TW201732427A - 光阻組成物 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種光阻組成物，其包含：具有由式(I)表示之結構單元之樹脂：□其中R1表示氫原子、鹵原子、或視需要具有鹵原子的C1至C6烷基，以及R2表示視需要具有取代基的C1至C42烴基；鹼溶性樹脂；酸產生劑；及溶劑。

Description

光阻組成物
本發明係關於光阻組成物及光阻圖案之製造方法。
電極係具有4至150微米高度的凸塊，其係在安裝接腳之製程中通過用於半導體晶片之薄膜形成於基板。
關於用於製造凸塊的光阻組成物，US2009/068342A1揭示一種包含樹脂的光阻組成物，該樹脂包含衍生自丙烯酸2-乙氧基乙酯的結構單元。
本發明提供下述發明。
[1]一種光阻組成物，其包含：具有由式(I)表示之結構單元的樹脂：
其中R1表示氫原子、鹵原子、或視需要具有鹵原子的C1至C6烷基，及R2表示視需要具有取代基的C1至C42烴基；鹼溶性樹脂；酸產生劑；以及溶劑。
[2]如[1]之光阻組成物，其中R2表示C1至C20直鏈脂肪族烴基或C3至C20分支脂肪族烴基。
[3]如[1]或[2]之光阻組成物，其中，該具有由式(I)表示之結構單元的樹脂進一步具有選自於由式(a2-1)表示之結構單元、由式(a2-2)表示之結構單元、及由式(a2-3)表示之結構單元、以及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組中之結構單元：
其中Ra7、Ra8及Ra9各自獨立地表示氫原子或甲基，Ra10各自獨立地表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，Ra11表示氫原子，或C1至C20第一或第二烴基，Ra12各自獨立地表示C1至C6第一或第二烷基，La1各自獨立地表示C2至C6烷二基，其中鍵結至氧原子的碳原子為第一或第二碳原子，m'表示0至4之整數，以及 n表示1至30之整數。
[4]如[3]之光阻組成物，其中，該具有由式(I)表示之結構單元的樹脂進一步具有選自於由式(a2-3)表示之結構單元及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組中之一結構單元。
[5]如[1]至[4]中任一者之光阻組成物，其中該溶劑之重量佔該光阻組成物總重的40至75重量%。
[6]如[1]至[5]中任一者之光阻組成物，其進一步包含具有由式(a1-2)表示之結構單元的樹脂：
其中Ra1’及Ra2’各自獨立地表示氫原子或C1至C12烴基，Ra3’表示C1至C20烴基，或Ra3’鍵結至Ra1’或Ra2’而形成C2至C20二價雜環族基，其中亞甲基可由氧原子或硫原子取代，Ra5表示氫原子或甲基，Ra6各自獨立地表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，及m表示0至4之整數。
[7]一種光阻圖案之製造方法，其包含：(1)將[1]至[6]中任一者之光阻組成物施加至基板的步 驟，(2)藉由乾燥該光阻組成物而形成光阻組成物膜的步驟，(3)將該光阻組成物膜曝光的步驟，以及(4)將該已曝光之光阻組成物膜顯影的步驟。
本發明之光阻組成物具有高解析度。
本文揭示之光阻組成物包含具有由式(I)表示之結構單元的樹脂：
其中R1表示氫原子、鹵原子、或視需要具有鹵原子的C1至C6烷基，及R2表示視需要具有取代基的C1至C42烴基；鹼溶性樹脂；酸產生劑；及溶劑。
該具有由式(I)表示之結構單元的樹脂亦稱作「樹脂(A1)」。鹼溶性樹脂亦稱作「樹脂(A2)」。除了前述樹脂之外，光阻組成物可進一步含有其它樹脂、淬滅劑、 黏著性改良劑、界面活性劑等。
<樹脂(A1)>
樹脂(A1)具有由式(I)表示之結構單元。由式(I)表示之結構單元為具有酸不穩定基之結構單元之一，該結構單元亦稱作「結構單元(a1)」。於本文中，「酸不穩定基」表示能夠藉由酸的作用去除而形成例如羥基或羧基之親水基，其乃能夠藉由酸的作用而提高於鹼性水溶液中之溶解度的基。
酸不穩定基的典型實例包括後述之分別由式(a1-1)及(a1-2)表示的結構單元中之由-C(=O)-O-C(Ra1)(Ra2)(Ra3)表示之基及由-O-C(Ra1')(Ra2')-O-(Ra3')表示之基。
樹脂(A1)具有由式(I)表示之結構單元作為結構單元(a1)，故該樹脂藉由酸的作用而提高於鹼性水溶液中之溶解度。
「藉由酸的作用而提高於鹼性水溶液中之溶解度」表示藉由接觸酸而提高於鹼性水溶液中之溶解度。
較佳為樹脂(A1)在接觸酸之前為不溶或難溶於鹼性水溶液，但在接觸酸之後變成可溶於鹼性水溶液。樹脂(A1)可進一步具有已知之結構單元，例如式(I)表示之結構單元以外的其它結構單元(a1)、亦稱作「結構單元(a2)」之不含酸不穩定基之結構單元、或兩者。
R1表示之鹵原子之實例包括氟原子、氯原子、溴原子、及碘原子。
R1表示之烷基之實例包括甲基、乙基、正丙 基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、及正己基。
關於R1，具有鹵原子的烷基之實例包括三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟(異丙基)、全氟丁基、全氟(第二丁基)、全氟(第三丁基)、全氟戊基、全氟己基、全氯甲基、全溴甲基、及全碘甲基。
R1較佳地表示氫原子或甲基。
針對R2，烴基之實例包括C1至C20脂肪族烴基、C6至C42芳香族烴基、及脂肪族烴基與芳香族烴基的任何組合。
針對R2之脂肪族烴基包括鏈狀脂肪族烴基、環狀脂肪族烴基、及此等脂肪族烴基之任何組合。脂肪族烴基可具有碳-碳雙鍵，其較佳為飽和脂肪族烴基。
鏈狀脂肪族烴基之實例包括C1至C20直鏈脂肪族烴基例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、及正癸基；及C3至C20分支脂肪族烴基例如1-甲基乙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、及4-甲基戊基。
針對R2之脂肪族烴基之典型實例包括C1至C20直鏈脂肪族烴基及C3至C20分支脂肪族烴基。
針對R2之脂肪族烴基較佳為直鏈脂肪族烴基，更佳為C1至C15直鏈烷基，又更佳為C1至C10直鏈 烷基。
環狀脂肪族烴基亦稱作「脂環族烴基」，可為單環系或多環系。
脂環族烴基較佳為含3至20個碳原子，更佳為含3至12個碳原子。
單環系脂環族烴基之實例包括其中氫原子已被從由式(KA-1)至(KA-7)表示之環烷中之任一者移除者。
多環系脂環族烴基之實例包括其中氫原子已被從由式(KA-8)至(KA-19)表示之環烷中之任一者移除者。
芳香族烴基之實例包括C6至C42芳香族烴基，例如苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基、芴基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、三甲苯基、2,6-二乙基苯基、及2-甲基-6-乙基苯基。芳香族烴基較佳為C6至C30芳香族烴基，更佳為C6至C20芳香族烴基，又更佳為C6至C12芳香族烴基。
由R2表示之烴基的取代基之實例包括鹵原 子、羥基、烷氧基、醯基、醯基氧基、芳基、芳烷基、及芳基氧基。
烷氧基之實例包括C1至C12烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第三丁氧基、第二丁氧基、正戊氧基、正己氧基、正庚氧基、正辛氧基、正癸氧基、及正十二烷基氧基。
醯基之實例包括C2至C12醯基，例如乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯基、己基甲醯基、庚基甲醯基、辛基甲醯基、癸基甲醯基、十二烷基甲醯基、及苯甲醯基。
醯基氧基之實例包括C2至C14醯基氧基，例如乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基、及異丁醯基氧基。
芳烷基之實例包括C7至C12芳烷基，例如苯甲基、苯乙基、苯基丙基、萘基甲基、及萘基乙基。
芳基氧基之實例包括C6至C14芳基氧基，例如苯基氧基、萘基氧基、蒽基氧基、聯苯基氧基、菲基氧基、及芴基氧基。
R2之典型實例包括C1至C20直鏈脂肪族烴基及C3至C20分支脂肪族烴基。
R2較佳為C1至C15脂肪族烴基，及更佳為C1至C15烷基或C3至C15脂環族烴基。
由式(I)表示之結構單元之實例包括下列各者。
由式(I)表示之結構單元衍生自其中的該單體可以JP-H3-192173A1中陳述的該方法之方式生產。
由式(I)表示之結構單元佔樹脂(A1)之總結構單元，通常為5至80莫耳%，較佳為10至70莫耳%，更佳為15至60莫耳%。
樹脂(A1)可進一步具有式(I)表示之結構單元以外的其它結構單元(a1)。其它結構單元(a1)之較佳實例包括由式(a1-1)及(a1-2)表示之結構單元：
由式(a1-1)及(a1-2)表示之結構單元亦分別稱作「結構單元(a1-1)」及「結構單元(a1-2)」。
各式中，Ra1、Ra2及Ra3各自獨立地表示C1-C8烷基或C3至C20脂環族烴基，Ra1、Ra2及Ra3中之二者可一起表示一個C2至C20二價烴基其中亞甲基可由氧原子或硫原子取代，Ra1’及Ra2’各自獨立地表示氫原子或C1至C12烴基，Ra3’表示氫原子或C1至C20烴基，及Ra1’及Ra2’與Ra3’可一起表示一個C2至C20二價雜環族基其中亞甲基可由氧原子或硫原子取代，Ra4及Ra5各自獨立地表示氫原子或甲基，Ra6表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，以及m表示0至4之整數。
由Ra1、Ra2及Ra3表示的烷基之實例包括甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、及正己基。
由Ra1、Ra2及Ra3表示的脂環族烴基之實例包括單環系脂環族烴基例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基；及多環系脂環族烴基例如十氫萘基、金剛烷基、及降冰片基。
由Ra1’或Ra2’表示的烴基之實例包括C1至C12脂肪族烴基、C6至C12芳香族烴基、及其任何組合。
脂肪族烴基包括鏈狀脂肪族烴基、環狀脂肪族烴基、及此等脂肪族烴基之任何組合。脂肪族烴基可具 有碳-碳雙鍵，其較佳為飽和脂肪族烴基。
鏈狀脂肪族烴基之實例包括直鏈或分支脂肪族烴基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、及正己基。
脂環族烴基之實例包括單環系脂環族烴基例如環丙基、環丁基、環戊基、及環己基；及多環系脂環族烴基例如十氫萘基、金剛烷基、及降冰片基。
芳香族烴基之實例包括苯基、萘基及甲苯基。
前述烴基之任何組合的實例包括例如苄基之芳烷基。
Ra3’表示之烴基的實例包括C1至C20脂肪族烴基、C6至C20芳香族烴基、及其任何組合。
Ra3’表示之脂肪族烴基的實例包括參照與由R2表示之脂肪族烴基的相同者。
Ra3’表示之芳香族烴基的實例包括苯基、萘基、及菲基。
Ra4較佳為甲基。
Ra1’及Ra2’中之一者較佳為氫原子。
Ra1’及Ra2’中之另一者較佳為C1至C12烴基，更佳為C1至C12烷基，及又更佳為甲基及乙基。
針對Ra3’的烴基包括較佳為C1至C18烷基、C3至C18脂環族烴基、C6至C18芳香族烴基、及其任何組合；更佳為，C1至C12烷基、C3至C12脂環族烴基、及C7至C18芳烷基。
Ra5較佳為氫原子。
Ra6較佳為C1至C4烷氧基，更佳為甲氧基及乙氧基，及又更佳為甲氧基。
m較佳為0至1，及更佳為0。
由式(a1-1)表示之結構單元的實例包括由式(a1-1-1)至(a1-1-17)表示者。
由式(a1-2)表示之結構單元的實例包括由式(a1-2-1)至(a1-2-14)表示者。
由式(a1-2)表示之結構單元的實例也包括由式(a1-2-1)至(a1-2-14)中之任一者表示者，其中由Ra4及Ra5表示的氫原子經甲基取代。
由式(a1-2)表示之結構單元的實例也包括由式(a1-2-2)、(a1-2-3)、(a1-2-4)、(a1-2-9)及(a1-2-14)中之任一者表示者，更佳為由式(a1-2-2)、(a1-2-3)、(a1-2-4)、及(a1-2-9)中之任一者表示者。
樹脂(A1)較佳為包含由式(a1-2)表示之結構單元。
當樹脂(A1)包含由式(a1-1)及/或式(a1-2)表示之結構單元時，以該樹脂的全部結構單元的總莫耳數為基準，此等結構單元之總含量通常為1至60莫耳%，較佳為3至50莫耳%，更佳為5至40莫耳%。
<不含酸不穩定基之結構單元>
樹脂(A1)可進一步具有不含酸不穩定基之結構單元(該結構單元亦稱作「結構單元(a2)」)。樹脂(A1)可進一步具有結構單元(a2)中之二種以上。
結構單元(a2)之實例包括由式(a2-1)、(a2-2)、及(a2-3)表示者：
其中Ra7、Ra8及Ra9各自獨立地表示氫原子或甲基，Ra10表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，m'表示0至4之整數，Ra11表示氫原子，或C1至C20第一或第二烴基，Ra12表示C1至C6第一或第二烷基，La1各自獨立地表示C2至C6烷二基，其中在第一位置或第二位置的碳原子鍵結至氧原子，以及n表示1至30之整數。
Ra10或Ra12表示之烷基的實例包括甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、及正己基。
Ra10表示之烷氧基的實例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、正戊氧基、及正己氧基。
Ra11表示之烴基的實例包括C1至C20脂肪族烴基、C6至C20芳香族烴基、及此等烴基之任何組合。
脂肪族烴基可以是鏈狀脂肪族烴基或環狀脂肪族烴基。
鏈狀脂肪族烴基之實例包括C1至C20直鏈脂肪族烴基例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、及正癸基；及C3至C20分支脂肪族烴基例如1-甲基乙基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、及4-甲基戊基。
環狀脂肪族烴基可以是單環系或多環系。
單環系脂肪族烴基之實例包括環烷基，例如環戊基、環己基、環庚基、及環辛基。
多環系脂肪族烴基之實例包括多環系脂環族烴基，例如十氫萘基、金剛烷基、降冰片基、及下列各者：
芳香族烴基之實例包括苯基及萘基。
鏈狀脂肪族烴基與芳香族烴基之組合的實例包括例如苄基之芳烷基。
烷二基之實例包括直鏈烷二基或分支烷二基，例如伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基、丙烷-1,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、戊烷-1,4-二基、及2-甲基丁烷-1,4-二基。
Ra7較佳為表示氫原子。
，Ra8及Ra9各自較佳為獨立地表示甲基。
Ra10較佳為表示C1-C4烷氧基，更佳為表示甲氧基或乙氧基，及又更佳為表示甲氧基。
m'較佳為表示0或1之整數，更佳為表示0之整數。
Ra11較佳為表示C1至C6第一或第二烴基。
La1較佳為表示C2至C4烷二基例如乙烷-1,2-二基、丙烷-1,3-二基、及丁烷-1,2-二基，更佳為表示乙烷-1,2-二基。
n較佳為表示1至10之整數，更佳為表示2至10之整數。
Ra12較佳為表示C1至C3第一或第二烷基。
由式(a2-1)表示之結構單元的實例包括由式(a2-1-1)、(a2-1-2)、(a2-1-3)、及(a2-1-4)表示者。
衍生自由式(a2-1)表示之結構單元的單體係記載於JP2010-204634A1。
衍生自由式(a2-2)表示之結構單元的單體之實例包括丙烯酸酯；甲基丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸烷基酯，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯；(甲基)丙烯酸環烷基酯，例如(甲基)丙烯酸環戊酯及(甲基)丙烯酸環己酯；(甲基)丙烯酸多環酯，例如(甲基)丙烯酸金剛烷酯；(甲基)丙烯酸芳基酯，例如(甲基)丙烯酸苯酯；及(甲基)丙烯酸酯芳烷基，例如(甲基)丙烯酸苄酯。
本文中，「(甲基)丙烯酸酯」包括丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。
衍生自由式(a2-3)表示之結構單元的單體之實例包括(甲基)丙烯酸酯，例如乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單乙基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單丙基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單丁基醚(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、五乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、及八乙二醇單甲基醚(甲 基)丙烯酸酯。
衍生自具有不含酸不穩定基之結構單元的該等單體之其它實例包括巴豆酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙基酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲氧基苯乙烯、及4-異丙氧基苯乙烯。
結構單元(a2)之實例進一步包括由式(a2-4)表示者：
其中Ra13獨立地表示氫原子或甲基，Ra14表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，Ra15各自獨立地表示C1至C12第一或第二烴基，其中亞甲基可被氧原子或甲醯基取代，但鍵結至相鄰於苯環之氧原子的碳基係不被氧原子取代，m"及m'''各自獨立地表示0至4之整數，但其和為5以下。
各自由Ra14表示的烷基及烷氧基之實例包括由Ra10表示者。
各自由Ra15表示的烴基之實例包括由Ra11表示者。
Ra15較佳為表示C1至C5直鏈或分支烷基、C5至C10脂環族烴基、苯基、或此等基之任何組合。於此等較佳基中，鍵結至相鄰於苯環之氧原子的亞甲基可被甲醯基取代。
由式(a2-4)表示的結構單元之實例包括由式(a2-4-1)至(a2-4-10)表示者。
由式(a2-4)表示的結構單元之實例也包括由式中對應Ra13的氫原子已由甲基取代之該等式所表示者。
結構單元(a2)之另一實例包括具有不含酸不穩定基但具有內酯環者。
具有不含酸不穩定基但具有內酯環的結構單元之實例包括衍生自JP2010-204646A1中記載的單體之結構單元、衍生自JP2000-122294A1中記載的單體之結構單元、及衍生自JP2012-41274A1中記載的單體之結構單元、及包括下列之特定實例。
當樹脂(A1)具有結構單元(a2)時，結構單元之含量佔樹脂(A1)的全部結構單元之較佳為1至80莫耳%，更佳為3至70莫耳%，及又更佳為5至60莫耳%。
樹脂(A1)較佳為具有由式(I)表示之結構單元及選自於由式(a2-1)表示之結構單元、由式(a2-2)表示之結構單元、由式(a2-3)表示之結構單元、及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組的結構單元，更佳為，具有由式(I)表示之結構單元及選自於由式(a2-3)表示之結構單元及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組的結構單元，及又更佳為具有由式(I)表示之結構單元及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元。
聚合物(I)之重量平均分子量通常為3000以上，較佳為5000以上，而其通常為100000以下，較佳為50000以下。
重量平均分子量係如後述實施例所述，使用標準聚苯乙烯作為標準參考材料，通過凝膠滲透層析分析法測定。
樹脂(A1)之特定實例包括由式(A1-1a)至(A1-27a)表示者。
由式(A1-1a)至(A1-27a)表示之化合物中，較佳為由式(A1-1a)、(A1-10a)、(A1-14a)及(A1-24a)、(A1-27a) 表示者。
樹脂(A1)於光阻組成物中之含量較佳為佔固體成份總量的5質量%以上，及較佳為10質量%以上。
樹脂(A1)之含量較佳為佔固體成份總量的80質量%以下，更佳為70質量%以下。
於本說明書中，「固體成份」表示光阻組成物中之溶劑以外的成份。
樹脂(A1)可以已知方式例如自由基聚合法而將前述單體藉由聚合來生產。
<樹脂(A2)>
本發明之光阻組成物進一步包含為鹼溶性樹脂之樹脂(A2)。
鹼溶性樹脂表示包含酸基且可溶於鹼性顯影劑的樹脂。酸基包括羧基、磺基、或酚系羥基。
鹼溶性樹脂之實例包括光阻業界習知的鹼溶性樹脂，例如酚醛清漆樹脂、由衍生自羥基苯乙烯的結構單元所組成的樹脂、不含酸不穩定基但具有衍生自(甲基)丙烯酸酯之結構單元的樹脂、及聚伸烷基二醇。本發明之光阻組成物可進一步含有樹脂(A2)中之二種以上。
關於鹼溶性樹脂，以酚醛清漆樹脂為較佳。酚醛清漆樹脂係於催化劑存在下藉由縮合酚系化合物與醛而獲得的樹脂。
酚系化合物之實例包括酚；鄰-、間-或對-甲酚；2,3-、2,5-、3,4-或3,5-二甲苯酚；2,3,5-三甲基酚；2-、 3-或4-第三丁基酚；2-第三丁基-4-或5-甲基酚；2-、4-或5-甲基間苯二酚；2-、3-或4-甲氧基酚；2,3-、2,5-或3,5-二甲氧基酚；2-甲氧基間苯二酚；4-第三丁基兒茶酚；2-、3-或4-乙基酚；2,5-或3,5-二乙基酚；2,3,5-三乙基酚；2-萘酚；1,3-、1,5-或1,7-二羥基萘；及經由將二甲苯酚與羥基苯甲醛縮合而獲得的多羥基三苯基甲烷。此等酚系化合物中之一或多者可使用於生產酚醛清漆樹脂。
其中，該酚系化合物較佳為鄰-甲酚、間-甲酚、對-甲酚、2,3-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基酚、2-第三丁基酚、3-第三丁基酚、4-第三丁基酚、2-第三丁基-4-甲基酚或2-第三丁基-5-甲基酚。
醛之實例包括脂肪族醛例如甲醛、乙醛、丙醛、正丁醛、異丁醛、丙烯醛、或巴豆醛；脂環族醛例如環己醛、環戊醛、糠醛、及呋喃丙烯醛；芳香族醛例如苄醛、鄰-、間-或對-甲基苄醛、對-乙基苄醛、2,4-、2,5-、3,4-或3,5-二甲基苄醛、或鄰-、間-或對-羥基苄醛；芳香族脂肪族醛例如苯基乙醛或肉桂醛。
此等醛中之一種以上可使用於生產酚醛清漆樹脂。其中，由工業上取得容易之觀點而言，以甲醛為較佳。
用於酚系化合物與醛之縮合的催化劑包括無機酸例如鹽酸、硫酸、過氯酸、或磷酸；有機酸例如甲酸、乙酸、草酸、三氯乙酸、或對甲苯磺酸；二價金屬鹽類例 如乙酸鋅、氯化鋅、或乙酸鎂。
此等催化劑中之一種以上可使用於生產酚醛清漆樹脂。催化劑的用量通常為每莫耳醛0.01至1莫耳。
酚系化合物與醛之縮合可藉由混合酚系化合物與醛而進行，接著使其於60℃至120℃之範圍的溫度反應2至30小時。縮合可於溶劑例如甲基乙基酮、甲基異丁基酮及丙酮之存在下進行。反應之後，藉由添加不溶於水的溶劑至反應混合物，以水洗滌混合物，接著濃縮而收集酚醛清漆樹脂。
酚醛清漆樹脂之重量平均分子量通常為3000以上，較佳為4000以上，及更佳為5000以上，而其通常為50000以下，較佳為40000以下，及更佳為30000以下。若光阻組成物包含重量平均分子量為落入前述範圍以內的酚醛清漆樹脂，則組成物可有效地提供膜，該膜較不可能變更薄，且較不可能產生殘餘物。
重量平均分子量係如後述實施例所述，使用標準聚苯乙烯作為標準參考材料，通過凝膠滲透層析分析法測定。
由衍生自羥基苯乙烯的結構單元所組成的樹脂之實例典型包括聚(乙烯基酚)，特別包括聚(對-乙烯基酚)。樹脂之特定實例包括由結構單元(a2-1)所組成者。此種聚(乙烯基酚)可經由將揭示於JP2010-204634A1中的乙烯基酚單體進行聚合而生產。
具有不含酸不穩定基但具有衍生自(甲基)丙 烯酸酯之結構單元的樹脂之實例包括經由聚合下列單體生產的樹脂：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、或聚乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯例如二乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、五乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、七乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、及九乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯。
樹脂(A2)之實例進一步包括經由將前述單體與下述者之組合進行聚合而生產者：(甲基)丙烯酸烷基酯例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、或(甲基)丙烯酸第三丁酯；(甲基)丙烯酸酯環烷基類例如(甲基)丙烯酸環戊酯或(甲基)丙烯酸環己酯、多環系(甲基)丙烯酸酯例如(甲基)丙烯酸金剛烷酯、乙二醇單甲基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單乙基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單丙基醚(甲基)丙烯酸酯、乙二醇單丁基醚(甲基)丙烯酸酯、及乙二醇單烷基醚(甲基)丙烯酸酯。
於本發明之光阻組成物中之樹脂(A2)的含量係佔該光阻組成物中之樹脂總量的較佳為10質量%以上，更佳為20質量%以上，而較佳為70質量%以下，更佳為65質量%以下。
<樹脂(A3)>
本發明之光阻組成物可進一步含有樹脂 (A3)，其為樹脂(A1)及樹脂(A2)以外的樹脂。樹脂(A3)之實例包括具有結構單元(I)以外的其它結構單元(a1)的樹脂。樹脂(A3)之實例包括具有前述由式(A1-2)表示之結構單元但不含結構單元(I)的樹脂。
樹脂(A3)的特定實例包括具有由式(A3-1a)及(A3-1)至(A3-19)表示之結構單元的樹脂。
樹脂(A3)之實例包括較佳為具有由式(A3-2)、(A3-3)、(A3-4)、(A3-5)、(A3-6)、(A3-7)、(A3-14)、(A3-15)、(A3-16)、(A3-17)、(A3-18)或(A3-19)表示之結構單元的樹脂，更佳為具有由式(A3-2)、(A3-3)、(A3-4)、(A3-5)、(A3-6)或(A3-7)表示之結構單元的樹脂。
樹脂(A3)可以已知方式例如自由基聚合法而 將前述單體藉由聚合來生產。
聚合物(A3)之重量平均分子量通常為8000以上，較佳為10000以上，而其通常為600000以下，較佳為500000以下。
重量平均分子量係使用標準聚苯乙烯作為標準參考材料，通過凝膠滲透層析分析法測定。
當光阻組成物包含樹脂(A3)時，其含量係佔該光阻組成物中之樹脂總量的較佳為1質量%以上，更佳為2質量%以上，及又更佳為3質量%以上，而較佳為70質量%以下，更佳為60質量%以下，又更佳為55質量%以下，進一步更佳為20質量%以下。
樹脂(A1)、樹脂(A2)及樹脂(A3)之總含量係佔該光阻組成物中之固體成份總量的較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，並且較佳為99質量%以下。
於本說明書中，「固體成份」表示光阻組成物中之溶劑以外的成份。
光阻組成物之各個成份係以已知方式例如液相層析分析法或氣相層析分析法測定。
<酸產生劑(B)>
本發明之光阻組成物包含酸產生劑(B)。
酸產生劑為可藉由光照或輻射而分解來產生酸的化合物。酸產生劑可以是離子性或非離子性。酸產生劑可單獨使用或組合使用二種以上。
非離子性酸產生劑包括有機鹵化物、磺酸酯 (例如，2-硝基苯甲酸酯、芳香族磺酸酯、肟磺酸酯、N-磺醯基氧基醯亞胺、N-磺醯基氧基醯亞胺、磺醯基氧基酮、重氮萘醌4-磺酸酯)、及碸(例如，二碸、酮基碸、磺醯基重氮甲烷)。離子性酸產生劑包括含鎓陽離子的鎓鹽(例如，重氮鎓鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鹽)。鎓鹽的陰離子包括磺酸陰離子、磺醯基醯亞胺陰離子及磺醯基甲基化物陰離子。
酸產生劑(B)包括當輻射時產生酸的化合物，其係記載於JP63-26653A1、JP 55-164824A1、JP62-69263A1、JP63-146038A1、JP63-163452A1、JP 62-153853A1、JP63-146029A1、美國專利No.3779778、美國專利No.3849137、德國專利No.3914407及歐洲專利No.126712。
酸產生劑較佳為具有由式(B1)表示之結構的化合物。
其中Rb1表示C1至C18烴基，其視需要具有氟原子及其中之亞甲基已視需要經氧原子或甲醯基取代。
酸產生劑之實例包括由式(b1)、(b2)及(b3)表示之化合物。其中，酸產生劑較佳為由式(b1)及(b2)表示之化合物，更佳為由式(b1)表示之化合物。
其中Rb1表示C1至C18烴基其視需要具有氟原子及其中之亞甲基已視需要經氧原子或甲醯基取代，Rb3及Rb4各自獨立地表示氫原子、C1至C5烷基或C1至C5烷氧基，及環Wb1表示可具有取代基的C6至C14芳香族烴環。
於式(B1)、(b1)至(b3)之各者中，由Rb1表示之烴基包括C1至C18烷基例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基或十二烷基，C3至C18脂環族烴基例如單環系脂環族烴基例如C3至C18環烷基(例如，環戊基、環己基、甲基環己基、二甲基環己基、環庚基及環辛基)及多環系脂環族烴基(例如，十氫萘基、金剛烷基、降冰片基)，C6至C18芳香族烴基例如苯基、萘基、對-甲基苯基、對-第三丁基苯基、對-金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、及2-甲基-6-乙基苯基、及其它基例如芳烷基。
烴基較佳為C1至C10烷基及C6至C10芳香族烴基，更佳為C1至C8烷基，及又更佳為C1至C4烷基。
其中亞甲基已經氧原子或甲醯基取代的烴基包括由式(Y1)至(Y12)表示者，較佳為由式(Y7)至(Y9)表示者，更佳為由式(Y9)表示者：
其中「*」表示結合位置。
具有氟原子的烴基之實例包括氟烷基例如氟甲基、氟乙基、氟丙基、氟丁基、氟戊基、氟己基、氟庚基、及氟辛基；脂環族氟烴基例如C3至C10氟環烷基；C6至C10芳香族氟烴基例如氟苯基及氟萘基、以該等之組合結構。
具有氟原子的烴基較佳為C1至C10氟烷基及C6至C10芳香族氟烴基，及更佳為C1至C8全氟烷基，及又更佳為C1至C4全氟烷基。
由Rb3或Rb4表示之烷基包括甲基、乙基、丙基、丁基、及戊基，較佳為甲基。
由Rb3或Rb4表示之烷氧基包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、及戊氧基，較佳為甲氧基。
由環W1表示之芳香族烴環包括苯環、萘環、及蒽環。
由環Wb1表示之芳香族雜環基可具有硫原子或氧原子，其包括下列各者：
環Wb1視需要具有的取代基包括C1至C5烷基。
環Wb1較佳為經取代或未經取代之萘環，更佳為未經取代之萘環。
離子性酸產生劑之實例包括由式(b8)或(b9)表示的化合物：
其中Ab1及Ab2各自獨立地表示氧原子或硫原子，Rb8、Rb9、Rb10、及Rb11各自獨立地表示C1至C10烷基或C6至C12芳香族烴基，及X1-及X2-各自獨立地表示有機陰離子。
由Rb8、Rb9、Rb10、及Rb11表示的烷基包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、及辛基。
由Rb8、Rb9、Rb10、及Rb11表示的芳香族烴基包括芳基例如苯基、萘基、蒽基、對-甲基苯基、對-第三丁基苯基、對-金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、及2-甲基-6-乙基苯基。
Rb8、Rb9、Rb10、及Rb11較佳為芳香族烴基， 更佳為苯基。
X1-及X2-之實例包括磺酸陰離子、雙(烷基磺醯基)醯胺陰離子、及參(烷基磺醯基)甲基化物陰離子。較佳為磺酸陰離子，特別是由式(b10)表示的磺酸陰離子。
其中Rb12表示C1至C18烴基，其中氫原子可經氟原子取代及其中亞甲基可經氧原子或甲醯基取代。
Rb12之實例包括Rb1之實例。
酸產生劑(B)之特定實例較佳為包括下列化合物。
酸產生劑(B)可為市售品，或可藉由已知方法製備。
相對於每100份總樹脂，酸產生劑(B)之含量較佳為0.3份重量份以上，更佳為0.5份重量份以上，又更佳為1份重量份以上，而相對於每100份總樹脂較佳為30份重量份以下，更佳為10份重量份以下，又更佳為5份重量份以下。
<溶劑(D)>
本發明之光阻組成物包含溶劑。
溶劑之實例包括二醇醚酯例如乙酸乙賽璐蘇(ethyl cellosolve acetate)、乙酸甲賽璐蘇(methyl cellosolve acetate)、及丙二醇單甲基醚乙酸酯；二醇醚例如丙二醇單甲基醚；丙烯酸酯例如乳酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、及丙酮酸乙酯；酮例如丙酮、甲基異丁基酮、2-庚酮、及環己酮；及環狀酯例如γ-丁內酯。溶劑較佳為二醇醚酯。
溶劑(D)之含量佔本發明之光阻組成物的總量通常為40重量%以上，較佳為45重量%以上，及更佳為50重量%以上。溶劑之含量佔本發明之光阻組成物的總量通常為75重量%以下，較佳為70重量%以下，及更佳為68重量%以下。
當光阻組成物包含有前述範圍內的溶劑時，容易形成具有約3微米至150微米厚度的組成物膜。
<界面活性劑(F)>
本發明之光阻組成物可進一步含有界面活性劑。
用於光阻組成物的界面活性劑並不限於特定者，只要其能改良光阻組成物的塗佈性質、消泡性質及均平性即可。界面活性劑之實例包括含氟原子之界面活性劑、含矽原子及氟原子之界面活性劑、聚醚改質聚矽氧化合物、及其它聚矽氧化合物。
聚醚改質聚矽氧化合物之實例包括BY16-201(商品名)、SF8427(商品名)、SF8428(商品名)、 FZ-2162(商品名)、SH3749(商品名)、FZ-77(商品名)、FZ-2110(商品名)、SH8400(商品名)(Toray Dow Corning股份有限公司之產品)。
含氟原子之界面活性劑之實例包括Fluorinert FC430(商品名)及Fluorinert FC431(商品名)，該等為Sumitomo 3M股份有限公司製造的產品；MEGAFACE F142D(商品名)、MEGAFACE F171(商品名)、MEGAFACE F172(商品名)、MEGAFACE F173(商品名)、MEGAFACE F177(商品名)、及MEGAFACE F183(商品名)、MEGAFACE R30(商品名)，該等為Dainippon Ink & Chemicals股份有限公司製造的產品；EFTOP EF301(商品名)、EFTOP EF303(商品名)、EFTOP EF351(商品名)、及EFTOP EF352(商品名)，該等為Mitsubishi materials Electronic chemicals股份有限公司製造的產品；SURFLON S381(商品名)、SURFLON S382(商品名)、SURFLON SC101(商品名)、及SURFLON SC105(商品名)，該等為AGC SEMI CHEMICAL股份有限公司製造的產品；E5844(商品名)此為Daikin fine chemical research institute股份有限公司製造的產品；BM-1000(商品名)及BM-1100(商品名)該等為乃BM Chemie公司製造的產品。
含矽原子及氟原子之界面活性劑的實例包括MEGAFACE R08(商品名)、MEGAFACE BL20(商品名)、MEGAFACE F475(商品名)、MEGAFACE F477(商品名)、及MEGAFACE F443(商品名)，該等為Dainippon Ink & Chemicals股份有限公司製造的產品。
其它聚矽氧化合物之實例包括DOW CORNING TORAY DC3PA(商品名)、DOW CORNING TORAY SH7PA(商品名)、DOW CORNING TORAY DC11PA(商品名)、DOW CORNING TORAY SH21PA(商品名)、DOW CORNING TORAY SH28PA(商品名)、DOW CORNING TORAY 29SHPA(商品名)、DOW CORNING TORAY SH30PA(商品名)、聚醚改質聚矽氧油(例如，DOW CORNING TORAY SH8400(商品名))，該等為為DOW CORNING TORAY股份有限公司製造的產品；KP321(商品名)、KP322(商品名)、KP323(商品名)、KP324(商品名)、KP326(商品名)、KP340(商品名)、KP341(商品名)，該等為Shin-etsu silicone股份有限公司製造的產品；TSF400(商品名)、TSF401(商品名)、TSF410(商品名)、TSF4300(商品名)、TSF4440(商品名)、TSF4445(商品名)、TSF-4446(商品名)、TSF4452(商品名)、TSF4460(商品名)，該等為Momentive performance Japan股份有限公司製造的產品。
若光阻組成物進一步含有界面活性劑(F)，則其含量佔本發明之光阻組成物的總量通常為0.0001重量%以上，較佳為0.0005重量%以上，更佳為0.001重量%以上，又更佳為0.002重量%以上。其含量佔本發明之光阻組成物的總量通常為0.5重量%以下，較佳為0.3重量%以下，更佳為0.2重量%以下，及又更佳為0.1重量%以下。
<淬滅劑(C)>
本發明之光阻組成物可進一步含有淬滅劑。 淬滅劑具有可捕獲酸的特性，特別是藉由施加輻射而自酸產生劑所產生的酸。淬滅劑之實例，但非限於特定者，包括鹼性含氮有機化合物。
鹼性含氮有機化合物之實例包括胺化合物例如脂肪族胺、芳香族胺、及銨鹽。脂肪族胺之實例包括一級胺、二級胺、及三級胺。
胺化合物之實例包括1-萘基胺、2-萘基胺、苯胺、二異丙基苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4-甲基苯胺、4-硝基苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、二苯基胺、己基胺、庚基胺、辛基胺、壬基胺、癸基胺、二丁基胺、二戊基胺、二己基胺、二庚基胺、二辛基胺、二壬基胺、二癸基胺、三乙基胺、三甲基胺、三丙基胺、三丁基胺、三戊基胺、三己基胺、三庚基胺、三辛基胺、三壬基胺、三癸基胺、甲基二丁基胺、甲基二戊基胺、甲基二己基胺、甲基二環己基胺、甲基二庚基胺、甲基二辛基胺、甲基二壬基胺、甲基二癸基胺、乙基二丁基胺、乙基二戊基胺、乙基二己基胺、乙基二庚基胺、乙基二辛基胺、乙基二壬基胺、乙基二癸基胺、二環己基甲基胺、參[2-(2-甲氧基乙氧基)乙基]胺、三異丙醇胺、伸乙基二胺、四亞甲基二胺、六亞甲基二胺、4,4’-二胺基-1,2-二苯基乙烷、4,4’-二胺基-3,3’-二甲基二苯基甲烷、及4,4’-二胺基-3,3’-二乙基二苯基甲烷。
淬滅劑較佳為環狀胺化合物。環狀胺化合物可以是芳香族或非芳香族。環狀胺化合物之實例包括具有 吡啶、吡唑、咪唑、哌啶、唑或吡咯啶的化合物；及具有此等環狀胺中之任一者及芳香族烴基例如苯基或萘基的化合物。
淬滅劑之特定實例進一步包括由式(C2-1)至(C2-11)表示者，較佳為由式(C2-2)至(C2-8)表示者。
淬滅劑可藉由已知方法製備，其為市售品。
以光阻組成物之固體成份和為基準，淬滅劑之含量較佳為0.0001至5重量%，更佳為0.0001至4重量%，又更佳為0.001至3重量%，進一步更佳為0.01至1重量%，又進一步更佳為0.1至0.7重量%。
<黏著促進劑(E)>
黏著促進劑(E)並不限於特定者，只要其能對欲用作為基板或佈線改良其金屬之黏著性，或防止金屬的腐蝕即可。該種成份藉防止金屬的腐蝕能顯示作為防鏽的功能。與此等功能一起，該種成份能提供對基板或金屬具 有改良黏著性的組成物。
黏著促進劑(E)之實例包括含硫化合物、芳香族羥基化合物、苯并三唑類化合物、三類之化合物、及含矽化合物。
含硫化合物之實例包括二硫甘油[S(CH2CH(OH)CH2(OH))2]、雙(2,3-二羥基丙基硫基)乙烯[CH2CH2(SCH2CH(OH)CH2(OH))2]、3-(2,3-二羥基丙基硫基)-2-甲基-丙基磺酸鈉[CH2(OH)CH(OH)CH2SCH2CH(CH3)CH2SO3Na]、1-硫甘油[HSCH2CH(OH)CH2(OH)]、3-巰基-1-丙烷磺酸鈉[HSCH2CH2CH2SO3Na]、2-巰基乙醇[HSCH2CH2(OH)]、巰基乙酸[HSCH2CO2H]、3-巰基-1-丙醇[HSCH2CH2CH2]、JP2015-087759A1中列舉的含硫化合物。
芳香族羥基化合物之實例包括酚、甲酚、二甲苯酚、焦兒茶酚(=1,2-二羥基苯)、第三丁基兒茶酚、間苯二酚、氫醌、焦棓酚、1,2,4-苯三酚、水楊酚、對-羥基苄酚、鄰-羥基苄酚、對-羥基苯乙酚、對-胺基酚、間-胺基酚、胺基酚、胺基間苯二酚、對-羥基苯甲酸、鄰-羥基苯甲酸、2,4-二羥基苯甲酸、2,5-二羥基苯甲酸、3,4-二羥基苯甲酸、3,5-二羥基苯甲酸、及棓酸。
苯并三唑類化合物的實例包括苯并三唑、5,6-二甲基苯并三唑、1-羥基苯并三唑、1-甲基苯并三唑、1-胺基苯并三唑、1-苯基苯并三唑、1-羥基甲基苯并三唑、1-苯并三唑羧酸酯、5-苯并三唑羧酸、1-甲氧基苯并三唑、 1-(2,2-二羥基乙基)-苯并三唑、1-(2,3-二羥基丙基)苯并三唑、或2,2’-{[(4-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞胺基}雙乙醇，其為由BASF AG公司市售之「IRGAMET」(註冊商標)系列，2,2’-{[(5-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞胺基}雙乙醇、2,2’-{[(4-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞胺基}雙乙烷、及2,2’-{[(4-甲基-1H-苯并三唑-1-基)甲基]亞胺基}雙丙烷。
三類化合物的實例包括1,3,5-三-2,4,6-三硫醇。
含矽化合物的實例包括下列化合物。
以光阻組成物之固體成份和為基準，黏著促進劑(E)之含量較佳為0.001重量%以上，更佳為0.0002重量%以上，又更佳為0.05重量%以上，進一步更佳為0.08重量%以上。
以光阻組成物之固體成份和為基準，黏著促 進劑(E)之含量較佳為20重量%以下，更佳為10重量%以下，又更佳為4重量%以下，進一步更佳為3重量%以下，特別佳為1重量%以下，尤更佳為0.1重量%以下。
進一步含有含量為前述範圍之黏著促進劑(E)的光阻組成物，能提供對基板具有良好黏著性的精準光阻圖案。
<其它成份(G)>
若必要，只要不會妨礙本發明之效果，本發明之光阻組成物可進一步含有小量的各種添加劑例如敏化劑、塑化劑、抑制溶解劑、安定劑、及染料。
<光阻組成物之製造>
本發明之光阻組成物通常藉由混合樹脂(A1)、樹脂(A2)、酸產生劑(B)、及溶劑(D)，及視需要以適當的比例添加樹脂(A3)、界面活性劑(F)、淬滅劑(C)、黏著促進劑(E)、及其它成份(G)至組成物；接著視需要使用具有0.11微米至50微米網目大小的過濾器過濾該混合物而進行製備。
此等成份的混合順序並不限於任何特定順序。混合該等成份的溫度通常為10至40℃，該溫度可依據樹脂等而選擇。混合時間通常為0.5至24小時，該時間可由樹脂種類或其於溶劑的溶解度之觀點而選擇。用於混合該等成份的手段並不限於特定者，包括攪拌器。
光阻組成物中之成份的用量，可藉由選擇用於製造該等的用量而調整。
<光阻圖案之生產>
本發明之方法具有下列步驟(1)至(4)：(1)將本發明之光阻組成物施加至基板的步驟，(2)藉由乾燥該組成物而形成光阻組成物膜的步驟，(3)將該膜曝露於輻射的步驟，及(4)將該已曝光膜顯影而形成光阻圖案的步驟。
於步驟(1)中，將組成物施加至基板通常係使用例如旋塗機之習知裝置進行。
基板包括矽晶圓。可能已事先形成有半導體元件(例如，電晶體、二極體)的該基板可被使用於該方法。若光阻組成物係用於形成凸塊，則較佳為其上已積層導電材料的基板。此種導電材料包括合金其包含選自由金(Au)、銅(Cu)、鎳(Ni)、錫(Sn)、鈀(Pd)及銀(Ag)所成組群的金屬，或包含選自該組群的金屬之合金。較佳者為銅或含銅合金。
基板可以例如含六甲基二矽胺烷之抗反射層洗滌或塗覆。為了形成抗反射層，可使用例如市售之用於有機抗反射層之組成物。
光阻組成物膜的形成方式通常係藉由使用例如加熱板或減壓裝置之加熱裝置來乾燥組成物，從而乾燥去除溶劑。加熱溫度較佳為50℃至200℃，並且操作壓力較佳為1至1.0*105Pa。
藉由步驟(2)獲得的膜之厚度較佳為3微米至150微米之範圍，更佳為4微米至100微米之範圍。
膜係使用曝光系統而曝光於輻射。曝光通常係通過具有對應期望的光阻圖案之圖案遮罩進行。曝光源包括已知者，較佳為g射線(波長：436奈米)，h射線(波長：405奈米)，及i射線(波長：365奈米)。
該方法可進一步包含在步驟(3)之後烤乾該經曝光膜，所謂的曝光後烤乾。
烤乾該經曝光膜之步驟可使用例如加熱板之加熱裝置進行。烤乾該經曝光膜之溫度較佳為50℃至200℃，及更佳為60℃至120℃。烤乾時間通常為40至400秒，較佳為50至350秒。
經曝光或經烤乾的光阻組成物膜之顯影通常係利用顯影裝置以鹼性顯影劑進行。
所使用的鹼性顯影劑可以是本技術領域所使用的各種鹼性水溶液中之任一種。一般而言，通常使用氫氧化四甲基銨或(2-羥基乙基)三甲基氫氧化銨(俗稱「膽鹼」)之水性溶液。
在顯影之後，所形成的光阻圖案較佳為以超純水洗滌，並且較佳為去除光阻圖案及基板上的殘餘水分。
<用法>
本發明之光阻組成物可提供厚光阻膜及在約3微米至約150微米之厚膜上所具有的精細光阻圖案。
本發明之光阻組成物可用作為製造凸塊的材料。
凸塊可藉包含下列步驟之方法製造： 將導電材料(亦即種子金屬)積層於具有半導體元件的晶圓上，藉此形成導電膜，於本發明之組成物所形成之導電膜上製作光阻圖案，使用光阻圖案作為其模板來圖案電鍍例如銅、鎳、或焊料之電極材料，以及將光阻膜及導電膜藉由蝕刻等自該裝置去除，接著視需要藉由加熱熔解電極材料將該電極材料去除。
實施例
將藉由實施例更具體地描述本發明，惟實施例不解釋為限制本發明之範圍。
除非另行特定註明，否則於下列實施例及比較例中用以表示任何成份的含量及任何材料量的「%」及「份」皆係以重量為基準。
以下實施例中使用的任何材料之重量平均分子量乃於下述條件下藉由凝膠滲透層析法所測定之值。
設備：HLC-8120GPC型，TOSOH公司製造
管柱：具有保護柱的TSKgel Multipore HXL-MX 3，東索公司製造
溶劑：四氫呋喃
流速：1.0mL/min
偵測器：RI偵測器
管柱溫度：40℃
注入體積：100μL
標準參考材料：標準聚苯乙烯，TOSOH公司製造
合成例1
於反應器內，混合及攪拌86份甲基丙烯酸、516份第三-甲基丁基醚、及99.2份氯甲基醚。在冰浴，以一小時逐滴添加111.2份三乙基胺至所得混合物，然後於室溫攪拌6小時。
於該反應混合物內，加入172份第三-甲基丁基醚及260份離子交換水，然後，自其中分離有機層。
於該有機層內，加入260份1%草酸，並且自其中分離新有機層。
於該新分離有機層中，加入260份離子交換水，然後，洗滌自其中分離的有機層：洗滌步驟進行三次。然後，所得之有機層經濃縮後於減壓下乾燥而獲得131.3份由式(A)表示之化合物。
合成例2
於反應器內，混合及攪拌60份甲基丙烯酸、480份第三-甲基丁基醚、及103.6份氯甲基環己基醚。在冰浴，以一小時逐滴添加74份三乙基胺至所得混合物，然後於室溫攪拌6小時。
於該反應混合物內，加入120份第三-甲基丁基醚及240份離子交換水，然後，自其中分離有機層。
於該有機層內，加入240份1%草酸，並且自其中分離新有機層。
於該新分離有機層中，加入240份離子交換水，然後，洗滌自其中分離的有機層：洗滌步驟進行三次。然後，所得有機層經濃縮後於減壓下乾燥而獲得135.4份由式(B)表示之化合物。
合成例3
藉由混合13.1份由式(A)表示之化合物、15.7份由式(C)表示之化合物、0.137份偶氮雙異丁腈、及12.8份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(1)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入27.7份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(1)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃，然後以30.4 份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以168份甲醇及336份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加129份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著藉由濃縮而獲得45.3份樹脂溶液(固體含量：48重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-1」，其重量平均分子量為6.8x104。樹脂A1-1具有下述結構單元。
合成例4
藉由混合10.9份由式(A)表示之化合物、19.6份由式(C)表示之化合物、0.142份偶氮雙異丁腈、及13.9份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(2)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入29.6份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(2)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以32.5份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以179份甲醇及359份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加138份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得42.3份樹脂溶液(固體含量：56.3重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-2」，其重量平均分子量為7.4x104。樹脂A1-2具有下述結構單元。
合成例5
藉由混合25.1份由式(A)表示之化合物、19.6份由式(C)表示之化合物、11.8份由式(D)表示之化合物、0.285份偶氮雙異丁腈、及28.1份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(3)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入56.4份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中 逐滴添加混合物(3)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃，然後以62份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以342份甲醇及684份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加263份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得99份樹脂溶液(固體含量：51.3重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-3」，其重量平均分子量為6x104。樹脂A1-3具有下述結構單元。
合成例6
藉由混合10.9份由式(A)表示之化合物、10.4份由式(C)表示之化合物、6.9份由式(E)表示之化合物、 0.285份偶氮雙異丁腈、及12.8份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(4)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入27.4份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(4)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以30.1份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以178份甲醇及178份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加155份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得53.1份樹脂溶液(固體含量：34.1重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-4」，其重量平均分子量為16x104。樹脂A1-4具有下述結構單元。
合成例7
藉由混合32.1份由式(B)表示之化合物、24.3份由式(C)表示之化合物、5.5份由式(D)表示之化合物，0.186份偶氮雙異丁腈、及30.8份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(5)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入61.8份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(5)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以68份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以281份甲醇及844份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加288份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得113.7份樹脂溶液(固體含量：44.8重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-5」，其重量平均分子量為13.3x104。樹脂A1-5具有下述結構單元。
合成例8
藉由混合26.1份由式(A)表示之化合物、9.9份由式(C)表示之化合物、4.5份由式(D)表示之化合物、9.3份由式(F)表示之化合物、0.129份偶氮雙異丁腈、及24.6份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(6)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入49.6份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(6)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以54.5份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以271份甲醇及632份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加264份丙二醇甲基醚乙酸酯及攪拌，接著濃縮而獲得97.7份樹脂溶液(固體含量：39重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-6」，其重量平均分子量為9.1x104。樹脂A1-6具有下述結構單元。
合成例9
藉由混合30.4份由式(A)表示之化合物、11.4份由式(C)表示之化合物、15.5份由式(D)表示之化合物、0.164份偶氮雙異丁腈、及28份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(7)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入56.9份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(7)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以62.5份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以310份甲醇及724份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加303份丙二醇甲基醚 乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得144.2份樹脂溶液(固體含量：34.8重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-7」，其重量平均分子量為8.4x104。樹脂A1-7具有下述結構單元。
合成例10
藉由混合21.3份由式(A)表示之化合物、4.6份由式(G)表示之化合物、42.3份由式(H)表示之化合物、0.261份偶氮雙異丁腈、及29.1份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(8)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入58.5份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(8)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以88.3份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以371份甲醇及865份 離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加362份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得120.7份樹脂溶液(固體含量：42.2重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-8」，其重量平均分子量為7.6x104。樹脂A1-8具有下述結構單元。
合成例11
藉由混合27.5份由式(A)表示之化合物、4.1份由式(G)表示之化合物、32.3份由式(H)表示之化合物、0.232份偶氮雙異丁腈、及27.5份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(9)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入55.8份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(9)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以83.6 份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以351份甲醇及819份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加343份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得114.3份樹脂溶液(固體含量：44.6重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-9」，其重量平均分子量為8.3x104。樹脂A1-9具有下述結構單元。
合成例12
藉混合16.2份由式(A)表示之化合物、3.5份由式(G)表示之化合物、27.64份由式(H)表示之化合物、20份由式(E)表示之化合物、0.199份偶氮雙異丁腈、及28.9份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(10)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入58.2 份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中逐滴添加混合物(10)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以87.3份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以367份甲醇及856份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加358份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得119.4份樹脂溶液(固體含量：44.8重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A1-10」，其重量平均分子量為10.8x104。樹脂A1-10具有下述結構單元。
合成例13
於具有攪拌裝置、迴流冷凝器、及溫度計的四頸燒瓶內，注入413.5份2,5-二甲苯酚、103.4份水楊醛、20.1份對-甲苯磺酸、及826.9份甲醇，並且加熱使混合物迴流，然後該混合物之溫度維持4小時。然後，所得混合物經冷卻，並且饋入1320份甲基異丁基酮至其中，接著於常壓下蒸餾去除1075份混合物。
然後，將762.7份間-甲酚及29份2-第三丁基-5-甲基酚添加至殘餘物並且加熱至65℃，接著以1.5小 時逐滴添加678份37%甲醛液至其中，同時於滴加結束時將混合物之溫度控制於87℃。
然後混合物之溫度維持於87℃ 10小時，然後添加1115份甲基異丁基酮至所得之樹脂溶液，接著以水洗滌三次。添加500份甲基異丁基酮至經洗滌的樹脂溶液內，接著於減壓下蒸餾直到溶液量變成3435份。添加3796份甲基異丁基酮及4990份正庚烷至經洗滌的樹脂溶液內，並且加熱至60℃，然後攪拌一小時，接著自其中分離底層樹脂溶液。
添加3500份丙二醇單甲基醚乙酸酯至經分離的樹脂溶液內而稀釋之，接著於減壓下蒸餾直到溶液量變成1690份(43%固體含量)。所得的酚醛清漆樹脂稱作「樹脂A2-1」，其重量平均分子量為7000。
合成例14
藉由混合12份由式(J)表示之化合物、21.4份由式(C)表示之化合物、0.141份偶氮雙異丁腈，及16.7份丙二醇單甲基醚乙酸酯，獲得混合物(11)。
於配備有溫度計及攪拌器的燒瓶內，饋入33.4份丙二醇單甲基醚乙酸酯然後提高其溫度至80℃。於其中 逐滴添加混合物(11)同時攪拌一小時，然後於80℃加熱9小時。
接著，將反應混合物冷卻至40℃然後以62.5份丙二醇甲基醚乙酸酯稀釋，然後以203份甲醇及406份離子交換水稀釋，接著藉由過濾收集沈澱的樹脂。
於該沈澱樹脂內，添加156份丙二醇甲基醚乙酸酯並且攪拌，接著濃縮而獲得53.9份樹脂溶液(固體含量：40.4重量%)。
所獲得的樹脂稱作「樹脂A3-1a」，其重量平均分子量為12x104。樹脂A3-1a具有下述結構單元。
合成例16
將20份聚乙烯基酚(商品名VP-15000，Nippon Soda股份有限公司的產品)溶解於240份甲基異丁基酮，接著使用蒸發器濃縮。
於具有攪拌裝置、迴流冷凝器、及溫度計的四頸燒瓶內，注入該濃縮混合物及0.003份對-甲苯磺酸脫水物，然後於20℃至25℃之溫度以10分鐘逐滴添加5.05份乙基乙烯基醚。
所得混合物於前述溫度攪拌2小時，然後以200份甲基異丁基酮稀釋，接著以離子交換水洗滌五次。
經洗滌之混合物使用蒸發器濃縮直到其量變成45份，並且添加150份丙二醇單甲基醚乙酸酯至其中，接著再度濃縮而獲得78份樹脂A3-2的丙二醇單甲基醚乙酸酯溶液(29%固體含量)，其重量平均分子量為22100，及其中乙氧基乙基的含量為38.5%。樹脂A3-2具有下述結構單元。
合成例17
於95份丙酮中溶解10.3份3,5-二羥基萘甲酸。
於所得混合物中加入83.6份碳酸鉀及28.4份二甲基硫酸，接著於50℃攪拌12小時。
所得反應溶液經過濾而去除其中之固體，然後使用蒸發器蒸餾去除其中之溶劑。
於所得殘餘物中，加入50份離子交換水、40份甲醇、及10份氫氧化鉀，並且於65℃攪拌3小時。
於該反應溶液內加入100份鹽酸，接著收集沈澱固體而獲得20份3,5-二甲氧基-2-萘甲酸。
於160份亞磺醯氯中，加入20份3,5-二甲氧基-2-萘甲酸，並且於80℃攪拌2小時。
所得混合物於80℃、減壓下放置。然後將屬於前述反應之副產物之亞磺醯氯及鹽酸以蒸餾去除，藉此 獲得20份3,5-二甲氧基-2-萘甲醯氯。
於50份甲醇中，溶解8.3份N-甲基羥基胺鹽酸鹽。於所得甲醇溶液內，滴加60克氫氧化鉀溶液(10%的甲醇)同時於0℃攪拌，藉此獲得混合物(12)。將溶解有11.8份2-萘甲醯氯之30份THF的溶液添加至混合物(12)，接著攪拌一小時。所得反應溶液靜置於室溫下，然後攪拌一小時，接著藉由蒸餾去除其溶劑。
所得殘餘物以乙酸乙酯及飽和氯化鈉水溶液萃取，接著自其中分離有機層。然後，以蒸餾去除溶劑而收集白色固體。
於75份氯仿中，溶解20份所得固體及3.8份(+)-10-樟腦磺醯氯。
於所得混合物內滴加3.4份吡啶，同時於0℃攪拌。
所得混合物於50℃攪拌8小時，接著以氯仿及離子交換水之混合物萃取。然後，有機層靜置於減壓下，藉此去除其中之溶劑。再者，所得殘餘物使用甲醇進行再結晶，獲得3.5份由下式表示的化合物。
實施例1至5及比較例1至2 (光阻圖案之製備)
表1中列舉的下列成份係如後述經混合及溶解於溶劑，並且通過具有5微米孔隙直徑的含氟樹脂過濾器進一步過濾而製備光阻組成物。各個實施例中之成份含量顯示於表1。
表1中列舉的符號表示下列成份
<樹脂>
A1-1：樹脂A1-1，A1-2：樹脂A1-2，A1-3：樹脂A1-3，A1-4：樹脂A1-4，A1-5：樹脂A1-5，A1-6：樹脂A1-6，A1-7：樹脂A1-7，A1-8：樹脂A1-8，A1-9：樹脂A1-9，A1-10：樹脂A1-10，A2-1：樹脂A2-1，A3-1a：樹脂A3-1a，A3-2：樹脂A3-2
<酸產生劑>
B1：下式表示之化合物，商品名「NAI-105」，Midori Kagaku股份有限公司的產品。
B2：下式表示之化合物，以合成例17之方式製備。
<淬滅劑>
C1：2,4,5-三苯基咪唑(Tokyo Chemical Industry股份有限公司的產品)
<界面活性劑>
F1：聚醚改質聚矽氧油(DOW CORNING TORAY SH8400；Toray Dow Corning股份有限公司的產品)
F2：MEGAFACE F477(品牌名)
<溶劑>
D1：丙二醇單甲基醚乙酸酯
(光阻圖案之製備)
在基板(4吋)上以使乾燥後所得膜之厚度變5微米之方式，旋轉塗佈上述製備的各個光阻組成物。如此被覆有個別光阻組成物的基板分別以表1的「PB」欄中顯示的溫度，直接於加熱板上各自進行預烤乾180秒。
使用i-射線步進器(Nikon公司製造的「NSR 1755i7A」，NA=0.5)及遮罩(線寬：3微米)用於形成線與間的圖案，對如此形成有各膜的各個晶圓以逐步改變曝光數量進行曝光。
曝光後，各個晶圓以表1的「PEB」欄中顯示的溫度，於加熱板上進行60秒曝光後烤乾。
曝光後，各個晶圓使用2.38wt%氫氧化四甲基銨之水溶液，進行槳式顯影180秒。
(評估) I.厚度之一致性
該組成物膜之預烤乾後之厚度，係使用光譜式反射儀[Lambda Ace，SCREEN Semiconductor Solutions股份有限公司製作的產品]，測量距離膜中央25毫米的五個點，其中點對點的距離彼此相等。
膜中厚度大小的最大差值為0.2微米以上者標示為「X」(不良)。膜中厚度大小的最大差值為小於0.2微米者標示為「○」(良好)。
評估結果列示於表2。
II.解析度
光阻圖案係於ES的曝光量製備。沒有線塌陷的圖案之最小線寬測定為「解析度」值。
於本評估中，ES(有效靈敏度)表示於3微米線寬時，線與間之間的寬度比為1：1的曝光量。
評估結果列示於表2。
實施例6至11及比較例3至4 (光阻圖案之製備)
表1中所列成份經混合及溶解於上述溶劑中，並且進一步通過具有15微米孔隙直徑的含氟樹脂過濾器過濾而製備光阻組成物。各個實施例中之成份含量顯示於表1。
(光阻圖案之製備)
在基板(4吋)上方以使乾燥後所得膜之厚度變50微米之方式，旋轉塗上述製備的各個光阻組成物。如此 被覆有個別光阻組成物的基板分別以表1的「PB」欄中顯示的溫度，直接於加熱板上各自預烤乾300秒。
使用i-射線步進器(Nikon公司製造的「NSR 1755i7A」，NA=0.5)及遮罩用於形成線與間的圖案，對如此形成的具有各膜晶圓以逐步改變曝光數量進行曝光。
曝光之後，各個晶圓以表1的「PEB」欄中顯示的溫度，於加熱板上進行180秒曝光後烤乾。
(評估) I.厚度之一致性
預烤乾之後該組成物膜之厚度，使用光譜式反射儀[Lambda Ace，SCREEN Semiconductor Solutions股份有限公司製作的產品]，測量距離膜中央25毫米的五個點，其中點對點的距離彼此相等。
膜中厚度大小的最大差值為2微米以上者標示為「X」(不良)。膜中厚度大小的最大差值為小於2微米者標示為「○」(良好)。
評估結果列示於表3。
II.解析度
光阻圖案係於ES的曝光量製備。沒有線塌陷的圖案之最小線寬測定為「解析度」值。
於本評估中，ES(有效靈敏度)表示於40微米線寬時，線與間之間的寬度比為1：1的曝光量。
評估結果列舉於表3。
III.抗裂性
在基板(4吋)上方以使乾燥後所得膜之厚度變50微米之方式，旋轉塗佈上述製備的各個光阻組成物。如此被覆有個別光阻組成物的基板分別以表1的「PB」欄中顯示的溫度，直接於加熱板上各自預烤乾300秒。然後，經預烤乾的基板各自以130℃在加熱板上烤乾300秒，接著快速冷卻至23℃。所得無裂縫之膜標示為「○」(良好)，並且所得有10個以上的裂縫之膜標示為「X」(不良)。
評估結果列舉於表3。
本發明之光阻組成物能提供可形成具有精細形狀的光阻圖案之光阻膜。

Claims (7)

  1. 一種光阻組成物，其包含：具有由式(I)表示之結構單元之樹脂： 其中R1表示氫原子、鹵原子、或視需要具有鹵原子的C1至C6烷基，及R2表示視需要具有取代基的C1至C42烴基；鹼溶性樹脂；酸產生劑；以及溶劑。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其中，R2表示表示C1至C20直鏈脂肪族烴基或C3至C20分支脂肪族烴基。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其中，該具有由式(I)表示之結構單元之樹脂進一步具有選自於由式(a2-1)表示之結構單元、由式(a2-2)表示之結構單元、及由式(a2-3)表示之結構單元、以及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組中的結構單元： 其中Ra7、Ra8及Ra9各自獨立地表示氫原子或甲基，Ra10各自獨立地表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，Ra11表示氫原子、或C1至C20第一或第二烴基，Ra12各自獨立地表示C1至C6第一或第二烷基，La1各自獨立地表示C2至C6烷二基，其中鍵結至氧原子的碳原子為第一或第二碳原子，m'表示0至4之整數，以及n表示1至30之整數。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光阻組成物，其中，該具有由式(I)表示之結構單元之樹脂進一步具有選自於由式(a2-3)表示之結構單元及具有內酯環及不含酸不穩定基的結構單元所成群組中之結構單元。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其中，該溶劑之重量佔該光阻組成物總重的40至75重量%。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光阻組成物，其進一步包含具有由式(a1-2)表示之結構單元的樹脂： 其中Ra1’及Ra2’各自獨立地表示氫原子或C1至C12烴基，Ra3’表示C1至C20烴基，或Ra3’係鍵結至Ra1’或Ra2’而形成C2至C20二價雜環族基，其中亞甲基可由氧原子或硫原子取代，Ra5表示氫原子或甲基，Ra6各自獨立地表示C1至C6烷基或C1至C6烷氧基，以及m表示0至4之整數。
  7. 一種光阻圖案之製造方法，其包含(1)將申請專利範圍第1項所述之光阻組成物施加至基板的步驟，(2)藉由乾燥該光阻組成物而形成光阻組成物膜的步驟，(3)將該光阻組成物膜曝光的步驟，以及(4)將該已曝光之光阻組成物膜顯影的步驟。
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