TW201634993A - 液晶顯示元件及其製造方法、以及液晶配向劑 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種液晶配向層的厚度偏差小且液晶配向性良好的液晶顯示元件及其製造方法。液晶顯示元件包括:液晶層、以夾持液晶層的方式對向配置的一對基板即第1基板及第2基板、設置於第1基板的液晶層側的像素電極、與像素電極對向地設置於第2基板的液晶層側的對向電極、以及設置於像素電極及對向電極的各自的液晶層側的液晶配向層、液晶配向層。在液晶顯示元件中,像素電極及對向電極的至少一者在液晶層側的面上具有凹凸結構。設置於具有凹凸結構的電極上的液晶配向層是由含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]的液晶配向劑形成。
Description
本發明涉及一種液晶顯示元件及其製造方法、以及液晶配向劑,尤其涉及一種包括具有凹凸結構的電極的液晶顯示元件及其製造方法、以及將具有凹凸結構的電極作為膜形成對象的液晶配向劑。
液晶顯示元件根據液晶層中的液晶分子的初期的配向狀態及施加了電壓時的動作等而被分類為幾種模式(型)。例如,除了作為扭轉向列(Twisted Nematic,TN)型或超扭轉向列(Super Twisted Nematic,STN)型而已知的液晶顯示元件以外,還已知有未施加電壓時的液晶層的液晶分子在相對於基板面垂直的方向上進行配向的垂直配向型的液晶顯示元件等。
在液晶顯示元件中,為了在電壓響應時控制液晶分子的倒塌方向,有時在電極設置缺口或開口部等狹縫。然而,在設置有狹縫的情況下,難以對狹縫部分的液晶層施加充分的電壓,並且難以在狹縫周邊引起液晶分子的配向變化。其結果,有時在電極的狹縫部分產生電壓施加時的透過率的降低,從而使液晶顯示元件的顯示品質降低。
因此,以前揭示有在液晶顯示元件所具有的像素電極及對向電極的一者或兩者的液晶層側的面上形成凹凸結構(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。這些專利文獻中揭示有藉由在電極面設置凹凸結構而在電壓施加時使液晶層產生因電極的凹面及凸面間的高低差引起的電場應變,由此不設置狹縫地賦予預傾角(pretilt angle)。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-232736號公報 [專利文獻2]日本專利特開2011-221400號公報
[發明要解決的課題]
在包括具有凹凸結構的電極的液晶顯示元件中,需要在凹凸形狀的電極面上形成液晶配向層(液晶配向膜)。在具有此種複雜結構的電極面上形成液晶配向層的情況下,凹部與凸部的液晶配向層的厚度差容易變大。另外,若液晶配向層的厚度差大,則利用液晶配向層的液晶分子的配向控制性容易降低。
本發明是鑒於所述課題而成,目的之一在於提供一種液晶配向層的厚度偏差小且液晶配向性良好的液晶顯示元件。 [解決課題的技術手段]
本發明者為了達成如所述般的現有技術的課題而進行了努力研究,發現藉由使用特定的液晶配向劑形成液晶配向層可解決所述課題,從而完成了本發明。具體而言,根據本發明提供以下的液晶顯示元件及其製造方法、以及液晶配向劑。
作為本發明的一實施方式,提供一種液晶顯示元件,其包括:液晶層、以夾持所述液晶層的方式對向配置的一對基板即第1基板及第2基板、設置於所述第1基板的所述液晶層側的像素電極、與所述像素電極對向地設置於所述第2基板的所述液晶層側的對向電極、以及設置於所述像素電極及所述對向電極的各自的所述液晶層側的液晶配向層,並且所述像素電極及所述對向電極的至少一者在所述液晶層側的面上具有凹凸結構,設置於具有所述凹凸結構的電極上的所述液晶配向層是由含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]的液晶配向劑形成。
作為本發明的另一實施方式,提供一種液晶顯示元件的製造方法,其包括:將設置有像素電極的第1基板及設置有對向電極的第2基板設為一對基板,在所述一對基板的各基板的電極形成面上塗布液晶配向劑而形成塗膜的膜形成步驟,以及隔著液晶層將所述形成有塗膜的一對基板以所述塗膜相向的方式對向配置而構築液晶單元的構築步驟,並且所述像素電極及所述對向電極的至少一者在所述液晶層側的面上具有凹凸結構,所述液晶配向劑含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]。
作為本發明的另一實施方式,提供一種液晶配向劑,其用以在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向膜,且含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]。 [發明的效果]
根據所述構成的液晶顯示元件及藉由所述製造方法而得的液晶顯示元件,使用含有特定聚合物的液晶配向劑形成在具有凹凸結構的電極上所形成的液晶配向層,因此電極面的凹面與凸面的液晶配向層的厚度不易產生偏差。另外,液晶配向層的厚度均勻,因此液晶配向性優異。
以下,參照附圖對本實施形態的液晶顯示元件及其製造方法進行說明。如圖1所示,液晶顯示元件10包括:液晶層11、以夾持液晶層11的方式對向配置的一對基板即第1基板12及第2基板13、設置於第1基板12的液晶層11側的像素電極14、與像素電極14對向地設置於第2基板13的液晶層11側的對向電極15、以及設置於像素電極14及對向電極15的各自的液晶層11側的液晶配向層16、液晶配向層17。
第1基板12及第2基板13例如包含鈉鈣玻璃或無鹼玻璃等玻璃、矽、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚醚碸、聚碳酸酯、芳香族聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等材料。再者,雖省略圖示,但第1基板12上形成有有源元件或配線等。作為第1基板12,也可使用在有源元件等上形成包含例如SiO2
等金屬氧化物或SiN等金屬氮化物的無機絕緣膜而成者。
第1基板12與第2基板13是隔著配置於基板表面的外緣部的密封劑(省略圖示)並設置有例如2 μm~20 μm的間隔而配置。在由第1基板12、第2基板13及密封劑包圍的空間中設置有液晶層11。
液晶層11為含有液晶分子18的層。作為液晶,可列舉向列液晶及碟狀液晶,其中優選為向列液晶,例如可使用:席夫鹼(Schiff base)系液晶、氧化偶氮(azoxy)系液晶、聯苯系液晶、苯基環己烷系液晶、酯系液晶、三聯苯系液晶、聯苯環己烷系液晶、嘧啶系液晶、二噁烷系液晶、雙環辛烷系液晶、立方烷(cubane)系液晶等。另外,也可在這些液晶中添加如下物質等而使用:例如氯化膽固醇(cholesteryl chloride)、膽固醇壬酸酯(cholesteryl nonanoate)、膽固醇碳酸酯等膽甾相液晶;如作為商品名“C-15”、“CB-15”(默克(Merck)公司製造)而市售的手性劑;對癸氧基亞苄基-對胺基-2-甲基丁基肉桂酸酯(p-decyloxybenzylidene-p-amino-2-methylbutylcinnamate)等鐵電液晶。本實施形態的液晶層11顯示出負的介電各向異性。液晶層11的厚度優選為設為1 μm~5 μm。
像素電極14及對向電極15為使用導電性材料所形成的導電膜。作為導電性材料,例如可列舉:氧化銦-氧化錫(Indium Tin Oxide,ITO)、或氧化鋅系的摻鋁氧化鋅(Aluminum doped Zinc Oxide,AZO)、摻鎵氧化鋅(Gallium doped Zinc Oxide,GZO)等透明導電性材料。
像素電極14在液晶層11側具有凹凸結構。在本實施形態中,在第1基板12的液晶層11側的面上設置有具有凹凸狀的圖案的樹脂層19。樹脂層19包含剖面為矩形形狀的多個線狀結構19a,這些多個線狀結構19a在沿著基板面的方向上並排配置。具體而言,利用多個線狀結構19a而在基板面上形成條紋狀的圖案。
在形成有樹脂層19的基板面上以覆蓋所述基板面的形式配置像素電極14。像素電極14的凹凸結構為電極的凹面14a與凸面14b在與基板面平行的方向上交替配置且這些之間的階差部分相對於基板面垂直的結構。凹面14a與凸面14b之間的距離(高低差)優選為處於0.1 μm~2.0 μm的範圍。凹面14a的寬度與凸面14b的寬度分別優選為處於0.1 μm~2.0 μm的範圍。再者,凹面14a的寬度與凸面14b的寬度可相同,也可不同。
對向電極15是在第2基板13中設置於與像素電極14對向的面上。在本實施形態中,如圖1所示,對向電極15的液晶層11側的面為沒有狹縫或凹凸結構的平坦面。對向電極15作為全部像素電極14的共用電極而發揮功能。
液晶配向層16、液晶配向層17為含有聚合物而成的有機薄膜,例如是使用聚合物溶解或分散於有機溶媒中而成的聚合物組成物(液晶配向劑)而形成。在本實施形態中,液晶配向層16、液晶配向層17為在對液晶層11未施加電壓的狀態下使液晶分子18的長軸方向在相對於基板面垂直的方向上進行配向的垂直配向膜。液晶配向層16、液晶配向層17的厚度優選為0.001 μm~1 μm,更優選為0.005 μm~0.5 μm。
再者,雖省略圖示,但在第1基板12及第2基板13的各基板的外側表面,以正交尼克爾的方式配置偏光板。作為偏光板,可列舉:以乙酸纖維素保護膜夾持被稱為“H膜”的偏光膜而成的偏光板或包含H膜其本身的偏光板,所述“H膜”是一邊使聚乙烯醇延伸配向一邊使其吸收碘而成的膜。
液晶顯示元件10藉由對包含像素電極14及對向電極15的一對電極間施加電壓而使液晶分子18的配向狀態發生變化。由此,由背光等光源照射的光部分透過或遮蔽所述光而進行顯示。另外,像素電極14具有凹凸結構,由此若對電極間施加電壓則在液晶層11中產生電場應變。利用所述電場應變來賦予所需的預傾角,從而對液晶分子18的配向方向進行控制。在本實施形態中,像素電極14上的與液晶配向層16的界面附近的液晶分子18a藉由利用液晶配向層16的控制,而以自相對於基板面垂直的方向略微傾斜的狀態得到保持(參照圖1)。例如,相對於基板面的角度(預傾角)為85°~89°。
預傾角賦予例如可藉由如下方式來進行:使液晶層11及液晶配向層16的至少一者預先含有感光性化合物,在液晶單元的構築後,在對電極間施加了電壓的狀態下照射放射線。即,液晶層11中的液晶分子18藉由電壓的施加而產生因像素電極14的凹面14a及凸面14b的高低差引起的電場應變,從而向與像素電極14的凹凸圖案相應的方向傾斜。若在所述傾斜狀態下照射放射線,則液晶層11及液晶配向層16的至少一者含有的感光性化合物硬化。由此,即便恢復至未施加電壓的狀態後,與液晶配向層16的界面附近的液晶分子18a仍以相對於垂直於基板面的方向而傾斜的狀態得到保持。再者,在本說明書中,“放射線”是包含可見光線、紫外線、遠紫外線、X射線及帶電粒子束等的含義。
<液晶配向劑> 其次,對形成液晶配向層16、液晶配向層17時使用的液晶配向劑進行說明。 (聚合物[P]) 所述液晶配向劑含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]。若重量平均分子量小於30,000,則在具有凹凸結構的電極上所形成的液晶配向層16、液晶配向層17的厚度容易產生偏差,存在液晶配向性降低的傾向。就使電極的凹部與凸部的液晶配向層16、液晶配向層17的厚度(膜厚)均勻的觀點而言,聚合物[P]的重量平均分子量優選為35,000以上,更優選為40,000以上,進而更優選為50,000以上。就在具有凹凸結構的電極上的塗布性或液晶配向層16、液晶配向層17的厚度的均勻性的觀點而言,聚合物[P]的重量平均分子量的上限值優選為500,000以下,更優選為300,000以下。再者,本說明書中的重量平均分子量Mw為利用凝膠滲透色譜法(Gel Penetration Chromatography,GPC)測定的聚苯乙烯換算值。
作為聚合物[P]的主骨架,例如可列舉包含聚醯亞胺、聚醯亞胺前驅物、聚酯、聚醯胺、聚有機矽氧烷、纖維素衍生物、聚縮醛衍生物、聚苯乙烯衍生物、聚(苯乙烯-苯基順丁烯二醯亞胺)衍生物、聚(甲基)丙烯酸酯衍生物等骨架。再者,(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯。作為聚醯亞胺前驅物,可列舉聚醯胺酸、聚醯胺酸酯等。 就在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向層16、液晶配向層17時的液晶配向層16、液晶配向層17的耐熱性、機械強度及與液晶的親和性等各種特性良好的方面而言,其中,聚合物[P]優選為選自由聚醯亞胺及其前驅物所組成的組群中的至少一種(以下也稱為“特定聚合物”)。再者,聚合物[P]可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
在聚合物[P]為所述特定聚合物的情況下,所述聚合物可藉由使四羧酸衍生物與二胺反應而獲得,所述四羧酸衍生物為選自由四羧酸二酐、四羧酸二酯及四羧酸二酯二鹵化物所組成的組群中的至少一種。 再者,在本說明書中,所謂“四羧酸二酯”是指四羧酸所具有的四個羧基中的兩個被酯化,其餘兩個為羧基的化合物。所謂“四羧酸二酯二鹵化物”是指四羧酸所具有的四個羧基中的兩個被酯化,其餘兩個被鹵化的化合物。
(聚醯胺酸) 作為聚合物[P]的聚醯胺酸(以下也稱為“聚醯胺酸[P]”)例如可藉由使四羧酸二酐與二胺反應而獲得。
作為聚醯胺酸[P]的合成中所使用的四羧酸二酐,例如可列舉:脂肪族四羧酸二酐、脂環式四羧酸二酐、芳香族四羧酸二酐等。作為這些的具體例,脂肪族四羧酸二酐例如可列舉:1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐等; 脂環式四羧酸二酐例如可列舉:1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐、5-(2,5-二氧代四氫呋喃-3-基)-3a,4,5,9b-四氫萘並[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、5-(2,5-二氧代四氫呋喃-3-基)-8-甲基-3a,4,5,9b-四氫萘並[1,2-c]呋喃-1,3-二酮、3-氧雜雙環[3.2.1]辛烷-2,4-二酮-6-螺環-3'-(四氫呋喃-2',5'-二酮)、5-(2,5-二氧代四氫-3-呋喃基)-3-甲基-3-環己烯-1,2-二羧酸酐、3,5,6-三羧基-2-羧基甲基降冰片烷-2:3,5:6-二酐、2,4,6,8-四羧基雙環[3.3.0]辛烷-2:4,6:8-二酐、4,9-二氧雜三環[5.3.1.02,6
]十一烷-3,5,8,10-四酮、環戊烷四羧酸二酐、環己烷四酸二酐等;
芳香族四羧酸二酐例如可列舉:均苯四甲酸二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸酐等,除此之外,可使用日本專利特開2010-97188號公報中所記載的四羧酸二酐。再者,所述四羧酸二酐可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
作為合成中所使用的四羧酸二酐,優選為含有脂環式四羧酸二酐,更優選為含有具有選自由環丁烷環結構、環戊烷環結構及環己烷環結構所組成的組群中的至少一種的化合物(以下也稱為“特定四羧酸二酐”)。就使所得的聚醯胺酸[P]的溶解性提高的觀點而言,相對於聚醯胺酸[P]的合成中所使用的四羧酸二酐的總量,特定四羧酸二酐的使用量(在使用兩種以上的情況下為其合計量)優選為設為10莫耳%以上,更優選為設為20莫耳%以上,進而更優選為設為40莫耳%以上,尤其優選為設為50莫耳%以上。
作為聚醯胺酸[P]的合成中所使用的二胺,例如可列舉:脂肪族二胺、脂環式二胺、芳香族二胺、二胺基有機矽氧烷等。作為這些的具體例,脂肪族二胺例如可列舉:間苯二甲胺、1,3-丙二胺、四亞甲基二胺、五亞甲基二胺、六亞甲基二胺、1,3-雙(胺基甲基)環己烷等; 脂環式二胺例如可列舉:1,4-二胺基環己烷、4,4'-亞甲基雙(環己胺)等;
芳香族二胺例如可列舉:十二烷氧基二胺基苯、十四烷氧基二胺基苯、十五烷氧基二胺基苯、十六烷氧基二胺基苯、十八烷氧基二胺基苯、膽甾烷基氧基二胺基苯、膽甾烯基氧基二胺基苯、二胺基苯甲酸膽甾烷基酯、二胺基苯甲酸膽甾烯基酯、二胺基苯甲酸羊毛甾烷基酯、3,6-雙(4-胺基苯甲醯基氧基)膽甾烷、3,6-雙(4-胺基苯氧基)膽甾烷、1,1-雙(4-((胺基苯基)甲基)苯基)-4-丁基環己烷、1,1-雙(4-((胺基苯基)甲基)苯基)-4-庚基環己烷、1,1-雙(4-((胺基苯氧基)甲基)苯基)-4-庚基環己烷、1,1-雙(4-((胺基苯基)甲基)苯基)-4-(4-庚基環己基)環己烷、N-(2,4-二胺基苯基)-4-(4-庚基環己基)苯甲醯胺、下述式(E-1)所表示的化合物 [化1](式(E-1)中,XI
及XII
分別獨立地為單鍵、-O-、*-COO-或*-OCO-(其中,“*”表示與XI
的結合鍵),RI
為碳數1~3的烷二基,RII
為單鍵或碳數1~3的烷二基;a為0或1,b為0~2的整數,c為1~20的整數,d為0或1;其中,a及b不會同時為0) 等含有配向性基的二胺;
具有選自由含氮雜環、二級胺基及三級胺基所組成的組群中的至少一種含氮結構的二胺;此外可列舉: 對苯二胺、4,4'-二胺基二苯基甲烷、4,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基硫醚、4-胺基苯基-4'-胺基苯甲酸酯、4,4'-二胺基偶氮苯、1,5-雙(4-胺基苯氧基)戊烷、1,7-雙(4-胺基苯氧基)庚烷、雙[2-(4-胺基苯基)乙基]己二酸、N,N-雙(4-胺基苯基)甲胺、3,5-二胺基苯甲酸、2,4-二胺基苯甲酸、2,5-二胺基苯甲酸、4,4'-二胺基聯苯基-3-羧酸、1,5-二胺基萘、2,2'-二甲基-4,4'-二胺基聯苯、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、N-(4-胺基-2-甲基苯基)-4-胺基苯甲醯胺、2,7-二胺基芴、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、9,9-雙(4-胺基苯基)芴、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷、4,4'-(對亞苯基二亞異丙基)雙苯胺、4,4'-(間亞苯基二亞異丙基)雙苯胺、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯等; 二胺基有機矽氧烷例如可列舉1,3-雙(3-胺基丙基)-四甲基二矽氧烷等;除此之外,可使用日本專利特開2010-97188號公報中所記載的二胺。再者,二胺可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
作為所述式(E-1)中的“-XI
-(RI
-XII
)d
-”所表示的二價基,優選為碳數1~3的烷二基、*-O-、*-COO-或*-O-C2
H4
-O-(其中標注有“*”的結合鍵與二胺基苯基鍵結)。作為基“-Cc
H2c+1
”例如可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等,這些優選為直鏈狀。二胺基苯基中的兩個胺基優選為相對於其他基而處於2,4-位或3,5-位。
作為所述式(E-1)所表示的化合物的具體例,例如可列舉下述式(E-1-1)~式(E-1-4)分別所表示的化合物等。 [化2]
關於具有含氮結構的二胺,作為含氮雜環例如可列舉:吡咯、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、嘧啶、噠嗪、吡嗪、吲哚、苯並咪唑、嘌呤、喹啉、異喹啉、萘啶、喹噁啉、酞嗪、三嗪、哢唑、吖啶、呱啶、呱嗪、吡咯烷、六亞甲基亞胺等。其中,含氮雜環優選為選自由吡啶、嘧啶、吡嗪、呱啶、呱嗪、喹啉、哢唑及吖啶所組成的組群中的至少一種。 具有含氮結構的二胺可具有的二級胺基及三級胺基例如由下述式(N-1)表示。 [化3](式(N-1)中,R6
為氫原子或碳數1~10的一價烴基;“*”為與烴基鍵結的結合鍵)
在所述式(N-1)中,作為R6
的一價烴基,例如可列舉:甲基、乙基、丙基等烷基;環己基等環烷基;苯基、甲基苯基等芳基等。R6
優選為氫原子或甲基。
作為具有含氮結構的二胺的具體例,例如可列舉:2,6-二胺基吡啶、3,4-二胺基吡啶、2,4-二胺基嘧啶、3,6-二胺基哢唑、N-甲基-3,6-二胺基哢唑、1,4-雙-(4-胺基苯基)-呱嗪、3,6-二胺基吖啶、N-乙基-3,6-二胺基哢唑、N-苯基-3,6-二胺基哢唑、N,N'-雙(4-胺基苯基)-聯苯胺、N,N'-雙(4-胺基苯基)-N,N'-二甲基聯苯胺、下述式(D-2-1)~式(D-2-8)分別所表示的化合物等。 [化4]
在製造垂直配向型的液晶顯示元件的情況下,液晶配向劑中所含的聚醯胺酸[P]優選為在側鏈具有不借助光照射也可對塗膜賦予液晶配向能力的基(以下也稱為“液晶配向性基”)。作為液晶配向性基,例如可列舉:碳數4~20的烷基、碳數4~20的氟烷基、碳數4~20的烷氧基、碳數17~51的具有類固醇骨架的基、具有多環結構的基等。具有液晶配向性基的聚醯胺酸例如可藉由單體組成中包含含有配向性基的二胺的聚合而獲得。在使用含有配向性基的二胺的情況下,就液晶配向性的觀點而言,相對於合成中所使用的所有二胺,含有配向性基的二胺的調配量優選為設為3莫耳%以上,更優選為設為5莫耳%~70莫耳%。
(聚醯胺酸的合成) 聚醯胺酸[P]可藉由使如所述般的四羧酸二酐與二胺和視需要的分子量調整劑一起反應而獲得。供給至聚醯胺酸[P]的合成反應的四羧酸二酐與二胺的使用比例優選為相對於二胺的胺基1當量,四羧酸二酐的酸酐基成為0.2當量~2當量的比例,更優選為成為0.3當量~1.2當量的比例。
作為分子量調整劑,例如可列舉:順丁烯二酸酐、鄰苯二甲酸酐、衣康酸酐等酸單酐,苯胺、環己胺、正丁胺等單胺化合物,異氰酸苯酯、異氰酸萘酯等單異氰酸酯化合物等。相對於所使用的四羧酸二酐及二胺的合計100重量份,分子量調整劑的使用比例優選為設為20重量份以下,更優選為設為10重量份以下。
聚醯胺酸的合成反應優選為在有機溶媒中進行。此時的反應溫度優選為-20℃~150℃,更優選為0℃~100℃。另外,反應時間優選為0.1小時~24小時,更優選為0.5小時~12小時。 作為反應中所使用的有機溶媒例如可列舉:非質子性極性溶媒、酚系溶媒、醇、酮、酯、醚、鹵化烴、烴等。這些有機溶媒中,優選為使用選自由非質子性極性溶媒及酚系溶媒所組成的組群(第一組群的有機溶媒)中的一種以上,或選自第一組群的有機溶媒中的一種以上與選自由醇、酮、酯、醚、鹵化烴及烴所組成的組群(第二組群的有機溶媒)中的一種以上的混合物。在後者的情況下,相對於第一組群的有機溶媒及第二組群的有機溶媒的合計量,第二組群的有機溶媒的使用比例優選為50重量%以下,更優選為40重量%以下,進而更優選為30重量%以下。
尤其優選的有機溶媒優選為使用選自由N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、四甲基脲、六甲基磷醯三胺、間甲酚、二甲酚及鹵化苯酚所組成的組群中的一種以上作為溶媒,或者在所述比例的範圍內使用這些的一種以上與其他有機溶媒的混合物。作為此時所使用的其他有機溶媒,例如可列舉:丁基溶纖劑、2-丁氧基-1-丙醇、二乙二醇二乙醚等。有機溶媒的使用量(a)優選為設為相對於反應溶液的總量(a+b),四羧酸二酐及二胺的合計量(b)成為0.1重量%~50重量%的量。
以所述方式而獲得溶解聚醯胺酸[P]而成的反應溶液。所述反應溶液可直接供給至液晶配向劑的製備中,也可將反應溶液中所含的聚醯胺酸[P]分離後供給至液晶配向劑的製備中,或也可將分離的聚醯胺酸[P]純化後供給至液晶配向劑的製備中。聚醯胺酸[P]的分離及純化可依據公知的方法進行。
(聚醯胺酸酯) 作為聚合物[P]的聚醯胺酸酯(以下也稱為“聚醯胺酸酯[P]”)例如可藉由如下方法等而獲得:[I]使藉由所述合成反應而得的聚醯胺酸與酯化劑反應的方法;[II]使四羧酸二酯與二胺反應的方法;[III]使四羧酸二酯二鹵化物與二胺反應的方法。
作為方法[I]中所使用的酯化劑,例如可列舉:含有羥基的化合物、縮醛系化合物、鹵化物、含有環氧基的化合物等。作為這些的具體例,含有羥基的化合物例如可列舉:甲醇、乙醇、丙醇等醇類,苯酚、甲酚等酚類等;縮醛系化合物例如可列舉:N,N-二甲基甲醯胺二乙基縮醛、N,N-二乙基甲醯胺二乙基縮醛等;鹵化物例如可列舉:溴甲烷、溴乙烷、溴代十八烷、氯甲烷、氯代十八烷、1,1,1-三氟-2-碘乙烷等;含有環氧基的化合物例如可列舉:環氧丙烷等。
方法[II]中所使用的四羧酸二酯例如可藉由使用甲醇或乙醇等醇類,對所述聚醯胺酸的合成中所例示的四羧酸二酐進行開環而獲得。作為四羧酸二酯,可優選地使用具有選自由環丁烷環結構、環戊烷環結構及環己烷環結構所組成的組群中的至少一種脂環式結構的化合物。再者,關於具有這些特定脂環式結構的四羧酸二酯的使用比例,可應用聚醯胺酸[P]的說明。作為方法[II]中所使用的二胺,可列舉聚醯胺酸的合成中所例示的二胺。 方法[II]的反應優選為在有機溶媒中、在適當的脫水催化劑的存在下進行。作為有機溶媒,可列舉作為聚醯胺酸的合成中所使用的有機溶媒而例示的有機溶媒。作為脫水催化劑,例如可列舉:4-(4,6-二甲氧基-1,3,5-三嗪-2-基)-4-甲基嗎啉鎓鹵化物、羰基咪唑、磷系縮合劑等。聚合時,反應溫度優選為-20℃~150℃,更優選為0℃~100℃。反應時間優選為0.1小時~24小時,更優選為0.5小時~12小時。
方法[III]中所使用的四羧酸二酯二鹵化物例如可藉由使以所述方式所得的四羧酸二酯與亞硫醯氯等適當的氯化劑反應而獲得。作為四羧酸二酯二鹵化物可優選地使用具有選自由環丁烷環結構、環戊烷環結構及環己烷環結構所組成的組群中的至少一種脂環式結構的化合物。再者,關於具有這些特定脂環式結構的四羧酸二酯二鹵化物的使用比例,可應用聚醯胺酸[P]的說明。作為方法[III]中所使用的二胺,可列舉聚醯胺酸的合成中所例示的二胺。 方法[III]的反應優選為在有機溶媒中、在適當的鹼的存在下進行。作為有機溶媒,可列舉作為聚醯胺酸的合成中所使用的有機溶媒而例示的有機溶媒。作為鹼,例如可優選地使用吡啶、三乙胺等三級胺;氫化鈉、氫化鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、鈉、鉀等鹼金屬類等。聚合時,反應溫度優選為-20℃~150℃,更優選為0℃~100℃。反應時間優選為0.1小時~24小時,更優選為0.5小時~12小時。
聚醯胺酸酯[P]可僅具有醯胺酸酯結構,也可為醯胺酸結構與醯胺酸酯結構並存的部分酯化物。溶解聚醯胺酸酯[P]而成的反應溶液可直接供給至液晶配向劑的製備中,也可將反應溶液中所含的聚醯胺酸酯[P]分離後供給至液晶配向劑的製備中,或也可將分離的聚醯胺酸酯[P]純化後供給至液晶配向劑的製備中。聚醯胺酸酯[P]的分離及純化可依據公知的方法進行。
(聚醯亞胺) 作為聚合物[P]的聚醯亞胺(以下也稱為“聚醯亞胺[P]”),例如可藉由對以所述方式合成的聚醯胺酸[P]進行脫水閉環並加以醯亞胺化而獲得。 聚醯亞胺[P]可為對作為其前驅物的聚醯胺酸[P]所具有的全部醯胺酸結構進行脫水閉環而成的完全醯亞胺化物,也可為僅對醯胺酸結構的一部分進行脫水閉環,使醯胺酸結構與醯亞胺環結構並存的部分醯亞胺化物。聚醯亞胺[P]的醯亞胺化率優選為20%以上,更優選為30%~99%,進而更優選為40%~99%。所述醯亞胺化率是以百分率來表示相對於聚醯亞胺的醯胺酸結構的數量與醯亞胺環結構的數量的合計的醯亞胺環結構的數量所占的比例。此處,醯亞胺環的一部分可為異醯亞胺環。
聚醯胺酸[P]的脫水閉環優選為藉由如下方法來進行:對聚醯胺酸[P]進行加熱的方法;或將聚醯胺酸[P]溶解於有機中,在所述溶液中添加脫水劑及脫水閉環催化劑,視需要進行加熱的方法。其中,優選為利用後者方法。
在向聚醯胺酸[P]的溶液中添加脫水劑及脫水閉環催化劑的方法中,作為脫水劑,例如可使用乙酸酐、丙酸酐、三氟乙酸酐等酸酐。相對於聚醯胺酸[P]的醯胺酸結構的1莫耳,脫水劑的使用量優選為設為0.01莫耳~20莫耳。作為脫水閉環催化劑,例如可使用吡啶、三甲吡啶(collidine)、二甲吡啶(lutidine)、三乙胺等三級胺。相對於所使用的脫水劑1莫耳,脫水閉環催化劑的使用量優選為設為0.01莫耳~10莫耳。作為脫水閉環反應中所使用的有機溶媒,可列舉作為聚醯胺酸[P]的合成中所使用的有機溶媒而例示的有機溶媒。脫水閉環反應的反應溫度優選為0℃~180℃,更優選為10℃~150℃。反應時間優選為1.0小時~120小時,更優選為2.0小時~30小時。
以所述方式而獲得含有聚醯亞胺[P]的反應溶液。所述反應溶液可直接供給至液晶配向劑的製備中,也可自反應溶液中去除脫水劑及脫水閉環催化劑後供給至液晶配向劑的製備中,也可將聚醯亞胺[P]分離後供給至液晶配向劑的製備中,或也可將分離的聚醯亞胺[P]純化後供給至液晶配向劑的製備中。這些純化操作可依據公知的方法進行。此外,聚醯亞胺[P]也可藉由作為其前驅物的聚醯胺酸酯[P]的醯亞胺化而獲得。
作為以所述方式而獲得的作為聚合物[P]的聚醯胺酸、聚醯胺酸酯及聚醯亞胺優選為當設為濃度為10重量%的溶液時,具有10 mPa·s~800 mPa·s的溶液黏度,更優選為具有15 mPa·s~500 mPa·s的溶液黏度。再者,聚合物的溶液黏度(mPa·s)為使用E型旋轉黏度計在25℃下對使用聚合物的良溶媒(例如γ-丁內酯、N-甲基-2-吡咯烷酮等)所製備的濃度為10重量%的聚合物溶液進行測定而得的值。 關於作為聚合物[P]的聚醯胺酸、聚醯胺酸酯及聚醯亞胺,由利用GPC所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)與利用GPC所測定的聚苯乙烯換算的數量平均分子量(Mn)的比所表示的分子量分佈(Mw/Mn)優選為15以下,更優選為10以下。
就使在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向膜時的所述液晶配向膜的膜厚均勻的觀點而言,相對於液晶配向劑中所含的聚合物成分的總量,聚合物[P]的調配比例優選為設為70重量%以上,更優選為設為80重量%以上,進而更優選為設為90重量%以上,尤其優選為設為95重量%以上。所述含有比例的上限並無特別限定,可在100重量%以下適當設定。
(具有含氮結構的成分) 所述液晶配向劑優選為含有具有選自由含氮雜環(其中,聚醯亞胺所具有的醯亞胺環除外)、二級胺基及三級胺基所組成的組群中的至少一種含氮結構的成分。藉由使用此種液晶配向劑,而改善長期保管液晶顯示元件時的配向穩定性,就此方面而言優選。再者,關於所述含氮結構的具體例,可應用所述具有含氮結構的二胺中所說明的含氮雜環、二級胺基及三級胺基的說明。 在使液晶配向劑中含有所述具有含氮結構的成分的情況下,優選為使用液晶配向劑中的聚合物[P]的至少一部分具有所述含氮結構、或者具有所述含氮結構的分子量為2,000以下的化合物(以下也稱為“含氮低分子化合物”)。
在具有所述含氮結構的化合物為聚合物[P]的情況下,所述聚合物可藉由適當組合有機化學的常法來進行合成。例如,在聚醯胺酸[P]的情況下,聚合時,藉由使單體組成中含有具有所述含氮結構的四羧酸二酐、或具有所述含氮結構的二胺、或者所述兩者,可獲得具有所述含氮結構的聚醯胺酸。另外,藉由使具有所述含氮結構的聚醯胺酸醯亞胺化或酯化,可獲得具有所述含氮結構的聚醯亞胺或聚醯胺酸酯。 在具有所述含氮結構的化合物為聚合物[P]的情況下,相對於液晶配向劑中的聚合物成分的總量,具有所述含氮結構的化合物的調配比例優選為設為5重量%以上,更優選為設為10重量%以上。
所述含氮低分子化合物只要具有選自由含氮雜環、二級胺基及三級胺基所組成的組群中的至少一種,則其餘的結構並無限定。作為此種化合物,例如可列舉下述式(c-1-1)~式(c-1-27)分別所表示的化合物等。 [化5]
在將含氮低分子化合物調配至液晶配向劑中的情況下,就獲得殘像特性的改善效果且抑制因過剩量的添加引起的液晶配向性降低的觀點而言,相對於液晶配向劑中所含的聚合物的合計100重量份,含氮低分子化合物的調配比例優選為設為0.1重量份~40重量份,更優選為設為1重量份~30重量份,進而更優選為設為2重量份~20重量份。再者,含氮低分子化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
(其他成分) 液晶配向劑視需要也可含有所述以外的其他成分。作為所述其他成分,例如可列舉:重量平均分子量小於30,000的聚合物(以下也稱為“其他聚合物”)、交聯性化合物、感光性化合物、官能性矽烷化合物等。
·其他聚合物 所述其他聚合物可出於改善溶液特性等目的而使用。所述其他聚合物的主骨架並無特別限制,例如可列舉聚合物[P]中所例示的主骨架。優選為以聚醯亞胺或其前驅物為主骨架的聚合物。 就保持在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向膜時的膜厚的均勻性的觀點而言,相對於液晶配向劑中所含的聚合物成分的總量,其他聚合物的調配比例優選為設為小於30重量%,更優選為設為小於20重量%,進而更優選為小於10重量%。
·交聯性化合物 為了提高液晶配向膜與電極面的黏合性、或液晶顯示元件的電特性及可靠性,可使用交聯性化合物。交聯性化合物只要為利用光或熱等進行交聯的化合物即可。優選為具有選自由羥基、羥基烷基、烷氧基、烷氧基烷基、環氧基、異氰酸酯基、嵌段異氰酸酯基、氧雜環丁基、環碳酸酯基、三烷氧基矽烷基及聚合性不飽和結合基所組成的組群中的至少一種官能基的交聯性化合物。 此處,作為聚合性不飽和結合基,例如可列舉:(甲基)丙烯醯基氧基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、亞乙烯基、乙烯基氧基(CH2
=CH-O-)、順丁烯二醯亞胺基等。交聯性化合物所具有的所述官能基可僅為一種,也可為兩種以上。就保存穩定性的方面而言,交聯性化合物的分子量優選為3,000以下,更優選為2,000以下。
作為交聯性化合物的優選的具體例,例如可列舉如下化合物等作為優選例:乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、2,2-二溴新戊二醇二縮水甘油醚、N,N,N',N'-四縮水甘油基-間苯二甲胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷、N,N,N',N'-四縮水甘油基-4,4'-二胺基二苯基甲烷、N,N-二縮水甘油基-苄基胺、N,N-二縮水甘油基-胺基甲基環己烷、N,N-二縮水甘油基-環己胺等在分子內具有兩個以上的環氧基的化合物; 下述式(M-1)所表示的化合物、下述式(M-2)所表示的化合物等在分子內具有兩個以上的羥基的化合物; 下述式(M-3)所表示的化合物、下述式(M-4)所表示的化合物等在分子內具有兩個以上的三烷氧基矽烷基的化合物; 下述式(M-5)所表示的化合物、下述式(M-6)所表示的化合物等在分子內具有兩個以上的嵌段異氰酸酯基的化合物; 下述式(M-7)所表示的化合物、下述式(M-8)所表示的化合物等在分子內具有兩個以上的(甲基)丙烯醯基的化合物。除此之外,作為含有環氧基的化合物的例子,可使用國際公開第2009/096598號記載的含有環氧基的聚有機矽氧烷。 [化6]
在將交聯性化合物調配至液晶配向劑中的情況下,相對於液晶配向劑中所含的聚合物的合計100重量份,交聯性化合物的調配比例優選為設為40重量份以下,更優選為設為0.1重量份~30重量份。再者,交聯性化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。
·感光性化合物 在液晶單元的構築後,藉由在對液晶單元施加了電壓的狀態下照射放射線來提高液晶配向能力的情況下,可優選地使用感光性化合物。感光性化合物為利用放射線而進行反應的化合物,可列舉具有如下基等作為感光性基的化合物等:自由基聚合性基、含有偶氮化合物或其衍生物作為基本骨架的含有偶氮的基、含有肉桂酸或其衍生物作為基本骨架的含有桂皮酸的基、含有查耳酮或其衍生物作為基本骨架的含有查耳酮的基、含有蒽或其衍生物作為基本骨架的含有蒽的基、含有香豆素或其衍生物作為基本骨架的含有香豆素的基、含有苊烯(acenaphthylene)或其衍生物作為基本骨架的含有苊烯的基、含有胸腺嘧啶(thymine)或其衍生物作為基本骨架的含有胸腺嘧啶的基、含有尿嘧啶(uracil)或其衍生物作為基本骨架的含有尿嘧啶的基、含有二苯乙炔(tolan)或其衍生物作為基本骨架的含有二苯乙炔的基、含有二苯乙烯或其衍生物作為基本骨架的含有二苯乙烯的基。作為感光性化合物,優選為可使用具有自由基聚合性基的化合物,作為其具體例,可列舉具有選自由(甲基)丙烯醯基氧基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、乙烯基、亞乙烯基、乙烯基氧基(CH2
=CH-O-)及順丁烯二醯亞胺基所組成的組群中的至少一種官能基作為自由基聚合性基的化合物等。
作為感光性化合物,就光反應性高的方面而言,可優選地使用(甲基)丙烯酸酯化合物。作為這些的具體例,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯等單官能(甲基)丙烯酸酯;乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、4,4'-二甲基丙烯醯基氧基聯苯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等。再者,感光性化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。 在將感光性化合物調配至液晶配向劑中的情況下,相對於液晶配向劑中所含的聚合物的合計100重量份,感光性化合物的調配比例優選為設為40重量份以下,更優選為設為0.1重量份~30重量份。
·官能性矽烷化合物 所述官能性矽烷化合物可出於提高液晶配向劑的印刷性的目的而使用。作為此種官能性矽烷化合物,例如可列舉:3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、2-胺基丙基三甲氧基矽烷、2-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、N-乙氧基羰基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-三乙氧基矽烷基丙基三亞乙基三胺、10-三甲氧基矽烷基-1,4,7-三氮雜癸烷、9-三甲氧基矽烷基-3,6-二氮雜壬基乙酸酯、9-三甲氧基矽烷基-3,6-二氮雜壬酸甲酯、N-苄基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、縮水甘油氧基甲基三甲氧基矽烷、2-縮水甘油氧基乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷等。 在將這些官能性矽烷化合物添加於液晶配向劑中的情況下,相對於液晶配向劑中所含的聚合物的合計100重量份,官能性矽烷化合物的調配比例優選為2重量份以下,更優選為0.02重量份~0.2重量份。
再者,作為其他成分,除了所述成分以外,例如可列舉:表面活性劑、填充劑、顏料、消泡劑、增感劑、分散劑、抗氧化劑、密接助劑、抗靜電劑、流平劑、抗菌劑等。再者,這些的調配比例可在不妨礙本發明的效果的範圍內根據所調配的各化合物而適當設定。
(溶劑) 所述液晶配向劑被製備成聚合物[P]及視需要所調配的其他成分優選為分散或溶解於有機溶媒中而成的液狀組成物。
作為所使用的有機溶媒,例如可列舉:N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮、1,3-二甲基-1-咪唑烷酮、γ-丁內酯、γ-丁內醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺、N,N,2-三甲基丙醯胺、1-丁氧基-2-丙醇、二丙酮醇、丙二醇單丁醚、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇單甲醚、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、乙二醇單甲醚、乳酸丁酯、乙酸丁酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇-正丙醚、乙二醇-異丙醚、乙二醇-正丁醚(丁基溶纖劑)、乙二醇二甲醚、乙二醇乙醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二異丁基酮、丙酸異戊基酯、異丁酸異戊基酯、二異戊醚、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、具有兩個以上的羥基的化合物等。這些可單獨使用一種或混合使用兩種以上。
就保持在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向膜時的膜厚的均勻性的觀點而言,所使用的有機溶媒在所述中優選為含有選自由N-乙基-2-吡咯烷酮、1,3-二甲基-1-咪唑烷酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺、丙二醇單丁醚、二乙二醇二乙醚、二丙酮醇、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇單甲醚及碳酸亞丙酯所組成的組群中的至少一種。 相對於液晶配向劑的製備中所使用的溶劑的總量,這些優選的有機溶媒的調配比例(在使用兩種以上的情況下為這些的合計量)優選為設為3重量%以上,更優選為設為5重量%以上,進而更優選為設為10重量%以上。
另外,就使在具有凹凸結構的電極上的塗布性及膜厚均勻性良好的方面而言,所使用的有機溶媒優選為含有25℃下的黏度為10 mP·s以上的有機溶劑(以下也稱為“特定溶劑”)。特定溶劑優選為25℃下的黏度為10 mP·s~200 mP·s者,更優選為20 mP·s~100 mP·s者。作為此種特定溶劑,可列舉具有兩個以上的羥基的化合物。優選為碳數2~10的烷二醇,作為其具體例,例如可列舉:乙二醇、丙二醇、丁二醇、戊二醇、己二醇、癸二醇等。再者,烷二醇的烷基鏈可為直鏈狀也可為分支狀。 相對於液晶配向劑的製備中所使用的溶劑的總量,所述特定溶劑的調配比例(在使用兩種以上的情況下為這些的合計量)優選為設為1重量%~50重量%,更優選為設為3重量%~40重量%,進而更優選為設為5重量%~30重量%。
所述液晶配向劑的固體成分濃度(液晶配向劑的溶媒以外的成分的合計重量在液晶配向劑的總重量中所占的比例)是考慮到黏性、揮發性等來選擇,優選為1重量%~30重量%的範圍。即,所述液晶配向劑藉由以後述方式塗布於基板上的電極面上,優選為進行加熱,而形成作為液晶配向膜的塗膜或成為液晶配向膜的塗膜。此時,若固體成分濃度小於1重量%,則塗膜的膜厚變得過小而難以獲得良好的液晶配向膜,在固體成分濃度超過30重量%的情況下,塗膜的膜厚變得過大而難以獲得良好的液晶配向膜。尤其,在塗布於具有凹凸結構的電極面的情況下,因液晶配向劑的固體成分濃度超出所述範圍,而凹部與凸部的塗膜的膜厚容易產生偏差。
尤其優選的固體成分濃度的範圍根據將液晶配向劑塗布於基板的方法而不同。例如在利用印刷法的情況下,優選為將固體成分濃度設為5重量%~30重量%的範圍,由此將溶液黏度設為18 mPa·s~50 mPa·s的範圍。在利用噴墨法的情況下,優選為將固體成分濃度設為3重量%~10重量%的範圍,由此將溶液黏度設為5 mPa·s~20 mPa·s的範圍。製備本發明的液晶配向劑時的溫度優選為10℃~50℃,更優選為20℃~30℃。
<<液晶顯示元件的製造方法>> 其次,對液晶顯示元件10的製造方法進行說明。液晶顯示元件10可藉由包括下述步驟(1)及步驟(2)的方法來製造。 (1)將設置有像素電極14的第1基板12及設置有對向電極15的第2基板13設為一對基板,在所述一對基板的各基板的電極形成面上塗布所述液晶配向劑而形成塗膜的步驟(膜形成步驟)。 (2)隔著液晶層11將所述形成有塗膜的一對基板12、13以塗膜相向的方式對向配置而構築液晶單元的步驟(構築步驟)。
<準備步驟> 在步驟(1)之前,首先準備設置有像素電極14的第1基板12、及設置有對向電極15的第2基板13。關於電極面的凹凸結構,就可獲得顯示出良好的液晶配向性的液晶顯示元件的方面而言,優選為藉由包括以下步驟(p1)及步驟(p2)的方法來進行。 (p1)使用感放射線性樹脂組成物在所述第1基板及所述第2基板的至少一者(本實施形態中為第1基板12)上形成具有凹凸狀的圖案的樹脂層19的步驟。 (p2)利用電極材料將形成有樹脂層19的基板面覆蓋,由此形成具有凹凸結構的電極的步驟。
(關於步驟(p1)) 在步驟(p1)中所使用的感放射線性樹脂組成物優選為含有[A]鹼可溶性樹脂與[B]感光劑。 ([A]鹼可溶性樹脂) [A]鹼可溶性樹脂為可溶於鹼性溶劑的樹脂,且為具有鹼顯影性的樹脂。[A]鹼可溶性樹脂只要為具有所述性質的樹脂,則並無特別限定,優選為選自具有羧基的丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚矽氧烷及酚醛清漆樹脂中的至少一種。
作為所述具有羧基的丙烯酸樹脂,優選為含有具有羧基的構成單元與具有聚合性基的構成單元的聚合物。作為具有聚合性基的構成單元,優選為選自由具有環氧基的構成單元及具有(甲基)丙烯醯基氧基的構成單元所組成的組群中的至少一種。 所述聚醯亞胺樹脂,優選為在聚合物的構成單元中具有選自由羧基、酚性羥基、磺酸基及硫醇基所組成的組群中的至少一種的聚合物。
所述聚矽氧烷優選為在主鏈及側鏈的至少一者上具有自由基反應性基的聚矽氧烷。作為自由基反應性基,例如可列舉乙烯基、α-甲基乙烯基、(甲基)丙烯醯基、苯乙烯基等不飽和有機基,其中,優選為(甲基)丙烯醯基。所述酚醛清漆樹脂可藉由使酚類與福爾馬林等醛類進行縮聚來獲得。 再者,所述中所例示的[A]鹼可溶性樹脂可藉由適當組合有機化學的常法來合成。[A]鹼可溶性樹脂的重量平均分子量可根據聚合物的種類而適當選擇,例如可設為500~300,000。
([B]感光劑) 作為[B]感光劑,可列舉藉由放射線的照射而可產生自由基並引發聚合的化合物(光自由基聚合引發劑)或藉由放射線的照射而產生酸的化合物(光酸產生劑)。再者,光自由基聚合引發劑可用於負型圖案形成用的感放射線性樹脂組成物中,光酸產生劑可用於正型圖案形成用的感放射線性樹脂組成物中。
作為光自由基聚合引發劑,可列舉:O-醯基肟化合物、苯乙酮化合物、聯咪唑化合物等。作為這些的具體例,O-醯基肟化合物例如可列舉:1,2-辛二酮-1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲醯基肟)]、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-哢唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)等; 苯乙酮化合物例如可列舉:2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮等; 聯咪唑化合物例如可列舉:2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑等。這些化合物可單獨使用一種,也可組合使用兩種以上。 相對於[A]鹼可溶性樹脂100重量份,光自由基聚合引發劑的含有比例優選為設為1重量份~40重量份,更優選為設為5重量份~30重量份。
作為光酸產生劑,例如可列舉:肟磺酸酯化合物、鎓鹽、磺醯亞胺化合物、含有鹵素的化合物、重氮甲烷化合物、碸化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物、醌二疊氮化合物等。其中,可優選地使用肟磺酸酯化合物及醌二疊氮化合物。作為具體例,肟磺酸酯化合物例如可列舉:(5-丙基磺醯基氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈、(5-辛基磺醯基氧基亞胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈等;醌二疊氮化合物例如可列舉:酚性化合物或醇性化合物與1,2-萘醌二疊氮磺醯鹵或1,2-萘醌二疊氮磺醯胺的縮合物等。 相對於[A]鹼可溶性樹脂100重量份,光酸產生劑的含有比例優選為設為0.1重量份~50重量份,更優選為設為1重量份~30重量份。
所述感放射線性樹脂組成物含有[A]鹼可溶性樹脂及[B]感光劑,進而視需要也可含有其他成分。作為其他成分,例如可列舉:多官能丙烯酸酯、鏈轉移劑、表面活性劑、有機溶劑等。再者,這些的調配比例可根據所調配的各化合物而在不對所形成的圖案的精度帶來影響的範圍內進行適當設定。
使用感放射線性樹脂組成物的圖案形成優選為使用包括下述步驟(1p-1)~步驟(1p-3)的方法來進行。 (1p-1) 在基板上形成包含含有[A]鹼可溶性樹脂及[B]感光劑的感放射線性樹脂組成物的塗膜的步驟。 (1p-2) 對在步驟(1p-1)中所形成的塗膜照射放射線的步驟。 (1p-3) 對在步驟(1p-2)中經放射線照射的塗膜進行顯影而形成凹凸狀的圖案的步驟。
·步驟(1p-1) 本步驟中,將所述感放射線性樹脂組成物塗布於第1基板12的形成有有源元件等的面上後,優選為進行預烘烤而形成塗膜。作為感放射線性樹脂組成物的塗布方法,例如可列舉:噴霧法、輥塗布法、旋轉塗布法、狹縫塗布法(狹縫模塗布法)、棒塗布法、噴墨塗布法等。就可形成均勻厚度的膜的方面而言,這些中優選為旋轉塗布法或狹縫塗布法。可藉由例如加熱板或烘箱等加熱裝置進行預烘烤。預烘烤條件根據構成感放射線性樹脂組成物的各成分的種類、調配比例等而不同,優選為在70℃~120℃的溫度下進行。預烘烤時間優選為1分鐘~10分鐘。
·步驟(1p-2) 繼而,對在步驟(1p-1)中所形成的基板上的塗膜的至少一部分,優選為隔著具有凹凸狀的罩幕圖案的光罩幕照射放射線。光罩幕的罩幕圖案並無特別限定,例如為了獲得圖1的液晶顯示元件10,使用具有條紋狀的罩幕圖案的光罩幕。其中,作為放射線,優選為波長處於190 nm~450 nm的範圍的放射線,尤其優選為包含365 nm的紫外線的放射線。放射線的照射量為利用照度計(OAI 356型、OAI光學夥伴股份有限公司(OAI Optical Associates Inc.)製造)測定放射線的波長為365 nm下的強度而得的值,優選為100 J/m2
~10000 J/m2
,更優選為500 J/m2
~6000 J/m2
。
·步驟(1p-3) 繼而,藉由對在步驟(1p-2)中所得的放射線照射後的塗膜進行顯影,而將不需要的部分去除,從而獲得具有規定圖案的硬化膜。此時,在所使用的感放射線性樹脂組成物為負型圖案形成用的情況下,未經放射線照射的部分被去除,在為正型圖案形成用的情況下,經放射線照射的部分被去除。
所使用的顯影液優選為包含鹼(鹼性化合物)的水溶液的鹼性顯影液。作為鹼的例子,例如可列舉:氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨等無機鹼;四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨等四級銨鹽等。就獲得適當的顯影性的觀點而言,鹼性顯影液的鹼的濃度優選為0.1重量%~5重量%。
作為顯影方法,例如可列舉:覆液法、浸漬法、搖動浸漬法、噴淋法等。顯影時間優選為10秒~180秒。在顯影處理之後,例如接著進行30秒~90秒的流水清洗後,利用例如壓縮空氣或壓縮氮氣加以風乾,由此可獲得形成有具有所需的圖案(例如多個長條形狀以一定間隔排列在基板上而成的條紋狀)的樹脂層19的基板。所得的圖案的膜厚優選為0.1 μm~3 μm,更優選為0.1 μm~2 μm,進而更優選為0.1 μm~1 μm。
(關於步驟(p2)) 本步驟中,利用導電性材料並使用例如濺鍍法等而將形成有樹脂層19的基板面覆蓋,從而形成具有凹凸結構的電極。如此在基板上形成具有凹凸形狀的電極(圖1中為像素電極14)。
藉由使用了所述感放射線性樹脂組成物的方法而獲得的基板上的凹凸結構為沿與基板表面平行的方向交替具有凹面及凸面的結構,且凹面與凸面之間的階差部分為與基板表面大致垂直的垂直面。此時,根據所述方法,可將凹凸結構的凹面與凸面之間的距離即凹凸結構的高低差設定為0.1 μm~2.0 μm的範圍內的所需的值。另外,也可將凹凸結構的高低差設為例如0.1 μm~1.0 μm的範圍內。而且,與例如採用乾式蝕刻處理的情況相比,可簡便地進行製造。
再者,關於不具有凹凸結構的對向電極15,除了不在基板上形成樹脂層19的方面以外,基本上可藉由與像素電極14相同的方法來形成。在將對向電極15設為為經圖案化的透明導電膜的情況下,例如可利用以下方法等:在形成無圖案的透明導電膜後,藉由光·蝕刻來形成圖案的方法;在形成透明導電膜時使用具有所需的圖案的罩幕的方法。
<步驟(1)> 步驟(1)中,將設置有電極的兩片基板(第1基板12及第2基板13)作為一對,將所述液晶配向劑分別塗布於基板12、基板13的電極形成面上。液晶配向劑的塗布例如可藉由膠版印刷法、旋轉塗布法、輥塗布機法、噴墨印刷法等來進行。優選為膠版印刷法及噴墨印刷法。再者,在塗布液晶配向劑時,為了使基板表面與塗膜的黏合性更良好,也可對基板表面中的形成塗膜的面實施預先塗布官能性矽烷化合物、官能性鈦化合物等的前處理。
塗布液晶配向劑後,出於防止所塗布的液晶配向劑的流掛等目的,優選為實施預加熱(預烘烤)。預烘烤溫度優選為30℃~200℃,更優選為40℃~150℃,進而更優選為40℃~100℃。預烘烤時間優選為0.25分鐘~10分鐘,更優選為0.5分鐘~5分鐘。然後,出於將溶劑完全去除,且視需要將聚合物中所存在的醯胺酸結構加以熱醯亞胺化的目的,而實施煆燒(後烘烤)步驟。此時的煆燒溫度(後烘烤溫度)優選為80℃~300℃,更優選為120℃~250℃。後烘烤時間優選為5分鐘~200分鐘,更優選為10分鐘~100分鐘。以所述方式所形成的膜的膜厚優選為0.001 μm~1 μm,更優選為0.005 μm~0.5 μm。
如此在基板上形成液晶配向膜或成為液晶配向膜的塗膜。在液晶配向劑中所含的聚合物[P]為聚醯胺酸、或聚醯胺酸酯或具有醯亞胺環結構與醯胺酸結構的醯亞胺化聚合物的情況下,也可在塗膜形成後進一步進行加熱而使脫水閉環反應進行,從而製成進一步醯亞胺化的塗膜。
再者,在製造垂直配向(Vertical Alignment,VA)型液晶顯示元件的情況下,可將所述步驟(1)中所形成的塗膜直接用作液晶配向膜,也可對所述塗膜實施配向能力賦予處理。作為配向能力賦予處理,例如可列舉:利用卷附有包含尼龍、人造絲、棉等纖維的布的輥,對塗膜向一定方向進行摩擦的摩擦處理,對塗膜照射偏光或非偏光的放射線的光配向處理等。適合於VA型液晶顯示元件的液晶配向膜也可適用於聚合物穩定配向(Polymer sustained alignment,PSA)型液晶顯示元件。
<步驟(2)> (2-1)在製造VA型液晶顯示元件的情況下,準備以所述方式形成有液晶配向層16、液晶配向層17的兩片基板,並將液晶配置於對向配置的兩片基板之間,由此製造液晶單元。製造液晶單元中,例如可列舉以下的兩種方法。第一種方法為以前已知的方法。首先,以各自的液晶配向層16、液晶配向層17對向的方式,隔著間隙(單元間隙)而將兩片基板12、13對向配置,使用密封劑將兩片基板12、13的周邊部貼合。繼而,在由基板表面及密封劑劃分的單元間隙內注入填充液晶後,將注入孔密封,由此製造液晶單元。作為密封劑,例如可使用含有硬化劑及作為間隔物的氧化鋁球的環氧樹脂等。
第二種方法是被稱為液晶滴注(One Drop Fill,ODF)方式的方法。在形成有液晶配向層16、液晶配向層17的兩片基板12、13中的其中一片基板上的規定部位,塗布例如紫外光硬化性的密封劑,進而在液晶配向層的表面上的規定的數個部位滴加液晶組成物後,以液晶配向層16、液晶配向層17對向的方式貼合另一片基板,並且將液晶在基板的整個面上鋪開。繼而,對基板的整個面照射紫外光而使密封劑硬化,由此製造液晶單元。在利用任一種方法的情況下,均理想的是藉由對以所述方式製造的液晶單元,進而加熱至所使用的液晶成為各向同性相的溫度後,緩緩冷卻至室溫,從而去除液晶填充時的流動配向。
(2-2)在製造PSA型液晶顯示元件的情況下,將感光性化合物與液晶分子一起調配至液晶組成物中,且除了注入或滴加所述液晶組成物的方面以外,以與所述(2-1)相同的方式構築液晶單元。再者,作為所使用的感光性化合物的具體例,可應用液晶配向劑中可含有的感光性化合物的例示。液晶組成物中的感光性化合物的含有比例可根據感光性化合物的種類而適當設定,相對於液晶,優選為設為例如0.01重量%~5重量%。然後,在對一對基板所具有的導電膜之間施加了電壓的狀態下,對液晶單元照射放射線。
此處,所施加的電壓例如可設為5 V~50 V的直流或交流。另外,作為所照射的放射線,例如可使用包含波長為150 nm~800 nm的光的紫外線及可見光線,優選為包含波長為300 nm~400 nm的光的紫外線。作為照射光的光源,例如可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、氘燈、金屬鹵化物燈、氬共振燈、氙燈、準分子雷射等。再者,所述優選的波長區域的紫外線可藉由將光源與例如濾光片、衍射光柵等並用的方法等來獲得。作為放射線的照射量,優選為1,000 J/m2
~200,000 J/m2
,更優選為1,000 J/m2
~100,000 J/m2
。
(2-3)在使用含有感光性化合物的液晶配向劑在基板上形成塗膜的情況下,可採用經過如下步驟的方法:首先,根據所述(2-1)而構築液晶單元,然後,在對一對基板所具有的導電膜之間施加電壓的狀態下,對液晶單元照射放射線。所施加的電壓例如可設為0.1 V~30 V的直流或交流。關於所照射的放射線的條件,可應用所述(2-2)的說明。
然後,可藉由在液晶單元的外側表面上貼合偏光板而獲得液晶顯示元件10。作為貼合於液晶單元的外表面上的偏光板,可列舉:以乙酸纖維素保護膜夾持被稱為“H膜”的偏光膜而成的偏光板或包含H膜其本身的偏光板,所述“H膜”是一邊使聚乙烯醇延伸配向一邊使其吸收碘而成的膜。
液晶顯示元件10可有效地應用於多種裝置,例如可用於:鐘錶、便攜式遊戲機、文字處理器(word processor)、筆記型個人計算機(note type personal computer)、汽車導航系統、攝錄機(camcorder)、個人數字助理(Personal Digital Assistant,PDA)、數字照相機(digital camera)、移動電話、智能手機(smartphone)、各種監視器、液晶電視、信息顯示器等的各種顯示裝置。
<其他實施形態> 本發明的液晶顯示元件並不限定於所述實施形態的構成,例如也可為如下般的構成。
關於圖1的液晶顯示單元10,將像素電極14的液晶層11側的面形成為凹凸結構,將對向電極15的液晶層11側的面形成為平坦面,但只要像素電極14及對向電極15的至少一者在液晶層11側的面上具有凹凸結構即可。具體而言,在像素電極14及對向電極15中,可將各自的液晶層11側的面形成為凹凸結構,或者將對向電極15的液晶層11側的面形成為凹凸結構,將像素電極14的液晶層11側的面形成為平坦面。
可利用不含聚合物[P]的液晶配向劑來形成設置於不具有凹凸結構的電極上的液晶配向層。例如,在圖1的液晶顯示元件10中,利用如下液晶配向劑來形成在對向電極15上所形成的液晶配向層17,所述液晶配向劑為不含聚合物[P]的液晶配向劑即僅含有作為聚合物成分的重量平均分子量小於30,000的聚合物的液晶配向劑。
圖1的液晶顯示元件10中,藉由樹脂層19而在第1基板12的液晶層11側的基板面上形成有條紋狀的圖案,且設為由源自所述條紋狀的圖案的結構形成像素電極14的凹凸結構的構成。藉由樹脂層19而形成的圖案形狀並不限定於條紋狀,例如可採用V字狀、格子狀等多種形狀。
對各像素進行2分割或4分割,而在每個像素上形成多個子像素,並且每個子像素的表面的凹凸結構可沿不同的方向延伸。在所述情況下,在第1基板12與像素電極14之間所配置的圖案優選為在與各子像素相對應的每個區域中以沿不同的方向延伸方式形成。
在將各像素分割為子像素的情況下,在所鄰接的子像素之間優選為電極表面的凹凸結構沿相互正交的方向延伸。因此,在第1基板12與像素電極14之間所配置的圖案也優選為在與所鄰接的子像素相對應的各區域間以條紋狀的結構沿相互正交的方向延伸的方式形成。
所述實施形態中,使用含有[A]鹼可溶性樹脂及[B]感光劑的感放射線性樹脂組成物形成凹凸狀的圖案,並利用導電性材料將形成有所述圖案的基板面覆蓋,由此形成具有凹凸結構的電極。具有凹凸結構的電極的形成方法並不限定於所述,例如也可採用如下方法等:對在基板上所形成的包含樹脂的薄膜進行乾式蝕刻處理而形成圖案,並在所述所形成的圖案上形成電極。
在第2基板13中,可在第2基板13與對向電極15之間設置例如紅(R)、綠(G)及藍(B)的濾光片排列而成的彩色濾光片(省略圖式)。再者,在對向電極15的表面形成有凹凸結構的情況下,優選為將彩色濾光片設置於第2基板13與凹凸狀的圖案之間。 [實施例]
以下,利用實施例來對本發明進一步進行具體說明,但本發明並不限制於這些實施例。
在以下的實施例及比較例中,利用以下的方法來測定聚合物溶液中的聚醯亞胺的醯亞胺化率、聚合物溶液的溶液黏度、及聚合物的重量平均分子量。以下,有時將式X所表示的化合物簡稱為“化合物X”。 [聚醯亞胺的醯亞胺化率] 將聚醯亞胺的溶液投入至純水中,將所得的沉澱在室溫下充分地減壓乾燥後,溶解於氘化二甲基亞碸中,以四甲基矽烷作為基準物質,在室溫下測定1
H-核磁共振(1
H-Nuclear magnetic resonance,1
H-NMR)。根據所得的1
H-NMR光譜,利用下述數式(1)來求出醯亞胺化率[%]。 醯亞胺化率[%]=(1-A1
/A2
×α)×100 …(1) (數式(1)中,A1
是在化學位移10 ppm附近出現的源自NH基的質子的峰值面積,A2
是源自其他質子的峰值面積,α是其他質子相對於聚合物的前驅物(聚醯胺酸)中的NH基的一個質子的個數比例) [聚合物溶液的溶液黏度] 使用E型旋轉黏度計,對使用規定的溶媒來製備成聚合物濃度為10重量%的溶液,在25℃下測定聚合物溶液的溶液黏度[mPa·s]。 [聚合物的重量平均分子量Mw] 重量平均分子量是利用以下條件的凝膠滲透色譜法來測定的聚苯乙烯換算值。 管柱:東曹(Tosoh)(股)製造、TSKgelGRCXLII 溶劑:四氫呋喃 溫度:40℃ 壓力:68 kgf/cm2
<聚合物(P)的合成> [合成例1] 將作為四羧酸二酐的2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐100莫耳份、作為二胺的膽甾烷基氧基-2,4-二胺基苯10莫耳份、所述式(E-1-2)所表示的化合物20莫耳份、3,5-二胺基苯甲酸60莫耳份、及所述式(D-2-6)所表示的化合物10莫耳份溶解於N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中,在60℃下進行6小時反應,獲得含有20重量%的聚醯胺酸的溶液。少量分取所得的聚醯胺酸溶液,並添加NMP而製成聚醯胺酸濃度為10重量%的溶液,對其進行測定而得的溶液黏度為80 mPa·s。 繼而,在所得的聚醯胺酸溶液中,追加NMP而製成聚醯胺酸濃度為7重量%的溶液,相對於所使用的四羧酸二酐的總量,分別添加1.3倍莫耳的吡啶及乙酸酐,在110℃下進行4小時脫水閉環反應。脫水閉環反應後,利用新的NMP對系統內的溶媒進行溶媒置換,由此獲得含有16重量%的醯亞胺化率為約71%的作為聚醯亞胺的聚合物(PI-1)的溶液。聚合物(PI-1)的重量平均分子量Mw為50,000。
[合成例2、合成例3] 除了如下述表1中所記載般變更所使用的四羧酸二酐及二胺的種類及量、進而適當變更聚醯胺酸的合成反應時間的方面以外,藉由與合成例1相同的操作來合成作為聚醯亞胺的聚合物(PI-2)及聚合物(PI-3)。將所得的聚合物的重量平均分子量Mw及醯亞胺化率一併示於下述表1中。
[合成例4] 將作為四羧酸二酐的2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐50莫耳份、及1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐50莫耳份、以及作為二胺的所述式(E-1-4)所表示的化合物40莫耳份、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺30莫耳份、及所述式(D-2-7)所表示的化合物30莫耳份溶解於NMP中,在40℃下進行3小時反應,獲得含有10重量%的作為聚醯胺酸的聚合物(PAA-1)的溶液。少量分取所得的聚醯胺酸溶液,對其進行測定而得的溶液黏度為120 mPa·s,重量平均分子量Mw為80,000。 [合成例5] 除了如下述表1中所記載般變更所使用的四羧酸二酐及二胺的種類及量、進而適當變更聚醯胺酸的合成反應時間的方面以外,藉由進行與合成例4相同的操作來合成作為聚醯胺酸的聚合物(PAA-2)。聚合物的重量平均分子量Mw為15,000。
[合成例6] 將作為四羧酸二酐的1R,2S,4S,5R-1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐30 g添加至乙醇500 mL中。過濾分離所得的沉澱物,並在利用乙醇進行清洗後進行減壓乾燥,由此以粉末狀獲得作為四羧酸二酯的化合物(t-4E)。繼而,使化合物(t-4E)100莫耳份溶解於NMP後,向其中添加作為二胺的所述式(E-1-4)所表示的化合物40莫耳份、N-(4-胺基-2-甲基苯基)-4-胺基苯甲醯胺30莫耳份、及所述式(D-2-1)所表示的化合物30莫耳份並加以溶解。將4-(4,6-二甲氧基-1,3,5-三嗪-2-基)-4-甲基嗎啉鎓氯化物(DMT-MM、15重量%±2重量%水合物)300莫耳份添加至所述溶液中,在室溫下進行4小時反應,而獲得含有10重量%的作為聚醯胺酸酯的聚合物(PAE-1)的溶液。所得的聚合物(PAE-1)的重量平均分子量Mw為70,000,聚合物黏度為102 mPa·s。
[表1]
表1中,四羧酸二酐及二胺的括號內的數值表示相對於聚合物的合成中所使用的四羧酸二酐的合計100莫耳份而言的各化合物的使用比例[莫耳份]。表1中的化合物的簡稱分別為以下含義。 <四羧酸酸二酐> t-1:2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐 t-2:2,4,6,8-四羧基雙環[3.3.0]辛烷-2:4,6:8-二酐 t-3:1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐 t-4:1R,2S,4S,5R-1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐(PMDA-HS) t-5:1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐 t-6:均苯四甲酸二酐 <二胺> d-1:3,5-二胺基苯甲酸 d-2:4,4'-二胺基二苯基甲烷 d-3:2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺 d-4:N-(4-胺基-2-甲基苯基)-4-胺基苯甲醯胺(下述式(d-4)所表示的化合物) d-5:膽甾烷基氧基-2,4-二胺基苯 [化7]
[實施例1] (1) 液晶配向劑的製備 將作為溶劑的NMP、N-乙基-2-吡咯烷酮(NEP)、丁基溶纖劑(BC)及丙二醇單丁醚(PB)添加至含有聚合物(PI-1)作為聚合物[P]的溶液中,製成溶液組成為NMP:NEP:BC:PB=30:20:30:20(重量比)、固體成分濃度為7.0重量%的溶液。使用孔徑為1 μm的過濾器對所述溶液進行過濾,由此製備液晶配向劑(S-1)。
(2)感放射線性樹脂組成物的製備 <感放射線性樹脂(α-I)的合成> 將2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)8重量份及二乙二醇甲基乙醚220重量份投入至包括冷卻管及攪拌機的燒瓶中。繼而,投入甲基丙烯酸13重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯40重量份、α-甲基-對羥基苯乙烯10重量份、苯乙烯10重量份、甲基丙烯酸四氫糠酯12重量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺15重量份及甲基丙烯酸正月桂酯10重量份,在氮置換後,緩慢地進行攪拌,並使溶液的溫度上升至70℃,保持所述溫度5小時而進行聚合。然後,獲得含有作為共聚物的含羧基及環氧基的鹼可溶性樹脂即樹脂(α-I)的溶液。樹脂(α-I)的Mw為8,000。
<正型感放射線性樹脂組成物的製備> 將含有樹脂(α-I)作為鹼可溶性樹脂的聚合物溶液100重量份(固體成分)、作為感光劑的下述式(b-1)所表示的醌二疊氮化合物20重量份加以混合,利用孔徑為0.2 μm的薄膜過濾器進行過濾,由此製備正型感放射線性樹脂組成物(G-1)。 [化8]
(3)膜厚均勻性的評價 藉由將所述(1)中所製備的液晶配向劑(S-1)塗布於具有凹凸結構的電極面上,而評價液晶配向膜的膜厚均勻性。首先,使用旋轉器在玻璃基板上塗布所述(2)中所製備的感放射性樹脂組成物(G-1)後,在加熱板上在90℃下進行2分鐘預烘烤而形成塗膜。繼而,使用佳能(Canon)(股)製造PLA(注冊商標)-501F曝光機(超高壓水銀燈),隔著具有20 μm寬的線/空間圖案的罩幕對所得的玻璃基板上的塗膜進行曝光。然後,在2.38質量%的四甲基氫氧化銨水溶液中以25℃、60秒的條件進行顯影。繼而,利用超純水進行1分鐘流水清洗,從而形成經圖案化的硬化膜。使用觸針式膜厚測定器(α階)測定硬化膜的膜厚,並確認到為0.3 μm到0.5 μm的範圍。
繼而,使用ITO濺鍍裝置(愛發科(ULVAC)公司製造、型號:CS-200)在硬化膜的表面上濺鍍ITO。然後,藉由利用200℃的烘箱進行1小時加熱,而形成膜厚150 nm的ITO電極。 繼而,使用液晶配向膜印刷機(日本寫真印刷機(股)製造、奧古斯特羅馬(Ong Straw Marr)型式“S40L-532”)將所述(1)中所製備的液晶配向劑(S-1)塗布於玻璃基板的電極形成面上。其次,利用80℃的加熱板進行1分鐘預烘烤後,利用對庫內進行了氮置換的 200℃的烘箱進行1小時加熱(後烘烤),由此形成液晶配向膜。針對所得的液晶配向膜,使用觸針式膜厚計(科磊(KLA Tencor)公司製造),測定凹部的液晶配向膜的膜厚D1[nm]與凸部的液晶配向膜的膜厚D2[nm]。另外,使用下述數式(2)算出膜厚差ΔD[%],並基於膜厚差ΔD評價液晶配向膜的膜厚均勻性。 ΔD=[(D1-D2)/D1]´100 …(2) 評價以如下方式進行:將膜厚差ΔD為0%以上且小於2.0%的情況評價為膜厚均勻性“優良”,將膜厚差ΔD為2.0%以上且小於5.0%的情況評價為膜厚均勻性“良好”,將膜厚差ΔD為5.0%以上且小於10.0%的情況評價為膜厚均勻性“可”,將膜厚差ΔD為10.0%以上的情況評價為膜厚均勻性“不良”。其結果,使用所述實施例的液晶配向劑(S-1)形成的液晶配向膜的膜厚均勻性為“良好”的評價。
(4)液晶組成物LC-A的製備 對於向列液晶(默克(Merck)公司製造、MLC-6608)10 g,添加下述式(Lc-1)所表示的光聚合性化合物0.3重量%而加以混合,由此獲得液晶組成物LC-A。 [化9]
(5)液晶顯示元件的製造 製造圖1所示的液晶顯示元件10。首先,以與所述(3)相同的方式在玻璃基板上的整個面上形成具有凹凸結構的電極及液晶配向膜。另外,以與所述(3)相同的方式使用液晶配向膜印刷機(日本寫真印刷機(股)製造、奧古斯特羅馬(Ong Straw Marr)型式“S40L-532”)將所述(1)中所製備的液晶配向劑(S-1)塗布於玻璃基板的電極形成面上。其次,利用80℃的加熱板進行1分鐘預烘烤後,利用對庫內進行了氮置換的200℃的烘箱進行1小時加熱(後烘烤),由此形成液晶配向膜。 其次,針對所述一對基板中的其中一片基板,將加入有直徑為5.5 μm的氧化鋁球的環氧樹脂黏合劑塗布於具有液晶配向膜的面的外緣,然後,以液晶配向膜面相向的方式將一對基板重疊壓接,並使黏合劑硬化。繼而,自液晶注入口向一對基板之間填充所述(4)中所製備的液晶組成物LC-A後,利用丙烯酸系光硬化黏合劑將液晶注入口密封,從而獲得液晶單元。針對所得的液晶單元,對電極之間施加頻率為60 Hz的交流10 V,並在液晶驅動的狀態下,利用使用了金屬鹵化物燈作為光源的紫外線照射裝置以50,000 J/m2
的照射量照射紫外線。再者,所述照射量為使用以波長365 nm為基準進行測量的光量計所測量的值。進而,以兩片偏光板的偏光方向相互正交的方式將偏光板貼合於基板的外側兩面,從而製作液晶顯示元件。
(6)液晶配向性的評價 藉由所述(5)而製作液晶顯示元件後,立即在偏光板直角交叉的條件下使用偏光顯微鏡進行觀察,由此評價初期的液晶配向性。另外,製作液晶顯示元件後,經過3個月後,再次以相同的方式對液晶顯示元件進行觀察,由此評價長期的液晶配向性。作為液晶配向性的判定基準,將未觀察到漏光的情況判定為“最優(◎)”,將在電極的凹凸形狀的周邊略微觀察到漏光的情況判定為“良好(○)”,將不僅在凹凸形狀的周邊也在面內觀察到漏光的情況判定為“不良(×)”。其結果,所述實施例的初期的液晶配向性及長期的液晶配向性均為“最優(◎)”的評價。
[實施例2、實施例3及比較例1] 除了如下述表2中所記載般變更液晶配向劑的組成及固體成分濃度的方面以外,以與實施例1相同的方式製備液晶配向劑。再者,實施例2及比較例1中,將添加劑與聚合物一起調配至液晶配向劑中。另外,針對實施例2、實施例3及比較例1,使用所得的液晶配向劑以與實施例1相同的方式評價膜厚均勻性及液晶配向性。將所述評價結果一併示於下述表2中。
[表2]
表2中,添加劑的括號內的數值表示相對於聚合物100重量份而言的各化合物的使用比例[重量份]。溶劑組成的數值表示相對於液晶配向劑的製備中所使用的溶劑的合計100重量份而言的各溶劑的使用比例[重量份]。添加劑及溶劑的簡稱分別為以下含義。 <添加劑> Add-1:所述式(c-1-12)所表示的化合物 Add-2:N,N,N',N'-四縮水甘油基-4,4'-二胺基二苯基甲烷 <溶劑> NMP:N-甲基-2-吡咯烷酮 NEP:N-乙基-2-吡咯烷酮 DM:1,3-二甲基-咪唑烷酮 EQM:3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺 EQB:3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺 BC:丁基溶纖劑 PB:丙二醇單丁醚 DPM:二丙二醇單甲醚 DEDG:二乙二醇二乙醚 DAA:二丙酮醇 PGDAc:丙二醇二乙酸酯 HG:己二醇 PG:丙二醇
[實施例4] (1) 液晶配向劑的製備 將作為添加劑的相對於聚合物(PI-1)100重量份而言為10重量份的4,4'-二甲基丙烯醯基氧基聯苯、以及作為溶劑的NMP、EQB、BC及DAA添加至含有聚合物(PI-1)作為聚合物[P]的溶液中,製成溶液組成為NMP:EQB:BC:DAA=30:20:30:20(重量比)、固體成分濃度為4.0重量%的溶液。使用孔徑為1 μm的過濾器對所述溶液進行過濾,由此製備液晶配向劑(S-4)。
(2)感放射線性樹脂組成物的製備 <感放射線性樹脂(α-II)的合成> 在乾燥氮氣流下,使雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷(中央硝子(Central Glass)公司)29.30 g(0.08莫耳)、1,3-雙(3-胺基丙基)四甲基二矽氧烷1.24 g(0.005莫耳)、作為封端劑的3-胺基苯酚(東京化成工業公司)3.27 g(0.03莫耳)溶解於N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)80 g中。向其中一併添加雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐(馬納克(manac)公司)31.2 g(0.1莫耳)與NMP 20 g,在20℃下反應1小時,繼而,在50℃下反應4小時。然後,添加15 g二甲苯,一邊使水與二甲苯一起共沸,一邊在150℃下攪拌5小時。攪拌結束後,將溶液投入至水3 L中而獲得白色沉澱。藉由過濾收集所述沉澱,利用水進行3次清洗後,利用80℃的真空乾燥機乾燥20小時,從而獲得作為聚合物的聚醯亞胺前驅物系樹脂即樹脂(α-II)。
<正型感放射線性樹脂組成物的製備> 將含有樹脂(α-II)作為鹼可溶性樹脂的聚合物溶液100重量份(固體成分)、作為多官能丙烯酸酯化合物的琥珀酸改性季戊四醇三丙烯酸酯(東亞合成公司的“亞羅尼斯(Aronix)(注冊商標)TO-756”)20重量份、及作為感光劑的所述式(b-1)所表示的醌二疊氮化合物20重量份加以混合,利用孔徑為0.2 μm的薄膜過濾器進行過濾,由此製備正型感放射線性樹脂組成物(G-2)。
(3)膜厚均勻性的評價 除了使用所述(1)中所製備的液晶配向劑(S-4)及所述(2)中所製備的感放射線性樹脂組成物(G-2)的方面以外,藉由進行與實施例1(3)相同的操作來評價液晶配向膜的膜厚均勻性。其結果,實施例4中為“良好”的評價。
(4)液晶顯示元件的製造 製造圖1所示的液晶顯示元件10。首先,以與實施例1(5)相同的方式在一對玻璃基板中的其中一片玻璃基板上形成具有凹凸結構的像素電極及液晶配向膜,並且在另一片玻璃基板上形成對向電極及液晶配向膜。 其次,針對所述一對基板中的其中一片基板,將加入有直徑為5.5 μm的氧化鋁球的環氧樹脂黏合劑塗布於具有液晶配向膜的面的外緣,然後,以液晶配向膜面相向的方式將一對基板重疊壓接,並使黏合劑硬化。繼而,自液晶注入口向一對基板之間填充向列液晶(默克(Merck)公司製造、MLC-6608)後,利用丙烯酸系光硬化黏合劑將液晶注入口密封,從而獲得液晶單元。針對所得的液晶單元,對電極之間施加頻率為60 Hz的交流10 V,並在液晶驅動的狀態下,利用使用了金屬鹵化物燈作為光源的紫外線照射裝置以80,000 J/m2
的照射量照射紫外線。再者,所述照射量為使用以波長365 nm為基準進行測量的光量計所測量的值。進而,以兩片偏光板的偏光方向相互正交的方式將偏光板貼合於基板的外側兩面,從而製作液晶顯示元件。
(5)液晶配向性的評價 使用所述(4)中所得的液晶顯示元件,以與實施例1(6)相同的方式評價液晶配向性。其結果,實施例4中,初期的液晶配向性及長期的液晶配向性均為“最優(◎)”的評價。
[實施例5、實施例6及比較例2] 除了如下述表3中所記載般變更液晶配向劑的組成及固體成分濃度的方面以外,以與實施例4相同的方式製備液晶配向劑。另外,針對實施例5、實施例6及比較例2,使用所得的液晶配向劑,以與實施例1相同的方式評價膜厚均勻性,並且以與實施例4相同的方式製造液晶顯示元件,並評價液晶配向性。將其評價結果一併示於下述表3中。
[表3]
表3中,添加劑的括號內的數值及溶劑組成的數值為與所述表2相同的含義。添加劑Add-2及溶劑的簡稱與所述表2相同。添加劑Add-3為以下的含義。 <添加劑> Add-3:4,4'-二甲基丙烯醯基氧基聯苯(下述式(add-3)所表示的化合物) [化10]
實施例1~實施例6中,關於在具有凹凸結構的電極上所形成的液晶配向膜,凹部的膜厚與凸部的膜厚的差小,膜厚均勻性為“優良(◎)”或“良好(○)”的評價。另外,液晶顯示元件的液晶配向性(初期及長期)也為“優良(◎)”或“良好(○)”的評價。相對於此,比較例中,液晶配向膜的膜厚在凹部與凸部處的差大,膜厚均勻性為“不良(×)”的評價。另外,液晶顯示元件的液晶配向性為初期及長期均“不良(×)”的評價。根據以上的結果可知:藉由使用含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]的液晶配向劑,可改善包括具有凹凸結構的電極的液晶顯示元件的液晶配向性。
10‧‧‧液晶顯示元件
11‧‧‧液晶層
12‧‧‧第1基板
13‧‧‧第2基板
14‧‧‧像素電極
14a‧‧‧凹面
14b‧‧‧凸面
15‧‧‧對向電極
16、17‧‧‧液晶配向層
18、18a‧‧‧液晶分子
19‧‧‧樹脂層
19a‧‧‧線狀結構
11‧‧‧液晶層
12‧‧‧第1基板
13‧‧‧第2基板
14‧‧‧像素電極
14a‧‧‧凹面
14b‧‧‧凸面
15‧‧‧對向電極
16、17‧‧‧液晶配向層
18、18a‧‧‧液晶分子
19‧‧‧樹脂層
19a‧‧‧線狀結構
圖1是示意性地表示液晶顯示元件的概略構成的剖面圖。
10‧‧‧液晶顯示元件
11‧‧‧液晶層
12‧‧‧第1基板
13‧‧‧第2基板
14‧‧‧像素電極
14a‧‧‧凹面
14b‧‧‧凸面
15‧‧‧對向電極
16、17‧‧‧液晶配向層
18、18a‧‧‧液晶分子
19‧‧‧樹脂層
19a‧‧‧線狀結構
Claims (19)
- 一種液晶顯示元件,其特徵在於包括:液晶層、以夾持所述液晶層的方式對向配置的一對基板即第1基板及第2基板、設置於所述第1基板的所述液晶層側的像素電極、與所述像素電極對向地設置於所述第2基板的所述液晶層側的對向電極、以及設置於所述像素電極及所述對向電極的各自的所述液晶層側的液晶配向層,並且 所述像素電極及所述對向電極的至少一者在所述液晶層側的面上具有凹凸結構, 設置於具有所述凹凸結構的電極上的所述液晶配向層是由含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]的液晶配向劑形成。
- 如申請專利範圍第1項所述的液晶顯示元件,所述聚合物[P]為選自由聚醯亞胺及其前驅物所組成的組群中的至少一種聚合物。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶顯示元件,所述聚合物[P]為使四羧酸衍生物與二胺反應而得的聚合物,所述四羧酸衍生物為選自由四羧酸二酐、四羧酸二酯及四羧酸二酯二鹵化物所組成的組群中的至少一種, 所述四羧酸衍生物含有具有選自由環丁烷環結構、環戊烷環結構及環己烷環結構所組成的組群中的至少一種的化合物。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶顯示元件,所述液晶配向劑含有具有選自由含氮雜環、二級胺基及三級胺基所組成的組群中的至少一種含氮結構的成分,其中,含氮雜環不包括聚醯亞胺所具有的醯亞胺環。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶顯示元件,所述凹凸結構是在所述像素電極與所述第1項基板之間、及所述對向電極與所述第2基板之間的至少一處,配置使用感放射線性樹脂組成物所形成的凹凸狀的圖案而形成。
- 如申請專利範圍第5項所述的液晶顯示元件,所述感放射線性樹脂組成物含有[A]鹼可溶性樹脂與[B]感光劑。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶顯示元件,其為垂直配向型的液晶顯示元件。
- 一種液晶顯示元件的製造方法,其特徵在於包括:將設置有像素電極的第1基板及設置有對向電極的第2基板設為一對基板,在所述一對基板的各基板的電極形成面上塗布液晶配向劑而形成塗膜的膜形成步驟,以及 隔著液晶層將形成有塗膜的所述一對基板以所述塗膜相向的方式對向配置而構築液晶單元的構築步驟,並且 所述像素電極及所述對向電極的至少一者在所述液晶層側的面上具有凹凸結構, 所述液晶配向劑含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]。
- 如申請專利範圍第8項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述液晶配向劑含有具有選自由羥基、羥基烷基、烷氧基、烷氧基烷基、環氧基、異氰酸酯基、嵌段異氰酸酯基、氧雜環丁基、環碳酸酯基、三烷氧基矽烷基及聚合性不飽和結合基所組成的組群中的至少一種基的交聯性化合物。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述液晶配向劑含有選自由N-乙基-2-吡咯烷酮、1,3-二甲基-咪唑烷酮、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺、丙二醇單丁醚、二乙二醇二乙醚、二丙酮醇、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇單甲醚及碳酸亞丙酯所組成的組群中的至少一種有機溶劑。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述液晶配向劑含有25℃下的黏度為10 mP·s以上的有機溶劑。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述液晶配向劑含有具有兩個以上的羥基的化合物作為有機溶劑。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述膜形成步驟為印刷塗布所述液晶配向劑而形成所述塗膜的步驟,並且 所述液晶配向劑的固體成分濃度為5.0重量%~30.0重量%。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述膜形成步驟為噴墨塗布所述液晶配向劑而形成所述塗膜的步驟,並且 所述液晶配向劑的固體成分濃度為3.0重量%~10.0重量%。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,還包括:使用感放射線性樹脂組成物在所述第1基板及所述第2基板的至少一者上形成具有凹凸狀的圖案的樹脂層的步驟,以及 利用導電性材料將形成有所述樹脂層的基板面覆蓋,由此在基板上形成具有所述凹凸結構的電極的步驟。
- 如申請專利範圍第15項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述感放射線性樹脂組成物含有[A]鹼可溶性樹脂與[B]感光劑。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的液晶顯示元件的製造方法,使所述液晶層及所述塗膜的至少一者預先含有利用放射線而進行反應的感光性化合物,並且 在所述液晶單元的構築後,還包括在對所述液晶單元施加了電壓的狀態下照射放射線的步驟。
- 如申請專利範圍第17項所述的液晶顯示元件的製造方法,所述感光性化合物為具有自由基聚合性基的化合物。
- 一種液晶配向劑,其特徵在於:其用以在具有凹凸結構的電極上形成液晶配向膜,且含有重量平均分子量為30,000以上的聚合物[P]。
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