TW201629547A - 偏光膜、偏光板及偏光膜的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種具有厚度薄之偏光膜(厚度≦10μm)的偏光板，可抑制安裝於顯示裝置時之光洩漏的偏光板。又，提供一種偏光膜之製造方法，其係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下，並含有以下之步驟(1)的偏光膜之製造方法。該步驟(1)係準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下。

Description

偏光膜、偏光板及偏光膜的製造方法
本發明係關於偏光膜、偏光板及偏光膜之製造方法。
偏光板係廣泛地使用作為液晶顯示裝置中之偏光之供給元件，又作為偏光之偵測元件。偏光板主要係使用於由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光膜透過接著劑貼合由三乙醯纖維素等所構成之保護膜者，但近年來，隨著對液晶顯示裝置之筆記型個人電腦或行動電話等行動機器之擴展，還有對大型電視之擴展等，而要求偏光板之薄型輕量化。
以往之偏光膜係將聚乙烯醇系樹脂之胚膜(一般厚度為75至30μm左右)進行延伸、染色而製造，且延伸後之膜之厚度一般為30至12μm左右。為了薄膜化，聚乙烯醇系樹脂之胚膜若使用30μm以下者，即有在延伸時之膜容易破裂等生產性之問題。
因此，為了對應偏光板之薄型化，已提出於基材膜上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液的方法。如 此之方法中係藉由於基材膜上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜後，對於此積層膜施予延伸及染色處理而對聚乙烯醇系樹脂層賦予偏光機能而得到偏光膜。(專利文獻1及2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2011-150313號公報
[專利文獻2]日本特開2012-159778號公報
如上述，藉由含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液的塗佈得到偏光膜而製造偏光板之方法係，可比較簡單地達成偏光板之薄膜化。惟，藉由上述之方法所製造之偏光板安裝於液晶顯示裝置時，會產生光洩漏，而有無法獲得高對比度之問題。
本發明係有鑑於上述課題而成者，其目的係提供一種偏光板，係具有厚度薄之偏光膜(厚度≦10μm)之偏光板，可抑制將如此之偏光板安裝於顯示裝置時之光洩漏，進一步提供如此之偏光膜及偏光板之製造方法。
本發明係含有下述者。
[1]一種偏光膜，其厚度為10μm以下，且面內之吸收軸的擺幅為0.2°以下。
[2]一種偏光板，係將保護膜貼合於[1]項所述之偏光膜而成者。
[3]一種顯示裝置，其具有[1]或[2]項所述之偏光膜。
[4]一種偏光膜之製造方法，係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下之偏光膜之製造方法，其包含下列步驟(1)至(5)：(1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1與基材膜之厚度d之比(σ 1/d)為9.0×10-3以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2與基材膜之厚度d之比(σ 2/d)為8.0×10-3μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後，使塗膜乾燥，藉此，形成聚乙烯醇系樹脂層獲得積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟；(4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光膜之步驟。
[5]一種偏光膜之製造方法，係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下之偏光膜之製造方法，其包含下列步驟(1)至(5)： (1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後，使塗膜乾燥，藉此，形成聚乙烯醇系樹脂層獲得積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟；(4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光膜之步驟。
[6]如[4]或[5]項所述之偏光膜之製造方法，其中，包含於前述偏光性積層膜中之偏光膜上透過接著劑或黏著劑而積層保護膜之步驟。
[7]如[4]或[5]項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜為藉由熔融擠出而製膜之基材膜。
[8]如[4]項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜之厚度為5至300μm。
[9]如[5]項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜之厚度為20至150μm。
[10]如[4]或[5]項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜為含有聚烯烴系樹脂之基材膜。
依據本發明之方法，可提供一種可抑制安裝於顯示裝置時之光洩漏的偏光板，組入如此之偏光板的顯示裝置係可達成高對比度。
1‧‧‧TD方向
2‧‧‧MD方向
3‧‧‧偏光膜
4‧‧‧基材膜
5‧‧‧偏光性積層膜
6‧‧‧吸收軸
7‧‧‧點線箭號
8‧‧‧保護膜
9‧‧‧本發明之偏光板
10‧‧‧液晶單元
11‧‧‧背光單元
12‧‧‧液晶顯示裝置
第1圖係用以說明測定吸收軸之擺幅的方法之圖。
第2圖係表示本發明之偏光板之層構成之一例的概略圖。
第3圖係表示本發明之顯示裝置之層構成之一例的概略圖。
本發明之偏光膜係可依據含有以下之步驟(1)至(5)的步驟來製造。對於各步驟依序進行說明。
(1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後使塗膜乾燥，藉此形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟； (4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光膜之步驟。
又，本發明之偏光膜亦可藉由含有以下之步驟(1)至(5)的步驟來製造。
(1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1與基材膜之厚度d之比(σ 1/d)為9.0×10-3以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2與基材膜之厚度d之比(σ 2/d)為8.0×10-3μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後使塗膜乾燥，藉此，形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟；(4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光膜之步驟。
[步驟(1)]
在步驟(1)係準備基材膜，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得 的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下。
在步驟(1)準備之基材膜可為含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1與基材膜之厚度d之比(σ 1/d)為9.0×10-3以下，
且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2與基材膜之厚度d之比(σ 2/d)為8.0×10-3μm以下。
(基材膜)
形成基材膜之樹脂以含有透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異之熱塑性樹脂為佳。熱塑性樹脂係可舉例如纖維素三乙酸酯等之纖維素酯系樹脂；聚酯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等之聚烯烴系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚芳基酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂等。本說明書中，(甲基)丙烯酸系樹脂係甲基丙烯酸系樹脂及丙烯酸系樹脂之總稱。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。 纖維素酯系樹脂係可舉例如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯等。此等之中，以纖維素三乙酸酯為佳。纖維素三乙酸酯係有許多種類之製品被販賣，就容易取得之點及成本之點上為有利。纖維素三乙酸酯之市售品的任一者就商品名可列舉例如「Fujitac(註冊商標)TD80」(Fuji Film(股)製)、「Fujitac(註冊商標)TD80UF」(Fuji Film(股)製)、「Fujitac(註冊商標)TD80UZ」(Fuji Film(股)製)、「Fujitac(註冊商標)TD40UZ」(Fuji Film(股)製)、「KC8UX2M」(Konica Minolta Opto(股)製)、「KC4UY」(Konica Minolta Opto(股)製)等。
鏈狀聚烯烴系樹脂除了聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等之均聚物之外，可舉例如由2種以上之鏈狀烯烴所構成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元所聚合之樹脂的總稱，可舉例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等記載之樹脂。環狀聚烯烴系樹脂係可舉例如環狀烯烴之開環聚合物、環狀烯烴之開環共聚物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等之鏈狀烯烴之共聚物(代表性係無規共聚物)、及將此等以不飽和羧酸或其衍生物改性之接枝聚合物、以及其等之氫化物等。其中，作為環狀烯烴較佳係使降莰烯或多環降莰烯系單體等之降莰烯系單體聚合而成之降莰烯系樹脂。
環狀聚烯烴系樹脂係有市售各種之製品。 環狀聚烯烴系樹脂之市售品的任一者就商品名可列舉例如「Topas(註冊商標)」(可自TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH公司製、聚塑膠(股)取得)、「Arton(註冊商標)」(JSR(股)製)、「ZEONOR(註冊商標)」(日本Zeon(股)製)、「ZEONEX(註冊商標)」(日本Zeon(股)製)、「Apel(註冊商標)」(三井化學(股)製)等。
(甲基)丙烯酸系樹脂係可採用任意之(甲基)丙烯酸系樹脂。可舉例如聚甲基丙烯酸甲酯等之聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳係可使用聚(甲基)丙烯酸甲酯等之烷基部位碳數為1至6之聚(甲基)丙烯酸烷基酯等，更佳係可使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%、較佳係70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
就積層聚乙烯醇系樹脂層之積層膜之延伸性優異之點，基材膜較佳係含有選自由纖維素酯系樹脂、聚烯烴系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之群的至少1種之樹脂。其中，相轉移溫度之調整為容易之點，基材膜係以含有鏈狀聚烯烴系樹脂更佳，以含有聚丙烯系樹脂(丙烯之均聚物之聚丙烯樹脂、以丙烯作為主體之共聚物等)、或聚乙烯系樹脂(乙烯之均聚物之聚乙烯樹脂、以乙烯作為 主體之共聚物等)更佳。
鏈狀聚烯烴系樹脂具有結晶性之情形很多，丙烯之均聚物的聚丙烯樹脂之融點Tm大概在150至180℃之範圍。如為乙烯之均聚物的聚乙烯樹脂時，依其密度等而融點Tm會變動，但大概其融點Tm為100至140℃之範圍。繼而，依據於丙烯使乙烯等之其他種之單體共聚合而成的聚丙烯系樹脂，可得到熔點低於丙烯之均聚物之融點的共聚物。如此，藉由共聚合成分之有無或共聚合成分之種類或含量等之調整，可控制聚丙烯系樹脂之相轉移溫度。
可於丙烯共聚合之其他種之單體係可舉例如乙烯、α-烯烴等。α-烯烴係以碳數4以上之α-烯烴為佳，以碳數4至10之α-烯烴更佳。碳數4至10之α-烯烴係可舉例如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯等之直鏈狀單烯烴；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯等之分枝狀單烯烴；乙烯基環己烷等。丙烯與可於聚丙烯共聚合之其他單體之共聚物係可為無規共聚物，亦可為嵌段共聚物。又，共聚物中之源自該其他單體之構成單元之含有率係依據「高分子分析手冊」(1995年、紀伊國屋書店發行)之第616頁記載之方法，可依據紅外線(IR)光譜測定求取。
聚丙烯系樹脂較佳係丙烯之均聚物、丙烯-乙烯無規共聚物、丙烯-1-丁烯無規共聚物、或丙烯-乙烯-1-丁烯無規共聚物。
聚丙烯系樹脂之立體規則性係以同排或對排為佳。含有具有同排或對排之立體規則性的聚丙烯系樹脂所構成之樹脂層的基材膜，其操作性較為良好且在高溫環境下之機械強度優異之點上為佳。
基材膜係除了上述之熱塑性樹脂之外，亦可添加添加劑。添加劑係可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。
基材膜中之熱塑性樹脂之含量較佳係50至100重量%，更佳係50至99重量%，更佳係60至98重量%。
基材膜中之熱塑性樹脂之含量未達50重量%時，會有熱塑性樹脂之透光性未充分顯現之虞。
基材膜之厚度從強度或操作性等之作業性之點上係以1至500μm為佳，以5至300μm更佳，以10至200μm又更佳，以20至150μm最佳。
本發明之偏光膜之製造所使用之基材膜可為由單一之層所構成之單層膜，亦可為複數之層所構成之多層膜。在後步驟之延伸步驟賦予耐龜裂性之意義係以使用多層膜為佳。(參照：日本特開2013-101241號公報)
在步驟(1)中準備之長條狀之基材膜係從將基材膜之厚度於MD(Machine Direction)方向測定所得之波形算出的標準偏差σ 1為0.80μm以下，且使前述波形經傅立葉轉換之後，從波數為1/3(1/m)以上之區域之光譜進 行逆傅立葉轉換所得之厚度之波形所算出的標準偏差σ 2為0.65μm以下。
在基材膜之厚度測定中，基材膜中之TD(Transverse Direction)方向之測定位置為任意，但一般在基材膜之中點進行測定。
從標準偏差σ 1、及標準偏差σ 2之值之可靠性之觀點，長條狀之基材膜中的MD方向之長度係以10m以上為佳，以100m以上更佳。又，若考量實際之長條狀之基材膜之長度，MD方向之長度一般為10000m以下。
在本發明中必須測定波數為1/3m-1以上之厚度不均、亦即周期為3m以下之厚度不均。因此，從標準偏差σ 1、及標準偏差σ 2之值之可靠性的觀點，厚度數據取得位置之間隔一般為50cm以下，較佳係5cm以下。厚度數據取得位置之間隔一般為1cm以上。
以固定測定裝置之狀態，一邊輸送長條狀之基材膜一邊連續測定厚度時，依照測定裝置取得厚度數據之周期，以滿足上述厚度數據取得之間隔的方式，可適當選擇基材膜之輸送速度。例如，測定裝置測定厚度數據之周期為1秒周期時，基材膜之輸送速度以3m/min.以下為佳。
測定膜之厚度的方法係只要可測定0.1μm以下之厚度變位的方法即可，但以使用雷射或紅外線等之光的方式為佳，以使用雷射之方式更佳。
滿足上述標準偏差σ 1及標準偏差σ 2之基材膜係可例如以下之方式而製造。
使用多層膜作為基材膜時，可藉由共擠出成形法(亦稱為共擠出澆鑄法)、擠出積層法等而製造基材膜。以共擠出成形法(共擠出澆鑄法)成形之方法從生產性及成本之觀點為佳。共擠出成形法係具備必要之數量的擠出機，藉由各別之擠出機連結於1台之T字模的設備，以從此T字模積層樹脂之狀態擠出成膜狀，以冷卻輥進行冷卻固化，製造多層膜之方法。
具體上，作為以共擠出成形法製造多層之基材膜的方法之一例，對於由3層之聚丙烯系樹脂所構成之基材膜的製造方法，係說明如下。
將3台之擠出機分別加熱至200至300℃左右，將聚丙烯系樹脂供給至各別之擠出機。藉各擠出機之螺桿使聚丙烯系樹脂進行熔融混練，從T字模呈片狀熔融共擠出之後，以各種手段接觸冷卻輥，進行冷卻，製造多層之基材膜。
共擠出之熔融薄片狀之聚丙烯系樹脂的多層膜(以下，有時稱為熔融多層膜。)之溫度係以250至300℃左右為佳，以260至290℃更佳。若熔融多層膜之溫度低於250℃，在擠出機內之聚丙烯系樹脂的熔融混練狀態不充分，會有所得之膜之外觀極端惡化，膜之TD方向之厚度精度亦變差的情形。進一步，若熔融多層膜之溫度低於250℃，所得之多層膜會有成為透明性差者之情形。又，若溫度超過300℃，易產生聚丙烯系樹脂之劣化或分解，而於薄片中產生氣泡或含有碳化物。進一步，因熔融時之 樹脂黏度顯著地降低，故無法使熔融多層膜安定地冷卻固化，而有所得之膜之厚度精度變差之情形。
3台之擠出機可分別為單軸擠出機亦可為二軸擠出機，各擠出機可不統一。又，依據基材膜中之各層的構成比，藉由選擇3台擠出機之各尺寸，亦可以設備上安定之擠出量來製造。以各擠出機熔融混練之各樹脂係通過被稱為連接器之經溫度調節的單管，供給至供料區塊、或供給至轉換連接器。此等係可依照T字模之種類而選擇適當者。T字模中之路徑為一條時，係依據多層膜之樹脂構成而預先在供料區塊內排列樹脂後供給至T字模。另一方面，於被稱為多歧管之T字模中有複數流路徑之設備時係在T字模唇口部分之正前方積層各樹脂層，故來自各擠出機之路徑藉由轉換連接器，依照膜構成而連接至T字模中之各路徑。
此時之各擠出機內之壓力係以變動值以成為0.5MPa以內者為佳。壓力之變動值超過0.5MPa時，於來自T字模之樹脂之流量產生變動，故會有於所得之膜的MD方向之厚度精度變差之情形，特別是3m以上之周期之厚度變動容易變大。
又，從抑制構成多層膜之各樹脂的擠出變動之觀點，各擠出機與T字模之間係可經由連接器分別安裝齒輪泵，使各擠出機內之壓力穩定而將樹脂供給至T字模。
進一步，以葉盤式過濾器除去丙烯系樹脂 中所含之異物為佳。葉盤式過濾器之片數及每1片之過濾面積係可依熔融樹脂之黏度與擠出量(流量)及樹脂之耐熱性而任意地選擇。在可減少捲入膜中之異物量，並提升作為膜之品質之觀點上，以使用異物之捕集率成為98%以上之異物大小為10μm以下之過濾器為佳。使用異物之捕集率成為98%以上之異物大小為5μm以下之過濾器更佳，使用異物之捕集率成為98%以上之異物大小為3μm以下之過濾器又更佳。又，葉盤式過濾器之設置位置係依序設為擠出機、齒輪泵、葉盤式過濾器、T字模之順序，從可安定地除去異物之觀點上為佳。
熔融多層膜係繼而接觸金屬製之冷卻輥(亦稱為chill roller或澆鑄輥)，以密著於冷卻輥冷卻而得到含有聚丙烯系樹脂之多層膜(以下，有時稱為多層膜。)。此時，對冷卻輥之密著方法有時對透明性會造成影響。對冷卻輥之密著係可依例如下述習知方法實施：可以對熔融多層膜賦予静電，表面狀態密著於鏡面之冷卻輥而冷卻之方法；將熔融多層膜在表面狀態為鏡面之冷卻輥與表面狀態為鏡面之可彈性變形的金屬輥(亦稱為接觸輥)或金屬帶之間夾壓，使其密著於冷卻輥而冷卻之方法；使熔融多層膜接觸於冷卻輥之時，藉由從空氣腔室吹出之空氣密著於冷卻輥而冷卻之方法等，但從生產性/品質之觀點，以藉由從空氣腔室吹出之空氣而使熔融多層膜密著於冷卻輥而冷卻之方法為佳。
藉由從空氣腔室吹出之空氣使熔融多層膜 密著於冷卻輥而冷卻之方法係，在使從T字模所擠出之熔融多層膜接觸冷卻輥時，隔著熔融多層膜，朝向該冷卻輥而藉空氣腔室吹出空氣，藉此使熔融多層膜密著於冷卻輥。空氣腔室係可使用市售之適當者。吹出之空氣例如將製造環境空間之空氣以鼓風機(blower)等經由高性能空氣過濾器(HEPA Filter：High Efficiency Particulate Air Filter)而吸入，空氣腔室內已成為50至300Pa之加壓狀態者為佳，以成為100至200Pa之加壓狀態者更佳。空氣腔室內之壓力高於300Pa時，對熔融多層膜施加之壓力過大而使熔融多層膜產生顫動所得之多層膜之面內的膜厚精度大幅變差，尤其，3m以下之周期之厚度變動會有易變大之傾向。又，空氣腔室內之壓力小於50Pa時，施加於熔融多層膜之風壓變小而對冷卻輥之密著不足，故多層膜之霧度上昇，又，視情況，有時對冷卻輥之密著變成不均，而於多層膜冷卻產生深淺不一，外觀變差，厚度精度大幅惡化。
上述3種類方式所使用之冷卻輥係以例如將表面溫度調整至10至60℃者為佳。若冷卻輥之表面溫度超過60℃，於熔融多層膜之冷卻固化需耗費時間，故構成熔融多層膜之丙烯系樹脂中之結晶成分會成長而有所得多層膜知透明性變差之情形。另一方面，若冷卻輥之表面溫度低於10℃，冷卻輥之表面結露而附著水滴，會有所得多層膜之外觀惡化之情形。
製造含有聚丙烯系樹脂層之多層膜時之加工速度係依用以使熔融多層膜中之聚丙烯系樹脂冷卻固化 所需之時間而決定。關於加工速度，若使用之冷卻輥之徑變大，由於熔融多層膜與該冷卻輥接觸之距離變長，故可以更高速製造多層膜。具體而言，使用600mm之金屬製冷卻輥製造霧度值為20%以下之含有透明丙烯系樹脂層的多層膜時，加工速度係20至40m/min.左右。加工速度低於20m/min.時，於MD方向下膜之厚度容易出現不均，尤其是3m以下之周期之厚度變動易變大。又，加工速度高於40m/min.時，結晶化雖均一地進行，但結晶化速度變慢使霧度變高，而有多層膜之透明性變差之情形。
以上，熔融多層膜之溫度、空氣腔室內之壓力、冷卻輥溫度、及加工速度分別適當地選擇最佳條件，藉此可得到膜厚精度優異之多層的基材膜。
再者，所得之基材膜係為了提升與聚乙烯醇系樹脂層之密著性，而於形成聚乙烯醇系樹脂層之側之表面，亦可進行電暈處理、電漿處理、火炎處理等。
又，上述標準偏差σ 1與基材膜之厚度d之比σ 1/d為9.0×10-3以下，且標準偏差σ 2與基材膜之厚度d之比σ 2/d為8.0×10-3μm以下之基材膜，可與滿足上述標準偏差σ 1及標準偏差σ 2之基材膜同樣方式製造。σ 1/d及σ 2/d滿足上述範圍時，因無關基材膜之厚度大小而可製造本發明之偏光膜，故較佳。
[步驟(2)]
步驟(2)係於前述基材膜之至少一面塗佈含有聚乙烯 醇系樹脂之塗佈液，得到塗膜。繼而，藉由使前述塗膜乾燥而形成聚乙烯醇系樹脂層。
(含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液)
塗佈液較佳係使聚乙烯醇系樹脂之粉末溶解於良溶劑(例如水)所得之聚乙烯醇系樹脂溶液。聚乙烯醇系樹脂係可舉例如聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂之衍生物係聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛等之外，可舉例如使聚乙烯醇樹脂以如乙烯、丙烯之烯烴類改性者；以如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸之不飽和羧酸類改性者；以不飽和羧酸之烷基酯改性者；以丙烯醯胺改性者等。改性之比率係以未達30莫耳%為佳，以未達10莫耳%更佳。進行超過30莫耳%之改性時係難以吸附二色性色素，產生偏光性能變低之不佳情形。上述之聚乙烯醇系樹脂之中，以使用聚乙烯醇樹脂為佳。
聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係以100至10000之範圍為佳，以1000至10000之範圍更佳，以1500至8000之範圍又更佳，以2000至5000之範圍為最佳。平均聚合度係可依據JIS K 6726-1994「聚乙烯醇試驗方法」規定之方法來求取。平均聚合度未達100時難以獲得較佳之偏光性能，超過10000時係對溶劑之溶解性變差而難以形成聚乙烯醇系樹脂層。
聚乙烯醇系樹脂係以聚醋酸乙烯酯系樹脂之皂化物為佳。皂化度之範圍係以80莫耳%以上，進一步 為90莫耳%以上，尤其94莫耳%以上為佳。若皂化度過低，偏光性積層膜或形成偏光板時之耐水性或耐濕熱性會不足。又，可為完全皂化物(皂化度為100莫耳%者)，但若皂化度過高，會使染色速度變慢，為了獲得充分之偏光性能而拉長製造時間，視情況場合而有無法獲得具有充分之偏光性能的偏光膜。因此，其皂化度係以99.5莫耳%以下，進一步以99.0莫耳%以下為佳。
所謂皂化度係將作為聚乙烯醇系樹脂之原料的聚醋酸乙烯酯系樹脂所含之醋酸基(乙醯氧基：-OCOCH3)藉皂化處理變化成羥基之比率以單元比(莫耳%)表示者，以下述式：皂化度(莫耳%)=[(羥基之數)÷(羥基之數+醋酸基之數)]×100所定義。
皂化度愈高係指羥基之比率愈多，因此意指阻礙結晶化之醋酸基之比率少。皂化度係可依據JIS K 6726-1994「聚乙烯醇試驗方法」所規定之方法來求取。
聚醋酸乙烯酯系樹脂除了作為醋酸乙烯酯之均聚物的聚醋酸乙烯酯之外，可舉例如可與醋酸乙烯酯共聚合之其他單體之共聚物等。可與醋酸乙烯酯共聚合之其他單體係可舉例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和碸酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
可使用之聚乙烯醇系樹脂之市售品的任一者就商品名可舉例如(股)Kuraray製之「PVA124」(皂化度： 98.0至99.0莫耳%)、「PVA117」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「PVA117H」(皂化度：99.5莫耳%以上)、「PVA624」(皂化度：95.0至96.0莫耳%)、「PVA617」(皂化度：94.5至95.5莫耳%)；日本合成化學工業(股)製之「AH-26」(皂化度：97.0至98.8莫耳%)、「AH-22」(皂化度：97.5至98.5莫耳%)、「NH-18」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「N-300」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)；日本VAM & POVAL(股)製之「JC-33」(皂化度：99.0莫耳%以上)、「JM-33」(皂化度：93.5至95.5莫耳%)、「JM-26」(皂化度：95.5至97.5莫耳%)、「JP-45」(皂化度：86.5至89.5莫耳%)、「JF-17」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「JF-17L」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「JF-20」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)等。
塗佈液可依需要而含有塑化劑、界面活性劑等之添加劑。塑化劑係可舉例如多元醇或其縮合物等，具體上係例示甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。添加劑之調配量係以聚乙烯醇系樹脂之20重量%以下者為適宜。
(塗佈液之塗佈及塗膜之乾燥)
將上述塗佈液塗佈於基材膜之方法係可從線棒塗佈法；如逆式塗佈、凹版塗佈之輥塗佈法；模塗佈法；缺角輪塗佈法；模唇塗佈法；旋轉塗佈法；網版塗佈法；噴灑塗佈法；浸漬法；噴塗法等之習知方法適當選擇。
於基材膜之雙面塗佈塗佈液時，可依上述 方法一面一面地依序塗佈，亦可藉由浸漬法或噴塗法而同時塗佈於基材膜之雙面。
塗膜(乾燥前之聚乙烯醇系樹脂層)之乾燥溫度及乾燥時間係依照塗佈液所含之溶劑種類而設定。乾燥溫度例如為50至200℃，較佳係60至150℃。溶劑含有水時，乾燥溫度以80℃以上為佳。乾燥時間例如為2至20分鐘。
聚乙烯醇系樹脂層可只形成於基材膜之一面，亦可形成於雙面。若於雙面形成聚乙烯醇系樹脂層，除了可抑制偏光性積層膜或偏光板之製造時所產生之膜之翹曲，以及，可獲得1片之偏光性積層膜至2片之偏光膜，故於偏光膜之生產效率之面，亦為有利。
積層膜中之聚乙烯醇系樹脂層之厚度係以3至30μm為佳，以5至20μm更佳。若為具有此範圍內之厚度的聚乙烯醇系樹脂層，經過後述之步驟(3)及步驟(4)，二色性色素之染色性良好且偏光性能優異，且可獲得厚度為10μm以下之偏光膜。若聚乙烯醇系樹脂層之厚度超過30μm，會有偏光膜之厚度超過10μm之情形。又，若聚乙烯醇系樹脂層之厚度未達3μm，因延伸後過薄而有染色性變差之傾向。
塗佈液在塗佈之前，為了提升基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之密著性，可於形成聚乙烯醇系樹脂層之側之基材膜表面施予電暈處理、電漿處理、火焰處理等。
(底漆層)
又，塗佈液在塗佈之前，為了提升基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之密著性，可於基材膜上藉由底漆層或接著劑層形成聚乙烯醇系樹脂層。
底漆層係可藉由將底漆層形成用塗佈液塗佈於基材膜表面後，使其乾燥來形成。底漆層形成用塗佈液係含有於基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之兩者發揮某程度強密著力之成分。底漆層形成用塗佈液一般係含有賦予如此之密著力的樹脂成分與溶劑。樹脂成分係以透明性、熱安定性、延伸性等優異之熱塑性樹脂為佳，可舉例如(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。其中，以賦予良好密著力之聚乙烯醇系樹脂為佳。
聚乙烯醇系樹脂係可舉例如聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂之衍生物係除了聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛等之外，可舉例如聚乙烯醇樹脂以如乙烯、丙烯之烯烴類改性者；以如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸之不飽和羧酸類改性者；以不飽和羧酸之烷基酯改性者；以丙烯醯胺改性者等。上述之聚乙烯醇系樹脂之中，以使用聚乙烯醇樹脂為佳。
溶劑一般係可採用能溶解上述樹脂成分之一般有機溶劑或水性溶劑。溶劑係如苯、甲苯、二甲苯之芳香族烴類；如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮之酮類；如醋酸乙酯、醋酸異丁酯之酯類；如二氯甲烷、三氯乙烯、氯仿之氯化烴類；如乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇之醇類。 但，若從含有有機溶劑之底漆層形成用塗佈液形成底漆層，亦有時會使基材膜溶解，故考量基材膜之溶解性而選擇溶劑為佳。若考量對環境之影響，係以水作為溶劑之塗佈液形成底漆層者為佳。
為提高底漆層之強度，可於底漆層形成用塗佈液中添加交聯劑。交聯劑係依照使用之熱塑性樹脂之種類，從有機系、無機系等公知者之中適當地選擇適宜者。交聯劑係可舉例如環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、二醛系交聯劑、金屬系交聯劑。
底漆層形成用塗佈液中之樹脂成分與交聯劑之比率係相對於樹脂成分100重量份，只要從交聯劑0.1至100重量份之範圍依照樹脂成分之種類或交聯劑之種類等而適當決定即可，尤其，以從0.1至50重量份之範圍選擇為佳。又，底漆層形成用塗佈液之固形分係相對於底漆層形成用塗佈液中之溶劑100重量份，以成為1至25重量份為佳。
底漆層之厚度係以0.05至1μm為佳，以0.1至0.4μm更佳。若較0.05μm更薄，基材膜與聚乙烯醇系樹脂層之密著力提升效果小，若較1μm更厚，則不利於偏光性積層膜或偏光板之薄膜化。
將底漆層形成用塗佈液塗佈於基材膜之方法係可舉例如與塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液的方法同樣之方法。底漆層形成用塗佈液係塗佈於塗佈聚乙烯醇系樹脂層形成用之塗佈液的面(基材膜之單面或雙面)。從 底漆層形成用塗佈液所得之塗佈層之乾燥溫度及乾燥時間係依照塗佈液所含之溶劑種類而設定。乾燥溫度例如為50至200℃，較佳為60至150℃。溶劑含有水時，乾燥溫度係以80℃以上為佳。乾燥時間例如為30秒至20分鐘。
設有底漆層時，對基材膜之塗佈順序並無特別限制，例如於基材膜之雙面形成聚乙烯醇系樹脂層時，可於基材膜之雙面形成底漆層後，再於雙面形成聚乙烯醇系樹脂層，亦可於基材膜之一面依序形成底漆層、聚乙烯醇系樹脂層之後，再於基材膜之另一面依序形成底漆層、聚乙烯醇系樹脂層。
[步驟(3)]
在步驟(3)中係將前述積層膜進行單軸延伸而獲得延伸膜。積層膜之延伸倍率係可依照所希望之偏光特性而適當選擇，但較佳係相對於積層膜之原來長度為超過5倍且在17倍以下，更佳係超過5倍且在8倍以下。若延伸倍率為5倍以下，構成聚乙烯醇系樹脂層之聚乙烯醇系樹脂之高分子鏈未充分配向，故偏光膜之偏光度會有不夠高之情形可為另一方面，若延伸倍率超過17倍，延伸時易產生膜之破裂，同時延伸膜之厚度變成必要以上薄化，在其後步驟之加工性及處理性有降低之虞。
積層膜之延伸可為朝MD方向延伸之縱向延伸，亦可為朝TD方向延伸之橫向延伸或斜向延伸等。縱向延伸方式係可列舉如：使用輥而延伸之輥間延伸[一邊 在設有距離而設置之2個捏合輥間輸送，一邊藉由此等2個捏合輥之間之週速差而進行縱向單軸延伸之方式]、熱輥延伸[藉由在可延伸之表面經所要的溫度加熱之熱輥、及較該熱輥之週速更大之導輥(亦可為熱輥)之間通過，以與熱輥接觸所產生之加熱狀態下與熱輥接觸時(熱輥上)或在其附近進行縱向單軸延伸之方式]、壓縮延伸、以夾頭(夾具)進行之延伸等，橫向延伸方式係可舉例如拉幅法等。延伸處理係可採用濕潤式延伸方法、乾式延伸方法(在空中之延伸)之任一者，但可從廣的範圍選擇延伸溫度之點上，係以乾式延伸方法為佳。
延伸溫度係設定在顯示積層膜(聚乙烯醇系樹脂層及基材膜)於可延伸之程度的流動性之溫度以上，較佳係基材膜之相轉移溫度(融點或玻璃轉移溫度)之-30至+30℃之範圍，更佳係-30℃至+5℃之範圍，又更佳係-25℃至+0℃之範圍。基材膜為由複數之樹脂層所構成之時，上述相轉移溫度在該複數之樹脂層顯示之相轉移溫度之中，意指最高之相轉移溫度。
若使延伸溫度低於相轉移溫度之-30℃，即難以達成超過5倍之高倍率延伸，或基材膜之流動性太低而有延伸處理變困難之傾向。若延伸溫度超過相轉移溫度之+30℃，基材膜之流動性太大而有延伸變困難之傾向。由於容易達成超過5倍之高延伸倍率，故延伸溫度在上述範圍內，更佳係120℃以上。延伸溫度為120℃以上之時，即使為超過5倍之高延伸倍率，延伸處理通常並無困難性。
在延伸處理之積層膜之加熱方法係有：區段加熱法(例如藉由吹入熱風而調整至預定溫度之如加熱爐之延伸區段內進行加熱之方法)；藉由熱輥延伸而延伸時，加熱輥本身之方法；加熱器加熱法(將紅外線加熱器、鹵素加熱器、面板加熱器等設於積層膜之上下，以輻射熱加熱之方法)等。在輥間延伸方式中，從延伸溫度之均一性之觀點係以區段加熱法為佳。此時，2個捏合輥係可設置於經調溫之延伸區段內，亦可設置於延伸區段外，但為防止積層膜與捏合輥之黏著，以設置於延伸區段外者為佳。
再者，所謂延伸溫度係指為區段加熱法之時，區段內(例如加熱爐內)之環境溫度，即使在加熱器加熱法中，在爐內進行加熱時係指爐內之環境溫度。又，熱輥延伸之時係指熱輥之表面溫度。
積層膜之延伸係不限定於一段延伸，亦可多段進行。此時，以合併延伸處理之全段而成為超過5倍之延伸倍率之方式進行延伸處理為佳。
步驟(3)之前，亦可設置將積層膜進行預熱之預熱處理步驟。預熱方法係可適用與在延伸處理之加熱方法同樣之方法。延伸方式為輥間延伸時，預熱係可在通過上游側之捏合輥之前，通過中，通過後之任一者之時機進行。延伸方式為熱輥延伸時，預熱係以通過熱輥前之時機進行為佳。延伸方式為以夾頭進行之延伸時，預熱係以在擴寬夾頭間距前之時機進行者為佳。預熱溫度係以(延伸溫度-50)℃至(延伸溫度+0)℃之範圍為佳，以(延伸溫度 -40)℃至(延伸溫度-10)℃之範圍更佳。
又，在步驟(3)中之積層膜之延伸之後，可設置熱固定處理步驟。熱固定處理係以藉由夾具握持延伸膜之端部的狀態維持於拉緊狀態，同時在聚乙烯醇系樹脂層之結晶化溫度以上進行熱處理之處理。藉由此熱固定處理，可促進聚乙烯醇系樹脂層之結晶化。熱固定處理之溫度係以(延伸溫度-80)℃至(延伸溫度+0)℃之範圍為佳，以(延伸溫度-50)℃至(延伸溫度+0)℃之範圍更佳。
[步驟(4)]
在步驟(4)中係使延伸膜之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色，使二色性色素吸附配向，製得偏光性積層膜。經過本步驟可獲得於基材膜之單面或雙面積層有偏光膜之偏光性積層膜。
二色性色素係可舉例如碘或二色性有機染料。二色性有機染料係可舉例如紅色BR、紅色LR、紅色R、粉紅色LB、寶石紅BL、棗紅GS、天空藍LG、檸檬黃、藍色BR、藍色2R、海軍藍RY、綠色LG、紫色LB、紫色B、黑色H、黑色B、黑色GSP、黃色3G、黃色R、橘色LR、橘色3R、鮮紅色GL、鮮紅色KGL、剛果紅、亮紫色BK、超級藍G、超級藍GL、超級橙GL、直接天空藍、直接堅牢橙S、堅牢黑。二色性色素係可只單獨使用1種，亦可併用2種以上。
染色係可藉由於含有二色性色素之溶液(染 色溶液)浸漬延伸膜來進行。染色溶液係可使用將上述二色性色素溶解於溶劑之溶液。染色溶液之溶劑一般係使用水，但亦可添加與水具有相溶性之有機溶劑。染色溶液中之二色性色素之濃度係以0.010至10重量%為佳，以0.020至7重量%更佳，以0.025至5重量%又更佳。
使用碘作為二色性色素時，可更提升染色效率，故以於含有碘之染色溶液中進一步添加碘化物者為佳。碘化物係可舉例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色溶液中之碘化物之濃度係以0.01至20重量%為佳。碘化物之中，以添加碘化鉀為佳。添加碘化鉀時，碘與碘化鉀之比例以重量比計，係以1：5至1：100之範圍為佳，以1：6至1：80之範圍更佳，以1：7至1：70之範圍又更佳。
延伸膜在染色溶液中之浸漬時間一般為15秒至15分鐘，較佳係30秒至3分鐘。又，染色溶液之溫度係以10至60℃為佳，以20至40℃更佳。
再者，於步驟(4)中亦可對延伸膜進一步施加追加之延伸處理。此時之實施態樣係可舉例如：1)在上述步驟(3)中，以低於目標之倍率進行延伸處理之後，步驟(4)中之染色處理中，以總延伸倍率成為目標之倍率之方式進行延伸處理之態樣、或如後述，於染色處理之後進行交聯處理之情形係2)在上述步驟(3)中，以低於目標之倍率進行延伸後， 步驟(4)中之染色處理中，以進行延伸至總延伸倍率未達成目標之倍率的程度，然後，以最後之總延伸倍率成為目標之倍率之方式於交聯處理中進行延伸處理之態樣等。
步驟(4)之較佳者係繼染色處理之後包含所實施之交聯處理步驟。
交聯處理係可藉由於含有交聯劑之溶液(交聯溶液)中浸漬所染色之膜來進行。交聯劑係可使用以往公知之物質，如硼酸、硼砂之硼化合物、乙二醛、戊二醛等。
交聯劑係可只單獨使用1種，亦可併用2種以上。
交聯溶液係具體上使交聯劑溶解於溶劑之溶液。溶劑係可使用水，亦可進一步包含具有與水相溶性之有機溶劑。交聯溶液中之交聯劑之濃度係以1至20重量%為佳，以6至15重量%更佳。
交聯溶液係可含有碘化物。藉由添加碘化物，可使偏光膜之面內的偏光性能更均一化。碘化物係可舉例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。交聯溶液中之碘化物之濃度係以0.05至15重量%為佳，以0.5至8重量%更佳。
經染色之膜於交聯溶液中的浸漬時間一般為15秒至20分鐘，以30秒至15分鐘為佳。又，交聯溶液之溫度以10至90℃為佳。
再者交聯處理係可於染色處理之前進行， 亦可藉由將交聯劑調配於染色溶液中，與染色處理同時進行。又，亦可於交聯處理中進行延伸處理。交聯處理中實施延伸處理之具體態樣係如上述。
步驟(4)之後，以進行洗淨步驟(步驟(4’))及乾燥步驟(步驟(4”))為佳。步驟(4’)一般含有水洗淨步驟。水洗淨處理係可藉由於如離子交換水、蒸留水之純水中浸漬經染色處理後或交聯處理後之偏光性積層膜來進行。水洗淨溫度一般為3至50℃，較佳係4至20℃。
在水中之浸漬時間一般為2至300秒鐘，較佳係3至240秒鐘。
步驟(4’)係可為水洗淨步驟與以碘化物溶液所進行之洗淨步驟之組合。又，在水洗淨步驟及/或經碘化物溶液之洗淨處理中使用之洗淨液除了水之外，可適當地含有如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙醇之液體醇。
步驟(4”)係可採用自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥等之任意適當的方法。例如加熱乾燥之時，乾燥溫度一般為20至95℃，乾燥時間一般為1至15分鐘。如以上方式所得之偏光性積層膜係可直接使用來作為偏光元件，亦可作為用以製作含有偏光膜及保護膜之偏光板之中間物。
偏光性積層膜具有之偏光膜之厚度為10μm以下，較佳係7μm以下。藉由使偏光膜之厚度設為10μm以下，可構成薄型之偏光性積層膜。
[步驟(5)]
步驟(5)係從偏光性積層膜剝離基材膜。經過此步驟(5)，可獲得於偏光膜上不具有基材膜之偏光膜。偏光性積層膜於基材膜之雙面具有偏光膜時，藉由步驟(5)，可從1片之偏光性積層膜獲得2片之偏光膜。剝離除去基材膜之方法係無特別限定，可以一般之附黏著劑的偏光板所進行之分離膜(剝離膜)之剝離步驟同樣之方法剝離。
又，基材膜在剝離之前，可在偏光性積層膜之偏光膜上，藉由接著劑或黏著劑而積層保護膜。從在偏光性積層膜之偏光膜上積層有保護膜之積層體剝離基材膜時，可獲得具有偏光膜及保護膜之偏光板。
(保護膜)
保護膜係可列舉：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯之纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等之混合物、共聚物等所構成之膜。
保護膜可為兼具有相位差膜、增亮膜等之光學機能之保護膜。例如，將由上述材料所構成之樹脂膜進行延伸(單軸延伸或二軸延伸等)，或於該膜上形成液晶層等，即可作成賦予任意之相位差值的相位差膜。
保護膜中之與偏光膜之貼合面為相反側之 表面亦可形成硬塗層、防眩層、抗反射層等之光學層。於保護膜表面形成此等之光學層的方法係無特別限定，而可適用公知之方法。光學層可預先形成於保護膜上，亦可於將保護膜貼合於偏光性積層膜之後形成。
當偏光膜上貼合保護膜時，為了提升與偏光膜之接著性，可在保護膜中與偏光膜之貼合面上，預先進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(火炎)處理、皂化處理等之表面處理(易接著處理)。其中，以進行電漿處理、電暈處理或皂化處理為佳。例如保護膜由環狀聚烯烴系樹脂所構成時，一般係進行電漿處理或電暈處理。又，由纖維素酯系樹脂所構成時一般係進行皂化處理。皂化處理係可舉例如浸漬於如氫氧化鈉或氫氧化鉀之鹼性水溶液中之方法。
保護膜之厚度係以薄者為佳，若太薄，強度降低，加工性差。另一方面，若太厚，會產生透明性降低，貼合後所需之硬化時間變長等之問題。因此，保護膜之厚度較佳係90μm以下，更佳係5至60μm，又更佳係5至50μm。又，從偏光板之薄膜化之觀點，偏光膜及保護膜之合計厚度較佳係100μm以下，更佳係90μm以下，又更佳係80μm以下。
(接著劑)
接著劑係可使用水性接著劑或光硬化性接著劑。水性接著劑係可舉例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著 劑、水性二液型胺基甲酸酯系乳化液接著劑等。尤其，使用以皂化處理等表面處理(親水化處理)之纖維素酯系樹脂膜作為保護膜時係以使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之水性接著劑為佳。
聚乙烯醇系樹脂係將醋酸乙烯酯之均聚物的聚醋酸乙烯酯進行皂化處理所得之乙烯基醇均聚物之外，可使用醋酸乙烯酯及可與其共聚之其他單體之共聚物進行皂化處理所得之聚乙烯醇系共聚物或其等之羥基經部分改性之改性聚乙烯醇系聚合物等。水性接著劑可含有多元醛、水溶性環氧基化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等之添加劑。從水性接著劑所得之接著劑層之厚度一般為1μm以下。
將水性接著劑塗佈於偏光性積層膜之偏光膜上及/或保護膜上，藉由接著劑層而貼合兩膜，較佳係藉貼合輥等加壓並使其密著，藉此，可使兩膜積層。水性接著劑(對於光硬化性接著劑亦同樣)之塗佈方法係無特別限制，可使用流延法、線棒塗布法、凹版塗布法、缺角輪塗布法、刮刀法、模塗布法、浸漬塗布法、噴霧法等之以往公知之方法。
使用水性接著劑時，實施上述之貼合後，為了除去水性接著劑中所含之水，以實施使膜乾燥之乾燥步驟為佳。乾燥係可藉由將貼合有保護膜之偏光膜導入乾燥爐來進行。乾燥溫度(乾燥爐之溫度)較佳係30至90℃。若未達30℃，保護膜有易從偏光膜剝離之傾向。又，若乾 燥溫度超過90℃，恐偏光膜之偏光性能因受熱而劣化。乾燥時間一般為10至1000秒，從生產性之觀點，較佳係60至750秒，更佳係150至600秒。
乾燥後，可在室溫或較其略高的溫度、例如始在20至45℃之溫度下硬化12至600小時。硬化溫度一般設定為低於乾燥溫度。
所謂光硬化性接著劑係藉由照射紫外線等之活性能量線進行硬化之接著劑。光硬化性接著劑係可列舉：含有聚合性化合物及光聚合起始劑之接著劑、含有光反應性樹脂之接著劑、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之接著劑等。聚合性化合物係可列舉：如環氧基系單體、丙烯酸系單體、胺基甲酸酯系單體等之光聚合性單體、或源自光聚合性單體之寡聚物等。光聚合開始劑係可藉由紫外線等之活性能量線之照射產生如中性自由基、陰離子自由基及陽離子自由基之活性物種的化合物。含有聚合性化合物及光聚合開始劑之光硬化性接著劑係以使用含有光硬化性環氧基系單體及光陽離子聚合開始劑之接著劑為佳。
使用光硬化性接著劑時，貼合上述之偏光膜及保護膜之後，依需要而進行乾燥步驟(光硬化性接著劑含有溶劑時等)，然後藉由照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線之光源係以於波長400nm以下具有發光分布之光源為佳，以低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等為佳。
對光硬化性接著劑之光照射強度係依據光硬化性接著劑之組成而適當決定，對聚合開始劑之活性化有效的波長區域之照射強度以成為0.1至6000mW/cm2之方式而設定為佳。照射強度為0.1mW/cm2以上時，反應時間不致過長，為6000mW/cm2以下時，自光源所輻射之熱及光硬化性接著劑在硬化時之發熱所致之光硬化性接著劑之黃變或偏光膜劣化之虞較少。
對光硬化性接著劑之光照射時間係依據光硬化性接著劑之組成而適當決定，上述照射強度與照射時間之積所示之累積光量以成為10至10000mJ/cm2之方式而設定為佳。累積光量為10mJ/cm2以上時，源自聚合開始劑之活性物種產生足夠量而使硬化反應更確實地進行，為10000mJ/cm2以下時，照射時間不致過長而可維持良好的生產性。
再者，活性能量線照射後之接著劑層之厚度一般為0.001至5μm，較佳係0.01至2μm，更佳係0.01至1μm。
(黏著劑)
可使用於保護膜之貼合的黏著劑一般係由以丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基質聚合物，再加入如異氰酸酯化合物、環氧基化合物、氮丙啶化合物之交聯劑之黏著劑組成物所構成。進一步亦可含有微粒子而作為顯示光散射性之黏著劑。
由黏著劑組成物所形成之黏著劑層之厚度一般為1至40μm，但在無損加工性、耐久性之特性的範圍，以薄層塗佈為佳，以3至25μm為佳。3至25μm之厚度係具有良好的加工性，且在抑制偏光膜之尺寸變化上為適宜。若黏著劑層未達1μm，黏著性降低，若超過40μm，則易產生黏著劑從偏光板端部滲出等之不佳情形。藉黏著劑將保護膜貼合於偏光性積層膜之偏光膜的方法係，可於保護膜面設有黏著劑層之後，貼合於偏光膜，亦可於偏光膜面設有黏著劑層之後，再貼合保護膜。
形成黏著劑層之方法係無特別限定，可於保護膜面或偏光膜面塗佈含有以上述之基質聚合物為首之各成分的黏著劑組成物，經乾燥而形成黏著劑層之後，貼合保護膜與偏光膜，亦可於分離膜(剝離膜)上形成黏著劑層後，將此黏著劑層轉印至保護膜面或偏光膜面，然後，貼合保護膜與偏光膜。使黏著劑層形成於保護膜面或偏光膜面之時，可依需要而於保護膜面或偏光膜面、或黏著劑層之單面或雙面施予表面處理、電暈處理等。
(偏光膜或偏光板)
從含有以上之步驟(1)至(5)的步驟所得之偏光膜或偏光板係面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下。進一步，如此之面內之吸收軸之標準偏差係以0.04°以下為佳。惟，於基材膜之雙面具有偏光膜之偏光性積層膜之時，一般，各偏光膜之吸收軸約為相同，但在至少一面，只要吸收軸之擺幅 為0.2°以下即可，即使在任一面，吸收軸之擺幅以0.2°以下為佳。
參照第1圖而說明有關面內之吸收軸之擺幅。首先，第1圖之MD方向2作為基準而設為0°。繼而，求出MD方向2與吸收軸6之間構成之角度。但，構成之角度係謂MD方向2與吸收軸6作成之角度中之較小角度(以第1圖中之θ表示之角度)，進一步，從圖中點線箭號7之方向觀看吸收軸6之時，對MD方向以逆時針旋轉之角度作為正角度，以順時針旋轉之角度作為負角度。惟，角度之正與負係任意，任一方向均可設為正，第1圖中於未積層有偏光膜3的基材膜4之面進一步積層偏光膜時(於基材膜之雙面積層偏光膜時)亦同樣。繼而，所謂面內之吸收軸之擺幅係指藉由上述方法所測定之面內吸收軸角度之最大值與最小值之差之絕對值。面內吸收軸之擺幅係例如可在步驟(4)所得之偏光性積層膜或在步驟(5)所得之本發明之偏光膜面內中，在相異之2處以上測定面內吸收軸角度來求取。
從值之可靠性之觀點，吸收軸角度之測定處之數係以40處以上為佳，一般以100處以下之測定為足夠。進一步，就更提高值之可靠性之點，該吸收軸角度之測定處係以在前述膜面內均等地分布為佳。於基材膜之雙面具有偏光膜之偏光性積層膜之時，如前述，一般，各偏光膜之吸收軸幾乎相同，故偏光性積層膜之吸收軸角度係可視為各偏光膜之吸收軸。
說明有關於本發明之偏光膜貼合有保護膜之偏光板之構成。第2圖係表示於偏光膜3之雙面具有保護膜8之偏光板。
本發明之偏光膜或本發明之偏光板係可適宜組入於顯示裝置中。顯示裝置係可舉例如液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等。第3圖(a)係表示依序具有本發明之偏光板9、液晶單元10、偏光板91及背光單元11之液晶顯示裝置12。第3圖(b)係表示依序具有偏光板91、液晶單元10、偏光板9及背光單元11之液晶顯示裝置12。偏光板91係可為本發明之偏光板，亦可為公知之偏光板。亦即，液晶顯示裝置具有之一對之偏光板之中，至少1個之偏光板係本發明之偏光板。再者，亦可使用偏光膜3取代偏光板9。
[實施例]
以下舉出實施例，進一步詳細說明本發明，但本發明係不限於此等實施例。
<實施例1>
(1)基材膜A之製作
於含有約5重量%乙烯單元之丙烯/乙烯之無規共聚物(住友化學(股)製之「住友Nobrene W151」、融點Tm=138℃)所構成之樹脂層的雙面配置有由丙烯之均聚物(住友化學(股)製之「住友NobreneFX80 E 4」、融點Tm=163℃)所構成之樹脂層的3層構造之長條基材膜A，使用多層擠出 成形機，以共擠出成形製作。
此時，各層之樹脂溫度係以加熱至280℃之50mm擠出機進行熔融混練，然後，從600mm寬之T字模以熔融狀態擠出而得到熔融多層膜。將如此之熔融多層膜藉由調溫至25℃之冷卻輥進行冷卻而為多層之基材膜。
基材膜A之合計厚度約為90μm，各層之厚度比(FLX80E4/W151/FLX80E4)為3/4/3。
[測定基材膜A之MD方向的厚度不均]
藉由Keyence(股)之雷射測定器L T9010，對TD方向之長度為300mm、MD方向之長度為200m之基材膜A，連續地在MD方向之200m內測定厚度。測定MD方向之厚度不均之時的數據之採取係以1秒之間隔取樣4096點(以2.5m/分鐘輸送測定，故為1秒鐘×(4096-1)×2‧5m/分鐘÷60秒鐘/分鐘=170.625m，採取170.625m之厚度不均數據)。 從所得之厚度不均之波形，算出標準偏差σ 1，為0.63。
[傅立葉轉換]
對於如此所採取之數據施予高速傅立葉轉換(FFT)處理。此時，若於MD方向之變數取得膜之長度(m)，藉FFT處理而得到對波數(1/m)之強度分布。
[波數分離及逆傅立葉轉換、及厚度不均之算出]
對於傅立葉轉換所得之強度分布數據，對應波數未達 1/3(1/m)之112點的光譜強度僅乘以0所得之強度數據4096點，進行逆傅立葉轉換。從所得之厚度不均之波形，算出標準偏差σ 2為0.59。
[標準偏差與厚度之比的算出]
以基材膜A之平均厚度d除以標準偏差σ 1及標準偏差σ 2之值，算出標準偏差與厚度之比σ 1/d及σ 2/d，分別為7.07×10-3及6.62×10-3。再者，基材膜A之平均厚度d係使用前述MD方向之厚度不均測定時的基材膜厚度之全測定值之平均值。
(2)底漆層之形成
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業(股)製「Z-200」、平均聚合度1100、平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃之熱水中，調製濃度3重量%之聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中相對於聚乙烯醇粉末6重量份混合5重量份之交聯劑(住友化學(股)製「Sumirez Resin(註冊商標)650」)。將所得之混合水溶液藉微凹版塗佈機塗佈於已施予電暈處理之上述基材膜A之電暈處理面上，以80℃乾燥10分鐘，形成底漆層。繼而，對與此基材膜A之底漆層為相反之面亦施予同樣處理而得到雙面形成有底漆層之基材膜A。底漆層之厚度係任一者均為0.5μm。
(3)聚乙烯醇系樹脂層之形成
將聚乙烯醇粉末(Kuraray(股)製「PVA124」、平均聚合度2400、平均皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃之熱水中，調製濃度8重量%之聚乙烯醇水溶液。將所得之水溶液藉模唇塗佈器塗佈於上述底漆層上，以80℃、2分鐘：70℃、2分鐘，繼而以60℃、4分鐘之條件下使其乾燥，藉此，製作由基材膜A/底漆層/聚乙烯醇系樹脂層所構成之3層構造之積層膜。然後，對與此基材膜A之聚乙烯醇系樹脂層為相反之面亦施予同樣處理而得到雙面形成有聚乙烯醇系樹脂層之積層膜。聚乙烯醇系樹脂層之厚度分別為9.2μm、9.5μm。
(4)延伸膜之製作
將上述積層膜以160℃之延伸溫度進行自由端縱向單軸延伸成5.3倍而得到延伸膜。
(染色步驟)
其後，將延伸膜於30℃之碘與碘化鉀之混合水溶液的染色溶液1中浸漬約180秒而染色後，以10℃之純水沖洗多餘的碘液。然後於78℃之硼酸水溶液的交聯溶液1中浸漬120秒鐘。然後，浸漬於含有硼酸及碘化鉀之70℃的交聯溶液2中浸漬60秒。其後，以10℃之純水洗淨10秒鐘，最後，以80℃乾燥300秒鐘。藉由以上之步驟從聚乙烯醇系樹脂層形成偏光膜而得到偏光性積層膜。各溶液之調配比率係如下述。偏光膜之厚度係任一者均為6.8μm。
<染色溶液1>
水：100重量份
碘：0.6重量份
碘化鉀：10重量份
<交聯溶液1>
水：100重量份
硼酸：10.4重量份
<交聯溶液2>
水：100重量份
硼酸：5.7重量份
碘化鉀：12重量份
(5)偏光性積層膜之評價試驗
對於以上之方法所得之偏光性積層膜，藉由大塚電子(股)製之相位差膜/光學材料檢測裝置(商品名“RETS”)進行吸收軸之測定。首先，以所製作之偏光性積層膜之TD方向中央作為中心，採取480mm之範圍，其480mm寬之範圍以10mm間隔分割，對於合計49點測定偏光性積層膜之吸收軸。從此等49點之吸收軸算出標準偏差。又，面內吸收軸角度之最大值與最小值之差之絕對值作為吸收軸之擺幅。再者供給至測定之偏光性積層膜係於基材膜之雙面具有偏光膜，但在各測定點之吸收軸角度係各別之偏光膜幾乎相同，故可將偏光性積層膜之吸收軸角度分別視為偏 光膜之吸收軸角度。
從所得數據算出偏光性積層膜之吸收軸之標準偏差為0.021°。亦即各偏光膜之吸收軸之標準偏差亦為0.021°。又，各偏光膜之吸收軸之擺幅係0.12°。如偏光膜之吸收軸之標準偏差未達0.04°，且偏光膜之吸收軸之擺幅未達0.2°時，可判斷吸收軸之面內均一性係良好。
<實施例2>
除了使用標準偏差σ 1為0.77、標準偏差σ 2為0.61之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣方式而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.027°、吸收軸之擺幅為0.11°。
<實施例3>
除了使用標準偏差σ 1為0.78、標準偏差σ 2為0.63之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣方式而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.033°、吸收軸之擺幅為0.13°。
<實施例4>
除了使用標準偏差σ 1為0.67、標準偏差σ 2為0.66之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣方式而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.041°、吸收軸之擺幅為0.14°。
<實施例5>
除了使用標準偏差σ 1為0.73、標準偏差σ 2為0.69之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣方式而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.046°、吸收軸之擺幅為0.16°。
<實施例6>
(1)基材膜B之準備
使用無延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜(OJK(股)製之「歐凡(音譯)」)作為基材膜B。
[測定基材膜B之MD方向的厚度不均]
藉由Keyence(股)之雷射測定器L T9010，對TD方向之長度為640mm、MD方向之長度為131m之基材膜B，連續地在MD方向之131m內測定厚度。測定MD方向之厚度不均之時，數據之採取係以1秒之間隔取樣512點(以2.5m/分鐘輸送測定，故為1秒鐘×(512-1)×2‧5m/分鐘÷60秒鐘/分鐘=21.292m，採取21.292m之厚度不均數據)。
從所得之厚度不均之波形，算出標準偏差σ 1，為1.79。
[傅立葉轉換、波數分離與逆傅立葉轉換、及厚度不均之算出]
對採取之厚度不均數據施予高速傅立葉轉換(FFT)處 理。然後，進行傅立葉轉換所得之強度分布數據，對應於波數未達1/3(1/m)之7點的光譜強度僅乘以0所得之強度數據512點，經逆傅立葉轉換。從所得之厚度不均之波形，算出標準偏差σ 2為1.68。
[標準偏差厚度之比之算出]
以基材膜B之平均厚度d除以標準偏差σ 1及標準偏差σ 2之值，算出標準偏差與厚度之比σ 1/d及σ 2/d，分別為7.97×10-3及7.48×10-3。
(2)底漆層之形成
與實施例1同樣，於上述基材膜B之單面施予電暈處理，於電暈處理面上形成底漆層。底漆層之厚度為0.5μm。
(3)聚乙烯醇系樹脂層之形成
與實施例1同樣，於上述底漆層上形成聚乙烯醇系樹脂層，製作由基材膜B/底漆層/聚乙烯醇系樹脂層所構成之3層構造之積層膜。聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.1μm。
(4)延伸膜之製作
將上述積層膜以90℃之延伸溫度進行自由端縱向單軸延伸成1.8倍，製得延伸膜。
(染色步驟)
將延伸膜於30℃之硼酸水溶液之交聯溶液3中浸漬30秒鐘。其次，於30℃之碘與碘化鉀之混合水溶液的染色溶液2中浸漬約120秒鐘而染色後，以7℃之純水沖洗多餘之碘液。然後，於含有硼酸及碘化鉀之40℃之水溶液的交聯溶液4中浸漬120秒。然後，於含有硼酸及碘化鉀之75℃之交聯溶液5中浸漬60秒，以延伸倍率成為3.0倍之方式同時進行自由端縱向單軸延伸(總延伸倍率：5.4倍)。其後，以7℃之碘化鉀水溶液(相對於水100重量份，混合碘化鉀4.9重量份之水溶液)洗淨5秒鐘，最後以60℃乾燥180秒鐘。藉由以上之步驟，從聚乙烯醇系樹脂層形成偏光膜而得到偏光性積層膜。各溶液之調配比率係如下述。偏光膜之厚度為3.7μm。
<染色溶液2>
水：100重量份
碘：0.59重量份
碘化鉀：1.6重量份
<交聯溶液3>
水：100重量份
硼酸：3.0重量份
<交聯溶液4>
水：100重量份
硼酸：3.0重量份
碘化鉀：3.1重量份
<交聯溶液5>
水：100重量份
硼酸：4.0重量份
碘化鉀：5.0重量份
(5)偏光性積層膜之評價試驗
對以上之方法所得之偏光性積層膜，藉由大塚電子(股)製之相位差膜/光學材料檢測裝置(商品名“RETS”)進行吸收軸之測定。首先，以所製作之偏光性積層膜之TD方向中央作為中心，採取110mm之範圍，將其110mm寬之範圍以10mm間隔分割，對於合計11點測定偏光性積層膜之吸收軸。從此等11點之吸收軸算出標準偏差。又，以面內吸收軸角度之最大值與最小值之差之絕對值作為吸收軸之擺幅。
從所得之數據算出偏光性積層膜之吸收軸之標準偏差為0.063°。亦即，偏光膜之吸收軸之標準偏差為0.063°。又，偏光膜之吸收軸之擺幅為0.18°。
<比較例1>
除了使用標準偏差σ 1為0.77，標準偏差σ 2為0.72之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣做法而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.064°，吸收軸之擺幅為0.26°。
<比較例2>
除了使用標準偏差σ 1為0.97，標準偏差σ 2為0.84之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣做法而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.072°，吸收軸之擺幅為0.24°。
<比較例3>
除了使用標準偏差σ 1為1.17，標準偏差σ 2為0.95之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣做法而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.080°，吸收軸之擺幅為0.27°。
<比較例4>
除了使用標準偏差σ 1為1.26，標準偏差σ 2為1.13之基材膜A以外，其餘係與實施例1同樣做法而獲得偏光性積層膜。評價之結果，吸收軸之標準偏差為0.142°，吸收軸之擺幅為0.57°。
以上之結果表示於表1中。
在表1中，吸收軸之擺幅為0.13°以下時判定為◎，吸收軸之擺幅超出0.13°且在0.2°以下時判定為○，吸收軸之擺幅超出0.2°時判定為×。從表1，實施例1至6所得之偏光膜係吸收軸之擺幅為0.2°以下，組入如此之偏光板的液晶顯示裝置之對比度會提升。
[產業上之可利用性]
若依據本發明，可提供吸收軸精度優之偏光板，組入如此之偏光板之顯示裝置係可達成高的對比度。

Claims (10)

  1. 一種偏光膜，其厚度為10μm以下，且面內之吸收軸的擺幅為0.2°以下。
  2. 一種偏光板，係將保護膜貼合於申請專利範圍第1項所述之偏光膜而成者。
  3. 一種顯示裝置，其具有申請專利範圍第1項所述之偏光膜、或申請專利範圍第2項所述之偏光板。
  4. 一種偏光膜之製造方法，係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2。以下之偏光膜之製造方法，其包含下列步驟(1)至(5)：(1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1與基材膜之厚度d之比(σ 1/d)為9.0×10-3以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2與基材膜之厚度d之比(σ 2/d)為8.0×10-3μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後，使塗膜乾燥，藉此形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟；(4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光 膜之步驟。
  5. 一種偏光膜之製造方法，係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下之偏光膜之製造方法，其包含下列步驟(1)至(5)：(1)準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下；(2)於前述基材膜之至少一面上塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液，製得塗膜後，使塗膜乾燥，藉此，形成聚乙烯醇系樹脂層而得到積層膜之步驟；(3)將前述積層膜進行單軸延伸而得到延伸膜之步驟；(4)將前述延伸膜染色而得到偏光性積層膜之步驟；(5)藉由從前述偏光性積層膜剝離基材膜而得到偏光膜之步驟。
  6. 如申請專利範圍第4或5項所述之偏光膜之製造方法，其包含於前述偏光性積層膜中之偏光膜上透過接著劑或黏著劑而積層保護膜之步驟。
  7. 如申請專利範圍第4或5項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜為藉由熔融擠出而製膜之基材膜。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之偏光膜之製造方法，其 中，在步驟(1)中準備之基材膜之厚度為5至300μm。
  9. 如申請專利範圍第5項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜之厚度為20至150μm。
  10. 如申請專利範圍第4或5項所述之偏光膜之製造方法，其中，在步驟(1)中準備之基材膜為含有聚烯烴系樹脂之基材膜。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6867105B2 (ja) * 2016-03-04 2021-04-28 日東電工株式会社 偏光板
JP6794181B2 (ja) * 2016-08-30 2020-12-02 日東電工株式会社 偏光板
WO2018146958A1 (ja) 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
JP7042268B2 (ja) * 2017-06-23 2022-03-25 日東電工株式会社 偏光膜、該偏光膜を含む偏光板、および該偏光板を含む車載用画像表示装置
WO2019003107A1 (en) * 2017-06-26 2019-01-03 3M Innovative Properties Company FILM ROLL COMPRISING A MULTILAYER BIREFRENTING REFLECTIVE POLARIZER AND A POLYVINYL ALCOHOL LAYER HAVING LOW PASSAGE AXIS VARIATION
JP7063438B2 (ja) 2018-11-12 2022-05-09 エルジー・ケム・リミテッド 色変換フィルム、これを含むバックライトユニット及びディスプレイ装置
JP6678274B1 (ja) * 2018-11-22 2020-04-08 住友化学株式会社 積層フィルム巻回体、ハードコートフィルム付き積層体、及び偏光板

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4214878B2 (ja) * 2003-09-30 2009-01-28 日本ゼオン株式会社 積層フィルムの製造方法
JP2006171119A (ja) * 2004-12-13 2006-06-29 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに光学部材
JP2011150313A (ja) 2009-12-21 2011-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
JP5438581B2 (ja) 2010-03-31 2014-03-12 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP4902801B2 (ja) 2010-06-22 2012-03-21 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP5143918B2 (ja) 2011-02-02 2013-02-13 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム、偏光板または基材フィルム付き偏光板の製造方法
JP6014953B2 (ja) 2011-11-09 2016-10-26 学校法人慶應義塾 粘着剤付偏光板の設計方法、液晶パネルの製造方法、偏光板の製造方法、粘着剤付偏光板の製造方法、及び、粘着剤の製造方法
JP5831249B2 (ja) * 2012-01-23 2015-12-09 住友化学株式会社 偏光フィルムとその製造方法及び偏光板
WO2013175927A1 (ja) * 2012-05-24 2013-11-28 富士フイルム株式会社 偏光板及び液晶表示装置
JPWO2013191102A1 (ja) * 2012-06-21 2016-05-26 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム積層体の製造方法、薄型偏光膜、偏光板及び液晶表示装置
JP6109862B2 (ja) * 2014-07-16 2017-04-05 日東電工株式会社 積層体の製造方法

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