TW201623528A - 偏光板用黏著劑組成物及附黏著劑層之偏光板 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題係提供一種偏光板用黏著劑組成物,其係含有將(甲基)丙烯酸烷酯聚合而得到之(甲基)丙烯酸系共聚物及交聯劑,並且能夠形成具有優異的防漏光性及耐久性之黏著劑層之偏光板用黏著劑組成物。
本發明之解決手段係提供一種偏光板用黏著劑組成物,其特徵為含有(A)(甲基)丙烯酸系共聚物、及(B)交聯劑,其中該(甲基)丙烯酸系共聚物,係將含有:均聚物的光彈性模數為-1000×10-12至-100×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a1),均聚物的光彈性模數為+100×10-12至+1000×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a2),及含交聯性官能基的單體(a3)之單體成分共聚合而得到者。
Description
本發明係關於一種偏光板用黏著劑組成物及附黏著劑層之偏光板等。
液晶單元(liquid crystal cell)係具有在2片基板(例:玻璃板)之間夾住液晶層之構造。在構成液晶單元之基板的表面,係透過黏著劑層而貼附有偏光板。近年來,液晶單元在車輛搭載用/室外計量儀器用/個入電腦用的顯示器、電視等之用途擴大,伴隨著此種情形,使用環境亦逐漸變成非常嚴酷。
特別是在高溫/高濕熱環境下,由於偏光板的熱收縮所致之應力集中,在引起偏光板產生雙折射之同時,黏著劑本身亦由於應力集中而進行配向且產生雙折射,所以在應力集中的端部產生漏光且顯示品質降低。又,在此種環境下,亦容易產生黏著劑層斷裂、偏光板剝落等缺陷。因而,偏光板用黏著劑被要求優異的防漏光性及耐久性。
專利文獻1係記載一種使偏光板用黏著劑
的耐久性及防漏光性提升之技術,其係藉由在使含羧基的單體共聚合而成之具有特定範圍的重量平均分子量及分子量分布之丙烯酸系聚合物中,添加環氧交聯劑及異氰酸酯化合物。
專利文獻2係記載一種偏光板用黏著劑,其係由以(甲基)丙烯酸烷氧基乙酯作為主體之單體經共聚合而成之含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑組成物而得到;而且記載一種藉由將偏光板用黏著劑的光彈性模數調整為一定範圍來提升耐久性及防漏光性之技術。
專利文獻3係記載一種含有(甲基)丙烯酸系聚合物之黏著劑,其中該(甲基)丙烯酸系聚合物係藉由使在酯末端具有碳數8至24的分枝烷基之(甲基)丙烯酸烷酯(a1);及在酯末端具有碳數8至24的直鏈烷基之(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之單體成分聚合而得到。但是針對將前述黏著劑使用在偏光板用途時之上述的漏光問題,係沒有提及。
[專利文獻1]日本特開2010-196003號公報
[專利文獻2]日本特開2012-067275號公報
[專利文獻3]日本特開2013-194170號公報
在先前技術,係藉由(甲基)丙烯酸系共聚物
的重量平均分子量/分子量分布、構成(甲基)丙烯酸系共聚物之含芳香環單體的共聚合量、及異氰酸酯系交聯劑的添加量等來調整黏著劑之光彈性模數且提升防漏光性。另一方面,若能夠藉由構成(甲基)丙烯酸系共聚物之(甲基)丙烯酸烷酯來調整光彈性模數,則有能夠擴大有助於調整光彈性模數之單體選擇種類,且能夠擴大黏著劑的設計幅度之優點。
本發明的課題係提供一種能夠形成具有優異的防漏光性及耐久性之黏著劑層之偏光板用黏著劑組成物,其係含有將(甲基)丙烯酸烷酯聚合而得到之(甲基)丙烯酸系共聚物及交聯劑之偏光板用黏著劑組成物。
為了解決上述課題,本發明者等進行精心研討。結果發現使用特定(甲基)丙烯酸系共聚物且使用交聯劑時,能夠形成具有優異的上述防漏光性及耐久性之黏著劑層。
亦即,本發明者等係發現藉由使用具有以下的特定構成之偏光板用黏著劑組成物,能夠解決上述課題,而完成本發明。
本發明係如以下的[1]至[11]項。
[1]一種偏光板用黏著劑組成物,含有(A)(甲基)丙烯酸系共聚物,其係將含有:均聚物的光彈性模數為-1000×10-12至-100×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、均聚物的光彈性模數為+100×10-12至+1000×10-12(m2/N)之(甲
基)丙烯酸烷酯(a2)、及含交聯性官能基的單體(a3)之單體成分共聚合而得到者;以及(B)交聯劑。
[2]如前述[1]記載之偏光板用黏著劑組成物,其中前述(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之均聚物的Tg為-30℃以下,前述(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之均聚物的Tg為-20℃以上。
[3]如前述[1]或[2]記載之偏光板用黏著劑組成物,其中(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的光彈性模數為-150×10-12至+150×10-12(m2/N)。
[4]如前述[1]至[3]項中任一項記載之偏光板用黏著劑組成物,其中交聯劑(B)係含有異氰酸酯化合物(B1)。
[5]如前述[4]記載之偏光板用黏著劑組成物,其中異氰酸酯化合物(B1)係選自苯二甲基二異氰酸酯系交聯劑及六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑之至少1種。
[6]如前述[1]至[5]項中任一項記載之偏光板用黏著劑組成物,係用以形成與偏光片直接相接之黏著劑層者。
[7]一種偏光板用黏著劑層,係由前述[1]至[6]項中任一項記載之黏著劑組成物所形成。
[8]如前述[7]記載之偏光板用黏著劑層,其光彈性模數為-150×10-12至+150×10-12(m2/N)。
[9]一種偏光板用黏著片,係具有前述[7]或[8]記載之黏著劑層。
[10]一種附黏著劑層之偏光板,係具有偏光板、及積層在前述偏光板的至少一面之前述[7]或[8]記載之黏著劑層。
[11]一種附黏著劑層之偏光板,係具有直接積層在偏光片的至少一面之前述[7]或[8]記載之黏著劑層。
根據本發明,能夠提供一種可形成具有優異的防漏光性及耐久性之黏著劑層之偏光板用黏著劑組成物,該偏光板用黏著劑組成物係含有將(甲基)丙烯酸烷酯聚合而得到之(甲基)丙烯酸系共聚物及交聯劑。
以下,說明本發明的偏光板用黏著劑組成物、偏光板用黏著劑層、偏光板用黏著片及附黏著劑層之偏光板。以下,亦將本發明的偏光板用黏著劑組成物、偏光板用黏著劑層及偏光板用黏著片各自稱為「黏著劑組成物」、「黏著劑層」及「黏著片」。
本發明的偏光板用黏著劑組成物,係含有以下說明之(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及交聯劑(B)。前述組成物亦可按照必要而含有選自矽烷偶合劑(C)及抗靜電劑(D)之至少1種,亦可含有有機溶劑(E)。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)係含有::均聚物的光彈性模數為-1000×10-12至-100×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、均聚物的光彈性模數為+100×10-12至+1000×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a2)、及含交聯性官能基的單體(a3)之單體成分之共聚合物,並且係將前述單體成分共聚合而得到者。前述共聚物(A)係通常具有:源自甲基丙烯酸烷酯(a1)的構成單元;源自甲基丙烯酸烷酯(a2)的構成單元;及源自含交聯性官能基的單體(a3)的構成單元。
在本說明書,只要未特別提及,由前述(a1)或(a2)所構成之均聚物的光彈性模數的單位為「×10-12m2/N」。又,亦將前述(a1)、(a2)及(a3)各自稱為「單體(a1)」、「單體(a2)」及「單體(a3)」。
在本說明書,亦將丙烯酸及甲基丙烯酸總稱而記載為「(甲基)丙烯酸」。又,亦將在聚合物所含有之源自某單體A的構成單元記載為「單體A單位」。
由各單體所形成的均聚物的光彈性模數,係如以下進行而決定。
在光彈性模數測定中所使用的均聚物係藉由以下的順序而製造。在具備有攪拌機、回流冷卻器、溫度計及氮導入管之反應裝置,裝填單體100質量份及乙酸乙酯溶劑100質量份,邊導入氮氣邊升溫至80℃。其次,添加2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份,在氮氣環境下於80℃進
行聚合反應6小時。反應結束後,使用乙酸乙酯進行稀釋,來調製固形份濃度30質量%之前述單體的均聚物溶液。
將前述均聚物溶液,塗佈在經剝離處理的聚對酞酸乙二酯膜的剝離處理面,於90℃乾燥3分鐘而形成乾燥膜厚20μm的塗膜(均聚物層)。在23℃/50%RH環境下將乾燥膜厚20μm的均聚物層彼此貼合複數次,在50℃/5atm的高壓釜中處理20分鐘而製造厚度1.0mm的均聚物層。
將厚度1.0mm的均聚物層裁切成15mm×50mm的大小,將其使用治具安裝在自動波長掃描型橢圓偏光計(ellipsometer)(型式「M-220」、日本分光股份有限公司製),邊改變應力邊以測定波長633nm測定遲滯值。將橫軸設為應力、縱軸設為遲滯值時之傾斜度作為由上述單體所形成的均聚物之光彈性模數。
由各單體所形成之均聚物的玻璃轉移溫度(Tg),係採用在聚合物手冊第4版(Polymer Handbook Fourth Edition)(Wiley-Interscience 2003)所記載之值。
單體(a1)係均聚物的光彈性模數為-1000至-100的(甲基)丙烯酸烷酯。均聚物的光彈性模數較佳為-750至-150之前述單體,更佳為-500至-200之前述單體。
藉由使用均聚物的光彈性模數為上述範圍的單體(a1)共聚合而得到的共聚物(A),能夠對黏著劑層柔
軟性且顯現偏光板的抑制翹曲效果。
單體(a1)較佳為均聚物的Tg為-30℃以下之(甲基)丙烯酸烷酯、前述Tg更佳為-100至-30℃,又更佳為-70至-30℃。
作為單體(a1),例如可舉出以CH2=CR1-COOR2表示的化合物之中,均聚物的光彈性模數在上述範圍之化合物。式中,R1係氫原子或甲基,R2係碳數1至20的烷基。前述烷基的碳數較佳為2至16,更佳為4至12。
作為單體(a1),例如可舉丙烯酸正丁酯(-400;-50)、丙烯酸2-乙基己酯(-700;-70)、甲基丙烯酸異癸酯(-190;-41)、甲基丙烯酸月桂酯(-460;-65)。括弧內的數值係表示由各單體所形成的均聚物之光彈性模數及Tg,左側為光彈性模數(×10-12m2/N),右側為Tg(℃)。
單體(a1)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。使用2種以上的單體(a1)時,較佳為各自的單體係滿足光彈性模數及Tg的必要條件。
形成共聚物(A)之單體成分100質量%中,單體(a1)的使用量較佳為10質量%以上且未達90質量%,更佳為14.9至85質量%,又更佳為35至59.5質量%。單體(a1)的使用量為前述範圍時,就能夠將所得到的共聚物(A)之光彈性模數調整為後述的範圍而言為佳。
單體(a2)係均聚物的光彈性模數為+100至+1000之(甲
基)丙烯酸烷酯。均聚物的光彈性模數較佳為+100至+800之前述單體,更佳為+150至+600之前述單體。
藉由使用將均聚物的光彈性模數為上述範圍的單體(a2)共聚合而得到的共聚物(A),能夠對黏著劑層賦予適當的耐久性。藉由使用將均為甲基丙烯酸烷酯之單體(a1)及(a2)共聚合而得到的共聚物(A),能夠進一步提升黏著劑層的耐濕熱性。
單體(a2)較佳為均聚物的Tg為-20℃以上之(甲基)丙烯酸烷酯、前述Tg更佳為-20至150℃,又更佳為-15至100℃。
作為單體(a2),例如可舉在以CH2=CR3-COOR4表示之化合物之中,均聚物的光彈性模數為上述範圍之化合物。式中,R3為氫原子或甲基,R4為碳數1至15的烷基。前述烷基的碳數較佳為1至12,更佳為1至10。
作為單體(a2),例如可舉甲基丙烯酸第三丁酯(130;118)、甲基丙烯酸正丁酯(320;20)、甲基丙烯酸2-乙基己酯(420;-10)。括弧內的數值係表示由各單體所形成的均聚物之光彈性模數及Tg,左側為光彈性模數(×10-12m2/N),右側為Tg(℃)。
單體(a2)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。使用2種以上的單體(a2)時,各自的單體較佳為滿足光彈性模數及Tg的必要條件。
形成共聚物(A)之單體成分100質量%中,單體(a2)的使用量較佳為10質量%以上且未達90質量%,
更佳為14.9至85質量%,又更佳為40至64.5質量%。單體(a2)的使用量在前述範圍時,就能夠將所得到的共聚物(A)之光彈性模數調整為後述範圍而言為佳。
形成共聚物(A)之單體成分,亦進一步含有具有能夠與交聯劑(B)反應的交聯性官能基之單體、亦即含交聯性官能基的單體(a3)。
作為單體(a3),例如可舉出含羥基的單體、含酸基的單體、含胺基的單體、含醯胺基的單體、含氮系雜環的單體、含氰基的單體。作為本說明書之酸基,例如可舉羧基、酸酐基、磷酸基、硫酸基。
作為含羥基的單體,例如含羥基的(甲基)丙烯酸酯,具體而言,可舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯等(甲基)丙烯酸羥基烷酯。在(甲基)丙烯酸羥基烷酯的羥烷基之碳數通常為2至8,較佳為2至6。
作為含羧基的單體,例如可舉出(甲基)丙烯酸β-羧基乙酯、(甲基)丙烯酸5-羧基戊酯、琥珀酸單(甲基)丙烯醯氧基乙酯、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等含羧基的(甲基)丙烯酸酯;丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸。作為含酸酐基的單體,例如可舉順丁烯二酸酐、伊康酸酐。作為含磷酸基的單體,
可舉在側鏈具有磷酸基之(甲基)丙烯酸系單體;作為含硫酸基的單體,可舉在側鏈具有硫酸基之(甲基)丙烯酸系單體。
作為含胺基的單體,例如可舉(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯等含有胺基之(甲基)丙烯酸酯。作為含醯胺基的單體,例如可舉(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丙基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺。作為含氮系雜環的單體,例如可舉乙烯基吡咯啶酮、丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺。作為含氰基的單體,例如可舉(甲基)丙烯酸氰酯、(甲基)丙烯腈。
作為單體(a3),從與交聯劑(B)的交聯性的觀點而言,較佳為選自含羥基的單體、含羧基的單體及含醯胺基的單體之至少1種。然而從含羥基的單體中去除具有羧基及/或醯胺基之單體。又,從含醯胺基的單體中去除具有羥基及/或羧基之單體。
單體(a3)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
形成共聚物(A)之單體成分100質量%中,單體(a3)的使用量較佳為超過0質量%且10質量%以下,更佳為0.1至8質量%,又更佳為0.5至5質量%。單體(a3)的使用量為前述上限值以下時,由共聚物(A)與交聯劑(B)所形成之交聯密度不會變為太高,且能夠得到具有優異的應力緩和特性之黏著劑層。單體(a3)的使用量為前述下限
值以上時,能夠有效地形成交聯結構,且能夠得到在常溫具有適當強度之黏著劑層。
作為形成共聚物(A)之單體成分,係在不損害共聚物(A)的物性之範圍,亦能夠使用例如上述單體(a1)及單體(a2)以外的(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯、烷氧基聚伸烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯、含脂環式基或芳香環的(甲基)丙烯酸酯等其他的(甲基)丙烯酸酯。亦即,前述共聚物(A)亦可進一步具有前述源自其他(甲基)丙烯酸酯的構成單元。
作為(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯,例如可舉(甲基)丙烯酸甲氧基甲酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯。
作為烷氧基聚伸烷基二醇單(甲基)丙烯酸酯,例如可舉出甲氧基二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、乙氧基三乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇單(甲基)丙烯酸酯。
作為含脂環式基或芳香環的(甲基)丙烯酸酯,例如可舉(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯。
又,作為形成共聚物(A)之單體成分,係在不損害共聚物(A)的物性之範圍,亦能夠使用例如苯乙烯系單體、乙酸乙烯酯等的共聚合性單體。亦即,前述共聚物(A)亦可進一步具有源自前述共聚合性單體的構成單元。
作為苯乙烯系單體,例如可舉出苯乙烯;甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯;氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘化苯乙烯等鹵化苯乙烯;硝基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、甲氧基苯乙烯。
其他單體係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
形成共聚物(A)之單體成分100質量%中,以上的其他單體(例:其他(甲基)丙烯酸酯、共聚合性單體)的總使用量,較佳為0至10質量%,更佳為0至5質量%。
在先前技術,通常係使用含芳香環的單體而調整聚合物整體的光彈性模數。另一方面,在本發明,主要係藉由(甲基)丙烯酸烷酯之單體(a1)及(a2),來調整聚合物整體的光彈性模數。因此,調整聚合物整體的光彈性模數之單體係不被含芳香環的單體限定,就能夠使用各式各樣的(甲基)丙烯酸烷酯而言,係能夠擴大設計黏著劑之選擇種類。例如具有能夠兼具調整聚合物的光彈性模數與調整Tg之優點。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的製造條件係沒有特別限定,例如能夠使用溶液聚合法來製造。具體而言,係在反應容器內裝填聚合溶劑及單體成分,在氮氣等惰性氣體環境下添加聚合起始劑,而且反應起始溫度通常設為40至100℃,較佳為50至80℃,且反應系統的溫度通常維持在50至90℃,較佳為70至90℃,並使其反應4至20小時。
共聚物(A)係例如使含有上述單體(a1)至(a3)之單體成分共聚合而得到,可為無規共聚物,亦可為嵌段共聚物。該等之中,較佳為無規共聚物。
作為在溶液聚合所使用的聚合溶劑,例如可舉出苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類;正戊烷、正己烷、正庚烷、正辛烷等脂肪族烴類;環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷等脂環式烴類;二乙基醚、二異丙基醚、1,2-二甲氧基乙烷、二丁基醚、四氫呋喃、二烷、茴香醚、苯基乙基醚、二苯基醚等醚類;氯仿、四氯化碳、1,2-二氯乙烷、氯苯等鹵化烴類;乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙酸甲酯等酯類;丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等的酮類;N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類;乙腈、苯甲腈等腈類;二甲基亞碸、環丁碸等亞碸類等。該等聚合溶劑係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
作為使用在溶液聚合之聚合起始劑,例如可舉偶氮系起始劑、過氧化物系起始劑。具體而言,可舉
出2,2’-偶氮雙異丁腈等偶氮化合物、過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯等過氧化物。該等之中,較佳為偶氮化合物。作為偶氮化合物,例如可舉2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2-環丙基丙腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-羰腈)、2-(胺基甲醯基偶氮)異丁腈、2-苯基偶氮-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二氫氯化物、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[2-甲基-N-(2-羥乙基)-丙醯胺]、2,2’-偶氮雙(異丁醯胺)二水合物、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)、2,2’-偶氮雙(2-氰基丙醇)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)。該等聚合起始劑係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
相對於形成(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之單體成分100質量份,聚合起始劑係通常為0.01至5質量份,較佳是以0.1至3質量份的範圍內之量使用。又,在上述聚合反應中,亦可適當地追加添加聚合起始劑、鏈轉移劑、單體成分、聚合溶劑。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的光彈性模數較佳為-150至+150,更佳為-100至+100,又更佳為-70至+70。光彈性模數的單位為10-12m2/N。
藉由使均聚物的光彈性模數為負的單體(a1)
及均聚物的光彈性模數為正的單體(a2)共聚合,能夠得到光彈性模數在前述範圍之共聚物(A)。藉由使用此種共聚物(A),使黏著劑層的光彈性模數成為後述範圍、特別是接近0,而能夠抑制在偏光板之漏光。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之使用凝膠滲透層析法(GPC)法而測定之重量平均分子量(Mw),係以聚苯乙烯換算值通常為30萬至200萬,較佳為40萬至180萬,更佳為50萬至150萬。藉由Mw在前述範圍且使用具有上述單體單元之共聚物(A),而能夠容易得到黏著力平衡且黏度為適合於塗佈之黏著劑組成物。又,藉由使用Mw為50萬以上的共聚物(A),能夠得到具有更高耐久性之黏著劑層。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)之使用GPC法所測得的分子量分布(Mw/Mn),通常為20以下,較佳為3至15,更佳為5至10。
(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的玻璃轉移溫度(Tg),係例如能夠從構成該共聚物之單體單元及其含有比率且依照Fox的式來計算確定。例如通常使依照Fox的式所求取的玻璃轉移溫度(Tg)成為-70至-10℃、較佳是成為-60至-20℃之方式,來合成(甲基)丙烯酸系共聚物(A)為佳。藉由使用具有此種玻璃轉移溫度(Tg)之(甲基)丙烯酸系共聚物(A),能夠得到具有優異的應力緩和特性及耐久性,而且在常溫具有優異的黏著性之黏著劑組成物。
Fox的式:
1/Tg=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)+…+(Wm/Tgm)W1+W2+…+Wm=1
式中,Tg係(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的玻璃轉移溫度(單位:K),Tg1,Tg2,…,Tgm係由各單體所構成之均聚物的玻璃轉移溫度(單位:K),W1,W2,…,Wm係在源自各單體的構成單元之前述共聚物(A)之重量分率。作為源自各單體的構成單元之重量分率,係能夠使用共聚物合成時各單體相對於總單體之裝填比率。
由前述Fox的式之各單體所構成之均聚物的玻璃轉移溫度,例如能夠使用在高分子手冊第四版(Wiley-Interscience 2003)所記載之值。
在本發明的黏著劑組成物,在組成物中除了有機溶劑以外的固形份100質量%中,(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的含量,通常為60至99.99質量%,更佳為70至99.95質量%,特佳為80至99.90質量%。(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的含量為前述範圍時,作為黏著劑的性能能夠得到平衡且具有優異的黏著特性。
本發明的黏著劑組成物係進一步含有交聯劑(B)。
交聯劑(B)係只要能夠與(甲基)丙烯酸系共聚物(A)所具有之源自含交聯性官能基的單體(a3)的交聯性官能基產生交聯反應之成分,就沒有特別限定,例如可舉出異氰酸酯化合物(B1)、金屬螯合化合物(B2)、環氧化合
物(B3),較佳為含有前述(B1)。
交聯劑(B)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
在本發明的黏著劑組成物,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,交聯劑(B)的含量通常為0.01至5質量份,更佳為0.05至2.5質量份,又更佳為0.1至1質量份。該含量為在前述範圍時,就容易得到耐久性與應力緩和特性的平衡而言為佳。
作為異氰酸酯化合物(B1),通常使用1分子中的異氰酸酯基數為2以上的異氰酸酯化合物。藉由異氰酸酯化合物(B1)使(甲基)丙烯酸系共聚物(A)交聯,能夠形成交聯體(網狀聚合物)。
異氰酸酯化合物(B1)的異氰酸酯基數通常為2以上,較佳為2至8,更佳為3至6。異氰酸酯基數為在前述範圍時,就(甲基)丙烯酸系共聚物(A)與異氰酸酯化合物(B1)的交聯反應效率之觀點,以及保持黏著劑層的柔軟性之觀點而言為佳。
作為1分子中的異氰酸酯基數為2之二異氰酸酯化合物,例如可舉脂肪族二異氰酸酯、脂環族二異氰酸酯、芳香族二異氰酸酯。作為脂肪族二異氰酸酯,可舉伸乙基二異氰酸酯(ethylene diisocyanate)、四亞甲基二異氰酸酯、五亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、2-甲
基-1,5-戊烷二異氰酸酯、3-甲基-1,5-戊烷二異氰酸酯、2,2,4-三甲基-1,6-六亞甲基二異氰酸酯等碳數4至30的脂肪族二異氰酸酯。作為脂環族二異氰酸酯,可舉異佛爾酮二異氰酸酯、二異氰酸環戊酯、二異氰酸環己酯、加氫苯二甲基二異氰酸酯、加氫甲苯二異氰酸酯、加氫二苯基甲烷二異氰酸酯、加氫四甲基苯二甲基二異氰酸酯等碳數7至30的脂環族二異氰酸酯。作為芳香族二異氰酸酯,例如可舉出伸苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、二苯基醚二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二苯基丙烷二異氰酸酯等碳數8至30的芳香族二異氰酸酯。
作為1分子中的異氰酸酯基數為3以上的異氰酸酯化合物,例如可舉芳香族聚異氰酸酯、脂肪族聚異氰酸酯、脂環族聚異氰酸酯。具體而言,可舉出2,4,6-三異氰酸酯甲苯、1,3,5-三異氰酸酯苯、4,4’,4”-三苯基甲烷三異氰酸酯。
又,作為異氰酸酯化合物(B1),例如可舉出異氰酸酯基數為2或3以上的上述異氰酸酯化合物之多聚物(例如二聚物或三聚物、縮二脲體、異三聚氰酸酯體)、衍生物(例如多元醇與2分子以上的二異氰酸酯化合物之加成反應生成物)、聚合物。作為在前述衍生物之多元醇,就低分子量多元醇而言,例如可舉三羥甲基丙烷、甘油、新戊四醇等的3元以上的醇;就高分子量多元醇而言,例如可舉出聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯醯基多元醇
(acrylpolyol)、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇。
作為此種異氰酸酯化合物,例如可舉出二苯基甲烷二異氰酸酯的三聚物、聚亞甲基聚苯基聚異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯或甲苯二異氰酸酯的縮二脲體或異三聚氰酸酯體、三羥甲基丙烷與甲苯二異氰酸酯或苯二甲基二異氰酸酯的反應生成物(例如甲苯二異氰酸酯或苯二甲基二異氰酸酯之三分子加成物)、三羥甲基丙烷與六亞甲基二異氰酸酯之反應生成物(例如六亞甲基二異氰酸酯之三分子加成物)、聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯。
異氰酸酯化合物(B1)之中,就能夠提升熟化性及耐漏光性能而言,較佳為選自苯二甲基二異氰酸酯系交聯劑及六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑之至少1種為佳,更佳為苯二甲基二異氰酸酯系交聯劑。
作為苯二甲基二異氰酸酯系交聯劑,例如可舉苯二甲基二異氰酸酯及其衍生物、縮二脲體或異三聚氰酸酯體。作為六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑,例如可舉六亞甲基二異氰酸酯及其衍生物、縮二脲體或異三聚氰酸酯體。
異氰酸酯化合物(B1)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
作為金屬螯合化合物(B2),例如可舉烷氧化物、乙醯丙酮、乙醯乙酸乙酯等配位在鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、
鎳、銻、鎂、釩、鉻、鋯等多價金屬之化合物。
該等之中,特佳為鋁螯合化合物(綜研化學股份有限公司製M-12AT等)。具體而言,可舉出異丙酸酯鋁、第二丁酸酯鋁、乙醯乙酸乙酯-二異丙酸酯鋁、乙醯乙酸三乙酯鋁、丙酮酸三乙醯酯鋁。
金屬螯合化合物(B2)係可單獨使用1種,亦可使用2種以上。
金屬螯合化合物(B2)係藉由配位鍵使(甲基)丙烯酸系共聚物(A)交聯(虛擬交聯)。使用金屬螯合化合物(B2)作為交聯劑(B)時,相對於在室溫時,維持前述交聯且使聚合物發揮凝聚性,在高溫時,一部分前述交聯被解除而使黏著劑層顯示較優異的柔軟性。
作為環氧化合物(B3),通常係使用1分子中的環氧基數為2以上的環氧化合物。例如可舉出乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺甲基)環己烷、N,N,N’,N’-四環氧丙基-間苯二甲胺、N,N,N’,N’-四環氧丙基胺苯基甲烷、異三聚異氰酸三環氧丙酯、間N,N-二環氧丙基胺苯基環氧丙基醚、N,N-二環氧丙基甲苯胺、N,N-二環氧丙基苯胺。
本發明的黏著劑組成物,較佳為進一步含有矽烷偶合劑(C)。矽烷偶合劑(C)係使黏著劑層堅固地接著於玻璃板等被黏著物,而有助於防止在高濕熱環境下偏光板產生剝落。
作為矽烷偶合劑(C),例如可舉出乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷等含聚合性不飽和基的矽烷偶合劑;3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基的矽烷偶合劑;3-胺丙基三甲氧基矽烷,N-(2-胺乙基)-3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷等含胺基的矽烷偶合劑;3-氯丙基三甲氧基矽烷等含鹵素的矽烷偶合劑。
在本發明的黏著劑組成物,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,矽烷偶合劑(C)的含量係通常為1質量份以下,較佳為0.01至1質量份,更佳為0.05至0.5質量份。含量為前述範圍時,有防止偏光板在高濕熱環境下剝落、矽烷偶合劑(C)在高溫環境下滲出之傾向。
抗靜電劑(D)例如能夠使用於為了降低由本發明的黏著劑組成物而形成的黏著劑層之表面電阻。作為抗靜電劑(D),例如可舉出界面活性劑、離子性化合物、導電性聚合
物。
作為界面活性劑,例如可舉出4級銨鹽類、醯胺4級銨鹽類、吡啶(pyridium)鹽類、具有1級至3級胺基等的陽離子性基之陽離子性界面活性劑;具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基等陰離子性基之陰離子性界面活性劑;烷基甜菜鹼類、烷基甲咪唑甜菜鹼類、烷基胺氧化物類、胺基酸硫酸酯類等兩性界面活性劑、甘油脂肪酸酯類、山梨醇酐脂肪酸酯類、聚氧伸乙基烷基胺類、聚氧伸乙基烷基胺脂肪酸酯類、N-羥乙基-N-2-羥烷基胺類、烷基二乙醇醯胺類等非離子性界面活性劑。
又,亦可舉出具有聚合性基之反應型乳化劑作為界面活性劑,亦能夠使用將含有上述的界面活性劑或反應性乳化劑之單體成分高分子量化而成之聚合物系界面活性劑。
離子性化合物係由陽離子部及陰離子部所構成,在室溫下(23℃/50%RH)可為固體狀或液體狀中的任一者。
作為構成離子性化合物之陽離子部,可為無機系陽離子或有機系陽離子中的任一者或二者。作為無機系陽離子,較佳為鹼金屬離子及鹼土類金屬離子,更佳為抗靜電性優異的Li+、Na+及K+。作為有機系陽離子,例如可舉出吡啶陽離子、哌啶陽離子、吡咯啶陽離子、吡咯啉(pyrroline)陽離子、吡咯陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子、吡唑啉陽離子、
四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子及該等衍生物。
作為構成離子性化合物之陰離子部,係只要可與陽離子部離子鍵結而形成離子性化合物者,就沒有特別限制。具體而言,可舉出F-、Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)2N-、(F2SO2)2N-、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、F(HF)n -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、(C2F5SO2)2N-、C3F7COO-及(CF3SO2)(CF3CO)N-。該等之中,由於含氟原子之陰離子可提供較低熔點的離子性化合物,故較佳,特佳為(F2SO2)2N-及(CF3SO2)2N-。
作為離子性化合物,較佳為雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鋰、雙(二氟磺醯基)醯亞胺鋰、參(三氟甲烷磺醯基)甲烷鋰、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鉀、雙(二氟磺醯基)醯亞胺鉀、1-乙基吡啶六氟磷酸鹽、1-丁基吡啶六氟磷酸鹽、1-己基-4-甲基吡啶六氟磷酸鹽、1-辛基-4-甲基吡啶六氟磷酸鹽、1-辛基-4-甲基吡啶雙(氟磺醯基)醯亞胺鹽、1-辛基-4-甲基吡啶雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鹽、(N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺鹽、1-辛基吡啶氟鋶醯亞胺鹽、1-辛基-3-甲基吡啶、三氟鋶醯亞胺。
作為導電性聚合物,例如可舉出聚噻吩、聚苯胺、聚吡咯及該等衍生物。
在本發明的黏著劑組成物,相對於(甲基)丙烯酸系共聚物(A)100質量份,抗靜電劑(D)的含量通常為3質量份以下,較佳為0.01至3質量份,更佳為0.05至2.5質量份。
為了調整塗佈性,本發明的黏著劑組成物較佳為含有有機溶劑(E)。作為有機溶劑,可舉出在(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的欄已說明的聚合溶劑。例如能夠將上述共聚合所得到的含有(甲基)丙烯酸系共聚物(A)及聚合溶劑之聚合物溶液、與交聯劑(B)混合而調製出黏著劑組成物。在本發明的黏著劑組成物,有機溶劑(E)的含量係通常為50至90質量%,較佳為60至85質量%。
又,在本說明書,所謂「固形份」,係指從黏著劑組成物中的含有成分之中除去上述有機溶劑(E)後的總成分,所謂「固形份濃度」,係指相對於黏著劑組成物100質量%,前述固形份的比率。
本發明的黏著劑組成物,係除了上述成分以外,在不損害本發明的效果之範圍,亦可含有選自抗氧化劑、光安定劑、抗金屬腐蝕劑、黏著賦予劑、可塑劑、交聯促進劑、前述(A)以外的(甲基)丙烯酸系聚合物及重加工劑之1種或2種以上。
本發明的黏著劑組成物,係能夠藉由使用先前眾所周知的方法將(甲基)丙烯酸系共聚物(A)、交聯劑(B)及按照必要之其他成分進行混合而調製。例如可舉出於合成(甲基)丙烯酸系共聚物(A)時所得到的含有該聚合物之聚合物溶液中,調配交聯劑(B)及按照必要之其他成分。
使用本發明的黏著劑組成物,即使在只有在偏光片的一面具有偏光片保護膜之偏光板、及在偏光片的兩面皆不具有偏光片保護膜之偏光板上形成黏著劑層時,均能夠抑制偏光板及基板產生翹曲、以及漏光現象。又,在本發明,即便黏著劑層直接相接偏光片之構成,在高溫/高濕熱環境下亦能夠抑制黏著劑層斷裂、偏光板剝落等。
本發明的黏著劑組成物係適用於構成液晶單元之基板與偏光片的貼合用途。特別是即便以薄型化的液晶單元構成之玻璃板的厚度為0.05至1.0mm左右較小之情形時,亦適合於該基板與偏光片的貼合用途。
由本發明的黏著劑組成物所形成的黏著劑之凝膠分率,較佳為40質量%以上,更佳為50至95質量%,又更佳為55至90質量%。前述凝膠分率係例如在實施例記載的條件下,針對所採取的黏著劑所測定之值。
本發明的偏光板用黏著劑層係由上述的黏著劑組成物所形成。藉由使用本發明的黏著劑組成物,能夠形成具有以下的光彈性特性之黏著劑層。
本發明的黏著劑層的光彈性模數,較佳為-150至+150,更較佳為-100至+100,又更佳為-70至+70。光彈性模數的單位為10-12m2/N。
上述光彈性模數,係例如將上述黏著劑層彼此貼合複數次而製造厚度約1.0mm的積層體,針對該積層體以測定波長633nm進行測定。詳細的測定條件係如實施例所記載。
因為本發明的黏著劑層係具有以上的特性,所以即便在高溫/高濕熱環境下亦具有優異的防漏光性。又,本發明的黏著劑層係在常溫具有優異的硬質性且加工性提升。例如在裁切黏著劑層時,能夠防止黏著劑附著在裁切刀刃、黏著劑層拉絲等。又,由於本發明的黏著劑層係在高溫環境下具有充分的柔軟性,所以能夠將起因於偏光片的熱收縮(尺寸變化)之應力充分地緩和。因此,即便暴露在高溫環境,亦能夠減低被黏著物的翹曲,且不容易產生黏著劑層斷裂、黏著劑層從偏光板剝落之情形。
從偏光板的應變抑制、凝聚力、接著力、再剝離性的觀點而言,由本發明的黏著劑組成物所形成之黏著劑層,其凝膠分率較佳為40質量%以上,更佳為50至95質量%,又更佳為55至90質量%。凝膠分率為前述範圍時,黏著劑層顯示優異的耐久性。
本發明的黏著劑層,係例如藉由上述黏著劑組成物中進行交聯反應,具體而言,係能夠以交聯劑(B)使(甲基)丙烯酸系共聚物(A)交聯來得到。
黏著劑層的形成條件係如以下所述。將本發明的黏著劑組成物塗佈於支撐體上,雖取決於溶劑的種類而不同,通常為50至150℃,較佳為60至100℃,通常為乾燥1至10分鐘,較佳為2至7分鐘而去除溶劑來形成塗膜。乾燥塗膜的膜厚係通常為5至75μm,較佳為10至50μm。
黏著劑層較佳為以下述條件形成。將本發明的黏著劑組成物塗佈於支撐體上,將覆蓋薄膜貼附於以上述條件所形成的塗膜上後,通常為3天以上,較佳為7至10天,通常為5至60℃,較佳為15至40℃,通常為30至70%RH,較佳為40至70%RH的環境下進行熟化。如上述的熟化條件下進行交聯時,能夠效率良好地形成交聯體(網狀聚合物)。
作為黏著劑組成物的塗佈方法,能夠使用眾所周知的方法,例如旋轉塗佈法、刮刀塗佈法、輥塗佈法、棒塗佈法、刮板塗佈法、模塗佈法、凹版塗佈法等且以成為預定厚度之方式進行塗佈/乾燥之方法。
作為支撐體及覆蓋膜,例如可舉出聚對酞酸乙二酯(PET)等的聚酯膜;聚乙烯、聚丙烯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等聚烯烴膜等塑膠膜。
本發明的偏光板用黏著片,係具有由上述的黏著劑組成物所形之黏著劑層。作為黏著片,例如可舉出只具有上述黏著劑層之兩面黏著片;具有基材、及在基材兩面形成的上述黏著劑層之兩面黏著片;具有基材、及形成於基材的一面的上述黏著劑層之單面黏著片;以及在該等黏著片的黏著劑層之未與基材接觸的面,貼附經剝離處理的覆蓋膜而成之黏著片。
作為基材及覆蓋膜,例如可舉出聚對酞酸乙二酯(PET)等聚酯膜;聚乙烯、聚丙烯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等聚烯烴膜等的塑膠膜。
黏著劑層的形成條件,係與在[偏光板用黏著劑層]的欄所記載之條件相同。
從維持黏著性能的觀點而言,黏著劑層的膜厚係通常為5至75μm,較佳為10至50μm。基材及覆蓋膜的膜厚係沒有特別限定,通常為10至125μm,較佳為25至75μm。
本發明的附黏著劑層之偏光板,係具有直接積層在偏光片的至少一面之由本發明的黏著劑組成物所形成之黏著劑層。又,在本說明書,「偏光板」係包含「偏光膜」之意思而使用。
本發明的附黏著劑層之偏光板之一實施態
樣,係具有直接積層在偏光片的至少一面之由本發明的黏著劑組成物所形成之黏著劑層。
作為偏光板,係能夠使用先前眾所周知的偏光膜。例如可舉出偏光片本身;以及具有偏光片及配置在偏光片上的偏光片保護膜之多層膜。在本發明,上述黏著劑層係可以直接相接而配置在偏光片,例如可舉出只有在偏光片的一面配置偏光片保護膜,而在另一面不配置偏光片保護膜之構成;及在偏光片的兩面不配置偏光片保護膜之構成。
作為偏光片,例如可舉出使由聚乙烯醇系樹脂所構成之膜含有偏光成分且藉由延伸而得之延伸膜。作為聚乙烯醇系樹脂,例如可舉出聚乙烯醇、聚乙烯基縮甲醛、聚乙烯基縮乙醛、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物的皂化物。作為偏光成分,例如可舉出碘或二色性染料。
作為偏光片保護膜,例如可舉出由熱可塑性樹脂所構成之膜。作為熱可塑性樹脂,例如可舉出三乙酸纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯(polyarylate)樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及選自該等樹脂之2種以上的混合物。
偏光板的厚度係通常為10至200μm,較佳為50至100μm。在本發明,由於能夠將在省略形成於偏光片上之偏光片保護膜,故能夠使偏光板薄型化。
作為本發明的附黏著劑層之偏光板,例如依序積層偏光片保護膜、偏光片及上述黏著劑層之構成;依序積層偏光片保護膜、偏光片、偏光片保護膜及上述黏著劑層之構成;依序積層上述黏著劑層、偏光片保護膜、偏光片及上述黏著劑層之構成;依序積層上述黏著劑層、偏光片保護膜、偏光片、偏光片保護膜及上述黏著劑層之構成;依序積層上述黏著劑層、偏光片、上述黏著劑層之構成。在該等構成,亦可在黏著劑層上配置上述的覆蓋薄膜作為最外層。
在偏光板(例:偏光片)表面形成黏著劑層之方法係沒有特別限制,可舉出直接使用桿塗佈器等將上述黏著劑組成物塗佈在偏光板表面且使其乾燥及熟化之方法;及將本發明的偏光板用黏著片所具有之黏著劑層轉印至偏光板表面且使其熟化之方法。乾燥及熟化的條件、凝膠分率範圍等係與在[偏光板用黏著劑層]的欄所記載之條件相同。
黏著劑層的厚度,係乾燥膜厚通常為5至75μm,較佳為10至50μm。又,黏著劑層係在偏光板的至少一面上形成即可,可舉出只有在偏光板的一面形成黏著劑層之態樣;及在偏光板的兩面形成黏著劑層之態樣。
又,在上述偏光板,亦可積層例如保護層、防眩層、相位差層、視野角提升層等具有其他功能之層。
藉由在液晶單元的基板表面設置如上述方式所得之本發明的附黏著劑層之偏光板,而製造液晶元
件。在此,液晶單元係具有在2片基板間夾住液晶層之構造。
作為液晶單元所具有的基板,例如可舉出玻璃板。作為基板的厚度,通常為0.05至3mm,較佳為0.2至1mm。在本發明,藉由使用上述黏著劑組成物,即便將黏著劑層直接積層在偏光片上時,亦能夠抑制偏光板及基板之翹曲。因此,即便基板的厚度較小時(例:1mm以下,較佳為0.2至1mm),上述黏著劑組成物亦能夠適合使用於偏光板與基板的貼合。
以下,基於實施例而更具體地說明本發明,惟本發明係不限定於該等實施例。在以下的實施例等之記載,只要未特別提及,「份」表示「質量份」。
針對(甲基)丙烯酸系共聚物,係藉由凝膠滲透層析法(GPC法)且在下述條件下,求取重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
.測定裝置:HLC-8320GPC(TOSOH股份有限公司製)
.GPC管柱構成:以下的4連接管柱(全部TOSOH股份有限公司製)
(1)TSKgel HxL-H(保護管柱)
(2)TSKgel GMHxL
(3)TSKgel GMHxL
(4)TSKgel G2500HxL
.流速:1.0mL/min
.管柱溫度:40℃
.試樣濃度:1.5%(w/v)(使用四氫呋喃稀釋)
.移動相溶劑:四氫呋喃
.標準聚苯乙烯換算
針對(甲基)丙烯酸系共聚物,係以下述之方式進行而測定光彈性模數。
將合成例所得到之含有(甲基)丙烯酸系共聚物之聚合物溶液,塗佈在經剝離處理的聚對酞酸乙二酯薄膜之剝離處理面,於90℃乾燥3分鐘而形成乾燥膜厚20μm的塗膜(聚合物層)。將乾燥膜厚20μm的聚合物層彼此在23℃/50%RH環境下貼合複數次,在50℃/5atm的高壓釜進行處理20分鐘而製成厚度1.0mm聚合物層。將厚度1.0mm的聚合物層裁切為15mm×50mm的大小,使用治具將其安裝在自動波長掃描型橢圓偏光計(型式「M-220」、日本分光股份有限公司製),邊改變應力邊以測定波長633nm測定遲滯值。將橫軸採用應力、縱軸採用遲滯值時之傾斜度作為由上述(甲基)丙烯酸系共聚物之光彈性模數。
在具備有攪拌機、回流冷卻器、溫度計及氮氣導入管
之反應裝置,添加甲基丙烯酸月桂酯39份、甲基丙烯酸2-乙基己酯56份、甲基丙烯酸2-羥基乙酯5份及乙酸乙酯溶劑100份,邊導入氮氣邊升溫至80℃。其次,添加2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份,於氮氣環境、80℃,進行聚合反應6小時。反應結束後,使用乙酸乙酯進行稀釋,來調製固形份濃度30質量%的聚合物溶液。所得到的(甲基)丙烯酸系共聚物A1之重量平均分子量(Mw)為91萬,分子量分布(Mw/Mn)為6.2,光彈性模數為50.1×10-12(m2/N)。
除了將在聚合反應所使用的單體成分變更為如表1所記載以外,係與合成例1同樣地進行,來調製固形份濃度30質量%的聚合物溶液。結果顯示於表1。
(1)黏著劑組成物的調製
將合成例1所得到的聚合物溶液(固形份濃度30質量
%),及相對於在該溶液所含有的(甲基)丙烯酸系共聚物A1100份(固形份量),作為異氰酸酯化合物之綜研化學股份有限公司製「TD-75」(固形份75質量%、乙酸乙酯溶液)0.2份(固形份量)、作為矽烷偶合劑之信越化學工業股份有限公司製「KBM-403」(固形份100質量%)0.2份進行混合,而得到黏著劑組成物。
(2)黏著片的製造
將上述(1)所得到的黏著劑組成物消泡後,使用刮刀徒步器塗佈在經剝離處理的聚對酞酸乙二酯膜(PET薄膜)上,於90℃乾燥3分鐘而形成乾燥膜厚20μm的塗膜。在塗膜之與前述PET膜的貼附面為相反之面,進一步貼合經剝離處理的PET膜,而且在23℃/50%RH環境下靜置7天使其熟化,而得到具有在2片PET膜夾住有厚度20μm的黏著劑層之黏著片。
(3)附黏著劑層之偏光板的製造
將上述(1)所得到的黏著劑組成物消泡後,使用刮刀徒步器塗佈在經剝離處理的聚對酞酸乙二酯膜(PET薄膜)上,於90℃乾燥3分鐘而得到具有乾燥膜厚20μm的塗膜之片。將該片的塗膜面,以與由偏光片之聚乙烯醇膜及偏光片保護膜之三乙酸纖維素膜所構成之2層構成(厚度60μm)的偏光板的聚乙烯醇膜面接觸之方式貼合,而且在23℃/50%RH的條件下靜置7天使其熟化,而得到具有PET
膜、厚度20μm的黏著劑層、偏光片及偏光片保護膜之附黏著劑層之偏光板。
在實施例1,除了將聚合物溶液變更為各合成例所得到的聚合物溶液,將調配組成變更為如表2所記載以外,係與實施例1同樣地進行而得到黏著劑組成物、黏著片及附黏著劑層之偏光板。
從實施例、比較例所得到的黏著片採取黏著劑約0.1g至取樣瓶,添加乙酸乙酯30mL且振盪4小時後,使用200網目的不鏽鋼製金屬絲網過濾該試樣瓶的內容物,而且將金屬絲網上的殘留物於100℃乾燥2小時且測定乾燥重量。依照下式求取黏著劑的凝膠分率。
.凝膠分率(%)=(乾燥重量/黏著劑採取重量)×100(%)
在實施例、比較例所得到的黏著片,將厚度20μm的黏著劑層彼此在23℃/50%RH環境下貼合複數次,在50℃/5atm的高壓釜進行處理20分鐘而製成厚度1.0mm聚合物層。將黏著劑層裁切成15mm×50mm的大小,使用治具將其安裝在自動波長掃描型橢圓偏光計(型式「M-220」、日本分光股份有限公司製),邊改變應力邊以測定波長
633nm測定遲滯值。將橫軸採用應力、縱軸採用遲滯值時之傾斜度作為黏著劑層之光彈性模數。
將實施例、比較例所得到的附黏著劑層之偏光板(由PET膜/黏著劑層/偏光片/偏光片保護膜所構成之積層體),裁切為150mm×250mm的大小而製成試片。將PET薄膜從試片剝離,使用貼合機輥筒將由黏著劑層/偏光片/偏光片保護膜所構成之積層體,以黏著劑層與玻璃板接觸的方式貼附在厚度0.5mm的玻璃板之一面。將所得到的積層體在調整為50℃/5氣壓的高壓釜中保持20分鐘而製成試驗板。製作2片同樣的試驗板。將前述試驗板,在溫度80℃的條件下(耐熱性)或溫度60℃/濕度90%RH的條件下(耐濕熱性)放置500小時,基於以下的基準進行觀察發泡、浮起、剝落的產生而進行評價。
AA:未觀察到發泡、浮起、剝落等的外觀缺陷
BB:僅觀察到些微發泡、浮起、剝落等的外觀缺陷
CC:觀察到明顯的發泡、浮起、剝落等的外觀缺陷
將實施例、比較例所得到的2片附黏著劑的偏光板(由PET膜/黏著劑層/偏光片/偏光片保護膜所構成之積層體)裁切成310mm×385mm的大小而製成試片。將PET膜從試片剝離,使用貼合機輥筒將由黏著劑層/偏光片/偏光片保
護膜所構成之積層體,以互相的偏光軸為正交之方式且黏著劑層與玻璃板接觸之方式貼附在厚度0.5mm的玻璃板之兩側。將所得到的積層體,在經調整成為50℃/5氣壓之高壓釜保持20分鐘而製成試驗板。將該試驗板在溫度80℃的條件下放置500小時且基於以下的基準進行觀察漏光。
AA:未觀察到漏光
BB:觀察到些微的漏光
CC:觀察到明顯的漏光
使用THOMSON沖切機以50mm×50mm的THOMSON刀刃,將實施例、比較例所得到的黏著片切割30片。觀察剛裁切後之端部的形狀,將30片中連1處也未觀察到糊劑之擠出、端部塌陷、黏著劑層缺損者,判定為AA,將觀察到者判定為CC。
.TD-75:三羥甲基丙烷改性苯二甲基二異氰酸酯(綜研化學股份有限公司製、固形份75質量%、乙
酸乙酯溶液)
.KBM-403:3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製)
Claims (11)
- 一種偏光板用黏著劑組成物,含有(A)(甲基)丙烯酸系共聚物,其係將含有:均聚物的光彈性模數為-1000×10-12至-100×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、均聚物的光彈性模數為+100×10-12至+1000×10-12(m2/N)之(甲基)丙烯酸烷酯(a2)、及含交聯性官能基的單體(a3)之單體成分共聚合而得到者;以及(B)交聯劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之偏光板用黏著劑組成物,其中前述(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之均聚物的Tg為-30℃以下,前述(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之均聚物的Tg為-20℃以上。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板用黏著劑組成物,其中(甲基)丙烯酸系共聚物(A)的光彈性模數為-150×10-12至+150×10-12(m2/N)。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板用黏著劑組成物,其中交聯劑(B)係含有異氰酸酯化合物(B1)。
- 如申請專利範圍第4項所述之偏光板用黏著劑組成物,其中異氰酸酯化合物(B1)係選自苯二甲基二異氰酸酯系交聯劑及六亞甲基二異氰酸酯系交聯劑之至少1種。
- 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板用黏著劑組成物,係用以形成與偏光片直接相接之黏著劑層者。
- 一種偏光板用黏著劑層,係由申請專利範圍第1至6 項中任一項所述之黏著劑組成物所形成。
- 如申請專利範圍第7項所述之偏光板用黏著劑層,其光彈性模數為-150×10-12至+150×10-12(m2/N)。
- 一種偏光板用黏著片,係具有申請專利範圍第7或8項所述之黏著劑層。
- 一種附黏著劑層之偏光板,係具有偏光板、及積層在前述偏光板的至少一面之申請專利範圍第7或8項所述之黏著劑層。
- 一種附黏著劑層之偏光板,係具有直接積層在偏光片的至少一面之申請專利範圍第7或8項所述之黏著劑層。
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