TW201616595A - 真空鎖系統及基片處理方法 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410553794.4A CN105575848B (zh) | 2014-10-17 | 2014-10-17 | 真空锁系统及基片处理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201616595A true TW201616595A (zh) | 2016-05-01 |
TWI563588B TWI563588B (ja) | 2016-12-21 |
Family
ID=55885845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103145594A TW201616595A (zh) | 2014-10-17 | 2014-12-25 | 真空鎖系統及基片處理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105575848B (ja) |
TW (1) | TW201616595A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI827654B (zh) * | 2018-08-28 | 2024-01-01 | 美商蘭姆研究公司 | 用於基板處理系統之侷限環與在基板處理系統中使用侷限環的方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107611054B (zh) * | 2016-07-12 | 2020-02-14 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 反应腔室 |
CN108470704B (zh) * | 2017-02-23 | 2021-01-29 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 传片腔室及半导体加工设备 |
CN111373519B (zh) * | 2017-11-16 | 2021-11-23 | 应用材料公司 | 高压蒸气退火处理设备 |
CN112725747B (zh) * | 2019-10-29 | 2022-10-18 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种磁控溅射机台 |
CN112779510B (zh) * | 2019-11-11 | 2022-11-11 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种磁控溅射镀膜设备 |
CN113035752B (zh) * | 2021-03-05 | 2022-11-11 | 上海广川科技有限公司 | 负载锁定装置及基片传片方法 |
CN114695222B (zh) * | 2022-06-02 | 2022-08-16 | 江苏邑文微电子科技有限公司 | 晶片传输系统和方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6750155B2 (en) * | 2001-08-08 | 2004-06-15 | Lam Research Corporation | Methods to minimize moisture condensation over a substrate in a rapid cycle chamber |
JP4520677B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2010-08-11 | キヤノンアネルバ株式会社 | マルチチャンバースパッタ処理装置 |
JP4540953B2 (ja) * | 2003-08-28 | 2010-09-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | 基板加熱装置及びマルチチャンバー基板処理装置 |
JP4524132B2 (ja) * | 2004-03-30 | 2010-08-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
DE102005039452B4 (de) * | 2005-08-18 | 2007-08-09 | Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg | Übergabeeinrichtung in Handhabungs- oder Bearbeitungsanlagen für großflächige Substrate |
TWI413153B (zh) * | 2006-01-27 | 2013-10-21 | Advanced Micro Fab Equip Inc | 半導體處理腔室 |
JP5108557B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2012-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック装置および基板冷却方法 |
US20110064545A1 (en) * | 2009-09-16 | 2011-03-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate transfer mechanism with preheating features |
-
2014
- 2014-10-17 CN CN201410553794.4A patent/CN105575848B/zh active Active
- 2014-12-25 TW TW103145594A patent/TW201616595A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI827654B (zh) * | 2018-08-28 | 2024-01-01 | 美商蘭姆研究公司 | 用於基板處理系統之侷限環與在基板處理系統中使用侷限環的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105575848B (zh) | 2018-08-28 |
CN105575848A (zh) | 2016-05-11 |
TWI563588B (ja) | 2016-12-21 |
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