TW201635613A - 具有rgb畫素區的有機電致發光裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明關於一種具有RGB畫素區的有機電致發光顯示器裝置,其紅光發光層和綠光發光層與第一有機功能層之間設置有光學補償層,該光學補償層是由第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料製備而成,該第一電洞傳輸材料的三線態能級□2.48eV,HOMO能級□-5.5eV,該第二電洞傳輸材料的HOMO能級>-5.5eV,且該第一電洞傳輸材料和該第二電洞傳輸材料的HOMO能級差□0.2eV,其製備製程簡單,能夠明顯降低發光裝置的功耗,提高發光效率。
Description
本發明關於有機電致發光裝置技術領域,特別是一種具有光學補償層的有機電致發光裝置。
有機電致發光裝置(OLED)的發光層主要採用全螢光材料、全磷光材料或螢光材料和磷光材料混合的方式進行製作。發光二極體(LED)顯示器裝置由紅、綠、藍三種畫素組成,當採用頂發光OLED裝置結構時,由於三種畫素的發光波長不同,發光層的厚度會存在一定的差距,通常利用一層光學補償層來改變各發光層的厚度,該厚度最厚要做到100nm以上,因此該層需要具有很好的電荷遷移率,以保證裝置具有低電壓和高效率的特徵。
現有光學補償層採用的材料的三線態能級較高,但通常遷移率較低,因此無法做厚,如果作為光學補償層,驅動電壓較高,而遷移率較高的材料,但三線態能級較低,會影響綠光裝置的效率。目前,所用的光學補償層位於電洞注入層(Hole Injection Layer;HIL)和電洞傳輸層(Hole Transport Layer;HTL)之間,採用高電洞遷移率(NPB的遷移率的1.5-2倍)的材料作為光學補償層。但是這種設置方式雖然在一定程度上改善了有機層的厚度增加且不影響有機發光裝置的驅動電壓,並未考慮不同的發光材料的特殊
電學特性要求,未能有效的提升有機發光裝置的效率,進而降低顯示器裝置的功耗。
三星公司在CN201210395191.7揭露一種電致發光裝置100,如圖1所示,其按下列順序依次包含基底110、第一電極120、電洞注入層130、電洞傳輸層140、緩衝層150、發光層160、電子傳輸層170、電子注入層180和第二電極190。該電洞傳輸層140包括以下列順序依次沉積的第一電荷產生層141、第一混合層142、第二電荷產生層143和第二混合層144。第一電荷產生層141的材料,可以使用包括第一化合物和第二化合物且摻入第一電荷產生材料的混合物;第一混合層142的材料,可以使用包含第一化合物和第二化合物的混合物;第二電荷產生層143的材料,可以使用包含第三化合物和第四化合物且摻入第二電荷產生材料的混合物;成第二混合層144的材料,在這方面,第三化合物相對於第四化合物的重量比可以為6:4至8:2。該專利中電荷產生層無法提供有效的激子阻擋作用,因此需要使用緩衝層。
CN200510077967.0揭露一種電致發光裝置,如圖2所示,該裝置是在綠光畫素區域200和第一電洞傳輸層18-1之間設置第二電洞傳輸層18-2,紅光畫素區域300和第一電洞傳輸層18-1之間設置第二電洞傳輸層18-2和第三電洞傳輸層18-3。第一電洞傳輸層18-1、第二電洞傳輸層18-2和第三電洞傳輸層18-3可以分別採用不同的材料製備,但是每層的電洞傳輸層採用同一種材料製備。儘管該專利採
用了混合結構的電洞傳輸層來提高發光效率,這種設置方式雖然在一定程度上改善了發光層的厚度,但是適用於綠光光學補償層的HTL材料要求具有較高的三線態能級T1且HOMO能級-5.5eV,這類材料的遷移率普遍較低,無法做厚,因此裝置的驅動電壓較高。
為此,本發明所要解決的技術問題在於先前技術中紅光和綠光光學補償層採用的材料存在遷移率低或激子阻擋作用差的問題,進而提供一種有機電致發光裝置,其光學補償層採用兩種能級差不同的電洞傳輸材料製備,能夠明顯降低發光裝置的功耗,提高發光效率。
本發明還提供一種上述有機電致發光裝置的製備方法。
為解決上述技術問題,本發明採用如下技術方案。
一種具有RGB(red,green,blue,紅、綠、藍)畫素區的有機電致發光顯示器裝置,包括基板、以及依次形成在該基板上的第一電極層、複數層有機層和第二電極層,該複數層有機層包括在第一電極層上設置的第一有機功能層、發光材料層和第二有機功能層,該發光材料層包括紅光發光層、綠光發光層和藍光發光層,該紅光發光層和該綠光發光層與該第一有機功能層之間分別設置有光學補償層,該光學補償層是由第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料製備而成,該第一電洞傳輸材料的三線態能級2.48eV,HOMO能級-5.5eV,該第二電洞傳輸材料的HOMO能級
>-5.5eV,且該第一電洞傳輸材料和該第二電洞傳輸材料的HOMO能級差0.2eV。
該光學補償層包括設置在該紅光發光層與該第一有機功能層之間的紅光光學補償層和設置在該綠光發光層與該第一有機功能層之間的綠光光學補償層。
該紅光光學補償層中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於1:99-99:1。
該綠光光學補償層中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於5:95-50:50,較佳10:90-30:70。
該第一電洞傳輸材料為式(1)或式(2)所示結構:
式(1)中,A和B分別獨立選自苯基、萘基或苯胺基;R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R15、R16、R17和R18為相同或不同,且分別獨立選自氫元素、鹵族元素、CN、NO2、氨基、C6-C30亞稠環芳基、C6-C30的亞稠雜環芳基、C6-C20的烷基或C6-C30的醇基;R9、R10、R11和R12為相同或不同,且分別獨立選自C6-C30的芳基;式(2)中,A1和A2分別獨立選自C6-C30芳基或C6-C30雜環芳基,R1’
為氫、烷基、烷氧基或鹽基;並且,式(2)同時滿足以下條件:A1或A2至少一個具有縮環構造。
第一電洞傳輸材料為式(HTL1-1)至式(HTL1-10)所示結構:
第二電洞傳輸材料為式(3)、式(4)、式(5)或式(6)所示結構的茚并芴衍生物:
式中,A和B分別獨立選自苯基、萘基或苯胺基;R9、R10、R11和R12偽相同或不同,且分別獨立選自C6-C30
的芳基;R13為C1-C6烷基或羥基,較佳地,R13為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、正戊基或正己基。
第二電洞傳輸材料為式(HTL2-1)至式(HTL2-18)所示結構:
本發明的上述技術方案相比先前技術具有以下優點。
本發明有機電致發光顯示器裝置將光學補償層設置在發光層和電洞傳輸層之間,採用此種結構的光學補償層在蒸鍍過程中,紅光光學補償層和紅光發光層採用同一組遮罩板(mask)製備,綠光光學補償層和綠光發光層採用同一組遮罩板製備,能夠避免遮罩板(Mask)的重複對位,在
一定程度上提高了製程精度。這是由於遮罩板的每次對位元都會有一定誤差,因此對位次數越少,誤差就越少,產品良率就高。
此外,本發明的發明人創造性的研究大膽採用三線態能級高的材料與遷移率高的材料組合作為本發明的光學補償層,且要求HOMO能級差0.2eV,可以使光學補償層根據需要製備不同的厚度,從而可以使其不影響發光效率又不影響裝置的驅動電壓。如果兩者的HOMO能級差過大,則第一電洞傳輸材料無法起到阻擋綠光激子的作用。
1‧‧‧第一電極層
2‧‧‧電洞注入層
3‧‧‧電洞傳輸層
4‧‧‧紅光發光層
5‧‧‧綠光發光層
6‧‧‧藍光發光層
7‧‧‧電子傳輸層
8‧‧‧第二電極層
9‧‧‧光學耦合層
10‧‧‧紅光光學補償層
11‧‧‧綠光光學補償層
12‧‧‧第一有機功能層
13‧‧‧第二有機功能層
14‧‧‧綠光發光區
15‧‧‧藍光發光區
18-1‧‧‧第一電洞傳輸層
18-2‧‧‧第二電洞傳輸層
18-3‧‧‧第三電洞傳輸層
100‧‧‧電致發光裝置
110‧‧‧基底
120‧‧‧第一電極
130‧‧‧電洞注入層
140‧‧‧電洞傳輸層
141‧‧‧第一電荷產生層
142‧‧‧第一混合層
143‧‧‧第二電荷產生層
144‧‧‧第二混合層
150‧‧‧緩衝層
160‧‧‧發光層
170‧‧‧電子傳輸層
180‧‧‧電子注入層
190‧‧‧第二電極
200‧‧‧綠光畫素區域
300‧‧‧紅光畫素區域
B‧‧‧藍
G‧‧‧綠
R‧‧‧紅
為了使本發明的內容更容易被清楚地理解,下面根據本發明的具體實施例並結合圖式,對本發明作進一步詳細的說明。
圖1為先前技術的發光裝置結構示意圖。
圖2為另一先前技術的發光裝置結構示意圖。
圖3為本發明發光裝置的結構示意圖。
為了使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚,下面將結合圖式對本發明的實施方式作進一步地詳細描述。
本發明可以以許多不同的形式實施,而不應該被理解為限於在此闡述的實施例。相反,提供這些實施例,使得本揭露將是徹底和完整的,並且將把本發明的構思充分傳達給本領域技術人員,本發明將僅由申請專利範圍來限
定。在圖式中,為了清晰起見,會誇大層和區域的尺寸和相對尺寸。應當理解的是,當元件例如層、區域或基板被稱作“形成在”或“設置在”另一元件“上”時,該元件可以直接設置在該另一元件上,或者也可以存在中間元件。相反,當元件被稱作“直接形成在”或“直接設置在”另一元件上時,不存在中間元件。
如圖3所示,是本發明具有RGB畫素區的有機電致發光裝置的結構示意圖。
具有RGB畫素區的有機電致發光裝置包括基板(圖中未示出)、以及依次形成在該基板上的第一電極層1(陽極層)、複數層有機層、第二電極層8(陰極層)和光學耦合層9,有機層包括在第一電極層1上設置的第一有機功能層12、發光材料層和第二有機功能層13,該發光材料層包括厚度分別為HR、HG、HB的紅光發光層4、綠光發光層5和藍光發光層6,HB>HG>HR,紅光發光層4和綠光發光層5與第一有機功能層12之間設置有光學補償層。光學補償層是由第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料製備而成,第一電洞傳輸材料的三線態能級2.48eV,HOMO能級-5.5eV,第二電洞傳輸材料的HOMO能級>-5.5eV,且第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的HOMO能級差0.2eV。
光學補償層包括設置在紅光發光層4與第一有機功能層12之間的紅光光學補償層10和設置在綠光發光層5與第一有機功能層12之間的綠光光學補償層11。紅光光
學補償層10中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於1:99-99:1,較佳10:90-30:70。綠光光學補償層11中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於5:95-50:50,較佳10:90-30:70。
第一電洞傳輸材料為式(1)或式(2)所示結構:
式(1)中,A和B分別獨立選自苯基、萘基或苯胺基;R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R15、R16、R17和R18為相同或不同,且分別獨立選自氫元素、鹵族元素、CN、NO2、氨基、C6-C30亞稠環芳基、C6-C30的亞稠雜環芳基、C6-C20的烷基或C6-C30的醇基;R9、R10、R11和R12為相同或不同,且分別獨立選自C6-C30的芳基;式(2)中,A1和A2分別獨立選自C6-C30芳基或C6-C30雜環芳基,R1’為氫、烷基、烷氧基或鹽基;並且,式(2)同時滿足以下條件:A1或A2至少一個具有縮環構造。
第一電洞傳輸材料為式(HTL1-1)至式(HTL1-10)所示結構:
第二電洞傳輸材料為式(3)、式(4)、式(5)或式(6)所示結構的茚并芴衍生物:
式中,A和B分別獨立選自苯基、萘基或苯胺基;R9、R10、R11和R12為相同或不同,且分別獨立選自C6-C30的芳基;R13為C1-C6烷基或羥基,較佳地,R13為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、正戊基或正己基。
第二電洞傳輸材料為式(HTL2-1)至式(HTL2-18)所示結構:
該基板可選擇玻璃基片或是柔性基片。
該第一電極層1(陽極層)可以採用無機材料或有機導電聚合物,無機材料一般為氧化銦錫、氧化鋅、氧化銦鋅等金屬氧化物或金、銅、銀等功函數較高的金屬,最佳化的選擇為氧化銦錫(ITO),有機導電聚合物較佳為聚噻吩/聚乙烯基苯磺酸鈉(以下簡稱PEDOT:PSS)、聚苯胺(以下簡稱PANI)中的一種材料。
該第二電極層8(陰極層),一般採用鋰、鎂、鈣、鍶、鋁、銦等功函數較低的金屬、金屬化合物或合金,本發明較佳為電子傳輸層7摻雜鋰(Li)、鉀(K)、銫(Cs)等活潑金屬,而該活潑金屬較佳採用蒸鍍鹼金屬化合物的方法獲
得。
電洞注入層2(HIL)的基質材料較佳為HAT或者為4,4-(N-3-甲基苯基-N-苯基-氨基)-三苯基胺(m-MTDATA)、4,4TDAT三(N-2-萘基-N-苯基-氨基)-三苯基胺(2-TNATA)。
電洞傳輸層3(HTL)的基質材料可以採用芳胺類和枝聚物族類低分子材料,較佳為N,N二-(1-萘基)-N,N二苯基-1,1’基聯苯基-4,4’基二胺(NPB)。
電子傳輸層7材料選自Alq3、Bphen、BAlq,也可選自如下材料。
藍光發光層6一般採用的材料為,主體材料選自ADN及其衍生物,染料選自式(BD-1)所示或式(BD-2)所示:
紅光發光層4一般採用的材料為:Ir(piq)3、Ir(piq)2(acac)、Btp2Ir(acac)、Ir(MDQ)2(acac)、Ir(DBQ)2(acac)、Ir(fbi)2(acac)、Ir(2-phq)3、Ir(2-phq)2(acac)、Ir(bt)2(acac)或PtOEP等。
綠光發光層5一般採用的材料為:Ir(ppy)3、Ir(ppy)2(acac)等。
本發明主要化學物質的結構式說明如下。
下面將給出複數個實施例,並結合圖式具體解釋本發明的技術方案。應當注意到,下面的實施例僅用於幫助理
解發明,而不是對本發明的限制。
實施例1-14中有機電致發光顯示器裝置結構採用的結構如下,其不同之處在於紅光光學補償層10和綠光光學補償層11的材料不同。
藍光發光區15(圖3中最左虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(100nm)/NPB(20nm)/ADN(30nm):BD-1/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
綠光發光區14(圖3中中間虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(100nm)/NPB(20nm)/HTL1:HTL2(60nm)/CBP(30nm):Ir(ppy)3/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
紅光發光區13(圖3中最右虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(100nm)/NPB(20nm)/HTL1:HTL2(110nm)/CBP(30nm):Ir(mdq)2(acac)/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
實施例1
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-1所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-1所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-1和第二電洞傳輸材料HTL2-1質量比為50:50。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-1和第二電
洞傳輸材料HTL2-1質量比為50:50。
實施例2
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-2所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-2所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-2和第二電洞傳輸材料HTL2-2質量比為1:99。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-2和第二電洞傳輸材料HTL2-2質量比為5:50。
實施例3
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-3所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-3所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-3和第二電洞傳輸材料HTL2-3質量比為99:1。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-3和第二電洞傳輸材料HTL2-3質量比為95:5。
實施例4
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-4所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-18所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-4和第二電洞傳輸材料HTL2-18質量比為90:10。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-4和第二電洞傳輸材料HTL2-18質量比為5:95。
實施例5
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-5所示結構,第
二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-16所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-5和第二電洞傳輸材料HTL2-16質量比為70:30。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-5和第二電洞傳輸材料HTL2-16質量比為15:85。
實施例6
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-6所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-15所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-6和第二電洞傳輸材料HTL2-15質量比為40:60。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-6和第二電洞傳輸材料HTL2-15質量比為40:60。
實施例7
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-7所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-14所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-7和第二電洞傳輸材料HTL2-14質量比為50:50。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-7和第二電洞傳輸材料HTL2-14質量比為30:70。
實施例8
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-8所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-13所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-8和第二電洞傳輸材料HTL2-13質量比為35:65。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-8和第二電洞傳輸材料HTL2-13質量比為25:75。
實施例9
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-9所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-12所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-9和第二電洞傳輸材料HTL2-12質量比為90:10。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-9和第二電洞傳輸材料HTL2-12質量比為45:55。
實施例10
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-10所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-11、HTL2-6所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-10和第二電洞傳輸材料HTL2-11質量比為45:55。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-10和第二電洞傳輸材料HTL2-6質量比為10:90。
實施例11
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-1所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-10所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-1和第二電洞傳輸材料HTL2-10質量比為95:5。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-6和第二電洞傳輸材料HTL2-10質量比為5:95。
實施例12
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-3所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-9、HTL2-17所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-3和第二電洞傳輸材料HTL2-17質量比為55:45。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-3和第二電洞傳輸材料HTL2-9質量比為20:80。
實施例13
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-5所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-8、HTL2-4所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-5和第二電洞傳輸材料HTL2-8質量比為55:45。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-5和第二電洞傳輸材料HTL2-4質量比為20:80。
實施例14
第一電洞傳輸材料為HTL1式HTL1-8所示結構,第二電洞傳輸材料為HTL2式HTL2-5、HTL2-7所示結構。
紅光補償層10:第一電洞傳輸材料HTL1-8和第二電洞傳輸材料HTL2-7質量比為30:70。
綠光補償層11:第一電洞傳輸材料HTL1-8和第二電洞傳輸材料HTL2-5質量比為40:60。
比較例:
藍光發光區15(圖3中最左虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(100nm)/NPB(20nm)/ADN(
30nm):BD-1/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
綠光發光區14(圖3中中間虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(160nm)/NPB(20nm)/CBP(30nm):Ir(ppy)3/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
紅光發光區13(圖3中最右虛線框內):ITO/HAT(10nm)/MTDATA(210nm)/NPB(20nm)/CBP(30nm):Ir(mdq)2(acac)/ETL-1(35nm)/Mg:Ag(20nm)/MTDATA(50nm)。
裝置的性能測試如下。
測試結果顯示,本發明的光學補償層採用高能級的電洞傳輸材料和高遷移率的電洞傳輸材料組合,能夠顯著提高紅光和綠光發光層的發光效率。
顯然,上述實施例僅僅是為清楚地說明所作的舉例,而並非對實施方式的限定。對於所屬技術領域中具有通常知識者來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這裡無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處於本發明創造的保護範圍之中。
1‧‧‧第一電極層
2‧‧‧電洞注入層
3‧‧‧電洞傳輸層
4‧‧‧紅光發光層
5‧‧‧綠光發光層
6‧‧‧藍光發光層
7‧‧‧電子傳輸層
8‧‧‧第二電極層
9‧‧‧光學耦合層
10‧‧‧紅光光學補償層
11‧‧‧綠光光學補償層
12‧‧‧第一有機功能層
13‧‧‧第二有機功能層
14‧‧‧綠光發光區
15‧‧‧藍光發光區
Claims (10)
- 一種具有RGB畫素區的有機電致發光顯示器裝置,包括基板、以及依次形成在該基板上的第一電極層(1)、複數層有機層和第二電極層(8),該複數層有機層包括在該第一電極層(1)上設置的第一有機功能層(12)、發光材料層和第二有機功能層(13),該發光材料層包括紅光發光層(4)、綠光發光層(5)和藍光發光層(6);該紅光發光層(4)和綠光發光層(5)與該第一有機功能層(12)之間分別設置有光學補償層,該光學補償層是由第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料製備而成,該第一電洞傳輸材料的三線態能級2.48eV,HOMO能級-5.5eV,該第二電洞傳輸材料的HOMO能級>-5.5eV,且該第一電洞傳輸材料和該第二電洞傳輸材料的HOMO能級差0.2eV。
- 如請求項1所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光顯示器裝置,其中該光學補償層包括設置在該紅光發光層(4)與該第一有機功能層(12)之間的紅光光學補償層(10)和設置在該綠光發光層(5)與該第一有機功能層(12)之間的綠光光學補償層(11)。
- 如請求項2所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該紅光光學補償層(10)中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於1:99-99:1。
- 如請求項2所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該綠光光學補償層(11)中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於5:95-50:50。
- 如請求項4所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該綠光光學補償層(11)中的第一電洞傳輸材料和第二電洞傳輸材料的質量比介於10:90-30:70。
- 如請求項1至5中任一項所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該第一電洞傳輸材料為式(1)或式(2)所示結構:
- 如請求項6所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該第一電洞傳輸材料為式(HTL1-1)至式(HTL1-10)所示結構:
- 如請求項1至5中任一項所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該第二電洞傳輸材料為式(3)、式(4)、式(5)或式(6)所示結構的茚并芴衍生物:
- 如請求項8所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中R13為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、正戊基或正己基。
- 如請求項8所記載之具有RGB畫素區的有機電致發光裝置,其中該第二電洞傳輸材料為式(HTL2-1)至式(HTL2-18)所示結構:
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