TWI457616B

TWI457616B - The manufacturing method of laminated film

Info

Publication number: TWI457616B
Application number: TW099102114A
Authority: TW
Inventors: Mitsuru Suzuki; Shouji Yamamoto; Kentarou Takeda
Original assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2009-01-30
Filing date: 2010-01-26
Publication date: 2014-10-21
Also published as: JP2010197991A; TW201031951A; JP5416545B2

Description

積層膜之製造方法

本發明係關於一種積層膜之製造方法，上述積層膜係於偏光片之一主面上透過接著劑層積層偏光片保護膜，並於上述偏光片之另一主面上透過黏著劑層積層脫模膜而成者。

僅於偏光片之一表面上形成有透明保護膜(相當於偏光片保護膜)之偏光板的製造如下所示。首先，前步驟為(A)獲得偏光片之步驟。此處，對長條狀之聚乙烯醇膜實施染色、交聯及拉伸處理而獲得偏光片。

繼而為(B)製造偏光板之步驟。此處，一面於偏光片與偏光片保護膜(例如三乙醯纖維素系樹脂膜等)之間夾設水溶性接著劑，一面使該等膜於一對輥間壓著而貼合。使該貼合之積層體乾燥，製造僅於一表面上形成有偏光片保護膜之偏光板。

然後為(C)將脫模膜及表面保護膜貼合之步驟。於偏光板之偏光片面經由黏著劑而貼合脫模膜。例如，一面於偏光板與脫模膜之間夾設黏著劑，一面使該等膜於一對輥間壓著而貼合。繼而，於偏光片保護膜面經由黏著劑而貼合表面保護膜。

此處，於脫模膜與表面保護膜上，預先塗布有黏著劑，塗布於脫模膜上之黏著劑於剝離脫模膜後，被轉印至偏光片側。利用所轉印之黏著劑可貼附於液晶面板上。另外，塗布於表面保護膜上之黏著劑即便將表面保護膜剝離，亦為形成於表面保護膜上之狀態，實質上並不轉印至偏光片保護膜側。藉由以上之步驟，製造於偏光板上積層有脫模膜及表面保護膜之長條狀之片材製品，經捲繞成輥狀而提供給下一步驟。

然而，於上述製造偏光板之方法中，使偏光片與偏光片保護膜以接著劑貼合後，不積層脫模膜而使之乾燥。就保護偏光片之目的或提高操作性之觀點而言，偏光片保護膜必需具有機械強度(韌性)，即，具有與偏光片不同之彈力特性。如此，於將偏光片與偏光片保護膜以接著劑進行接著積層而乾燥之情形時，由於該彈力特性之差異，而導致偏光板(偏光片、接著劑、偏光片保護膜)彎曲。由於使長條狀之偏光板膜乾燥，故而該彎曲會於膜之寬度方向上明顯地顯現。對於此種彎曲狀態之偏光板，於下一步驟中難以貼合脫模膜等，因而期望加以改善。另外，於自偏光板原料片材中切割為規定尺寸之葉片狀態，向液晶面板上貼附之情形時，若偏光板之彎曲大，則難以貼合於液晶面板上。

此外，於貼合於液晶面板上之偏光板為不良品之情形時，進行再加工處理而自液晶面板上剝離偏光板，但此時，若自脫模膜轉印之黏著劑與偏光片之密著性弱，則液晶面板面上產生糊劑殘餘。其結果為，必需除去糊劑殘餘之黏著劑，因而期望加以改善。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2003-303727號公報

於僅於偏光片之一表面上形成有偏光片保護膜之偏光板之情形時，一般認為由於彎曲大，故而向液晶面板上之貼合精度變得非常差。

本發明係鑒於上述實際情況而完成，其目的在於提供一種積層膜之製造方法，其可抑制僅於偏光片之一主面上形成有偏光片保護膜之偏光板的彎曲，另外於再加工(rework)處理時不會產生糊劑殘餘。

為了解決上述問題，本發明者等人反覆進行銳意研究，結果完成了以下之本發明。

本發明之積層膜之製造方法的構成之特徵在於：上述積層膜係於偏光片之一主面上透過接著劑層積層偏光片保護膜而形成偏光板、並於上述偏光片之另一主面上透過黏著劑層積層脫模膜而成者，上述偏光片保護膜與上述脫模膜中之至少任意一者之透濕度於40℃、90% RH之氣體環境下為150g/m² ‧24h以上，並且上述製造方法包括於將上述偏光片、上述偏光片保護膜及上述脫模膜積層後進行乾燥之步驟。

根據該構成，由於係於將偏光片、偏光片保護膜及形成有黏著劑層之脫模膜積層後進行乾燥之構成，故而與先前相比較，乾燥後之偏光板之彎曲小。即，一般認為，藉由將偏光片之兩側以偏光片保護膜及脫模膜來構成為夾層狀，則抑制乾燥後之偏光片之收縮而抑制偏光板之彎曲。

另外，由於形成於偏光片之一主面上之偏光片保護膜、形成於偏光片之另一主面上之脫模膜中之至少任意一者之透濕度於40℃、90% RH之氣體環境下為150g/m² ‧24h以上，故而於積層後使之乾燥之情形時，水分之蒸發良好，不會產生乾燥不良。作為乾燥不良之例子，可例示：1、無法剝離脫模膜之剝離不良；2、無法將黏著劑層轉印至偏光片側之轉印不良；3、於剝離脫模膜後，透過黏著劑層而貼合於液晶面板上，為了進行再加工處理而自液晶面板上剝離偏光板時之黏著劑層自偏光片上之剝離不良等。此處之透濕度之試驗方法係依照JIS Z 0208、防濕包裝材料之透濕度試驗方法。

作為透濕度於40℃、90% RH之氣體環境下為150g/m² ‧24h以上之膜，例如可例示三乙醯纖維素系樹脂膜。於偏光片保護膜為三乙醯纖維素系樹脂膜之情形時，作為脫模膜，可使用低透濕性之膜，例如透濕度於40℃、90% RH之氣體環境下未達150g/m² ‧24h之膜。作為該等低透濕性膜，可例示降烯系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜、聚乙烯系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂膜等。

另外，於本發明中，較好的是將上述脫模膜及上述偏光片保護膜積層之前的上述偏光片之水分率為5wt%以上、40wt%以下之構成。

根據該構成，可防止偏光片之外觀不良之產生，此外，可防止偏光片之光學特性之降低、偏光片保護膜與偏光片之接著性之降低。即，於偏光片之水分率未達5wt%之情形時，容易產生被稱作條紋或龜裂之微小缺陷。於偏光片之水分率大於40wt%之情形時，藉由加熱使水分通過偏光片保護膜或脫模膜而排出時，偏光片成為蒸烤狀態，因此偏光片受到損傷而使光學特性(特別是單體透過率與偏光度)降低，或者偏光片保護膜與偏光片之接著性降低。另外，水分率係自積層脫模膜及偏光片保護膜之5秒前之位置取樣偏光片，且利用乾燥減量法而算出。

另外，本發明中有如下之構成：上述積層係於上述偏光片之一主面上積層上述偏光片保護膜後，於上述偏光片之另一主面上積層上述脫模膜。

根據該構成，由於係階段性地構成積層體，因此可於將向偏光片之貼合精度保持為良好之同時構成積層體。

另外，本發明中有如下之構成：上述積層係將上述偏光片、上述偏光片保護膜及上述脫模膜同時積層。

根據該構成，由於同時構成積層體，因此可減小生產線空間，另外，作為積層機構，只要設置一對輥即可，設備之初期投資變小。

於偏光片與黏著劑層之接著面之偏光片側較好的是預先形成塗層。該塗層係為了保護偏光片，或者為了提高與黏著劑之密著性而施行。作為塗層，較好的是以聚乙烯醇、異氰酸酯、氰基丙烯酸酯、氮丙啶等作為主成分之接著劑。

本發明中，由偏光片與保護其表面之偏光片保護膜構成偏光片。本發明中，僅於偏光片之一表面上形成偏光片保護膜。偏光板可例示如下之構成：於偏光片側形成脫模膜而構成積層膜，進而於偏光片保護膜側形成表面保護膜。脫模膜係於貼附於液晶面板上時被剝離。

(積層膜之構成)

使用圖1、2，對積層膜之構成及其製造方法進行說明。圖1中，於偏光片1之一面(圖1中為上側)上透過接著劑層2而形成偏光片保護膜3，進而透過黏著劑層6而形成表面保護膜7。於偏光片1之另一面(圖1中為下側)上形成塗層1a，進而，夾著塗層1a而形成黏著劑層4、脫模膜5。圖1之構成之偏光板構成如下：脫模膜5被剝離，脫模膜5之黏著劑4經轉印至偏光片1側，且經由該黏著劑4將偏光片1面配置於液晶面板側。

(製造方法)

圖2(a)、(b)中表示圖1之積層膜之製造方法。首先，對圖2(a)之製造方法進行說明。偏光片1係利用後述之積層膜之製造方法來製造，於偏光片1之一面上為了提高與黏著劑4之密著性而形成塗層1a。另外，偏光片保護膜3係作為預先製造且捲繞成輥狀之片材原料41而準備。首先，於連續搬送而來之偏光片1上，利用塗布裝置10塗布水溶性接著劑。以所塗布之接著劑層為間隔，於偏光片1上積層偏光片保護膜3，一面利用輥對20來作用規定之壓力，一面使其等接著。輥對20可由一對構成，亦可由2對以上構成，係根據偏光板之規格而設計。作為輥對20之夾持壓力，可例示0.05~0.5MPa之範圍。輥直徑、輥間隔亦根據偏光板之規格而設計。再者，於輥對20上，為了釋放對於輥的垂直方向之應力，亦可連結彈簧機構(未圖示)。

繼而，於偏光片1之另一面側(形成有塗層1a之側)，透過黏著劑層4而黏著脫模膜5。脫模膜5係預先塗布有黏著劑層4且為了保護該黏著劑而設置有剝離膜9之構成，係作為捲繞成輥狀之片材原料51而準備。並且，與偏光片1積層之前，該剝離膜9被剝離，將其黏著劑層4面向偏光片1之塗層1a面而積層，一面利用輥對22來作用規定之壓力，一面使其等黏著。輥對22可由一對構成，亦可由2對以上構成，係根據偏光片之規格而設計。作為輥對22之夾持壓力，可例示0.05~0.5MPa之範圍。輥直徑、輥間隔亦根據偏光板之規格而設計。再者，於輥對22上，為了釋放對於輥的垂直方向之應力，亦可連結彈簧機構(未圖示)。

然後，將積層有偏光片1、偏光片保護膜3、脫模膜5之積層膜送入乾燥裝置30中，使偏光片1之水分、水性接著劑之水分等乾燥。乾燥裝置30可應用公知之乾燥裝置。由於在乾燥前將偏光片1以夾層之方式於兩側積層有膜(偏光片保護膜3、脫模膜5)，因此乾燥時之偏光板之彎曲得到抑制。進而，作為乾燥條件，係根據偏光板之規格而進行溫度、濕度、乾燥時間之調整，以控制為抑制偏光板之彎曲。溫度條件係以60~80℃之範圍進行控制，濕度條件係以25%~45%之範圍進行控制，乾燥時間係以30秒~5分鐘之範圍進行控制。

繼而，積層表面保護膜7。表面保護膜7係預先塗布黏著劑層6且為了保護該黏著劑而設置有剝離膜8之構成，係作為捲繞成輥狀之片材原料71而準備。並且，與偏光片保護膜3積層之前，該剝離膜8被剝離，將其黏著劑層6面向偏光片保護膜3面而積層，一面利用輥對24來作用規定之壓力，一面將其等黏著。

繼而，積層有表面保護膜7後，作為附表面保護膜之積層膜片材原料100而捲繞成輥狀。該附表面保護膜之積層膜片材原料100於切開(slit)為規定寬度尺寸之情形時，係轉移至切開步驟。

(其它製造方法)

以下，對圖2(b)之製造方法進行說明。與圖2(a)之製造方法不同之處係在於：將偏光片1、偏光片保護膜3及脫模膜5同時積層。由於將該等同時用輥對26積層，因此與圖2(a)之製造方法相比較，可減小生產線，另外，可使設備成本低廉。該輥對26可由一對構成，亦可由2對以上構成，係根據偏光板之規格而設計。作為輥對26之夾持壓力，可例示0.05~0.5MPa之範圍。輥直徑、輥間隔亦根據偏光板之規格而設計。再者，於輥對26上，為了釋放對於輥的垂直方向之應力，亦可連結彈簧機構(未圖示)。

於以上之步驟中，所製造的附表面保護膜之積層膜片材原料經捆包而輸送至下一步驟場所。另一方面，於同一場所進行下一步驟之情形時，可於簡易包裝或者原樣之狀態下搬送至下一步驟。

(偏光板之構成及製造方法之例子)

偏光板係藉由於聚乙烯醇系膜(偏光片)之單面貼合例如TAC(三乙醯纖維素)膜、PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜等偏光片保護膜而獲得。

偏光片例如可藉由將經實施染色、交聯及拉伸處理之聚乙烯醇(PVA)膜加以乾燥而獲得。另外，就與黏著劑之密著方面、保護偏光片之方面而言，較好的是在與偏光片保護膜不同之面側塗布形成塗層。塗層例如較好的是以聚乙烯醇、異氰酸酯、氰基丙烯酸酯、氮丙啶等作為主成分之接著劑。

(實施例)

實施例1之積層膜係如圖2(b)所示，將偏光片保護膜、偏光片(PVA膜)及脫模膜同時積層，其後使之乾燥而得之3層膜結構。作為偏光片保護膜，係使用厚80μm之三乙醯纖維素系樹脂膜(富士膠片(Fuji Film)公司製造，TD80UL)。作為偏光片保護膜與偏光片之接著劑，係使用PVA系水性接著劑。作為脫模膜，係使用厚38μm之聚酯系樹脂膜(Toray公司製造，Cerapeel)。作為黏著劑，係使用丙烯酸系黏著劑。將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為20wt%。三乙醯纖維素系樹脂膜之透濕度為750g/m² ‧24h(依照JIS Z 0208之試驗方法)。另一方面，聚酯系樹脂膜(脫模膜)之透濕度為20g/m² ‧24h(依照JIS Z 0208之試驗方法)。輥對之壓力設為0.1MPa，乾燥條件設為溫度70℃、乾燥時間2分鐘。

實施例2之積層膜係藉由如圖2(a)所示，將偏光片與偏光片保護膜積層之後積層脫模膜，繼而使之乾燥而獲得。膜構成、接著劑、黏著劑之構成與實施例1之構成相同，其它之乾燥、壓力條件亦設為相同。

實施例3之積層膜係除了使將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為10wt%以外，以與實施例1相同之方式而獲得。

實施例4之積層膜係除了使將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為35wt%以外，以與實施例1相同之方式而獲得。

實施例5之積層膜係除了使將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為5wt%以外，以與實施例1相同之方式而獲得。

實施例6之積層膜係除了使將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為45wt%以外，以與實施例1相同之方式而獲得。

實施例7之積層膜係除了使將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為3wt%以外，以與實施例1相同之方式而獲得。

(比較例)

比較例1之積層膜係如圖3所示，將偏光片保護膜與偏光片接著後，使之乾燥，繼而將脫模膜以黏著劑貼附於偏光片側面而獲得。膜構成與實施例1之構成相同，此外之乾燥、壓力條件亦設為相同。將要積層脫模膜之前的偏光片之水分率為13wt%。

比較例2之積層膜係除了使用厚70μm之降烯系樹脂膜(日本Zeon公司製造，Zeonor)作為偏光片保護膜以外，以與實施例1相同之方式而獲得。該降烯系樹脂膜之透濕度為5g/m² ‧24h。

於實施例1~7及比較例1~2中，作為脫模膜，係使用厚38μm之聚酯系樹脂膜(Toray公司製造，Cerapeel)。聚酯系樹脂膜(脫模膜)之透濕度為20g/m² ‧24h(依照JIS Z 0208之試驗方法)。實施例1~7及比較例1之偏光片保護膜之三乙醯纖維素系樹脂膜之透濕度為750g/m² ‧24h(依照JIS Z 0208之試驗方法)。作為比較例2之偏光片保護膜，係使用厚70μm之降烯系樹脂膜(日本Zeon公司製造，Zeonor)，該降烯系樹脂膜之透濕度為5g/m² ‧24h。

(評價方法及其結果)

將各積層膜以將其搬送方向作為長邊之方式裁斷為A4尺寸(210mm×297mm)，進而剝離脫模膜，以使黏著劑面為上之方式靜置於平面上，利用游標卡尺計測此時之偏光片之4個角自該平面起上浮多少，算出其平均值而求出彎曲量。彎曲量之數值係作為n=10之平均值。其結果為，雖然實施例1~7之偏光板彎曲，但與比較例1之偏光板相比彎曲小。於比較例1之情形時，彎曲大而成為筒狀。

繼而，進行該等偏光板對於玻璃之糊劑殘餘試驗。自各積層膜上剝離脫模膜，使露出之黏著劑層黏著於玻璃板上，靜置30分鐘後，將偏光板自玻璃板上剝離。剝離方法係將剝離力設為3N/25mm，沿180°方向以剝皮的方式剝離。對此時之黏著劑於玻璃面上之糊劑殘餘進行目視觀察。將該試驗進行n=10次，若10次中8次無糊劑殘餘，則記為「無」糊劑殘餘。其結果為，於實施例1~7之偏光板之情形時，並無於玻璃面上之糊劑殘餘，但另一方面於比較例1、2之偏光板之情形時，有於玻璃面上之糊劑殘餘。即，根據該結果，於再加工處理中，於實施例1~7之偏光板之情形時，由於並無於玻璃面上之糊劑殘餘，因此可進行再加工處理。另一方面，於比較例1、2之偏光板之情形時，由於產生於玻璃面上之糊劑殘餘，因此於再加工處理時，必需除去糊劑殘餘之黏著劑。

另外，自各積層膜上剝離脫模膜，利用目視進行偏光板之外觀評價。將該試驗進行n=10次，若10次中8次無外觀不良，則記為外觀「良好」。其結果為，將脫模膜及偏光片保護膜積層之前的偏光片之水分率為5wt%~40wt%之範圍內的實施例1~5之偏光板係無外觀不良之良好偏光板。另一方面，將脫模膜及偏光片保護膜積層之前的偏光片之水分率未達5wt%的實施例7之偏光板雖然作為產品並無問題，但確認有條紋狀之斑。

進行單體透過率及偏光度之光學特性之評價。偏光膜之光學特性係利用附積分球之分光光度計(日本分光股份有限公司製造，V7100)來測定。單體透過率及偏光度係以利用JIS Z8701之2度視野(C光源)進行可見度修正而得之Y值表示。單體透過率及偏光度之數值係作為n=10之平均值。其結果為，將脫模膜及偏光片保護膜積層之前的偏光片之水分率大於40wt%的實施例6之偏光板雖然作為產品並無問題，但確認有光學特性(單體透過率、偏光度)之降低。

將上述實施例1~7及比較例1、2之結果示於表1中。

雖然於上述中，對偏光板之構成進行了部分說明，但一般而言可例示以下材料。

(偏光片)

聚乙烯醇系膜之染色、交聯、拉伸各處理不必分別進行，可同時進行，另外，各處理之順序亦可為任意。再者，作為聚乙烯醇系膜，亦可使用經實施膨潤處理之聚乙烯醇系膜。一般而言，將聚乙烯醇系膜浸漬於含有碘或二色性色素之溶液中，使之吸附碘或二色性色素而染色後進行清洗，於含有硼酸或硼砂等之溶液中以3倍~7倍之拉伸倍率進行單軸拉伸。由於藉由於含有碘或二色性色素之溶液中拉伸後，於含有硼酸或硼砂等之溶液中進一步拉伸(二段拉伸)，而使碘之配向提高，偏光度特性變得良好，因此尤其好。

作為上述聚乙烯醇系聚合物，例如可舉出：將乙酸乙烯酯聚合後加以皂化而得之材料；使少量之不飽和羧酸、不飽和磺酸、陽離子性單體等可共聚合之單體與乙酸乙烯酯共聚合而得者等。聚乙烯醇系聚合物之平均聚合度並無特別限制，可使用任意者，較好的是1000以上，更好的是2000~5000。另外，聚乙烯醇系聚合物之皂化度較好的是85莫耳%以上，更好的是98~100莫耳%。

所製造之偏光片之厚度通常為5~80μm，但並不限定於此，另外，關於調整偏光片之厚度的方法亦無特別限定，可使用拉幅機、輥拉伸或壓延等通常之方法。藉由將偏光片之水分率調整為15wt%~40wt%，可使與偏光片保護膜之接著性及外觀提高。

偏光片與作為保護層之透明之偏光片保護膜的接著處理並無特別限定，例如可經由包含乙烯醇系聚合物之接著劑，或者至少包含硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺、乙二酸等乙烯醇系聚合物之水溶性交聯劑的接著劑等來進行。該接著層係作為水溶液之塗布乾燥層等而形成，但於該水溶液之製備時，視需要，亦可調配其它的添加劑、酸等觸媒。

(偏光片保護膜)

設於偏光片之一側的偏光片保護膜可使用適當之透明膜。例如可使用在透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等向性等方面優異之熱塑性樹脂。作為此種熱塑性樹脂之具體例，可舉出：三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及該等之混合物。再者，於偏光片之一側，利用接著劑層而貼合透明保護膜，而於另一側形成上述塗層。透明保護膜中亦可包含1種以上任意之適當添加劑。作為添加劑，例如可舉出：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較好的是50~100重量%，更好的是50~99重量%，進而好的是60~98重量%，尤其好的是70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有熱塑性樹脂本來所具有之高透明性等無法充分表現之虞。

偏光片保護膜之厚度可適當地決定，一般而言，就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言，為1~500μm左右。尤其好的是1~300μm，更好的是5~200μm。偏光片保護膜於5~150μm之情形時尤其適合。

作為偏光片保護膜，較好的是使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂中之任意至少1種。

纖維素樹脂是纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯系樹脂之具體例，可舉出三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、三丙醯纖維素、二丙醯纖維素等。該等之中，尤其好的是三乙醯纖維素。三乙醯纖維素市售有大量製品，於獲取容易性及成本方面有利。作為三乙醯纖維素之市售品之例，可舉出富士膠片公司製造之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」，或Konica公司製造的「KC系列」等。一般而言，該等三乙醯纖維素之面內相位差(Re)大致為零，厚度方向相位差(Rth)具有~60nm左右。

再者，厚度方向相位差小之纖維素樹脂膜例如可藉由處理上述纖維素樹脂而獲得。例如可舉出下述方法等：將塗布有環戊酮、甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、不鏽鋼等基材膜貼合於一般之纖維素系膜上，加熱乾燥(例如80~150℃下3~10分鐘左右)後，將基材膜剝離方法；將於環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中溶解有降烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等之溶液塗布於一般之纖維素樹脂膜上，加熱乾燥(例如80~150℃下3~10分鐘左右)後，將塗布膜剝離。

另外，作為厚度方向相位差小之纖維素樹脂膜，可使用控制脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂膜。通常使用之三乙醯纖維素中乙酸取代度為2.8左右，但較好的是將乙酸取代度控制為1.8~2.7，藉此可減小Rth。藉由向上述脂肪酸取代纖維素系樹脂中，添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺(p-toluene sulfonanilide)、檸檬酸乙醯三乙酯等塑化劑，可將Rth控制為較小。塑化劑之添加量相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，較好的是40重量份以下，更好的是1~20重量份，進而好的是1~15重量份。

作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，較好的是降烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元進行聚合而成之樹脂的總稱，例如可舉出日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中記載之樹脂。作為具體例，可舉出：環狀烯烴之開環(共)聚合物；環狀烯烴之加成聚合物；環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性的是無規共聚物)；及將該等以不飽和羧酸或其衍生物改質而得之接枝聚合物；以及其等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例，可舉出降烯系單體。

作為環狀聚烯烴樹脂，市售有各種製品。作為具體例，可舉出：日本Zeon股份有限公司製造之商品名「Zeonex」、「Zeonor」、JSR股份有限公司製造之商品名「Arton」、TICONA公司製造之商品名「Topas」、三井化學股份有限公司製造之商品名「APEL」。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而好的是125℃以上，尤其好的是130℃以上。藉由Tg為115℃以上，可成為偏光板之耐久性優異者。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等觀點而言，較好的是170℃以下。由(甲基)丙烯酸系樹脂可獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為零之膜。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可於不損及本發明效果之範圍內，採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可舉出：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較好的是舉出聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1~6烷基酯。更好的是舉出以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%，較好的是70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可舉出：三菱Rayon股份有限公司製造之Acrypet VH及Acrypet VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中所記載之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得的高Tg之(甲基)丙烯酸系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可便用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。其原因在於具有高耐熱性、高透明性，且藉由雙軸拉伸而具有高機械強度。

作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉出日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中記載的具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。

上述偏光片保護膜通常使用正面相位差未達40nm且厚度方向相位差未達80nm之膜。正面相位差Re可以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth可以Rth=(nx-nz)×d表示。另外，Nz係數可以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，將膜之慢軸方向、快軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，切將d(nm)設為膜之厚度。慢軸方向係設為膜面內之折射率達到最大之方向]。再者，偏光片保護膜較好的是儘可能不帶顏色。較好的是使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之膜。藉由使用該厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm之膜，可大致消除由透明之偏光片保護膜引起的偏光板之著色(光學性著色)。厚度方向相位差值(Rth)更好的是-80nm~+60nm，尤其好的是-70nm~+45nm。

偏光片保護膜只要不損及本發明之目的，則亦可為經實施硬塗處理或抗反射處理、以黏附之防止及擴散或者防眩光等為目的之處理等者。硬塗處理係為了防止偏光板表面之損傷等目的而實施者，例如可利用如下方式等來形成：將由矽氧系等適當之紫外線固化型樹脂所構成之硬度及滑動性等優異之固化皮膜附加於透明保護膜之表面。

於偏光板上，設有用以與液晶面板等其它構件接著之黏著層。該黏著層並無特別限定，可利用丙烯酸系等依照先前之適當黏著劑來形成。就防止由吸濕造成之發泡現象或剝落現象、防止由熱膨脹差等造成的光學特性之降低或液晶面板之翹曲、以及高品質且耐久性優異之圖像顯示裝置之形成性等方面而言，較好的是吸濕率低且耐熱性優異之黏著層。另外，可含有微粒子而形成顯示出光擴散性之黏著層等。黏著層只要視需要而設於必需之面上即可，例如若提及包含偏光片與偏光片保護膜之偏光板，則只要視需要於偏光片保護膜之一面或兩面設置黏著層即可。

(脫模膜)

對上述黏著層之露出面，於直至供實用為止之期間，為了防止其污染等目的，而臨時貼附脫模膜(有時稱作隔膜)而加以覆蓋。藉此，可防止於通常之操作狀態下與黏著層接觸。作為隔膜，除上述厚度條件以外，例如可使用將塑膠膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、其等之積層體等適當之薄片體，視需要以矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬系等之適當剝離劑進行塗布處理而得者等依照先前之適當者。

在與設置有該隔膜之面相反之面的偏光板上，經由弱黏著劑而形成表面保護膜。其目的主要為防止損傷、防止污染等。作為表面保護膜，例如可使用將塑膠膜、橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡片或金屬箔、其等之積層體等適當之薄片體，視需要以矽氧系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬系等之適當剝離劑進行塗布處理而得者等依照先前之適當者。

再者，本發明中，對於上述偏光片或偏光片保護膜等、以及黏著層等各層，例如亦可利用以水楊酸酯系化合物或苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等方式，使之具有紫外線吸收能力。

本發明之積層膜可較好地用於液晶顯示裝置、有機EL(electroluminescence，電致發光)顯示裝置、PDP(plasma display panel，電漿顯示面板)等圖像顯示裝置之形成中。

1．．．偏光片

1a．．．塗層

3．．．偏光片保護膜

5．．．脫模膜

7．．．表面保護膜

10．．．塗布裝置

20．．．輥對

22．．．輥對

24．．．輥對

26．．．輥對

30．．．乾燥裝置

100．．．附表面保護膜之積層膜片材原料

圖1係用於對積層膜之構成進行說明之圖。

圖2(a)、(b)係用於對積層膜之製造方法進行說明之圖。

圖3係用於對比較例1之積層膜之製造方法進行說明之圖。

1．．．偏光片

1a．．．塗層

2．．．接著劑層

3．．．偏光片保護膜

4．．．黏著劑層

5．．．脫模膜

6．．．黏著劑層

7．．．表面保護膜

Claims

一種積層膜之製造方法，其特徵在於：上述積層膜係於偏光片之一主面上透過接著劑層積層偏光片保護膜而形成偏光板，並於上述偏光片之另一主面上透過黏著劑層積層脫模膜而成者，上述偏光片保護膜與上述脫模膜中之至少任意一者之透濕度於40℃、90% RH之氣體環境下為150g/m² ˙24h以上，並且上述製造方法包括於將上述偏光片、上述偏光片保護膜及上述脫模膜積層後進行乾燥之步驟，上述黏著劑層之黏著劑係於上述脫模膜剝離後被轉印至上述偏光片側之黏著劑。
如請求項1之積層膜之製造方法，其中將上述脫模膜及上述偏光片保護膜積層之前的上述偏光片之水分率為5wt%以上、40wt%以下。
如請求項1或2之積層膜之製造方法，其中上述積層係於上述偏光片之一主面上積層上述偏光片保護膜後，於上述偏光片之另一主面上積層上述脫模膜。
如請求項1或2之積層膜之製造方法，其中上述積層係將上述偏光片、上述偏光片保護膜及上述脫模膜同時積層。
如請求項1或2之積層膜之製造方法，其中於上述偏光片與上述黏著劑層之接著面之偏光片側預先形成塗層。