TWI548521B - 偏光性積層膜及積層膜 - Google Patents

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Description

偏光性積層膜及積層膜
本發明係有關於基材膜上積層有偏光子層之偏光性積層膜以及適合作為其製造中間物之積層膜。
偏光板，已廣泛應用作為液晶顯示裝置中之偏光供給元件，以及偏光的檢測元件。該類偏光板，歷來係使用在由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光膜之單面或兩面接著由三乙酸纖維素等所形成之保護膜者，惟近年來由於液晶顯示裝置隨筆記型個人電腦及行動電話等行動裝置之發展，以及進一步的大型電視之發展等，而要求偏光板之薄型輕量化。
舉例而言日本特開2000-338329號公報(專利文獻1)、日本特開2009-093074號公報(專利文獻2)、日本特開2009-098653號公報(專利文獻3)以及日本特開2003-043257號公報(專利文獻4)中揭示有作為製造薄型之偏光板的方法，於由單一樹脂層所構成之基材膜之一側之面形成包括聚乙烯醇系樹脂之樹脂層後，將之延伸，將所得延伸膜使用於偏光板之製造的方法。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2000-338329號公報
[專利文獻2]日本特開2009-093074號公報
[專利文獻3]日本特開2009-098653號公報
[專利文獻4]日本特開2003-043257號公報
偏光板一般而言，於其單面形成黏著劑層而作為附有黏著劑層的偏光板，藉由隔著該黏著劑層貼合液晶晶胞(liquid crystal cell)而組裝在液晶顯示裝置等之中。如此之對液晶晶胞之偏光板的貼合步驟，當貼合之偏光板的貼合狀態有某些不適當之情況時，為了回收液晶晶胞以再次的利用於貼合步驟，而實施自液晶晶胞將偏光板連同黏著劑層一起剝離之所謂的再加工(rework)之步驟。
然而，由上述般的延伸膜所製作之以往的偏光板，在再加工步驟中，自液晶晶胞剝離偏光板之際，偏光板有沿延伸膜之延伸方向裂開，不容易剝離之問題。此外，由於非常容易沿延伸方向裂開，不僅限於上述再加工步驟，亦有操作困難之問題。在此，本發明之目的係提供一種於基材膜上具有偏光子層，且其本身可能使用作為偏光板之偏光性積層膜，並且上述再加工步驟等操作時對於裂開有高耐性(耐裂性優異)之偏光性積層膜以及適合作為其製造中間物之積層膜。
本發明係含有以下者。
[1]一種偏光性積層膜，其係具有基材膜以及積層於前述基材膜之至少一側之面的偏光子層，其中，前述基材膜包括由顯示互為相異之相轉移溫度(在此，相轉移溫度，當構成樹脂層之樹脂為非晶性樹脂之情況係意指玻璃轉移溫度Tg，為結晶性樹脂之情況係意指熔點Tm)的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造，前述2種以上之樹脂層之中，當由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為A，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為B時，前述基材膜以A/B/A、或B/A/B的順序含有該等樹脂層，前述樹脂層A係朝面內之任一方向配向，而且，前述樹脂層B係面內實質上無配向。
[2]如[1]所述之偏光性積層膜，其中，構成前述樹脂層A之樹脂之相轉移溫度，與構成前述樹脂層B之樹脂之相轉移溫度之差係10℃以上。
[3]如[1]或[2]所述之偏光性積層膜，其中，前述樹脂層A以及B係包括熔點互異之鏈狀聚烯烴系樹脂。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層係於聚乙烯醇系樹脂層中吸附配向有二色性色素者。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層之厚度係10 μm以下。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層之吸收軸與前述樹脂層A之配向軸平行。
[7]如[1]至[6]中任一項所述之偏光性積層膜，其係復具有積層於至少一側之偏光子層上的透明保護層。
[8]一種積層膜，係具有基材膜以及積層於前述基材膜之至少一側之面之延伸之聚乙烯醇系樹脂層之積層膜，其中，前述基材膜包括由顯示互為相異之相轉移溫度(在此，相轉移溫度，當構成樹脂層之樹脂為非晶性樹脂之情況係意指玻璃轉移溫度，為結晶性樹脂之情況係意指熔點)的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造，前述2種以上之樹脂層之中，當由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為A，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為B時，前述基材膜以A/B/A、或B/A/B的順序含有該等樹脂層，前述樹脂層A係朝面內之任一方向配向，而且，前述樹脂層B係面內實質上無配向。
[9]如[8]所述之積層膜，其中，構成前述樹脂層A之樹脂之相轉移溫度，與構成前述樹脂層B之樹脂之相轉移溫度之差係10℃以上。
[10]如[8]或[9]所述之積層膜，其中，前述樹脂層A以及B係包括熔點互異之鏈狀聚烯烴系樹脂。
[11]如[8]至[10]中任一項所述之積層膜，其中，前述聚乙烯醇系樹脂層之厚度係10 μm以下。
[12]如[8]至[11]中任一項所述之積層膜，其中，前述 聚乙烯醇系樹脂層之配向軸與前述樹脂層A之配向軸平行。
依據本發明，可提供一種為薄型並且再加工步驟等操作時之耐裂性優異之偏光性積層膜。本發明之偏光性積層膜由於具有良好的偏光性能，故其本身可使用作為偏光板，或可利用作為具有透明保護層之偏光板的製造中間物。藉由本發明之偏光性積層膜，可使薄型且耐久性高之偏光板及液晶顯示裝置等圖像顯示裝置的成品率良好，而且可安定製造。使用本發明之偏光性積層膜之液晶顯示裝置顯示高的對比率(contrast ratio)。
此外，依據本發明，可提供一種為薄型並且耐裂性優異之積層膜。本發明之積層膜由於在進行用以對其賦予偏光性能的處理之各步驟中不易裂開，故極為適合作為上述偏光性積層膜之製造中間物。藉由本發明之積層膜，可使耐裂性優異之薄型之偏光性積層膜的成品率良好，而且可安定製造。
10,10’,25,25’‧‧‧偏光性積層膜
15,15’‧‧‧積層膜
20,20’‧‧‧基材膜
30,30’‧‧‧偏光子層
35,35’‧‧‧延伸之聚乙烯醇系樹脂層
40,40’‧‧‧透明保護層
A,B‧‧‧樹脂層
第1圖係顯示有關於本發明之偏光性積層膜之較佳一例之概略剖面圖。
第2圖係顯示有關於本發明之偏光性積層膜之其他較佳一例之概略剖面圖。
第3圖(a)及(b)係顯示用以測定構成基材膜之樹脂層之配向狀態而製作之試料的示意圖。
第4圖係顯示使用第3圖所示之試料，測定構成基材膜之樹脂層之配向狀態之情況的示意圖。
第5圖係顯示有關於本發明之偏光性積層膜之其他較佳一例之概略剖面圖。
第6圖係顯示有關於本發明之偏光性積層膜之其他較佳一例之概略剖面圖。
第7圖係顯示有關於本發明之積層膜之較佳一例之概略剖面圖。
第8圖係顯示有關於本發明之積層膜之其他較佳一例之概略剖面圖。
第9圖係將實施例3的試料以使其長度方向(延伸方向)相對於偏光子之透過軸為45°之角度之方位配置時之偏光顯微鏡照片。
第10圖係顯示實施例3之偏光性積層膜之再加工性評價試驗結果的照片。
第11圖係顯示比較例3之偏光性積層膜之再加工性評價試驗結果的照片。
<偏光性積層膜>
本發明之偏光性積層膜係具有積層於基材膜之至少一側之面之偏光子層，基材膜係由下述者所構成者：由顯示互為相異之相轉移溫度的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造。2種以上之樹脂層之中，當由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為A(以下，稱之為樹脂 層A)，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為B(以下，稱之為樹脂層B)時，基材膜係以A/B/A、或B/A/B的順序含有該等樹脂層。
對於本發明之偏光性積層膜而言，相轉移溫度相異之2種以上之樹脂層之中，由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層A，係朝樹脂層面內之任一方向配向之狀態，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層B，係樹脂層面內實質上無配向之狀態。
有關於本發明之偏光性積層膜之較佳例係以第1圖以及第2圖之概略剖面圖所示。第1圖以及第2圖所示之偏光性積層膜10,10’皆係由基材膜20,20’，以及積層於此基材膜20,20’之一側之面的偏光子層30,30’所構成者。第1圖所示之偏光性積層膜10之基材膜20，係含有由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層A，以及由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層B而成，更具體而言，具有以樹脂層A/樹脂層B/樹脂層A的順序積層有3層樹脂層之積層構造。偏光子層30係積層於樹脂層A上。
另一方面，第2圖所示之偏光性積層膜10’之基材膜20’係具有以樹脂層B/樹脂層A/樹脂層B的順序積層3層樹脂層之積層構造。偏光子層30’係積層於樹脂層B上。
在此，「相轉移溫度」在構成樹脂層之樹脂為非晶性樹脂之情況係意指玻璃轉移溫度Tg，為結晶性樹脂之情況係意指熔點(結晶熔點)Tm，兩者皆以JIS K 7121為基準而 測定。
此外，樹脂層中「朝樹脂層面內之任一方向配向之狀態」、「樹脂層面內實質上無配向之狀態」係以下列之方式定義之。
首先，如第3圖所示般，自偏光性積層膜將基材膜剝離後，冷卻至-90℃，將冷卻之基材膜，藉由使用冷凍切片機(cryomicrotome)切斷2次，切出寬度3 μm(長度1至2mm左右，厚度係基材膜之厚度)的基材膜片，將此作為試料(第3a圖)。第3b圖中顯示將試料擴大表示之斜視圖。此時，試料係如第4圖所示，以使構成基材膜之樹脂層A之配向方向與試料之長度方向平行之方式自基材膜切出。此外，第3圖以及後述之第4圖中，基材膜係如第1圖般，可例舉由樹脂層A/樹脂層B/樹脂層A之3層樹脂層所構之情況。
構成基材膜之樹脂層A之配向方向，舉例而言，在藉由延伸後述之「未延伸膜」而製作有關於本發明之「積層膜」，並將之用於製作偏光性積層膜之情況，係上述未延伸膜之延伸方向。
當構成基材膜之樹脂層A之配向方向不明之情況，試料切出前，可先使用市售之相位差測定器(舉例而言，王子計測機器股份有限公司製「KOBRA-WPR」、大塚電子股份有限公司製「RETS」等)確認配向方向，或使用下述方法確認配向方向。
亦即，首先，在以使透過軸互相垂直之方式所配置之 偏光顯微鏡之偏光子與檢測器之間，將面內有相位差，而且已知其遲相軸(slowaxis)方向(配向方向)之相位差膜，以其面相對於偏光子以及檢測器(analyzer)之面為平行之方式配置。此時，相位差膜係以其配向方向相對於偏光子之透過軸成為45°(或135°)之方位角的方式配置。此狀態下，當從偏光子側，從與相位差膜面垂直的方向使用光源照射光，以偏光顯微鏡觀察對檢測器側之透過像的明亮度時，觀察到比起將相位差膜以其他方位角配置時更為明亮。
接下來，將配向方向不明之基材膜配置於偏光顯微鏡之偏光子與相位差膜之間，以與偏光顯微鏡之光軸平行之軸為中心旋轉基材膜。旋轉基材膜的同時，以偏光顯微鏡觀察對檢測器側之透過像的明亮度時，當基材膜之配向方向與相位差膜之配向方向為平行時，基材膜之相位差與相位差膜之相位差重合的結果，觀察到比起無基材膜介入時更為明亮。因此在此情況，構成基材膜之樹脂層A之配向方向，係與相位差膜之配向方向平行的方向(另一方面，在基材膜之配向方向與相位差膜之配向方向為垂直之情況，由於觀察到比起無基材膜介入時更暗，亦可由此觀察結果確認樹脂層A的配向方向)。
接著，如第4圖所示，在透過軸以互相垂直之方式配置之偏光顯微鏡之偏光子與檢測器之間，以使試料中相對向之2層樹脂層積層剖面分別與偏光子、檢測器相對向(此時，試料之寬度3 μm之邊係與偏光顯微鏡之光軸方向(光的進行方向)平行)之方式，將試料以相對於偏光子以及檢 測器為平行之方式配置，從偏光子側，從與試料之樹脂層積層剖面垂直之方向使用光源照射光，以偏光顯微鏡觀察該正交偏光鏡(crossed Nichol prism)下之對檢測器側之各樹脂層之透過像的明亮度。此觀察係從檢測器側，從與試料之樹脂層積層剖面垂直之方向(與偏光顯微鏡之光軸平行之方向)進行。
然後，於上述之狀態，通過試料之中心，藉由以與偏光顯微鏡之光軸平行之軸作為中心旋轉試料，使相對於偏光子之透過軸(亦即，入射試料之偏光光之偏光方向)的試料之長度方向的方位角變化時(當旋轉前之初期狀態的方位角為0°時，至少使方位角為180°為止)，方位角每增加45°時，觀察到透過像為最明亮之時，與觀察到為最暗之時係交互反復出現之情況，該樹脂層係定義為「朝樹脂層面內之任一方向配向之狀態」。如此之正交偏光鏡下之透過像之明暗之反復出現，係起因於樹脂層於面內(以試料之長度方向與寬度方向所規定之面內)有配向，而配向方向及與其垂直的方向之間有折射率差產生。
舉例而言，試料之樹脂層A係配向於其長度方向(一軸配向)之情況，旋轉試料時，其配向軸(配向方向)與偏光子之透過軸(偏光光之偏光方向)為45°以及135°之方位角時，觀察到最明亮之透過像，而為0°、90°以及180°之角度時，觀察到最暗之透過像。
另一方面，即便使相對於偏光子之透過軸的試料之長度方向的方位角變化，無法辦認透過像之明亮度變化，認 定為維持在暗的狀態之情況者，該樹脂層係定義為「樹脂層面內實質上無配向之狀態」。
第4圖係顯示將樹脂層A為配向於長度方向之試料，在以使其長度方向相對於偏光子之透過軸成為45°之方位角的方位配置時，觀察到明亮的樹脂層A，而無配向之樹脂層B為暗的狀態者。
本發明之偏光性積層膜，作為構成基材膜之樹脂層，由於係含有配向狀態之樹脂層A與實質上無配向之樹脂層B者，故在包含再加工步驟等偏光性積層膜之操作時具有優異之耐裂性。亦即，由於含有實質上未配向，因而相對於任一方向皆顯示高耐裂性的樹脂層B，故儘管含有於配向方向比較容易裂開的樹脂層A以及偏光子層，樹脂層B仍對於偏光性積層膜全體給予耐裂性，包含樹脂層A以及偏光子層之配向方向，偏光性積層膜全體係相對於所有方向顯示優異之耐裂性。因此，本發明之偏光性積層膜係耐久性優異者。
相對於此，由於使用將在由單一樹脂層所構成之基材膜上具有聚乙烯醇系樹脂層之膜延伸所得之延伸膜的以往之偏光板，係基材膜全體係配向於延伸方向，故有易沿延伸方向裂開之問題。
更具體而言，基材膜上具有聚乙烯醇系樹脂層之膜之延伸，如以往般，其基材膜係由單一樹脂層形成之情況，由於延伸溫度過低時流動性係低，易產生基材膜之斷裂，延伸溫度過高時基材膜成為過度熔融之狀態，而無法延 伸，故通常在構成基材膜(樹脂層)之樹脂之相轉移溫度(為非晶性樹脂之情況係玻璃轉移溫度Tg，為結晶性樹脂之情況係熔點Tm)附近之溫度進行。然而，由於在相轉移溫度附近進行延伸處理時，隨著聚乙烯醇系樹脂層，基材膜亦於延伸方向產生配向，故基材膜甚至於延伸膜以及使用其之偏光板易沿延伸方向裂開。
此外，本發明之偏光性積層膜，由於基材膜係以樹脂層A/樹脂層B/樹脂層A、或樹脂層B/樹脂層A/樹脂層B之方式，將樹脂層A以及B於積層方向對稱配置，有效地抑制了膜之捲曲，有著操作容易之優點。
本發明之偏光性積層膜，不限於第1圖以及第2圖所示之例，舉例而言，考慮抑制膜之捲曲等，基材膜之兩面可具有偏光子層。此外，可含有配置在樹脂層A與樹脂層B之間以及/或基材膜表面之其他樹脂層。其他樹脂層，舉例而言，構成基材膜本身，具有比起構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度低，且比起構成樹脂層B之樹脂之相轉移溫度高之相轉移溫度之1種或2種以上之其他樹脂層(樹脂層C)；負責接著偏光子層與基材膜之接著劑層；用於提升偏光子層與基材膜之間之接著性之中介層(亦稱呼為易接著層、底漆層(primer layer)等)等。基材膜含有樹脂層C之情況，自抑制膜之捲曲的觀點來看，如同上述，較佳為構成基材膜之3種以上之樹脂層，係於積層方向以成為對稱構造之方式配置。
此外，本發明之偏光性積層膜，如第5圖以及第6圖 所示般，可進一步具有積層在偏光子層30,30’上之透明保護層40,40’。第5圖所示之偏光性積層膜25係於第1圖之偏光性積層膜10之偏光子層30上積層透明保護層40之例，第6圖所示之偏光性積層膜25’係於第2圖之偏光性積層膜10’之偏光子層30’上積層透明保護層40’之例。基材膜之兩面設有偏光子層之情況，透明保護層可積層在一側之偏光子層上，亦可積層在兩方之偏光子層上。
透明保護層，舉例而言，除了可為由適宜之熱塑性樹脂而成之透明保護膜之外，可為於該透明保護膜之偏光子層之反對側的表面，形成有硬塗層、防眩層、抗反射層等光學層者。
以下，對於本發明之偏光性積層膜進一步詳細說明。
(基材膜)
構成本發明之偏光性積層膜之基材膜，如上述般，係由含有顯示互為相異之相轉移溫度的至少2種類之樹脂層A以及B之3層以上之樹脂層之積層構造所成者。樹脂層A係，構成基材膜之2種以上之樹脂層之中，由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層，係朝樹脂層面內之任一方向配向。樹脂層B係，2種以上之樹脂層之中，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層，樹脂層面內係實質上無配向之狀態。
構成基材膜之3層以上之樹脂層可各別為由非晶性樹脂所成，亦可由結晶性樹脂所成。亦即，可僅組合由非晶性樹脂所成之樹脂層，亦可僅組合由結晶性樹脂所成之樹 脂層，或是組合由非晶性樹脂所成之樹脂層與由結晶性樹脂所成之樹脂層。
如上述般構成基材膜之樹脂層之配向狀態，可藉由積層事先作成預定之配向狀態之樹脂層而達成，由同時進行偏光子層之形成(偏光性能之賦予)所需要之延伸處理與構成基材膜之樹脂層之預定配向狀態之賦予而言，宜為將在具有預定樹脂層構成之基材膜上積層有藉由延伸處理與二色性色素之吸附配向而作為偏光子層之樹脂層(聚乙烯醇系樹脂層等)之「未延伸膜」延伸，藉此賦予構成基材膜之上述樹脂層之配向狀態。亦即，本發明之偏光性積層膜係對於延伸上述未延伸膜所得之延伸膜，施實二色性色素之吸附配向處理者。作為延伸膜，可適宜使用後述有關於本發明之「積層膜」。該延伸通常為一軸延伸。於此情況，偏光子層之吸收軸與樹脂層A之配向軸(配向方向)為平行(同時與延伸方向平行)。
對於本發明之偏光性積層膜為由上述延伸膜所形成之情況中之樹脂層之配向狀態更具體說明的話，若將未延伸膜之延伸溫度設定為構成樹脂層A之樹脂所示相轉移溫度附近時，由於作為樹脂層A之層以外的層(特指作為樹脂層B之層)於延伸時成為熔融狀態，故不會產生配向(或幾乎不產生)。此結果，儘管樹脂層A係藉由延伸成為配向狀態，仍對作為偏光性積層膜全體之延伸方向之裂開賦予耐性。
此外，由於作為樹脂層A之層係於延伸時保持在比較 堅硬的狀態，故達到擔任使延伸時成為熔融狀態之作為樹脂層B之層等保持的支持體的角色，於延伸時亦可保持基材膜之形狀。關於此點，比較第1圖之例與第2圖之例時，由於第1圖之例係於2個樹脂層A之間介入樹脂層B，可謂之延伸時作為樹脂層B之層之保持性以及伴隨此之延伸時的膜之操作性與耐熱性更為優異，而第2圖之例中，可藉由適當選擇延伸溫度與構成樹脂層之樹脂之種類，良好地進行延伸處理。
如此，延伸上述未延伸膜之延伸膜之情況中，本發明之偏光性積層膜，藉由實質上無藉由延伸產生配向之樹脂層B，賦予對沿延伸方向裂開之耐性。該情況中樹脂層A之配向軸係與偏光子層之吸收軸平行。但是，在本發明中，樹脂層A之配向軸方向並不限於此，只要朝樹脂層面內之任一方向具有配向軸即可。
構成樹脂層A之樹脂所示之相轉移溫度與構成樹脂層B之樹脂所示之相轉移溫度之差愈大，於構成樹脂層A之樹脂所示之相轉移溫度附近進行未延伸膜之延伸時，由於作為樹脂層B之層易成為熔融狀態，可更加抑制對樹脂層B之配向顯現，更加提升對偏光性積層膜之延伸方向之耐裂性。由如此之觀點來看，構成樹脂層A之樹脂所示之相轉移溫度與構成樹脂層B之樹脂所示之相轉移溫度之差，較佳為10℃以上，較佳20℃以上。另一方面，當該差為極端地大時，由於有未延伸膜之操作性與延伸時未延伸膜之耐熱性的低減(舉例而言，作為樹脂層B之層係成為極端高 流動性之熔融狀態等)之疑慮，該差較佳為100℃以下。
構成基材膜之各樹脂層之各樹脂之相轉移溫度(非晶性樹脂之情況係玻璃轉移溫度Tg，為結晶性樹脂之情況係熔點Tm)，自基材膜之操作性之觀點來看，較佳為25℃以上，更佳為40℃以上。此外，就延伸時未延伸膜之耐熱性之觀點來看，各樹脂之相轉移溫度，較佳為60℃以上，更佳為80℃以上。
另一方面，各樹脂之相轉移溫度，較佳為250℃以下，更佳為200℃以下。此係由於為了進行未延伸膜之延伸，有提升溫度至最高的相轉移溫度附近之必要時，若有相轉移溫度超過250℃之樹脂層，則提升溫度至該溫度附近時，藉由二色性色素之吸附配向作為偏光子層之樹脂層(聚乙烯醇系樹脂層等)有產生熱劣化之疑慮。各構成樹脂層之樹脂之種類(相轉移溫度)較佳為選擇使最高的相轉移溫度(樹脂層A之相轉移溫度)與最低的相轉移溫度(樹脂層B之相轉移溫度)之差成為上述範圍者。
基材膜之構成複數個樹脂層之樹脂，較佳係以滿足上述相轉移溫度之關係的方式選擇之。此外，該等之樹脂，較佳係透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異之熱塑性樹脂。若列舉熱塑性樹脂之具體例，則可列舉如三乙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚酯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚碳酸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；鏈狀聚烯烴系樹脂，環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚芳基脂 (polyarylate)系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；以及該等之混合物等。特別是由用以塗佈聚乙烯醇系樹脂之平滑性優異，而且，積層聚乙烯醇系樹脂層之未延伸膜之延伸性優異等理由來看，基材膜較佳為含有選擇自由纖維素酯系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂以及(甲基)丙烯酸系樹脂所組成群組中至少任何1者所成之樹脂層。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。就纖維素酯系樹脂之具體例而言，可列舉三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素等。該等之中，特佳為三乙酸纖維素。三乙酸纖維素係市售有多數之製品，就取得容易性與成本之點亦為有利。作三乙酸纖維素之市售品之例，可列舉(下述皆為商品名)「FUJITAC TD80」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD80UF」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD80UZ」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD40UZ」、(富士軟片股份有限公司製)、「KC8UX2M」(KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司製)、「KC4UY」(KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司製)等。
聚酯系樹脂係主鏈中含有酯鍵結之樹脂，作為其代表例，可列舉對苯二甲酸與乙二醇之共聚物之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。雖然聚對苯二甲酸乙二酯係結晶性之樹脂，結晶化處理前之狀態易於實施延伸等處理。如有必要，可藉由延伸時或延伸後之熱處理等以進行結晶化處理。此 外，亦適宜使用藉由將聚對苯二甲酸乙二酯之骨架進一步與其他種類的單體共聚合而使結晶性下降(或是成為非晶性)之共聚合聚酯。作為如此之樹脂之例，舉例而言，可列舉環己烷二甲醇與間苯二甲酸等共聚合者等，該等之樹脂之延伸性亦優，可適合使用。就該等般樹脂之情況，可認為延伸前之狀態為非晶性的話以玻璃轉移溫度Tg為指標，延伸前之狀態為已結晶化處理的話以熔點Tm為指標。延伸前之狀態，非晶性者由於延伸性更優，故更佳。
進一步地，作為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)以外之聚酯系樹脂，可適宜使用聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚萘二甲酸丁二酯(PBN)、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯(PCT)、聚萘二甲酸環己烷二甲酯(PCN)、聚對苯二甲酸三甲酯(PTT)、聚萘二甲酸三甲酯(PTN)等。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，除了聚乙烯樹脂，聚丙烯樹脂等均聚物以外，可列舉2種以上之鏈狀烯烴所成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元聚合之樹脂之總稱，舉例而言，可列舉日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。若列舉環狀聚烯烴系樹脂之具體例，例如，環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物，環狀烯烴與乙烯、丙烯等鏈狀烯烴之共聚物(代表者為隨機共聚物)，以及將該等以不飽和羧酸或其衍生物改質之接枝聚合物、以及該等之氫化物等。其中，作為環狀 烯烴，較佳為使用降莰烯或使用多環降莰烯系單體等降莰烯系單體之降莰烯系樹脂。
作為環狀聚烯烴系樹脂，有多種市售之製品。作為環狀聚烯烴系樹脂之市售品之例，可列舉(下述皆為商品名)「Topas」(TOPAS ADVANCED POLYMBRS GmbH公司製，可取得自POLYPLASTICS股份有限公司)、「ARTON」(JSR股份有限公司製)、「ZEONOR」(日本ZEON股份有限公司製)，「ZEONEX」(日木ZEON股份有限公司製)、「APEL」(三井化學股份有限公司製)等。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可採用任何適切之(甲基)丙烯酸系樹脂。舉例而言，可列舉聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲基-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(舉例而言，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳為使用聚(甲基)丙烯酸甲酯等烷基部位的碳數為1至6之聚(甲基)丙烯酸烷酯等，更佳為使用以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%，較佳為70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
上述熱塑性樹脂之中，由延伸性優異，而且，容易調整相轉移溫度來看，基材膜之複數之樹脂層，較佳為任一者皆由鏈狀聚烯烴系樹脂所成，更佳為由聚丙烯系樹脂(丙 烯的均聚物之聚丙烯樹脂，以及以丙烯為主體之共聚物等)，聚乙烯系樹脂(乙烯的均聚物之聚乙烯樹脂，以及以乙烯為主體之共聚物等)等所成。
鏈狀聚烯烴系樹脂多數為結晶性，丙烯均聚物之聚丙烯樹脂的熔點Tm約為150至180℃之範圍。為乙烯均聚物之聚乙烯樹脂之情況，雖然可能因其密度等而改變熔點Tm，但其熔點Tm約為100至140℃之範圍。此外，舉例而言，藉由使丙烯與乙烯等其他種類之單體共聚合的聚丙烯系樹脂，可得到比丙烯之均聚物的熔點更低的熔點。如此，藉由調整主單體之種類或共聚合成分之有無或共聚合成分之種類及含量等，可控制樹脂之相轉移溫度。
作為可與丙烯共聚合之其他種類之單體，舉例而言，可列舉乙烯、α-烯烴，作為α-烯烴，較佳為使用碳數4以上之α-烯烴，更佳為碳數4至10之α-烯烴。若列舉就碳數4至10之α-烯烴之具體例，例如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯等直鏈狀單烯烴類；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯等分支狀單烯烴類；乙烯基環己烷等。丙烯與可與其共聚合之其他單體之共聚物，可為隨機共聚物或嵌段共聚物。再者，共聚物中之該來自其他單體之構成單元之含有率，可藉由依據「高分子分析手冊」(1995年，紀伊國屋書店發行)之第616頁中記載之方法，進行紅外線(IR)光譜測定而求得。
上述之中，作為聚丙烯系樹脂，較佳為使用丙烯之均聚物、丙烯-乙烯隨機共聚物、丙烯-1-丁烯隨機共聚物、 以及丙烯-乙烯-1-丁烯隨機共聚物。
聚丙烯系樹脂之立體規則性，較佳為實質上同排(isotactic)或間規(syndiotactic)者。含有由具實質上同排或間規之立體規則性之聚丙烯系樹脂所成之樹脂層之基材膜，其操作性比較良好之同時，高溫環境下之機械強度優異。
基材膜，除了上述熱塑性樹脂之外，亦可添加任何適當之添加劑。作為如此之添加劑，舉例而言，可列舉紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、抗著色劑、難燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、以及著色劑等。基材膜中之上述例示之熱塑性樹脂之含量，較佳為50至100重量%，更佳為50至99重量%，再更佳為60至98重量%，特佳為70至97重量%。基材膜中之熱塑性樹脂之含量未達50重量%之情況，有無法充分顯現熱塑性樹脂原本具有之高透明性等之虞。
再者，未延伸膜之基材膜，可為延伸步驟中相對於延伸方向預先於膜面內之垂直的方向延伸者。相對於延伸方向於膜面內之垂直的方向延伸，舉例而言，在將未延伸膜之延伸於膜搬送方向(未延伸膜之長度方向)亦即縱方向進行之縱向延伸之情況中，係意指橫向延伸(膜寬度方向之延伸)。
未延伸膜之基材膜之厚度(延伸前)無特別限制，惟，自強度與操作性等作業性的觀點來看，較佳為1至500 μm，更佳為1至300 μm，再更佳為5至200 μm，最佳 為5至150 μm。
偏光性積層膜以及後述之積層膜之基材膜之厚度通常為1至300 μm，較佳為1至100 μm。在偏光性積層膜以及積層膜經過未延伸膜之延伸而製作之情況中，未延伸膜之厚度為上述範圍之情況，偏光性積層膜以及積層膜之厚度通常為1至300 μm之範圍內。
對於未延伸膜以及構成偏光性積層膜及積層膜之各樹脂層之厚度並無特別限制，惟，為了給予足夠之耐裂性，偏光性積層膜以及積層膜中之實質上不產生配向之樹脂層B之厚度，較佳為2 μm以上，更佳為5 μm以上。此外，第1圖以及第2圖所示之例中，較佳為基材膜之樹脂層構造成為對稱之方式，基材膜之外側之2層係具有同等之厚度。
有關於本發明之含有複數個樹脂層之基材膜，作為未延伸者，舉例而言，可藉由使用多層擠壓成形機之共擠壓成形法等容易地製作。或是，可將事先作成預定配向狀態之複數個樹脂層積層作為基材膜。
(偏光子層)
偏光子層可為具有偏光性能之任何層，惟，典型上為於延伸之聚乙烯醇系樹脂層吸附配向有二色性色素者。該延伸通常為一軸延伸。偏光子層係積層在基材膜之單面或兩面。
作為形成偏光子層之聚乙烯醇系樹脂，舉例而言，可列舉聚乙烯醇樹脂以及其衍生物。作為聚乙烯醇樹脂之衍 生物，除了聚乙烯醇縮甲醛，聚乙烯醇縮乙醛等以外，可列舉將聚乙烯醇樹脂以乙烯、丙烯等烯烴，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸，不飽和羧酸之烷基酯，丙烯醯胺等改質者。其中，較佳為使用聚乙烯醇樹脂。
聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度，較佳為100至10000，更佳為1000至10000。平均聚合度未達100時難以得到較佳之偏光特性。超過10000時對水之溶解性惡化，難以形成聚乙烯醇系樹脂層。聚乙烯醇系樹脂之平均皂化度，較佳為80至100莫耳%，更佳為94莫耳%以上。平均皂化度未達80莫耳%時，難以得到較佳之偏光特性。
聚乙烯醇系樹脂中，視需要，可添加塑化劑、界面活性劑等添加劑。作為塑化劑，可使用多元醇或其縮合物等，舉例而言可例示甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。添加劑之調配量並無特別限制，惟，適合為聚乙烯醇系樹脂中20重量%以下。
偏光子層以及後述之積層膜中之聚乙烯醇系樹脂層之厚度，自薄型化之觀點來看，較佳為10 μm以下，自對積層膜之染色性、以及偏光性積層膜及積層膜之薄型化之觀點來看，更佳為1至10 μm，再更佳為2至8 μm。再者，未延伸膜中之聚乙烯醇系樹脂層之厚度，較佳為3至30 μm，更佳為5至20 μm。
如同後述，未延伸膜中之聚乙烯醇系樹脂層之形成，可藉由於基材膜之單面上直接塗佈聚乙烯醇系樹脂溶液並且乾燥而進行，惟，此種情況，為了提升聚乙烯醇系樹脂 層與基材膜之密著性，可於基材膜表面形成底漆層(易接著層)。此外，聚乙烯醇系樹脂層可藉由在基材膜上貼附由聚乙烯醇系樹脂所成之膜而形成，惟，此種情況，膜間之貼附可使用接著劑。
(透明保護層)
透明保護層係於至少一側之偏光子層上任意設置之層(參照第5圖以及第6圖)，舉例而言，除了可為由適宜之熱塑性樹脂所成之透明保護膜外，可為於該透明保護膜之偏光子層之相反側的表面形成有硬塗層、防眩層、抗反射層等光學層者。
具有透明保護層之偏光性積層膜，與未具有透明保護層之偏光性積層膜一樣，除了可使用作為偏光板以外，亦有用於作為用以製作將基材膜剝離之具有透明保護層之偏光板之製造中間物。
作為上述透明保護膜，可列舉鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂膜等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；由三乙酸纖維素、二乙酸纖維素般之樹脂所成之纖維素酯系樹脂膜；由聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸二丁酯般之樹脂所成之聚酯系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；丙烯酸系樹脂膜等。
作為環狀聚烯烴系樹脂，適宜之市售品，舉例而言，可適宜使用(下述皆為商品名)「Topas」(TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH公司製，可取得自POLYPLASTICS股份有限公司)、「ARTON」(JSR股份有限公司製)、「ZEONOR」 (日本ZEON股份有限公司製)、「ZEONEX」(日本ZEON股份有限公司製)、「APEL」(三井化學股份有限公司製)等。以如此之環狀聚烯烴系樹脂製膜以作為膜時，可適宜使用溶劑澆鑄法、熔融擠壓法等習知的方法。此外，亦可使用(下述皆為商品名)「ESSINA」(積水化學工業股份有限公司製)、「SCA40」(積水化學工業股份有限公司製)、「ZEONOR FILM」(日本ZEON股份有限公司製)等已製膜之環狀聚烯烴系樹脂製之膜之市售品。
環狀聚烯烴系樹脂膜可為一軸延伸或二軸延伸者。藉由延伸，可對環狀聚烯烴系樹脂膜賦予任意的相位差值。延伸通常在膜輥卷出的同時連續地進行，藉由加熱爐，於輥之進行方向、於與其進行方向垂直之方向、或於其兩方延伸。加熱爐的溫度通常為環狀聚烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度附近至玻璃轉移溫度+100℃之範圍。延伸倍率，於每一方向通常為1.1至6倍，較佳為1.1至3.5倍。
由於環狀聚烯烴系樹脂膜一般而言表面活性差，故較佳為對欲貼附偏光子層之表面進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理等表面處理。其中，適合者為可較容易實施之電漿處理、電暈處理。
作為纖維素酯系樹脂膜，適宜之市售品，舉例而言，可適用(下述皆為商品名)「FUJITAC TD80」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD80UF」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD80UZ」(富士軟片股份有限公司製)、「FUJITAC TD40UZ」(富士軟片股份有限公司製)、 「KC8UX2M」(KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司製)、「KC4UY」(KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司製)等。
纖維素酯系樹脂膜之表面，為了改良視野角特性可形成液晶層等。此外，為了賦予相位差，可使用延伸之纖維素酯系樹脂膜作為透明保護膜。纖維素酯系樹脂膜，為了提高與偏光子層之密著性，通常實施皂化處理。作為皂化處理，可採用浸漬於如氫氧化鈉或氫氧化鉀般的鹼性水溶液中之方法。
透明保護膜較佳為薄者，惟，過薄時強度會減低，加工性差。另一方面，過厚時，有透明性減低，積層後所需要的固化(curing)時間變長等問題產生。因此，透明保護膜之厚度，較佳為80 μm以下，更佳為5至60 μm。此外，自偏光性積層膜以及偏光板之薄型化的觀點來看，偏光子層與透明保護膜之合計厚度，較佳為100 μm以下，更佳為90 μm以下，再更佳為80 μm以下。
偏光性積層膜之偏光子層與透明保護膜之貼合可利用接著劑或黏著劑進行。
<積層膜>
本發明之積層膜，係具有積層於基材膜之至少一側之面之延伸之聚乙烯醇系樹脂層，基材膜係由下述者所構成者：由顯示互為相異之相轉移溫度的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造。基材膜，係將下述者以A/B/A、或B/A/B的順序含有：2種以上之樹脂層之中，由顯示最 高的相轉移溫度的樹脂所構成且朝樹脂層面內之任一方向配向之狀態之樹脂層A、以及由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成且樹脂層面內實質上無配向之狀態之樹脂層B。「相轉移溫度」、「於樹脂層面內之任一方向配向之狀態」、「樹脂層面內實質上無配向之狀態」之定義係與上述者相同。
亦即，本發明之積層膜，除了積層於基材膜之至少一側之面之層係藉由二色性色素之吸附配向成為偏光子層之延伸之聚乙烯醇系樹脂層以外，具有與上述偏光性積層膜相同之構成。因此本發明之積層膜，將其聚乙烯醇系樹脂層藉由二色性色素之吸附配向作為偏光子層，極有用於作為用以得到本發明之偏光性積層膜之製造中間物。
有關於本發明之積層膜之較佳例係示於第7圖以及第8圖之概略剖面圖。第7圖及第8圖所示之積層膜15,15’皆為由基材膜20,20’以及積層於此基材膜20,20’之一側之面的延伸之聚乙烯醇系樹脂層35,35’所構成者。第7圖所示之積層膜15之基材膜20，係具有以樹脂層A/樹脂層B/樹脂層A的順序積層3層樹脂層之積層構造。聚乙烯醇系樹脂層35係積層於樹脂層A上。
另一方面，第8圖所示之積層膜15’之基材膜20’係具有以樹脂層B/樹脂層A/樹脂層B的順序積層3層樹脂層之積層構造。聚乙烯醇系樹脂層35’係積層於樹脂層B上。
本發明之積層膜，係與上述偏光性積層膜相同，由於實質上無配向之樹脂層B，而對於任一方向皆具有優異的 耐裂性，以此作為製造中間物所得之偏光性積層膜亦具有優異耐裂性。
此外，若依據本發明之積層膜，則由於製造偏光性積層膜時的二色性色素之染色步驟中不易裂開，偏光性積層膜之成品率良好，而且可安定製造。相對於此，在使用將於由單一樹脂層所構成之基材膜上具有聚乙烯醇系樹脂層之膜延伸所得之以往的延伸膜製造偏光板之情況，由於基材膜全體係配向於延伸方向，特別是所使用之延伸膜之延伸倍率高之情況，聚乙烯醇系樹脂層之染色時，以夾輥(nip roll)等輥卷取膜時膜沿延伸方向裂開，有難以得到所欲之偏光板之問題。
進一步地，本發明之積層膜，與上述偏光性積層膜相同，由於基材膜係以樹脂層A/樹脂層B/樹脂層A、或樹脂層B/樹脂層A/樹脂層B之方式，將樹脂層A以及B於積層方向對稱配置，有效地抑制了膜之捲曲，有著操作容易之優點。
本發明之積層膜，不限於第7圖以及第8圖所示之例，舉例而言，考慮抑制膜之捲曲等，基材膜之兩面可具有聚乙烯醇系樹脂層。此外，可含有配置於樹脂層A與樹脂層B之間以及/或於基材膜表面之其他樹脂層。若列舉其他樹脂層之例，構成基材膜本身，具有比起構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度低，比起構成樹脂層B之樹脂之相轉移溫度高之相轉移溫度之1種或2種以上之其他樹脂層(樹脂層C)；負責接著聚乙烯醇系樹脂層與基材膜之接著劑層；用 於提升聚乙烯醇系樹脂層與基材膜之間之接著性之中介層(稱呼為易接著層、底漆層等)等。基材膜含有樹脂層C之情況，自抑制膜之捲曲的觀點來看，較佳為構成基材膜之3種以上之樹脂層，於積層方向以成為對稱構造之方式配置。
本發明之積層膜，除了積層於基材膜之至少一側之面之層係藉由二色性色素之吸附配向成為偏光子層之延伸之聚乙烯醇系樹脂層以外，具有與上述偏光性積層膜相同之構成。因此，基材膜以及聚乙烯醇系樹脂層之詳細說明，基本上係引用上述偏光性積層膜之說明(惟，積層膜中聚乙烯醇系樹脂層並未吸附配向二色性色素)。
積層膜，可藉由於將事先作成預定之配向狀態之樹脂層積層所得之基材膜上，將延伸之聚乙烯醇系樹脂層(膜)積層而得，亦可藉由於將於具有預定之樹脂層構成之基材膜上，積層有聚乙烯醇系樹脂層之「未延伸膜」延伸而得。該延伸通常為一軸延伸。此種情況，聚乙烯醇系樹脂層之配向軸與樹脂層A之配向軸平行(同時與延伸方向平行)。但是，本發明之樹脂層A之配向軸方向不限於此，只要樹脂層面內任何之方向具有配向軸即可，可與聚乙烯醇系樹脂層之配向軸相異。
藉由該延伸所得之積層膜，實質上無藉由延伸產生配向之樹脂層B，賦予對沿延伸方向的裂開之耐性。
<偏光性積層膜及積層膜之製造方法>
本發明之偏光性積層膜以及積層膜，如上述般，可藉 由將以事先具備預定構成之方式調製之各層(構成基材膜之樹脂層以及偏光子層或延伸之聚乙烯醇系樹脂層)積層而製造，亦可經由將於具有預定之樹脂層構成之基材膜上積層有聚乙烯醇系樹脂層之未延伸膜延伸之步驟而製造。亦即，本發明之積層膜係可藉由含有下述步驟之方法而製造：(a)於具有預定之樹脂層構成之基材膜之至少一側之面形成聚乙烯醇系樹脂層，得到未延伸膜之步驟，(b)將未延伸膜延伸之步驟，本發明之偏光性積層膜，可藉由於上述步驟(a)以及(b)後接續含有下述步驟之方法而製造：(c)將所得積層膜之聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色，得到染色膜之步驟，(d)將染色膜之聚乙烯醇系樹脂層浸漬於含交聯劑之溶液中，形成偏光子層，得到交聯膜之步驟，(e)乾燥交聯膜之步驟。
以下，對各步驟進行說明。
〔步驟(a)〕
步驟(a)中使用之「具有預定之樹脂層構成之基材膜」係將作為樹脂層A之層(樹脂層A’)以及作為樹脂層B之層(樹脂層B’)以A’/B’/A’、或B’/A’/B’的順序含有之3層以上之樹脂層之積層構造所成之膜。該基材膜基本上為未延伸之膜，惟，如同上述，可為在相對於延伸步驟(步驟(b))之延伸方向之膜面內之垂直之方向事先延伸 者。
聚乙烯醇系樹脂層，較佳為將聚乙烯醇系樹脂之粉末溶解於良溶劑後所得之聚乙烯醇系樹脂溶液塗佈於基材膜之至少一側之面上，藉由乾燥使溶劑蒸發而形成。若藉由如此之方法，由於可形成薄的聚乙烯醇系樹脂層，故有利於偏光性積層膜之薄型化。作為將聚乙烯醇系樹脂溶液塗佈於基材膜之方法，可適宜選擇自線棒塗佈法、反式塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法，旋塗法、網板印刷法、噴泉(fountain)塗佈法、浸塗法、噴塗法等習知方法。乾燥溫度，舉例而言為50至200℃，較佳為60至150℃。乾燥時間，舉例而言為5至30分鐘。
形成聚乙烯醇系樹脂層之前，可於基材膜之形成聚乙烯醇系樹脂層側的表面，以提升密著性為目的預先形成底漆層(易接著層)。底漆層，舉例而言可藉由將含有聚乙烯醇系樹脂與交聯劑之溶液，以相同於上述之方法塗佈、乾燥而形成。此外，上述表面，可實施電暈處理、電漿處理、火焰處理等表面處理。
再者，如上所述，聚乙烯醇系樹脂層，可藉由將由聚乙烯醇系樹脂所成之膜貼附於基材膜之至少一側之表面上而形成。
〔步驟(b)〕
步驟(b)係將具有基材膜以及聚乙烯醇系樹脂層之未延伸膜延伸的步驟。該延伸通常為一軸延伸。未延伸膜之延伸倍率可對應所期望之偏光特性而適宜選擇，惟，相對 於未延伸膜之原長，較佳為超過3倍且17倍以下，更佳為超過5倍且8倍以下。延伸倍率為3倍以下時，由於聚乙烯醇系樹脂層配向不足，以結果而言，偏光性積層膜之偏光度不夠高。另一方面，延伸倍率超過17倍時，延伸時容易產生未延伸膜之斷裂的同時，未延伸膜之厚度變的比所需還薄，有後續步驟之加工性以及操作性減低之虞。本發明中，由於使用如上述般由複數個樹脂層所成之基材膜，即便為延伸倍率超過5倍之情況，藉由延伸所得之有關於本發明之積層膜，對沿延伸方向之裂開有高耐性。因此，可提供顯示高偏光特性並且具有高耐久性之偏光性積層膜以及偏光板。
延伸處理係不限於一段延伸，可多段進行。此種情況，較佳為以延伸處理之全段總合成為超過3倍的延伸倍率之方式進行延伸處理。
延伸方式不無特別限定，可適用縱向延伸方式、橫向延伸方式、超喂(over-feed)橫向延伸方式、同時二軸延伸方式、斜向延伸方式等各種延伸方式。作為延伸方法，可列舉輥間延伸方法、壓縮延伸方法、使用拉幅機之延伸方法等。
延伸處理，可採用濕潤式延伸方法、乾式延伸方法之任一種，使用乾式延伸方法者，自將未延伸膜延伸時之溫度可從廣範圍選擇之點來看較佳。
延伸溫度，於基材膜所具有之複數個樹脂層之中，除了由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層(亦即 成為樹脂層A之樹脂層A’)以外，至少由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層(亦即成為樹脂層B之樹脂層B’)成為(不會燒穿程度的)熔融狀態之溫度以上，較佳為設定在構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度(=構成樹脂層A’之樹脂之相轉移溫度)附近，具體而言，較佳為(構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度-30℃)至(構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度+30℃)之範圍。當延伸溫度低於(構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度-30℃)時，難以有高倍率延伸。當延伸溫度超過(構成樹脂層A之樹脂之相轉移溫度+30)時，基材膜之流動性過大，有難以延伸之傾向。
延伸處理之溫度調整，通常係藉由加熱爐之溫度調整，惟，加熱爐之溫度與膜之實際溫度不一定一致，而且，由於樹脂在分子量等有分散，到達相轉移溫度之時點時不一定會立即燒穿，有時會設定在比相轉移溫度高溫之狀態實施延伸。亦即，可依狀況選擇實質上比膜燒穿之溫度低的溫度。
〔步驟(c)〕
步驟(c)係將延伸所得之積層膜之聚乙烯醇樹脂層以二色性色素染色，將其進行吸附配向之步驟。作為二色性色素，舉例而言，可列舉碘或有機染料等。作為有機染料，舉例而言，可使用RED BR、RED LR、RED R、PINK LB、RUPINE BL、BORDEAUX GS、SKYBLUE LG、LEMON YELLOW、BLUE BR、BLUE 2R、NAVY RY、GREEN LG、VIOLET LB、VIOLET B、BLACK H、BLACK B、BLACK GSP、 YELLOW 3G、YELLOW R、ORANGE LR、ORANGE 3R、SCARLET GL、SCARLET KGL、CONGO RED、BRILLIANT VIOLET BK、SUPRA BLUE G、SUPRA BLUE GL、SUPRA ORANGE GL、DIRECT SKYBLUE、DIRECT FAST ORANGE S、FAST BLACK等。該等二色性物質可僅單獨使用一種，亦可二種以上併用。
染色步驟，舉例而言，可藉由將積層膜全體浸漬於含有上述二色性色素之溶液(染色溶液)中而進行。作為染色溶液，可使用將上述二色性色素溶解於溶劑中之溶液。作為染色溶液之溶劑，一般而言係使用水，惟可進一步添加與水具有相溶性之有機溶劑。二色性色素之濃度較佳為0.01至10重量%，更佳為0.02至7重量%，特佳為0.025至5重量%。
使用碘作為二色性色素之情況，由於可使染色效率更上一層，較佳為進一步於含有碘之染色溶液中添加碘化物。作為此等碘化物，舉例而言，可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色溶液中之碘化物之濃度較佳為0.01至10重量%。碘化物中，較佳為添加碘化鉀。添加碘化鉀之情況，碘與碘化鉀之比例較佳為以重量比，1：5至1：100之範圍，更佳為1：6至1：80之範圍，特佳為1：7至1：70之範圍。
積層膜於染色溶液之浸漬時間雖然無特別限定，較佳為15秒至15分鐘之範圍，更佳為30秒至3分鐘。此外， 染色溶液之溫度較佳為10至60℃之範圍，更佳為20至40℃之範圍。
再者，染色步驟可於延伸步驟之前進行或同時進行，惟，為了可使聚乙烯醇系樹脂層所吸附之二色性色素有良好配向，較佳為於對未延伸膜實施延伸步驟後進行。此時，可將預先以目標之延伸倍率延伸者染色，亦可在將預先以較目標之延伸倍率更低倍率延伸者染色的同時，再度延伸至目標之延伸倍率。
〔步驟(d)〕
步驟(d)係對以二色性色素染色所得染色膜之聚乙烯醇系樹脂層進行交聯處理，得到以聚乙烯醇系樹脂層作為偏光子層之交聯膜之步驟。交聯步驟，舉例而言，可藉由將染色膜浸漬於含有交聯劑之溶液(交聯溶液)中而進行。作為交聯劑，可使用以往習知之物質。舉例而言，可列舉硼酸、硼砂等硼化合物，以及乙二醛、戊二醛等。該等可單獨僅使用一種，亦可二種以上併用。
作為交聯溶液，可使用將交聯劑溶解於溶劑中之溶液。作為溶劑，舉例而言可使用水，惟，可進一步含有與水具有相溶性之有機溶劑。交聯溶液中之交聯劑之濃度為，雖然無特別限定，較佳為1至20重量%，更佳為6至15重量%。
交聯溶液中，可添加碘化物。藉由碘化物之添加，可使偏光子層之面內之偏光特性更均勻化。作為碘化物，舉例而言，可列舉碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化 鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦。碘化物之濃度，較佳為0.05至15重量%，更佳為0.5至8重量%。
染色膜於交聯溶液之浸漬時間，較佳為15秒至20分鐘，更佳為30秒至15分鐘。此外，交聯溶液之溫度，較佳為10至90℃之範圍。
再者，交聯步驟可藉由，將交聯劑調配於染色溶液中，而與染色步驟同時進行。此外，交聯步驟可與延伸步驟同時進行。此時，可使預先以目標之延伸倍率延伸者交聯，亦可在使預先以較目標之延伸倍率更低倍率延伸者交聯的同時，再度延伸至目標之延伸倍率。
〔步驟(e)〕
所得交聯膜通常於進行洗淨後，使之乾燥。洗淨可藉由將交聯膜浸漬於離子交換水、蒸餾水等純水中而進行。水洗淨溫度通常為3至50℃，較佳為4至20℃之範圍。浸漬時間通常為2至300秒，較佳為5至240秒。洗淨可為藉由碘化物溶液之洗淨處理與藉由水洗淨處理之組合，可適宜地使用由甲醇、乙醇、異丙醇，丁醇、丙醇等液體醇調配之溶液。
作為乾燥方法，可採用任何適切之方法(舉例而言，自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)。舉例而言，加熱乾燥之情況的乾燥溫度通常為20至95℃，乾燥時間通常為1至15分鐘左右。
<偏光板>
上述偏光性積層膜，其本身可使用作為偏光板，亦可為積層有透明保護層之狀態後，自偏光子層剝離基材膜，作為具有透明保護層之偏光板。藉由使用偏光性積層膜，可有效率且成品率良好地製造薄型且耐久性高、具有良好偏光性能之具有透明保護層的偏光板。此外，使用本發明之偏光板的液晶顯示裝置，顯示高對比率。
具有透明保護層之偏光板，可使用上述本發明之偏光性積層膜，藉由含有下述步驟之方法而製作。
(A)偏光性積層膜之偏光子層中之與基材膜側為相反側之面貼合透明保護層之步驟， (B)剝離除去基材膜之步驟。
參照圖式，舉例如藉由於第1圖所示之偏光性積層膜10之偏光子層30上貼合透明保護層40作為第5圖所示之偏光性積層膜25之後，剝離基材膜20，可得到由「透明保護層/偏光子層」之積層構造所成之偏光板。由基材膜之兩面各別積層有偏光子層以及透明保護層之偏光性積層膜，藉由2個地方之偏光子層-基材膜界面之剝離，可得到由「透明保護層/偏光子層」之積層構造所成之2個偏光板。
作為步驟(A)所使用之透明保護層，可使用先前所述透明保護膜(含有於透明保護膜之與偏光子層為相反側之表面形成有硬塗層、防眩層、抗反射層等光學層者)。
偏光性積層膜之偏光子層與透明保護膜之貼合，可使用接著劑或黏著劑而進行。作為接著劑，舉例而言，可列舉聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型聚氨酯系乳劑接著 劑等水系接著劑。作為透明保護膜使用藉皂化處理等而親水化處理之纖維素酯系樹脂之情況，作為接著劑，適宜使用聚乙烯醇系樹脂水溶液。作為接著劑使用之聚乙烯醇系樹脂，除了將乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯進行皂化處理所得之乙烯醇均聚物之外，有將乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物進行皂化處理所得之乙烯醇系共聚物，進一步有將該等之羥基經部分改質之改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑中可添加多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等作為添加劑。使用水系接著劑之情況，自其所得之接著劑層通常為1 μm以下。
使用水系接著劑貼合偏光子層與透明保護膜之方法並無特別限定，舉例而言，可列舉藉由流延法、線棒塗佈法、凹版塗佈法、刮刀塗佈機(comma coater)法、刮刀(doctor blade)法、模具塗佈法、浸塗法、噴霧法等，於偏光子層以及/或透明保護膜之表面均勻地塗佈接著劑，使塗佈面與另一個膜重疊，使用輥等貼合、乾燥之方法等。流延法係使被塗佈物之偏光子層或透明保護膜於約為垂直方向、約為水平方向、或兩者之間的斜方向移動的同時，使接著劑流下並擴展於其表面之方法。通常，水系接著劑係於調製後，在15至40℃之溫度下塗佈，貼合溫度通常為15至30℃之範圍。
塗佈接著劑後，重合偏光子層與透明保護膜，藉由夾輥等夾住以進行膜之貼合。使用夾輥之貼合，舉例而言， 可採用：塗佈接著劑後，藉由輥等加壓而均勻地擴張之方法；塗佈接著劑後，通過輥與輥之間，加壓而擴張之方法等。前者之情況中，作為輥之材質可使用金屬或橡膠等。此外，後者之情況，複數個輥可為相同材質亦可為相異之材質。
使用水系接著劑之情況，貼合偏光子層與透明保護膜後，為了除去水系接著劑中所含之水，將積層之膜乾燥。乾燥溫度較佳為30至90℃。未達30℃時，偏光子層與透明保護膜有容易剝離之傾向。此外，90℃以上時，有因熱導致偏光性能劣化之虞。乾燥時間可為10至1000秒，特別以生產性之觀點來看，較佳為60至750秒，更佳為150至600秒。
乾燥後可進一步於室溫或比其微高之溫度，舉例而言，20至45℃左右之溫度固化12至600小時左右。固化溫度一般設定為比乾燥時所採用之溫度低者。
此外，貼合偏光子層與透明保護膜時，作為接著劑，可使用光硬化性接著劑。作為光硬化性接著劑，舉例而言，可例舉光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑之混合物等。
使用光硬化性接著劑之情況，與上述一樣貼合偏光子層與透明保護膜後，藉由照射活性能量線以使光硬化性接著劑硬化。活性能量線之光源雖然無特別限定，較佳為具有波長400 nm以下之發光分布之活性能量線，具體而言，較佳為使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高 壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
對光硬化性接著劑之光照射強度係適當地取決於光硬化性接著劑之組成，雖然無特別限定，但較佳為對聚合起始劑之活性化有效的波長區域之照射強度為0.1至6000 mW/cm2。照射強度為0.1 mW/cm2以上之情況，反應時間不會過長，6000 mW/cm2以下之情況，因來自光源所幅射之熱以及光硬化性接著劑之硬化時的發熱而產生環氧樹脂之黃變或偏光子層之劣化之疑慮少。對光硬化性接著劑之光照射時間，係依硬化之光硬化性接著劑而適用者即可，雖然無特別限定，較佳為以作為上述之照射強度及照射時間之積所表示之累積光量成為10至10000 mJ/cm2之方式設定。對光硬化性接著劑之累積光量為10 mJ/cm2以上之情況，可使來自聚合起始劑之活性種產生足夠的量，使硬化反應更確實地進行，10000 mJ/cm2以下之情況，照射時間不會過長，可維持良好的生產性。再者，硬化後之接著劑層之厚度通常為0.001至5 μm左右，較佳為0.01至2 μm，再更佳為0.01至1 μm。
藉由活性能量線之照射使光硬化性接著劑硬化之情況，較佳為使偏光子層之偏光度、透過率及色相，以及透明保護膜之透明性等偏光板之各種功能不會減低之條件進行硬化。
再者，貼合偏光子層與透明保護膜時，為了提升接著性，對於偏光子層以及/或透明保護膜之接著面，可視需要 實施電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理。作為皂化處理，可列舉浸漬於氫氧化鈉或氫氧化鉀般的鹼性水溶液中的方法。
另一方面，用於貼合偏光子層與透明保護膜之黏著劑通常為，以丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基底聚合物，並於其中加上異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶(aziridine)化合物等交聯劑的組成物所成。可進一步含有微粒子，成為顯示光散射性的黏著劑層。
黏著劑層之厚度較佳為1至40 μm，惟，較佳為於無損於加工性、耐久性等之範圍形成薄者，更佳為3至25 μm。為3至25 μm時，具有良好的加工性，且就控制偏光子層之尺寸變化而言亦適合。黏著劑層之厚度未達1 μm時黏著性減低，超過40 μm時黏著劑易產生擠出等不適合之狀況。
藉由黏著劑貼合偏光子層與透明保護膜之方法並無特別限定，可於偏光子層面或透明保護膜面，塗佈含有上述以基底聚合物為首之各成分的溶液(黏著劑組成物)，乾燥並形成黏著劑層後，貼合偏光子層與透明保護膜；亦可於分離膜(separator)(剝離膜)上形成黏著劑層後，將該黏著劑層轉印於偏光子層面或透明保護膜面，貼合偏光子層與透明保護膜。
再者，偏光子層與透明保護膜隔著黏著劑層貼合時，為了提升密著性，對於偏光子層以及/或透明保護膜之貼合面，或是黏著劑層之單面或兩面，可視需要實施電暈處理 等表面處理。
上述步驟(B)係自偏光子層剝離除去基材膜之步驟。剝離基材膜之方法並無特別限定，可以與於通常之附有黏著劑之偏光板所進行之分離膜(剝離膜)的剝離步驟相同之方法剝離。於透明保護層之貼合後，可直接立即剝離基材膜，亦可於貼合透明保護層後，一度卷取為輥狀後，在以後續步驟卷出之同時剝離基材膜。
如上述般製造之偏光板，於實際使用時可積層其他光學層。此外，透明保護層可兼具該等之光學層之功能。作為其他光學層，除了上述之硬塗層、防眩層、抗反射層之外，可列舉(1)使某種偏光光透過，將顯示與其相反性質的偏光光反射的反射型偏光膜；(2)表面具有凹凸形狀之附有防眩功能之膜；(3)附有表面抗反射功能之膜；(4)表面具有反射功能之反射膜；(5)兼具反射功能與透過功能之半透過反射膜；(6)視野角補償膜。該等(1)至(6)之膜可適用於使用作為偏光板之偏光性積層膜。
作為相當於使某種偏光光透過，將顯示與其相反性質的偏光光反射的反射型偏光膜之市售品，舉例而言，可列舉「DBEF」(3M公司製，可取得自住友3M股份有限公司)、「APF」(3M公司製，可取得自住友3M股份有限公司)。此外，作為視野角補償膜，可列舉在基材表面塗佈液晶性化合物並配向之光學補償膜、由聚碳酸酯系樹脂所成之相位差膜、由環狀聚烯烴系樹脂所成之相位差膜。作為相當於在基材表面塗佈液晶性化合物並配向之光學補償膜之市 售品，可列舉「WV膜」(富士軟片股份有限公司製)、「NH膜」(新日本石油股份有限公司製)、「NR膜」(新日本石油股份有限公司製)等。此外，作為相當於由環狀聚烯烴系樹脂所成之相位差膜之市售品，可列舉「ARTON膜」(JSR股份有限公司製)、「ESSINA」(積水化學工業股份有限公司製)、「ZEONOR膜」(日本ZEON股份有限公司製)等。
<液晶顯示裝置>
上述之偏光性積層膜或偏光板可適合適用於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。適用於液晶顯示裝置之情況中，液晶顯示裝置係含有具有積層於液晶晶胞之單面(可為視認側、背面側之任一面)或兩面之上述偏光性積層膜或偏光板之液晶面板。作為液晶晶胞，可使用以往習知之各種驅動方式者。該液晶顯示裝置，除了具有上述偏光性積層膜或偏光板以外，可為以往習知之構成。具有本發明之偏光性積層膜或偏光板之液晶顯示裝置，在謀求薄型化之同時，由於偏光性積層膜或偏光板優異的偏光性能，顯示高對比率。
[實施例]
以下，顯示實施例以更具體的說明本發明，惟，本發明並不限定於該等之例。
〔積層膜之製作〕
<實施例1>
(1)基材膜之製作
將在由含有約5重量%乙烯單元之丙烯/乙烯的隨機 共聚物(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN W151」，熔點Tm=138℃)所成之樹脂層之兩側配置由丙烯均聚物之均聚丙烯(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN FLX80E4」，熔點Tm=163℃)所成之樹脂層之3層構造的基材膜，藉由利用多層擠壓成形機之共擠壓成形而製作。所得基材膜之合計厚度為100μm，各層之厚度比(FLX80E4/W151/FLX80E4)為3/4/3。
(2)底漆層之形成
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業股份有限公司製「Z-200」)，平均聚合度1100，平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃之熱水中，調製濃度3重量%之聚乙烯醇水溶液。於所得水溶液中，相對於聚乙烯醇粉末6重量份混合5重量份之交聯劑(住友化學股份有限公司製「Sumirez Resin 650」)。將所得混合水溶液使用微凹版塗佈機塗佈於已實施電暈處理之上述基材膜之電暈處理面上，以80℃乾燥10分鐘，形成厚度0.5 μm之底漆層。
(3)聚乙烯醇系樹脂層之形成
將聚乙烯醇粉末(kuraray股份有限公司製「PVA124」，平均聚合度2400，平均皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃之熱水中，調製濃度8重量%之聚乙烯醇水溶液。將所得水溶液，使用唇嘴塗佈機(lip coater)塗佈於上述底漆層上，在80℃ 2分鐘，70℃ 2分鐘，然後在60℃ 4分鐘的條件下乾燥，藉此製作由基材膜/底漆層/聚乙烯醇系樹脂層所成之3層構造之未延伸膜。聚乙烯醇系樹脂層之厚度為 11.2 μm。
(4)積層膜之製作
將上述未延伸膜於160℃之延伸溫度自由端縱向一軸延伸為5.8倍，得到積層膜。所得積層膜之厚度為55.5 μm，聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.2 μm。所得積層膜中，無辨視到膜之捲曲。
<實施例2>
除了使用在由乙烯之均聚物之線性低密度聚乙烯(住友化學股份有限公司製「FV401」，熔點Tm=119℃)所成之樹脂層之兩側，配置丙烯之均聚物之均聚丙烯(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN FLX80E4」，熔點Tm=163℃)所成之樹脂層之3層構造之基材膜以外，與實施例1同樣方式製作積層膜。所得積層膜之合計厚度為90 μm，各層之厚度比(FLX80E4/FV401/FLX80E4)為3/4/3。所得積層膜中，無辨視到膜之捲曲。
<比較例1>
除了使用由均聚丙烯(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN FLX80E4」，熔點Tm=163℃)所成之單層之基材膜以外，與實施例1同樣方式製作厚度105 μm之未延伸膜。然後，以與實施例1同樣的條件進行自由端縱向一軸延伸處理，得到厚度為50.1 μm之積層膜。積層膜中之聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.5 μm。
<比較例2>
除了使用由含有約5重量%乙烯單元之丙烯/乙烯之 隨機共聚物(住友化學股份有限公司製「住友NOBLEN W151」，熔點Tm=138℃)所成之單層之基材膜以外，與實施例1同樣方式製作厚度105 μm之未延伸膜。然後，以與實施例1同樣的條件進行自由端縱向一軸延伸處理，得到厚度50.5 μm之積層膜。積層膜中之聚乙烯醇系樹脂層之厚度為5.5 μm。
〔偏光性積層膜之製作〕
<實施例3>
使用實施例1所得之積層膜，以下揭之順序製作偏光性積層膜。首先，將積層膜於60℃之溫浴中浸漬60秒後，浸漬於30℃之含有碘與碘化鉀之水溶液之30℃的染色溶液中150秒左右，進行聚乙烯醇系樹脂層之染色，然後以10℃之純水洗去多餘的碘液。接著，浸漬於含有硼酸與碘化鉀之水溶液之76℃的交聯溶液中600秒。之後，以10℃的純水洗淨4秒，最後於50℃乾燥300秒，得到偏光性積層膜。所得偏光性積層膜中，無辨視到膜之捲曲。
<實施例4、比較例3至4>
除了使用實施例2、比較例1或比較例2之積層膜取代實施例1之積層膜以外，與實施例3同樣方式製作偏光性積層膜(各別作為實施例4、比較例3、比較例4)。所得偏光性積層膜中任一者皆無辨視到膜之捲曲。
實施例3以及4，在直到製作偏光性積層膜為止之各步驟中，未產生積層膜之裂開等不適之狀況，可製作安定之偏光性積層膜。另一方面，比較例3以及4，直到得到 偏光性積層膜之為止之生產線中部分沿延伸方向產生裂開。再者，關於比較例3以及4，使用未產生裂開之部分進行下述之評價。
〔偏光性積層膜之評價〕
(1)構成基材膜之樹脂層之配向狀態之側定
自上述製作之偏光性積層膜剝離基材膜後，冷卻至-90℃，使用冷凍切片機，將冷卻之基材膜以使長度方向與偏光性積層膜之延伸方向平行之方式切斷2次，切出寬度3 μm(長度1至2mm左右，厚度係基材膜之厚度)之基材膜片(試料)(參照第3圖)。然後，使用此試料，依照上述之測定方法，確認構成基材膜之樹脂層之配向狀態。
其結果，對於實施例3以及4所製作之偏光性積層膜中之基材膜之外側之2層樹脂層(「FLX80E4」)，將試料旋轉1次，使相對於偏光子之透過軸之試料的長度方向(延伸方向)之方位角變化時，方位角每增加45°時，確認觀察到透過像最亮之時與最暗之時交互反復出現，得知配向於延伸方向(試料之長度方向)。另一方面，實施例3以及4之任一者，對於基材膜之中央之樹脂層(實施例3：「W151」，實施例4：「FV401」)，即使使相對於偏光子之透過軸之試料的長度方向之方位角變化，無法觀察到透過像之明亮變化，確認維持全暗之狀態，得知實質上無配向。
第9圖係將實施例3之試料以使其長度方向(延伸方向)相對於偏光子之透過軸成為45°之角度之方位配置時之偏光顯微鏡照片。如第9圖所示，基材膜之外側之2層樹脂 層(「FLX80E4」)觀察到明亮，另一方面，中央之樹脂層(「W151」)觀察到全暗。
相對於此，比較例3以及4所製作之偏光性積層膜中之基材膜(任一者皆由單一之樹脂層所成)中，使相對於偏光子之透過軸之試料的長度方向(延伸方向)的方位角變化時，由於方位角每增加45°時，確認觀察到透過像最亮之時與最暗之時交互反復出現，得知基材膜全體係配向於延伸方向。以上之結果係統整於表1。
(2)撕裂強度之測定
以下述之方法測定上述製作之偏光性積層膜之撕裂強度。首先，自偏光性積層膜之短邊端部之中央(膜寬度方向之中央)，使用刀具做出與延伸方向平行之切口。接著，使用萬能張力試驗機(島津製作所股份有限公司製「AUTOGRAPH AG-1」)，自該切口之基點撕裂偏光性積層膜，使用相同裝置測定當時的撕裂強度。膜撕裂時的速度為300mm/分鐘。藉由本測定得到各撕裂距離(自切口之基點起算之裂開膜之距離)之撕裂強度，使用張力試驗機之撕裂強度測定中，直至達到一定程度之撕裂距離且膜之撕裂角度安定為止，撕裂強度高出許多。因此，本測定除了這部分以外，求得撕裂強度安定之區域中之撕裂強度的平均值，將此作為撕裂強度。結果係示於表1。
(3)再加工性之評價
將上述製作之偏光性積層膜切出100mm×60mm之大小，於該偏光子層之外側表面貼合厚度25 μm之片狀黏著 劑，隔著該黏著劑將偏光性積層膜貼合於市售之液晶晶胞(將SONY股份有限公司販賣之PSP-3000分解取出者)之表面。之後，於50℃、5氣壓下進行20分鐘壓接處理後，於室溫靜置2天。
再者，上述片狀黏著劑係由丙烯酸丁酯/丙烯酸共聚物中添加聚氨酯丙烯酸酯寡聚物以及異氰酸酯系交聯劑之黏著劑組成物所形成者，儲存彈性率於23℃中係0.41 MPa，80℃中係0.19 MPa。
實施自液晶晶胞以手剝離偏光性積層膜之試驗，評價再加工性時，確認實施例3以及4之偏光性積層膜係無破裂，可良好地剝離。另一方面，比較例3以及4之偏光性積層膜，於剝離途中沿延伸方向裂開(產生斷裂)，難以再加工。以上結果係統整於表1。
第10圖係顯示實施例3之偏光性積層膜之再加工性評價試驗結果的照片，得知偏光性積層膜無斷裂，良好地剝離。第11圖係顯示比較例3之偏光性積層膜之再加工性評價試驗結果的照片。剝離途中沿延伸方向裂開的部分無法自液晶晶胞剝離，形成帶狀殘存於液晶晶胞上。
如上述，實施例1至4之偏光性積層膜以及積層膜，由於基材膜係由有配向之樹脂層與無配向之樹脂層所構成，確認到比起比較例1至4，對沿延伸方向之裂開有高耐性。
〔偏光板的製作〕
(實施例5)
除了於基材膜之兩面形成底漆層，於該兩層底漆層各別形成聚乙烯醇系樹脂層以外，與實施例1同樣方式得到積層膜。然後，與實施例3同樣方式製作偏光性積層膜。
將聚乙烯醇粉末(KURARAY股份有限公司製「KL-318」，平均聚合度1800)溶解於95℃之熱水中，調製 濃度為3重量%之聚乙烯醇水溶液。於所得水溶液中相對於聚乙烯醇粉末2重量份混合1重量份之交聯劑(住友化學股份有限公司製「Sumirez Resin 650」)，作為接著劑溶液。
其次，於上述所得偏光性積層膜之各聚乙烯醇系樹脂層上，塗佈上述接著劑溶液後，貼合由三乙酸纖維素(TAC)所成之透明保護膜(Konica Minolta opto股份有限公司製「KC4UY」)，得到由透明保護膜/接著劑層/偏光子層/底漆層/基材膜/底漆層/偏光子層/接著劑層/透明保護膜之9層所成之附有透明保護膜之偏光性積層膜。自所得之附有透明保護膜之偏光性積層膜，藉由2個地方之底漆層-基材膜界面之剝離而除去基材膜，製作由透明保護膜/接著劑層/偏光子層/底漆層之4層所成之2個偏光板。可容易地剝離基材膜。
10‧‧‧偏光性積層膜
20‧‧‧基材膜
30‧‧‧偏光子層
A,B‧‧‧樹脂層

Claims (12)

  1. 一種偏光性積層膜，其係具有基材膜以及積層於前述基材膜之至少一側之面的偏光子層，其中，前述基材膜包括由顯示互為相異之相轉移溫度(在此，當構成樹脂層之樹脂為非晶性樹脂之情況相轉移溫度係意指玻璃轉移溫度，當構成樹脂層之樹脂為結晶性樹脂之情況相轉移溫度係意指熔點)的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造，前述2種以上之樹脂層之中，當由顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為A，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為B時，前述基材膜以A/B/A、或B/A/B的順序含有該等樹脂層，前述樹脂層A係朝面內之任一方向配向，而且，前述樹脂層B係面內實質上無配向。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光性積層膜，其中，構成前述樹脂層A之樹脂之相轉移溫度，與構成前述樹脂層B之樹脂之相轉移溫度之差係10℃以上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光性積層膜，其中，前述樹脂層A以及B係包括熔點互異之鏈狀聚烯烴系樹脂。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層係於聚乙烯醇系樹脂層中吸附配向有二色性色素者。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光性積層膜，其 中，前述偏光子層之厚度係10μm以下。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光性積層膜，其中，前述偏光子層之吸收軸與前述樹脂層A之配向軸平行。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光性積層膜，其係復具有積層於至少一側之偏光子層上的透明保護層。
  8. 一種積層膜，係具有基材膜以及積層於前述基材膜之至少一側之面之延伸之聚乙烯醇系樹脂層，其中，前述基材膜包括由顯示互為相異之相轉移溫度(在此，當構成樹脂層之樹脂為非晶性樹脂之情況相轉移溫度係意指玻璃轉移溫度，當構成樹脂層之樹脂為結晶性樹脂之情況相轉移溫度係意指熔點)的樹脂所構成之2種以上之樹脂層之積層構造，當由前述2種以上之樹脂層之中顯示最高的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為A，由顯示最低的相轉移溫度的樹脂所構成之樹脂層為B時，前述基材膜以A/B/A、或B/A/B的順序含有該等樹脂層，前述樹脂層A係朝面內之任一方向配向，而且，前述樹脂層B係面內實質上無配向。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之積層膜，其中，構成前述樹脂層A之樹脂之相轉移溫度，與構成前述樹脂層B之樹脂之相轉移溫度之差係10℃以上。
  10. 如申請專利範圍第8或9項所述之積層膜，其中，前 述樹脂層A以及B係包括熔點互異之鏈狀聚烯烴系樹脂。
  11. 如申請專利範圍第8或9項所述之積層膜，其中，前述聚乙烯醇系樹脂層之厚度係10μm以下。
  12. 如申請專利範圍第8或9項所述之積層膜，其中，前述聚乙烯醇系樹脂層之配向軸與前述樹脂層A之配向軸平行。
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