TW201704543A - 電解過程中適於釋氧用之電極,以及從水溶液陰極電沉積金屬之製法 - Google Patents

電解過程中適於釋氧用之電極,以及從水溶液陰極電沉積金屬之製法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種電解過程中適於釋氧用之電極,在閥金屬基材上,具有塗料,包括觸媒層,含有鉑族金屬,以及一或以上保護層,基本上為氧化錫,以選自鉍、銻或鉭之摻雜元素,以及少量釕,加以改質。電極可用於非鐵系金屬電解提煉。

Description

電解過程中適於釋氧用之電極,以及從水溶液陰極電沉積金屬之製法
本發明係關於電化學應用之電極,尤指在金屬電解提煉中釋氧用之電極。
本發明係關於電解過程中所用電極,尤指在工業電解製程中適於釋氧用之陽極。釋氧用之陽極,廣用於不同的電解應用,有許多是涉及金屬之陰極電沉積領域(電解冶金),在廣泛的應用電流密度範圍作業,從很低(數百A/m2,諸如在金屬電解提煉法中)到極高(例如在一些賈法尼電鍍應用中,可在超過10kA/m2陽極表面作業);釋氧用陽極之另一應用領域是,利用外施進行陰極保護。在電解冶金領域,尤其涉及金屬電解提煉,傳統上使用鉛為基本的陽極,對某些應用依然有效,雖然呈現相當的高度釋氧過電位,也對環境和人體健康賦予公知的危機。近來在市場上,尤其是高電流密度應用方面,引進陽極釋氧用電極,從閥金屬基材製得,例如鈦及其合金,塗佈基於金屬或其氧化物之觸媒組成物,有利於與降低釋氧電位相關之大多數省電。適於催化陽極釋氧反應之典型組成物,例如由銥和鉭的氧化物混合物組成,其中銥為觸媒活性種類,而鉭方便形成結實塗料,能夠保護閥金屬基材免於腐蝕,尤其是可在侵蝕性電解質內操作。可供催化陽極釋氧反應之另一很有效配方,是由銥和錫的氧化物之混合物組成,有少量之摻雜元素,諸如鉍、銻、鉭或鈮,可用於使氧化錫相更具導電性。
具有上述組成物之電極,能夠滿足許多工業應用上的需要,不論高、低電流密度,可充分降低操作電壓,和維持充分使用期限。某些生產製程,尤其是在冶金領域(諸如銅或錫的電解提煉)範疇,需要甚至比上述組成物更高使用期限之電極。為達成此目的,已知有保護性中間層,基於閥金屬氧化物,例如鉭和鈦的氧化物之混合物,能夠進一步防止閥金 屬基材腐蝕。如此配製之中間層,其特徵為,相當低之導電係數,只能用於很小厚度,不超過0.5μm,以致增加操作電壓,包含在可接受限度內。易言之,有利於較大厚度之適當操作壽命,和有利於較低厚度之降低過電位間,必須找出妥協之策。
上述觸媒配方觀察到的另一問題是,含銥觸媒塗料在啟動階段和起初操作數小時當中,有把敏感量的銥瀝濾入電解質內之傾向。此點似乎在擬議塗料之一部份氧化銥雖具有電化學活性,存在於對電解質腐蝕較輕的相內。此現象有某種程度也發生在釕等其他貴金屬觸媒,可藉重疊多孔性保護層,而移至觸媒塗料,例如鉭或錫氧化物為基本。惟此等外部保護層,效果有限,會增加電極之操作電壓。
由此可證亟需提供釋氧用陽極,其特徵為增進操作使用期限,並在起初操作數小時內,減少貴金屬釋出,且還能展現對釋氧反應有很高度之觸媒活性。
本發明各種要旨規範於附帶申請專利範圍。
本發明之一要旨,係關於一種電極,適於在電解過程中釋氧,包括閥金屬基材,例如由鈦或鈦合金製成,設有塗料,包括至少一保護層,由氧化物之混合物組成,其組成物就金屬計,包括89-97%錫、2-10%選自鉍、銻和鉭之一種或多種摻雜元素之合計,和1-9%釕。由本發明人進行之實驗顯示,鉍比較其他摻雜元素可得最佳結果,但本發明亦可用銻和鉭成功實施。所述保護層無顯著觸媒活性,但適於與含貴金屬氧化物的觸媒層組合,後者構成活性成份,以降低釋氧反應之過電位。在一具體例中,塗料可包括保護性層,介置於基材和觸媒層之間,對防止基材腐蝕特別有效。在一具體例中,塗料可包括外在於觸媒層之保護層,對於在電極啟用階段和初期操作數小時當中,防止貴金屬從觸媒層釋放,特別有效。在又一具體例中,可兼有介置於基材和觸媒層間之保護層,和外在於觸媒層之保護層。在一具體例中,塗料之各保護層厚度無1-5μm。事實上,實驗證明上述保護層典型之導電係數和孔隙性特徵,得以操作如此高的厚度,對電極電位尚無不良效果,對操作壽命則實質有利。
在一具體例中,塗料觸媒層之組成物,就金屬計,包括 40-46%鉑族金屬、7-13%選自鉍、鉭、鈮或銻之一或以上摻雜元素,和47-53%錫,厚度2.5-5μm。發現此觸媒層配方,得以開發出上述保護層優點至更大程度,尤其是鉑族金屬選自銥,以及銥和釕之混合物,而摻雜元素選自鉍。在一具體例中,選用之鉑族金屬為銥和釕之混合物,其中Ir:Ru重量比為60:40至40:60。
本發明另一要旨,係關於從水溶液陰極電沉積金屬之製法,例如銅電解提煉法,其中相對應陽極反應,係在電極表面進行釋氧,已如前述。
下述實施例旨在證明本發明特別具體例,其實用性可在申請專利範圍之數值大加驗證。技術專家當知下述實施例內揭示之組成物和技術,代表本發明人等所發現在實施本發明時,功用良好之組成物和技術;惟技術專家鑑於本案內容,均知所揭示特殊具體例可加以變化,仍然可得不悖本發明範圍之相同或相似結果。
下述實施例引用之所有樣本,是從1級鈦網開始製造,尺寸為200mm×200mm×1mm,在超音波浴內用丙酮脫脂10分鐘,先經金剛砂的噴砂作業,直到表面粗糙度Rz為25-35μm,在570℃退火2小時,最後以22%重量HCl在沸點蝕刻30分鐘,檢查結果失重介於180-250g/m2間。
各層塗料均應用刷塗。
實施例1
按照WO2005014885所述程序,製備羥基乙醯氯化錫複合物(SnHAC)之1.65M溶液。
按照WO2010055065所述程序個別製備羥基乙醯氯化銥和釕複合物(IrHAC和RuHAC)之二0.9M溶液。製備含鉍50g/l之溶液,在含60ml 10%重量HCl之燒杯內,在室溫攪拌下溶入7.54克BiCl3,以10%重量HCl補充容量至100ml,觀察已得透明溶液時,表示溶解完成。
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分6次施用於預處理鈦網之樣本,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得內部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度4μm,Sn比載重約9g/m2
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第二個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分13次施用於先前獲得的內部保護層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,厚度4.5μm,Ir比載重約10g/m2
此電極標示為"EX1"。
比較例1
對鈦網樣本施加一保護層,以鈦和鉭的氧化物為基本,呈80:20莫耳比,就金屬計之總載重為1.3-1.6g/m2(相當於就氧化物計為1.88-2.32g/m2)。施加保護層是塗四次先質溶液(是在TiCl4水溶液添加TaCl5水溶液,用HCl酸化而得),隨後在515℃熱分解。
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。攪拌延長5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液對先前所得保護層刷塗14次,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,厚度4.5μm,Ir比載重約10g/m2
此電極標示為"CE1"。
比較例2
對鈦網樣本施加一保護層,以鈦和鉭的氧化物為基本,呈80:20莫耳比,就金屬計之總載重為7g/m2(相當於就氧化物計為10.15g/m2)。施加保護層是塗四次先質溶液(是在TiCl4水溶液添加TaCl5水溶液,用HCl酸化而得),隨後在515℃熱分解。
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。攪拌延長5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液對先前所得保護層刷塗14次,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,厚度4.5μm,Ir比載重約10g/m2
此電極標示為"CE2"。
實施例2
從上述實施例和比較例電極,切出20mm×50mm面積之若干試片,在釋氧下,於50℃之150g/l H2SO4水溶液內,檢測其陽極電位,按照已知技術,以Luggin毛細管和鉑探針測量。表1所列資料(CISEP)表示在電流密度500A/m2檢測之電位值。表1亦顯示在150g/l H2SO4水溶液、電流密度30kA/m2和溫度60℃,以加速使用壽命測試(ALT)顯示之使用壽命。
此等測試結果顯示如此提供本發明內部保護層,較之鈦和鉭的氧化物之混合所組成先前技術內部保護層,可大為增加使用期限,附帶改進釋氧電位。
改變摻雜元件性質和保護層組成份濃度,可得相似結果,如所附申請專利範圍規範。
實施例3
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。延長攪拌5分鐘, 再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分6次施用於預處理鈦網之樣本,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得內部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度4μm,Sn比載重約9g/m2
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第二個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分13次施用於先前獲得的內部保護層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,厚度4.5μm,Ir比載重約10g/m2
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第三個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分4次施用於先前獲得之諸層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得內部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度3μm,Sn比載重約6g/m2
此電極標示為"EX3"。
實施例4
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分6次施用於預處理鈦網之樣本,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得內部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度4μm,Sn比載重約9g/m2
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第二個燒杯內。延長攪拌 5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分13次施用於先前獲得的內部保護層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,Ir比載重約10g/m2
取5ml的1.65M SnHAC溶液和15ml的10%重量乙酸,攪拌下添加於第三燒杯。
溶液利用刷塗,分6次施用於先前獲得之諸層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得外部保護層,Sn比載重約9g/m2
此電極標示為"EX4"。
實施例5
對鈦網樣本施加一保護層,以鈦和鉭的氧化物為基本,呈80:20莫耳比,就金屬計之總載重為1.3-1.6g/m2(相當於就氧化物計為1.88-2.32g/m2)。施加保護層是塗四次先質溶液(是在TiCl4水溶液添加TaCl5水溶液,用HCl酸化而得),隨後在515℃熱分解。
取10.15ml的1.65M SnHAC溶液、10ml的0.9M IrHAC溶液,和7.44ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。攪拌延長5分鐘,再添加20ml的10%重量乙酸。
溶液對先前所得保護層刷塗14次,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,Ir比載重約10g/m2
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第二個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分6次施用於先前所得觸媒層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得外部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,Sn比載重約9g/m2
此電極標示為"EX5"。
實施例6
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分6次施用於預處理鈦網之樣本,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得內部保護層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度4μm,Sn比載重約9g/m2
取5.15ml的1.65M SnHAC溶液、2.5ml的0.9M IrHAC溶液、4.75ml的0.9M RuHAC,和3.71ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第二個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加21.7ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分9次施用於先前獲得的內部保護層,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得觸媒層,Ir:Sn:Bi重量比為42:49:9,厚度3.5μm,Ir+Ru比載重約7g/m2
取5.11ml的1.65M SnHAC溶液、0.23ml的9M RuHAC溶液,和0.85ml的50g/l Bi溶液,在攪拌下加入第三個燒杯內。延長攪拌5分鐘,再添加18.75ml的10%重量乙酸。
溶液利用刷塗,分4次施用於預處理鈦網之樣本,每次塗後,在60℃乾燥10分鐘,隨後在520℃熱分解10分鐘。
以此方式,獲得外層,Sn:Bi:Ru重量比為94:4:2,厚度3μm,Sn比載重約6g/m2
此電極標示為"EX6"。
實施例7
從上述實施例電極,切出20mm×50mm面積之若干試片,在釋氧下,於50℃之150g/l H2SO4水溶液內,檢測其陽極電位,按照已知技術,以Luggin毛細管和鉑探針測量。表2所列資料(CISEP)表示在電流密度500A/m2檢測之電位值。表2亦顯示在150g/l H2SO4水溶液、電流密度30kA/m2和溫度60℃,以加速使用壽命測試(ALT)顯示之使用壽命。
結果顯示含氧化錫的外部保護層,可增加電極之操作使用壽命,以增加其陽極過電位為代價。然而,若含氧化物之外部保護層為本發明保獲層,則更能增進操作使用壽命增加,可能原因是在啟用和操作起初數小時內,銥穩定,而陽極電位又保持低。
改變摻雜元件性質和保護層組成份濃度,可得相似結果,如附帶申請專利範圍所規範。
前述無意限制本發明,可按不同具體例使用,不違其範圍,其程度純以所附申請專利範圍界定。
在本案全文說明書和申請專利範圍中,「包括」等字樣無意排除其他元素、組成份或額外製程步驟存在。
本說明書涵蓋提到的文件、法律、材料、裝置、論文等,其目的純粹提供本發明脈絡,並非擬議或表示任何或全部此等物件,為形成先前技術基本之部份,或是本發明相關領域內,於本案各項申請專利範圍優先權日以前之一般常識。

Claims (9)

  1. 一種電解過程中適於釋氧用之電極,包括閥金屬基材,具有塗料,該塗料包括至少一保護層,由氧化物之混合物組成,以金屬計,重量組成份為含89-97%錫、2-10%選自包含鉍、銻和鉭群組之至少一種摻雜元素,和1-9%釕者。
  2. 如申請專利範圍第1項之電極,其中該至少一保護層是由氧化物之混合物組成,以金屬計,含89-97%錫、2-10%鉍和9.1%釕者。
  3. 如前述申請專利範圍任一項之電極,其中該至少一保護層之厚度為1至5μm者。
  4. 如前述申請專利範圍任一項之電極,其中該塗料包括觸媒層,與該保護層接觸,該觸媒層包括氧化物之混合物,以金屬計,重量組成份含40-46%鉑族金屬、7-13%選自鉍、銻、鈮和鉭之至少一種元素,和47-53%錫,該觸媒層之厚度為2.5至5μm者。
  5. 如申請專利範圍第4項之電極,其中該觸媒層包括氧化物之混合物,以金屬計,重量組成物含40-46%銥、7-13%鉍和47-53%錫,該觸媒層之厚度為2.5至5μm者。
  6. 如申請專利範圍第4項之電極,其中該觸媒層包括氧化物之混合物,以金屬計,重量組成物含47-53%錫、7-13%鉍、40-46%釕和銥合計,該觸媒層之厚度為2.5至5μm者。
  7. 如申請專利範圍第6項之電極,其中在該銥和釕合計內,以金屬計,銥對釕之重量比為介於60:40和40:60間之範圍者。
  8. 如申請專利範圍第4至7項之任一項電極,包括至少二該保護層,該保護層係介置於該至少二保護層之間者。
  9. 一種從水溶液陰極電沉積金屬之製法,包括在申請專利範圍第1至8項之任何一項電極表面,陽極釋氧者。
TW105119487A 2015-06-23 2016-06-22 電解過程中適於釋氧用之電極,以及從水溶液陰極電沉積金屬之製法 TWI730967B (zh)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015222472A1 (de) * 2015-11-13 2017-05-18 Brose Fahrzeugteile Gmbh & Co. Kommanditgesellschaft, Bamberg Fensterheberbaugruppe mit aneinander clipsbaren Führungselementen für ein flächenbündiges Scheibenkonzept und Montageverfahren
US20210198792A1 (en) * 2018-08-22 2021-07-01 The University Of North Carolina At Greensboro Compositions and methods for enhancing electrocatalytic efficiencies
JP7119778B2 (ja) * 2018-08-30 2022-08-17 株式会社大阪ソーダ 電解めっき用の電極
CN110791776B (zh) * 2019-10-21 2022-02-25 南通大学 一种亚铁环境下质子腐蚀辅助的电解水阳极制备方法
JP2022020222A (ja) * 2020-07-20 2022-02-01 デノラ・ペルメレック株式会社 酸素発生用電極
US20220195612A1 (en) * 2020-12-22 2022-06-23 De Nora Tech, Llc Electrolyser for electrochlorination processes and a self-cleaning electrochlorination system
JP7168729B1 (ja) * 2021-07-12 2022-11-09 デノラ・ペルメレック株式会社 工業用電解プロセス用電極
CN114592218A (zh) * 2022-02-25 2022-06-07 广州鸿葳科技股份有限公司 一种钛基阳极及其制备方法和应用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3875043A (en) 1973-04-19 1975-04-01 Electronor Corp Electrodes with multicomponent coatings
JPS55500123A (zh) * 1978-03-28 1980-03-06
CN1011989B (zh) * 1984-01-31 1991-03-13 东电化股份有限公司 电解用电极
JPS60184691A (ja) * 1984-03-02 1985-09-20 Permelec Electrode Ltd 耐久性を有する電極及びその製造方法
JPS60184690A (ja) * 1984-03-02 1985-09-20 Permelec Electrode Ltd 耐久性を有する電極及びその製造方法
JPH06200391A (ja) * 1992-12-28 1994-07-19 Yoshizawa L Ee Kk 電解用電極
ITMI20031543A1 (it) * 2003-07-28 2005-01-29 De Nora Elettrodi Spa Elettrodo per processi elettrochimici e metodo per il suo ottenimento
JP2006322056A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Furuya Kinzoku:Kk 電解用電極及びその製造方法
JP4972991B2 (ja) * 2006-05-09 2012-07-11 アタカ大機株式会社 酸素発生用電極
IT1391767B1 (it) * 2008-11-12 2012-01-27 Industrie De Nora Spa Elettrodo per cella elettrolitica
ITMI20110089A1 (it) * 2011-01-26 2012-07-27 Industrie De Nora Spa Elettrodo per evoluzione di ossigeno in processi elettrochimici industriali
ITMI20111132A1 (it) * 2011-06-22 2012-12-23 Industrie De Nora Spa Anodo per evoluzione di ossigeno

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