |
JP5228370B2 (ja) | 2007-04-27 | 2013-07-03 | 東亞合成株式会社 | 一液湿気硬化型ウレタン系ホットメルト接着剤組成物及びその使用方法 |
JP5264105B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2013-08-14 | コニシ株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
JP2010053334A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-03-11 | Sekisui Chem Co Ltd | エポキシ系樹脂組成物、プリプレグ、硬化体、シート状成形体、積層板及び多層積層板 |
JP2012078390A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波反射フィルム |
JP5775726B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2015-09-09 | 株式会社ブリヂストン | ゴム組成物及びそれを用いたタイヤ |
WO2013016133A2 (en) * | 2011-07-22 | 2013-01-31 | H.B. Fuller Company | A one-component, dual-cure adhesive for use on electronics |
SG11201606984PA (en) * | 2014-03-28 | 2016-09-29 | Lintec Corp | Protective film-forming film and method of manufacturing semiconductor chip with protective film |
CN105814094B (zh) * | 2014-05-13 | 2019-01-18 | 积水化学工业株式会社 | 光湿固化型树脂组合物、电子部件用粘接剂及显示元件用粘接剂 |
JP6039080B2 (ja) * | 2014-05-30 | 2016-12-07 | 積水化学工業株式会社 | 狭額縁設計表示素子用接着剤 |
-
2016
- 2016-12-01 JP JP2016574029A patent/JP6921535B2/ja active Active
- 2016-12-01 WO PCT/JP2016/085708 patent/WO2017094831A1/ja active Application Filing
- 2016-12-01 KR KR1020177034627A patent/KR102653979B1/ko active IP Right Grant
- 2016-12-01 CN CN201680033391.4A patent/CN107709369B/zh active Active
- 2016-12-02 TW TW105139786A patent/TWI712665B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107709369B (zh) | 2021-04-23 |
KR102653979B1 (ko) | 2024-04-02 |
TWI712665B (zh) | 2020-12-11 |
WO2017094831A1 (ja) | 2017-06-08 |
CN107709369A (zh) | 2018-02-16 |
JPWO2017094831A1 (ja) | 2018-09-20 |
KR20180089280A (ko) | 2018-08-08 |
JP6921535B2 (ja) | 2021-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6427089B2 (ja) | 光湿気硬化型樹脂組成物、電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤 | |
TWI670326B (zh) | 光與濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑、及顯示元件用接著劑 | |
JP6654983B2 (ja) | 狭額縁設計用光湿気硬化型樹脂組成物、電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤 | |
TWI687444B (zh) | 硬化體、電子零件及顯示元件 | |
JP6698524B2 (ja) | 硬化体、電子部品、表示素子、及び、光湿気硬化型樹脂組成物 | |
JP6641255B2 (ja) | 電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤 | |
TW201546226A (zh) | 光與濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑、及顯示元件用接著劑 | |
JP2016089174A (ja) | 光湿気硬化型樹脂組成物、電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤 | |
JP6798791B2 (ja) | 電子部品用接着剤、及び、表示素子用接着剤 | |
TW201533080A (zh) | 光與濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑、及顯示元件用接著劑 | |
JP6510788B2 (ja) | 光湿気硬化型樹脂組成物 | |
TWI712665B (zh) | 光濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑 | |
TWI682982B (zh) | 光與濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑、及顯示元件用接著劑 | |
TW202031850A (zh) | 光與濕氣硬化性胺酯系化合物、光與濕氣硬化性胺酯預聚物、及光與濕氣硬化性樹脂組成物 | |
JPWO2019054463A1 (ja) | 光湿気硬化型樹脂組成物、電子部品用接着剤及び表示素子用接着剤 | |
JP2019065309A (ja) | 光湿気硬化型樹脂組成物硬化体 | |
JP6510789B2 (ja) | 湿気硬化型樹脂組成物 | |
JP7486414B2 (ja) | 光湿気硬化性ウレタン系化合物、光湿気硬化性ウレタンプレポリマー、及び光湿気硬化性樹脂組成物 | |
TW202309214A (zh) | 光與濕氣硬化型接著劑組成物、及硬化體 | |
TW202309235A (zh) | 濕氣硬化型接著劑組成物、及硬化體 |