TW201726579A

TW201726579A - 乾燥硬化型之塗材用石膏組成物、石膏系塗材及石膏系塗材之施工方法

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Publication number: TW201726579A
Application number: TW105140838A
Authority: TW
Inventors: Itaru Yokoyama; Yoshikazu Tanaka
Original assignee: Yoshino Gypsum Co
Priority date: 2015-12-11
Filing date: 2016-12-09
Publication date: 2017-08-01
Also published as: JPWO2017099102A1; CN108367989A; EP3388405A1; KR20180086485A; US20180319709A1; KR102144842B1; CA3004042C; AU2016366279A1; AU2016366279B2; WO2017099102A1; ES2896279T3; CN108367989B; EP3388405A4; RU2696712C1; EP3388405B1; JP6735290B2; US10654754B2; CA3004042A1; TWI712574B

Abstract

本發明所提供的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物，係當添加水而形成石膏系塗材時，可形成薄且平滑、並抑制色斑的塗膜。本發明所提供的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、以及凝結延遲劑，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。

Description

乾燥硬化型之塗材用石膏組成物、石膏系塗材及石膏系塗材之施工方法

本發明係關於乾燥硬化型之塗材用石膏組成物、石膏系塗材及石膏系塗材之施工方法。

在建築物的牆壁、地板、及天花板等表面上，利用塗牆材等塗材形成塗膜的工法，已知有例如濕式工法。濕式工法係採行在以砂漿、灰泥、石膏或矽藻土等無機系粉末為主材的組成物中混練水，而形成漿狀濕式塗材，再將該濕式塗材利用鏝刀塗(鏝刀塗佈)於建築物的內飾壁或外裝牆等表面上等方法，而形成塗膜。特別於建築物的內牆或外牆之面漆塗材中，為能確保壁面的式樣性，廣泛採用灰泥系塗材或石膏系塗材。一般該等濕式塗材係以粉末狀組成物之形式商品化，再於施工現場經與水混練後才使用。

例如專利文獻1所揭示的方法的特徵在於：塗膜形成時，使用含有石灰、白色顏料、著色顏料、結合劑及水的著色灰泥組成物，而抑制著色灰泥塗膜退色的方法。專利文獻2所揭示的壁面用塗材，係分別依既定比例摻合：粒徑0.1mm以下的無機質粉體、粒徑0.1mm以下的石膏、線徑5~15μm且長度3~10mm的纖維、水溶性糊料、及合成樹脂。專利文獻3所揭示的發明係關於：含有半水石膏及顏料、以及既定比例的特定媒晶劑，當半水石膏進行水合時的二水石膏係控制成長寬比1~9板狀結晶狀態的乾燥石膏組成物及石膏系塗材。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2004-315363號公報

[專利文獻2]日本專利特開2009-249271號公報

[專利文獻3]國際公開第2012/077523號

如專利文獻2所記載，灰泥系塗材在壁面上施行鏝刀塗佈的工法，若屬平滑面便容易修整。所以，當塗材依薄塗(具體係例如塗厚3mm以下的薄塗)形成平滑塗膜時，一般相較於石膏系塗材較偏好使用灰泥系塗材。

但是，當使用灰泥系塗材時，因為灰泥的pH在鹼性區域，且灰泥系塗材在進行塗佈的作業中亦會有粉塵飛揚之情形，因而若顧慮操作員的安全性，必須更加深切小心進行作業。另一方面，就從pH容易調製至中性附近，且就上述安全性的觀點而言亦具有優點，且針對布(壁紙)、石膏板等底層容易附著等觀點，使用石膏系塗材亦有優點。

然而，根據本發明人等之檢討結果，得知使用由半水石膏進行水合反應之所謂「反應硬化型石膏系塗材」，若施行例如塗厚3mm以下的薄塗，則利用石膏系塗材的硬化而形成之塗膜，會有容易發生色斑的傾向。

緣是，本發明提供：當添加水而形成石膏系塗材時，可形成薄且平滑、並抑制色斑之塗膜的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物。

利用石膏系塗材施行薄塗之塗膜形成過程中，除塗材中的半水石膏進行水合反應而硬化的過程之外，亦有會伴隨塗材中的水分潛在性地被屬於底層的受黏物吸收，或因蒸發至空氣中而乾燥且硬化等二項過程。塗材中的半水石膏在進行水合反應之前，若因塗材中的水分會被屬於底層的受黏物吸收、或因蒸發至空氣中，導致半水石膏進行水合反應時所需要的水分不足，判斷在利用石膏系塗材硬化所形成之塗膜中會殘留未反應之半水石膏，亦即發生所謂「乾涸(dry out)」現象。本發明者等認為因該乾涸而導致半水石膏部分性或不均勻地進行水合反應所形成的塗膜，在半水石膏的未反應部分(乾涸部分)、與反應部分之間會產生上述色斑。

在此本發明人等顛覆習知石膏系塗材被認定屬常識性技術之利用半水石膏的水合反應，而形成硬化膜的反應硬化型手法，針對半水石膏不易發生水合反應之事進行研究。所以，本發明者等經使用在依半水石膏不易發生水合反應之方式構成的石膏組成物中添加水的石膏系塗材，結果發現由該石膏系塗材利用石膏系塗材硬化所形成的塗膜，意外地具有抑制色斑的傾向，遂完成本發明。

本發明所提供的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、以及凝結延遲劑，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。

根據本發明可提供：於加水而形成石膏系塗材時，可形成薄且平滑、並抑制色斑之塗膜的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物。

圖1係試驗體2的石膏系塗膜之粉末X射線繞射圖案。

圖2係試驗體12的石膏系塗膜之粉末X射線繞射圖案。

以下，針對本發明實施形態進行說明，惟本發明並不侷限於以下實施形態。

<塗材用石膏組成物>

如上述，根據本發明者等的檢討結果，得知若使用含有半水石膏的反應硬化型石膏系塗材，施行塗膜厚3mm以下的薄塗，便容易形成具色斑的塗膜。經本發明人等針對色斑之原因進行研究，認為係因屬於薄塗的緣故，所以塗材中的水分會被底層的受黏物吸收、或水分會蒸發至空氣中，導致利用石膏系塗材硬化而形成的塗膜中，所殘留之未反應半水石膏的乾涸情形容易發生。藉由此乾涸，判斷因半水石膏部分性或不均勻水合反應而形成的塗膜，會在半水石膏的未反應部分(乾涸部分)與反應部分之間出現上述色斑。

此現象可認為上述色斑係當在塗材用石膏組成物中添加水而形成石膏系塗材時，會因塗材中的水分會被屬於底層的受黏物吸收、或水分蒸發於空氣中，導致會有塗材中的半水石膏水合反應起始時間相較塗材完成乾燥硬化的時間(以下亦稱「乾燥硬化完成時間」)更早之石膏組成物的情況發生。

考慮對底層的附著性、塗膜強度，習知石膏系塗材採用藉由在半水石膏中添加水產生水合反應，使半水石膏相變化為二水石膏並硬化的反應硬化型塗材。但是，本發明人等顛覆習知石膏系塗材被認定屬常識性技術的反應硬化型手法，反其道針對半水石膏不易產生水合反應進行研究，嘗試使用以不易發生半水石膏水合反應方式般構成的石膏組成物。結果，得知藉由在石膏組成物中添加水的石膏系塗材，意外地可形成對底層呈現充分附著性、且色斑經抑制的塗膜。

另外，本說明書中，所謂「以不易發生半水石膏水合反應般構成的石膏組成物」係指當在該石膏組成物添加水而形成石膏系塗材時，相較於半水石膏水合反應的起始時間之下，塗材中的水分被屬於底層的受黏物吸收、或水分蒸發至空氣中，塗材乾燥硬化完成時間屬較早的石膏組成物。當乾燥硬化的完成時間較水合反應起始時間早的情況，因為周圍並不存在水合反應所需要的水分量，故而水合反應受抑制。

即，本發明一實施形態的塗材用石膏組成物(以下亦簡稱為「石膏組成物」)，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣及凝結延遲劑。該石膏組成物中，相對於半水石膏100質量份，碳酸鈣含有量係10~400質量份，凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。而，該石膏組成物係使用於乾燥硬化型石膏系塗材。

本實施形態的石膏組成物最好使用為含水的石膏系塗材。當該石膏組成物係於石膏組成物中添加水而形成石膏系塗材時，便可利用該石膏系塗材形成塗膜，更具體係藉由將該石膏系塗材塗佈於受黏物，使之乾燥硬化，便可形成塗膜。

石膏組成物係特定量含有平均粒徑50μm以下的半水石膏與碳酸鈣、以及凝結延遲劑，因而可形成薄且平滑、高表面硬度的塗膜。所以，藉由使用在石膏組成物中添加水而調製的石膏系塗材，便可形成對刮傷及碰撞具良好耐性的塗膜。所以，若使用石膏組成物調製的石膏系塗材，塗佈於例如壁面並使之乾燥硬化而形成塗膜，便可形成對刮傷及碰撞具良好耐性的壁面。另外，藉由石膏組成物便可形成薄且平滑、高表面硬度塗膜者，推測係藉由依特定比例含有平均粒徑均在50μm以下的半水石膏與碳酸鈣，由該等產生相乘作用所致。

再者，本實施形態的石膏組成物因為相對於半水石膏100質量份，含有凝結延遲劑達0.1質量份以上，因而石膏組成物中的半水石膏水合反應受抑制。故，藉由使用本實施形態的石膏組成物，便可抑制半水石膏部分性或不均勻的水合反應，可形成大致全體或大致均勻地維持半水石膏的塗膜。所以，藉由本實施形態的石膏組成物便可形成薄且平滑的塗膜，且可抑制因半水石膏部分性或不均勻水合反應造成的色斑。

本實施形態的石膏組成物係如上述，較佳係構成在添加水時，石膏組成物中的半水石膏水合反應受抑制、最好不要產生上述水合反應。該構成係如下述，亦可利用X射線繞射所進行的構造解析或水合反應起始時間進行規範。

半水石膏(CaSO₄‧1/2H₂O)若產生水合反應便會變化為二水石膏(CaSO₄‧2H₂O)。已知X射線繞射圖案中，二水石膏會在繞射角11~12°出現清晰的繞射峰，半水石膏會在繞射角14~15°出現清晰的繞射峰。由該已知資訊、與將石膏組成物與水的混練物施行塗佈硬化而形成塗膜的粉末之X射線繞射，便可確認石膏組成物是否構成為可抑制石膏組成物中半水石膏水合反應般(較佳係水合反應起始時間較乾燥硬化完成時間晚)。

即，本實施形態的石膏組成物係當在石膏組成物中添加水並使之乾燥硬化而形成塗膜時，粉末X射線繞射會呈現石膏組成物所含有之半水石膏的繞射尖峰，較佳為不要出現因該半水石膏的水合反應而造成的二水石膏繞射尖峰。本說明書中，所謂「因半水石膏的水合反應所造成的二水石膏繞射尖峰」係指在形成上述塗膜前的石膏組成物中所含有之半水石膏，因進行水合反應而生成之二水石膏的繞射尖峰。本發明一實施形態的石膏組成物(及石膏系塗材)中，在例如填充劑等目的下亦可含有二水石膏。此情況，在該石膏組成物中添加水而形成塗膜時，在粉末X射線繞射中會呈現最原始石膏組成物中所含有之二水石膏的繞射尖峰。因此，上述利用粉末X射線繞射來進行的構成確認，係可在使用未摻合二水石膏的石膏組成物的情況下實施，或者在石膏組成物摻合有二水石膏的情況下，使用該二水石膏經除去的石膏組成物的情況下實施。以下針對關於本發明一實施形態石膏組成物(石膏系塗材)的粉末X射線繞射之繞射尖峰，就使用未含二水石膏的石膏組成物(未摻合二水石膏的石膏組成物、及使用二水石膏經除去的石膏組成物等)進行分析的情況敘述。另外，上述粉末X射線繞射的測定係可依後述實施例所記載之條件實施。

另一方面，如習知當反應硬化型石膏系塗材施行薄塗時，若塗膜有發生乾涸的情況，則在使習知石膏組成物與水的混合物硬化而形成塗膜的粉末X射線繞射中，會呈現半水石膏的繞射尖峰、與根據該半水石膏水合反應所生成之二水石膏的繞射尖峰二者。又，如習知反應硬化型石膏系塗材施行厚塗時，不易發生乾涸、塗膜幾乎全體均形成藉由半水石膏的水合反應而生成二水石膏時，不會呈現半水石膏的繞射尖峰，但會呈現二水石膏的繞射尖峰。

再者，藉由測定在石膏組成物中添加水時的水合反應起始時間，亦可確認石膏組成物是否構成如石膏組成物中的半水石膏水合反應已受抑制般(較佳係水合反應起始時間較乾燥硬化完成時間晚)。即，本實施形態的石膏組成物最好在石膏組成物中添加水時的水合反應起始時間達24小時以上。上述水合反應起始時間係將JIS A6904所記載標準軟度設為針入深度20±2mm，其他根據JIS A6904，將JIS A6904所謂凝結的起始設為本說明書的水合反應起始進行測定。若該水合反應的起始時間達24小時以上(更佳係48小時以上)，則在將通常所使用之量的水添加於石膏組成物中而形成石膏系塗材時，在水合反應開始前，石膏系塗材中的水分會被受黏物吸收、或蒸發於空氣中，使石膏系塗材容易藉由乾燥硬化而形成塗膜。

另外，考慮JIS A6909「建築用面漆塗材」的薄塗材及厚塗材各塗厚之相關記載，本說明書中所謂「薄塗」係指塗厚在3mm左右以下(例如0.5~3mm)的塗佈。又，同樣的，所謂「厚塗」係指塗厚超過3mm(例如4~10mm)左右的塗佈。又，本說明書中，所謂「平均粒徑」係指使用依照雷射繞射‧散射法的粒度分佈測定裝置，所測定的體積平均粒徑(MV)。其次，針對本實施形態石膏組成物中的各成分，就本實施形態石膏組成物的構成更進一步詳述。

半水石膏係硫酸鈣的半水合物[CaSO₄‧1/2H₂O]，亦稱「熟石膏」。本說明書中，「半水石膏」係包括α型半水石膏與β型半水石膏，又因為會吸收空氣中的水分容易變化為半水石膏，因而亦涵蓋III型無水石膏(CaSO₄)。半水石膏的原料石膏係可使用天然物(燒石膏等)、副產石膏、及廢石膏中之任一者。就從製造成本、再生促進、環境保護等觀點，本實施形態石膏組成物中所含有之半水石膏的原料石膏其中一部分或全部較佳為廢石膏。

本實施形態的石膏組成物中，半水石膏最好係使用在大氣中或水中(包括水蒸氣中)施行煅燒而獲得的α型半水石膏及β型半水石膏中之任一者或二者，較佳係亦使用該等的混合物。就從可輕易將半水石膏的平均粒徑調整於50μm以下的觀點，更佳係β型半水石膏。另外，α型半水石膏係藉由將天然石膏等二水石膏使用例如高壓釜，在水中或水蒸氣中施行加壓煅燒便可製造。又，β型半水石膏係藉由將天然石膏等二水石膏在大氣中施行常壓煅燒便可製造。

為能使用經在本實施形態石膏組成物中添加水的石膏系塗材來形成平滑塗膜，石膏組成物使用有平均粒徑50μm以下的半水石膏。若使用平均粒徑大於50μm的半水石膏，則藉由在石膏組成物中添加水的石膏系塗材之乾燥硬化而獲得塗膜的表面會變粗糙，且表面硬度降低，會有成為易遭刮傷之表面的情況。

就從形成更平滑塗膜的觀點，半水石膏的平均粒徑較佳係40μm以下、更佳係30μm以下。半水石膏的平均粒徑下限並無特別的限制，就從粉碎設備及成本的觀點，半水石膏的平均粒徑較佳係1μm以上、更佳係10μm以上。

為能使用經在本實施形態石膏組成物中添加水的石膏系塗材來形成平滑塗膜，石膏組成物使用有平均粒徑50μm以下的碳酸鈣。若使用平均粒徑大於50μm的碳酸鈣，使石膏系塗材乾燥硬化而形成塗膜的表面會變粗糙，且表面硬度降低，會有成為易刮傷之表面的情況。藉由石膏組成物中所含有碳酸鈣與前述半水石膏的平均粒徑均在50μm以下，即便將石膏系塗材施行薄塗的情況，仍可形成平滑且高表面硬度的塗膜。

就從形成更平滑塗膜的觀點，碳酸鈣的平均粒徑更佳係40μm以下、特佳係30μm以下。碳酸鈣的平均粒徑下限並無特別的限制，就從粉碎設備及成本的觀點，較佳係0.1μm以上、較佳係1μm以上、特佳係10μm以上。

石膏組成物中的碳酸鈣含有量，相對於半水石膏100質量份係10~400質量份。相對於半水石膏100質量份，若碳酸鈣含有量未滿10質量份，則藉由在該石膏組成物中添加水的石膏系塗材之乾燥硬化而形成塗膜的表面容易變粗糙。此現象可認為因半水石膏含有量相對於碳酸鈣含有量過多，當使在該石膏組成物添加水的石膏系塗材在受黏物上施行鏝刀塗佈時，會發生黏瘩，導致成為鏝刀不易提刀的原因。

另一方面，相對於半水石膏100質量份，若碳酸鈣含有量超過400質量份，則藉由在該石膏組成物中添加水的石膏系塗材之乾燥硬化而形成塗膜的表面變粗糙，且表面硬度降低，會有成為易刮傷之塗膜的情況。此現象認為若使在碳酸鈣含有量超過400質量份的石膏組成物中添加水之石膏系塗材於受黏物上施行鏝刀塗佈，則在利用石膏系塗材乾燥硬化形成塗膜的過程中，表面側容易變得更硬，於凝固情形產生偏移，導致施行鏝刀塗佈時的鏝紋即便藉由鏝刀推光作業仍難消除的原因。

本實施形態的石膏組成物就從獲得平滑且高表面硬度塗膜的觀點，碳酸鈣的含有量相對於半水石膏100質量份較佳係10~300質量份、更佳係10~200質量份。

本實施形態的石膏組成物中，為抑制半水石膏的水合反應，便依石膏系塗材的乾燥硬化完成時間較水合反應起始時間早之量而含有凝結延遲劑。例如當凝結延遲劑係使用蛋白質分解物的情況，在石膏組成物中，相對於半水石膏100質量份，依0.1質量份以上的比例含有凝結延遲劑。相對於半水石膏100質量份，若凝結延遲劑含有量未滿0.1質量份，便會有半水石膏其中一部分產生水合反應的可能性。結果，此情況藉由在該石膏組成物中添加水的石膏系塗材之硬化而形成之塗膜，會有發生因半水石膏部分性或不均勻水合反應而造成色斑的可能性。

凝結延遲劑含有量的上限並無特別的限定，凝結延遲劑係只要能抑制半水石膏水合反應的量便足夠，若此量過多便會成為成本上升的原因，且當凝結延遲劑本身便有顏色的情況，會有塗膜其中一部分出現變色的可能性。就從該等觀點，凝結延遲劑含有量相對於半水石膏100質量份，較佳係15質量份以下、更佳係10質量份以下、特佳係2質量份以下。所以，石膏組成物中的凝結延遲劑含有量相對於半水石膏100質量份，較佳係0.1~15質量份、更佳係0.1~10質量份、特佳係0.1~2質量份。就從更輕易抑制半水石膏水合反應的觀點，石膏組成物中的凝結延遲劑含有量相對於半水石膏100質量份更佳係0.2質量份以上。

另外，凝結延遲劑的平均粒徑並無特別的限定，凝結延遲劑中較佳係具有較小粒徑者，具體較佳係50μm以下、更佳係半水石膏與碳酸鈣的平均粒徑以下。

凝結延遲劑係可使用從檸檬酸、琥珀酸、醋酸、蘋果酸、伸乙二胺四醋酸、二伸乙三胺五醋酸、及該等的鹽、以及蔗糖、澱粉、及蛋白質分解物所構成群組中選擇至少1種。檸檬酸鹽、琥珀酸鹽、醋酸鹽、蘋果酸鹽、伸乙二胺四醋酸鹽、及二伸乙三胺五醋酸鹽中構成鹽的離子係可舉例如：鈉、鉀、鋰、鈣、及鎂等金屬離子、以及有機銨離子等。上述蛋白質分解物係可使用將原自動物及/或植物的蛋白質，利用鹽酸等施行水解而獲得者，或者利用蛋白酶等酵素進行分解而獲得者等。可使用例如：蛋白腖、明膠、角蛋白、酪蛋白、酪蛋白鈣、卵白蛋白、γ-球蛋白、或該等的混合物等等蛋白質分解物。此種凝結延遲劑的市售物係可例如：SICIT公司製商品名「PLAST RETARD PE」等。

此處，習知石膏系塗材係使用半水石膏，藉由添加水而使之產生半水石膏的水合反應，使半水石膏相變化為二水石膏並硬化而作為反應硬化型塗材來使用。此種習知反應硬化型石膏系塗材，在塗佈於受黏物前的階段，為使半水石膏不產生水合反應，假設即便有使用凝結延遲劑，但因為在塗佈後要使半水石膏產生水合反應，因而必需摻合凝結促進劑等會促進水合反應的添加劑。相對於此，本實施形態的石膏組成物係構成為抑制半水石膏水合反應的狀態，而被使用於乾燥硬化型石膏系塗材。所以，本發明一實施形態的石膏組成物最好實質未含有凝結促進劑。實質未含有凝結促進劑的石膏組成物，係在由該石膏組成物與水的混合物所形成塗膜之粉末X射線繞射中，可確認到並未具有根據半水石膏水合反應所生成之二水石膏的明顯繞射尖峰。

本實施形態的石膏組成物較佳係以前述半水石膏及碳酸鈣為主成分的組成物。具體而言，石膏組成物中的半水石膏及碳酸鈣合計含有比例(質量%)，以石膏組成物固形份總質量為基準，較佳係50質量%以上、更佳係60質量%以上、特佳係70質量%以上。又，以石膏組成物固形份總質量為基準，在石膏組成物中的半水石膏、碳酸鈣及凝結延遲劑之各含有比例(質量%)，分別在前述含有量(質量份)關係前提下，可設在如下述範圍內。即，石膏組成物固形份中，半水石膏含有比例較佳係18~90質量%範圍內、更佳係20~90質量%範圍內。石膏組成物固形份中，碳酸鈣含有比例較佳係8~80 質量%範圍內、更佳係8~70質量%範圍內，凝結延遲劑含有比例較佳係0.02~8質量%範圍內。

本實施形態石膏組成物中，在不致阻礙本發明目的之範圍內，可含有除上述成分以外的各種添加劑。添加劑係可舉例如：糊劑、著色劑、增黏劑、消泡劑、凝結促進劑、填充劑、骨材、輕量化材、減水劑、撥水劑、撥水助劑、甲醛捕捉劑、起泡劑、抗凍劑、防霉劑、防銹劑、防腐劑、抗菌劑、殺菌劑、黏度調整劑、可塑劑、潤滑劑、滑劑、pH調整劑、及吸放濕性材料等。

本實施形態石膏組成物中較佳為含有糊劑。藉由石膏組成物含有糊劑，當將在該石膏組成物中添加水而調製的石膏系塗材塗佈於受黏物，且經乾燥硬化而形成塗膜時，可提升塗膜緊緻、對受黏物的附著性，且能提高平滑性與表面硬度。

糊劑係可舉例如：聚乙烯醇、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)共聚物、乙烯-特十碳酸乙烯酯共聚物及醋酸乙烯酯-特十碳酸乙烯酯共聚物等乙烯酯與乙烯單體的共聚物；聚丙烯酸、醋酸乙烯酯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、醋酸乙烯酯-特十碳酸乙烯酯-丙烯酸三元共聚物、醋酸乙烯酯-特十碳酸乙烯酯-順丁烯二酸乙烯酯三元共聚物及丙烯酸三元共聚物等。可使用該等中之1種或2種以上。糊劑較佳係聚乙烯醇、丙烯酸系樹脂、醋酸乙烯酯系樹脂。石膏組成物中的糊劑含有量以石膏組成物總質量為基準，較佳係1~10質量%。

因為半水石膏與碳酸鈣係白色，因而從使用本實施形態石膏組成物所調製的石膏系塗材，可形成如灰泥的白色塗膜，例如可形成如灰泥的白色壁面。另一方面，當欲將塗膜形成白色以外的顏色時，可使石膏組成物中含有著色劑。作為著色劑主要有染料與顏料等2種，較佳為使用顏料。

顏料係可使用具有各種色彩的無機顏料及有機顏料。無機顏料並無特別的限定，可舉例如：氧化鋅、氧化鐵、二氧化鈦、氧化鉻、氫氧化鋁、黃色氧化鐵、黃鉛、鉻酸鋅、滑石、群青、鉛白、碳黑、及磷酸鹽等。又，有機顏料並無特別的限定，可舉例如：偶氮系顏料、硝基系顏料、亞硝基系顏料、酞菁顏料、及縮合多環顏料等。又，亦可使用色澱顏料。石膏組成物中的顏料含有量，係可依照所需色彩(明度、色度、彩度)再行適當設定。

本實施形態的石膏組成物中，在提升石膏系塗材觸變之目的下，可含有增黏劑。增黏劑係可例如：纖維素系增黏劑、聚丙烯醯胺類、α化澱粉、澱粉衍生物類、綠坡縷石(attapulgite)、海泡石、蒙脫石、及膨潤土等黏土類等等。其中較佳係纖維素系增黏劑。纖維素系增黏劑的較佳具體例係可舉例如：羥乙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、甲基羥丙基纖維素、甲基羥乙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、甲基纖維素、及羧甲基纖維素、以及該等的鹽等。可使用該等纖維素系增黏劑中之1種或2種以上。石膏組成物中的增黏劑含有量，以石膏組成物總質量為基準，較佳係0.01~2質量%。

本實施形態的石膏組成物係在石膏系塗材塗佈於受黏物時能防止因鏝刀塗佈造成的拉紋、以及提高平滑性之目的下，可含有消泡劑。消泡劑係可使用例如：聚矽氧系、醇系及多醚系各消泡劑，可單獨使用1種、或組合使用2種以上。該等消泡劑係可使用合成物質、或源自植物的天然物質等公知物。石膏組成物中的消泡劑含有量，以石膏組成物總質量為基準，較佳係0.01~1質量%。

本實施形態的石膏組成物係可設為例如：粉末狀、錠劑狀、及塊狀等形態。亦可將石膏組成物中所含有的半水石膏、碳酸鈣、及凝結延遲劑等各成分統籌形成單一混合形態使用、亦可形成單一劑形態使用、亦可各別形成套裝組合(組合處方)使用。

上述各形態中，石膏組成物較佳係粉末狀形態(粉末的集合體)。當石膏組成物係粉末狀形態時，藉由在將塗材塗佈於受黏物的現場，於石膏組成物中添加水便可輕易地調製漿狀(液狀)石膏系塗材。將石膏組成物形成為粉末狀形態並塗佈於受黏物時，若在剛要塗佈於受黏物之前，才於石膏組成物添加水而調製石膏系塗材使用為較佳，且可更輕易防止石膏組成物中的半水石膏之水合反應。所以，可更輕易抑制因塗材硬化所造成的塗膜色斑。

<石膏系塗材>

本說明書中，將含水的石膏組成物稱為「石膏系塗材」。即，本發明一實施形態的石膏系塗材係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、凝結延遲劑、以及水。進而，該石膏系塗材中，相對於半水石膏100質量份，碳酸鈣含有量係10~400質量份、凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。

本實施形態的石膏系塗材係可形成漿狀(液狀)、糊狀及凝膠狀等形態。其中，為使石膏系塗材能直接塗佈於受黏物上，石膏系塗材最好形成漿狀(液狀)形態。當含有水的石膏系塗材流通時，為能在使用前的階段能抑制半水石膏的水合反應，石膏系塗材最好預先含有反應終止劑。

依如上述，使用在塗材使用前的階段，便預先含有水與反應終止劑之所謂「調合式(ready-mixed type)石膏系塗材」，具有在將塗材塗佈於受黏物的現場時，可省略在石膏組成物中添加水的作業之優點。另外，調合式石膏系塗材中，於使用之際視需要亦可添加反應起始劑。又，因為調合式石膏系塗材含有水，所以隨時間經過，從塗材塗佈前起便會有其中一部分半水石膏產生水合反應的可能，或者在保管中發生石膏組成物的性狀產生變化等，並在施行塗佈時部分地進行水合反應的可能性。所以，本發明一實施形態的石膏組成物更佳係前述粉末狀形態。

石膏系塗材的水含有量並無特別的限定，可配合用途再行適當決定。例如石膏系塗材係相對於半水石膏、碳酸鈣及凝結延遲劑的合計100質量份，較佳係含有水30~60質量份。又，相對於固形份的石膏組成物，混水率較佳係30~60質量%。石膏系塗材的pH較佳係7以上且未滿9(中性附近)、更佳係7以上且8以下、特佳係7以上且未滿8(中性)。本說明書中，塗材的pH係指25℃所測定的值。在調整石膏系塗材的pH時，可適當添加pH調整劑。pH調整劑係可使用例如：鹽酸及硫酸等酸；以及氫氧化鈉、氫氧化鉀、及氫氧化鈣等鹼。

因為本實施形態的石膏系塗材係使用前述石膏組成物，因而可形成經抑制半水石膏水合反應的塗膜，具體係可形成幾乎維持半水石膏狀態(硫酸鈣的水合數)的塗膜。所以，利用上述石膏系塗材，便可形成經抑制因半水石膏部分性或不均勻水合反應所造成色斑的塗膜。就從抑制色斑的觀點，本實施形態的石膏系塗材最好在乾燥硬化而形成塗膜時的粉末X射線繞射測定中，呈現石膏系塗材所含有半水石膏的繞射尖峰，且未呈現根據該半水石膏水合反應的二水石膏繞射尖峰。又，本實施形態的石膏系塗材最好根據前述JIS A6904所測定水合反應的起始時間達24小時以上。

因為石膏系塗材中所含有半水石膏與碳酸鈣均係平均粒徑50μm以下，所以可形成薄且平滑的塗膜。具體而言，利用該石膏系塗材可形成表面粗糙度根據JIS B0601：1982(JIS B0601：2013之附錄JA)所規定之十點平均粗糙度R_x(μm)在5μm以下、較佳3μm以下、更佳2μm以下、特佳1μm以下的塗膜。R_z值越低表示塗膜表面越平滑。R_z下限並無特別的限定，可設為0.1μm以上。

再者，本實施形態的石膏系塗材可形成JIS K6253-3：2012所規定D型硬度計硬度達51以上、較佳56以上的塗膜。上述表面粗糙度及D型硬度計硬度的各值係採取將本實施形態石膏系塗材塗佈於石膏板上，自經乾燥而硬化的塗膜所測定之值。

一般石膏系塗材的用途係有石膏板表面處理材或塗牆材(底塗用、頂塗用、及該等二者兼用)。因為本實施形態的乾燥硬化型之塗材用石膏組成物及石膏系塗材，係依使石膏系塗材中所含有半水石膏之水合反應不會發生的方式構成，因而可防止因半水石膏部分性或不均勻的水合反應所造成之色斑。所以，本實施形態的石膏組成物及石膏系塗材頗適用為表示表面的材料、形成薄薄的材料，就從此觀點最好使用為塗牆材。特別係因為本實施形態的石膏組成物及石膏系塗材可形成薄且平滑的塗膜，故更佳使用於頂塗用、或底塗用與頂塗用雙方兼用的塗牆材，更佳係使用於塗厚3mm以下薄度的頂塗用或雙方兼用塗牆材。

以上本實施形態的石膏組成物，因為分別依特定比例含有平均粒徑50μm以下的半水石膏及碳酸鈣、以及凝結延遲劑，因而可形成薄且平滑、高表面硬度的塗膜，且能抑制半水石膏的水合反應。所以，在石膏組成物中添加水而形成石膏系塗材時，藉由使該石膏系塗材乾燥硬化，便可形成針對刮傷與碰撞的耐性佳之薄塗膜、且抑制半水石膏部分性或不均勻水合反應、幾乎全體性或幾乎均勻維持半水石膏的塗膜。所以，利用在本實施形態石膏組成物中添加水的石膏系塗材，便可形成因半水石膏部分性或不均勻水合反應所造成色斑經抑制的塗膜。

再者，因為本實施形態石膏組成物中所含有主材的半水石膏與碳酸鈣係白色，因而藉由使用在該石膏組成物中添加水的石膏系塗材，便可形成薄且平滑的灰泥色調塗膜。此處，使用習知灰泥系塗材時，灰泥系塗材的pH在鹼性區域，且在塗佈灰泥系塗材的作業中亦會有粉塵飛揚情形。又，若將習知灰泥系塗材直接塗佈於例如石膏板，灰泥不易附著於石膏板上，會有塗膜從石膏板表面上所存在石膏板用原紙剝落的情況、石膏板用原紙的色澤轉印於經塗布塗材的完工面(例如壁面)之情況。相對於此，使用本實施形態石膏組成物的情況，可輕易調製pH達7以上且未滿9的石膏系塗材，安全性更高，且容易附著於石膏板、布(壁紙)，能防止前述色澤轉印。所以，本實施形態的石膏組成物及石膏系塗材，相較於灰泥系塗材之下，更適用於建築物的內牆或外牆等翻修用。

另外，本實施形態的石膏組成物，如上述，可採用如下述構成。

[1]一種乾燥硬化型之塗材用石膏組成物，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、及凝結延遲劑，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。

[2]如上述[1]所記載的石膏組成物，其中，上述半水石膏的平均粒徑係40μm以下，上述碳酸鈣的平均粒徑係40μm以下。

[3]如上述[1]或[2]所記載的石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣的含有量係10~200質量份。

[4]如上述[1]~[3]中任一項所記載的石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述凝結延遲劑的含有量係0.1~10質量份。

[5]如上述[1]~[4]中任一項所記載的石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述凝結延遲劑的含有量係0.1~2質量份。

[6]如上述[1]~[5]中任一項所記載的石膏組成物，其中，上述凝結延遲劑係從檸檬酸、琥珀酸、醋酸、蘋果酸、伸乙二胺四醋酸、二伸乙三胺五醋酸、及該等的鹽、以及蔗糖、澱粉及蛋白質分解物所構成群組中選擇至少1種。

[7]如上述[1]~[6]中任一項所記載的石膏組成物，其中，在上述塗材用石膏組成物中添加水並使之乾燥硬化而形成塗膜時，粉末X射線繞射中會呈現上述半水石膏的繞射尖峰，但不會呈現根據上述半水石膏的水合反應所造成之二水石膏的繞射尖峰。

[8]如上述[1]~[7]中任一項所記載的石膏組成物，其中，在上述塗材用石膏組成物中添加水時，水合反應的起始時間係達24小時以上。

再者，本實施形態的石膏系塗材係可採用如下述構成。

[9]一種乾燥硬化型石膏系塗材，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、凝結延遲劑、以及水，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。

[10]如上述[9]所記載的石膏系塗材，其中，相對於上述半水石膏、上述碳酸鈣、及上述凝結延遲劑的合計100質量份，上述水係含有30~60質量份。

[11]如上述[9]或[10]所記載的石膏系塗材，其中，pH係7以上且未滿9。

[12]如上述[9]~[11]中任一項所記載的石膏系塗材，其中，在使乾燥硬化而形成塗膜時的粉末X射線繞射中，會呈現上述半水石膏的繞射尖峰，但不會呈現根據上述半水石膏的水合反應所造成之二水石膏的繞射尖峰。

<石膏系塗材之施工方法>

本發明一實施形態之石膏系塗材的施工方法，係包括有：將石膏系塗材塗佈於受黏物上的步驟(以下稱「塗佈步驟」)。該施工方法中，石膏系塗材係使用：在前述實施形態的塗材用石膏組成物中添加水而調製的乾燥硬化型石膏系塗材、或前述實施形態的乾燥硬化型石膏系塗材。所以，利用上述塗佈步驟，便可形成能維持半水石膏狀態的塗膜，更具體而言，可形成在粉末X射線繞射測定中，呈現石膏系塗材所含有半水石膏的繞射尖峰，且不會呈現根據該半水石膏水合反應的二水石膏繞射尖峰之塗膜。因為可形成此種塗膜，因而本實施形態石膏系塗材的施工方法，係可抑制由石膏系塗材所形成之塗膜的色斑情形，可採用為防止因石膏系塗材所造成塗膜色斑的方法。

本實施形態的施工方法係如上述，石膏系塗材可使用在前述實施形態的塗材用石膏組成物中添加水而調製的乾燥硬化型石膏系塗材。所以，本實施形態的施工方法亦可包括有在前述實施形態的塗材用石膏組成物中添加水，而調製乾燥硬化型石膏系塗材的步驟(以下稱「調製步驟」)。調製步驟較佳係在石膏組成物中，相對於石膏組成物中的半水石膏、碳酸鈣及凝結延遲劑之合計100質量份，添加水30~60質量份。

本實施形態石膏系塗材之塗佈對象的受黏物(底層)並無特別的限定。受黏物(底層)係可舉例如：水泥系及石膏系基料、木質系基料、灰泥壁、各種塑膠系基料、及各種金屬系基料等。水泥系與石膏系基料的具體例，係可舉例如：石膏板、石膏糊料、白雲石灰膏(dolomite plaster)、混凝土、土壁、矽藻土壁、紙漿水泥板(pulp cement board)、及木質系水泥板(木絲水泥板及木片水泥板)等。木質系基料的具體例係可舉例如：合板(膠合板)、木質纖維板、及碎料板等木質板；單板積層材、及層積板材(laminated wood)等。又，受黏物(底層)係可為黏貼著布者、亦可為經塗佈各種塗料者。即根據本實施形態的施工方法，藉由將前述石膏系塗材塗佈於布(壁紙)、塗料塗膜面上，便可進行建築物的牆壁(內牆及外牆)、地板、及天花板等之翻修。

上述塗佈步驟中，將石膏系塗材塗佈於受黏物(底層)時所使用的道具並無特別的限定，可使用自習知起塗牆材所採用的鏝刀(木質鏝刀及金屬鏝刀)等。塗佈步驟中石膏系塗材對受黏物的塗佈量較佳係1.0~6.3kg/m²。又，石膏系塗材對受黏物的塗厚較佳係0.5~3mm。

本實施形態的施工方法較佳為包括有在塗佈步驟後，於利用石膏系塗材的乾燥硬化所形成塗膜上，更進一步設有撥水性塗膜的步驟。藉由在由石膏系塗材所形成塗膜(石膏系塗膜)上設置撥水性塗膜，且在利用石膏系塗材進行塗膜形成後，可抑制水分被塗膜吸收。所以，可長期間穩定保持呈現維持半水石膏狀態的塗膜(更具體而言，在粉末X射線繞射測定中，呈現半水石膏的繞射尖峰，且不會呈現根據該半水石膏水合反應所生成二水石膏的繞射尖峰之塗膜)。

在石膏系塗膜上設置撥水性塗膜的步驟係藉由在石膏系塗膜上塗佈撥水性塗料便可實施。撥水性塗料係可使用習知藉由塗佈於灰泥、石膏糊料、石膏板、矽酸鈣板等之上，便可賦予撥水性或防污性的各種材料。又，亦可使用市售撥水性塗料，該市售物係可舉例如：FJ150、FJ170、FJ171、FJ172(均係TIGEREX公司製商品名)等。若使用FJ170、FJ171、FJ172等，施可賦予對油污等具有耐污染性。

另外，灰泥系塗材等習知所使用的乾燥硬化型塗材，若經塗材塗佈於受黏物上經2~6小時，即便更進一步伴隨有設置撥水性塗膜等的下一步驟之情況，仍可確保充分的作業性。本發明一實施形態的石膏系塗材亦係與習知乾燥硬化型塗材同樣，可依照與上述時間相同程度的時間施行下一步驟。

本實施形態石膏系塗材之施工方法係可採用如下述構成。

[13]一種石膏系塗材之施工方法，係包括有：將在上述[1]~[8]中任一項所記載的塗材用石膏組成物中添加水而調製的乾燥硬化型石膏系塗材、或上述[9]~[12]中任一項所記載的乾燥硬化型石膏系塗材，塗佈於受黏物上的步驟。

[14]如上述[13]所記載的施工方法，其中，上述石膏系塗材對上述受黏物的塗佈量係1.0~6.3kg/m²。

[15]如上述[13]或[14]所記載的施工方法，其中，上述石膏系塗材對上述受黏物的塗厚係0.5~3mm。

[16]如上述[13]~[15]中任一項所記載的施工方法，其中，包括有：在由上述石膏系塗材所形成的塗膜上，更進一步設置撥水性塗膜的步驟。

[實施例]

以下列舉試驗例針對本發明進一步進行具體說明，惟本發明並不僅侷限於以下試驗例。另外，以下說明中，「份」及「%」在無特別聲明下係指「質量基準」。

<灰泥組成物及灰泥塗材之調製>

灰泥組成物係準備村樫石灰工業公司製之商品名「村樫灰泥(頂塗)」。試驗例1係在該灰泥組成物中依混水率80%添加水(在灰泥組成物100份中添加水80份)進行混練，而調製得試驗體1所使用的灰泥系塗材。

<塗材用石膏組成物及石膏系塗材之調製>

試驗例2~20中，試驗體2~20所使用之塗材用石膏組成物係將表1~4的上層(單位：質量份)所示各成分，利用混合機充分混合攪拌，而獲得各配方的塗材用石膏組成物。作為凝結延遲劑，試驗例2~17係使用市售平均粒徑20μm的粉末狀蛋白質分解物，試驗例18係使用平均粒徑20μm的伸乙二胺四醋酸二鈉，試驗例19係使用平均粒徑20μm的蘋果酸鈉，試驗例20係使用二伸乙三胺五醋酸。又，在表1~4中雖未標示，在試驗體2~20所使用的塗材用石膏組成物中，相對於塗材用石膏組成物(半水石膏、碳酸鈣、及凝結延遲劑的合計)100份，調配糊劑(黏結劑)之乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)共聚物(Wacker Chemical公司製、商品名「RE546Z」)5份。

針對所獲得各石膏組成物，在石膏組成物中依混水率40%添加水(在石膏組成物100份中添加水40份)，便製得試驗體2~20所使用的各石膏系塗材。試驗例19係使用消石灰調整石膏系塗材的pH。

<試驗體1~20之製作>

將所調製的各塗材利用鏝刀，在長30cm×寬30cm石膏板(板厚：9.5mm、吉野石膏公司製、商品名「TIGER板」)表面上塗佈1mm厚度。此時的塗材塗佈量係石膏板每單位面積為1.7kg/m²。將在石膏板上所塗佈的塗材，依溫度23℃及濕度50%RH施行24小時乾燥硬化而形成塗膜。已形成該塗膜的各石膏板在40℃乾燥器內施行24小時恆量乾燥，便製得各試驗體1~20。

<評價>

[pH]

針對試驗體1所使用的灰泥組成物、以及試驗體2~20所使用的各石膏組成物，採取各組成物10g，將其投入200ml離子交換水中。使用pH儀(東亞電液工業公司製商品名「pH METER HM-5S」)，測定組成物投入3分鐘後的pH。由pH測定值依照以下基準施行評價。使用各組成物所測定的pH值、與評價結果如表1~4所示。

A：pH達7.0以上且未滿8.0。

B：pH達8.0以上且未滿9.0。

C：pH達9.0以上。

[表面粗糙度]

使用表面粗糙度測定機(Mitutoyo公司製商品名「Suftest 402」)，針對所獲得各試驗體1~20，測定JIS B0601：1982所規定的表面粗糙度。評價時，使用所測定的十點平均粗糙度R_z(μm)，依照以下基準施行評價。R_z值越低，表示試料的塗膜表面越平滑。各試料的R_z值及評價結果，如表1~4所示。

A：R_z未滿2.0μm。

B：R_z達2.0μm以上且未滿5.0μm。

C：R_z達5.0μm以上。

[表面硬度]

針對試驗體1~20的各塗膜表面，使用橡膠硬度計(TECLOCK公司製TYPED)測定表面硬度。具體而言，將橡膠硬度計押抵於各試驗體的塗膜表面，測定根據JIS K6253-3：2012規定的D型硬度計硬度(以下稱「D型硬度」)。從各試驗體的D型硬度測定值，依照以下基準施行評價。各試驗體的表面硬度及評價結果，如表1~4所示。

A：D型硬度達56以上。

B：D型硬度達51以上且未滿56。

C：D型硬度未滿51。

[X射線繞射]

對各試驗體的塗膜施行X射線繞射，確認有無二水石膏。X射線繞射時，使用X射線繞射裝置(島津製作所公司製商品名「LabX XRD-6100」)。利用補土刀削取試驗體的塗膜表面全體，將從塗膜表面全體上削取的塗膜粉末填充於X射線繞射裝置的專用裝座中，在繞射角度[2 θ角度(θ：入射角)]10°~16°範圍內測定粉末X射線繞射圖案。測定條件係靶材：Cu、Filter：Ni、電壓：30V、電流：10mA、掃描速度：1°/min。

在X射線繞射圖案中，獲知在繞射角11~12°有出現二水石膏的清晰尖峰，在繞射角14~15°有出現半水石膏的清晰尖峰。從此事實，可從所獲得X射線繞射圖案確認是否有二水石膏存在(即在繞射角11~12°是否有尖峰)，且確認在是否有半水石膏存在(即在繞射角14~15°是否有尖峰)。表1~4分別有標示有無半水石膏尖峰及二水石膏尖峰。例如圖1所示係從試驗體2所採取之塗膜的粉末X射線繞射圖案，圖2所示係從試驗體12所採取之塗膜的粉末X射線繞射圖案。另外，相關由試驗體3~11及14~20所採取的各塗膜，確認到如圖1所示之粉末X射線繞射圖案，相關從試驗體13所採取的塗膜，可確認到如圖2所示之粉末X射線繞射圖案。

再者，若在X射線繞射圖案中有二水石膏尖峰時，表示塗膜中存在有根據半水石膏水合反應所生成之二水石膏。於此情況，因為半水石膏會有發生部分性或不均勻水合反應的可能性，因而評為會造成塗膜色斑的原因，在表1~4中的「色斑評價」欄位中記為「×」。相反的，若在X射線繞射圖案中沒有二水石膏尖峰時，評為可防止塗膜色斑，在表1~4中的「色斑評價」欄位中記為「○」。

從以上試驗體1~20的評價結果，可確認到利用含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏100份、及平均粒徑50μm以下的碳酸鈣10~400份、以及凝結延遲劑0.1質量份以上的石膏組成物，便可形成薄且平滑、高表面硬度、且色斑經抑制的塗膜(試驗體2~4、7~10、及14~20)。又，試驗體2所使用之塗材用石膏組成物及石膏系塗材中，取代當作凝結延遲劑使用的蛋白質分解物，改為分別使用檸檬酸鈉、琥珀酸鈉、醋酸鈉、蔗糖、澱粉，與試驗體2同樣地製作各試驗體。分別依照上述方法施行該等各試驗體所使用石膏組成物的pH測定、各試驗體的表面粗糙度、表面硬度、及粉末X射線繞射，結果確認到獲得大略與試驗體2相同程度的結果。

另外，使用未含碳酸鈣的石膏組成物所製作之試驗體6，表面會形成粗糙的塗膜。此原因可認為在試驗體6製作時，當在石膏組成物中添加水而調製的石膏系塗材塗佈於石膏板時，石膏系塗材發生黏瘩，導致鏝刀提刀變差的緣故所致。

使用相對於半水石膏100份含有碳酸鈣500份的石膏組成物所製作之試驗體11，會形成表面粗糙、低表面硬度的塗膜。此原因可認為在試驗體11製作時，當在石膏組成物中添加水而調製的石膏系塗材，施行鏝刀塗佈於石膏板時所產生的鏝紋，即便鏝刀推光作業仍不易消除的緣故所致。鏝紋難消除的原因推測係過量的碳酸鈣在塗膜形成過程中偏存於表層側，導致在形成中途的塗膜表層側變為更硬。

使用未含凝結延遲劑的石膏組成物所製作之試驗體12、及使用相對於半水石膏100份含有凝結延遲劑0.07份的石膏組成物所製作之試驗體13，在塗膜的粉末X射線繞射圖案中，分別確認到半水石膏及二水石膏的各繞射尖峰。所以，試驗體12與13表示半水石膏部分性進行水合反應，形成容易出現色斑的塗膜。

再者，相關試驗體2~4、7~10、及14~20所使用的各石膏系塗材，在針入深度20±2mm、其餘均依據JIS A6904，測定JIS A6904所記載的標準軟度，直到水合反應起始時間24小時及48小時為止。結果經24小時後及經48小時後測定用針的停止位置均距裝入石膏系塗材的容器底面0mm。由此項結果、以及製作上述試驗體時石膏系塗材厚度係3mm以下的薄塗，亦可認為上述試驗體的石膏系塗材並沒有進行水合反應，石膏系塗材中的水分會被受黏物吸收，且蒸發於空氣中，利用乾燥硬化形成塗膜。此現象意味著乾燥硬化完成時間較石膏系塗材的水合反應起始時間早，藉由乾燥硬化形成塗膜。

Claims

一種乾燥硬化型之塗材用石膏組成物，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、以及凝結延遲劑；相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，上述半水石膏的平均粒徑係40μm以下；上述碳酸鈣的平均粒徑係40μm以下。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣的含有量係10~200質量份。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述凝結延遲劑的含有量係0.1~10質量份。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，相對於上述半水石膏100質量份，上述凝結延遲劑的含有量係0.1~2質量份。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，上述凝結延遲劑係從檸檬酸、琥珀酸、醋酸、蘋果酸、伸乙二胺四醋酸、二伸乙三胺五醋酸、及該等的鹽、以及蔗糖、澱粉、及蛋白質分解物所構成群組中選擇至少1種。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，在上述塗材用石膏組成物中添加水並使之乾燥硬化而形成塗膜時，粉末X射線繞射中呈現上述半水石膏的繞射尖峰，但不呈現根據上述半水石膏的水合反應所造成之二水石膏的繞射尖峰。
如請求項1之塗材用石膏組成物，其中，在上述塗材用石膏組成物中添加水時，水合反應的起始時間係24小時以上。
一種乾燥硬化型石膏系塗材，係含有：平均粒徑50μm以下的半水石膏、平均粒徑50μm以下的碳酸鈣、凝結延遲劑、以及水；相對於上述半水石膏100質量份，上述碳酸鈣含有量係10~400質量份，上述凝結延遲劑含有量係0.1質量份以上。
如請求項9之石膏系塗材，其中，相對於上述半水石膏、上述碳酸鈣、及上述凝結延遲劑的合計100質量份，上述水係含有30~60質量份。
如請求項9之石膏系塗材，其中，pH係7以上且未滿9。
如請求項9之石膏系塗材，其中，乾燥硬化而形成塗膜時的粉末X射線繞射中，呈現上述半水石膏的繞射尖峰，但不呈現根據上述半水石膏的水合反應所造成之二水石膏的繞射尖峰。
一種石膏系塗材之施工方法，係包括有：將在請求項1至8中任一項之塗材用石膏組成物中添加水而調製的乾燥硬化型石膏系塗材、或請求項9至12中任一項之乾燥硬化型石膏系塗材，塗佈於受黏物上的步驟。
如請求項13之施工方法，其中，上述石膏系塗材對上述受黏物的塗佈量係1.0~6.3kg/m²。
如請求項13之施工方法，其中，上述石膏系塗材對上述受黏物的塗層厚度係0.5~3mm。
如請求項13之施工方法，其中，包括有：在由上述石膏系塗材所形成塗膜上，更進一步設置撥水性塗膜的步驟。