TW201716308A - 吸引裝置 - Google Patents

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TW201716308A
TW201716308A TW105122434A TW105122434A TW201716308A TW 201716308 A TW201716308 A TW 201716308A TW 105122434 A TW105122434 A TW 105122434A TW 105122434 A TW105122434 A TW 105122434A TW 201716308 A TW201716308 A TW 201716308A
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Hitoshi Iwasaka
Hideyuki Tokunaga
Yuji Kasai
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Harmotec Co Ltd
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Abstract

本發明的吸引裝置(10)，具備：形成渦流藉伯努利效應吸引被吸引物(F)的渦流形成體(1)，及收容渦流形成體(1)，引導從渦流形成體(1)的凹部(12)流出之流體的流動的外殼(2)。外殼(2)具備引導部(21)、凸緣部(22)及蓋部(23)。引導部(21)是限制從渦流形成體(1)的凹部(12)沿端面(13)流出之流體的流動，朝著遠離被吸引物(F)的位置的方向引導該流體。凸緣部(22)在與端面(13)之間，形成從凹部(12)流出的流體的流路。蓋部(23)是固定於渦流形成體(1)的主體(11)的上面。

Description

吸引裝置
本發明是關於利用伯努利效應吸引材料的裝置。
近年來，開發以非接觸吸引半導體晶圓或玻璃基板等的板狀構件用的裝置。例如，專利文獻1中，提出一種利用伯努利的定律以非接觸吸引板狀構件的裝置。該裝置是在裝置下面開口的圓筒室內產生渦流，藉著該渦流的中心部的負壓吸引板狀構件，另一方面藉著從該圓筒室流出的流體在該裝置與板狀構件之間保持一定的距離，可進行板狀構件之非接觸的吸引。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2005-51260號公報
本發明是鑒於上述的技術所研創而成，在吸引液體或粉體等物體的吸引裝置中，以抑制吸引之物體的飛散為目的。
為解決上述的課題，本發明提供一種吸引裝置，具備：柱狀的主體；形成於該主體的平坦狀的端面；形成於上述端面的凹部；藉著在上述凹部內形成流體的渦流或朝上述凹部內吐出流體形成放射流以產生負壓來吸引被吸引物的流體流形成手段；及包圍上述凹部的開口部，限制從上述凹部沿著上述端面流出之流體的流動，將該流體朝著遠離上述被吸引物之吸引前位置的方向引導的引導部。
較佳之樣態中，上述引導部與上述端面比較開口緣是配置朝上述被吸引物側突出的筒狀的構件。
再一較佳樣態中，在上述引導部的開口緣形成有具備與上述端面相對的面的向內的凸緣部。
再一較佳樣態中，在上述引導部的內周圍面形成有朝上述開口緣縮徑的錐度，上述引導部是沿著上述內周圍面引導從上述凹部流出的流體。
再一較佳樣態中，在上述引導部具有架設在另一方開口緣的板狀構件，上述板狀構件被固定在上述主體的與上述端面相反側的面上。
其他的較佳樣態中，在上述引導部是由複數 的構件所構成。
再一較佳樣態中，進一步具備包圍上述引導部的外圍，底面具有貫穿孔的有底筒狀的容器，上述主體是將上述凹部朝向上述容器的外側開口地配置在上述貫穿孔內。
再一較佳樣態中，在上述容器的內周圍面形成有朝上述貫穿孔縮徑的錐度。
再一較佳樣態中，上述被吸引物為食品。
根據本發明，吸引液體或粉體等的物體的吸引裝置中，可抑制吸引之物體的飛散。
1‧‧‧渦流形成體
2‧‧‧外殼
3‧‧‧除塵銷
4‧‧‧連結構件
5‧‧‧擋板
6‧‧‧放射流形成體
10‧‧‧吸引裝置
11‧‧‧主體
12‧‧‧凹部
13‧‧‧端面
14‧‧‧噴出口
15‧‧‧傾斜面
16‧‧‧供應口
17‧‧‧環狀通路
18‧‧‧連通路
19‧‧‧供應路
21‧‧‧引導部
22‧‧‧凸緣部
23‧‧‧蓋部
31‧‧‧引導部
32‧‧‧凸緣部
33‧‧‧蓋部
34‧‧‧支撐棒
51‧‧‧圓板部
52‧‧‧棒形構件
53‧‧‧環形構件
54‧‧‧網眼部
55‧‧‧網眼部
61‧‧‧主體
62‧‧‧環狀凹部
63‧‧‧端面
64‧‧‧相對面
65‧‧‧傾斜面
66‧‧‧噴嘴孔
67‧‧‧導入口
68‧‧‧導入路
69‧‧‧環狀通路
70‧‧‧連通路
111‧‧‧內周圍側面
112‧‧‧外圍側面
113‧‧‧凸部
211‧‧‧內周圍面
212‧‧‧開口緣
213‧‧‧傾斜面
214‧‧‧開口緣
215‧‧‧外圍側面
221‧‧‧開口部
231‧‧‧凹陷
232‧‧‧開口部
233‧‧‧突部
234‧‧‧貫穿孔
311‧‧‧內周圍面
312‧‧‧開口緣
313‧‧‧傾斜面
314‧‧‧開口緣
321‧‧‧貫穿孔
322‧‧‧內周圍側面
331‧‧‧貫穿孔
332‧‧‧貫穿孔
511‧‧‧開口部
512‧‧‧限制部
551‧‧‧凹部
第1圖表示吸引裝置10的構造之一例的圖。
第2圖表示渦流形成體1的構造之一例的圖。
第3圖表示吸引裝置10的使用方法之一例的圖。
第4圖表示安裝除塵銷3的吸引裝置10的構造之一例的圖。
第5圖表示省略蓋部23的吸引裝置10A的構造之一例的圖。
第6圖表示進一步省略凸緣部22的吸引裝置10B的構造之一例的圖。
第7圖為擋板5的上視圖。
第8圖為具有其他形狀的擋板5的上視圖。
第9圖為具有其他形狀的擋板5的上視圖。
第10圖為具有其他形狀的擋板5的構造的圖。
第11圖為具有不同形狀之凹部551的擋板5E的構造的圖。
第12圖為具有其他形狀的擋板5的構造的圖。
第13圖表示在凹部12內形成有凸部113的渦流形成體1A的構造之一例的圖。
第14圖表示放射流形成體6的構造之一例的圖。
以下，針對本發明的實施形態一邊參閱圖示進行說明。
1. 實施形態
第1圖表示本發明的實施形態相關之吸引裝置10的構造的一例的圖。第1(a)圖為吸引裝置10的上視圖，第1(b)圖為第1(a)圖的A-A線剖面圖，第1(c)圖為吸引裝置10的底視圖。吸引裝置10是從附著有被吸引物F之物(體積比被吸引物F大)吸引被吸引物F用的裝置。被吸引物F主要是液體或粉體等的物體，更具體為食品。例如，吸引裝置10具有作為吸引油炸物(例如，炸麵)的油的瀝油裝置或附著在以熱水燙過之食品(例如， 燙麵)的水份的瀝乾裝置，或從撒粉後的食品吸引多餘粉的粉體分離器的功能。又，被吸引物F具體為塵埃或粉塵，吸引裝置10具有作為吸引落在地面之塵埃或粉塵的吸塵器的功能。
吸引裝置10具備渦流形成體1與外殼2。渦流形成體1是形成渦流藉伯努利效應吸引被吸引物F的裝置。具體而言，渦流形成體1是藉著朝凹部12內吐出流體在凹部12內產生負壓來吸引被吸引物F。在此的流體是例如壓縮空氣等的氣體。或者是純水或碳酸水等的液體。外殼2是收容渦流形成體1，引導從渦流形成體1的凹部12流出之流體的流動的構件。外殼2的材質是例如鋁合金。
第2圖表示渦流形成體1的構造之一例的圖。第2(a)圖為渦流形成體1的透視圖，第2(b)圖為第2(a)圖的B-B線剖面圖，第2(c)圖為第2(a)圖的C-C線剖面圖。渦流形成體1具備主體11、凹部12、端面13、兩個噴出口14及傾斜面15。
主體11具有圓柱形狀。主體11的材質是例如鋁合金。端面13是將主體11的一面(具體是與被吸引物F鄰接的面)(以下，稱「底面」)形成為平坦狀。凹部12具有圓柱形狀，形成於端面13。凹部12是與主體11同軸形成。在與凹部12面對的主體11的內周圍側面111，形成有朝開口部擴徑的錐度。兩個噴出口14是形成在與凹部12面對的主體11的內周圍側面111。兩個噴出 口14是例如配置在內周圍側面111的軸向中央部。兩個噴出口14是彼此相對配置。具體而言，以主體11或凹部12的中心軸的軸心為中心配置成點對稱。供應渦流形成體1的流體是透過各噴出口14朝凹部12內吐出。傾斜面15是形成在主體11的開口端。
渦流形成體1，進一步具備供應口16、環狀通路17、連通路18及兩條供應路19。供應口16為圓形狀，設置在主體11的上面(即，與底面相反的面)的中央。供應口16是例如透過管，連接於未圖示的流體供應泵。透過該供應口16朝主體11內供應流體。環狀通路17具有圓筒形狀，包圍凹部12地形成於主體11的內部。環狀通路17是與凹部12同軸形成。環狀通路17是將連通路18所供應的流體供應至供應路19。連通路18是設置在主體11的內部，朝主體11的底面或上面的半徑方向呈直線形延伸。連通路18是在其兩端部與環狀通路17連通。連通路18是透過供應口16將供應主體11內的流體供應至環狀通路17。兩條供應路19是形成相對於端面13大致平行，且相對於凹部12的外圍朝著切線方向延伸。兩條供應路19是彼此平行延伸。各供應路19為其一端與環狀通路17連通，另一端與噴出口14連通。各供應路19在凹部12內形成流體的渦流。各供應路19為本發明相關之「流體形成手段」的一例。
接著，外殼2是如第1圖表示，具備：引導部21、凸緣部22及蓋部23。
引導部21具有圓筒形狀，配置包圍著渦流形成體1的主體11的外圍側面112。亦即，配置包圍著凹部12的開口部的外圍。此時，引導部21是配置使其內周圍面211不與渦流形成體1的主體11的外圍側面112接觸。又，引導部21與渦流形成體1的端面13比較配置使其一方的開口緣212朝向被吸引物F側突出。引導部21的軸向的長度是設定比渦流形成體1的主體11的軸向長度長。開口緣212是配置與渦流形成體1的端面13大致平行。在開口緣212的外圍側形成有傾斜面213。在引導部21的內周圍面211形成有朝開口緣212縮徑的線形錐度。錐度比是例如0.5左右。
具有以上構成的引導部21是限制從渦流形成體1的凹部12沿著端面13流出之流體的流動，將該流體朝著遠離被吸引物F的位置(正確為開始吸引前的位置)的方向引導。引導部21尤其是限制從凹部12沿著端面13流出之流體的具有徑向成份的方向的流動。並且，將該流體朝包括被吸引物F的吸引方向之方向成份的方向引導。更具體而言，使得從渦流形成體1的凹部12流出的流體沿著內周圍面211從開口緣212朝向開口緣214引導。從凹部12沿著端面13流出的流體與引導部21的內周圍面211衝突時，沿著該內周圍面，在該內周圍面與主體11的外圍側面112之間朝向開口緣214流動。此時，該流體在從凹部12流出時由於與徑向成一角度流出，因此在內周圍面211上呈螺旋狀流動。
凸緣部22是在引導部21的開口緣212形成向內的圓環形的構件。凸緣部22是形成與渦流形成體1的端面13平行。此時，凸緣部22的寬度(徑向的長度)是設定包覆端面13，但不包覆凹部12的底面的程度。凸緣部22與端面13之間的間隙是對應從流體供應泵供應吸引裝置10的流體的流量而設定。例如，該間隙是設定從凹部12流出的流體不通過凸緣部22的開口部221，而是通過形成在凸緣部22與端面13之間的流路。此時，為使吸引裝置10的吸引力不致降低而以該間隙盡可能地小為佳。
蓋部23是架設於引導部21之開口緣214的圓板狀的構件。在蓋部23的外緣等間隔形成有四個凹陷231，藉該等凹陷231的形成，在蓋部23與引導部21的開口緣214之間形成四個開口部232。被上述引導部21引導的流體是透過該開口部232排出至吸引裝置10之外。蓋部23的外緣之中夾於凹陷231的大致矩形的部份(突部233)是將其一面固定於開口緣214。並在蓋部23的中央，形成有圓形的貫穿孔234。透過該貫穿孔234相對於渦流形成體1的供應口16連接從流體供應泵延伸的管。蓋部23被固定在渦流形成體1的主體11的上面。固定方法是例如螺絲固定。此時，各螺絲是垂直(換言之，朝主體11的軸向)插入蓋部23。
接著，針對以上說明的吸引裝置10的吸引動作說明。流體從流體供應泵供應至渦流形成體1的供應口 16時，其流體通過連通路18、環狀通路17及供應路19從噴出口14吐出至凹部12內。吐出於凹部12的流體在凹部12內成為渦流而被整流，之後，從凹部12的開口部流出。此時，與凸緣部22的開口部221相對的位置存在有附著被吸引物F之物(以下，稱「被吸引物保持體M」)的場合，限制外部流體朝凹部12的流入，藉著渦流的離心力與吸引效果，使渦流中心部的每單位體積的流體分子的密度變小，在凹部12內產生負壓。其結果，附著在被吸引物保持體M的被吸引物F被周圍的流體所推壓而吸引至吸引裝置10側。從凹部12的開口部流出的流體不通過凸緣部22的開口部221，而是通過形成在凸緣部22與端面13之間的流路，與引導部21的內周圍面211衝突。並且，沿著該內周圍面，在該內周圍面與主體11的外圍側面112之間朝向開口緣214流動，以致透過蓋部23的開口部232流出到吸引裝置10之外。被吸引至吸引裝置10側的上述被吸引物F隨著該流體的流動，透過蓋部23的開口部232被排出到吸引裝置10之外。
第3圖是表示吸引裝置10的使用方法之一例的圖。同圖表示的例是設定以吸引裝置10作為瀝油裝置使用的場合。該例中，設定油為被吸引物F，並設定油炸物(例如，炸麵)為被吸引物保持體M。被吸引物保持體M是複數放置於油炸籠B，在網狀的輸送帶C上朝箭頭方向搬運。吸引裝置10是與油炸籠B的底面，在其搬運過程中透過輸送帶C呈相對地固定配置。吸引裝置10是以 在輸送帶C側開口的方式配置凹部12。此時，吸引裝置10與油炸籠B的距離以盡可能地接近為佳。輸送帶C搬運的油炸籠B來到吸引裝置10的上方時，放置在油炸籠B的被吸引物保持體M是藉著渦流形成體1生成的負壓朝向渦流形成體1側吸引。但是，被吸引物保持體M，其尺寸大於炸物籠B的網眼，僅較其網眼小的油滴被朝向渦流形成體1側吸引。被渦流形成體1吸引的油滴隨著從渦流形成體1的凹部12流出的流體，通過形成在凸緣部22與端面13之間的流路，沿著引導部21的內周圍面211朝開口緣214流動，以致透過蓋部23的開口部232朝向吸引裝置10之外流出。
並且，第3圖表示的例中，吸引裝置10雖僅表示一個，但也可以在油炸籠B的搬運路徑上配置複數吸引裝置10。或者，也可以控制吸引裝置1與油炸籠B同步移動。
根據以上說明的吸引裝置10，可僅將渦流形成體1內產生的渦流的吸引力分離來利用。其結果，抑制從凹部12流出的流體與被吸引物保持體M的衝突，抑制被吸引物保持體M的振顫。並且，抑制被吸引物保持體M被流出流體旋轉的現象。又，根據上述的吸引裝置10，可將吸引後的被吸引物F限制在裝置的吸引方向(換言之，第1(b)圖的上方向)。和不具備引導部21將被吸引物F朝水平方向撒出的場合比較，可抑制被吸引物F的飛散。又，根據上述的吸引裝置10，所有吸引後的被 吸引物F被排出至吸引裝置10之外而不會侵入凹部12或噴出口14，因此不會因被吸引物F而污染流體的供應路。
2. 變形例
上述的實施形態，也可以如以下變形。或者，以下的變形例也可以彼此組合。
2-1. 變形例1
也可以在上述實施形態相關的吸引裝置10安裝收容吸引後之被吸引物F用的除塵銷3。第4圖是表示安裝除塵銷3的吸引裝置10的構造之一例的圖。第4(a)圖為安裝除塵銷3的吸引裝置10的上視圖，第4(b)圖為第4(a)圖的D-D線剖面圖。除塵銷3為底面具有貫穿孔321的有底筒狀的容器。吸引裝置10是在除塵銷3的貫穿孔321內，配置使凹部12朝向除塵銷3的外側開口。除塵銷3，具備：引導部31、凸緣部32、蓋部33及支撐棒34。
引導部31具有圓筒形狀，配置包圍著吸引裝置10的外殼2的外圍面側215。亦即，配置包圍引導部21的外圍。此時，引導部31是配置使其內周圍面311不與引導部21的外圍側面215接觸。又，引導部31與吸引裝置10的開口緣212比較是配置使其一方的開口緣312不朝著被吸引物F側突出。引導部31的軸向的長度與吸 引裝置10的引導部21的軸向長度比較設定為較長。開口緣312是配置與渦流形成體1的端面13大致平行。在開口緣312的外圍側形成有傾斜面313。在引導部31的內周圍面311形成有朝貫穿孔321內縮徑的線形錐度。錐度比是例如0.35左右。
具有以上構成的引導部31限制從吸引裝置10的開口部232流出之流體的流動，將該流體朝著遠離被吸引物F的位置(正確為開始吸引前的位置)的方向引導。此時，引導部31將該流體朝包括被吸引物F的吸引方向之方向成份的方向引導。更具體而言，使得從開口部232流出的流體沿著內周圍面311，從開口緣312朝向開口緣314引導。從吸引裝置10的開口部232流出的流體是沿著引導部31的內周圍面311朝向開口緣314流動。此時，該流體在從凹部12流出時由於與徑向成一角度流出，因此在內周圍面311上呈螺旋狀流動。
凸緣部32是在引導部31的開口緣312形成向內的環形的構件。凸緣部32是形成與渦流形成體1的端面13平行。凸緣部32的貫穿孔321的內徑是設定與吸引裝置10的引導部21的外徑相等。亦即，凸緣部32是以配置使其內周圍側面322與引導部21的外圍側面215接觸的狀態包圍。
蓋部33是嵌入於引導部31之開口緣314內側的圓板狀的構件。在蓋部33的中央，形成有圓形的貫穿孔331。並在蓋部33呈同心圓狀跨兩列形成包圍貫穿 孔331的複數圓形的貫穿孔332。貫穿孔331與332的尺寸與數量是例如根據吸引裝置10所吸引被吸引物F的種類來決定。上述引導部31引導的流體是透過該等貫穿孔331及332排出至除塵銷3之外。此時，尺寸比貫穿孔331及332大的被吸引物F不會排出到除塵銷3之外，而是收容在除塵銷3內。透過貫穿孔331及332的其中之一，相對於渦流形成體1的供應口16連接從流體供應泵延伸的管。蓋部33是透過四支圓形的支撐棒34固定在吸引裝置10的蓋部23的上面。固定方法是例如螺絲固定。
安裝以上說明的除塵銷3的吸引裝置10的使用方法例如可作為吸塵器使用。具體是將吸引裝置10的凸緣部22接近地面，吸引落在地面的塵埃或粉塵。或者，如參閱第3圖的說明，作為瀝油裝置的使用。但是，由於吸引裝置10的吸引方向與重力方向一致(亦即，吸引裝置10的凹部12是以朝著與重力方向的相反方向開口的狀態使用)，也可以在凸緣部32形成流體流出用的通氣孔以取代在蓋部33形成貫穿孔331及貫穿孔332。
2-2. 變形例2
在上述實施形態有關的吸引裝置10中，也可以省略蓋部23。第5圖是表示省略蓋部23的吸引裝置10A的構造之一例的圖。第5(a)圖為吸引裝置10A的上視圖，第5(b)圖為第5(a)圖的E-E線剖面圖，第5(c)圖為第5(b)圖的F-F線剖面圖。吸引裝置10A在省略蓋 部23的點及具備連接渦流形成體1與外殼2A的四個連結構件4的點是與吸引裝置10不同。
連結構件4為分別具有圓柱形狀的空間。連結構件4是從端面13突出朝向凸緣部22成垂直延伸。連結構件4的一方的面是固定於端面13，另一方的面是固定在突緣部22的一方的面(具體是與端面13相對側的面)。其結果，主體11與外殼2A是透過連結構件4連結。連結構件4是在端面13與凸緣部22之間，形成從凹部12流出之流體流動用的流路。該流路是形成與端面13及凸緣部22平行，從凹部12流出的流體是沿著該流路流動(亦即，與端面13及凸緣部22的表面平行地流動)，與引導部21的內周圍面211衝突。通過該流路的流體不會從凸緣部22的開口部221流出。連結構件4的高度(亦即，端面13與凸緣部22之間的間隙)是對應從流體供應泵供應吸引裝置10的流體的流量而設定。例如，該高度是設定從凹部12流出的流體不通過凸緣部22的開口部221，而是藉連結構件4通過形成在端面13與凸緣部22之間的流路。此時，為使吸引裝置10的吸引力不致降低，該連結構件4的高度以盡可能地低為佳。
並且，連結構件4是以藉著該構件配置在不阻礙形成於端面13與凸緣部22之間的流路的位置為佳。換言之，配置在未形成有流路的位置(或者，流量比其他位置少的位置)。具體而言，如第5(c)圖表示，配置在與箭頭A1或A2表示的流路不交叉的位置。這是為了 防止從凹部12流出的流體與連結構件4衝突而產生亂流。並且，從凹部12流出的流體的流路是根據凹部12的直徑或深度及流體的速度來決定。又在此的流路是例如以從凹部12流出之流體的合成向量表示。
再者，連結構件4的形狀不限於圓柱，也可以是角柱或橢圓柱。又，連結構件4的數量不限於四個，也可以是三個以下或五個以上。又，連結構件4的配置也可以在凸緣部22的徑向中，內側、中央、外側的其中之一。
2-3. 變形例3
在上述變形例2相關的吸引裝置10A中，也可以進一步省略凸緣部22。第6圖是表示進一步省略凸緣部22的吸引裝置10B的構造之一例的圖。第6(a)圖為吸引裝置10B的上視圖，第6(b)圖為第6(a)圖的G-G線剖面圖，第6(c)圖為吸引裝置10B的底視圖。吸引裝置10B在省略凸緣部22的點及具備連接渦流形成體1與外殼2B的四個連結構件4A來取代連結構件4的點是與吸引裝置10A不同。
連結構件4A為分別具有圓柱形狀的空間。連結構件4A是從渦流形成體1的外圍側面112突出朝向引導部21的內周圍面211成垂直延伸。連結構件4A的一方的面是固定於外圍側面112，另一方的面是固定在內周圍面211。其結果，主體11與外殼2B是透過連結構件4A 連結。連結構件4A是在外圍側面112與內周圍面211之間，形成從凹部12流出使其流動被內周圍面211所限制的流體流動用的流路。
並且，連結構件4A的形狀不限於圓柱，也可以是角柱或橢圓柱。又，連結構件4A的數量不限於四個，也可以是三個以下或五個以上。又，連結構件4A的配置也可以在引導部21的徑向中，上側、中央、下側的其中之一。
2-4. 變形例4
上述實施形態相關的吸引裝置10中，也可安裝擋板5以防止被吸引物保持體M被吸入凹部12內。第7圖為擋板5上視圖。
擋板5為圓形的樹脂製平板。擋板5，具備：具有圓形的開口部的圓板部51；架設在圓板部51的開口部的複數棒形構件52a及52b(以下，總稱為「棒形構件52」)；及架設於棒形構件52a及52b之間的複數環形構件53a及53b(以下，總稱為「環形構件53」)。擋板5是與凸緣部22同心且平行地安裝於凸緣部22之一方的面(具體是與被吸引物F相對側的面)。安裝方法是例如螺絲固定。圓板部51在將擋板5安裝於外殼2時，其一方的面是與凸緣部22相對。棒形構件52a及52b是在圓板部51的開口部的中央架設成彼此交叉。棒形構件52a及52b在將擋板5安裝於外殼2時，成為架設於凸緣部22 的開口部221的狀態。棒形構件52a及52b例如是形成十字地架設。環形構件53a及53b是以棒形構件52a及52b交叉的交點為中心，呈同心圓狀架設。在配置於最內側的環形構件53a與棒形構件52a及52b的交點之間設有間隙。亦即，環形構件53a在將擋板5安裝於外殼2時，設置成不包覆凸緣部22的開口部221的中央。因此，環形構件53a不會阻礙被吸引至凹部12內之流體的流動。
並且，擋板5的形狀不限於第7圖表示的例。第8圖為具有其他形狀的擋板5的上視圖。同圖表示的擋板5A與上述的擋板5比較，比配置在最內側的環形構件53a更內側的區域中，切除棒形構件52a及52b。該擋板5A，具有：圓板部51；棒形構件52c、52d、52e及52f；及環形構件53a與53b。棒形構件52c、52d、52e及52f是分別從圓板部51的開口緣，朝其開口部的中心延伸的等長的構件。棒形構件52c、52d、52e及52f是分別相對於相鄰的棒形構件垂直延伸。環形構件53a是配置使其外周緣與各棒形構件52c、52d、52e及52f的前端接觸。環形構件53b是與棒形構件52a同心地架設於各棒形構件52c、52d、52e及52f之間。
第9圖為具有其他形狀的擋板5的上視圖。第9(a)圖表示的擋板5B是在圓板部51的開口部具有圓形的篩眼較粗的網眼部54。網眼部54在將擋板5B安裝於外殼2時，包覆凸緣部22的開口部221。第9(b)圖表示的擋板5C是在圓板部51的開口部具有圓形的篩眼 較細的網眼部55。網眼部55在將擋板5C安裝於外殼2時，包覆凸緣部22的開口部221。第9(c)圖表示的擋板5D是在其中央部具有複數的圓孔的圓板部51A來取代圓板部51。並且，在上述的擋板5B中，也可採用多孔質材料(多孔材料)來取代網眼部54。
第10圖是表示具有其他形狀的擋板5的構造的圖。第10(a)圖為擋板5E的上視圖，第10(b)圖為第10(a)圖的H-H線剖面圖。擋板5E是在圓板部51的開口部具有圓形的篩眼較細的網眼部55A。該網眼部55A是在其中央部具有圓錐形的凹部551。擋板5E是使得該凹部551陷入凸緣部22的開口部221地安裝於外殼2。被吸引物保持體M的一部份或全部一旦陷入該凹部551時，藉著形成凹部551的網眼部55A的斜面限制被吸引物保持體M的移動，進行被吸引物保持體M的定位。凹部551的底由於較網眼部55A之其他部份更接近渦流形成體1的凹部12，因此陷入凹部551的被吸引物保持體M的部份受到比其他部份更強的吸引。並且，凹部551的直徑或深度是根據被吸引物保持體M的形狀及大小來決定。
並且，凹部551的形狀也可以根據被吸引保持體M的形狀來決定。第11圖是表示具有不同形狀之凹部551的擋板5E的構造的圖。第11(a)圖為擋板5F的上視圖，第11(b)圖為第11(a)圖的I-I線剖面圖。擋板5F是在圓板部51的開口部，具有圓形的篩眼較細的網眼部55B，該網眼部55B在其中央部具有半球形的凹部 551A。作為凹部551的其他形狀的例，也可以設凹部551的形狀為溝槽狀，可進行細長被吸引物保持體M的方向對整。
第12圖是表示具有其他形狀的擋板5的構造的圖。第12(a)圖為擋板5G的透視圖，第12(b)圖為第12(a)圖的J-J線剖面圖。擋板5G具備在其中央部具有開口部511的圓板部51B來取代圓板部51。開口部511為貫穿孔。圓板部51B在其開口端具有四個限制部512。限制部512是例如對圓板部51B的開口端施以R彎曲加工所形成。限制部512具有與彈簧相同的彈性。擋板5G是安裝於外殼2使該限制部512朝著凸緣部22的開口部221側突出。被吸引物保持體M的一部份一旦陷入擋板5G的開口部511時，藉著包圍開口部511的限制部512限制被吸引物保持體M的移動(相對於擋板5G之水平方向及垂直方向的移動)，進行被吸引物保持體M的定位。此時，由於陷入開口部511的部份比其他的部份更接近渦流形成體1的凹部12而受到更強的吸引。並且，本變形例是如第12(b)圖中以虛線表示，作為被吸引物保持體M是例如假設球體或橢圓體之物。並且，開口部511的形狀及大小是根據被吸引物保持體M的形狀及大小來決定。
2-5. 變形例5
上述實施形態相關的渦流形成體1中，也可以在凹部 12內形成凸部113。第13圖是表示在凹部12內形成有凸部113的渦流形成體1A的構造之一例的圖。第13(a)圖為渦流形成體1A的底視圖，第13(b)圖為第13(a)圖的K-K線剖面圖。凸部113具有圓柱形狀，從凹部12的底部延伸所形成。凸部113是與主體11或凹部12同軸形成。凸部113的上面(具體是與被吸引物F相對的面)是形成相對於端面13凹陷。凸部113在其外圍側面與主體的內周圍側面111之間形成流體流路，朝凹部12內吐出的流體是藉著在此流體流路的流動形成渦流。並且，凸部113的上面也可形成為與端面13相同平面上。又，凸部113的上面的端部也可進行倒角。
2-6. 變形例6
上述實施形態相關的吸引裝置10中，也可採用形成放射流的放射流形成體來取代渦流形成體1。第14圖是表示放射流形成體6的構造之一例的圖。第14(a)圖為放射流形成體6的透視圖，第14(b)圖為放射流形成體6的底視圖，第14(c)圖為第14(a)圖的L-L線剖面圖。放射流形成體6是藉流體的吐出在與被吸引物F之間產生負壓，吸引被吸引物F的裝置。
放射流形成體6，具備：主體61、環狀凹部62、端面63、相對面64及傾斜面65。主體61具有圓柱形狀。端面63是呈平坦狀形成於主體61之一的面(具體是與被吸引物F鄰接的面)(以下，稱「底面」)。環狀 凹部62是形成於端面63。環狀凹部62是與主體61的外圍呈同心圓狀所形成。相對面64是呈平坦狀形成於主體61的底面。相對面64為周圍被環狀凹部62所包圍，與被吸引物F相對的面。相對面64是在主體61的底面，形成相對於端面63呈凹陷。傾斜面65形成於環狀凹部62的開口部(具體為其外圍緣)。
放射流形成體6，又進一步具備：6支噴嘴孔66、導入口67、導入路68、環狀通路69及連通路70。導入口67具有圓形狀，設置在主體61的上面(即，與底面相反的面)的中央。導入口67是例如透過管，與未圖示的流體供應泵連接。導入路68是設置在主體61的內部，沿著主體61的中心軸呈直線形延伸。導入路68是將其一端與導入口67連通，另一端與連通路70連通。導入路68是透過導入口67將供應主體61內的流體供應於連通路70。連通路70是設置在主體61的內部，朝環狀通路69的半徑方向呈直線延伸。連通路70是其軸向中央部與導入路68連通，在其兩端部與環狀通路69連通。連通路70是將由導入路68供應的流體供應至環狀通路69。環狀通路69具有圓筒形狀，設置在主體61的內部。環狀通路69是與主體61同軸形成。環狀通路69是將從連通路70所供應的流體供應至噴嘴孔66。6支噴嘴孔66是分別形成與端面63或相對面64大致平行，且朝著主體61的底面或上面的半徑方向直線延伸，其一端是與環狀通路69連通，另一端是與環狀凹部62連通。6支噴嘴孔66是 將相鄰的噴嘴孔66彼此成大致45度的角度配置在同一平面上。各噴嘴孔66是朝環狀凹部62內吐出氣體等的流體形成放射流。各噴嘴孔66為本發明相關之「流體流形成手段」的一例。
對以上說明的放射流形成體6透過導入口67供應流体時，其流體通過導入路68、連通路70及環狀通路69從噴嘴孔66朝向環狀凹部62內吐出。吐出至環狀凹部62的流體是從環狀凹部62的開口部流出。此時，在與凸緣部22的開口部221相對的位置，存在有被吸引物保持體M的場合，限制外部流體朝著相對面64與被吸引物保持體M之間的流入，藉放射流的吸引效果，使得該空間的每單位體積的流體分子的密度變小而產生負壓。其結果，附著在被吸引物保持體M的被吸引物F被周圍的流體所推壓而吸引至放射流形成體6側。
並且，放射流形成體6的構造(尤其是噴嘴孔66的數量與主體61內的流體流路的構造)，不限於第14圖表示的例。該構造也可根據放射流形成體6所吸引之被吸引物F的尺寸、形狀及材質來決定。
2-7. 變形例7
上述實施形態相關的吸引裝置10中，也可採用習知的電風扇(例如，參閱日本特開2011-138948號公報)來取代渦流形成體1。具體為也可以在渦流形成體1的主體11設置吸氣口，並設置於凹部12內，藉其旋轉從吸氣口 吸入氣體至凹部12內，在凹部12內產生渦流的風扇。該風扇為本發明相關之「流體流形成手段」的一例。
2-8. 變形例8
上述實施形態相關的渦流形成體1的主體11與凹部12的形狀不限於圓柱，也可以是角柱或橢圓柱。又，設置在渦流形成體1的供應路19的數量不限於兩條，也可以是一條或三條以上。並且也可以不設置傾斜面15(亦即，端面13的端部不取倒角)。
2-9. 變形例9
上述實施形態相關的外殼2的引導部21，並非有以一個構件形成圓筒形狀的必要，也可以呈環狀排列配置複數平板狀的構件所形成。引導部21的形狀不限於圓筒也可以是角筒或橢圓筒。形成於引導部21之內周圍面211的錐度不限於線性錐度也可以指數函數錐度或拋物線錐度。或者，也可以微小段差構成的錐度。或者與上述實施形態相反，朝開口緣212擴徑。或者省略錐度的形成。凸緣部22的形狀不限於圓環也可以是角環或橢圓環。蓋部23的形狀不限於圓形也可以是矩形或橢圓。
2-10. 變形例10
變形例1相關之除塵銷3的引導部31的形狀不限於圓筒也可以是角筒或橢圓筒。形成於引導部31之內周圍 面311的錐度不限於線性錐度也可以指數函數錐度或拋物線錐度。或者，也可以微小段差構成的錐度。或者與上述變形例1相反，朝開口緣312擴徑。或者省略錐度的形成。凸緣部32的形狀不限於圓環也可以是角環或橢圓環。蓋部33的形狀不限於圓形也可以是矩形或橢圓。
2-11. 變形例11
上述實施形態相關的吸引裝置10，也可使用於吸引半導體晶圓或玻璃基板等的板狀的構件並進行搬運之用。
1‧‧‧渦流形成體
2‧‧‧外殼
10‧‧‧吸引裝置
11‧‧‧主體
12‧‧‧凹部
13‧‧‧端面
14‧‧‧噴出口
16‧‧‧供應口
21‧‧‧引導部
22‧‧‧凸緣部
23‧‧‧蓋部
112‧‧‧外圍側面
211‧‧‧內周圍面
212‧‧‧開口緣
213‧‧‧傾斜面
214‧‧‧開口緣
221‧‧‧開口部
231‧‧‧凹陷
232‧‧‧開口部
233‧‧‧突部
234‧‧‧貫穿孔

Claims (10)

  1. 一種吸引裝置，具備：柱狀的主體；平坦狀的端面，形成於上述主體；凹部，形成於上述端面；流體流形成手段，藉著在上述凹部內形成流體的渦流或朝上述凹部內吐出流體形成放射流以產生負壓來吸引被吸引物；及引導部，包圍上述凹部的開口部，限制從上述凹部沿著上述端面流出之流體的流動，將該流體朝著遠離上述被吸引物之吸引前位置的方向引導。
  2. 如申請專利範圍第1項記載的吸引裝置，其中，上述引導部與上述端面比較開口緣是配置朝上述被吸引物側突出的筒狀的構件。
  3. 如申請專利範圍第2項記載的吸引裝置，其中，在上述引導部的開口緣形成有具備與上述端面相對的面的向內的凸緣部。
  4. 如申請專利範圍第2項記載的吸引裝置，其中，在上述引導部的內周圍面形成有朝上述開口緣縮徑的錐度，上述引導部是沿著上述內周圍面引導從上述凹部流出的流體。
  5. 如申請專利範圍第3項記載的吸引裝置，其中，在上述引導部的內周圍面形成有朝上述開口緣縮徑的錐度，上述引導部是沿著上述內周圍面引導從上述凹部流出 的流體。
  6. 如申請專利範圍第2項至第5項中任一項記載的吸引裝置，其中，上述引導部具有架設在另一方開口緣的板狀構件，上述板狀構件是固定在上述主體的與上述端面相反側的面上。
  7. 如申請專利範圍第1項記載的吸引裝置，其中，上述引導部是由複數的構件所構成。
  8. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項記載的吸引裝置，其中，進一步具備包圍上述引導部的外圍，底面具有貫穿孔的有底筒狀的容器，上述主體是將上述凹部朝向上述容器的外側開口地配置在上述貫穿孔內。
  9. 如申請專利範圍第8項記載的吸引裝置，其中，在上述容器的內周圍面形成有朝上述貫穿孔縮徑的錐度。
  10. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項記載的吸引裝置，其中，上述被吸引物為食品。
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