TW201728373A - 附有膜之彎曲基材及其製造方法、與圖像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一種附有膜之彎曲基材，其特徵在於：包括具有第一主表面、第二主表面、及端面之基材、與設置於上述第一主表面上之防眩膜，上述基材具有平坦部與彎曲部，用彎曲部之反射圖像擴散性指標值R除以彎曲部之反射圖像擴散性指標值R及平坦部之反射圖像擴散性指標值R之和而獲得之值為0.3以上且0.8以下。

Description

附有膜之彎曲基材及其製造方法、與圖像顯示裝置

本發明係關於一種附有膜之彎曲基材及其製造方法、與圖像顯示裝置。

於各種機器(例如，電視、個人電腦、智慧型手機、行動電話等)所配置之圖像顯示裝置(例如，液晶顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器、電漿顯示器等)中，若室內照明(螢光燈等)、太陽光等外部光映入顯示面，則因反射圖像而視認性降低。近年來，開始使用具有撓曲或彎曲之顯示面之圖像顯示裝置，而抑制該映入變得更為重要。 作為抑制外部光映入之方法，存在如下方法：將表面具有凹凸構造之防眩膜配置於圖像顯示裝置之顯示面，使外部光進行擴散反射，藉此使反射圖像變得不清晰。 作為防眩膜之形成方法，已知有如下方法：利用噴霧法將包含烷氧基矽烷之水解縮合物等二氧化矽前驅物之組合物塗佈於基材上並進行焙燒(例如參照專利文獻1)。於藉由噴霧法形成防眩膜之情形時，大多使用二流體噴霧嘴。 然而，為了形成均質之防眩膜，而必需掃描二流體噴霧嘴之機械手，高價且塗佈時間變長。又，關於所獲得之防眩膜，均質性不充分且難以獲得所需之特性。 另一方面，於專利文獻2中提出有如下方法：藉由於組合物中混合界面活性劑而使液體變得容易擴散，從而塗佈於撓曲或彎曲之彎曲基材。由於設為使用大量之界面活性劑而實現了所需表面張力之組合物組成，故而存在如下問題：未獲得具有所需光學特性之防眩膜，又，該防眩膜之光學均一性亦不充分。 又，作為附有防眩膜之彎曲基材之製作方法，於專利文獻3中揭示有如下步驟：於玻璃平板上形成玻璃轉移溫度高於玻璃平板之防眩膜後，設為高溫，於玻璃平板形成彎曲部而製作附有防眩膜之彎曲基材。若將形成有防眩膜之玻璃平板成形並於一部分上形成彎曲部，則存在平坦部與彎曲部之外觀不同之問題。其原因在於：於成形時將形成有防眩膜之玻璃板暴露於高溫下，尤其是供形成彎曲部之部位較平坦部受到高溫，因此防眩膜之構造遭到破壞。又，由於形成有玻璃轉移溫度高於玻璃平板之防眩膜，故而於成形步驟中存在如下問題：防眩膜本身之柔軟性不足，而產生龜裂等大量缺陷。 除此以外，若亦將抗反射膜設置於彎曲基材上，則存在反射色之色調視觀看方向而變化之問題，且於正對著顯示面之情形時，存在色調視彎曲基材之部位而不同之問題(例如，參照專利文獻4)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2009-058640號公報 [專利文獻2]日本專利特開2006-113145號公報 [專利文獻3]國際公開第2015/133346號 [專利文獻4]日本專利特開2015-121512號公報

[發明所欲解決之問題] 本發明之目的在於鑒於上述問題點，而提供一種外觀優異，於面內均一且具有優異之視認性之附有膜之彎曲基材、及其製造方法、與圖像顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明之一形態之附有膜之彎曲基材之特徵在於：包括具有第一主表面、第二主表面、及端面之基材、與設置於上述第一主表面之防眩膜，且上述基材具有平坦部與彎曲部，且 用彎曲部之反射圖像擴散性指標值R除以彎曲部之反射圖像擴散性指標值R及平坦部之反射圖像擴散性指標值R之和而獲得之值為0.3以上且0.8以下。 此處，反射圖像擴散性指標值R係將基材之第一主表面設為基準(設為0°)，自+45°之方向對基材照射光，對基材表面所反射之正反射光(稱為45°正反射光)之亮度進行測定，繼而同樣地自+45°之方向對基材照射光，使受光角度於0°～+90°之範圍內進行變化，對基材表面所反射之全反射光之亮度進行測定，並由下式(1)計算出。 反射圖像擴散性指標值R＝(全反射光之亮度－45°正反射光之亮度)/(全反射光之亮度)          (1) 又，本發明之另一態樣之附有膜之彎曲基材之特徵在於：包括具有第一主表面、第二主表面、及端面之基材，與設置於上述第一主表面之防眩膜，且整個上述基材僅包含曲率並非為0之彎曲部，且設置於上述彎曲部之防眩膜之霧度於面內之標準偏差為0%以上且10%以下。 本發明之一態樣之附有膜之彎曲基材之製造方法之特徵在於具有如下步驟：準備具有包括第一主表面、第二主表面、及端面之彎曲部之彎曲基材；準備包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)之組合物；將上述彎曲基材以導電性基材與上述第二主表面之彎曲部接觸之方式載置於導電性基材上；使用靜電塗裝裝置使上述組合物帶電並進行噴霧，藉此於載置於上述導電性基材上之上述彎曲基材上形成塗膜；及將上述塗膜進行焙燒。 [發明之效果] 本發明可提供一種美觀優異，於面內均一且具有優異之視認性之附有膜之彎曲基材、及其製造方法、與圖像顯示裝置。

以下用語之定義係適用於本說明書及申請專利範圍全部。 所謂「彎曲部」，意指平均曲率並非為零之部分。 所謂「二氧化矽前驅物」，意指藉由焙燒而可形成以SiO₂ 為主成分之基質之物質。 所謂「以SiO₂ 為主成分」，意指包含90質量%以上之SiO₂ 。 所謂「鍵結於矽原子之水解性基」，意指藉由水解而可轉換為鍵結於矽原子之OH基之基。 所謂「鱗片狀粒子」，意指具有扁平形狀之粒子。粒子之形狀可使用透過型電子顯微鏡(以下，亦記載為TEM)進行確認。 「60°鏡面光澤度」係藉由JIS Z8741：1997(ISO2813：1994)所記載之方法，不將背面(與形成有防眩膜之側相反側之面)反射消除而進行測定。 「霧度」係藉由JIS K7136：2000(ISO14782：1999)所記載之方法進行測定。 「算術平均粗糙度Ra」係藉由JIS B0601：2001(ISO4287：1997)所記載之方法進行測定。 「平均粒徑」意指於將以體積基準求出之粒度分佈之總體積設為100%之累積體積分佈曲線中成為50%之點之粒徑、即體積基準累積50%徑(D50)。粒度分佈係藉由利用雷射繞射/散射式粒徑分佈測定裝置所測得之頻度分佈及累積體積分佈曲線而求出。 關於「支持高度(bearing height)」，係於根據利用雷射顯微鏡對101 μm×135 μm～111 μm×148 μm之區域(以下，亦稱為「觀察區域」)進行測定而獲得之觀察區域之表面形狀之xyz資料求出的高度分佈直方圖中，最高之高度z之值。xyz資料中之高度z係將觀察區域之最低點設為基準之高度(自測定高度z之位置直至觀察區域中之與基材之主表面平行且包含最低點之平面的垂直線之長度)，於以下，未特別規定基準之情形之表面形狀中之高度之含義亦相同。算出支持高度時之直方圖之增量(bin)係設定為1000。 「縱橫比」意指粒子之最長長度相對於厚度之比(最長長度/厚度)，「平均縱橫比」係隨機選擇之50個粒子之縱橫比之平均值。粒子之厚度係藉由原子力顯微鏡(以下，亦記載為AFM)進行測定，最長長度係藉由TEM進行測定。 「反射圖像擴散性指標值R」係利用以下所記載之方法算出。首先將基材表面設為基準(設為0°)，自+45°之方向對基材照射光，對基材表面所反射之正反射光(稱為45°正反射光)之亮度進行測定。繼而，同樣地，自+45°之方向對基材照射光，使受光角度於0°～+90°之範圍內進行變化，而測定基材表面所反射之全反射光之亮度。將該等測定值代入至「反射圖像擴散性指標值R＝(全反射光之亮度－45°正反射光之亮度)/(全反射光之亮度)」之式中，藉此求出反射圖像擴散性指標值R。 「解像度指標值T」係利用以下所記載之方法算出。自作為測定對象之具有第一主表面與第二主表面之基材之第二主表面側，對與基材之厚度方向平行之方向(稱為角度0°之方向)照射第一光，測定自第一主表面透過之透過光(稱為0°透過光)之亮度。繼而，使相對於第一主表面之受光角度於-90°～+90°之範圍內進行變化，對第一光自第一主表面側透過之全透過光之亮度進行測定。將該等測定值代入至「解像度指標值T＝(全透過光之亮度－0°透過光之亮度)/(全透過光之亮度)」之式中，藉此求出解像度指標值T。 「炫光指標值S」係以如下方式求出。將作為測定對象之具有第一主表面與第二主表面之基材之第二主表面以成為所需顯示裝置之顯示面側之方式進行配置。繼而自基材之第一主表面側進行攝影而取得圖像。藉由Software EyeScale-4W(I-system股份有限公司製造)對該圖像進行解析，將藉此輸出之ISC-A之值設為炫光指標值S。 藉由本發明之實施形態之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法而獲得之附有防眩膜之彎曲基材(以下，亦記載為附有膜之彎曲基材)係包括彎曲基材、與形成於彎曲基材上之防眩膜者，圖1係表示藉由本發明之實施形態之製造方法而獲得之附有防眩膜之彎曲基材之一例的剖面模式圖。 該例之附有防眩膜之彎曲基材1包括：具有彎曲部9之彎曲基材3、與形成於彎曲基材3上之防眩膜5。圖1(a)係表示組合彎曲部9與平坦部7而成之形狀，圖1(b)係表示整體成為彎曲部9之形狀。 ＜彎曲基材＞ 彎曲基材3係具有第1主表面3a、第2主表面3b、及端面，且包含至少1個以上之彎曲部9之形狀。可列舉：如圖2(a)所示之組合彎曲部9與平坦部7而成之形狀、如圖2(b)所示之整體成為彎曲部9之形狀等，但只要具有彎曲部9，則形狀並無特別限定。最近，於各種機器(例如，電視、個人電腦、智慧型手機、汽車導航等)中，出現了圖像顯示裝置之顯示面成為曲面者，只要按照圖像顯示裝置之形狀或圖像顯示裝置之殼體之形狀等製作彎曲基材3即可。 作為彎曲基材3之形態，可列舉：板、膜等。 作為彎曲基材3之材料，可列舉：玻璃、金屬、樹脂、矽、木材、紙等。作為樹脂，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙醯纖維素、聚甲基丙烯酸甲酯等。其中，就安全性或強度之觀點而言，較佳為玻璃。進而，於使用玻璃作為車載用基材時，就較高之耐熱性、較高之耐候性之觀點而言亦較佳。 於彎曲基材3為玻璃之情形時，例如為了確保作為車載用顯示構件之覆蓋玻璃所必需之機械強度及耐擦傷性，較佳為對彎曲基材3進行強化處理。作為強化處理，物理強化處理、化學強化處理均可使用，但就即便為相對較薄之玻璃亦可進行強化處理之方面而言，較佳為進行化學強化處理。 關於彎曲基材3之玻璃組成，於不實施化學強化處理之情形時，可列舉：無鹼玻璃、鈉鈣玻璃，於進行化學強化處理之情形時，例如可列舉：鈉鈣矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃、鋰鋁矽酸鹽玻璃、硼矽酸玻璃。就即便厚度較薄，亦容易藉由強化處理而獲得較大之應力，而即便較薄亦可獲得高強度之玻璃，從而作為配置於圖像顯示裝置之視認側之物品較佳之方面而言，較佳為鋁矽酸鹽玻璃。 彎曲基材3其表面壓縮應力之最大值為400 MPa以上，較佳為500 MPa以上，更佳為600 MPa以上。又，壓縮應力層深度(DOL)為10 μm以上。藉此，可藉由將表面壓縮應力及壓縮應力層深度設為上述範圍而對彎曲基材3之主表面賦予優異之強度與耐擦傷性。 [玻璃組成] 作為彎曲基材3之玻璃組成之具體例，可列舉：於以莫耳%表示之組成中包含SiO₂ 50～80%、Al₂ O₃ 0.1～25%、Li₂ O+Na₂ O+K₂ O 3～30%、MgO 0～25%、CaO 0～25%及ZrO₂ 0～5%之玻璃，並無特別限定。更具體而言，可列舉以下之玻璃之組成。再者，例如所謂「包含MgO 0～25%」，係如下含義：MgO並非必須包含，但亦可包含MgO至25%為止。(i)之玻璃係屬於鈉鈣矽酸鹽玻璃，(ii)及(iii)之玻璃係屬於鋁矽酸鹽玻璃。 (i)於以莫耳%表示之組成中，包含SiO₂ 63～73%、Al₂ O₃ 0.1～5.2%、Na₂ O 10～16%、K₂ O 0～1.5%、Li₂ O 0～5.0%、MgO 5～13%及CaO 4～10%之玻璃 (ii)以莫耳%表示之組成含有SiO₂ 50～74%、Al₂ O₃ 1～10%、Na₂ O 6～14%、K₂ O 3～11%、Li₂ O 0～5.0%、MgO 2～15%、CaO 0～6%及ZrO₂ 0～5%，且SiO₂ 及Al₂ O₃ 之含量之合計為75%以下，Na₂ O及K₂ O之含量之合計為12～25%，MgO及CaO之含量之合計為7～15%之玻璃 (iii)以莫耳%表示之組成含有SiO₂ 68～80%、Al₂ O₃ 4～10%、Na₂ O 5～15%、K₂ O 0～1%、Li₂ O 0～5.0%、MgO 4～15%及ZrO₂ 0～1%之玻璃 (iv)以莫耳%表示之組成含有SiO₂ 67～75%、Al₂ O₃ 0～4%、Na₂ O 7～15%、K₂ O 1～9%、Li₂ O 0～5.0%、MgO 6～14%及ZrO₂ 0～1.5%，且SiO₂ 及Al₂ O₃ 之含量之合計為71～75%、Na₂ O及K₂ O之含量之合計為12～20%，於含有CaO之情形時其含量未達1%之玻璃。 彎曲基材3為了適當地進行化學強化處理，較佳為其玻璃組成中之Li₂ O與Na₂ O之含量之合計為12莫耳%以上。進而，隨著玻璃組成中之Li₂ O之含有率增加，而玻璃轉移點降低，而成形變容易，因此較佳為將Li₂ O之含有率設為0.5莫耳%以上，更佳為設為1.0莫耳%以上，進而較佳為設為2.0莫耳%以上。進而，為了使表面壓縮應力(Compressive Stress：CS)及壓縮應力層深度(Depth of Layer：DOL)變大，較佳為彎曲基材3之玻璃組成含有60莫耳%以上之SiO₂ 、8莫耳%以上之Al₂ O₃ 。 [玻璃之製造方法] 繼而，對用以製作彎曲基材3之平板狀玻璃之製造方法進行說明。首先，將各成分之原料以成為上述組成之方式進行調製，並於玻璃熔融爐中進行加熱熔融。藉由起跑、攪拌、澄清劑之添加等而使玻璃均質化，藉由公知之成形法成形為特定厚度之玻璃板並進行緩冷。作為玻璃之成形法，例如可列舉：浮式法、按壓法、熔融法、下拉法及滾壓法。尤其是適合大量生產之浮式法較佳。又，浮式法以外之連續成形法、即熔融法及下拉法亦較佳。藉由任意之成形法而成形為平板狀之玻璃構件經緩冷後，被切割成所需之尺寸。再者，於必需更精確之尺寸精度之情形等，亦可對切割後之玻璃構件實施下述之研磨加工或端面加工。藉此，可於成形步驟等中之操作中減少破裂或缺陷而可提高良率。 (成形步驟) 彎曲基材3較佳為自平板狀基材成形為特定形狀。例如於選擇板玻璃作為平板狀基材之情形時，作為所使用之成形法，只要視成形後之彎曲基材3之形狀從自重成形法、真空成形法、加壓成形法中選擇所需之成形法即可。 自重成形法係如下方法：於對應於成形後之彎曲基材3之形狀之特定模具上設置板玻璃後，使該板玻璃軟化後，該板玻璃由於重力而彎曲並適應於模具，從而成形為特定形狀。 真空成形法係如下方法：於已使板玻璃軟化之狀態下對板玻璃之正面及背面施加不同壓力，使板玻璃彎曲並使之適應模具，從而成形為特定形狀。於真空成形法中，於對應於成形後之彎曲基材3之形狀之特定模具上設置板玻璃，於該板玻璃上設置夾具模具，將板玻璃之周邊密封後，利用泵對模具與板玻璃之間之空間進行減壓，藉此對板玻璃之正面及背面施加不同壓力。此時，亦可輔助性地對板玻璃之上表面側進行加壓。 加壓成形係如下方法：於對應於成形後之彎曲基材3之形狀之特定模具(下模、上模)間設置板玻璃，於已使板玻璃軟化之狀態下，對上下之模具間施加加壓負荷，使板玻璃彎曲並使之適應模具，從而成形為特定形狀。 該等中，真空成形法係作為成形為彎曲基材3之特定形狀之方法優異，且由於彎曲基材3之兩個主表面中一主表面可不與成形模具進行接觸而成形，故而可減少損傷、凹陷等凹凸狀缺陷。 再者，只要視成形後之彎曲基材3之形狀而選擇適當之成形法即可，亦可併用2種以上之成形法。 又，關於所使用之平板狀基材，亦可使用具有蝕刻處理層或者基於濕式塗佈或乾式塗佈之塗佈層等之基材。 (研磨加工步驟) 亦可對將彎曲基材3成形前之平板狀基材或成形後所獲得之彎曲基材3等對象物之至少一主表面進行研磨加工。 於研磨加工步驟中，以一定壓力接觸旋轉研磨工具之研磨加工部，並以一定速度使之移動而進行研磨加工。藉由於一定壓力、一定速度之條件下進行研磨，而可以一定之研磨速率均勻地研磨研削麵。作為旋轉研磨工具之研磨加工部之接觸時之壓力，就經濟性及控制容易性等方面而言，較佳為1～1,000,000 Pa。關於速度，就經濟性及控制容易性等方面而言，較佳為1～10,000 mm/min。移動量係視基材之形狀等而適當決定。旋轉研磨工具只要其研磨加工部為可研磨之旋轉體，則無特別限定，可列舉：於具有工具夾持部之主軸、刳刨機安裝研磨工具之方式等。作為旋轉研磨工具之材質，至少其研磨加工部為鈰墊、橡膠磨石、拋光氈、聚胺基甲酸酯等，只要為可將被加工物進行加工去除，且楊氏模數較佳為7 GPa以下、進而較佳為5 GPa以下者，則種類並無限定。藉由使用楊氏模數7 GPa以下之構件作為旋轉研磨工具之材質，而可利用壓力使研磨加工部沿著對象物之形狀進行變形，而將底面及側面加工為上述之特定表面粗糙度。旋轉研磨工具之研磨加工部之形狀可列舉：圓或圓環狀之平盤、圓柱型、炮彈型、碟片型、樽型等。 於使基材與旋轉研磨工具之研磨加工部接觸而進行研磨之情形時，較佳為於使研磨粒漿料介存之狀態下進行加工。於該情形時，作為研磨粒，可列舉：二氧化矽、氧化鈰、鋁氧粉、白鋁氧粉(WA)、金剛砂、氧化鋯、SiC、金剛石、氧化鈦、氧化鍺等，其粒度較佳為10 nm～10 μm。旋轉研磨工具之相對移動速度如上述般，可於1～10,000 mm/min之範圍內選定。旋轉研磨工具之研磨加工部之轉數為100～10,000 rpm。若轉數較小，則有加工速率變慢，而成為所需表面粗糙度會過於耗費時間之情形，若轉數較大，則有加工速率變快，而工具之磨耗變得過甚，因此變得難以控制研磨之情形。 再者，亦可沿著基材之形狀使旋轉研磨工具與基材相對地移動而進行研磨加工。移動之方式只要為可將移動量、方向、速度控制為一定之方式，則可為任意者。例如可列舉使用多軸機械手等之方式等。 (端面加工步驟) 又，亦可對彎曲基材3之端面實施倒角加工等處理。於彎曲基材3為玻璃之情形時，較佳為藉由機械研磨而進行通常稱為R倒角、C倒角之加工，但亦可利用蝕刻等進行加工，並無特別限定。 (化學強化步驟) 彎曲基材3藉由進行化學強化而於表面形成壓縮應力層，從而使強度及耐擦傷性提高。化學強化係如下處理：於玻璃轉移點以下之溫度下，藉由離子交換而將玻璃表面之離子半徑較小之鹼金屬離子(典型而言，為Li離子或Na離子)交換為離子半徑更大之鹼金屬離子(典型而言，為K離子)，藉此於玻璃表面形成壓縮應力層。化學強化處理可藉由先前公知之方法實施。 (功能層形成步驟) 於附有防眩膜之彎曲基材1之製作步驟中亦可視需要而實施形成各種功能膜之步驟。作為此種功能膜之具體例，可列舉：抗反射膜、防污膜、紅外線截止膜、紫外線截止膜、撥水膜、抗靜電膜等。 [抗反射膜] 所謂抗反射膜，係如下膜：發揮降低反射率之效果，而減少由光之映入引起之炫目，除此以外，於用於圖像顯示裝置之情形時，可提高光自圖像顯示裝置之透過率，而可提高圖像顯示裝置之視認性。 於形成抗反射膜之情形時，較佳為於防眩膜5上形成抗反射膜。作為抗反射膜之構成，只要為可抑制光之反射之構成，則無特別限定，例如可設為：積層有波長550 nm下之折射率為1.9以上之高折射率層與折射率為1.6以下之低折射率層的構成；或包含於膜基質中混合存在有中空粒子或空孔之波長550 nm下之折射率為1.2～1.4之層的構成。 抗反射膜中之高折射率層與低折射率層之膜構成可為包含高折射率層與低折射率層各1層之形態，亦可為包含高折射率層與低折射率層各2層以上之構成。於包含高折射率層與低折射率層各2層以上之情形時，較佳為交替積層高折射率層與低折射率層而成之形態。又，亦可低折射率層僅1層。 為了提高抗反射性，較佳為抗反射膜為積層複數層而成之積層體，積層數量越多，越可實現於更廣之波長範圍內表現出更低反射性之膜構成之光學設計。例如該積層體以整體計較佳為積層有2層以上且8層以下之層，就反射率降低效果及量產性之觀點而言，更佳為積層有2層以上且6層以下之層。此處之積層體較佳為如上述般積層高折射率層與低折射率層而成之積層體，且較佳為高折射率層、低折射率層各自之層數合計為上述範圍。 高折射率層、低折射率層之材料並無特別限定，可考慮所要求之抗反射性之程度或生產性等而適當選擇。作為構成高折射率層之材料，例如可較佳地使用選自氧化鈮(Nb₂ O₅ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鋯(ZrO₂ )、氧化鉭(Ta₂ O₅ )、氮化矽(SiN)中之1種以上。作為構成低折射率層之材料，可較佳地使用選自氧化矽(SiO₂ )、包含Si與Sn之混合氧化物之材料、包含Si與Zr之混合氧化物之材料、包含Si與Al之混合氧化物之材料中之1種以上。 就生產性、或折射率之觀點而言，較佳為如下構成：高折射率層為包含選自氧化鈮、氧化鉭、氮化矽中之1種之層，低折射率層為包含氧化矽之層。 作為形成抗反射膜之方法，可列舉：藉由旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、澆鑄法、狹縫式塗佈法、噴塗法、靜電噴霧沈積法(ESD法)等而塗佈於形成於防眩膜5上或其他功能膜上之密接層之表面後，視需要進行加熱處理之方法；或於密接層之表面藉由化學氣相蒸鍍法(CVD法)、如濺鍍法或PLD(Pulsed Laser Deposition，脈衝激光沈積)法之物理氣相蒸鍍法(PLD法)等形成抗反射膜之方法。 再者，本實施形態之彎曲基材如圖11所示般包括：具有平坦部7、相對於平坦部7以角度θ設置之傾斜部8(角度不同之其他平坦部)之彎曲基材3、設置於其上之防眩膜(未圖示)、及設置於防眩膜上之抗反射膜6。又，亦可包括：具有平坦部7與傾斜部8之彎曲基材3與直接設置於其上之抗反射膜6。於任一種情形時，均平坦部7上之抗反射膜6之膜厚變得厚於傾斜部8上之抗反射膜6之膜厚。又，針對自垂直於平坦部7之方向觀察之情形時之平坦部7、傾斜部8、彎曲部9，將與各基材之抗反射膜相反側之主表面的反射消除而對a∗及b∗進行測定，於將所測得之值相差最大之2點之差分別設為Δa∗及Δb∗之情形時，滿足Δa∗＜5.6且Δb∗＜5.4。除此以外，於JIS Z 8729(2004年)中，ΔE＝[(ΔL)² +(Δa∗)² +(Δb∗)² ]^0.5 之式所規定之色差ΔE滿足ΔE＜18。Δa∗及Δb∗係JIS Z 8729(2004年)中之視感反射率。尤其是於平坦部與傾斜部所成之角度θ為50°以下之情形時，更佳為ΔE為5以下。 藉由同時滿足上述Δa∗、Δb∗及ΔE之條件，可平坦部7、傾斜部8、彎曲部9均確保良好之視認性。上述之Δa∗及Δb∗較佳為滿足-6.5≦a∗≦6.5且-8≦b∗≦8。進而，較佳為平坦部7及傾斜部8之抗反射膜6之成膜面中於面內之a∗之偏差(差之絕對值)為0.2以下且b∗之偏差為0.5以下。此處，面內之偏差係於至少包含平坦部7、傾斜部8、彎曲部9各1處之任意5處進行測定。 關於上述之平坦部7上之膜厚與傾斜部8上之膜厚的關係，意指整體之層之合計成為此種關係。於各層每層進行比較之情形時，亦可存在傾斜部8上之膜厚變得薄於平坦部7上之膜厚之層。各層之膜厚可根據平坦部7與傾斜部8所成之角度而適當進行調整。 如上述之本實施形態之彎曲基材例如可藉由使用如下濺鍍裝置進行製造，該濺鍍裝置係視彎曲基材之形狀，複數個靶之角度及位置可獨立地進行調整者。該濺鍍裝置較佳為可藉由獨立控制各靶之製膜條件，而獨立地控制平坦部7與傾斜部8之膜厚(成膜功率等)。 關於作為將平坦部7與傾斜部8進行連接之區域之彎曲部9上之膜厚T，於抗反射膜6之各層中係成為平坦部7上之膜厚與傾斜部8上之膜厚中間之膜厚。即便於平坦部7上之膜厚與傾斜部8上之膜厚中之任一者較大之情形時，各層亦每層滿足該情況。藉此，自平坦部7至傾斜部8膜厚會連續地進行變化，因此即便為具有傾斜部8之彎曲基材，亦可作為整體表現出自然之色調。為了設為此種膜厚構成，與將平坦部7與傾斜部8分別進行成膜相比，較佳為將平坦部7與傾斜部8同時進行成膜。若將平坦部7與傾斜部8分別進行成膜，則有產能降低或彎曲部9上之膜厚變厚等顧慮。 關於上述抗反射膜6之構成，並不限於抗反射膜，即便於上述紅外線截止膜、紫外線截止膜、撥水膜、抗靜電膜中，亦可期待相同之效果。 [防污膜] 所謂防污膜，係抑制有機物、無機物附著於表面之膜、或者發揮即便於表面附著有無機物、有機物之情形時，亦可藉由擦拭等清潔而容易將附著物去除之效果之膜。 於形成防污膜之情形時，較佳為形成於防眩膜5上或其他功能膜上。作為防污膜，只要為可對所獲得之附有防眩膜之彎曲基材1賦予防污性者，則無特別限定。其中，較佳為包含藉由水解縮合反應使含氟有機矽化合物硬化而獲得之含氟有機矽化合物被膜。 防污膜之厚度並無特別限定，於防污膜包含含氟有機矽化合物被膜之情形時，其膜厚較佳為2～20 nm，更佳為2～15 nm，進而較佳為2～10 nm。若膜厚為2 nm以上，則成為由防污層均勻覆蓋之狀態，就耐磨擦性之觀點而言，成為實用上耐用者。又，若膜厚為20 nm以下，則形成有防污膜之狀態下之附有防眩膜之彎曲基材1之霧度值等光學特性良好。 作為形成含氟有機矽化合物被膜之方法，可列舉：藉由旋轉塗佈法、浸漬塗佈法、澆鑄法、狹縫式塗佈法、噴塗法等將具有全氟烷基；包含全氟(聚氧伸烷基)鏈之氟烷基等氟烷基之矽烷偶合劑之組合物塗佈於形成於防眩膜5上或其他功能膜上之密接層的表面後，視需要進行加熱處理之方法；或於密接層之表面氣相蒸鍍含氟有機矽化合物後，視需要進行加熱處理之真空蒸鍍法等，且不問被膜形成之方法。 被膜形成用組合物只要為含有含氟水解性矽化合物且可形成被膜之組合物，則無特別限制。被膜形成用組合物可含有含氟水解性矽化合物以外之任意成分，亦可僅由含氟水解性矽化合物構成。作為任意成分，可列舉：可於不妨礙本發明之效果之範圍內使用之不具有氟原子之水解性矽化合物(以下稱為「非氟水分解性矽化合物」)、觸媒等。 再者，於將含氟水解性矽化合物、及任意之非氟水解性矽化合物調配於被膜形成用組合物中時，各化合物可直接進行調配，亦可以部分水解縮合物之形式進行調配。又，亦可以該化合物與其部分水解縮合物之混合物之形式調配於被膜形成用組合物中。 又，於組合2種以上之水解性矽化合物而使用之情形時，各化合物可直接調配於被膜形成用組合物中，亦可分別以部分水解縮合物之形式調配於被膜形成用組合物中，亦可進而以2種以上之化合物之部分水解共縮合物之形式調配於被膜形成用組合物中。又，亦可為該等化合物、部分水解縮合物、部分水解共縮合物之混合物。其中，於利用真空蒸鍍等進行成膜之情形時，所使用之部分水解縮合物、部分水解共縮合物係聚合度可實現真空蒸鍍之程度者。以下，水解性矽化合物之用語係以如下含義使用，即除化合物自身外，亦包含上述部分水解縮合物、部分水解共縮合物。 本發明之含氟有機矽化合物被膜之形成所使用之含氟水解性矽化合物只要所獲得之含氟有機矽化合物被膜為具有撥水性、撥油性等防污性者，則無特別限定。 具體而言，可列舉：具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群中之1個以上之基之含氟水解性矽化合物。該等基係以經由連結基或直接鍵結於水解性矽烷基之矽原子之含氟有機基的形式存在。作為市售之具有選自由全氟聚醚基、全氟伸烷基及全氟烷基所組成之群中之1個以上之基之含氟有機矽化合物(含氟水解性矽化合物)，可較佳地使用KP-801(商品名，信越化學工業公司製造)、X-71(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-130(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-178(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-185(商品名，信越化學工業公司製造)、KY-195(商品名，信越化學工業公司製造)、Afluid(註冊商標)S-550(商品名，旭硝子公司製造)、OPTOOL(註冊商標)DSX(商品名，大金工業公司製造)等。上述中，更佳為使用KY-185、KY-195、OPTOOLDSX、S-550。 使包含此種含氟水解性矽化合物之被膜形成用組合物附著於密接層表面，使之進行反應而進行成膜，藉此可獲得含氟有機矽化合物被膜。為了促進反應，亦可於成膜後，視需要進行加熱處理或加濕處理。再者，關於具體之成膜方法、反應條件，可應用先前公知之方法、條件等。 形成有防污層之最表面之靜摩擦係數較佳為1.0以下，更佳為0.9以下，進而較佳為0.8以下。若靜摩擦係數為1.0以下，則人之手指接觸附有防眩膜之彎曲基材1之最表面時指滑動性良好。又，第1面之彎曲部之動摩擦係數較佳為0.02以下，更佳為0.015以下，進而較佳為0.01以下。若動摩擦係數為0.02以下，則人之手指接觸第1面之彎曲部時指滑動性良好。 [其他功能層] 附有防眩膜之彎曲基材1亦可為至少一部分具有其他功能層者。 作為功能層，可列舉：底漆塗佈層、密接改善層、保護層等。 底漆塗佈層係具有作為鹼性阻擋層或寬帶之低折射率層、高折射率層之功能。 除此以外，亦可對彎曲基材3之第二主表面3b實施防霧處理等功能膜之形成、功能賦予處理、印刷等。 將下述之防眩膜形成步驟於成形步驟後實施，除此以外，包括焙燒步驟在內之上述步驟之順序並無特別限定。可省略上述步驟中成形步驟以外之步驟，亦可追加其他步驟。 於使用玻璃作為彎曲基材3之材質之情形時，防眩膜5可形成於成形後之未強化之彎曲基材3上，亦可形成於成形後經強化處理之彎曲基材3上。 於前者之情形時，亦可於成形後之未強化之彎曲基材3上形成防眩膜5後進行強化處理。又，亦可進行未形成有防眩膜5之彎曲基材3之主表面之研磨加工及端面加工。藉由離子交換而實施過化學強化之玻璃存在如下情況：其表面產生缺陷，或者殘留最大1 μm左右之微細凹凸。進而，於力作用於彎曲基材3之情形時，存在如下情況：應力集中於存在上述缺陷或微細凹凸之部位，而即便為較理論強度小之力亦會破裂。因此，亦可藉由研磨而將存在於化學強化後之彎曲基材3中之具有缺陷及微細凹凸之層(缺陷層)去除。作為研磨之方法，可使用上述之方法。再者，存在缺陷之情形時之缺陷層之厚度亦取決於化學強化之條件，但通常為0.01～0.5 μm。於防眩膜形成步驟後進行化學強化步驟之情形時，不僅用以玻璃之化學強化，亦可藉由化學強化時之加熱而用於對所形成之防眩膜加熱。藉此，可促進防眩膜之縮聚合或燒結，而獲得相對於耐磨耗性或耐候性等，強度較高之膜。於該化學強化步驟中對防眩膜進行加熱之情形時，若將形成有防眩膜之彎曲基材3浸漬於強化鹽中，則有較於大氣中進行加熱之情形更高之強化效果。關於上述高強度化機制之詳細原因，並未明確，但認為其原因在於：藉由化學強化而鉀等離子滲入至膜中，膜自身亦獲得應力；或者由於強化鹽為弱鹼性，故而促進膜之防眩膜之縮聚合。 於後者之情形時，並無於以前者之順序對彎曲基材3進行處理時所產生之課題，即防眩膜中之缺陷之產生；或由防眩膜5之存在引起之於強化步驟中之彎曲基材3之翹曲之產生，而獲得較高之生產性。又，與前者之情形同樣地，於對防眩膜5進行處理前，亦可進行彎曲基材3之研磨加工或端面加工。 ＜附有防眩膜之彎曲基材＞ [防眩膜] 所謂防眩膜，係主要使反射光散射，而發揮減少由光源之映入引起之反射光之眩目之效果的膜。 防眩膜5係將含有二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)，且視需要亦可含有二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)以外之其他成分之組合物之塗膜進行焙燒而獲得者。於組合物包含二氧化矽前驅物(A)之情形時，防眩膜5之基質包含源自二氧化矽前驅物(A)之以二氧化矽為主成分之基質。防眩膜5亦可由粒子(C)所構成。防眩膜5亦可為於上述基質中分散粒子(C)而成者。 組合物係包含沸點150℃以下之液狀介質(B1)作為液狀介質(B)。又，關於液狀介質(B1)之含量，相對於上述液狀介質(B)之總量，為86質量%以上。 防眩膜5之表面之60°鏡面光澤度較佳為15%以上且140%以下，更佳為40%以上且130%以下。防眩膜5之表面之60°鏡面光澤度係防眩效果之指標，若60°鏡面光澤度為130%以下，則充分地發揮防眩效果。 防眩膜5之表面之算術平均粗糙度Ra較佳為0.03 μm以上，更佳為0.05～0.7 μm，進而較佳為0.07～0.5 μm。若防眩膜5之表面之算術平均粗糙度Ra為0.03 μm以上，則充分地發揮防眩效果。若防眩膜5之表面之算術平均粗糙度Ra為上述範圍之上限值0.7 μm以下，則充分抑制圖像之對比度之降低。 防眩膜5之表面之最大高度粗糙度Rz較佳為0.2～5 μm，更佳為0.3～4.5 μm，進而較佳為0.5～4.0 μm。若防眩膜5之表面之最大高度粗糙度Rz為上述範圍之下限值以上，則充分地發揮防眩效果。若防眩膜5之表面之最大高度粗糙度Rz為上述範圍之上限值以下，則充分地抑制圖像之對比度之降低。 附有防眩膜之彎曲基材1之平坦部7之霧度較佳為0.1～50%以上，更佳為0.1～30%，進而較佳為0.1～20%。若霧度為0.1%以上，則發揮防眩效果。若霧度為50%以下，則於將附有防眩膜之彎曲基材以保護板或各種濾光片之形式設置至圖像顯示裝置本體之視認側之情形時，充分地抑制圖像之對比度之降低。 附有防眩膜之彎曲基材之彎曲部9之霧度較佳為0.1～50%以上，更佳為0.1～30%，進而較佳為0.1～20%。若霧度為0.1%以上，則發揮防眩效果。若霧度為50%以下，則於將附有防眩膜之彎曲基材以保護板或各種濾光片之形式設置至圖像顯示裝置本體之視認側之情形時，充分地抑制圖像之對比度之降低。 於附有防眩膜之彎曲基材1為如圖1(a)之具有平坦部7與彎曲部9之彎曲基材3之情形時，反射圖像擴散性指標值R之比(彎曲部9之反射圖像擴散性指標值R/平坦部7與彎曲部9之反射圖像擴散性指標值R之和)較佳為0.3～0.8，進而較佳為0.4～0.7，尤佳為0.4～0.6。若為該範圍，則自使用者側視認附有防眩膜之彎曲基材1時，可視認已完成均質之防眩膜處理，美觀性優異。又，亦無損防眩膜之基於凹凸之觸感。又，尤其是若為霧度較高之附有防眩膜之彎曲基材1，則反射圖像擴散性指標值R之比更佳為0.4～0.7，進而較佳為0.4～0.6。於高霧度之防眩膜之情形時，由於光之散射而會變得更白從而容易產生陰影，而基於目視之外觀之均一性受到影響。若反射圖像擴散性指標值R之比為上述範圍，則目視下之外觀均一性難以受到陰影影響，而成為優異之外觀。 附有防眩膜之彎曲基材1之霧度於面內之標準偏差為0～10%，更佳為0～6%。若為該範圍，則自使用者側視認附有防眩膜之彎曲基材1時，可視認已完成均質之防眩膜處理，美觀性優異。又，亦無損防眩膜之基於凹凸之觸感。 於附有防眩膜之彎曲基材1僅包含如圖1(b)之並非曲率0之彎曲部9之情形時，設置於上述彎曲部之防眩膜之霧度於面內之標準偏差為0%以上且10%以下。 附有防眩膜之彎曲基材1之炫光指標值S於面內之標準偏差為0～10%，更佳為0～6%。若為該範圍，則可無不適感地視認液晶等之顯示畫面。 附有防眩膜之彎曲基材1之解像度指標值T於面內之標準偏差為0～10%，更佳為0～6%。若為該範圍，則可無不適感地視認液晶等之顯示畫面。 附有防眩膜之彎曲基材1之60°鏡面光澤度於面內之標準偏差為0～20%，更佳為0～15%。若為該範圍，則可無光澤之不適感地視認液晶等之顯示畫面。 ＜附有防眩膜之彎曲基材之製造方法＞ 本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法具有如下步驟： 準備包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)之組合物(以下，亦稱為組合物製備步驟)； 使用靜電塗裝裝置使上述組合物帶電並進行噴霧，藉此塗佈於上述基材上而形成塗膜(以下，亦稱為塗佈步驟)；及 將上述塗膜進行焙燒(以下，亦稱為焙燒步驟)。亦可視需要而具有於形成防眩膜之前於基材本體之表面形成功能層而製作基材之步驟，亦可具有於形成防眩膜後實施公知之後處理之步驟。 (組合物製備步驟) 組合物包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)。 於組合物不包含二氧化矽前驅物(A)而包含粒子(C)之情形時，粒子(C)之平均粒徑較佳為30 nm以下。 組合物亦可視需要而含有二氧化矽前驅物(A)以外之其他黏合劑(D)、其他添加劑(E)等。 (A)二氧化矽前驅物 作為二氧化矽前驅物(A)，可列舉：具有鍵結於矽原子之烴基及水解性基之矽烷化合物(A1)及其水解縮合物、烷氧基矽烷(其中將矽烷化合物(A1)除外)及其水解縮合物(溶膠凝膠二氧化矽)、矽氮烷等。 矽烷化合物(A1)中，鍵結於矽原子之烴基可為鍵結於1個矽原子之1價之烴基，亦可為鍵結於2個矽原子之2價之烴基。作為1價之烴基，可列舉：烷基、烯基、芳基等。作為2價之烴基，可列舉：伸烷基、伸烯基、伸芳基等。 烴基亦可於碳原子間具有將選自-O-、-S-、-CO-及-NR'-(其中，R'為氫原子或1價烴基)中之1個或2個以上組合而成之基。 作為鍵結於矽原子之水解性基，可列舉：烷氧基、醯氧基、酮肟基、烯氧基、胺基、胺氧基、醯胺基、異氰酸酯基、鹵素原子等。該等中，就矽烷化合物(A1)之穩定性與水解容易性之平衡性之方面而言，較佳為烷氧基、異氰酸酯基及鹵素原子(尤其是氯原子)。 作為烷氧基，較佳為碳數1～3之烷氧基，更佳為甲氧基或乙氧基。 於矽烷化合物(A1)中存在複數個水解性基之情形時，水解性基可為相同之基，亦可為不同之基，就容易獲取之方面而言，較佳為相同之基。 作為矽烷化合物(A1)，可列舉：下述之式(I)所表示之化合物、具有烷基之烷氧基矽烷(甲基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷等)、具有乙烯基之烷氧基矽烷(乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷等)、具有乙氧基之烷氧基矽烷(2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷等)、具有丙烯醯氧基之烷氧基矽烷(3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等)等。 作為矽烷化合物(A1)，就即便膜厚較厚，亦難以產生防眩膜之龜裂或膜剝離之方面而言，較佳為下式(I)所表示之化合物。 R_3-p L_p Si-Q-SiL_p R_3-p (I) 式(I)中，Q係2價之烴基(於碳原子間亦可具有將選自-O-、-S-、-CO-及-NR'-(其中，R'係氫原子或1價烴基)中之1個或2個以上組合而成之基)。作為2價之烴，可列舉上述者。 作為Q，就容易獲取，且即便膜厚較厚，亦難以產生防眩膜之龜裂或膜剝離之方面而言，較佳為碳數2～8之伸烷基，進而較佳為碳數2～6之伸烷基。 式(I)中，L係水解性基。作為水解性基，可列舉上述者，較佳態樣亦相同。 R係氫原子或1價之烴基。作為1價之烴，可列舉上述者。 p係1～3之整數。關於p，就反應速度不會變得過慢之方面而言，較佳為2或3，尤佳為3。 作為烷氧基矽烷(其中，將上述矽烷化合物(A1)除外)，可列舉：四烷氧基矽烷(四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷、四丁氧基矽烷等)、具有全氟聚醚基之烷氧基矽烷(全氟聚醚三乙氧基矽烷等)、具有全氟烷基之烷氧基矽烷(全氟乙基三乙氧基矽烷等)等。 矽烷化合物(A1)及烷氧基矽烷(其中，將矽烷化合物(A1)除外)之水解及縮合可藉由公知之方法實施。 例如於四烷氧基矽烷之情形時，使用四烷氧基矽烷之4倍莫耳以上之水、及作為觸媒之酸或鹼而進行。 作為酸，可列舉：無機酸(HNO₃ 、H₂ SO₄ 、HCl等)、有機酸(甲酸、草酸、氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸等)。作為鹼，可列舉：氨、氫氧化鈉、氫氧化鉀等。作為觸媒，就矽烷化合物(A)之水解縮合物之長期保存性之方面而言，較佳為酸。 作為二氧化矽前驅物(A)，可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。 關於二氧化矽前驅物(A)，就防止防眩膜之龜裂或膜剝離之觀點而言，較佳為包含矽烷化合物(A1)及其水解縮合物中之任一者或兩者。 關於二氧化矽前驅物(A)，就防眩膜之耐磨耗強度之觀點而言，較佳為包含四烷氧基矽烷及其水解縮合物中之任一者或兩者。 二氧化矽前驅物(A)尤佳為包含矽烷化合物(A1)及其水解縮合物中之任一者或兩者；與四烷氧基矽烷及其水解縮合物中之任一者或兩者。 (B)液狀介質 於組合物包含二氧化矽前驅物(A)之情形時，液狀介質(B)係使二氧化矽前驅物(A)進行溶解或分散者，於組合物包含粒子(C)之情形時，係將粒子(C)進行分散者。於組合物包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)兩者之情形時，液狀介質(B)具有如下兩種功能，即作為使二氧化矽前驅物(A)溶解或分散之溶劑或分散介質之功能；與作為將粒子(C)進行分散之分散介質之功能。 液狀介質(B)至少包含沸點150℃以下之液狀介質(B1)。液狀介質(B1)之沸點較佳為50～145℃，更佳為55～140℃。 若液狀介質(B1)之沸點為150℃以下，則使用包括具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍之靜電塗裝裝置將組合物塗佈於基材上並進行焙燒而獲得之膜具有更佳之防眩性能。若液狀介質(B1)之沸點為上述範圍之下限值以上，則組合物之液滴附著於基材上後，可於充分保持液滴形狀之狀態下形成凹凸構造。 作為液狀介質(B1)，例如可列舉：水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、1-戊醇等)、酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等)、醚類(四氫呋喃、1,4-二烷等)、溶纖劑類(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯等)、二醇醚類(乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等)等。 液狀介質(B1)可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。 液狀介質(B)亦可視需要，進而包含液狀介質(B1)以外之其他液狀介質、即沸點超過150℃之液狀介質。該沸點超過150℃之液狀介質之含有比例係相對於液狀介質(B)之總量未達14質量%。 作為其他液狀介質，例如可列舉：醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。 作為醇類，可列舉：二丙酮醇、1-己醇、乙二醇等。 作為含氮化合物，可列舉：N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。 作為二醇醚類，可列舉：乙二醇單丁醚等。 作為含硫化合物，可列舉：二甲基亞碸等。 其他液狀介質可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。 由於二氧化矽前驅物(A)中之烷氧基矽烷等之水解必需水，故而於水解後不會置換液狀介質之範圍內液狀介質(B)至少包含水作為液狀介質(B1)。 於該情形時，液狀介質(B)可僅為水，亦可為水與其他液體之混合液。作為其他液體，可為水以外之液狀介質(B1)，亦可為其他液狀介質，例如可列舉：醇類、酮類、醚類、溶纖劑類、酯類、二醇醚類、含氮化合物、含硫化合物等。該等中，作為二氧化矽前驅物(A)之溶劑，較佳為醇類，尤佳為甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇。 (C)粒子 粒子(C)係單獨構成防眩膜、或者與源自二氧化矽前驅物(A)之基質一起構成防眩膜。 於組合物不包含二氧化矽前驅物(A)而包含粒子(C)之情形時，粒子(C)之平均粒徑較佳為30 nm以下。 作為粒子(C)，可列舉：鱗片狀粒子(C1)、鱗片狀粒子(C1)以外之其他粒子(C2)等。 鱗片狀粒子(C1)： 鱗片狀粒子(C1)之平均縱橫比較佳為50～650，更佳為100～350，進而較佳為170～240。若鱗片狀粒子(C1)之平均縱橫比為50以上，則即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。若鱗片狀粒子(C1)之平均縱橫比為650以下，則組合物中之分散穩定性變良好。 鱗片狀粒子(C1)之平均粒徑較佳為0.08～0.42 μm，更佳為0.17～0.21 μm。若鱗片狀粒子(C1)之平均粒徑為0.08 μm以上，則即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。若鱗片狀粒子(C1)之平均粒徑為0.42 μm以下，則組合物中之分散穩定性變良好。 作為鱗片狀粒子(C1)，可列舉：鱗片狀二氧化矽粒子、鱗片狀氧化鋁粒子、鱗片狀二氧化鈦、鱗片狀氧化鋯等。 鱗片狀二氧化矽粒子係薄片狀之二氧化矽1次粒子、或複數片薄片狀之二氧化矽1次粒子相互面間平行地進行配向並重疊而形成之二氧化矽2次粒子。二氧化矽2次粒子通常具有積層構造之粒子形態。 鱗片狀二氧化矽粒子可僅為二氧化矽1次粒子及二氧化矽2次粒子中之任一種，亦可為上述兩種。 二氧化矽1次粒子之厚度較佳為0.001～0.1 μm。若二氧化矽1次粒子之厚度為上述範圍內，則可形成相互面間平行地進行配向並重疊1片或複數片而成之鱗片狀二氧化矽2次粒子。 二氧化矽1次粒子之最小長度相對於厚度之比(最小長度/厚度)較佳為2以上，更佳為5以上，進而較佳為10以上。 二氧化矽2次粒子之厚度較佳為0.001～3 μm，更佳為0.005～2 μm。 二氧化矽2次粒子之最小長度相對於厚度之比較佳為2以上，更佳為5以上，進而較佳為10以上。 二氧化矽2次粒子較佳為不熔合而相互獨立地存在。 鱗片狀二氧化矽粒子之SiO₂ 純度較佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上。 於組合物之製備時，可使用作為複數個鱗片狀二氧化矽粒子之集合體之粉體、或者使該粉體分散於液狀介質中而成之分散體。分散體中之二氧化矽濃度較佳為1～80質量%。 粉體或分散體存在如下情況，即不僅含有鱗片狀二氧化矽粒子，亦含有製造鱗片狀二氧化矽粒子時所產生之不定形二氧化矽粒子。鱗片狀二氧化矽粒子係例如藉由將鱗片狀二氧化矽粒子凝集並不規則地重疊而形成之具有間隙之凝集體形狀之二氧化矽3次粒子(以下，亦記載為二氧化矽凝集體)進行壓碎、分散化而獲得。不定形二氧化矽粒子係二氧化矽凝集體經一定程度微粒化之狀態，但並非微粒化至各鱗片狀二氧化矽粒子之狀態，而係複數個鱗片狀二氧化矽粒子形成塊之形狀。若包含不定形二氧化矽粒子，則有所形成之防眩膜之緻密性降低而變得容易產生龜裂或膜剝離之虞。因此，粉體或分散體中之不定形二氧化矽粒子之含量越少越佳。 不定形二氧化矽粒子及二氧化矽凝集體均於TEM觀察中被觀察到呈黑色狀。另一方面，薄片狀之二氧化矽1次粒子或二氧化矽2次粒子於TEM觀察中被觀察到呈透明或半透明狀。 鱗片狀二氧化矽粒子可使用市售者，亦可使用製造者。 鱗片狀二氧化矽粒子較佳為藉由日本專利特開2014-094845號公報所記載之方法而製造者。根據其所揭示之製造方法，可獲得與公知之製造方法(例如，日本專利第4063464號公報所記載之方法)相比，製造步驟中之不定形二氧化矽粒子之產生得到抑制，而不定形二氧化矽粒子之含量較少之粉體或分散體。 粒子(C2)： 作為鱗片狀粒子(C1)以外之其他粒子(C2)，可列舉：金屬氧化物粒子、金屬粒子、顏料系粒子、樹脂粒子等。 作為金屬氧化物粒子之材料，可列舉：Al₂ O₃ 、SiO₂ 、SnO₂ 、TiO₂ 、ZrO₂ 、ZnO、CeO₂ 、含有Sb之SnO_X (ATO)、含有Sn之In₂ O₃ (ITO)、RuO₂ 等。作為金屬氧化物粒子之材料，由於本發明之防眩膜中之基質為二氧化矽，故而較佳為折射率與基質相同之SiO₂ 。 作為金屬粒子之材料，可列舉：金屬(Ag、Ru等)、合金(AgPd、RuAu等)等。 作為顏料系粒子，可列舉：無機顏料(鈦黑、碳黑等)、有機顏料。 作為樹脂粒子之材料，可列舉：丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯、黑色素樹脂等。 作為粒子(C2)之形狀，可列舉：球狀、橢圓狀、針狀、板狀、棒狀、圓錐狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、金剛石狀、星狀、不定形狀等。其他粒子可以各粒子獨立之狀態存在，亦可各粒子鏈狀地連結，亦可各粒子凝集。 粒子(C2)可為實心粒子，亦可為中空粒子，亦可為多孔質粒子等開孔之粒子。 粒子(C2)之平均粒徑較佳為0.1～2 μm，更佳為0.5～1.5 μm。若粒子(C2)之平均粒徑為0.1 μm以上，則充分地發揮防眩效果。若粒子(C2)之平均粒徑為2 μm以下，則組合物中之分散穩定性變良好。 於添加多孔質球狀二氧化矽粒子之情形時，BET比表面積較佳為200～300 m² /g。 多孔質球狀二氧化矽粒子之孔隙體積較佳為0.5～1.5 cm³ /g。 作為多孔質球狀二氧化矽粒子之市售品，可列舉：日產化學工業公司製造之LIGHT STAR(註冊商標)系列。 粒子(C)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。 粒子(C)較佳為包含鱗片狀粒子(C1)，亦可進而包含粒子(C2)。藉由包含鱗片狀粒子(C1)，而防眩膜之霧度提高，而獲得更優異之防眩性能。又，與粒子(C2)相比，於包含鱗片狀粒子(C1)之情形時，於已使防眩膜之膜厚變厚時，難以產生龜裂或膜剝離。 (D)黏合劑 作為黏合劑(D)(其中，將二氧化矽前驅物(A)除外)，可列舉：溶解或分散於液體介質(B)中之無機物或樹脂等。 作為無機物，例如可列舉：二氧化矽以外之金屬氧化物前驅物(金屬：鈦、鋯等)。 作為樹脂，可列舉：熱塑性樹脂、熱固性樹脂、紫外線硬化性樹脂等。 (E)添加劑 組合物亦可視需要，於無損本發明之效果之範圍內進而含有添加劑(E)。 作為添加劑(E)，例如可列舉：具有極性基之有機化合物(E1)、紫外線吸收劑、紅外線反射劑、紅外線吸收劑、抗反射劑、用以提高勻平性之界面活性劑、用以提高耐久性之金屬化合物等。 於組合物含有粒子(C)之情形時，藉由使組合物含有具有極性基之有機化合物(E1)，可抑制組合物中之由靜電力引起之粒子(C)之凝集。 作為具有極性基之有機化合物(E1)，就粒子(C)之凝集抑制效果之方面而言，較佳為於分子中具有羥基及/或羰基者，更佳為於分子中具有選自由羥基、醛基(-CHO)、酮基(-C(=O)-)、酯鍵(-C(=O)O-)、羧基(-COOH)所組成之群中之1種以上者，進而較佳為於分子中具有選自由羧基、羥基、醛基及酮基所組成之群中之1種以上者。 作為具有極性基之有機化合物(E1)，可列舉：不飽和羧酸聚合物、纖維素衍生物、有機酸(其中，將不飽和羧酸聚合物除外)、萜烯化合物等。有機化合物(E1)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。 作為用以提高勻平性之界面活性劑，可列舉：聚矽氧油系、丙烯酸系等。 作為用以提高耐久性之金屬化合物，較佳為鋯螯合化合物、鈦螯合化合物、鋁螯合化合物等。作為鋯螯合化合物，可列舉：四乙醯丙酮酸鋯、三丁氧基硬脂酸鋯等。 [組成] 關於組合物中之二氧化矽前驅物(A)與粒子(C)之合計含量，較佳為於組合物中之固形物成分(100質量%)(其中，二氧化矽前驅物(A)係以SiO₂ 換算計)中為30～100質量%，更佳為40～100質量%。若二氧化矽前驅物(A)與粒子(C)之合計含量為上述範圍之下限值以上，則防眩膜與彎曲基材之密接性優異。若二氧化矽前驅物(A)與粒子(C)之合計含量為上述範圍之上限值以下，則可抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。 於組合物包含二氧化矽前驅物(A)之情形時，組合物中之二氧化矽前驅物(A)(SiO₂ 換算)之含量較佳為於組合物中之固形物成分(100質量%)(其中，二氧化矽前驅物(A)以SiO₂ 換算計)中為35～95質量%，更佳為50～90質量%。若二氧化矽前驅物(A)之含量為上述範圍之下限值以上，則獲得防眩膜與彎曲基材之充分之密接強度。若二氧化矽前驅物(A)之含量為上述範圍之上限值以下，則即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。 於組合物包含二氧化矽前驅物(A)，且二氧化矽前驅物(A)包含矽烷化合物(A1)及其水解縮合物中之任一者或兩者之情形時，關於二氧化矽前驅物(A)中之矽烷化合物(A1)及其水解縮合物之比例，相對於二氧化矽前驅物(A)之SiO₂ 換算固形物成分(100質量%)，較佳為5～100質量%。若矽烷化合物(A1)及其水解縮合物之比例為上述範圍之下限值以上，則即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。 組合物中之液狀介質(B)之含量係設為對應於組合物之固形物成分濃度之量。 關於組合物之固形物成分濃度，較佳為於組合物之總量(100質量%)中為0.01～50質量%，更佳為0.01～6質量%。若固形物成分濃度為上述範圍之下限值以上，則可減少組合物之液量。若固形物成分濃度為上述範圍之上限值以下，則防眩膜之膜厚之均一性提高。 組合物之固形物成分濃度係組合物中之液狀介質(B)以外之全部成分之含量之合計。其中，二氧化矽前驅物(A)之含量係SiO₂ 換算。 關於組合物中之沸點150℃以下之液狀介質(B1)之含量，相對於液狀介質(B)之總量為86質量%以上。藉由以86質量%以上之比例含有液狀介質(B1)，而於使用包括具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍之靜電塗裝裝置將組合物塗佈於彎曲基材上並進行焙燒時，形成具有更佳性能之防眩膜。若液狀介質(B1)之比例未達86質量%，則有於溶劑揮發乾燥前進行平滑化，因此無法形成凹凸構造，而焙燒後之膜無法成為防眩膜之虞。 關於液狀介質(B1)之含量，相對於液狀介質(B)之總量，較佳為90質量%以上。液狀介質(B1)之含量亦可相對於液狀介質(B)之總量為100質量%。 於組合物包含粒子(C)之情形時，粒子(C)之含量較佳為組合物中之固形物成分(100質量%)(其中，二氧化矽前驅物(A)係以SiO₂ 換算計)中1～40質量%，更佳為5～30質量%。若粒子(C)之含量為上述範圍之下限值以上，則附有防眩膜之彎曲基材之霧度充分地變高，且防眩膜之表面之60°鏡面光澤度充分地變低，因此充分地發揮防眩效果。若粒子(C)之含量為上述範圍之上限値以下，則獲得充分之耐磨耗強度。 於組合物包含粒子(C)，且粒子(C)包含鱗片狀粒子(C1)之情形時，鱗片狀粒子(C1)之含量較佳為粒子(C)之總量(100質量%)中20質量%以上，更佳為30質量%以上。上限並無特別限定，亦可為100質量%。若鱗片狀粒子(C1)之比例為上述之下限值以上，則防眩效果變得更為優異。又，即便膜厚較厚，亦可充分地抑制防眩膜之龜裂或膜剝離。 組合物例如可藉由製備於液體介質(B)中溶解有矽烷前驅物(A)之溶液，且視需要混合追加之液狀介質(B)、粒子(C)之分散液等而進行製備。 於包含粒子(C)，且二氧化矽前驅物(A)包含四烷氧基矽烷之水解縮合物之情形時，就可以較高等級且再現性良好地製造具有所需性能之防眩膜之方面而言，較佳為將四烷氧基矽烷之溶液、或四烷氧基矽烷及其水解縮合物之混合物之溶液、與粒子(C)之分散液進行混合後，於粒子(C)之存在下使四烷氧基矽烷進行水解而進行縮合。 (防眩膜形成步驟) 上述組合物向基材上之塗佈係藉由使用靜電塗裝裝置，尤其是使用包括具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍之靜電塗裝裝置，使上述組合物帶電並進行噴霧而進行。藉此，於基材上形成上述組合物之塗膜。 靜電塗裝裝置： 圖3係表示靜電塗裝裝置之一例之概略圖。 靜電塗裝裝置10包括：塗佈房11、鏈條式輸送帶12、複數個靜電塗裝槍17、高電壓產生裝置18、及排氣箱20。 鏈條式輸送帶12係貫通塗佈房11，並將導電性基板21及載置於其上之彎曲基材3沿特定方向進行搬送。 複數個靜電塗裝槍17係於鏈條式輸送帶12之上方之塗佈房11內沿著與彎曲基材3之搬送方向交叉之方向排列並配置，且分別連接有高電壓電纜13、組合物之供給管線14、組合物之回收管線15、及雙系統之空氣之供給管線16a、16b。 高電壓產生裝置18係經由高電壓電纜13而與靜電塗裝槍17連接且接地。 排氣箱20係配置於靜電塗裝槍17及鏈條式輸送帶12之下方，且連接有排氣管19。 靜電塗裝槍17係固定於噴嘴安裝架(圖式省略)。藉由噴嘴安裝架，可調整靜電塗裝槍17之噴嘴前端直至彎曲基材3之距離、相對於彎曲基材3之靜電塗裝槍17之角度、相對於彎曲基材3之搬送方向之複數個靜電塗裝槍17所排列之方向等。 為了對靜電塗裝槍17之噴嘴前端部及組合物之供給管線14、及回收管線15施加高電壓，而利用樹脂等對靜電塗裝槍17、供給管線14、及回收管線15、與包含金屬之部分(例如，噴嘴安裝架、塗佈房11之側壁貫通部分等金屬部分)之連接部分進行絕緣處理。 靜電塗裝槍17亦可追隨於彎曲基材3而進行運動。例如亦可固定於機械臂前端部或固定於往復式動力機。 鏈條式輸送帶12包含複數個塑膠鏈條，且複數個塑膠鏈條之一部分或全部為導電性塑膠鏈條。導電性塑膠鏈條係經由嵌入塑膠鏈條之金屬鏈條(圖式省略)及其驅動馬達(圖式省略)之接地電纜(圖式省略)而接地。 鏈條式輸送帶12亦可為金屬製，例如為複數根金屬鏈條。金屬較佳為對塗佈液具有耐性之材質，例如為不鏽鋼(SUS)。金屬鏈條係經由其驅動馬達(圖式省略)之接地電纜(圖式省略)而接地。 導電性基板21係能夠於其上載置彎曲基材3之至少對表面賦予導電性，且構成為其表面與彎曲基材之第二主表面3b(接觸面)一致之形狀的底座，且用以經由鏈條式輸送帶12之導電性塑膠鏈條、金屬鏈條及驅動馬達之接地電纜而充分地接地。導電性基板21若接地，則無需與鏈條式輸送帶直接接觸，例如亦可設置於方形管道管上。藉由將彎曲基材3充分地接地，即於導電性基板21與彎曲基材3之間無空隙地密接之狀態下進行成膜，組合物均勻地附著於彎曲基材3上。 導電性基板21之材質並無特別限定，但為了賦予導電性，又，為了高效率地傳遞源自加熱源之熱量，較佳為由金屬或碳所形成。為了防止對玻璃造成損傷，較佳為維氏硬度小於玻璃之碳。又，亦可使用玻璃等絕緣性之底座經如鋁箔之金屬膜覆蓋者、或藉由蒸鍍等而塗敷有銅等金屬者作為導電性基板21。 作為導電性基板21，就可進而抑制彎曲基材3之溫度降低，且使溫度分佈均一化之方面而言，又，就確保電氣均勻性以可使組合物均勻地附著於彎曲基材上之方面而言，較佳為具有如與彎曲基材3之第二主表面3b整體接觸之表面的導電性基板21。該導電性基板21亦可為具有柔軟性之膜材，但較佳為使用預先對如與目標之彎曲基材3之第2主表面整體接觸之表面進行過加工之底座。進而，導電性基板21若使用具有柔軟性之塊材，則可根據彎曲基材之形狀而適當進行調整，故而更佳。彎曲基材3之第二主表面3b與導電性基板21表面無需連同前表面亦進行接觸，但為了於第一主表面3a形成均勻之膜，較佳為至少於彎曲部9均勻地接觸。更佳為與彎曲部9及傾斜部8均勻地接觸。 靜電塗裝槍： 圖4係靜電塗裝槍17之剖面模式圖。圖5係自前方觀察靜電塗裝槍17之前視模式圖。 靜電塗裝槍17包括：槍本體30、與旋轉霧化頭40。旋轉霧化頭40係於槍本體30之前端部朝向前後方向配置有軸線。 於靜電塗裝槍17中，藉由將旋轉霧化頭40進行旋轉驅動，而利用離心力將供給至旋轉霧化頭40之組合物進行霧化並釋出(即，噴霧)。 再者，於靜電塗裝槍17之說明中，前方、前端等中之「前」係表示組合物之噴霧方向，其相反方向為後方。圖3、4中之下方係靜電塗裝槍17中之前方。 於槍本體30內，於與旋轉霧化頭40相同之軸上固定並收容有組合物供給管31。 於槍本體30內，設置有未圖示之空氣渦輪馬達，該空氣渦輪馬達係設置有旋轉軸32。又，空氣渦輪馬達係與雙系統之空氣之供給管線16a、16b中之1系統(例如，供給管線16a)連接，可藉由源自供給管線16a之空氣壓而控制旋轉軸32之轉數。旋轉軸32係以包圍組合物供給管31之方式與旋轉霧化頭40同軸地配置。 再者，此處，揭示了使用空氣渦輪馬達作為旋轉軸32之旋轉驅動機構之例，但亦可使用空氣渦輪馬達以外之旋轉驅動機構。 槍本體30中形成有複數個整形空氣(亦稱為SHAPING AIR)之吹出口33，於複數個吹出口33分別形成有用以供給整形空氣之空氣供給通路35。又，空氣供給通路35係與雙系統之空氣之供給管線16a、16b中之1系統(例如，供給管線16b)連接，而可將空氣(整形空氣)經由空氣供給通路35向吹出口33供給。 於前視靜電塗裝槍17時，複數個吹出口33係以於將軸心設為中心之同心圓上以等間隔進行開口之方式形成。又，於側視靜電塗裝槍17時，複數個吹出口33係以朝向靜電塗裝槍17之前方逐漸遠離軸心之方式形成。 旋轉霧化頭40包括：第1零件41、與第2零件42。第1零件41及第2零件42分別為筒狀。 第1零件41係將軸安裝部43、自軸安裝部43向前方延出之形態之保持部44、自保持部44向前方延出之形態之周壁45、自周壁45向前方延出之形態之擴徑部47、於周壁45與擴徑部47之交界位置將第1零件41之中心孔進行前後劃分之形態之前表面壁49形成為整體者。 保持部44係將第2零件42保持為與第1零件41同軸者。 周壁45之內周面係遍及旋轉霧化頭40之軸線方向上之全部區域，成為朝向前方逐漸地進行擴徑之錐形引導面46。 擴徑部47係朝向前方杯狀地擴徑而成之形態，擴徑部47之前表面係成為朝向前方逐漸地擴徑而成之形態之擴散面48。 於擴徑部47之擴散面48之外周緣48a上，遍及全周大致等間隔地設置有大量用以將組合物微粒化之微細切口。 於前表面壁49上形成有將前表面壁49之外周緣前後貫通之形態之流出孔50。流出孔50呈圓形，且於周方向以等角度間距形成有複數個。又，流出孔50之貫通方向係與周壁45之引導面46之傾斜方向平行。 前表面壁49之後表面中，中央部分係成為朝向後方突出之圓錐狀。又，於該中央部分形成有自前表面壁49之前表面之中心部朝向後方延伸，於途中分為3個並於圓錐狀部分之周面上開口之貫通孔53。 第2零件42係將筒狀部51與後表面壁52形成為整體者。後表面壁52係配置於筒狀部51之前端部。於後表面壁52之中央形成有圓形之貫通孔，而變得可插入組合物供給管31之前端部。 於旋轉霧化頭40中，將由前表面壁49、周壁45及後表面壁52所包圍之空間設為貯存室S。該貯存室S係經由複數個流出孔50而與擴散面48連通。 於靜電塗裝槍17中，以組合物供給管31之前端之噴出口31a於貯存室S內開口之方式，將組合物供給管31之前端部插入至後表面壁52之中央之貫通孔。藉此，可經由組合物供給管31而將組合物供給至貯存室S內。 再者，靜電塗裝裝置及靜電塗裝槍並不限定於圖示例者。靜電塗裝裝置只要為包括具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍者，則可採用公知之靜電塗裝裝置。靜電塗裝槍只要為具備旋轉霧化頭者，則可採用公知之靜電塗裝槍。又，靜電塗裝槍例如亦可由6軸塗裝用機械手(例如Kawasaki Robotics公司製造)等把持而進行組合物之噴霧。 塗佈方法： 關於靜電塗裝裝置10，係以下述方式將組合物塗佈於彎曲基材3上。 如圖6所示般將彎曲基材3設置於導電性基板21上。又，藉由高電壓產生裝置18而對靜電塗裝槍17施加高電壓。同時，一面自組合物之供給管線14將組合物供給於靜電塗裝槍17，一面自雙系統之空氣之供給管線16a、16b分別將空氣供給於靜電塗裝槍17。 自空氣之供給管線16b供給之空氣係向槍本體30內之空氣供給通路35供給空氣，並以整形空氣之形式自吹出口33之開口吹出。 自空氣之供給管線16a供給之空氣係驅動槍本體30內之空氣渦輪馬達以使旋轉軸32旋轉。藉此，自組合物之供給管線14通過組合物供給管31供給至貯存室S內之組合物藉由離心力而沿著周壁45之引導面46向前方移動，並通過流出孔50向擴散面48供給。組合物之一部分可通過中央部分之貫通孔53而向擴散面48供給。此處，由於周壁45之引導面46形成朝向流出孔50擴徑之錐形，故而貯存室S內之組合物因離心力而不會殘留於貯存室S內從而確實地到達流出孔50。 然後，供給至擴散面48之組合物藉由離心力而一面沿著擴散面48進行擴散一面向外周緣48a側移動，而於擴散面48形成組合物之液膜，於擴徑部47之擴散面48之外周緣48a進行微粒化，成為液滴並放射狀地飛散。 自旋轉霧化頭40飛散出之組合物之液滴係隨著整形空氣之流動而被導向彎曲基材3方向。又，上述液滴帶有負電荷，會因靜電引力而被吸引至接地之彎曲基材3。因此，組合物高效率地附著於彎曲基材3之表面，無論是彎曲部還是平坦部均可形成均勻均質之防眩膜。 未自靜電塗裝槍17噴霧出來之一部分組合物係經由組合物之回收管線15而被回收至組合物槽(圖式省略)中。又，自靜電塗裝槍17噴霧出來但未附著於彎曲基材3之一部分組合物係被吸收至排氣箱20，並通過排氣管19進行回收。 彎曲基材3之表面溫度較佳為15～50℃，更佳為20～40℃。若彎曲基材3之表面溫度為上述範圍之下限值以上，則組合物之液狀介質(B)迅速地蒸發，因此容易形成充分之凸凹。若彎曲基材3之表面溫度為上述範圍之上限值以下，則彎曲基材3與防眩膜5之密接性變良好。 彎曲基材3之搬送速度較佳為0.6～20 m/min，更佳為1～15 m/min。若彎曲基材3之搬送速度為0.6 m/min以上，則生產性提高。若彎曲基材3之搬送速度為20 m/min以下，則容易控制塗佈於彎曲基材3上之組合物之膜厚。 彎曲基材3之搬送次數、即使彎曲基材3通過靜電塗裝槍17之下而塗佈組合物之次數可視所需之霧度、光澤度等而適當設定。就防眩性之方面而言，較佳為1次以上，更佳為2次以上。就生產性之方面而言，較佳為6次以下，更佳為5次以下。 自靜電塗裝槍17之噴嘴前端(即，組合物之噴霧方向上之旋轉霧化頭40之前端)直至彎曲基材3之距離係視彎曲基材3之寬度、塗佈於彎曲基材3上之組合物之膜厚等而適當調整，通常為150～450 mm。若使距離彎曲基材3之距離接近，則塗佈效率提高，但若過於接近，則引起放電之可能性變高，而產生安全上之問題。另一方面，隨著距離彎曲基材3之距離變大，而塗佈區域擴大，但若過於遠離，則有塗佈效率降低之問題。 施加於靜電塗裝槍17之電壓係視塗佈於彎曲基材3上之組合物之塗佈量等而適當調整，較佳為-30 kV～-90 kV之範圍，更佳為-40 kV～-90 kV，進而較佳為-50 kV～-90 kV。若電壓之絕對值變大，則有塗佈效率提高之傾向。 關於組合物向靜電塗裝槍17之供給量(以下，亦稱為塗佈液量)，係視塗佈於彎曲基材3上之組合物之塗佈量等而適當調整，較佳為3～200 mL/min，更佳為5 mL/min～100 mL/min，進而較佳為10 mL/min～60 mL/min。若塗佈液量過少，則有產生膜破裂之虞。最大之塗佈液量可根據塗佈膜厚、塗佈速度、液特性等而選擇最佳值。 分別自雙系統之空氣之供給管線16a、16b向靜電塗裝槍17供給之空氣之壓力係視塗佈於彎曲基材3上的組合物之塗佈量等而適當調整，較佳為0.01 MPa～0.5 MPa。 藉由分別自雙系統之空氣之供給管線16a、16b向靜電塗裝槍17供給之空氣壓而可控制組合物之塗佈圖案。 所謂組合物之塗佈圖案，係表示藉由自靜電塗裝槍17噴霧出來之組合物之液滴而形成於基材上之圖案。 若提高供給於靜電塗裝槍17內之空氣渦輪馬達之空氣之空氣壓，則表現出如下傾向：旋轉軸32之旋轉速度上升，而旋轉霧化頭40之旋轉速度上升，藉此自旋轉霧化頭40飛散之液滴之尺寸變小，而塗佈圖案變大。 若提高供給於靜電塗裝槍17內之空氣供給通路35之空氣之空氣壓，且提高自吹出口33吹出之空氣(整形空氣)之空氣壓，則表現出如下傾向：自旋轉霧化頭40飛散之液滴之擴散得到抑制，而塗佈圖案變小。 供給於空氣渦輪馬達之空氣之空氣壓較佳為設為旋轉霧化頭40之旋轉速度(以下，亦稱為旋杯轉數)成為5000～80000 rpm之範圍內的壓力。旋杯轉數更佳為7000～70000 rpm，尤佳為10000～50000 rpm。若旋杯轉數為上述範圍之下限值以上，則表面凹凸形成能力優異。若旋杯轉數為上述範圍之上限值以下，則塗佈效率優異。 旋杯轉數可藉由靜電塗裝裝置10所附帶之測量器(圖式省略)進行測定。 供給於空氣供給通路35之空氣之空氣壓較佳為設為整形空氣之空氣壓(以下，亦稱為切削壓)成為0.01～0.3 MPa之範圍內的壓力。切削壓更佳為0.03～0.25 MPa，尤佳為0.05～0.2 MPa。若切削壓為上述範圍之下限值以上，則基於液滴之飛散防止效果提高之塗佈效率提高效果優異。若切削壓為上述範圍之上限值以下，則可確保塗佈寬度。 (焙燒步驟) 於焙燒步驟中，將於塗佈步驟中形成於基材上之組合物之塗膜進行焙燒而製成防眩膜。 焙燒可藉由於將組合物塗佈於基材時對基材進行加熱而與塗佈同時進行，亦可藉由於將組合物塗佈於基材後對塗膜進行加熱而進行。 焙燒溫度較佳為30℃以上，例如於基材為玻璃之情形時，更佳為100～750℃，進而較佳為150～550℃。 [作用效果] 於以上所說明之本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法時，藉由使用包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)，且液狀介質(B)包含相對於液狀介質(B)之總量為86質量%以上之沸點150℃以下之液狀介質(B1)的組合物作為具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍所噴霧之組合物，而可形成防眩膜。認為其原因在於：組合物之液滴附著於基材上後，藉由液狀介質(B1)迅速地揮發而液滴於基板上難以擴散，而於充分保持所附著之時點之形狀之狀態下進行成膜(即，將液狀介質(B)整體去除。又，於包含二氧化矽前驅物(A)之情形時，二氧化矽前驅物(A)成為基質)。 於本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法時，由於使用具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍，故而塗佈圖案之尺寸(例如，寬度)較佳。例如就先前防眩膜之形成所通用之使用2流體噴霧嘴之噴霧法而言，其塗佈圖案之寬度最大為7 mm左右。相對於此，於使用具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍之情形時，可使塗佈圖案之寬度例如為350 mm。 又，自上述靜電塗裝槍噴霧出來之組合物之液滴帶有負電荷，因此會因靜電引力而被吸引至接地之基材。因此，與不帶電而進行噴霧之情形相比，高效率地附著於基材上。 因此，於本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法時，可減少形成任意之霧度或60°鏡面光澤度之防眩膜時所需之塗佈次數或組合物之塗佈量。 又，若將藉由本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法而獲得的附有防眩膜之彎曲基材之防眩性能、與使用2流體噴霧嘴而形成之附有防眩膜之彎曲基材之防眩性能進行比較，則即便霧度或60°鏡面光澤度同等，藉由本發明之附有防眩膜之彎曲基材之製造方法而獲得者亦存在如下傾向：更為抑制因外部光或屋內照明等映入顯示面，而由於反射圖像導致視認性降低，而防眩性能較高。 認為其原因在於防眩膜之凹凸形狀之不同。即，根據本發明者等人之研究，若為使用2流體噴霧嘴之噴霧法，則液滴狠狠地落到基材上，因此於組合物噴附於基材時液滴成為王冠狀。與此同時，液狀介質揮發而形成王冠狀之凹凸。另一方面，於使用包括旋轉霧化頭之靜電塗裝槍之情形時，液滴相對緩慢地落至基板上，因此於噴附於基材時液滴成為弓形。與此同時，液狀介質揮發而形成弓形之凸部。認為若產生此種形狀之差異，則會對防眩性能造成影響。尤其是即便於如彎曲基材3般存在平坦部7與彎曲部9之情形時，亦由於根據靜電塗裝法而應用靜電力，故而液滴可均勻地噴附而製作均質且均勻之防眩膜。 又，如上所述，使用具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍而製作之防眩膜之表面構造具有特徵。若利用雷射顯微鏡等對藉由該方法而獲得之防眩膜之表面構造進行觀察，則觀察到基於弓形凸部之「第一凸部」、與形成於第一凸部上之基於島狀凸部之「第二凸部」。 例如於使用具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍而製作霧度10%以上之防眩膜之情形時，成為具有如以下之第一凸部與第二凸部之表面凹凸構造。 第一凸部：支持高度+0.05 μm之高度時之剖面之直徑(真圓換算)超過10 μm且為185 μm以下，且觀察區域內以最低部分之高度為標準之最大高度成為0.2～8.0 μm。 第二凸部：支持高度+0.5 μm之高度時之剖面之直徑(真圓換算)超過1 μm，每1 μm² 為0.0004～1.2個，以支持高度為基準之平均高度成為0.1～8 μm。 再者，使用具備旋轉霧化頭之靜電塗裝槍而製作之霧度未達10%之防眩膜亦相同，雖其尺寸與上述霧度10%以上之情形時之防眩膜不同，但觀察到「第一凸部」與「第二凸部」。 ＜用途＞ 作為本發明之附有防眩膜之彎曲基材之用途，並無特別限定。作為具體例，可列舉：車輛用透明零件(頭燈罩、側鏡、前檔透明基板、側檔透明基板、後檔透明基板、儀錶面板表面等)、儀錶、建築窗、陳列窗、顯示器(筆記型電腦、監視器、LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示裝置)、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)、ELD(Electroluminescent Display，電致發光顯示器)、CRT(Cathode Ray Tube，陰極射線管)、PDA(Photo Diode Array，光電二極體陣列)等)、LCD彩色濾光片、觸控面板用基板、光碟機讀取鏡頭、光學透鏡、眼鏡鏡片、相機零件、攝像機零件、CCD用覆蓋基板、光纖端面、投影儀零件、影印機零件、太陽電池用透明基板(覆蓋玻璃等)、行動電話視窗、背光單元零件(導光板、冷陰極管等)、背光單元零件液晶亮度提高膜(稜鏡、半透過膜等)、液晶亮度提高膜、有機EL發光元件零件、無機EL發光元件零件、螢光體發光元件零件、光學濾光片、光學零件之端面、照明燈、照明器具之外罩、放大雷射光源、抗反射膜、偏光膜、農業用膜等。 本實施形態之圖像顯示裝置包括：顯示圖像之圖像顯示裝置本體、與設置於圖像顯示裝置本體之視認側之本發明之附有防眩膜之彎曲基材。 作為圖像顯示裝置本體，可列舉：液晶面板、有機EL(電致發光)面板、電漿顯示器面板等。 附有膜之彎曲基材可作為圖像顯示裝置本體之保護板而整體地設置於圖像顯示裝置本體中，亦可作為各種濾光片而配置於圖像顯示裝置本體之視認側。又，亦可為附有膜之彎曲基材之平坦部與傾斜部具備不同圖像顯示部之圖像顯示裝置。 於以上所說明之圖像顯示裝置時，由於將具有優異之防眩性能之本發明之附有膜之彎曲基材設置於圖像顯示裝置本體之視認側，故而視認性良好。 [實施例] 以下，表示實施例而對本發明詳細地進行說明。其中，本發明並不受以下之記載限定。 例1～3中，例1及例2係實施例，例3係比較例。 將各例中所使用之評價方法及材料示於以下。 ＜評價方法＞ (目視觀察) 於設置於螢光燈下之台上，將附有防眩層之彎曲基材以防眩層側朝上之方式進行設置，藉由目視觀察螢光燈對附有防眩層之彎曲基材之映入，並以下述基準判定於平坦部之均質性、於平坦部與彎曲部之均質性等。 ○：並無膜不均或缺陷，為均質。 △：雖有少許膜不均或缺陷，但作為整體均一。 ×：不均一。或者存在未形成膜之部位。 (反射圖像擴散性指標值R測定) 反射圖像擴散性指標值R測定係使用Display-Messtechnik＆Systeme公司製造之SMS-1000 Ver.3.0，對彎曲基材之平坦部及彎曲部進行測定。 關於反射圖像擴散性指標值R之比，係根據藉由上述反射圖像擴散性指標值R測定而獲得之結果，以(彎曲部之反射圖像擴散性指標值R/平坦部與彎曲部之反射圖像擴散性指標值R之和)之形式算出。 ＜藉由靜電塗裝法而成膜之基材之製作；例1及例2＞ [使用材料] (鱗片狀二氧化矽粒子分散液(a)之製造) 藉由與日本專利特開2014-094845號公報所記載之實施例1相同之步驟而製作二氧化矽分散體後，進行酸處理，進行洗淨、鹼處理、濕式壓碎，最後製作經陽離子交換之二氧化矽分散體。利用超過濾膜(DAICEN MEMBRANE-SYSTEMS製造，MOLSEP(註冊商標)，區分分子量：150000)對陽離子交換後之二氧化矽分散體進行處理，而進行濃度調整。 自所獲得之二氧化矽分散體(鱗片狀二氧化矽粒子分散液(a))取出二氧化矽粒子，利用TEM進行觀察，結果確認到僅為實質上不包含不定形二氧化矽粒子之鱗片狀二氧化矽粒子。 鱗片狀二氧化矽粒子分散液(a)所包含之鱗片狀二氧化矽粒子之平均粒徑係與濕式壓碎後相同，為0.182 μm。平均縱橫比為188。 紅外線水分計所測得之鱗片狀二氧化矽粒子分散液(a)之固形物成分濃度為5.0質量%。 (基質液(b)之製備) 一面攪拌改性乙醇(Japan Alcohol Trading公司製造，Solmix(註冊商標)AP-11，以乙醇為主劑之混合溶劑，沸點78℃；以下相同)34.3 g，一面添加矽酸鹽40(多摩化學工業公司製造，四乙氧基矽烷及其水解縮合物之混合物，固形物成分濃度(SiO₂ 換算)：40質量%，溶劑：乙醇(10%以下)，以下相同)4.2 g及鱗片狀二氧化矽粒子分散液(a)2.0 g，並攪拌30分鐘。於其中添加離子交換水3.6 g及硝酸水溶液(硝酸濃度：61質量%)0.06 g之混合液，並攪拌60分鐘，而製備固形物成分濃度(SiO₂ 換算)為4.0質量%之基質液(b)。再者，SiO₂ 換算固形物成分濃度係矽酸鹽40之全部Si轉化成SiO₂ 時之固形物成分濃度。 (矽烷化合物溶液(c)之製備) 一面攪拌改性乙醇3.85 g，一面添加離子交換水0.4 g及硝酸水溶液(硝酸濃度：61質量%)0.01 g之混合液，並攪拌5分鐘。繼而，添加1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷(信越化學工業公司製造，KBM-3066，固形物成分濃度(SiO₂ 換算)：37質量%)0.5 g，並於水浴中以60℃攪拌15分鐘，而製備固形物成分濃度(SiO₂ 換算)為4.3質量%之矽烷化合物溶液(c)。 (組合物(d)之製備) 一面攪拌基質液(b)44.1 g，一面添加矽烷化合物溶液(c)4.8 g，並攪拌60分鐘。於其中添加改性乙醇146.7 g，於室溫下攪拌30分鐘，而獲得固形物成分濃度(SiO₂ 換算)為1.0質量%之組合物(d)。 [基材之準備] 準備如圖7所示之具有彎曲部與平坦部之形狀之鋁矽酸鹽玻璃(Dragontrail(商品名)；旭硝子公司製造，尺寸：x＝150 mm，y＝100 m(彎曲深度h＝10 mm)、厚度t＝1.1 mm之玻璃基板)作為彎曲基材。針對上述彎曲基材進行化學強化處理，而形成CS 750 MPa，DOL 28 μm之壓縮應力層。利用氧化鈰分散水將該玻璃之表面洗淨後，利用離子交換水進行沖洗，並使之乾燥。 [靜電塗裝裝置] 準備與圖3所示之靜電塗裝裝置10同樣之構成之靜電塗裝裝置(液體靜電塗佈機，ASAHI SUNAC公司製造)。作為靜電塗裝槍，準備旋轉霧化式自動靜電槍(ASAHI SUNAC公司製造，Sun Bell，ESA120，70 φ旋杯)。 準備(I)碳製導電性基板21與(II)玻璃製基板經鋁箔覆蓋之導電性基板21作為導電性基板21。該等導電性基板係加工為同與供進行成膜之彎曲基材接觸之面一致之形狀。 [靜電塗裝] (例1) 將靜電塗裝裝置之塗佈房內之溫度調節為25±1℃，將濕度調節為50%±10%。 於靜電塗裝裝置之鏈條式輸送帶上隔著(I)碳製導電性基板21設置彎曲基材。一面利用鏈條式輸送帶進行等速搬送，一面藉由基於表1所示之塗佈條件之靜電塗裝法將組合物(d)塗佈於彎曲基材之上部面(利用浮式法進行製造時，接觸於熔融錫之面之相反側之面)後，於大氣中以450℃焙燒30分鐘，而獲得附有防眩膜之彎曲基材。於圖8中表示所獲得之基板之外觀照片。 (例2) 使用(II)之基板作為導電性基板21，除此以外，於與例1相同之條件下進行靜電塗裝。於圖9(a)中表示所獲得之基板之外觀照片。 將例1及例2之條件示於表1。 [表1] ＜藉由噴霧法而成膜之基材之製作；例3＞ [使用材料] (基質液(e)之製備) 一面攪拌改性乙醇34.3 g，一面添加4.5 g之矽酸鹽40，並攪拌30分鐘。於其中添加離子交換水3.6 g及硝酸水溶液(硝酸濃度：61質量%)0.06 g之混合液，於室溫下攪拌60分鐘，而獲得固形物成分濃度(SiO₂ 換算)為4.0質量%之基質液(e)。再者，SiO₂ 換算固形物成分濃度係矽酸鹽40之全部Si轉化成SiO₂ 時之固形物成分濃度。 (組合物(f)之製備) 於基質液(e)中添加改性乙醇151.1 g，於室溫下攪拌30分鐘，而獲得固形物成分濃度(SiO₂ 換算)為1.0質量%之組合物(f)。 [噴霧裝置] 使用6軸塗裝用機械手(Kawasaki Robotics公司製造，JF-5)作為噴霧裝置。作為噴嘴，使用VAU噴嘴(二流體噴霧嘴，Spraying Systems Japan公司製造)。 [噴塗] (例3) 使組合物(f)如圖10之噴嘴軌跡60般進行移動，而實施噴塗。 將VAU噴嘴之空氣噴出壓設定為0.4 MPa，使該噴嘴於完成洗淨之彎曲基材3上以750 mm/min之速度沿著橫方向進行移動，繼而向前方移動22 mm，自此處於彎曲基材3上以750 nm/min之速度沿著橫方向進行移動。VAU噴嘴之移動係實施至VAU噴嘴掃描預先加熱至90℃±3℃之完成洗淨之彎曲基材3之整面。將利用該方法於基材之整面塗佈有組合物者稱為1表面塗佈品。將於1表面塗佈品之上進而利用相同方法再一次塗佈有組合物者稱為2表面塗佈品。以相同方式於2表面塗佈品之上進行反覆塗佈，藉此獲得3表面以上之塗佈品。 根據表2所示之塗佈條件而塗佈組合物(f)後，於大氣中以450℃焙燒30分鐘，而獲得附有防眩膜之彎曲基材。將所獲得之基板之外觀照片示於圖9(b)。 [表2] ＜評價結果＞ 針對例1～3中所獲得之附有防眩膜之彎曲基材，進行目視觀察及對反射圖像擴散性指標值R之評價。將結果示於表3。於例1中所獲得之附有防眩膜之彎曲基材之平坦部、彎曲部，利用目視分別觀察到無不適感之均質之防眩性。缺陷等亦未被觀察到，而係美觀優異之防眩膜。觀察平坦部及彎曲部整體時之基於目視之均質性亦非常地良好且美觀優異。 於例2中所獲得之附有防眩膜之彎曲基材之平坦部、彎曲部，觀察到少許之膜不均，但觀察平坦部及彎曲部整體時之基於目視之均質性亦非常地良好。 另一方面，雖例3中所獲得之附有防眩膜之彎曲基材之平坦部成為均質之外觀，但於彎曲部觀察到未完全形成膜之部分。 針對例1至例3中所獲得之附有防眩膜之彎曲基材，分別測定平坦部及彎曲部之反射圖像擴散性指標值R。將該等反射圖像擴散性指標值R之測定值代入至「反射圖像擴散性指標值R之比」之式中而求出時，成為表3之結果。認為該比反映出目視觀察之結果，該比越接近0.5，則防眩膜越均質。例1及例2係接近0.5而為均質，關於例3，根據本算出結果而判明為不均質。 [表3] 繼而，於以下對其他實施例進行說明。例4～例12係本發明之其他實施形態之實施例及比較例。例4～例6為實施例，例7～例12為比較例。表4～表6係表示各例之膜構成。例4～12之各例係使用包括對向於平坦部之靶、與對向於傾斜部之靶，且各自具備可調整之分佈修正板之濺鍍裝置進行製造。作為實施例之例4～例6係藉由分別控制對向於平坦部之靶、與對向於傾斜部之靶之成膜條件，並分別調整各自之分佈修正板，同時進行成膜而製造。於本實施形態中，將高折射率層設為氧化鈮(Nb₂ O₅ )，將低折射率層設為氧化矽(SiO₂ )。 [表4] [表5] [表6] 於表7表示各例之光學特性。關於表7中所示之ΔL、Δa∗、Δb∗，係於自垂直於平坦部之方向觀察時之平坦部、傾斜部、彎曲部各自之位置上，將與基材之抗反射膜相反側之主表面之反射消除而對L、a∗及b∗進行測定，將測定時之相差最大之2點之差分別設為ΔL、Δa∗及Δb∗。色差ΔE係利用ΔE＝[(ΔL)² +(Δa∗)² +(Δb∗)² ]^0.5 之式算出。如表7所示，例4～6均滿足Δa∗＜5.6且Δb∗＜5.4，且JIS Z 8729(2004年)中之色差ΔE滿足ΔE＜18，因此無色不均，為整面較佳之外觀。尤其是θ為50°以下之例4及例5係進而ΔE＜5，較佳之外觀。   [表7] 已詳細且參照特定之實施形態對本發明進行了說明，但對業者而言，顯然清楚可不偏離本發明之精神與範圍而進行各種變更或修正。本申請案係基於2015年11月20日提出申請之日本專利申請案(日本專利特願2015-227440)、及2016年3月14日提出申請之日本專利申請案(日本專利特願2016-049747)者，且將其內容作為參照援用於此處。 [產業上之可利用性] 本發明可提供一種美觀優異，於面內均一且具有優異之視認性之附有膜之彎曲基材、及其製造方法、以及圖像顯示裝置。

1‧‧‧附有防眩膜之彎曲基材
3‧‧‧彎曲基材
3a‧‧‧第1主表面
3b‧‧‧第2主表面
5‧‧‧防眩膜
6‧‧‧抗反射膜
7‧‧‧平坦部
8‧‧‧傾斜部
9‧‧‧彎曲部
10‧‧‧靜電塗裝裝置
11‧‧‧塗佈房
12‧‧‧鏈條式輸送帶
13‧‧‧高電壓電纜
14‧‧‧組合物之供給管線
15‧‧‧組合物之回收管線
16‧‧‧空氣之供給管線
16a‧‧‧雙系統之空氣之供給管線
16b‧‧‧雙系統之空氣之供給管線
17‧‧‧靜電塗裝槍
18‧‧‧高電壓產生裝置
19‧‧‧排氣管
20‧‧‧排氣箱
21‧‧‧導電性基板(底座)
30‧‧‧槍本體
31‧‧‧組合物供給管
31a‧‧‧組合物供給管之前端之噴出口
32‧‧‧旋轉軸
33‧‧‧吹出口
35‧‧‧空氣供給通路
40‧‧‧旋轉霧化頭
41‧‧‧第1零件
42‧‧‧第2零件
43‧‧‧軸安裝部
44‧‧‧保持部
45‧‧‧周壁
46‧‧‧引導面
47‧‧‧擴徑部
48‧‧‧擴散面
48a‧‧‧擴徑部之擴散面之外周緣
49‧‧‧前表面壁
50‧‧‧流出孔
51‧‧‧筒狀部
52‧‧‧後表面壁
53‧‧‧貫通孔
60‧‧‧噴嘴之軌跡
S‧‧‧貯存室

圖1(a)及(b)係本發明之實施形態之附有膜之彎曲基材之一例的剖面模式圖，圖1(a)係表示具有組合彎曲部與平坦部而成之形狀之附有膜之彎曲基材，圖1(b)係表示具有僅由彎曲部形成之形狀之附有膜之彎曲基材。 圖2(a)及(b)係彎曲基材之一例之剖面模式圖，圖2(a)係表示具有組合彎曲部與平坦部而成之形狀之彎曲基材，圖2(b)係表示具有僅由彎曲部形成之形狀之彎曲基材。 圖3係表示靜電塗裝裝置之一例之概略圖。 圖4係圖3之靜電塗裝裝置所具備之靜電塗裝槍17之剖面模式圖。 圖5係自前方觀察圖4之靜電塗裝槍17之前視模式圖。 圖6係自圖3之靜電塗裝裝置之鏈條式輸送帶上游觀察之側視模式圖。 圖7(a)及(b)係對彎曲基材之各部位進行說明之圖，圖7(a)係立體模式圖，圖7(b)係A-A剖面之剖面模式圖。 圖8(a)及(b)係表示藉由例1而獲得之附有膜之彎曲基材之外觀照片，圖8(a)係俯視圖，圖8(b)係側視圖。 圖9(a)係藉由例2而獲得之附有膜之彎曲基材之俯視圖，圖9(b)係藉由例3而獲得之附有防眩膜之彎曲基材之俯視圖。 圖10係說明對彎曲基材進行噴塗時之噴嘴軌跡之圖。 圖11係表示本發明之實施形態之附有膜之彎曲基材之一例的剖面圖。

1‧‧‧附有防眩膜之彎曲基材

3‧‧‧彎曲基材

3a‧‧‧第1主表面

3b‧‧‧第2主表面

5‧‧‧防眩膜

7‧‧‧平坦部

9‧‧‧彎曲部

Claims (11)

1. 一種附有膜之彎曲基材，其特徵在於：包括具有第一主表面、第二主表面、及端面之基材；與設置於上述第一主表面上之防眩膜； 上述基材具有平坦部與彎曲部， 用彎曲部之反射圖像擴散性指標值R除以彎曲部之反射圖像擴散性指標值R及平坦部之反射圖像擴散性指標值R之和而獲得之值為0.3以上且0.8以下， 此處，反射圖像擴散性指標值R係將基材之第一主表面設為基準(設為0°)，自+45°之方向對基材照射光，對基材表面所反射之正反射光(稱為45°正反射光)之亮度進行測定，繼而以相同方式自+45°之方向對基材照射光，使受光角度於0°～+90°之範圍內進行變化，對基材表面所反射之全反射光之亮度進行測定，並由下式(1)計算出， 反射圖像擴散性指標值R＝(全反射光之亮度－45°正反射光之亮度)/(全反射光之亮度)          (1)。
2. 一種附有膜之彎曲基材，其特徵在於：包括具有第一主表面、第二主表面、及端面之基材；與設置於上述第一主表面上之防眩膜； 整個上述基材僅包含曲率並非為0之彎曲部， 設置於上述彎曲部之防眩膜之霧度於面內之標準偏差為0%以上且10%以下。
3. 如請求項1之附有膜之彎曲基材，其於上述防眩膜上進而包括功能膜，且於消除自與上述平坦部垂直之方向觀察之情形時之上述平坦部、彎曲部及角度與上述平坦部不同之其他平坦部之上述第二主表面之反射、並將所測得之視感反射率相差最大之2點之差分別設為Δa∗及Δb∗之情形時，滿足Δa∗＜5.6且Δb∗＜5.4，且JIS Z 8729(2004年)中之色差ΔE滿足ΔE＜18。
4. 如請求項3之附有膜之彎曲基材，其於上述平坦部與上述其他平坦部所成之角度為50°以下之情形時，滿足ΔE＜5。
5. 如請求項3或4之附有膜之彎曲基材，其中上述功能膜為抗反射膜。
6. 如請求項3或4之附有膜之彎曲基材，其中上述功能膜為紅外線截止膜。
7. 一種顯示裝置，其包括如請求項1至6中任一項之附有膜之彎曲基材。
8. 一種附有膜之彎曲基材之製造方法，其特徵在於具有如下步驟： 準備具有包括第一主表面、第二主表面、及端面之彎曲部之彎曲基材； 準備包含二氧化矽前驅物(A)及粒子(C)中之至少一者、與液狀介質(B)之組合物； 將上述彎曲基材以導電性基板與上述第二主表面之彎曲部接觸之方式載置於導電性基板上； 使用靜電塗裝裝置使上述組合物帶電並進行噴霧，藉此於載置於上述導電性基板上之上述彎曲基材上形成塗膜；及 將上述塗膜進行焙燒。
9. 如請求項8之附有膜之彎曲基材之製造方法，其中於將上述彎曲基材載置於導電性基板上之步驟中，以與上述第二主表面之整面接觸之方式載置於上述導電性基板上。
10. 如請求項8或9之附有膜之彎曲基材之製造方法，其中上述導電性基板為具有柔軟性之塊材。
11. 如請求項8至10中任一項之附有膜之彎曲基材之製造方法，其於將上述塗膜焙燒後，進而包括於上述塗膜上藉由濺鍍而形成功能膜之步驟， 上述成膜步驟係於角度不同之複數個平坦部上，於獨立之成膜條件下同時進行成膜。