TW201720730A - 容器搬送設備 - Google Patents

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Abstract

於搬送容器的搬送裝置上設置有連接部與充填用氣體供給源，該容器具備有形成有可在外部與內部之間通流氣體的通流孔之通流孔形成部，該連接部具有使氣體通流自如的通流路，該充填用氣體供給源使前述充填用氣體於通流路通流。連接部構成為在非連接狀態與連接狀態切換自如，該非連接狀態是退避至於搬送路徑移動的容器的移動區域之外部的狀態，該連接狀態是侵入移動區域的內部且連接在容器的通流孔形成部的狀態。

Description

容器搬送設備
發明領域 本發明是關於一種容器搬送設備，其具備：第1裝置，具備有將收容物品的容器搬出的搬出部；第2裝置，具備有將前述容器搬入的搬入部；搬送裝置，沿著搬送路徑將前述容器從前述第1裝置搬送至前述第2裝置；及供給裝置，將調整前述容器的內部環境的調整用氣體供給到前述容器的內部。
發明背景 作為上述第1裝置或第2裝置的例子，在日本專利特開2015-012042號公報(專利文獻1)中，記載有將收容半導體基板的容器予以保管的保管架。專利文獻1的保管架具有複數個收納容器的收納部，並且具備有供給裝置，該供給裝置會對保管中的容器供給用於防止半導體基板的氧化與污損之氮氣來作為充填用氣體。
如專利文獻1的保管架是設置在半導體製造設備上。然而，在半導體製造設備中，第1裝置與第2裝置不一定經常地設置得很接近，有時會產生必須在設置於遠離的位置上之第1裝置與第2裝置之間搬送容器的情況。再者，作為第1裝置與第2裝置已設置於遠離的位置上之情況，可考慮的還有下列之情況：如例如日本專利特開2013-245032號公報(專利文獻2)所示，半導體製造設備的作業區存在複數個，而設置有第1裝置的作業區與設置有第2裝置的作業區是不同的作業區之情況。在專利文獻2中，作為橫跨如上述那種不同的作業區來搬送容器的搬送裝置，所使用的有天花板搬送車、與將搬送對象物載置在被載置部且使該被載置部沿著搬送路徑移動的輸送帶。
不過，在如專利文獻2所示的搬送裝置中，在橫跨複數個裝置而搬送容器的期間，不能對容器進行氮氣的充填。因此，會有下述的問題：當以搬送裝置進行搬送所需要的時間較長時，有容器內的惰性氣體的濃度降低之虞，而難以將容器的內部維持在適合於維持半導體基板的品質的環境。
發明概要 在此，所期望的是，即使在第1裝置與第2裝置之間的搬送時間較長，仍可容易將容器的內部維持在適合於維持收容物品的品質的環境之容器搬送設備。
本揭示的容器搬送設備具備：第1裝置，具備有將可收容物品的容器搬出的搬出部；第2裝置，具備有將前述容器搬入的搬入部；搬送裝置，沿著搬送路徑將前述容器從前述第1裝置搬送至前述第2裝置；及供給裝置，將可充填於前述容器的內部之充填用氣體供給到前述容器的內部。 前述容器具備通流孔形成部，該通流孔形成部形成有可在該容器的外部與內部之間通流氣體的通流孔。 前述供給裝置具備連接部與充填用氣體供給源，該連接部具有使氣體通流自如的通流路，該充填用氣體供給源使前述充填用氣體在前述通流路通流。 前述連接部構成為在非連接狀態與連接狀態切換自如，該非連接狀態是退避至於前述搬送路徑移動的容器的移動區域之外部的狀態，該連接狀態是侵入前述移動區域的內部且連接在前述容器的通流孔形成部的狀態。
根據此構成，可以藉由將連接部從非連接狀態切換成連接狀態，而使退避至以搬送裝置搬送的容器之移動區域的外部之連接部進入移動區域的內部，並成為將連接部連接於容器的通流孔形成部的狀態。藉此，可以在將容器從第1裝置向第2裝置搬送的途中，將充填用氣體供給到容器的內部。 因此，在第1裝置與第2裝置之間的搬送時間即使較長，也能夠將容器的內部維持在適合於維持收容物品的品質的環境。
本揭示之技術的更進一步之特徵與優點，透過參照圖式所記述之以下的例示性且非限定的實施形態之說明應可變得更加明確。
用以實施發明之形態 [第1實施形態] 以下，根據圖式來說明將容器搬送設備應用於半導體製造設備之第1實施形態。 如圖1所示，本實施形態的半導體製造設備具備有：行走軌道R、保管庫S1以及處理裝置P1，該行走軌道R是使天花板搬送車V行走，且該天花板搬送車V是把持設置於收容作為物品的半導體基板U的容器B(參照圖2、圖3)的上端之凸緣Bf而搬送容器B，該保管庫S1以及處理裝置P1具有可在與上述天花板搬送車V之間交接容器B的搬出入埠Ep。這些行走軌道R、保管庫S1以及處理裝置P1是設置於具有已確保有預定的空氣清淨度的空間之第1廠房F1的內部。又，同樣地，具有已確保有預定的空氣清淨度的空間的第2廠房F2之內部設置有行走軌道R、保管庫S2以及處理裝置P2。
保管庫S1具備複數個可收納容器B的收納部，在該複數個收納部的至少一部分中，於容器B的內部設置有供給作為充填用氣體的氮氣之吹掃部(省略圖示)。又，在複數個收納部的每一個與搬出入埠Ep(保管庫搬出入埠Sp)之間將搬送容器B的堆高式起重機設置於保管庫S1的內部。關於保管庫S2，也是同樣的構成。
處理裝置P1是例如對半導體基板進行光蝕刻處理或洗淨處理等的裝置，並形成為例如從位在搬出入埠Ep(裝載埠Pp)的容器B取出半導體基板來進行處理。再者，在取出半導體基板時，是取下設置於容器B的前面之裝卸自如的蓋部，且以吸附式的機械手等取出收容在容器B內部之半導體基板，由於該方法與機構是公知的技術，因此省略說明。關於處理裝置P2，也是同樣的構成。 再者，在本實施形態中，設置於第1廠房F1的保管庫S1或處理裝置P1相當於第1裝置E1，設置於第2廠房F2的保管庫S2或處理裝置P2相當於第2裝置E2。又，在以後的說明中，將第1裝置E1以及第2裝置E2匯總來說明時，會稱為裝置E。
為了在第1廠房F1與第2廠房F2之間搬送容器B，設置有棟間輸送帶Cw(第1棟間輸送帶Cw1以及第2棟間輸送帶Cw2)。棟間輸送帶Cw是設置成通過連接第1廠房F1與第2廠房F2的棟間連接筒體T的內部而使搬送方向一端部位於第1廠房F1的內部，並使搬送方向另一端部位於第2廠房F2的內部。
如圖1以及圖5所示，在位於第1棟間輸送帶Cw1中的第1廠房F1側的端部連接有合流輸送帶C1g，並以使3個緩衝輸送帶C11合流於該合流輸送帶C1g的狀態而設置。再者，如圖1以及圖6所示，在位於第1棟間輸送帶Cw1中的第2廠房F2側的端部連接有分歧輸送帶C1b，並以使3個緩衝輸送帶C12從該分歧輸送帶C1b分歧的狀態而設置。
同樣地，在位於第2棟間輸送帶Cw2中的第2廠房F2側的端部連接有合流輸送帶C2g，並以使3個緩衝輸送帶C22合流於該合流輸送帶C2g的狀態而設置。再者，在位於第2棟間輸送帶Cw2之中的第1廠房F1側的端部連接有分歧輸送帶C2b，並以使3個緩衝輸送帶C21從該分歧輸送帶C2b分歧的狀態而設置。
在與合流輸送帶C1g、C2g以及分歧輸送帶C1b、C2b中的緩衝輸送帶C11、C12、C21、C22的每一個的合流部分或分歧部分上，設置有轉換搬送中的容器B之平面視角下的方向的旋轉台Ct。
作為天花板搬送車V而設置的有：沿著在從第1廠房F1的天花板懸吊的狀態下被支撐之環狀行走軌道R(R11、R12)於第1廠房F1內行走的搬送車、與沿著在從第2廠房F2的天花板懸吊的狀態下被支撐之環狀行走軌道R(R21、R22)於第2廠房F2內行走的搬送車。如圖2所示，天花板搬送車V具備有行走部V1與本體部V2，該行走部V1具備有於行走軌道R上轉動的行走車輪Vw、與使其驅動行走車輪Vw的行走驅動部(省略圖示)，該本體部V2是在將該行走部V1的上下方向的距離固定之狀態下支撐在行走部V1的下方，且與行走部V1一體地沿著行走軌道R移動。於本體部V2上支撐有升降體Vs，該升降體Vs可在裝置E中的容器B的搬出入埠Ep等的交接地點之存在高度、與在行走軌道R的長度方向視角下與本體部V2重複的搬送用高度之間升降。天花板搬送車V是形成為在搬送容器B時，將升降體Vs維持在搬送用高度，且在平面視角下於升降體Vs與交接地點Y重複的位置上，使升降體Vs下降而在與交接地點Y之間交接容器B。又，升降體Vs裝備有把持容器B的凸緣Bf之把持部Vh。
3個緩衝輸送帶C11中的2個、以及3個緩衝輸送帶C21中的2個，是使搬送端部成為於行走軌道R12中行走的天花板搬送車V的交接地點。再者，3個緩衝輸送帶C11之中的1個、以及3個緩衝輸送帶C21之中的1個，是使搬送端部成為於行走軌道R11中行走的天花板搬送車V的交接地點。 同樣地，3個緩衝輸送帶C12之中的2個、以及3個緩衝輸送帶C22之中的2個，是使搬送端部成為行走軌道R21中行走的天花板搬送車V的交接地點。3個緩衝輸送帶C11之中的1個、以及3個緩衝輸送帶C21之中的1個，是使搬送端部成為於行走軌道R22中行走的天花板搬送車V的交接地點。
在此，依據圖3說明本實施形態中的搬送對象物之容器B。 容器B是例如稱為FOUP、FOSB之可在高度方向上分開的狀態下收容複數個半導體基板U的容器。此容器B具備有在前面裝卸自如的蓋，並形成為在不進行半導體基板U的取出存入時裝設該蓋。蓋是構成為可確保氣密性。又，於容器B的底部Bb設置有在容器B的外部與內部之間形成有可通流氣體的通流孔Bh的2個通流孔形成部Bg。於通流孔形成部Bg上構成為可連接後述的惰性氣體供給部的噴嘴N(參照圖4)。亦即，容器B具備有在該容器B的外部與內部之間形成有可通流氣體的通流孔Bh的通流孔形成部Bg。
於通流孔形成部Bg具備有開閉閥機構，該開閉閥機構會在噴嘴N為連接狀態時成為開啟狀態，並在已將噴嘴N的連接解除時成為關閉狀態。並且，構成為在已將噴嘴N連接於容器B的通流孔形成部Bg之狀態下，藉由從噴嘴N注入作為充填用氣體的惰性氣體(例如氮氣等)，而於容器B的內部充填惰性氣體。
在本實施形態中，緩衝輸送帶C11、C12、C21、C22、分歧輸送帶C1b、C2b、以及合流輸送帶C1g、C2g是如圖5以及圖6所示，將在平面視角下形成為於搬送方向上為未滿2個容器B量的長度之輸送帶單元Cu在搬送方向上排列複數個而構成。亦即，在本實施形態中，複數個噴嘴N是沿著搬送路徑分散而設置。
在以下的說明中，將上述緩衝輸送帶C11、C12、C21、C22、分歧輸送帶C1b、C2b、以及合流輸送帶C1g、C2g與棟間輸送帶Cw匯總來說明時，有時會稱為輸送帶C。在本實施形態中，是藉由輸送帶C與上述天花板搬送車V而構成搬送裝置。亦即，設置有：第1裝置E1，具備有將收容半導體基板U的容器B搬出的搬出部Ep1；第2裝置E2，具備有將容器B搬入的搬入部Ep2；及搬送裝置(輸送帶C與天花板搬送車V)，沿著搬送路徑將容器B從第1裝置E1搬送至第2裝置E2。
再者，在本實施形態中，雖然例示了於第1裝置E1上具備搬出部Ep1，於第2裝置E2上具備搬入部Ep2，且以搬送裝置將容器B從第1裝置E1搬送至第2裝置E2之構成，但也可以作成以下的構成：於第2裝置E2上具備搬出部，於第1裝置E1上具備搬入部，且以搬送裝置將容器B從第2裝置E2搬送至第1裝置E1。
第1實施形態中的輸送帶單元Cu(以下，在僅說明本實施形態的輸送帶單元Cu時，是作為輸送帶單元Cu1來說明)是如圖4所示，具備有：基部11，藉由安裝在地板部而將沿著搬送路徑的方向上的位置固定；滾輪12，旋轉自如地固定在基部11；汽缸支撐部13，固定在基部11；汽缸M，固定在汽缸支撐部13；及噴嘴支撐體16，支撐惰性氣體供給部的噴嘴N。汽缸M是由安裝在汽缸支撐部13的汽缸本體14、與可在上下方向伸縮或進退移動地被支撐在汽缸本體14上的汽缸桿15所構成，並藉由電磁力或氣體壓力等的驅動力來將汽缸桿15朝上下移動操作。又，噴嘴支撐體16是安裝在汽缸桿15的上端，並隨著汽缸桿15的移動操作而朝上下移動操作。噴嘴N是在已於相對位置固定於噴嘴支撐體16的狀態下被支撐，並形成為隨著汽缸桿15的移動操作而將噴嘴N朝上下方向移動操作。
噴嘴N是構成為藉由如上述的在汽缸M中的汽缸桿15的伸縮作動，而在連接狀態與非連接狀態切換自如。在此，連接狀態是將噴嘴N連接於容器B的通流孔形成部Bg的狀態。藉由使汽缸桿15突出而將噴嘴支撐體16以及噴嘴N朝上方頂推，使噴嘴N朝在搬送路徑移動的容器B的移動區域側接近移動。然後，當噴嘴N的前端進入且嵌合於形成在通流孔形成部Bg的通流孔Bh時，即成為連接狀態。在此連接狀態下，噴嘴N會在嵌合於通流孔Bh的狀態下，侵入於搬送路徑移動的容器B的移動區域的內部，成為連接於容器B的通流孔形成部Bg的狀態。
非連接狀態是噴嘴N對容器B的通流孔形成部Bg並未連接的狀態。藉由使汽缸桿15退回並將噴嘴支撐體16以及噴嘴N朝下方下降，以使噴嘴N從容器B的通流孔形成部Bg脫離，並成為非連接狀態。在此非連接狀態下，噴嘴N會成為退避到於搬送路徑移動的容器B的移動區域的外部之狀態。在本實施形態中，噴嘴N在非連接狀態下，是成為退避到位於比容器B的移動區域更下方之下部區域之狀態。
滾輪12是形成為藉由滾輪驅動馬達L而被驅動，該滾輪驅動馬達L是藉著被固定在基部11而將相對於基部11之沿著搬送路徑之方向的位置固定。並且，形成為在滾輪12已接觸於容器B的底部Bb的狀態下，藉由將滾輪驅動馬達L驅動，使容器B被賦予沿著搬送路徑的推進力。滾輪22是橫跨該輸送帶單元Cu的搬送方向的全長而排列設置。
在本實施形態中，是使搬送裝置具備輸送帶C中的輸送帶單元Cu而構成，且基部11相當於基部，滾輪驅動馬達L相當於驅動部，滾輪12相當於接觸部。亦即，輸送帶單元Cu1具備：基部11，將沿著搬送路徑的方向上的位置固定；滾輪驅動馬達L，在相對於基部11之沿著搬送路徑之方向的位置已固定的狀態下，被支撐在基部11；及滾輪12，在接觸於容器B的狀態下，藉由滾輪驅動馬達L而被驅動且對容器B傳達沿著搬送路徑的方向之推進力，且滾輪12是成為旋轉自如地被支撐在基部11，並藉由滾輪驅動馬達L而被旋轉驅動的旋轉體。
如圖4所示，噴嘴N連接有將來自惰性氣體供給部的惰性氣體供給到上述噴嘴N的通流管Gt。通流管Gt是以具有可撓性的素材(橡膠或矽氧樹脂等)所形成。再者，1個輸送帶單元Cu設置有2個噴嘴N，於其中一個上連接有第1通流管Gt1作為通流管Gt，於另一個上連接有第2通流管Gt2作為通流管Gt。
於第1通流管Gt1連接有氣體供給源G，可將惰性氣體向噴嘴N送出。另一方面，在第2通流管Gt2中的噴嘴N之相反側的端部連接有排氣幫浦，以吸引容器B內部的氣體並進行排氣。藉此，能以惰性氣體迅速地置換容器B內部的氣體。
再者，在第2通流管Gt2與排氣幫浦之間，設置有檢測惰性氣體的濃度之檢測感測器J(參照圖7)。檢測感測器J是形成為檢測從容器B透過第2通流管Gt2流出的容器B內的氣體中的惰性氣體之濃度。在本實施形態中，檢測感測器J相當於檢測部。亦即，設置有檢測容器B內的惰性氣體的狀態之檢測感測器J。
此外，在第1通流管Gt1與氣體供給源G之間，設置有可開閉操作的供給切換閥K。氣體供給源G會將惰性氣體經常地維持在正壓，並藉由將供給切換閥K設為開啟狀態而將惰性氣體送出到第1通流管Gt1，藉由將供給切換閥K設為關閉狀態而停止惰性氣體往第1通流管Gt1的送出。
在本實施形態中，噴嘴N相當於連接部，氣體供給源G以及供給切換閥K相當於充填用氣體供給源。又，通流路主要形成於第1通流管Gt1。並且，使供給裝置具備上述噴嘴N與氣體供給源G而構成。亦即，供給裝置具備噴嘴N與充填用氣體供給源(氣體供給源G以及供給切換閥K)，該噴嘴N具有使氣體通流自如的通流路，該充填用氣體供給源使惰性氣體於通流路通流，並將充填用氣體供給源構成為在供給狀態與供給停止狀態切換自如，該供給狀態是使惰性氣體於第1通流管Gt1通流的狀態，該供給停止狀態是不使惰性氣體於第1通流管Gt1通流的狀態。 再者，在本實施形態中，針對1個輸送帶單元Cu1，被支撐在上述噴嘴支撐體16的一對噴嘴N的組(以下稱為單位供給部)數僅為1組。
圖7是說明本實施形態的半導體製造設備中的控制構成之方塊圖。 控制部H是以例如具備有運算裝置與記憶裝置的客戶端電腦與伺服器電腦等的單一的電腦所構成。
控制部H是以程式形式而具備有控制輸送帶C的作動的輸送帶控制部H1、控制惰性氣體供給部的作動的供給控制部H2、以及控制天花板搬送車V的行走的天花板搬送車控制部H3。再者，在本實施形態中，雖形成為以單一的電腦構成控制部H，而以單一的電腦執行分別構成輸送帶控制部H1、供給控制部H2、以及天花板搬送車控制部H3的程式，但也可以作成以各別的電腦執行分別構成輸送帶控制部H1、供給控制部H2、以及天花板搬送車控制部H3的程式。此時，該等電腦的每一個是以有線LAN或無線LAN等連接成可互相通訊。
輸送帶控制部H1是構成為控制在輸送帶單元Cu中的滾輪驅動馬達L的作動。於輸送帶單元Cu的每一個中設置有檢測容器B的有無之庫存檢測部(省略圖示)。各輸送帶單元Cu的庫存檢測部的每一個是形成為將該輸送帶單元Cu中的容器B的有無之資訊傳送至輸送帶控制部H1。
在本實施形態中，輸送帶控制部H1相當於搬送控制部，且具備上述輸送帶單元Cu與輸送帶控制部H1而構成搬送裝置。亦即，搬送裝置具備有控制滾輪驅動馬達L的輸送帶控制部H1。 又，於供給控制部H2中是構成為將檢測感測器J的檢測結果輸入，並且供給控制部H2會形成為控制在汽缸M中的汽缸桿15的伸縮作動、以及供給切換閥K的開閉。供給控制部H2是形成為控制噴嘴N的連接狀態與非連接狀態的切換、以及充填用氣體供給源的供給狀態與非供給狀態的切換。
並且，供給控制部H2是構成為判別以檢測感測器J檢測出的容器B內的惰性氣體的狀態是否為對容器B之惰性氣體的供給為必要的供給必要狀態，還是對容器B之惰性氣體的供給為不需要的不需供給狀態，並且，在判別為供給必要狀態時，將噴嘴N設為連接狀態且將充填用氣體供給源設為供給狀態，在判別為不需供給狀態時，將充填用氣體供給源設為供給停止狀態。
再者，將噴嘴N設為連接狀態會包含該噴嘴N在此之前為非連接狀態時則切換成連接狀態之情形、與已經是連接狀態時仍維持該連接狀態之情形兩種。又，將充填用氣體供給源設為供給狀態會包含該充填用氣體供給源在此之前為供給停止狀態時則切換成供給狀態之情形、與已為供給狀態時仍維持該供給狀態之情形兩種。同樣地，將充填用氣體供給源設為供給停止狀態會包含該充填用氣體供給源在此之前是供給狀態時則切換成供給停止狀態之情形、與已經是供給停止狀態時仍維持該供給停止狀態之情形兩種。亦即，供給控制部H2是構成為在判別為檢供給必要狀態時，將噴嘴N切換或維持成連接狀態，以將充填用氣體供給源切換或維持成供給狀態，而在判別為不需供給狀態時，則將充填用氣體供給源切換或維持成供給停止狀態。
天花板搬送車控制部H3是形成為控制在天花板搬送車V中的行走部V1的行走、在本體部V2中的升降體Vs的升降作動、以及裝備在升降體Vs的把持部Vh的把持作動。 具體而言，天花板搬送車控制部H3是依據來自上位管理裝置(省略圖示)的指令，使天花板搬送車V行走至作為搬送起點之對應於第1裝置E1的搬出部Ep1之行走位置，且在該位置上使升降體Vs下降至對應於搬出入埠Ep之高度，且讓把持部Vh把持容器B的凸緣Bf。之後，在把持部Vh已把持容器B的凸緣Bf的狀態下，使升降體Vs上升到搬送用高度，並使天花板搬送車V行走至作為搬送目的地之對應於緩衝輸送帶C11之位置。然後，在該位置上使升降體Vs下降，將容器B載置在緩衝輸送帶C11上。
搬送目的地的裝置E存在於不同的廠房(上述之情況為第2廠房F2)時，是將容器B依照緩衝輸送帶C11、合流輸送帶C1g、第1棟間輸送帶Cw1、分歧輸送帶C1b、以及緩衝輸送帶C12的順序來搬送。相反地，在搬送起點的裝置E存在於第2廠房F2，搬送目的地的裝置E存在於第1廠房F1時，是將容器B依照緩衝輸送帶C22、合流輸送帶C2g、第2棟間輸送帶Cw2、分歧輸送帶C2b、以及緩衝輸送帶C21的順序來搬送。 再者，雖然在此所說明的是搬送起點的裝置E與搬送目的地的裝置E存在於不同的廠房的情況，但搬送地點的裝置E與搬送目的地的裝置E也可以存在於相同的廠房。
其次，依據圖8的流程圖，說明本實施形態的容器搬送設備的控制形態。輸送帶控制部H1是依據庫存檢測部的檢測資訊，判別在輸送帶單元Cu上是否有容器B滯留(#1)。在此，「容器B滯留」是指同一容器B在同一輸送帶單元Cu上被支撐預定時間(例如30秒)以上的狀態。
輸送帶控制部H1會在判別為已發生容器B之滯留(#1：是)時，將該意旨通知到供給控制部H2。供給控制部H2會藉由汽缸M的作動使噴嘴N上升移動，以將噴嘴N切換成連接狀態(#2)並且以檢測感測器J檢測從容器B通過第2通流管Gt2流出的容器B內的氣體中的惰性氣體的濃度(#3)，以判別由檢測感測器J所檢測出的容器內的的惰性氣體的狀態是否為對容器B之惰性氣體的供給為必要的供給必要狀態，還是對容器B之惰性氣體的供給為不需要之不需供給狀態(#4)。判別為供給必要狀態時(#4：是)，供給控制部H2會將供給切換閥K設為開啟狀態(#5)，並將惰性氣體供給到容器B。此時，在本實施形態中，是使連接於第2通流管Gt2的排氣幫浦作動。
再者，已判別為容器B為未滯留時(#1：否)、或判別為不需供給狀態時(#4：否)，即結束該流程的控制。控制部H會按各輸送帶單元Cu進行如此的控制，並且在結束流程圖的控制時，在預定的時間間隔(例如1秒)下再執行。
在本實施形態中，藉由上述的構成與控制，即使是在輸送帶C的搬送路徑之途中發生滯留，且從第1裝置E1至第2裝置E2的搬送花費較長的時間之情形下，也可以抑制因容器B的內部的惰性氣體的濃度降低而導致收容在容器B的半導體基板U的污損與劣化之情形。
[第2實施形態] 其次，依據圖9以及圖10說明將本發明的容器搬送設備應用在半導體製造設備的第2實施形態，但在第2實施形態中，由於除了輸送帶單元Cu的形態不同之點外，與第1實施形態是相同的構成，因此以下僅對構成與第1實施形態不同的輸送帶單元Cu作說明。
第2實施形態中的輸送帶單元Cu(輸送帶單元Cu2)是如圖9所示，具備有藉由安裝在地板部而將沿著搬送路徑的方向上的位置固定的基部21、旋轉自如地固定在基部21的滾輪22、固定在基部21的汽缸支撐部23、固定在汽缸支撐部23的汽缸M、與支撐惰性氣體供給部的噴嘴N之噴嘴支撐體26。汽缸M是由安裝在汽缸支撐部23的汽缸本體24、與可在上下方向伸縮或進退移動地被支撐在汽缸本體24上的汽缸桿25所構成，並藉由電磁力或氣體壓力等的驅動力來將汽缸桿25朝上下移動操作。又，噴嘴支撐體26是安裝在汽缸桿25的上端，並隨著汽缸桿25的移動操作而朝上下移動操作。噴嘴N是在已於相對位置固定於噴嘴支撐體26的狀態下被支撐，並形成為隨著汽缸桿25的移動操作而將噴嘴N朝上下方向移動操作。
噴嘴N是構成為藉由在如上述的汽缸M之中的汽缸桿25的伸縮作動，而在非連接狀態與連接狀態切換自如，該非連接狀態是退避至於搬送路徑移動的容器B的移動區域的外部之狀態，該連接狀態是侵入移動區域的內部而連接於容器B的通流孔形成部Bg的狀態。
滾輪22是形成為藉由滾輪驅動馬達L而被驅動，該滾輪驅動馬達L是利用被固定在基部21而將相對於基部21之沿著搬送路徑之方向的位置固定。並且，形成為在滾輪22已接觸於容器B的底部Bb的狀態下，藉由將滾輪驅動馬達L驅動，使容器B被賦予沿著搬送路徑的推進力。
又，本實施形態的輸送帶單元Cu2是如圖10所示，將1個單元的搬送方向的長度設定為容器B的搬送方向中的長度之2倍以上(例如5倍左右)。滾輪22是橫跨該輸送帶單元Cu2的搬送方向的全長而排列設置。
汽缸支撐部23的下部設置有旋轉驅動行走車輪28的車輪驅動馬達29。基部21安裝有沿著搬送路徑，將行走車輪28以可轉動的形式支撐的行走軌道27。 車輪驅動馬達29是藉由輸送帶控制部H1控制成使其同步於由滾輪22形成的容器B之移動來使汽缸支撐部23移動。因此，如圖9所示，成為能夠一邊使容器B移動一邊將惰性氣體供給到該容器B。
在本實施形態中，是具備行走車輪28與車輪驅動馬達29而構成連接部移動機構D。亦即，具備有使其與藉由搬送裝置搬送的容器B之沿著搬送路徑的方向上之移動同步，來使噴嘴N沿著搬送路徑移動的連接部移動機構D。
連接部移動機構D是構成為依據以藉由輸送帶控制部H1所控制的滾輪驅動馬達L的旋轉量或滾輪22的旋轉量為基礎所計算出的容器B的移動量，來將輸送帶控制部H1控制成僅追隨相同的移動量而移動。 藉由如此的構成，即使在使容器B沿著搬送路徑移動時，也能將惰性氣體供給到容器B的內部。
[其他實施形態] (1)在上述第1以及第2實施形態中，雖然是設成作為第1裝置與第2裝置而具備保管庫S1、S2以及處理裝置P1、P2的構成，但是設成作為第1裝置與第2裝置而僅具備保管庫、或僅具備處理裝置的構成亦可。再者，在上述第1以及第2實施形態中，雖然作為處理裝置P1、P2而例示了進行光蝕刻處理與洗淨處理的裝置，但是在進行這些以外的處理(例如顯像處理或濺鍍處理等各種處理)之裝置上也可適用。
(2)在上述第1以及第2實施形態中，雖然作為搬送裝置而例示了具備在已將相對於基部之沿著搬送路徑的方向的位置固定的狀態下被支撐在基部驅動部的輸送帶，但並不限定於這樣的構成，也可以作成例如以下的構成：作為基部而具備行走軌道，且具備可沿著該行走軌道行走的天花板搬送車，並作為接觸部而具備在該天花板搬送車中把持容器的把持部。
(3)雖然作為收容物品而例示了半導體基板，作為容器而例示了FOUP與FOSB，但收容物品也可以是半導體基板以外的物品(例如分劃板或玻璃基板等)。又，收容物品也可以是食品或農產品等。在此情形下，作為充填用氣體，可使用用於抑制容器內的食品或農產品的品質降低之氮、二氧化碳氣體、氧、低溫氣體等食品用氣體。
(4)在上述第1以及第2實施形態中，雖然說明了將旋轉體設為旋轉自如地被支撐在基部11且藉由滾輪驅動馬達L而被旋轉驅動的滾輪12之構成，但也可取代這樣的構成，而將與容器B的底部Bb接觸的皮帶或鏈條等捲繞體作為旋轉體使用。在此情況下，可考慮為下述情形：驅動部是設為使在捲繞體中沿著搬送路徑的部分沿著搬送路徑而移動的馬達等。又，在上述實施形態中，雖然例示了將接觸部設為旋轉體的構成，但也可以設為例如沿著搬送路徑移動自如地被支撐在基部11且藉由驅動部移動的支撐體。作為這樣的支撐體的例子，可考慮例如以下之情形等：在基部11沿著搬送路徑各別地將複數個可開啟(ON)/關閉(OFF)的電磁鐵固定，並在可相對於基部11在沿著搬送路徑的方向上移動的支撐體(支撐台車等)中的上述電磁鐵的磁力的作用範圍內安裝磁性體，並朝向搬送方向依序將電磁鐵設為開啟(ON)，藉此作成對於已安裝在支撐體的磁性體，使其朝搬送方向於吸附作用地點移動而傳達推進力之構成。
(5)在上述第1實施形態中，雖然例示了針對1個輸送帶單元Cu僅設置1個單位供給部的構成，但並不限定於這樣的構成，也可以做成例如，如圖11所示，針對1個輸送帶單元Cu(輸送帶單元Cu3)設置2個單位供給部的構成、或設置3個以上的單位供給部的構成。
(6)在上述第1以及第2實施形態中，雖然例示了作為檢測部而具備檢測容器B內的氣體中的惰性氣體之濃度的檢測感測器J之構成，但並不限定於這樣的構成。也可以做成例如以下的構成：以於惰性氣體的濃度與供給惰性氣體之後的時間之間存有相關關係作為前提，具備記錄有前次對容器B內供給惰性氣體的時刻之資料庫，且將依據記錄在該資料庫中的時刻起算的經過時間，來推測容器B內的惰性氣體的狀態之狀態推測部作為檢測部而具備之構成。此時，於「檢測」之用語中包含對藉由在電腦等上的運算所推測出的惰性氣體之狀態進行判別之情形。在此情況下，供給控制部H2可以在依據由上述狀態推測部所推測出的氣體的狀態而判別為供給必要狀態之前的期間，先將噴嘴N維持在非連接狀態。並且，在供給控制部H2判別為供給必要狀態時，將噴嘴N切換成連接狀態。
(7)在上述第1以及第2實施形態中，雖然例示了複數個噴嘴N沿著搬送路徑而分散並設置的構成，但也可以做成沿著搬送路徑設置單一的噴嘴N之構成。
[實施形態之概要] 本實施形態的容器搬送設備具備： 第1裝置，具備有將可收容物品的容器搬出的搬出部； 第2裝置，具備有將前述容器搬入的搬入部； 搬送裝置，沿著搬送路徑將前述容器從前述第1裝置搬送至前述第2裝置；及 供給裝置，將可充填於前述容器的內部之充填用氣體供給到前述容器的內部， 前述容器具備通流孔形成部，該通流孔形成部形成有可在該容器的外部與內部之間通流氣體的通流孔， 前述供給裝置具備連接部與充填用氣體供給源，該連接部具有使氣體通流自如的通流路，該充填用氣體供給源使前述充填用氣體在前述通流路通流， 前述連接部構成為在非連接狀態與連接狀態切換自如，該非連接狀態是退避至於前述搬送路徑移動的容器的移動區域之外部的狀態，該連接狀態是侵入前述移動區域的內部且連接在前述容器的通流孔形成部的狀態。
根據此構成，可以藉由將連接部從非連接狀態切換成連接狀態，而使退避至以搬送裝置搬送的容器之移動區域的外部之連接部進入移動區域的內部，並成為將連接部連接於容器的通流孔形成部的狀態。藉此，可以在將容器從第1裝置向第2裝置搬送的途中，將充填用氣體供給到容器的內部。 因此，在第1裝置與第2裝置之間的搬送時間即使較長，也能夠將容器的內部維持在適合於維持收容物品的品質的環境。
較理想的是，作為一種態樣， 將前述充填用氣體供給源構成為在供給狀態與供給停止狀態切換自如，該供給狀態是使前述充填用氣體於前述通流路通流的狀態，該供給停止狀態是不使前述充填用氣體於前述通流路通流的狀態， 並設置有供給控制部與檢測部，該供給控制部是控制前述連接部的前述連接狀態與前述非連接狀態之切換、以及前述充填用氣體供給源的前述供給狀態與前述供給停止狀態之切換，該檢測部是檢測前述容器內的前述充填用氣體的狀態， 前述供給控制部會判別以前述檢測部檢測出的前述容器內的前述充填用氣體的狀態，是否為對前述容器之前述充填用氣體的供給為必要的供給必要狀態，還是對前述容器之前述充填用氣體的供給為不需要的不需供給狀態，並且，在判別為前述供給必要狀態時，會將前述連接部設為前述連接狀態且將前述充填用氣體供給源設為前述供給狀態，在判別為前述不需供給狀態時，會將前述充填用氣體供給源設為前述供給停止狀態。
根據此構成，在將藉由檢測部所檢測出的充填用氣體的狀態判別為對容器之充填用氣體的供給為不需要的不需供給狀態時，會將充填用氣體供給源設為供給停止狀態。因此，在容器內的狀態為充填用氣體的供給為不需要的不需供給狀態時，可以不將充填用氣體供給到容器，而能夠節省充填用氣體。
較理想的是，作為一種態樣， 前述搬送裝置具備： 基部，在沿著前述搬送路徑的方向上的位置固定； 驅動部，在已將相對於前述基部的沿著前述搬送路徑之方向的位置固定的狀態下被支撐在前述基部； 接觸部，在已接觸於前述容器的狀態下，被前述驅動部驅動而對前述容器傳達沿著前述搬送路徑的方向的推進力；及 搬送控制部，控制前述驅動部， 前述接觸部是旋轉自如地被支撐在前述基部且藉由前述驅動部而被旋轉驅動的旋轉體、或是沿著前述搬送路徑移動自如地被支撐在前述基部，且藉由前述驅動部而被移動的支撐體， 前述供給控制部在藉由前述搬送控制部驅動前述驅動部時，是將前述連接部設為前述非連接狀態，且將前述充填用氣體供給源設為前述供給停止狀態。
根據此構成，在對與接觸部接觸的容器藉由該接觸部來賦予推進力的形態下，在搬送容器的搬送裝置中，在使其以驅動部驅動接觸部並使容器移動的期間，可以將連接部設為非連接狀態，且將充填用氣體供給源設為供給停止狀態。 再者，作為如上述的搬送裝置，具體而言，可考慮的有，作為旋轉體而具備有搬送滾輪、皮帶或鏈條等捲繞體的裝置，作為支撐體而具備有在載置支撐有容器的狀態下朝搬送方向移動的搬送台之裝置。 在這樣的搬送裝置中，由於可以在使容器移動的狀態下將連接部設為非連接狀態，且在容器已停止的狀態下將連接部設為連接狀態，因此能夠形成不阻礙搬送路徑中的容器的移動，並且能夠在從第1裝置到第2裝置的搬送路徑的途中供給充填用氣體。
較理想的是，作為一種態樣， 具備有連接部移動機構，該連接部移動機構是與藉由前述搬送裝置搬送的前述容器的沿著前述搬送路徑的方向上之移動同步，沿著前述搬送路徑使前述連接部移動。
根據此構成，由於是與藉由搬送裝置搬送的容器的沿著搬送路徑的方向上之移動同步使連接部沿著搬送路徑移動，因此即使在使容器移動的期間，也能夠將連接部設為連接狀態且將充填用氣體供給到容器。 因此，在從第1裝置到第2裝置的搬送路徑的途中，能夠將可對容器供給充填用氣體的期間確保為更多，而能夠實現容易將容器的內部維持在適合於收容物品之品質維持的環境中的容器搬送設備。
較理想的是，作為一種態樣， 使複數個前述連接部沿著前述搬送路徑分散設置。
根據此構成，由於使複數個連接部沿著搬送路徑分散設置，因此可以在搬送路徑中的複數個地點上，對容器供給充填用氣體。因此，相較於在沿著搬送路徑的方向上僅在單一的地點上設置連接部的情形，可以對存在於搬送路徑上的複數個容器恰當地供給充填用氣體。
11、21‧‧‧基部
12、22‧‧‧旋轉體
13、23‧‧‧汽缸支撐部
14、24‧‧‧汽缸本體
15、25‧‧‧汽缸桿
16、26‧‧‧噴嘴支撐體
27、R、R11、R12、R21、R22‧‧‧行走軌道
28‧‧‧行走車輪
29‧‧‧車輪驅動馬達
B‧‧‧容器
Bb‧‧‧底部
Bf‧‧‧凸緣
Bg‧‧‧通流孔形成部
Bh‧‧‧通流孔
C‧‧‧輸送帶(搬送裝置)
C11、C12、C21、C22‧‧‧緩衝輸送帶
C1b、C2b‧‧‧分歧輸送帶
C1g、C2g‧‧‧合流輸送帶
Ct‧‧‧旋轉台
Cu、Cu1、Cu2、Cu3‧‧‧輸送帶單元
Cw‧‧‧棟間輸送帶
Cw1‧‧‧第1棟間輸送帶
Cw2‧‧‧第2棟間輸送帶
D‧‧‧連接部移動機構
Ep‧‧‧搬出入埠
Ep1‧‧‧搬出埠
Ep2‧‧‧搬入埠
E‧‧‧裝置
E1‧‧‧第1裝置
E2‧‧‧第2裝置
F1‧‧‧第1廠房
F2‧‧‧第2廠房
G‧‧‧氣體供給源(充填用氣體供給源)
Gt‧‧‧通流管
Gt1‧‧‧第1通流管
Gt2‧‧‧第2通流管
H‧‧‧控制部
H1‧‧‧輸送帶控制部(搬送控制部)
H2‧‧‧供給控制部
H3‧‧‧天花板搬送車控制部
J‧‧‧檢測感測器(檢測部)
K‧‧‧供給切換閥(充填用氣體供給源)
L‧‧‧滾輪驅動馬達
M‧‧‧汽缸
N‧‧‧噴嘴
P1、P2‧‧‧處理裝置
Pp‧‧‧裝載埠
S1、S2‧‧‧保管庫
Sp1、Sp2‧‧‧保管庫搬出入埠
T‧‧‧筒體
U‧‧‧半導體基板(物品)
V‧‧‧天花板搬送車
V1‧‧‧行走部
V2‧‧‧本體部
Vh‧‧‧把持部
Vs‧‧‧升降體
Vw‧‧‧行走車輪
Y‧‧‧交接地點
圖1是具備容器搬送設備之半導體製造設備的概要平面圖。 圖2是顯示容器搬送設備之構成的正視圖。 圖3是半導體搬送容器的局部破斷正面圖。 圖4是顯示第1實施形態的輸送帶單元的正面圖。 圖5是顯示往棟間搬送輸送帶的合流部分的平面圖。 圖6是顯示來自棟間搬送輸送帶的分歧部分的平面圖。 圖7是控制方塊圖。 圖8是流程圖。 圖9是顯示第2實施形態的輸送帶單元的正面圖。 圖10是第2實施形態之具備有輸送帶單元之合流部分的平面圖。 圖11是其他實施形態之具備有輸送帶單元之合流部分的平面圖。
12、L‧‧‧旋轉體
16‧‧‧噴嘴支撐體
B‧‧‧容器
C12、C1、C‧‧‧緩衝輸送帶
Ct‧‧‧旋轉台
Cu、Cu1‧‧‧輸送帶單元
Cw‧‧‧棟間輸送帶
Cw1‧‧‧第1棟間輸送帶
L‧‧‧滾輪驅動馬達
N‧‧‧噴嘴
R12‧‧‧行走軌道
V‧‧‧天花板搬送車

Claims (5)

  1. 一種容器搬送設備，具備以下： 第1裝置，具備有將可收容物品的容器搬出的搬出部； 第2裝置，具備有將前述容器搬入的搬入部； 搬送裝置，沿著搬送路徑將前述容器從前述第1裝置搬送至前述第2裝置；以及 供給裝置，將可充填於前述容器的內部之充填用氣體供給到前述容器的內部， 其具有以下的特徵： 前述容器具備通流孔形成部，該通流孔形成部形成有可在該容器的外部與內部之間通流氣體的通流孔， 前述供給裝置具備連接部與充填用氣體供給源，該連接部具有使氣體通流自如的通流路，該充填用氣體供給源使前述充填用氣體在前述通流路通流， 前述連接部構成為在非連接狀態與連接狀態切換自如，該非連接狀態是退避至於前述搬送路徑移動的容器的移動區域之外部的狀態，該連接狀態是侵入前述移動區域的內部且連接在前述容器的通流孔形成部的狀態。
  2. 如請求項1之容器搬送設備，其中， 將前述充填用氣體供給源構成為在供給狀態與供給停止狀態切換自如，該供給狀態是使前述充填用氣體於前述通流路通流的狀態，該供給停止狀態是不使前述充填用氣體於前述通流路通流的狀態， 並設置有供給控制部與檢測部，該供給控制部是控制前述連接部的前述連接狀態與前述非連接狀態之切換、以及前述充填用氣體供給源的前述供給狀態與前述供給停止狀態之切換，該檢測部是檢測前述容器內的前述充填用氣體的狀態， 前述供給控制部是構成為：判別以前述檢測部所檢測出的前述容器內的前述充填用氣體的狀態，是否為對前述容器之前述充填用氣體的供給為必要的供給必要狀態，還是對前述容器之前述充填用氣體的供給為不需要的不需供給狀態，並且，在判別為前述供給必要狀態時，會將前述連接部設為前述連接狀態且將前述充填用氣體供給源設為前述供給狀態，在判別為前述不需供給狀態時，會將前述充填用氣體供給源設為前述供給停止狀態。
  3. 如請求項2之容器搬送設備，其中， 前述搬送裝置具備： 基部，在沿著前述搬送路徑的方向上的位置固定； 驅動部，在已將相對於前述基部的沿著前述搬送路徑之方向的位置固定的狀態下被支撐在前述基部； 接觸部，在已接觸於前述容器的狀態下，被前述驅動部驅動而對前述容器傳達沿著前述搬送路徑的方向的推進力；及 搬送控制部，控制前述驅動部， 前述接觸部是旋轉自如地被支撐在前述基部且藉由前述驅動部而被旋轉驅動的旋轉體、或是沿著前述搬送路徑移動自如地被支撐在前述基部，且藉由前述驅動部而被移動的支撐體， 前述供給控制部在藉由前述搬送控制部驅動前述驅動部時，是將前述連接部設為前述非連接狀態，且將前述充填用氣體供給源設為前述供給停止狀態。
  4. 如請求項1之容器搬送設備，其更具備有連接部移動機構，該連接部移動機構是與藉由前述搬送裝置搬送的前述容器的沿著前述搬送路徑的方向上之移動同步，沿著前述搬送路徑使前述連接部移動。
  5. 如請求項1至4中任一項之容器搬送設備，其中，是使複數個前述連接部沿著前述搬送路徑分散設置。
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