TWI573683B - 偏光板的製造方法 - Google Patents

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Description

偏光板的製造方法
本發明係關於一種偏光板的製造方法。而且，關於一種在該偏光板設有黏著劑層之附有黏著劑層的偏光板，以及使用其之影像顯示裝置。
於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等的影像顯示裝置中，為了防止外光反射而在其視認側設置圓偏光板。該圓偏光板具有偏光子層及1/4波長板等的相位差層，從外部入射至影像顯示裝置內的光成為圓偏光，藉此防止朝裝置外射出光，結果，因可防止外光反射，故通常前述相位差層係配置在影像顯示裝置的內側。
近年來，前述影像顯示裝置、筆記型個人電腦、手機等的行動型液晶顯示裝置係期望小型化、輕型化，對於使用於該等液晶顯示裝置的偏光板(圓偏光板、直線偏光板)也進一步地要求薄型化、輕型化。而且，為了在高溫、高濕環境下使用液晶顯示裝置，而要求偏光板之耐熱性、耐濕性。
另一方面，在陽光強的屋外等環境下，為了消除其眩光，而在戴偏光太陽眼鏡的狀態下視認液晶顯 示裝置。因從液晶顯示裝置射出的光通常為直線偏光，在戴偏光太陽眼鏡的狀態下視認液晶顯示裝置時，依據偏光太陽眼鏡的吸收軸與由液晶顯示裝置的直線偏光的偏光軸所成的角度，而有產生視認性的問題。
如此的狀況下，作為薄型偏光板的製造方法，於專利文獻1中記載於基材薄膜的一面形成聚乙烯醇系樹脂層後進行延伸，然後於聚乙烯醇系樹脂層之與基材薄膜相反側的面貼合三乙醯纖維素薄膜後，剝離基材薄膜並實施染色處理之方法。此外，於專利文獻2中記載於由丙烯酸系樹脂或環狀烯烴系樹脂所構成的基材薄膜的一面形成聚乙烯醇系樹脂層後，進行延伸，然後實施染色處理，藉此製造前述基材薄膜兼具保護膜的偏光板之方法。於專利文獻3中記載在薄化偏光子層的一面(影像顯示單元側)設置1/4波長板，於另一面(視認側)依序設置易接著劑層、保護層及相位差層之圓偏光板。
專利文獻1：日本專利特開2000-338329號公報
專利文獻2：日本專利特開2009-98653號公報
專利文獻3：日本專利第4804589號
由專利文獻1至3記載的方法所得之偏光板，在高溫、高濕下的耐熱性、耐濕性此點、戴偏光太陽眼鏡時的視認性此點未必充足。而且，專利文獻3記載的 圓偏光板其總層數多，為厚的偏光板。
因此，本發明的目的在於提供在高溫、高濕下之耐熱性、耐濕性佳、戴偏光太陽眼鏡時視認性佳之薄型偏光板的製造方法。而且，本發明的其他目的在於提供抑制總層數及厚度、確保戴偏光太陽眼鏡時的視認性，同時在高溫、高濕下的耐熱性、耐濕性佳的圓偏光板。
本發明係包含下述。
[1].偏光板的製造方法，係包括：樹脂層形成步驟，係於基材薄膜的至少一側的面形成聚乙烯醇系樹脂層而得積層薄膜；延伸步驟，係將前述積層薄膜進行單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度成為10 μm以下，而得延伸薄膜；染色步驟，係將前述延伸薄膜以二色性色素染色而形成偏光子層，以得偏光性積層薄膜；防濕層形成步驟，係於前述偏光性積層薄膜中，在前述偏光子層之與前述基材薄膜相反側的面上，形成透濕度為200 g/m2/24 hrs以下之面內相位差為100nm以上、且遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸的角度θ為20度以上70度以下之防濕層，而得多層薄膜；以及剝離步驟，係從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜。
[2].如[1]所述之偏光板的製造方法，其中於前述防濕層形成步驟中，於前述偏光子層之與前述基材薄膜相反側 的面上，隔著光硬化性接著劑層而形成防濕層。
[3].如[1]或[2]所述之偏光板的製造方法，其中於前述防濕層形成步驟中，於前述偏光子層之與前述基材薄膜相反側的面上，貼合透濕度為200 g/m2/24 hrs以下之面內相位差為100nm以上的相位差膜，且使其遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸的角度θ成為20度以上70度以下。
[4].如[1]至[3]中任一項所述之偏光板的製造方法，其中前述相位差膜係在與偏光子層的貼合面之相反側的面係實施有表面處理。
[5].一種附有黏著劑層之偏光板，具備：以[1]至[4]中任一項所述之偏光板的製造方法所製造之偏光板；以及設置於與該偏光板之前述偏光子層之防濕層相反側的面之黏著劑層。
[6].一種影像顯示裝置，具備：如[5]所述之附有黏著劑層之偏光板、以及貼合於該偏光板的黏著劑層側之影像顯示單元。
[7].一種圓偏光板，具備：如[5]所述之附有黏著劑層之偏光板、以及貼合於該偏光板的黏著劑層側之相位差層。
[8].一種附有黏著劑層之圓偏光板，具備：如[7]所述之圓偏光板、以及設置於與該圓偏光板之前述偏光子層之防濕層相反側的面之黏著劑層。
[9].一種影像顯示裝置，具備：如[8]所述之附有黏著劑層之圓偏光板、以及貼合於該圓偏光板的黏著劑層側之影像顯示單元。
[10].一種圓偏光板的製造方法，包括：樹脂層形成步驟，係於基材薄膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層，而得積層薄膜；延伸步驟，係將前述積層薄膜進行單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度成為10 μm以下，而得延伸薄膜；染色步驟，係將前述延伸薄膜以二色性色素染色而形成偏光子層，以得偏光性積層薄膜；防濕層形成步驟，係於前述偏光性積層薄膜中，在前述偏光子層之與前述基材薄膜相反側的面上，隔著光硬化性接著劑層而形成透濕度為200 g/m2/24 hrs以下、面內相位差為100nm以上、且遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸的角度θ為20度以上70度以下之防濕層，而得多層薄膜；剝離步驟，係從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜，而得附有防濕層的偏光膜；以及相位差層形成步驟，於前述附有防濕層的偏光膜中， 在前述偏光子層之與前述防濕層相反側的面形成相位差層。
根據本發明，可提供在高溫高濕下耐熱性及耐濕性佳、戴偏光太陽眼鏡時視認性佳之薄型偏光板的製造方法。而且，可於藉由該方法得到之偏光板設置黏著劑層而成為附有黏著劑層的偏光板，再者，可隔著該黏著劑層貼合於影像顯示面板而成為影像顯示裝置。於是，將該附有黏著劑層的偏光板與相位差層隔著該黏著劑層而貼合，藉此可提供抑制總層數以及厚度、確保戴偏光太陽眼鏡時的視認性，同時高溫高濕下之耐熱性及耐濕性佳的圓偏光板。而且，可於該圓偏光板設置黏著劑層而成為附有黏著劑層的圓偏光板，再者，可隔著該黏著劑層貼合於影像顯示面板而成為影像顯示裝置。
1‧‧‧基材薄膜
2‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層
3‧‧‧積層薄膜
4‧‧‧延伸薄膜
5‧‧‧偏光子層
5a‧‧‧吸收軸
6‧‧‧偏光性積層薄膜
7‧‧‧防濕層
7a‧‧‧遲相軸
8‧‧‧多層薄膜
9、9b‧‧‧偏光板
10‧‧‧接著劑層
11、11b、11c‧‧‧黏著劑層
12‧‧‧影像顯示單元
13、13b‧‧‧相位差層
20‧‧‧附有黏著劑層的偏光板
30‧‧‧影像顯示裝置
40‧‧‧圓偏光板
50‧‧‧附有黏著劑層的圓偏光板
第1圖(A)至(E)係表示本發明的製造方法之各步驟所得薄膜的剖面之示意圖。
第2圖(A)及(B)係表示防濕層的遲相軸與偏光子層的吸收軸的關係之概念圖。
第3圖係表示由本發明的製造方法得到之偏光板的剖面的一例之概念圖。
第4圖係表示由本發明的製造方法得到之偏光板的剖面的一例之概念圖。
第5圖係表示本發明的附有黏著劑層的偏光板之剖面 的一例之概念圖。
第6圖係表示本發明的影像顯示裝置的剖面的一例之概念圖。
第7圖係表示本發明的圓偏光板之剖面的一例之概念圖。
第8圖係表示本發明的圓偏光板之剖面的一例之概念圖。
第9圖係表示本發明的附有黏著劑層的圓偏光板之剖面的一例之概念圖。
第10圖係表示本發明的附有黏著劑層的圓偏光板之剖面的一例之概念圖。
第11圖係表示本發明的影像顯示裝置的剖面的一例之概念圖。
第12圖係表示本發明的影像顯示裝置的剖面的一例之概念圖。
〈偏光板的製造方法〉
本發明的偏光板的製造方法，包括：樹脂層形成步驟(S10)，係於基材薄膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層，而得積層薄膜；延伸步驟(S20)，係單軸延伸前述積層薄膜以使聚乙烯醇系樹脂層的厚度為10μm以下，而得延伸薄膜；染色步驟(S30)，係將前述延伸薄膜以二色性色素染色而形成偏光子層，以得偏光性積層薄膜；防濕層形成步驟(S40)，係於前述偏光性積層薄膜中， 在前述偏光子層之與前述基材薄膜相反側的面形成防濕層，而得到多層薄膜；以及剝離步驟(S50)，係從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜。於第1圖表示各步驟所得薄膜的剖面之示意圖，以下一邊參考第1圖一邊詳細說明本發明的製造方法。
[樹脂層形成步驟(S10)]
於樹脂層形成步驟中，在基材薄膜1的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層2，而得積層薄膜3(第1圖(A))。
(基材薄膜)
作為用於基材薄膜1之樹脂，例如使用透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等佳之熱塑性樹脂，依據該等的Tg或Tm而可選擇適當的樹脂。熱塑性樹脂的具體例例如可舉出鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等的聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、纖維素酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、聚丙烯酸酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碸系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂以及該等的混合物、共聚物等。
基材薄膜1，可為上述樹脂所構成的單層或多層。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，從可安定地高倍率延伸此點來看係聚乙烯、聚丙烯等較理想。而且，亦可適合使用乙烯與丙烯共聚合得到之乙烯-丙烯共聚物等。共 聚合可為其他種類的單體，可與丙烯共聚合的其他種類的單體例如可舉出乙烯、α-烯烴。α-烯烴係碳數4以上的α-烯烴較理想，碳數4至10的α-烯烴更理想。碳數4至10的α-烯烴的具體例例如可舉出1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯等直鏈狀單烯烴類；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯等分支狀單烯烴類；乙烯基環己烷等。丙烯及可與其共聚合之其他單體的共聚物可為無規共聚物，亦可為嵌段共聚物。共聚物中該來自其他單體的構成單元之含有比例，可依據「高分子分析手冊」(1995年、紀伊國屋書店發行)第616頁記載之方法，而藉由紅外線(IR)光譜測定而求得。
上述之中，構成丙烯系樹脂薄膜的丙烯系樹脂較理想為丙烯的均聚物、丙烯-乙烯無規共聚物、丙烯-1-丁烯無規共聚物以及丙烯-乙烯-1-丁烯無規共聚物。
而且，構成丙烯系樹脂薄膜的丙烯系樹脂的立體規則性，實質上為等規(isotactic)或間規(syndiotactic)較理想。具有實質上為等規或間規的立體規則性之丙烯系樹脂所構成的丙烯系樹脂薄膜，其使用性較佳，同時在高溫環境下之機械強度佳。
環狀聚烯烴系樹脂較理想為使用降莰烯(norbornene)系樹脂。環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴為聚合單元所聚合之樹脂的總稱，例如日本專利特開平1-240517號公報、特開平3-14882號公報、特開平3-122137號公報記載之樹脂。具體例可舉出環狀烯烴的開環(共) 聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等的α-烯烴之共聚物(代表為無規共聚物)、以及該等以不飽和羧酸或其衍生物改性之接枝共聚物，以及該等的氫化物等。環狀烯烴的具體例可舉出降莰烯系單體。
環狀聚烯烴系樹脂有各種市售品。具體例可舉出Topas(註冊商標)(Ticona公司製)、Arton(註冊商標)(JSR股份有限公司製)、ZEONOR(註冊商標)(日本Zeon股份有限公司製)、ZEONEX(註冊商標)(日本Zeon股份有限公司製)、APL(註冊商標)(三井化學股份有限公司製)等。
聚酯系樹脂係具有酯鍵結的聚合物，主要為多元羧酸與多元醇的聚縮物。於所使用的多元羧酸中主要使用2價二羧酸，例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。而且，於所使用的多元醇中主要使用2價二醇，可舉出丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。
聚酯系樹脂的代表例可舉出對苯二甲酸與乙二醇的共聚物之聚對苯二甲酸乙二酯。聚對苯二甲酸乙二酯為結晶性樹脂，結晶化處理前的狀態容易實施延伸等的處理。有需要時可藉由延伸時或延伸後的熱處理而進行結晶化處理。而且，可適合使用於聚對苯二甲酸乙二酯的骨架再共聚合其他種類的單體藉此降低結晶性(或非結晶性)的共聚合聚酯。如此的樹脂例如適合使用環己烷二甲醇、間苯二甲酸等共聚合者。該等樹脂延伸性佳，也可適 合使用。
聚對苯二甲酸乙二酯及其共聚物以外的具體的樹脂可舉出聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。可適合使用該等的混摻樹脂、共聚物。
(甲基)丙烯酸系樹脂可採用任意適合的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基的聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較理想可舉出聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯。(甲基)丙烯酸系樹脂更理想為使用以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%，較理想為70至100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸的酯。纖維素酯系樹脂的具體例可舉出纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯等。而且可舉出該等的共聚物、羥基的一部分以其他種的取代基修飾者等。該等之中，特別理想為纖維素三乙酸酯。纖維素三乙酸酯有許多市售品，在取得容易性、成本此點也有利。 纖維素三乙酸酯的市售品可舉出例如Fujitac(註冊商標)TD80(富士薄膜股份有限公司製)、Fujitac(註冊商標)TD80UF(富士薄膜股份有限公司製)、Fujitac(註冊商標)TD80UZ(富士薄膜股份有限公司製)、Fujitac(註冊商標)TD40UZ(富士薄膜股份有限公司製)、KC8UX2M(柯尼卡美能達(Konica Minolta)股份有限公司製)、KC4UY(柯尼卡美能達股份有限公司製)等。
聚碳酸酯系樹脂為透過碳酸酯基鍵結單體單元之聚合物所構成的工程塑膠，具有高耐衝擊性、耐熱性、難燃性之樹脂。而且，由於具有高透明性，也適合用於光學用途。於光學用途也有市售有為了降低光彈性係數而修飾聚合物骨架之稱為改性聚碳酸酯之樹脂、改良波長依賴性之共聚合聚碳酸酯等，也可適合使用。如此聚碳酸酯樹脂係廣泛市售，可舉出PANLITE(註冊商標)(帝人化成股份有限公司)、IUPILON(註冊商標)(三菱工程塑膠股份有限公司)、SD POLYCA(註冊商標)(住友陶氏(SUMITOMO DOW)股份有限公司)、CALIBER(註冊商標)(陶氏化學股份有限公司)等。
於基材薄膜1中，除上述熱可塑性樹脂外可添加任意適合的添加劑。如此添加劑例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、著色防止劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。基材薄膜中上述例示的熱可塑性樹脂的含量較理想為50至100重量%，更理想為50至99重量%，更加理想為60至98重量 %，特別理想為70至97重量%。於基材薄膜中熱可塑性樹脂的含量未達50重量%時，恐會無法充分發現熱可塑性樹脂原本具有的高透明性等。
基材薄膜1的厚度可適當決定，一般從強度、使用性等的操作性的觀點，較理想為1至500μm，更理想為1至300μm，更加理想為5至200μm。基材薄膜的厚度最理想為5至150μm。
基材薄膜1係為了提高與樹脂層2的密合性，可至少於形成樹脂層2側的表面進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等。而且，為了提高密合性，可於基材薄膜1之形成樹脂層2側的表面形成底塗層、接著劑層等的薄層。再者，此處基材薄膜1係不包含接著劑層、電暈處理層等。
(聚乙烯醇系樹脂層)
聚乙烯醇系樹脂層2係典型為將聚乙烯醇系樹脂的粉末例如溶解於水等溶解度高的溶劑而得聚乙烯醇系樹脂溶液，將該聚乙烯醇系樹脂溶液塗佈於基材薄膜的一側之表面上，使溶劑蒸發並乾燥，藉此而形成。藉由如此形成樹脂層而可能形成薄的樹脂層。將聚乙烯醇系樹脂溶液塗佈於基材薄膜的方法，可從線棒塗佈法、反轉塗佈法、凹版塗佈法等滾輪塗佈法、模具塗佈法、缺角輪塗佈法、唇嘴塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸塗法、噴塗法等習知方法適當選擇採用。乾燥溫度例如為50至200℃，較理想為60至150℃。乾燥時間例 如為2至20分鐘。
形成的樹脂層2的厚度較理想為超過3 μm且30 μm以下，更理想為5至20 μm。若為3 μm以下則延伸後變得太薄，染色性顯著惡化，超過30 μm時最終所得之偏光子層的厚度超過10 μm。
為了提高基材薄膜1與聚乙烯醇系樹脂層2的密合性，可於基材薄膜1與該樹脂層2之間設置底塗層。底塗層從密合性的觀點來看較理想為由聚乙烯醇系樹脂中含有交聯劑等的組成物形成。
聚乙烯醇系樹脂可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂除乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯外，例如乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體之共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體例如可舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂較理想為使用皂化度高者。皂化度的範圍較理想為80.0莫耳%至100.0莫耳%，更理想為90.0莫耳%至99.5莫耳%的範圍，最理想為94.0莫耳%至99.0莫耳%的範圍。皂化度未達80.0莫耳%時，所得之偏光子層的耐水性、耐濕熱性恐會降低。而且，皂化度太高時，染色速度變慢，有無法得到具有充分偏光性能的偏光性積層薄膜的情況。
此處皂化度係指聚乙烯醇系樹脂的原料之聚乙酸乙烯酯系樹脂所含的乙酸基藉由皂化步驟而變成羥 基的比例，以單元比(莫耳%)表示，為下式定義的數值。可根據JIS K 6726(1994)規定之方法求得。
皂化度(莫耳%)=(羥基的數目)÷(羥基的數目+乙酸基的數目)×100
皂化度越高，表示羥基的比例高，亦即表示阻礙結晶化的乙酸基的比例低。
聚乙烯醇系樹脂可為一部分改性之改性聚乙烯醇。例如將聚乙烯醇樹脂以乙烯、丙烯等烯烴、丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸等不飽和羧酸、不飽和羧酸的烷酯、丙烯醯胺等改性者等。改性的比例較理想為未達30莫耳%，更理想為未達10%。於改性超過30莫耳%的情況，二色性色素吸附變困難，恐使偏光性能降低。
乙烯醇系樹脂的平均聚合度無特別限制，但較理想為100至10000，更理想為1500至8000，又更理想為2000至5000。此處所謂平均聚合度係根據JIS K 6726(1994)規定之方法求得之數值。
具有如此特性之聚乙烯醇系樹脂係例如可樂麗(Kuraray)股份有限公司製PVA124(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、PVA117(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、PVA624(皂化度：95.0至96.0莫耳%)以及PVA617(皂化度：94.5至95.5莫耳%)等；例如日本合成化學工業股份有限公司製AH-26(皂化度：97.0至98.8莫耳%)、AH-22(皂化度：97.5至98.5莫耳%)、NH-18(皂化度：98.0至99.0莫耳%)以及N-300(皂化度：98.0至99.0莫耳%) 等；例如日本VAM&POVAL股份有限公司之JC-33(皂化度：99.0莫耳%以上)、JM-33(皂化度：93.5至95.5莫耳%)、JM-26(皂化度：95.5至97.5莫耳%)、JP-45(皂化度：86.5至89.5莫耳%)、JF-17(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、JF-17L(皂化度：98.0至99.0莫耳%)以及JF-20(皂化度：98.0至99.0莫耳%)等可適合使用於本發明。
[延伸步驟(S20)]
於延伸步驟中，將前述積層薄膜3，進行單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度為10 μm以下，而得到延伸薄膜4(第1圖(B))。單軸延伸的延伸倍率較理想為超過5倍且17倍以下，更理想為超過5倍且8倍以下。延伸倍率為5倍以下時，因聚乙烯醇系樹脂層無法充分配向，結果會產生偏光子層的偏光度產生無法充分變高的不良情形。另一方面，延伸倍率超過17倍時，容易產生延伸時積層薄膜3的斷裂，同時延伸薄膜4的厚度變得過薄，在後續步驟的加工性、操作性恐會降低。延伸步驟(S20)中之延伸處理不限於一段的延伸，可以多段進行。此時，第2段以後的延伸步驟也可在延伸步驟(S20)中進行，亦可與染色步驟(S30)之染色處理、交聯處理同時進行。於進行如此多段延伸時，以延伸處理全部階段合在一起成為超過5倍延伸倍率之方式進行延伸處理。
於本實施態樣之延伸步驟(S20)中，可實施對積層薄膜3的長度方向進行之縱向延伸處理、對寬度方向進行延伸之橫向延伸處理等。縱向延伸方式可舉出滾 輪間延伸的方法、壓縮延伸的方法等，橫向延伸方式例如拉幅(Tenter)法等。
而且，延伸處理可採用潤濕式延伸方法及乾式延伸方法之任一種，但使用乾式延伸方法在延伸積層薄膜3時的溫度可選擇較廣的範圍，所以較理想。
延伸溫度係在聚乙烯醇系樹脂層2及基材薄膜1全體可延伸的程度下設定為顯示流動性之溫度以上，較理想為基材薄膜1的相轉變溫度之-30℃至+30℃的範圍，更較理想為基材薄膜1的相轉變溫度之-25℃至+30℃的範圍。延伸溫度比相轉變溫度-30℃低時，難以達成超過5倍的高倍率延伸。延伸溫度超過相轉變溫度+30℃時，基材薄膜的流動性太大而有延伸困難的傾向。由於更容易達成超過5倍的高倍率延伸，故較理想為延伸溫度為上述範圍內，更理想為120℃以上。延伸溫度的調整，通常藉由調整加熱爐的溫度。
[染色步驟(S30)]
於染色步驟中，延伸薄膜4以二色性色素染色並形成偏光子層5，而得到偏光性積層薄膜6(第1圖(C))。二色性色素可舉出例如碘、有機染料等。有機染料例如可使用紅色BR、紅色LR、紅色R、粉紅色LB、寶石紅BL、紅酒色(bordeaux)GS、天藍色LG、檸檬黃、藍色BR、藍色2R、海軍藍RY、綠色LG、紫色LB、紫色B、黑色H、黑色B、黑色GSP、黃色3G、黃色R、橘色LR、橘色3R、猩紅(scarlet)GL、猩紅KGL、剛果紅、亮 紫(brilliant violet)BK、超藍G、超藍GL、超橘GL、直接天藍色、直接耐曬橙S、久牢黑等。該等二色性物質可使用一種，亦可併用兩種以上。
染色步驟，例如藉由於含有上述二色性色素之溶液(染色溶液)中浸漬延伸薄膜4全體而進行。染色溶液可使用上述二色性色素溶解於溶劑之溶液。染色溶液的溶劑一般使用水，但亦可再添加與水具有相溶性之有機溶劑。二色性色素之濃度較理想為0.01至10重量%，更理想為0.02至7重量%，特別理想為0.025至5重量%。
於使用碘作為二色性色素時，由於可更進一步提高染色效率，故較理想為再添加碘化物。該碘化物可舉出例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。該等碘化物的添加比例較佳為於染色溶液中為0.01至20重量%。碘化物中較理想為添加碘化鉀。於添加碘化鉀時，碘與碘化鉀的比例以重量比較理想為1：5至1：100的範圍，更理想為1：6至1：80的範圍，特理想為1：7至1：70的範圍。
延伸薄膜4對染色溶液的浸漬時間並無特別限制，通常為15秒至15分鐘的範圍較理想，30秒至3分鐘的範圍更理想。而且，染色溶液的溫度為10至60℃的範圍較理想，20至40℃的範圍更理想。
再者，染色處理可在延伸步驟前進行或同時進行，為了使吸附於聚乙烯醇系樹脂之二色性色素可良 好地配向，較理想為對未延伸薄膜實施延伸步驟後進行。此時可將事先延伸成目標倍率者只進行染色，亦可將預先延伸至低倍率者在染色中再次進行延伸而達到總目標倍率之方法。而且，復於其後的交聯處理中延伸時，此處亦可止於低倍率的延伸。此時係適當調整使交聯處理後達到目標倍率即可。
於染色步驟中，染色後可進行交聯處理。交聯處理例如可藉由將延伸薄膜浸漬於包含交聯劑的溶液(交聯溶液)中而進行。交聯劑可使用傳統習知的物質。例如硼酸、硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。該等可使用一種，也可併用兩種以上。
交聯溶液可使用交聯劑溶解於溶劑之溶液。作為溶劑例如可使用水，又可包含與水具有相溶性之有機溶劑。交聯溶液的交聯劑的濃度無特別限制，較理想為1至20重量%的範圍，更理想為6至15重量%的範圍。
交聯溶液中可添加碘化物。藉由添加碘化物，樹脂層的面內之偏光特性可更均勻化。碘化物可舉出例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦。碘化物的含量為0.05至15重量%，較理想為0.5至8重量%。
延伸薄膜對交聯溶液的浸漬時間通常為15秒至20分鐘較理想，30秒至15分鐘更理想。而且，交聯溶液的溫度為10至90℃的範圍較理想。
再者，交聯處理係藉由將交聯劑調配於染 色溶液中而可與染色處理同時進行。而且，可將事先延伸成目標倍率者只進行交聯，也可同時進行交聯處理與延伸。可將預先在延伸步驟延伸成低倍率之延伸薄膜在交聯處理中再次進行延伸，而達到總目標倍率。
最後較理想為進行洗淨處理及乾燥處理。洗淨處理可實施水洗淨處理。水洗淨處理通常藉由將延伸薄膜浸漬於離子交換水、蒸餾水等純水而進行。水洗淨溫度通常為3至50℃，較理想為4℃至20℃的範圍。浸漬時間通常為2至300秒，較理想為3秒至240秒。
洗淨處理，可組合以碘化物溶液之洗淨處理與水洗淨處理，可適當地使用調配甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙醇等液體醇之溶液。
洗淨處理後較理想為實施乾燥處理。乾燥處理可採用任意適合的方法(例如自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)。例如於加熱乾燥時之乾燥溫度通常為20至95℃，乾燥時間通常為1至15分鐘的程度。藉由以上的染色步驟(S30)，樹脂層可成為具有偏光子的功能。於本說明書中，具有偏光子的功能之樹脂層係稱為偏光子層，於基材薄膜上具備偏光子層之積層體係稱為偏光性積層薄膜。
[防濕層形成步驟(S40)]
於防濕層形成步驟，在前述偏光性積層薄膜6中，於前述偏光子層5的與前述基材薄膜1相反側的面，形成透濕度為200 g/m2/24 hrs以下之面內相位差為100nm以上且遲相軸對前述偏光子層5的吸收軸之角度θ 為20度以上70度以下之防濕層7，而得到多層薄膜8(第1圖(D))。此處，關於防濕層7的遲相軸對前述偏光子層5的吸收軸之角度θ，使用第2圖加以說明。第2圖(A)係關於防濕層7及偏光子層5並從該等的剖面方向觀察之示意圖，第2圖(B)係防濕層7與偏光子層5的積層體從防濕層7側在其法線方向觀察之示意圖。於第2圖(A)及第2圖(B)中，防濕層7的遲相軸表示為7a，偏光子層5的吸收軸表示為5a。防濕層7的遲相軸7a相對偏光子層5的吸收軸5a之角度θ係指第2圖(B)表示之θ。
從所得之偏光板的耐熱性、耐濕性的觀點來看，防濕層7的透濕度為200 g/m2/24 hrs以下，較理想為150 g/m2/24 hrs以下。而且，防濕層7的相位差，從帶偏光太陽眼鏡時的視認性的觀點，100nm以上較理想。
作為防濕層7的形成方法，例如可舉出(1)於前述偏光子層5的與前述基材薄膜1相反側的面，以成為前述既定的遲相軸方向之方式塗佈可發現前述透濕度及相位差的液晶材料等的相位差發現物質而形成的方法；(2)於前述偏光子層5的與前述基材薄膜1相反側的面，貼合透濕度為200 g/m2/24 hrs以下之面內相位差為100nm以上的相位差膜，使其遲相軸對前述偏光子層5的吸收軸成為20度以上70度以下的角度θ之方法等，較理想為採用前述(2)的方法。
相位差薄膜通常可舉出藉由延伸處理而賦予該相位差之薄膜。相位差薄膜的遲相軸的方向係由該相 位差薄膜的材質及延伸方向而決定。例如，於縱向單軸延伸或橫向單軸延伸的情況，依據薄膜的材質而在平行或垂直於薄膜的長度方向具有遲相軸。於使用如此的相位差薄膜時，切割薄膜後，以使其遲相軸對前述偏光子層的吸收軸而言成為20度以上70度以下的方向之方式而貼合。而且，將以對薄膜的長度方向遲相軸成為20度以上70度以下之方式斜方向進行單軸延伸之薄膜使用作為相位差薄膜時，可將該相位差薄膜以所謂捲筒至捲筒(roll-to-roll)方式與具有平行於長度方向的吸收軸之偏光性積層薄膜貼合。從生產效率的觀點較理想為後者的情況。如此達成斜的光軸之手段無特別限制，可為斜向延伸亦可為橫向延伸。於橫向延伸時，藉由故意使寬度方向的波音形狀變強而使中央部以外光軸傾斜，故該部分適合使用作為相位差薄膜。
形成防濕層的材料可從透濕度為200 g/m2/24 hrs以下的樹脂選擇，例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等所構成的聚酯系樹脂薄膜、環狀聚烯烴系樹脂薄膜、聚碳酸酯系樹脂薄膜、(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜、聚丙烯系樹脂薄膜等。
聚酯系樹脂係具有酯鍵結的聚合物，主要為多元羧酸與多元醇的聚縮物。所使用的多元羧酸主要使用2價二羧酸，例如間苯二甲酸、對苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。而且，所使用的多元醇主要使用2價二醇，可舉出例如丙二醇、丁二醇、新戊二醇、 環己烷二甲醇等。
聚酯系樹脂的具體例可舉出聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。可適合使用該等的混摻樹脂、共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂可適合使用各種適宜之市售品，例如Topas(註冊商標)(Ticona公司製)、Arton(註冊商標)(JSR股份有限公司製)、ZEONOR(註冊商標)(日本Zeon股份有限公司製)、ZEONEX(註冊商標)(日本Zeon股份有限公司製)、APL(註冊商標)(三井化學股份有限公司製)等。如此的環狀聚烯烴系樹脂製膜成為薄膜時，可適合使用溶劑鑄膜法、熔融擠出法等習知的方法。而且，可使用Escena(註冊商標)(積水化學工業股份有限公司製)、SCA40(積水化學工業股份有限公司製)、ZEONOR(註冊商標)薄膜(日本Optes股份有限公司製)等預先製膜之環狀聚烯烴系樹脂製的薄膜之市售品。
環狀聚烯烴系樹脂薄膜，可為單軸延伸或二軸延伸者。藉由延伸可賦予環狀聚烯烴系樹脂薄膜任意的相位差值。延伸通常一邊捲出薄膜捲狀物連續地進行，於加熱爐朝捲狀物的行進方向、與其行進方向垂直的方向、或其兩方向延伸。加熱爐的溫度通常是從環狀聚烯烴系樹脂薄膜的玻璃轉化溫度附近至玻璃轉化溫度+100℃為止的範圍。延伸倍率，一個方向通常為1.1至6倍，較理 想為1.1至3.5倍。
環烯烴系樹脂薄膜一般表面活性差，故較理想為在與偏光性積層薄膜貼合的表面進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理等的表面處理。其中，較容易實施的電漿處理、電暈處理較適合。
防濕層的厚度，從所得之偏光板的薄型化之觀點來看為90 μm以下較理想，50 μm以下更理想。另一方面，從得到偏光板的過程之機械強度等的觀點來看為5 μm以上較理想。
前述相位差薄膜可預先於與偏光子層的貼合面之相反側的面實施表面處理。表面處理例如可舉出形成硬塗層、抗靜電層、抗污層、抗反射層、抗眩層之處理等。亦可為組合該等複數之表面處理。於相位差薄膜的表面形成該等表面處理層之方法無特別限制，可使用習知的方法。
(硬塗層)
硬塗層係具有提高薄膜的表面硬度的功能，並以防止表面擦傷等為目的而設置。硬塗層在JIS K 5600-5-4規定的鉛筆硬度測試中顯示H或比其硬的值較理想。形成該硬塗層的情況，於製造步驟或最終製品例如為了除去表面髒污而以布等擦拭表面時，有不易受傷的優點。形成如此的硬塗層之材料一般為藉由熱、光而硬化者。例如有機聚矽氧樹脂系、三聚氰胺系、環氧系、丙烯酸系、 胺甲酸酯丙烯酸酯系等有機硬塗層材料、二氧化矽等無機硬塗層材料。
(抗靜電層)
抗靜電層賦予薄膜表面導電性，並以抑制靜電造成的影響等為目的而設置。抗靜電層的形成例如可採用塗佈含有導電性物質(抗靜電劑)的樹脂組成物之方法。例如於上述硬塗層的形成所使用的硬塗層材料中共存抗靜電劑，藉此可形成抗靜電性的硬塗層。
(抗污層)
抗污層係為了賦予薄膜表面撥水性、撥油性、抗污性等而設置。形成抗污層用的適合材料係含氟的有機化合物。含氟的有機化合物可舉出氟化碳、全氟矽烷、該等的高分子化合物等。防污層的形成方法係依據形成的材料而異，可使用以蒸鍍、濺鍍為代表例之物理氣相沈積法、化學氣相沈積法、濕式塗佈法等。抗污層的平均厚度通常為1至50nm的程度，較理想為3至35nm。
(抗反射層)
抗反射層係防止入射薄膜的外光反射用的層，係設置於薄膜的最外層(露出於外部的面)。於該情況可直接形成於薄膜上，也可形成於硬塗層等的其他層的最表面。設置有抗反射層的薄膜較理想為對波長430至700nm的光在入射角5°的反射率為2%以下，特別理想是對波長550nm的光在相同入射角的反射率為1%以下。
抗反射層的厚度可為0.01至1 μm的程 度，為0.02至0.5μm的範圍更理想。抗反射層可為：由折射率小於設置有抗反射層的層之低折射率層所構成者，具體而言具有1.30至1.45的折射率；由無機化合物所構成的薄膜之低折射率層、與由無機化合物所構成的薄膜之高折射率層交替地複數積層者等。
形成上述低折射率層的材料只要是低折射率者則無特別限制。例如可舉出：如紫外線硬化性丙烯酸樹脂之樹脂材料、樹脂中分散有如矽溶膠的無機微粒子的混成(hybrid)材料、包含烷氧基矽烷之溶膠-凝膠材料等。如此的低折射率層可藉由塗佈聚合完成的聚合物而形成，亦可以前驅物的單體或寡聚物的狀態而塗佈然後藉由聚合硬化而形成。而且，為了賦予抗污性，各材料係較理想為包括分子內具有氟原子的化合物。
(抗眩層)
抗眩層，係將薄膜上的外光的反射分散成各種角度，為了減少螢光燈、太陽光等的正反射而設置。藉此使螢光燈等的像不易反射，使顯示裝置的視認性變好。抗眩層可為在光硬化性樹脂中分散微粒子的方法、或以壓花法(embossing)在表面形成細微凹凸的形狀之方法。
在抗眩層的形成使用如上述的微粒子時，於構成光硬化性樹脂組成物之各成分分散無機或有機微粒子後，將該樹脂組成物塗佈於薄膜上，藉由照射光而可形成透明樹脂中分散有微粒子之硬塗層(抗眩層)。
另一方面，於藉由壓花法形成具有細微表 面凹凸形狀之抗眩層的情況，可使用形成有細微凹凸形狀的模型，將模型的形狀轉印至形成於薄膜上的樹脂層。藉由壓花法形成細微表面凹凸形狀時，凹凸形狀轉印的樹脂層可含有無機或有機微粒子，亦可不含有。藉由壓花法的凹凸形狀之轉印較理想為採用使用紫外線硬化性樹脂之UV壓花法。
於防濕層形成步驟中，可於前述偏光子層5的與前述基材薄膜1相反側的面透過接著劑層而形成防濕層7。此處，接著劑層可舉出水系接著劑層或光硬化性接著劑層，從可接著上述各種防濕層此點、與水分關連少而容易控制薄膜的捲曲此點、以及亦可不進行乾燥此點來看，更理想為隔著光硬化性接著劑層形成防濕層7。
水系接著劑例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺甲酸酯系乳膠接著劑等。其中，適合使用聚乙烯醇系樹脂水溶液。於使用作為接著劑之聚乙烯醇系樹脂中，除將乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯經皂化處理所得之乙烯醇均聚物外，有將乙酸乙烯酯及可與其共聚合之其他單體的共聚物經皂化處理所得之乙烯醇系共聚物，復有該等羥基部分改性之改性聚乙烯醇系聚合物等。於水系接著劑可添加作為添加劑之多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等。於使用如此的水系接著劑時，由其所得之接著劑層通常遠比1μm更薄，即使以通常的光學顯微鏡觀察剖面也在實際上無法看到該接著劑層。
使用水系接著劑的薄膜之貼合方法無特別限制，例如於薄膜的表面均勻塗佈或流下接著劑，於塗佈面重疊另一薄膜並藉由滾輪等貼合、乾燥之方法等。通常，接著劑在調製後在15至40℃的溫度下塗佈，貼合溫度通常為15至30℃的範圍。
使用水系接著劑時，貼合薄膜後為了除去包含於水系接著劑中的水而使其乾燥。乾燥爐的溫度較理想為30℃至90℃。未達30℃時接著面有變得容易剝離的傾向。90℃以上時因熱而恐使光學性能劣化。乾燥時間可為10至1000秒。
乾燥後再於室溫或比其稍微高的溫度，例如，20至45℃程度的溫度下養護12至600小時的程度。養護時的溫度一般設定為比乾燥時採用的溫度低。
所謂光硬化性接著劑係指藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑，例如包含聚合性化合物及光聚合引發劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。前述聚合性化合物可舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸酯系單體等的光聚合性單體、來自該等單體的寡聚物等。前述光聚合引發劑可舉出包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基之活性種之物質者。包含聚合性化合物及光聚合引發劑之光硬化性接著劑較理想為包含光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合引發劑者。
以光硬化性接著劑貼合薄膜之方法可使用傳統習知的方法，例如藉由流鑄法、麥爾棒塗法(Mayer bar)、凹版塗佈法、缺角輪塗佈法、刮刀塗佈法、模具塗佈法、浸塗法、噴霧法等，於薄膜的接著面塗佈接著劑並重疊2片薄膜之方法。流鑄法係指將被塗佈物之2片薄膜一邊使在約垂直方向、約水平方向或兩者間斜的方向移動，一邊於其表面流下接著劑並擴散之方法。
塗佈接著劑於薄膜的表面後，以夾持滾輪夾捏貼合薄膜藉此接著。而且，可適合使用將該積層體以滾輪等加壓並均勻壓展之方法。於該情況，滾輪的材質可使用金屬、橡膠等。再者，採用將該積層體通過滾輪與滾輪之間並加壓壓展之方法較理想。於該情況，該等滾輪可為相同材質，也可為不同的材質。使用上述夾持滾輪貼合後的接著劑層之乾燥或硬化前的厚度較理想為5 μm以下且0.01 μm以上。
於薄膜的接著面，為了提高接著性可適當地實施電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理。皂化處理可舉出浸漬於如氫氧化鈉、氫氧化鉀之鹼性水溶液之方法。
於使用光硬化性樹脂作為接著劑時，薄膜積層後藉由照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線的光源無特別限制，較理想為具有波長400nm以下的發光分佈之活性能量線，具體來說較理想為使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學 燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
對光硬化性接著劑的光照射強度係依據光硬化性接著劑的組成適當決定，無特別限制，但較理想為有效使聚合引發劑活性化的波長區域之照射強度為0.1至6000 mW/cm2。照射強度為0.1 mW/cm2以上時，反應時間不會變得太長，於6000 mW/cm2以下時，因從光源輻射的熱及光硬化性接著劑硬化時的發熱而造成環氧樹脂黃變、偏光膜劣化之情形較少產生。對光硬化性接著劑的光照射時間係依據硬化的光硬化性接著劑而應用，無特別限制，但較理想為使表示作為上述照射強度與照射時間的乘積之累積光量設定為10至10000 mJ/cm2。於對光硬化性接著劑的累積光量為10 mJ/cm2以上時，來自聚合引發劑的活性種充分產生，並可使硬化反應更確實地進行，於10000 mJ/cm2以下時反應時間不會變得太長，可維持良好的生產性。再者，照射活性能量線後的接著劑層的厚度通常為0.001至5 μm，較理想為0.01 μm以上且2 μm以下，更理想為0.01 μm以上且1 μm以下。
於藉由照射活性能量線而使包含偏光子層、防濕層的薄膜之光硬化性接著劑硬化時，較理想為在不降低偏光子層的偏光度、穿透率及色調、以及防濕層的透明性等偏光板各功能的條件下進行。
[剝離步驟(S50)]
於剝離步驟中，係從多層薄膜8剝離前述基材薄膜1而得到偏光板9(第1圖(E))。基材薄膜1的 剝離方法無特別限制，可直接剝離，也可先捲成捲狀後另外設置剝離步驟而剝離。
〈偏光板、附有黏著劑層的偏光板〉
經過前述S10至S50的步驟可得到偏光板9。在此一邊參考第3圖至第6圖一邊說明藉由本發明的製造方法得到之偏光板9。本發明的偏光板9如第3圖所示具有防濕層7及偏光子層5。而且，如第4圖所示，防濕層7與偏光子層5之間存在接著劑層10者較理想。再者，如第5圖所示，於偏光子層5之與防濕層7相反側的面設置黏著劑層11，而可成為附有黏著劑層的偏光板20。該附有黏著劑層的偏光板20係在黏著劑層11側與影像顯示單元12貼合，而可成為影像顯示裝置30。
偏光板9的視認度修正單體穿透率(Ty)為40%以上，且視感度修正偏光度(Py)為99.9%以上。偏光板9可使用作為影像顯示裝置的偏光板。偏光板9具有上述光學特性，藉此當偏光板9使用作為影像顯示裝置的偏光板時可得到良好對比的顯示。
附有黏著劑層的偏光板20所使用的黏著劑可舉出以丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧樹脂系樹脂等為基質聚合物，於該基質聚合物添加異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶(aziridine)等的交聯劑之組成物等。復於該基質聚合物中含有微粒子，而可成為顯示光散射性之黏著劑層。
黏著劑層11的厚度為1至40 μm較理想， 在無損加工性、耐久性的特性之範圍較理想較薄地塗佈，更理想為3至25μm。3至25μm時可具有良好的加工性且抑制偏光膜的尺寸變化，為適合的厚度。黏著劑層11未達1μm時黏著性降低，超過40μm時變得容易產生黏著劑滲出等的不良情形。
於偏光子層5上形成黏著劑層11的方法無特別限制，可於偏光子層5上塗佈包含以上述基質聚合物為代表之各成分的溶液，使其乾燥並形成黏著劑層11後而與分隔片、其他種薄膜貼合，或者可於分隔片形成黏著劑層後貼合於偏光子層的面而積層。而且，形成黏著劑層於偏光子層的面時，依據需要可於偏光子層的面或黏著劑層的一側或兩側進行密著處理，例如實施電暈處理等。
影像顯示單元12例如可舉出在玻璃基板間具備液晶胞(cell)之液晶面板、有機EL元件等。液晶胞可使用傳統習知的各種驅動方式者。
而且，於偏光板9中，於防濕層7之與偏光子層5相反側的面依據需要可設置其他光學層。此處所謂其他光學層例如可舉出穿透某種偏光的光並反射顯示與其相反性質的偏光的光之反射型偏光膜、表面具有凹凸形狀之附有抗眩功能的膜、附有表面抗反射功能的膜、表面具有反射功能的反射膜、兼具反射功能及穿透功能之半穿透反射膜、視角補償膜。
相當於穿透某種偏光的光並反射顯示與其相反性質的偏光的光之反射型偏光膜的市售品，例如可舉 出DBEF(3M公司製、可從住友3M股份有限公司取得)、APF(3M公司製、可從住友3M股份有限公司取得)等。視角補償膜例如可舉出在基材表面塗佈液晶性化合物並使其配向之光學補償膜、聚碳酸酯系樹脂所構成的相位差膜、環狀聚烯烴系樹脂所構成的相位差膜。相當於在基材表面塗佈液晶性化合物並使其配向之光學補償膜的市售品，可舉出WV薄膜(富士薄膜股份有限公司製)、NH薄膜(新日本石油股份有限公司製)、NR薄膜(新日本石油股份有限公司製)等。而且，相當於環狀聚烯烴系樹脂所構成的相位差膜的市售品，可舉出Arton(註冊商標)薄膜(JSR股份有限公司公司製)、Esccna(註冊商標)(積水化學工業股份有限公司製)、ZEONOR(註冊商標)薄膜(Optes股份股份有限公司製)等。
〈圓偏光板的製造方法〉
本發明的圓偏光板的製造方法係包括：於基材薄膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層並得到積層薄膜的樹脂層形成步驟(S10)；將前述積層薄膜單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度為10μm以下而得到延伸薄膜的延伸步驟(S20)；將前述延伸薄膜以二色性色素染色並形成偏光子層，而得到偏光性積層薄膜的染色步驟(S30)；於前述偏光性積層薄膜中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面透過光硬化性接著劑層而形成防濕層，藉此得到多層薄膜之防濕層形成步驟(S40)；從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜而得到附有防濕層的偏光膜之剝離步 驟(S50)；以及於前述附有防濕層的偏光膜中，於前述偏光子層的與前述防濕層相反側的面形成相位差層之相位差層形成步驟(S60)。關於樹脂層形成步驟(S10)、延伸步驟(S20)、染色步驟(S30)、防濕層形成步驟(S40)及剝離步驟(S50)係與上述偏光板的製造方法相同，故以下詳細說明相位差層形成步驟(S60)。另外，在上述偏光版之製造方法之剝離步驟所得之偏光板9，可視為在本圓偏光板之製造方法之剝離步驟所得之附有防濕層之偏光膜。
[相位差層形成步驟(S60)]
於相位差層形成步驟中，在附有防濕層的偏光膜9中，於偏光子層5的與防濕層7相反側的面形成相位差層13(第7圖)。此處，形成相位差層13較理想為透過黏著劑層11而形成。而且，除相位差層13外再形成第2相位差層13b(第8圖)時，較理想為透過再隔著黏著劑層11b積層。
(相位差層13)
相位差層13係將從外部入射影像顯示裝置內的光成為圓偏光，藉此防止朝外部出光，結果為發揮防止外光反射的功能之層。所以，通常相位差層13配置在影像顯示裝置的內側。相位差層13係依據具有該層的圓偏光板的用途等，可從1/2波長板、1/4波長板、1/5波長板、1/6波長板等適當地選擇。例如，如第7圖所示具有1層相位差層13時，以1/4波長板作為相位差層13較理想。或者，如第8圖所示除相位差層13外再具有第2相位差層 13b時，以1/2波長板作為相位差層13並以1/4波長板作為第2相位差層13b較理想。第8圖之具有2層相位差層的構成，係因在可見光的廣波長區域範圍中能夠製作圓偏光此點，所以較理想。
相位差層例如可舉出三乙醯纖維素系樹脂、聚碳酸酯系樹脂或環狀聚烯烴系樹脂所構成的相位差膜。相當於環狀聚烯烴系樹脂所構成的相位差膜之市售品，例如可舉出Arton(註冊商標)(JSR股份有限公司製)、Escena(註冊商標)(積水化學工業股份有限公司製)、ZEONOR(註冊商標)薄膜(日本Optes股份有限公司製)等。
相位差層13，係如第7圖及第8圖所示，可隔著黏著劑層11而積層。而且，於具有2層相位差層的情況，該等可依序透過黏著劑層(11、11b)而積層。構成黏著劑層的黏著劑可使用傳統習知適合的黏著劑，例如可舉出丙烯酸系黏著劑、胺甲酸酯系黏著劑、聚矽氧樹脂系黏著劑等。其中，從透明性、黏著力、信賴性、重工(rework)性等的觀點來看，使用丙烯酸系黏著劑較理想。藉由將前述黏著劑藉由模具塗佈機、凹版塗佈機等而塗佈於薄膜表面並其乾燥之方法，而可設置黏著劑層。或者，藉由將在實施過離型處理之塑膠薄膜(稱為離型膜)上所形成之薄片狀黏著劑轉印至薄膜表面之方法，而可設置黏著劑層。黏著劑層的厚度無特別限制，較理想為在2至40 μm的範圍。
〈圓偏光板、附有黏著劑層的圓偏光板、影像顯示裝置〉
於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等的影像顯示裝置中，為了防止外光的反射而於其視認側設置圓偏光板。如此的圓偏光板係具有偏光子層及1/4波長板等相位差層者，從外部入射影像顯示裝置內的光成為圓偏光，藉此防止朝外部出光，其結果由於可防止外光的反射，故通常前述相位差層係配置在影像顯示裝置的內側。
經過前述S10至S60的步驟可得到圓偏光板20。再者如第9圖所示，於相位差層13之與偏光子層5相反側的面設置黏著劑層11b，可成為附有黏著劑層的圓偏光板50。或者，如第10圖所示，於設置第2相位差層13b時，於相位差層13b之與偏光子層5相反側的面設置黏著劑層11c，可成為附有黏著劑層的圓偏光板50。該附有黏著劑層的圓偏光板50係如第11圖及第12圖所示，在黏著劑層11b、11c側與影像顯示單元12貼合，可成為影像顯示裝置30。
而且，於圓偏光板40中，於防濕層7之與偏光子層5相反側的面依據需要可設置其他光學層。此處作為所謂其他光學層係與偏光板9的情況相同，例如穿透某種偏光的光並反射顯示與其相反性質的偏光的光之反射型偏光膜、表面具有凹凸形狀之附有抗眩功能的膜、附有表面抗反射功能的膜、表面具有反射功能的反射膜、兼具反射功能及穿透功能之半穿透反射膜、視角補償膜。
(實施例)
以下舉出實施例及比較例更具體地說明本發明，但本發明不限於該等例。
[實施例1] (基材薄膜)
基材薄膜使用厚度110μm的未延伸聚丙烯(PP)薄膜(熔點：163℃)。
(底塗層的形成)
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業股份有限公司製、平均聚合度1100、皂化度99.5莫耳%、商品名：Z-200)溶解於95℃的熱水而調製濃度3重量%的水溶液。在所得之水溶液中，混合對聚乙烯醇粉末6重量份之5重量份的交聯劑(住友化學股份有限公司製、商品名：SUMIREZ(註冊商標)RESIN 650)。使用微凹版塗佈機將所得混合水溶液塗佈於實施電暈處理之基材薄膜上，在80℃乾燥10分鐘，形成厚度0.2μm之底塗層。
(聚乙烯醇系樹脂層形成步驟)
將聚乙烯醇粉末(可樂麗股份有限公司製、平均聚合度2400、皂化度98.0至99.0莫耳%、商品名：PVA124)溶解於95℃的熱水，調製濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液。使用唇式塗佈機將所得水溶液塗佈於上述底塗層上，在80℃乾燥20分鐘，製作基材薄膜、底塗層、聚乙烯醇系樹脂層所構成的3層積層薄膜。
(延伸步驟)
將上述積層薄膜，使用拉幅裝置在160℃實 施5.8倍的自由端單軸延伸，得到延伸薄膜。延伸後的聚乙烯醇系樹脂層的厚度為5.0 μm。
(染色步驟)
將上述延伸薄膜浸漬於26℃的碘與碘化鉀之混合水溶液之染色溶液90秒而染色後，以10℃的純水沖洗多餘的碘液。然後浸漬於76℃的硼酸及碘化鉀之混合水溶液之交聯溶液300秒。然後以10℃的純水洗淨10秒，最後於80℃乾燥200秒。藉由以上步驟而從樹脂層形成偏光子層，並得到偏光性積層薄膜。各溶液的調配比例如下述。
〈染色溶液〉
水：100重量份
碘：0.35重量份
碘化鉀：10重量份
〈交聯溶液〉
水：100重量份
硼酸：9.5重量份
碘化鉀：5重量份
(防濕層形成步驟)
於上述偏光性積層薄膜中，於偏光子層的與基材薄膜相反側的面塗佈光硬化性接著劑(ADEKA OPTOMER KR-25T)後，於塗佈面貼合作為防濕層之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(透濕度33 g/m2/24hrs、厚度25 μm)，使其遲相軸對前述偏光子層的吸收軸而言成為45度的角 度，而得由防濕層、接著劑層、偏光子層、底塗層、基材薄膜的5層所構成的多層薄膜。從所得的多層薄膜剝離基材薄膜，得到防濕層、接著劑層、偏光子層、底塗層的4層所構成的偏光板。
[實施例2]
除了防濕層使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(透濕度140 g/m2/24hrs、厚度5 μm)此點以外，以與實施例1相同的方法得到偏光板。
[實施例3]
除了在防濕層使用環烯烴聚合物所構成的薄膜(透濕度110 g/m2/24hrs、厚度20 μm)此點以外，以與實施例1相同的方法得到偏光板。
[比較例1]
除了防濕層使用三乙醯纖維素薄膜(透濕度827 g/m2/24hrs、厚度42 μm)此點以外，以與實施例1相同的方法得到偏光板。
[比較例2]
除了防濕層使用三乙醯纖維素薄膜(透濕度827 g/m2/24hrs、厚度42 μm)此點、以及使用水系接著劑作為接著劑此點以外，以與實施例1相同的方法得到偏光板。水系接著劑係將聚乙烯醇粉末(可樂麗股份有限公司製「KL-318」、平均聚合度1800)溶解於95℃的熱水，調製濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得水溶液中，混合對聚乙烯醇粉末2重量份之1重量份的交聯劑(住友 化學股份有限公司製「SUMIREZ RESIN 650」)，而作為接著劑溶液。
(偏光性能的測定)
將實施例1至3及比較例1至2得到之偏光板的光學特性，以附有積分球的分光光度計(日本分光股份有限公司製、V7100)進行測定。於波長380nm至780nm的範圍求出MD穿透率及TD穿透率，根據以下示式(1)及式(2)，算出各波長的單體穿透率、偏光度，再藉由JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行視感度修正，求出視感度修正單體穿透率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。再者，偏光板的測定係以防濕層側為偵測器側並從底塗層側使光入射之方式而設定機器。
於上述中，「MD穿透率」係指從格蘭-湯普森(Glan-Thompson)稜鏡出來的偏光之方向與偏光板樣品的穿透軸平行時的穿透率，式(1)、式(2)中以「MD」表示。而且，「TD穿透率」係指從格蘭-湯普森稜鏡出來的偏光之方向與偏光板樣品的穿透軸垂直時的穿透率，式(1)、式(2)中以「TD」表示。
單體穿透率(%)=(MD+TD)/2..式(1)
偏光度(%)={(MD-TD)/(MD+TD)}×100..式(2)
(耐熱、耐濕性測試)
將實施例1至3及比較例1至2得到之偏光板，於60℃、90%RH的環境下放置750小時，然後求 出偏光板之Py、Ty。該評價結果表示於表1。再者，表1中開始時的Ty(%)及開始時的Py(%)，係指測試開始時的Ty(%)及Py(%)，結束時的Py(%)係指測試結束時的Py(%)，△Py(%)係指從結束時的Py(%)減去開始時的Py(%)之差。
[實施例4]
以使防濕層之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的遲相軸對偏光子層的吸收軸為0度至90度為之方式，在每10度分別將聚對苯二甲酸乙二酯薄膜貼合於偏光性積層薄膜，對所得之各偏光板評價戴太陽眼鏡時的視認性。視 認性佳者為「○」，視認性差者為「×」。結果表示於表2。
1‧‧‧基材薄膜
2‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層
3‧‧‧積層薄膜
4‧‧‧延伸薄膜
5‧‧‧偏光子層
6‧‧‧偏光性積層薄膜
7‧‧‧防濕層
8‧‧‧多層薄膜
9‧‧‧偏光板

Claims (9)

  1. 一種偏光板的製造方法，包括：樹脂層形成步驟，係於基材薄膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層，而得積層薄膜；延伸步驟，係將前述積層薄膜進行單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度成為10μm以下，而得延伸薄膜；染色步驟，係將前述延伸薄膜以二色性色素染色而形成偏光子層，以得偏光性積層薄膜；防濕層形成步驟，係於前述偏光性積層薄膜中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面，形成透濕度為200g/m2/24hrs以下之面內相位差為100nm以上且遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸的角度θ為20度以上70度以下之防濕層，而得多層薄膜；以及剝離步驟，係從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜，其中，於前述防濕層形成步驟中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面係隔著光硬化性接著劑層而形成防濕層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板的製造方法，其中於前述防濕層形成步驟中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面，貼合透濕度為200g/m2/24hrs以下之面內相位差為100nm以上的相位差膜，且使其遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸成為20度以上70 度以下的角度θ。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板的製造方法，其中前述相位差膜係在與偏光子層的貼合面之相反側的面實施有表面處理。
  4. 一種附有黏著劑層的偏光板，具備：以申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之方法製造的偏光板；以及設置於該偏光板之前述偏光子層的與防濕層相反側的面之黏著劑層。
  5. 一種影像顯示裝置，具備：如申請專利範圍第4項所述之附有黏著劑層的偏光板、以及貼合於該偏光板的黏著劑層側之影像顯示單元。
  6. 一種圓偏光板，具備：如申請專利範圍第4項所述之附有黏著劑層的偏光板、以及貼合於該偏光板的黏著劑層側之相位差層。
  7. 一種附有黏著劑層的圓偏光板，具備：如申請專利範圍第6項所述之圓偏光板、以及設置於該圓偏光板之前述偏光子層的與防濕層相反側的面之黏著劑層。
  8. 一種影像顯示裝置，具備：如申請專利範圍第7項所述之附有黏著劑層的圓偏光板、以及貼合於該圓偏光板的黏著劑層側之影像顯示單元。
  9. 一種圓偏光板的製造方法，包括：樹脂層形成步驟，係於基材薄膜的至少一面形成聚乙烯醇系樹脂層，而得積層薄膜； 延伸步驟，係將前述積層薄膜進行單軸延伸至聚乙烯醇系樹脂層的厚度成為10μm以下，而得延伸薄膜；染色步驟，係將前述延伸薄膜以二色性色素染色而形成偏光子層，以得偏光性積層薄膜；防濕層形成步驟，係於前述偏光性積層薄膜中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面，隔著光硬化性接著劑層形成透濕度為200g/m2/24hrs以下之面內相位差為100nm以上且遲相軸相對於前述偏光子層的吸收軸的角度θ為20度以上70度以下之防濕層，而得到多層薄膜；剝離步驟，係從前述多層薄膜剝離前述基材薄膜，而得到附有防濕層的偏光膜；以及相位差層形成步驟，係於前述附有防濕層的偏光膜，於前述偏光子層的與前述防濕層相反側的面形成相位差層，其中，於前述防濕層形成步驟中，於前述偏光子層的與前述基材薄膜相反側的面係隔著光硬化性接著劑層而形成防濕層。
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