JPWO2013191102A1 - 光学フィルム積層体の製造方法、薄型偏光膜、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、薄型偏光膜を有しフィルム幅手方向に偏光度ムラの無い光学フィルム積層体の製造方法、偏光度ムラの無い薄型偏光膜及び液晶表示装置を提供することである。本発明の光学フィルム積層体の製造方法は、（１）熱可塑性樹脂基材上に、親水性高分子層を積層し、積層体を形成する積層工程、（２）前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する延伸工程、及び、（３）前記親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程、を有する光学フィルム積層体の製造方法であって、前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度が、前記基材のＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高いことを特徴とする。

Description

本発明は、光学フィルム積層体の製造方法、薄型偏光膜、偏光板及び液晶表示装置に関し、特に薄型化及び軽量化の進んだ液晶表示装置に用いられる薄型偏光膜に関する。

近年、液晶表示装置が、モバイル型のタブレットやスマートフォンに用いられるようになり、薄型化、軽量化が進んでいる。

液晶表示装置には、様々な部材が使われている。その中で従来、偏光膜は単層体の製造方法で製造されていたが、特許文献１に記載されているように、５０〜８０μｍ厚のＰＶＡ系樹脂単層体を、例えば、周速の異なる複数セットのローラーを有する搬送装置にかけ、染色液への浸漬によってＰＶＡ系樹脂単層体に二色性物質を吸着させ、６０℃前後の水溶液中において延伸することによって製造される。この単層体の偏光膜の厚さは１５〜３５μｍの範囲内である。

上記方法による偏光膜の薄膜化には限界があるため、新たな薄膜化の技術が提案されている（特許文献２参照。）。特許文献２には、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基体に製膜されたポリビニルアルコール系樹脂層を含むフィルム積層体をＭＤ方向（フィルム搬送方向）に空中延伸して、配向させたポリビニルアルコールに二色性物質を吸着させることにより、薄型偏光膜を含む光学フィルム積層体を製造する方法が開示されている。

しかし、この方法で製造された偏光膜は、膜厚が薄く、僅かな延伸ムラにより配向ムラが生じやすい。さらに本発明者等が検討した結果、この方法で作製した光学フィルム積層体は、ＴＤ方向（フィルム幅手方向）の端部と中央部との間で、偏光度に差が生じ、特に、端部で偏光度ムラが発生するというこの方法で製造された偏光膜特有の問題があることが分かった。

また、この偏光膜を用いて製造された液晶表示装置は、偏光膜の偏光度の低い部分ではコントラストが低下し、コントラストのムラが発生する。しかし、このような問題は、従来知られていなかった。

特開２００５−２６６３２５号公報 特許第４６９１２０５号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、薄型偏光膜を有しフィルム幅手方向に偏光度ムラの無い光学フィルム積層体の製造方法を提供することである。また、偏光度ムラの無い薄型偏光膜及び薄型の偏光板及を提供することであり、さらに薄型でコントラストムラの無い液晶表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、光学フィルム積層体の親水性高分子層のＴＤ方向における中心部の偏光度と親水性高分子層のＴＤ方向における端部の偏光度が異なっていることを発見した。これに対し、光学フィルム積層体の空中延伸時に、前記親水性高分子層が積層されていない部分である基材の端部の温度を、親水性高分子層が積層されている部分である基材の中心の温度より高温にすることにより、親水性高分子層の前記中心部と前記端部の偏光度の差が小さくなることを見出し本発明に至った。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．（１）熱可塑性樹脂基材上に、親水性高分子層を積層し、積層体を形成する積層工程、（２）前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する延伸工程、及び、（３）前記親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程、を有する光学フィルム積層体の製造方法であって、前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度が、前記基材のＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高いことを特徴とする光学フィルム積層体の製造方法。
２．前記光学フィルム積層体における前記親水性高分子層の厚さが、２〜１０μｍの範囲内であり、前記光学フィルム積層体における前記基材の厚さが、５〜４５μｍの範囲内であり、かつＪＩＳ Ｋ ７２０９の（Ａ法）に準じて下記式（１）より求められる前記積層工程前の基材の吸水率が、０．３〜４．３％の範囲内であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。

式（１） 吸水率＝（ｗ_２−ｗ_１）／ｗ_１×１００（％）
（式（１）中、ｗ_１は水に浸漬する前の試験片の乾燥質量（ｍｇ）であり、ｗ_２は２３．０±１．０℃の水に２４±１時間浸漬した後の試験片の質量（ｍｇ）である。）
３．前記親水性高分子層を形成する親水性高分子が、ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
４．前記親水性高分子層が、薄型偏光膜であって、該薄型偏光膜のＴＤ方向における中心の偏光度Ａと、前記薄型偏光膜のＴＤ方向における端から２５ｍｍ内側の偏光度Ｂとが、下記式（２）を満足するように調整することを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。

式（２） ０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
５．前記（１）〜（３）の工程に加えて、更に、（４）前記親水性高分子層の面に、接着剤を介し第２の光学フィルムを貼合する貼合工程及び（５）前記基材を剥離する剥離工程を有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
６．厚さが２〜１０μｍである親水性高分子層の偏光膜であり、かつ偏光膜のＴＤ方向における中心の偏光度Ａと、偏光膜のＴＤ方向における端から２５ｍｍ内側の偏光度Ｂとが、下記式（２）を満足することを特徴とする薄型偏光膜。

式（２） ０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
７．第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法により製造された光学フィルム積層体が、具備されていることを特徴とする偏光板。
８．第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法により製造された光学フィルム積層体が、具備されていることを特徴とする液晶表示装置。

本発明の上記手段により、偏光度ムラの無い光学フィルム積層体の製造方法を提供することができる。また、親水性高分子の偏光膜の厚さが２〜１０μｍと薄いにもかかわらず幅手方向に偏光度ムラの無い薄型偏光膜を提供することができる。

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

基材をローラー搬送しながらその上に、親水性高分子の水溶液を塗布するとき、表面に塗布した親水性高分子が裏回りして搬送ローラーを汚さないために、基材のＴＤ方向の端部には塗布しない。親水性高分子層は、乾燥後、ＴＤ方向又はＭＤ方向に延伸されるが、その時点で親水性高分子層は完全には乾燥されていない。基材がある程度吸水性がある場合、親水性高分子層が積層されている部分の基材は親水性高分子層から水分を吸収して、延伸工程においても水分を含有している。

そのため、親水性高分子層が積層されている部分の基材は、親水性高分子層が積層されていない端部の基材より、弾性率が低い。この状態でＴＤ方向又はＭＤ方向に延伸されると、中心部と端部で延伸の状態が異なり、親水性高分子層の配向状態もフィルム幅手方向で異なると推定している。この親水性高分子層の配向状態の違いが、二色性物質を吸着させて製造された光学フィルム積層体の偏光度の違いとなって現れ、偏光度ムラが生じると推定している。

本発明の製造方法の工程の概略図 積層体の法線方向から見た延伸工程の概略図

本発明の光学フィルム積層体の製造方法は、（１）熱可塑性樹脂基材上に、親水性高分子層を積層し、積層体を形成する積層工程、（２）前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する延伸工程、及び、（３）前記親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程、を有する光学フィルム積層体の製造方法であって、前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度が、前記基材のＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高いことを特徴とする。

これにより、前記基材中の含水率が親水性高分子層が塗布された中央部と端部とで異なることによる弾性率の違いを、温度で補償することができ、本発明の効果が発現される結果、２〜１０μｍと薄い親水性高分子の偏光膜であってもフィルム幅手方向の偏光度のバラツキが、
式（２） ０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
である薄型偏光膜が初めて得られた。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、空中延伸後の親水性高分子層の厚さが２〜１０μｍの範囲内であり、基材の厚さが５〜４５μｍの範囲内であり、かつ該基材の吸水率が０．３〜４．３％の範囲内であることが好ましい。また、親水性高分子層を形成する親水性高分子がポリビニルアルコールであることが、高い偏光度を得られることから、好ましい。

また、本発明においては、前記親水性高分子がポリビニルアルコール系樹脂であることが好ましく、さらにヨウ素で染色されていることが好ましい。これにより、偏光度の高い偏光膜が得られる。

また、前記（１）〜（３）の工程に加えて、（４）前記親水性高分子層の面に、接着剤を介して、第２の光学フィルムを貼合する貼合工程及び（５）前記基材を剥離する剥離工程、を有することにより、親水性高分子層の延伸による影響を受けずに光学フィルムを設計できるため、最適な光学フィルムと組み合わせることができる。

本発明の光学フィルム積層体の製造方法により製造することにより、親水性高分子層の偏光膜の膜厚が２〜１０μｍと薄くてもＴＤ方向の中心の偏光度Ａと、ＴＤ方向の端から２５ｍｍ内側の偏光度Ｂとが、０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１の関係を満足する薄型偏光膜が得られることが初めて可能になった。

本発明の光学フィルム積層体は、偏光板及び液晶表示装置に好適に具備され得る。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

（光学フィルム積層体の製造方法）
本発明の光学フィルム積層体の製造方法は、（１）熱可塑性樹脂基材上に、親水性高分子層を積層し、積層体を形成する積層工程、（２）前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する延伸工程、及び、（３）前記親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程、を有する光学フィルム積層体の製造方法であって、前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度が、前記基材のＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高いことを特徴とする。ＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度を、ＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高くする方法としては、端部の加温装置を中央部の加温装置より強く加温するようにしてもよいし、またフィルム面全体を加温しておいて中央部のみを冷却しても良い。また端部の温度が、左右端で異なっている場合には、左右の平均値とする。

［製造工程の概要］
図１は本発明の光学フィルム積層体の製造の工程の一例を表した図である。図１の工程は、積層工程１、延伸工程２、染色工程３及び洗浄乾燥工程４を有している。図１には、示されていないが、染色工程３と洗浄乾燥工程４との間に架橋剤溶液中で延伸する工程を有していてもよい。

ここで、ＭＤ方向とは、図１の積層工程１、延伸工程２、染色工程３及び洗浄乾燥工程４における、フィルム積層体の搬送方向であり、ＴＤ方向とは、フィルム積層体の面内でＭＤ方向と直交する方向すなわち幅手方向である。

［（１）積層工程］
積層工程１では、ロール６から繰り出された基材に塗布機１１により親水性高分子溶液を塗布され、乾燥機１２により乾燥され、積層体が形成される。塗布機１１から供給される親水性高分子溶液が、バックローラー１３を汚さないために、塗布機１１は親水性高分子の塗布幅が基材の幅より小さくなるように設定されている。

ロール６らか繰り出された基材が塗布機１１まで搬送される間に、密着性や剥離性を調整するために、図示されていない表面処理工程を有していてもよい。

また、図示されていないが、ロール状の基材を用いる代わりに、基材の形成材と親水性高分子の形成材の共押し出しにより、基材層と親水性高分子層を積層する積層工程とすることもできる。

延伸前の前記積層体の前記親水性高分子層の厚さは、当該積層体に、延伸工程を施すことにより得られる延伸積層体における親水性高分子層（延伸物）の厚さに応じて適宜に設定することができる。前記延伸積層体における親水性高分子層（延伸物）の厚さは、偏光膜を薄型として用いることを重視する観点から、０．５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、さらには１〜２０μｍの範囲内、さらには２〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。親水性高分子層（延伸物）の厚さが２μｍ以上であれば、製造時の厚さが均一となり、非常に好ましい外観を得ることができる。親水性高分子層（延伸物）の厚さが１０μｍ以下であれば、液晶表示装置の薄膜化の要望を充分に満足させることができる。

前記積層体における親水性高分子層の厚さは、延伸処理により延伸又は収縮が生じて、上記の厚さになる。したがって、延伸前の積層体における親水性高分子層の厚さは、通常、１〜５０μｍの範囲内程度、さらには２〜３０μｍの範囲内とするのが好ましい。また、積層体における親水性高分子層は、水分率が、１〜４０質量％の範囲内、さらには２〜２５質量％の範囲内であるのが、当該積層体に延伸処理等を施すうえで好ましい。

基材に、親水性高分子を含有する水溶液を塗布した後に、前記親水性高分子を含有する溶液を乾燥することにより、前記基材上に親水性高分子層を形成し、前記積層体を得ることができる。かかる塗布により、基材と親水性高分子層は、プライマー層若しくは剥離層を介して、又は、基材と親水性高分子層が直接積層し、基材と親水性高分子層が一体化した状態の積層体が得られる。前記水溶液は、親水性高分子の粉末又は親水性高分子フィルムの粉砕物、切断物等を、適宜に加熱した水（熱水）に溶解することにより調製することができる。

前記水溶液の基材上への塗布は、塗布法は、ワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを適宜に選択して採用できる。基材がプライマー層又は剥離層を有する場合には当該プライマー層又は剥離層に、プライマー層を有しない場合には基材に、直接、前記水溶液を塗布する。なお、乾燥温度は、通常、５０〜２００℃の範囲内、好ましくは８０〜１５０℃の範囲内であり、乾燥時間は、通常、５〜３０分間の範囲内程度である。

前記水溶液は、ＴＤ方向で基材の端より、０．５〜３５ｍｍの範囲内で内側に塗布されて、前記親水性高分子層が形成されることが好ましく、５〜３５ｍｍの範囲内で内側に塗布されることがさらに好ましい。５ｍｍ以上であれば、多少基材の搬送が蛇行しても、搬送ローラーを水溶液で汚すことがない。３５ｍｍ以下であれば、光学フィルム積層体を高い収率で得ることができる。

［（２）延伸工程］
図１に示した延伸工程２では、オーブン２０内にローラー対２１及びローラー対２２を有する延伸装置が設置されている。まず積層工程１から搬送された積層体が、オーブンで高温に加熱されながら、上流でローラー対２１でニップされ、下流でローラー対２２でニップされた状態でローラー間の空中を通過し、空中延伸される。オーブン２０は積層体が延伸可能な温度に積層体を加熱している。このとき、ローラー対２１の各ローラーの周速度よりローラー対２２の各ローラーの周速度を速くすることにより、ローラー対２１と２２の間の積層体が自由端延伸で縦一軸延伸（ＭＤ方向の延伸）される。

図２は、延伸工程２を図１の２７の方向から見た図である。ローラー対２１とローラー対２２の間の空中にある積層体は、親水性高分子層が積層されている積層部分２８と積層されていない端部２９があり、端部２９の基材の親水性高分子層が積層されていない側の面にヒーター２５とヒーター２６の熱風が当たり、端部２９は積層部分２８の基材より高温になっている。

ここで、自由端延伸と固定端延伸について概説する。長尺フィルムを搬送方向に延伸すると、延伸する方向に対して垂直方向すなわち幅方向にフィルムが収縮する。自由端延伸は、この収縮を抑制することなく延伸する方法をいう。また縦一軸延伸とは、縦方向にのみに延伸する延伸方法のことである。自由端一軸延伸は、一般に延伸方向に対して垂直方向に起こる収縮を抑制しながら延伸する固定端一軸延伸と対比されるものである。この自由端一軸の延伸処理によって、積層体に含まれる親水性高分子が配向され、積層体は延伸積層体へと変化する。

本発明の光学フィルム積層体の製造方法は、前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する工程を有する。前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向の端部（親水性高分子層が積層されていない部分）の温度は、前記基材のＴＤ方向の中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高い。前記基材の温度は放射温度計により測定される。

基材の端部の温度と中心の温度との差が１℃未満又は４０℃を超える場合は、大きな偏光度ムラを生じる。

基材の端部の温度と中心の温度との差が１℃未満の場合は、吸水していない基材の端部の弾性率が、吸水した基材の中心部の弾性率まで低下しないと考えられる。また、基材の端部の温度と中心の温度との差が４０℃を超える場合は、親水性高分子層の端部が局所的に乾燥して、配向ムラとなり、偏光度ムラが生じてしまうと考えられる。

通常フィルムを延伸して製造する際には、端部を加熱すると、端部のみが伸びたり、ネックインしやすくなり、厚さムラなどが生じるので端部を加熱することは考えられないことであったが、本発明では端部を高温にすることにより、逆に幅手方向の偏光度ムラを生じにくくする効果を発生させることができる。

延伸工程では、前記基材に親水性高分子の水溶液を塗布し、乾燥が完全に行われる前に空中延伸が行われる。空中延伸の開始時点で、親水性高分子層の乾燥が完全ではないため、水分は基材にも拡散し、積層体の中心部の基材の含水量は、ＴＤ方向の端部の基材の含水量より高い。ここで、空中延伸は、限定されるものではないが、例えばオーブンなどの加熱装置を用いて行う「空中において高温で延伸する処理」をいう。また、この空中延伸によって得られた積層体を延伸積層体とよぶ。

前記空中延伸は、ＭＤ方向に、延伸倍率が３．５倍以下、延伸温度が前記基材のガラス転移温度以上、結晶化温度以下で延伸することが好ましい。ガラス転移温度未満、又は結晶化温度を超えると延伸が困難になるからである。基材としてポリエチレンテレフタレート又は非晶性ポリエステルを用いた場合、空中延伸の基材のＴＤ方向の中心の温度は、７０〜１５０℃の範囲内であることがより好ましい。

ＭＤ方向の延伸は、下流側の搬送ローラーが上流側の搬送ローラーよりも速い周速度で回転し、積層体のウェブを搬送している時、上流側の搬送ローラーからウェブが離れた点から、下流側の搬送ローラーに接するまでの間になされる。

ＴＤ方向の中心部の温度を制御する手段としては、例えば、延伸装置の設けられているオーブンの温度を調整すること等が挙げられる。また、ＴＤ方向の端部の基材の温度を中心部より高くする手段としては、例えば、赤外線照射、電熱ヒーター、マイクロ波照射、熱風、加熱ローラーの接触等が挙げられる。熱風を吹き付ける場合には親水性高分子層の乾燥ムラが生じないように、塗布面と反対側の面（基材面）から風を吹き付ける方法が好ましい。

なお、延伸倍率は、延伸前後の延伸方向でのフィルムの長さの比の値Ｗ／Ｗ０（Ｗは延伸後、Ｗ０は延伸前の長さを表す）をいう。

［（３）染色工程］
次に、図１に示した染色工程３によって、親水性高分子が配向された親水性高分子層に二色性物質を吸着させた着色積層体を形成する。図１において、染色液３１が満たされた染色浴３２を備えた染色装置において、ローラー３３〜３６により延伸積層体を染色液３１に浸漬させながら搬送することによって、二色性物質が配向して吸着した着色積層体を得られる。

染色工程３を通過した着色積層体は、配向していない二色性物質を除去するための洗浄装置４１及び乾燥装置４２を備えた洗浄乾燥工程４を経て形成した光学フィルム積層体はロール７に巻き取られる。

染色処理は、前記延伸積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させて、二色性物質を配向させる。前記染色工程は、前記延伸工程の前、同時又は後に施すことができるが、親水性高分子層に吸着させた二色性物質を良好に配向させる点から、前記染色工程は、前記積層体に延伸工程を施した後に行うのが好ましい。

本発明の光学フィルム積層体の製造方法では、前記延伸工程及び染色工程に加えて、架橋工程を施すことができる。前記架橋工程で行われる架橋処理は、例えば、架橋剤を含む溶液（架橋溶液）中に前記延伸積層体又は染色された前記延伸積層体を浸漬することにより行うことができる。また、架橋溶液中で延伸することにより二色性物質を更に高度に配向させることができる。

［（４）貼合工程／（５）剥離工程］
前記（１）〜（３）の工程に加えて、更に、（４）前記親水性高分子層の面に、接着剤を介し第２の光学フィルムを貼合する貼合工程及び（５）前記基材を剥離する剥離工程を有することにより、前記親水性高分子層と同時に空中延伸された基材とは異なる光学フィルム上に前記親水性高分子層が積層された、多種多様な光学フィルム積層体が得られる。

基材に製膜された親水性高分子層を含む光学フィルム積層体は、（４）貼合工程／（５）剥離工程において、以下のパターン１ように接着剤を塗布することにより、（４）貼合工程と（５）剥離処理とを同時に行うことができる。また、パターン２のように、粘着剤シートを用いて、親水性高分子層に粘着剤を転写して、（４）貼合工程／（５）剥離工程を行うことができる。

製造される親水性高分子層の厚さは、延伸による薄膜化によって通常１０μｍ以下にすぎないため、親水性高分子層を単層体として扱うことは難しい。したがって、親水性高分子層は、基材に製膜することによって光学フィルム積層体として扱うか、又は、第２の光学フィルムに接着剤を介して貼合／剥離することによって、別の光学機能フィルム積層体として扱うことができる。（４）及び（５）の工程による二つのパターンを下記に示す。

（パターン１）
上記（４）貼合工程／（５）剥離工程においては、連続ウェブの光学フィルム積層体に含まれる親水性高分子層と第２の光学機能フィルムとのいずれかに接着剤を塗布し、貼合しながら巻き取り、その巻き取り工程において、親水性高分子層を第２の光学フィルムに転写しながら基材を剥離することによって、親水性高分子層と第２の光学フィルムが積層された別の光学機能フィルム積層体が形成される。

（パターン２）
（４）貼合工程では、光学フィルム積層体の親水性高分子層の上に、セパレーター上に粘着剤層が積層された粘着剤シートを貼合し、粘着剤層を介してセパレーターを積層する。次に、セパレーターを剥離し、露出した粘着剤層に第２の光学フィルムを貼合する。（５）剥離工程で、基材を剥離することにより、親水性高分子層と第２の光学フィルムが積層された別の光学フィルム積層体が形成される。

前記第２の光学フィルムとしては、例えば、液晶表示装置用視野角拡大フィルム、液晶表示装置の視野角の変化による色相変動を防止するための逆波長分散フィルム、有機ＥＬ表示装置の外光の反射を防止してコントラストを向上するためのλ／４位相差フィルム等の光学フィルムが挙げられる。

（親水性高分子層）
本発明の光学フィルム積層体が有する親水性高分子層は、基材上に形成した親水性高分子を含有する層を１軸方向に延伸して、該親水性高分子を配向させ、二色性物質を吸着させた層である。好ましくは、前記親水性高分子層は薄型偏光膜である。

（ポリビニルアルコール系樹脂）
前記親水性高分子層の形成に用いる好ましい親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール及びその誘導体が挙げられる。ポリビニルアルコールの誘導体としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等が挙げられるほか、エチレン、プロピレン等のオレフィン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸そのアルキルエステル、アクリルアミド等で変性したものが挙げられる。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜１００００の範囲内程度が好ましく、３００〜３０００の範囲内がより好ましい。

ケン化度は８０〜１００モル％の範囲内程度のものが一般に用いられる。上記のほか、親水性高分子としては、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化物、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等が挙げられる。前記親水性高分子としては、ポリビニルアルコール系樹脂のなかでも、ポリビニルアルコールを用いるのが好ましい。

前記ポリビニルアルコール系樹脂中には、可塑剤、界面活性剤等の添加剤を含有することもできる。可塑剤としては、ポリオール及びその縮合物等が挙げられ、例えばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。可塑剤等の使用量は、特に制限されないがポリビニルアルコール系樹脂中２０質量％以下とするのが好適である。

（基材）
前記基材を構成する材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性などに優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロースエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられる。

前記基材を構成する材料としては、吸水性のある基材の方が、親水性高分子層との界面で密着性が高いことから、ポリエステル、アクリル樹脂又はセルロースエステルが好ましく、特に延伸が容易である点から、非晶性ポリエステルが好ましい。

前記非晶性ポリエステルは、イソフタル酸を共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレート、シクロヘキサンジメタノールを共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレート又は他の共重合ポリエチレンテレフタレートを含む非晶性ポリエチレンテレフタレートを含むことができる。また、前記非晶性ポリエステルは、偏光板において親水性高分子層の一面を保護する光学機能フィルムとすることができるように、透明樹脂であることが好ましい。

セルロースエステルは、セルロースと脂肪酸のエステルである。このようセルロースエステル系樹脂の具体例としでは、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネート等が挙げられる。これらのなかでも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルローストリアセテートは多くの製品が市販されており、入手容易性やコストの点でも有利である。セルローストリアセテートの市販品の例としては、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＦＲ−３、ＫＣ４ＦＲ−４、ＫＣ４ＨＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（以上コニカミノルタ（株）製）等が挙げられる。

セルロースエステルフィルムのガラス転移温度は１５０〜１７０℃の範囲内が好ましく、結晶化温度は１８０〜２００℃の範囲内が好ましい。

ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。環状ポリオレフィン樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。環状オレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平１−２４０５１７号公報、特開平３−１４８８２号公報、特開平３−１２２１３７号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。具体例としては、環状オレフィンの開環（共）重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等のα−オレフィンとその共重合体（代表的にはランダム共重合体）、及び、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びに、それらの水素化物などが挙げられる。環状オレフィンの具体例としては、ノルボルネン系モノマーが挙げられる。

環状ポリオレフィン樹脂としては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン株式会社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ株式会社製の商品名「アートン」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学株式会社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。Ｔｇが１１５℃以上であることにより、偏光板の耐久性に優れたものとなりうる。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定きれないが、成形性当の観点から、好ましくは１７０℃以下である。

（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）が挙げられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキルが挙げられる。より好ましくはメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００質量％、好ましくは７０〜１００質量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂の具体例として、例えば、三菱レイヨン株式会社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、特開２００４−７０２９６号公報に記載の分子内に環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル樹脂系が挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いることもできる。ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載のものが挙げられる。

また、（メタ）アクリル系樹脂としては、不飽和カルボン酸アルキルエステルの構造単位及びグルタル酸無水物の構造単位を有するアクリル樹脂を用いることができる。前記アクリル樹脂としては、特開２００４−７０２９０号公報、特開２００４−７０２９６号公報、特開２００４−１６３９２４号公報、特開２００４−２９２８１２号公報、特開２００５−３１４５３４号公報、特開２００６−１３１８９８号公報、特開２００６−２０６８８１号公報、特開２００６−２６５５３２号公報、特開２００６−２８３０１３号公報、特開２００６−２９９００５号公報、特開２００６−３３５９０２号公報などに記載のものが挙げられる。

また、（メタ）アクリル系樹脂としては、グルタルイミド単位、（メタ）アクリル酸エステル単位、及び芳香族ビニル単位を有する熱可塑性樹脂を用いることができる。当該熱可塑性樹脂としては、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報などに記載のものが挙げられる。

基材には、以下に説明する、糖エステル化合物、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子及びリターデーション制御剤の少なくとも１つを添加することが好ましい。また、これらの添加剤を含有する基材は表面保護フィルムや、位相差フィルムとしても用いることができる。

基材中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００質量％の範囲内、より好ましくは５０〜９９質量％の範囲内、さらに好ましくは６０〜９８質量％の範囲内、特に好ましくは７０〜９７質量％の範囲内である。

〈糖エステル化合物〉
基材を構成する材料としてセルロースエステルを用いる場合、基材にセルロースエステル以外の糖エステル化合物を含有させることが好ましい。糖エステル化合物は、糖に含まれるヒドロキシ基とモノカルボン酸とをエステル化反応させて得られる化合物である。

糖エステル化合物を構成する糖は、フラノース構造とピラノース構造の少なくとも一方が、１〜１２個の範囲内で結合した化合物であることが好ましい。

糖エステル化合物を構成する糖の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース及びアラビノースなどの単糖；ラクトース、スクロース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、ゲンチオビオースなどの二糖；セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストース、ゲンチオトリオース、キシロトリオースなどの三糖；ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、ゲンチオテトラオース、ガラクトシルスクロースなどの四糖以上セルロース以外の多糖などが含まれる。糖エステル化合物を構成する糖の例には、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖などのオリゴ糖も含まれる。これらのオリゴ糖は、澱粉やショ糖に、アミラーゼ等の酵素を作用させて製造される。

なかでも、ピラノース構造とフラノース構造の両方を有する糖が好ましく、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどがより好ましく、スクロースがさらに好ましい。

糖エステル化合物を構成するモノカルボン酸は、特に制限されず、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸でありうる。フィルムのリターデーションを発現させ易くするためには、芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類でもよいし、２種以上の混合物であってもよい。例えば、脂肪族モノカルボン酸と芳香族モノカルボン酸とを組み合わせてもよい。

脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。

脂環族モノカルボン酸の例には、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸が含まれる。

芳香族モノカルボン酸は、一つ以上のベンゼン環を有するモノカルボン酸であって、ベンゼン環はアルキル基又はアルコキシ基などの置換基をさらに有していてもよい。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸などが挙げられ、特に安息香酸が好ましい。

ピラノース構造又はフラノース構造を有する構成糖に含まれるヒドロキシ基の７０％以上が、モノカルボン酸でエステル化されていることが好ましい。

糖エステル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されるピラノース構造又はフラノース構造の少なくとも１種を１〜１２個の範囲で縮合して得られる糖を、モノカルボン酸でエステル化して得られる化合物であることが好ましい。

一般式（Ａ）において、Ｒ_１１〜Ｒ_１５及びＲ_２１〜Ｒ_２５は、炭素数２〜２２のアシル基又は水素原子を示す。ｍ、ｎはそれぞれ０〜１２の整数を示し、ｍ＋ｎは１〜１２の整数を示す。

炭素数２〜２２のアシル基は、ベンゾイル基であることが好ましい。ベンゾイル基は、さらに置換基を有していてもよく、そのような置換基の例には、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基などが含まれる。

糖エステル化合物の含有量は、基材（光学フィルム）の湿度の変動による位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化させるために、セルロースエステルに対して１〜３０質量％の範囲内であることが好ましく、５〜３０質量％の範囲内であることが特に好ましい。

＜可塑剤＞
前記基材は、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。

多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。

多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。

多価カルボン酸は次の一般式（ａ）で表される。

一般式（ａ） Ｒｂ（ＣＯＯＨ）_ｍ（ＯＨ）_ｎ
一般式（ａ）において、Ｒｂは（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性ヒドロキシ基又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。

好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。

多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができる。

多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性又はフェノール性のヒドロキシ基をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。

多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。

多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は１種類でも良いし、２種以上の混合であっても良い。

本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによってリターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。

ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（ｂ）で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。

一般式（ｂ） Ｂ−（Ｇ−Ａ）_ｎ−Ｇ−Ｂ
一般式（ｂ）において、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基又は炭素数６〜１２のアリールグリコール残基又は炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。

一般式（ｂ）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。

本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種又は２種以上の混合物として使用することができる。

本発明に用いることのできるポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。

また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種又は２種以上の混合物として使用できる。

芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種又は２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸等がある。

本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ価（水酸基価）は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ価（水酸基価）は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。

（メタ）アクリル系可塑剤としては、（メタ）アクリル系重合体が好ましく、（メタ）アクリル系重合体としては、少なくとも分子内に芳香環とヒドロキシ基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さずヒドロキシ基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量３０００〜３００００の範囲内の重合体Ｘ、及び芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００〜３０００の範囲内の重合体Ｙであることがさらに好ましい。

前記重合体Ｘは下記一般式（Ｘ）で示され、前記重合体Ｙは下記一般式（Ｙ）で示されることがさらに好ましい。

一般式（Ｘ）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ_２Ｒｄ）］_ｍ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ_２Ｒｆ−ＯＨ）−］_ｎ−［Ｘｃ］_ｐ−
一般式（Ｙ）
Ｒｙ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ_２Ｒｈ−ＯＨ）−］_ｋ−［Ｙｂ］_ｑ−
式中、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは、Ｈ又はメチル基を表し、Ｒｄは炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表し、Ｒｆ、Ｒｈは−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−又はＣ_３Ｈ_６−を表し、ＲｙはＯＨ、Ｈ又は炭素数３以内のアルキル基を表し、Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表し、Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表し、ｍ、ｎ、ｋ、ｐ及びｑは、モル組成比を表す（ただし、ｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００、ｋ＋ｑ＝１００である）。

これらの可塑剤の添加量としてはセルロースエステル等の基材樹脂１００質量％に対して、０．５〜３０質量％の範囲内が好ましく、５〜２０質量％の範囲内が特に好ましい。

＜紫外線吸収剤＞
本発明に係る基材（光学フィルム）は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。

本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。

このほか、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。

本発明に係る基材（光学フィルム）は紫外線吸収剤を２種以上を含有することが好ましい。

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、基材（光学フィルム）の乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、基材（光学フィルム）の全質量に対して０．５〜１０質量％の範囲内が好ましく、０．６〜４質量％の範囲内が更に好ましい。

＜酸化防止剤＞
本発明に係る基材は、酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。

酸化防止剤は、例えば、基材中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により基材が分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、基材中に含有させるのが好ましい。

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。

特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

これらの化合物の添加量は、セルロースエステル等の基材樹脂１００質量％に対して、１質量ｐｐｍ〜１．０質量％の範囲内が好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲内が更に好ましい。

＜微粒子＞
本発明に係る基材は、微粒子を含有することが好ましい。

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。また、有機化合物の微粒子も好ましく使用することができる。有機化合物の例としてはポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物も挙げられる。あるいは又懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合物、又は無機化合物を用いることができる。

微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。

微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍが好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍである。

これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。

これらの微粒子の含有量は、基材の全質量１００質量％に対して０．０１〜１質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％の範囲内が好ましい。

二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

基材がセルロースエステル含有溶液を流延して製膜される場合、各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子はろ過材への負荷を減らすために、一部又は全量をインライン添加することが好ましい。

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。

＜リターデーション制御剤＞
液晶表示装置等の表示装置の表示品質の向上のために、基材（光学フィルム）中にリターデーション制御剤を添加したり、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化したりすることにより、基材（光学フィルム）に対して光学補償能を付与することができる。リターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物をリターデーション制御剤として使用することもできる。あるいは、特開２００６−２０２５号公報に記載の棒状化合物が挙げられる。また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。中でも、特開２００６−２０２６号公報に記載の１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。

これらのリターデーション制御剤の添加量は、使用する基材樹脂１００質量％に対して、０．５〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、１〜１０質量％の範囲内であることがより好ましい。

前記基材の厚さは５〜４５μｍの範囲内であることが好ましい。５μｍ以上であれば、延伸工程における延伸の均一性に優れ、４５μｍ以下であれば、延伸時の温度勾配が基材の厚さ方向で均一になりやすい。また、４５μｍ以下であれば、前記基材を偏光板の保護フィルムとしてそのまま用いた場合に、偏光板の薄膜化が達成できる。また、前記基材は、幅が１０００〜３０００ｍｍのロール状のフィルムであることが好ましい。

（基材の吸水率）
本発明に係る基材の積層工程以前の吸水率は、０．３〜４．３％の範囲内であることが好ましい。前記吸水率が０．３％以上であると、親水性高分子層との界面で密着性が高くなるため、積層体を延伸したときの親水性高分子層の延伸の均一性に優れ、延いてはさらに偏光度ムラが生じにくい。また、前記吸水率が４．３％以下であると、（１）積層工程、（２）延伸工程及び（３）染色工程に加えて、更に（４）貼合工程及び（５）剥離工程を実施するときに、剥離面が均一であり、剥離残りが生じない。

前記基材の内、ポリエステルの吸水率は０．４％程度であり、セルロースエステルの１つであるセルローストリアセテートの吸水率は４．４％程度である。上記基材の吸水率は、各種添加剤が添加されることにより変化する。例えば市販のセルロースアセテートフィルムのように可塑剤等が添加されていると吸水率は４．４％より低くなる。

基材に、親水性高分子の水溶液を塗布し、乾燥して、延伸するときには、親水性高分子層は完全には乾燥しておらず、このように大きな吸水率を有する基材は親水性高分子層から水分を吸収して、延伸工程においても水分を保持している。

このように、吸水率が大きい基材は、親水性高分子層が積層された部分の弾性率が低下し、親水性高分子層の積層されていないＴＤ方向の端部との弾性率の違いが大きい。このような積層体を均一な温度で延伸する場合、基材に弾性率の異なる部分を有するために、延伸が不均一になり、光学フィルム積層体に偏光度ムラが生じると推定される。本発明の光学フィルム積層体の製造方法を用いれば、吸水率が大きい基材を用いた場合でも、偏光度ムラを生じることがない。

なお、吸水率は、ＪＩＳ Ｋ７２０９のＡ法に準じ、以下の方法で求める。

積層前の基材のフィルムを縦５０ｍｍ、横５０ｍｍの正方形に切り出して、試験片を作製する。

２３℃の水に浸せき後，試験片を、５０．０±２．０℃に調節したオーブンで２４±１時間乾燥する。次に、デシケータに入れて室温まで冷却した後，０．１ｍｇまで量る。この作業を試験片の質量が、±０．１ｍｇ以内で一定（質量ｗ_１）になるまで繰り返す。

次に蒸留水を入れた容器に試験片を入れる。この蒸留水は、２３．０℃±１．０℃に調節する。２４±１時間浸せき後，試験片を水から取り出し、表面の水分を清浄で乾いた布又はフィルター紙で全てふき取る。水から取り出して１分以内に、再度試験片を０．１ｍｇまで量る（質量ｗ_２）。

前記吸水率は、下記式により求められる。
吸水率Ｃ＝（ｗ_２−ｗ_１）／ｗ_１×１００（％）
（第２の光学フィルム）
前記第２の光学フィルムは、上記（基材）の項で示した材料と同様の材料を用いることができる。前記第２の光学フィルムとしては、透明保護フィルムでもよいが、様々な位相差フィルムを用いることにより、視野角特性の向上、色ずれ防止等の高機能を付加させた偏光板を製造することができる。前記第２の光学フィルムは、前記親水性高分子膜を延伸するときの影響を受けないため、様々な高機能を付与できる。更に、第２の光学フィルムの親水性高分子層の面に、第３の光学フィルムを接着することにより、偏光膜が第２の光学フィルムと第３の光学フィルムにより挟持された偏光版を得ることができる。

（二色性物質）
前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層に、染色工程で前記積層体の親水性高分子層に、二色性物質を吸着させることにより、基材上に薄型偏光膜が積層された光学フィルム積層体を作製することができる。

二色性物質としては、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。有機染料としては、例えば、レッドＢＲ、レッドＬＲ、レッドＲ、ピンクＬＢ、ルビンＢＬ、ボルドーＧＳ、スカイブルーＬＧ、レモンエロー、ブルーＢＲ、ブルー２Ｒ、ネイビーＲＹ、グリーンＬＧ、バイオレットＬＢ、バイオレットＢ、ブラックＨ、ブラックＢ、ブラックＧＳＰ、エロー３Ｇ、エローＲ、オレンジＬＲ、オレンジ３Ｒ、スカーレットＧＬ、スカーレットＫＧＬ、コンゴーレッド、ブリリアントバイオレットＢＫ、スプラブルーＧ、スプラブルーＧＬ、スプラオレンジＧＬ、ダイレクトスカイブルー、ダイレクトファーストオレンジＳ、ファーストブラック、等が使用できる。これらの二色性物質は、１種類でも良いし、２種類以上を併用して用いても良い。

染色処理は、例えば、前記二色性物質を含有する溶液（染色溶液）に、前記積層体を浸漬することにより行うことができる。前記染色溶液としては、前記二色性物質を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、水が一般的に使用されるが、水と相溶性のある有機溶媒がさらに添加されても良い。二色性物質の濃度としては、０．０１〜１０質量％の範囲内にあることが好ましく、０．０２〜７質量％の範囲内にあることがより好ましく、０．０２５〜５質量％の範囲内であることが特に好ましい。

また、前記二色性物質としてヨウ素を使用する場合、染色効率をより一層向上できることから、さらにヨウ化物を添加することが好ましい。このヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらヨウ化物の添加割合は、前記染色溶液において、０．０１〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、０．１〜５質量％の範囲内であることがより好ましい。これらのなかでも、ヨウ化カリウムを添加することが好ましく、ヨウ素とヨウ化カリウムの割合（質量比）は、１：５〜１：１００の範囲内にあることが好ましく、１：６〜１：８０の範囲内にあることがより好ましく、１：７〜１：７０の範囲内にあることが特に好ましい。

前記染色溶液への積層体の浸漬時間は、特に限定されないが、通常は、１５秒〜５分間の範囲内であることが好ましく、１分〜３分間の範囲内であることがより好ましい。また、染色溶液の温度は、１０〜６０℃の範囲内にあることが好ましく、２０〜４０℃の範囲内にあることがより好ましい。

また、染色処理としては、前述のような染色溶液に浸漬する方法以外に、例えば、二色性物質を含む溶液を前記積層体に塗布又は噴霧する方法であってもよい。

（架橋溶液）
架橋剤としては、従来公知の物質が使用できる。例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物や、グリオキザール、グルタルアルデヒド等が挙げられる。これらは１種類でも良いし、２種類以上を併用しても良い。

前記架橋溶液としては、前記架橋剤を溶媒に溶解した溶液が使用できる。前記溶媒としては、例えば水が使用できるが、さらに、水と相溶性のある有機溶媒を含んでも良い。前記溶液における架橋剤の濃度は、これに限定されるものではないが、１〜１０質量％の範囲内にあることが好ましく、２〜６質量％の範囲内であることがより好ましい。

前記架橋溶液中には、偏光子の面内の均一な特性が得られる点から、ヨウ化物を添加してもよい。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられ、この含有量は０．０５〜１５質量％の範囲内、より好ましくは０．５〜８質量％の範囲内である。

前記架橋溶液への前記積層体の浸漬時間は、通常、１５秒〜５分間の範囲内であることが好ましく、３０秒〜３分間の範囲内であることがより好ましい。また、架橋溶液の温度は、２０〜７０℃の範囲内にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲内にあることがより好ましい。

（偏光板）
前記光学フィルム積層体の二色性物質が吸着した親水性高分子層は、薄型偏光膜として機能する。また、前記光学フィルム積層体の基材は保護フィルムとして機能する。したがって、光学フィルム積層体は、薄型偏光膜と保護フィルムが積層された偏光板として用いることができる。

前記偏光板（延伸積層体）は、親水性高分子層（偏光膜）の片側に、基材を有する。基材は、偏光板の透明保護フィルムとして、そのまま用いることができる。一方、親水性高分子層における基材のない側には、透明保護フィルムを貼り合わせることができる。

透明保護フィルムとしては、前記基材として例示したものと同様の材料を用いることができうる。透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍの範囲内程度である。特に１〜３００μｍの範囲内が好ましく、５〜２００μｍの範囲内がより好ましい。透明保護フィルムは、５〜１５０μｍの範囲内の場合に特に好適である。

なお、親水性高分子層（偏光子）の両側に透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルム（基材を含めて）を用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを用いてもよい。

（液晶表示装置への適用）
前記光学フィルム積層体は、液晶表示装置等の各種装置の製造などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の製造は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は、一般に、液晶セルと偏光板又は光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むことなどにより形成されるが、本発明の光学フィルム積層体を偏光板として液晶表示装置に用いることにより、視野角特性の向上、色ずれ防止等の画質向上が達成される。本発明の光学フィルム積層体は、様々な液晶セルについて効果を発揮し、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、などの任意なタイプのものと組み合わせて用いうる。

（有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置ともいう。）への適用）
また、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。有機ＥＬ表示装置は、非発光時に、金属電極で外光が反射され画像のコントラストが低下するのを防止するため、円偏光板が用いられる。前記第２の光学フィルムとして、λ／４位相差フィルムを用いることにより、前記第２の光学フィルム積層体は、円偏光板として機能し、有機ＥＬ表示装置に用いることにより、コントラストの向上効果を発揮することができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

［実施例１］
（光学フィルム積層体１の作製）
非晶性ポリエステル基材として、イソフタル酸を６ｍｏｌ％共重合させた重合度１５００のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（以下、「非晶性ＰＥＴ」という）の連続ウェブの１４０μｍ厚、１４９０ｍｍ幅の基材を作製した。前記非晶性ＰＥＴの吸水率は、前記（基材の吸水率）の項に記載した方法で測定した結果、０．４％であり、ガラス転移温度は７５℃である。

（積層工程）
親水性高分子としてポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」という）を用い、連続ウェブの非晶性ＰＥＴ基材とＰＶＡ層からなる積層体を以下のように作製した。ちなみにＰＶＡのガラス転移温度は８０℃である。

重合度１０００、ケン化度９９％のＰＶＡ粉末を水に溶解した４．５質量％の濃度のＰＶＡ水溶液を準備した。次に、前記基材に前記ＰＶＡ水溶液を１４５０ｍｍの幅で塗布し、５０〜７０℃の範囲内の温度で乾燥し、１０μｍ厚のＰＶＡ層と１４０μｍ厚の基材を有する連続ウェッブの積層体を作製した。なお、前記連続ウェッブの積層体は、ＰＶＡ層が積層されていない基材の部分を、ＴＤ方向の両側に２０ｍｍの幅で有していた。

（延伸工程）
１０μｍ厚のＰＶＡ層を含む前記積層体を、９５℃の（９５℃の空気が流れる）オーブン２０中の延伸装置に通して、延伸倍率が２倍になるようにＭＤ方向に空中延伸し、ＰＶＡ層の厚さが５μｍの延伸積層体を作製した。なお、延伸中に基材面の温度を、放射温度計で測定したところ、全面に渡って９５℃であった。

（染色工程）
前記延伸積層体を、液温３０℃のヨウ素及びヨウ化カリウムを含む染色液に、最終的に形成されるＰＶＡ層の波長５５０ｎｍの光の透過率が４０〜４４％の範囲内になるように時間を調整して、浸漬することによって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層にヨウ素を吸着させ、着色積層体を作製した。前記染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を０．３０質量％とし、ヨウ化カリウム濃度を２．１質量％とした。

（架橋工程）
前記着色積層体を、架橋工程中に、着色積層体を非晶性ＰＥＴ基材と一体に、さらにＭＤ方向に延伸し、ＰＶＡ層の厚さが３μｍとなり、基材の厚さが４２μｍとなった。これを洗浄乾燥して、ＰＶＡ層の厚さが３μｍ、基材の厚さが４２μｍの光学フィルム積層体１を作製した。具体的には、前記架橋工程は、着色積層体を４質量％のホウ酸と５質量％のヨウ化カリウムを含む液温６５℃のホウ酸水溶液に設定された処理装置に配備された延伸装置にかけ、３０〜９０秒の範囲内の時間をかけて延伸工程前から架橋工程後までの延伸倍率が３．３倍になるようにＭＤ方向に延伸する工程である。

（光学フィルム積層体２〜５の作製）
前記光学フィルム積層体１の作製において、積層体をオーブン中の延伸装置に通すことに加えて、オーブン２０中で、積層体のＰＶＡ層が積層されていない両端の部分にヒーター２５及び２６の風を当て、ＰＶＡ層が積層されていない両側端部の基材の温度を表１の温度になるように調整し、基材の中央の温度が９５℃になるように、必要に応じてオーブンの温度を調整し、延伸したほかは同様にして、光学フィルム積層体２〜５を作製した。

なお、延伸中の基材面の温度は、放射温度計で測定した。用いた基材の吸水率は０．４％であり、光学フィルム積層体２〜５のＰＶＡ層の厚さは３μｍであり、基材の厚さは４２μｍであった。

（光学フィルム積層体６の作製）
前記光学フィルム積層体２の作製において、基材として、厚さ１４０μｍ、幅１４９０ｍｍのセルローストリアセテートフィルム１（重量平均分子量２４万のセルローストリアセテートからなるフィルム）の連続ウェブを用い、オーブン２０及びヒーター２５及び２６の温度を調節して、両側端部の基材の温度及び基材の中心の温度を表１のよう調整した以外は同様にして、３μｍ厚のＰＶＡ層と４２μｍ厚の基材を含む光学フィルム積層体６を作製した。

なお、前記セルローストリアセテートフィルム１の吸水率は、前記（基材の吸水率）の項に記載した方法で測定した結果、４．４％であった。また、前記セルローストリアセテートフィルム１のガラス転移温度は１６０℃であり、結晶化温度は１９５℃であった。

（光学フィルム積層体７〜１３の作製）
光学フィルム積層体１の作製において、光学フィルム積層体のＰＶＡ層（親水性高分子層）が表１の厚さになるように、ＰＶＡ水溶液を塗布し、積層体をオーブン２０中の延伸装置に通すことに加えて、オーブン中で、積層体のＰＶＡ層が積層されていない両端の部分にヒーター２５及び２６の風を当て、ＰＶＡ層が積層されていない両側端部の基材の温度と、基材の中心の温度が、表１に示した温度になるように、オーブンの温度とヒーターの温度を調整し、延伸したほかは同様にして、光学フィルム積層体７〜１３を作製した。なお、延伸中の基材面の温度は、放射温度計で測定した。光学フィルム積層体７〜１３のＰＶＡ層の厚さは３μｍであり、基材の厚さは４２μｍであった。

（芳香族末端エステル系可塑剤１の合成）
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０^４Ｐａ〜最終的に４×１０^２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤１を得た。

粘度 ： ４３４００（ｍＰａ・ｓ、２５℃）
酸価 ： ０．２
（光学フィルム積層体１４の作製）
前記光学フィルム積層体６の作製において、基材のセルローストリアセテートフィルム１に代えて、重量平均分子量２４万のセルローストリアセテートに上記芳香族末端エステル系可塑剤１を５．０質量％添加して作製したセルローストリアセテートフィルム２を用いたほかは同様にして、３μｍ厚のＰＶＡ層と４２μｍ厚の基材を含む光学フィルム積層体１４を作製した。

前記セルローストリアセテートフィルム２の仕様 厚さ：１４０μｍ、幅：１４９０ｍｍ、ガラス転移点：１５０℃、結晶化温度１９０℃、吸水率（前記（基材の吸水率）の項に記載した方法で測定）：４．３％。

（光学フィルム積層体１５の作製）
前記光学フィルム積層体２の作製において、基材として、下記仕様のポリカーボネートフィルムを用い、基材の中心の温度と基材の端部の温度を表１に記載のように調整したほかは同様にして、３μｍ厚のＰＶＡ層と４２μｍ厚の基材を含む光学フィルム積層体１５を作製した。

前記ポリカーボネートフィルムの仕様 厚さ：１４０μｍ、幅：１４９０ｍｍ、重量平均分子量：１０万、ガラス転移点：１５０℃、吸水率（前記（基材の吸水率）の項に記載した方法で測定）：０．２％。

（光学フィルム積層体１６の作製）
前記光学フィルム積層体２の作製において、基材として、デルペット８０Ｎ（旭化成ケミカルズ社製；アクリル樹脂、ガラス転移点１０７℃）を用い下記仕様で作製したフィルムを用い、基材の中心の温度と基材の端部の温度を表１に記載のように調整したほかは同様にして、３μｍ厚のＰＶＡ層と４２μｍ厚の基材を含む光学フィルム積層体１６を作製した。

前記フィルムの仕様 厚さ：１４０μｍ、幅：１４９０ｍｍ、吸水率（前記（基材の吸水率）の項に記載した方法で測定）：０．３％。

（光学フィルム積層体１７〜２０の作製）
光学フィルム積層体５の作製において、光学フィルム積層体における基材の厚さが、表１に示したように４μｍ、５μｍ、４５μｍ及び４６μｍとなるように、積層工程前の基材の厚さを調整したほかは、同様にして光学フィルム積層体１７〜２０を作製した。

（偏光度ムラの評価）
下記の条件で、光学フィルム積層体のＴＤ方向の中心の偏光度を測定し、偏光度Ａとした。また、光学フィルム積層体のＴＤ方向に、ＰＶＡ層の端から２５ｍｍ内側の偏光度を測定し、偏光度Ｂとした。Ａ／Ｂの比の値を求めた。偏光度ムラは、前記比の値が、１に近いほど良く、１から乖離するほど悪い。

偏光度計：ＵＶ−２２００（島津製作所社製）
測定環境：温度２３℃、相対湿度５５％
（偏光度ムラの評価基準）
○：０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
△：０．９９８≦Ａ／Ｂ＜０．９９９又は１．００１＜Ａ／Ｂ≦１．００２
×：Ａ／Ｂ＜０．９９８又は１．００２＜Ａ／Ｂ。

なお、セルローストリアセテートは、表中セルロースエステルと表記した。

表１より、空中延伸時に、前記基材のＴＤ方向の端部の温度が、前記基材のＴＤ方向の中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高くすることにより、偏光度ムラが改善されることが分かる。

［実施例２］
（光学フィルム積層体１０１〜１２０の作製）
ウェブ状の前記光学フィルム積層体１〜２０のＰＶＡ層の表面に接着剤を塗布しながら、２４μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを貼合せたのち、非晶性ＰＥＴ基材、セルロースエステル基材、ポリカーボネート基材又はアクリル樹脂基材を剥離し、光学フィルム積層体１〜２０に対応する光学フィルム積層体１０１〜１２０（ウェブ状のＰＶＡ層／ＴＡＣ積層体）を得た。

（偏光度ムラ及び外観の評価）
前記光学フィルム積層体１０１〜１２０について、実施例１と同様に、偏光度ムラの評価及び外観の評価を行った。結果を表２に示す。

［実施例３］
（偏光板１０１〜１２０の作製）
ウェブ状の前記光学フィルム積層体１０１〜１２０のＰＶＡ層の表面（前記基材を剥離した面）に接着剤を塗布しながら、２４μｍ厚のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを貼合し、ＴＡＣ／ＰＶＡ層／ＴＡＣの積層体である対応するウェブ状の偏光板１０１〜１２０を各々作製した。

（液晶表示装置１０１〜１２０の作製）
上記により作製したウェブ状の偏光板１０１〜１２０を、ＰＶＡ層の端部から１０ｍｍ内側でスリットして、端部を除き、スリットされたウェブ状の偏光板を得た。前記スリットされたウェブ状の偏光板の端部を一辺として含む長方形となるように、各々パナソニック（株）製４２型液晶テレビ（ビエラＴＨ−Ｌ４２Ｇ３）に用いられている偏光板の寸法に断裁し、各々４２型サイズの偏光板１０１〜１２０を得た。なお、長方形に裁断する方向は、ビエラＴＨ−Ｌ４２Ｇ３にあらかじめ貼合されていた両面の偏光板同一の方向に吸収軸が向くように決定した。

上記作製した４２型サイズの偏光板１０１〜１２０を使用して、下記の方法により液晶表示装置１０１〜１２０を作製した。

パナソニック（株）製４２型液晶テレビ（ビエラＴＨ−Ｌ４２Ｇ３）のあらかじめ貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した４２型サイズの偏光板１０１〜１２０をそれぞれ液晶セルのガラス面側に、かつ、あらかじめ貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように液晶セルの両面に貼合し、対応する液晶表示装置１０１〜１２０を各々作製した。

以上のようにして作製した液晶表示装置１０１〜１２０を用いてコントラストムラの評価を行った。

（コントラストムラの評価）
上記液晶表示装置をバックライト点灯２時間後の黒表示でのコントラストムラ（強弱）と、画像表示した際の影響を目視で評価した。なお、コントラストムラの評価結果については、△以上であれば問題ない。下記の評価基準で判定し、結果を表２に示した。

○：コントラストムラが全く見えない
△：画像表示は気にならないが、弱いコントラストムラが見える
×：画像表示でも気になり、コントラストムラが強く見える
結果を表２に示す。

表２より、空中延伸時に、前記基材のＴＤ方向の端部の温度が、前記基材のＴＤ方向の中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高くすることにより、親水性高分子層と第２の光学フィルムが積層された光学フィルム積層体においても、偏光度ムラが改善されることが分かる。また、上記光学フィルム積層体を用いた液晶表示装置は、コントラストムラが改善されることが分かる。

本発明の製造方法により製造された光学フィルム積層体は、幅手方向に偏光度ムラの無い薄型偏光膜であり、薄型の偏光板及び液晶表示装置に好ましく用いることができる。

１ 積層工程
２ 延伸工程
３ 染色工程
４ 洗浄乾燥工程
６ ロール
７ ロール
１１ 塗布機
１２ 乾燥機
２０ オーブン
２５ ヒーター
２６ ヒーター
３１ 染色液
３２ 染色浴
４１ 洗浄装置
４２ 乾燥機

Claims (8)

1. （１）熱可塑性樹脂基材上に、親水性高分子層を積層し、積層体を形成する積層工程、（２）前記積層体を、空中延伸して、配向させた親水性高分子層を含む延伸積層体を形成する延伸工程、及び、（３）前記親水性高分子層に、二色性物質を吸着させる染色工程、を有する光学フィルム積層体の製造方法であって、前記空中延伸時の、前記基材のＴＤ方向における親水性高分子層が積層されていない端部の温度が、前記基材のＴＤ方向における中心の温度より１〜４０℃の範囲内で高いことを特徴とする光学フィルム積層体の製造方法。
2. 前記光学フィルム積層体における前記親水性高分子層の厚さが、２〜１０μｍの範囲内であり、前記光学フィルム積層体における前記基材の厚さが、５〜４５μｍの範囲内であり、かつＪＩＳ Ｋ ７２０９の（Ａ法）に準じて下記式（１）より求められる前記積層工程前の基材の吸水率が、０．３〜４．３％の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
   式（１） 吸水率＝（ｗ_２−ｗ_１）／ｗ_１×１００（％）
   （式（１）中、ｗ_１は水に浸漬する前の試験片の乾燥質量（ｍｇ）であり、ｗ_２は２３．０±１．０℃の水に２４±１時間浸漬した後の試験片の質量（ｍｇ）である。）
3. 前記親水性高分子層を形成する親水性高分子が、ポリビニルアルコール系樹脂であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
4. 前記親水性高分子層が、薄型偏光膜であって、該薄型偏光膜のＴＤ方向における中心の偏光度Ａと、前記薄型偏光膜のＴＤ方向における端から２５ｍｍ内側の偏光度Ｂとが、下記式（２）を満足するように調整することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
   式（２） ０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
5. 前記（１）〜（３）の工程に加えて、更に、（４）前記親水性高分子層の面に、接着剤を介し第２の光学フィルムを貼合する貼合工程及び（５）前記基材を剥離する剥離工程を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法。
6. 厚さが２〜１０μｍである親水性高分子層の偏光膜であり、かつ偏光膜のＴＤ方向における中心の偏光度Ａと、偏光膜のＴＤ方向における端から２５ｍｍ内側の偏光度Ｂとが、下記式（２）を満足することを特徴とする薄型偏光膜。
   式（２） ０．９９９≦Ａ／Ｂ≦１．００１
7. 請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法により製造された光学フィルム積層体が、具備されていることを特徴とする偏光板。
8. 請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム積層体の製造方法により製造された光学フィルム積層体が、具備されていることを特徴とする液晶表示装置。

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