TW201606921A - 植入用遮罩及其對準 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種系統和方法,用以對準位在一陰影遮罩下的基板。基板保持器具有對準機構,例如滾輪,用來抵靠一對準用直形邊緣。接著將該基板對準到該對準用直形邊緣並夾持該基板至該基板保持器。之後將該基板保持器輸送到真空加工腔室。在腔室中,基板抵靠該陰影遮罩所連接並對準的遮罩直形邊緣。由於該基板已對準到一對準用直形邊緣,並且由於該遮罩也對準該遮罩直形邊緣,而該遮罩直形邊緣又精確對準到該對準用直形邊緣,故而基板可完美的對準到遮罩。
Description
本申請案主張美國專利臨時申請案,案號62/033,104,申請日2014年8月5日之優先權,其全部公開內容在此引用併入參考。
本發明是關於半導體裝置的製造,特別是關於在製造過程,例如掩蔽離子植入製程中使用的遮罩。
通常,植入的圖案須滿足對特徵精度的嚴格要求,例如植入線的位置和間距的精度。該植入線可為例如金屬手指下方,用以提高電導的植入物,而該金屬手指則用來從太陽能電池提取電流。這些植入線可能是非常薄,也非常緻密(即,窄間距),需要有高精度的植入特徵。在許多情況下,在同一基板上需植入多數的圖案。在這種情況下,不但在單一的植入步驟中需將所植入的圖案保持高程度的精確性,在多次的植入步驟亦然。且該多次的植入步驟有時需經過不同的加工工具。為了達到這個目的,在基板和圖案遮罩之間,必須達成高精度的對準。常見的方法是在真空中使遮罩和基板精確對準,然後通過該遮罩執行植入。但這種方法有一些缺點,包括以下所述。在真空環境中執行精確的對準,無論是光學的對準或其他方式的對準,都相當困難且非常昂貴。如果要執行多次的植入,則需要重複多次的精確對準,才能適應為不同的圖案所使用的各次的遮罩更換。在真空環境中交換遮罩會降低對準的精確度,提高成本及複雜性。
因此,目前業界亟須有一種簡化的系統,用來執行基板對遮罩的對準。通常而言,任何在常壓環境中所能執行的對準步驟,都可以降低系統的複雜性和成本。此外,基板保持器在整個系統內的運輸過程中,如果不需要精確的保持其朝向,將可進一步降低系統的複雜性和成本。
以下對本發明的簡述,目的在於對本發明之數種面向和技術特徵作一基本說明。發明簡述並非對本發明的詳細表述,因此其目的不在特別列舉本發明的關鍵性或重要元件,也不是用來界定本發明的範圍。其唯一目的是以簡明的方式呈現本發明的數種概念,作為以下詳細說明的前言。
本發明所揭示的實施例可以使用一個或多個遮罩加工一基板,且各遮罩都可以精確的對準到基板。這種效果實現在該基板上產生多個圖案,且圖案間能互相對準的目的。初始的對準步驟可在將基板導入真空之前,即在常壓環境中執行,且該初始對準在整個真空中的加工過程中,仍能保持。此外,基板保持器在其運行經過整個系統的過程中,並不需要精確定向。而是在每個加工站都提供對準機構,以確保該保持器的精確定向,使得該基板可精確的對準到遮罩。應當理解的是,在本說明書中所稱的「遮罩」,是指以一薄片製成,例如薄金屬片製成的遮罩,有時也稱為陰影遮罩。
根據本發明公開的實施例,基板是精確對準(光學對準或其他方式的對準)到在常壓中的參考邊緣。對準後該基板在多個遮罩下方行進時,就會自行對準到每個具有內建導引桿的遮罩。這種設計提供了多重優點。例如,精確的定位可以在常壓中執行,而在常壓中能夠採用的方法選擇性較高,且成本也較便宜。該遮罩可予固定,且連續步驟中所使用的遮罩不需一一從真空環境中移出,以執行對準。另外,由於該遮罩可以在各自的加工站中保持靜止,各個遮罩都可以達到熱平衡。因此,由於熱效應所產生的尺寸變化可予最小化。由於遮罩是保持在真空中,故而不會經受熱循環,從而可使剝落的可能性達到最小。此外,由於遮罩是靜止不動,可以減少所需的機械操作。這種結果的優點是可以避免脆弱的遮罩在機械化的搬運過程中破損。不但如此,本發明不需為每一個遮罩執行精確的對準,即可進行多次的植入。
根據本發明所揭示的面向,本發明提供一種系統,用於將一基板對準到加工遮罩,該系統包括:一基板保持器,具有一保持器對準機構;一系統導引構造,建置成可由該保持器對準機構接合,以將該基板保持器定向至該系統導引構造;一遮罩對準機構,連接到一加工腔室,並對準到該系統導引構造;該遮罩對準機構具有遮罩連接機構,用於將一加工遮罩連接到該遮罩對準機構,並形成精確的對準;及軌道,位在該加工遮罩下方,並建置成使該基板保持器在該基保持器對準機構接合該遮罩對準機構時,可將基板放置在該遮罩下方。該保持器對準機構可以包括至少兩個滾輪。該系統導引構造可包括一直線邊緣,建置成可由該滾輪接合。該遮罩對準機構可以包括一直形桿,建置成可由該滾輪接合。該系統還可以包括一載具,建置成可在該軌道上運行,並支撐該基板保持器。該基板保持器可建置成可在該載具上,以兩個自由度自由移動。該載具可包括一個座部,且該基板保持器可包括一延伸部,建置成可延伸到該座部內,並提供足夠的間隙,以使該基板保持器在該兩個自由度中移動。該載具可建置成可同時保持多個基板保持器。該載具可建置成可保持1Xn個基板保持器所形成的線性陣列,其中n是一個自然數,n等於或大於2。該遮罩對準機構可以包括多個直形桿,各自建置成可接合該基板保持器之一,且個別具有一個遮罩,連接於該直形桿上。該滾輪可予磁化,且該直形邊緣與該直形桿可由順磁材料或鐵磁材料製成。替代的作法或附加的作法是,提供反身引導器,以將該基板保持器推壓向該直形桿。
根據本發明進一步的面向,乃是提供一種離子植入系統,該系統包括:一個常壓對準腔室,包括軌道及一保持器對準機構;一真空離子植入腔室,耦接至該常壓對準腔室,並包括一離子源,軌道,對準至該保持器對準機構的遮罩對準機構,及連接到該遮罩對準機構的遮罩;及一基板保持器,建置成用於夾持一基板,並具有接合機構,用以在該基板保持器接合至該保持器對準機構,且接合至該遮罩對準機構時,可定向該基板保持器。該保持器對準機構可以包括一個直形邊緣,且該遮罩對準機構可包括一個直形邊緣,以平行的朝向對準到該保持器對準機構。該接合機構可包括多個滾輪,均配置成用於接合該保持器對準機構及該遮罩對準機構,並可進一步包括彈性導向件,配置成可將該基板保持器推壓向該直線邊緣。該滾輪中至少一個滾輪或該直形邊緣的至少一個直形邊緣可予磁化。該系統還可以包括一載具,配置成可在該軌道上運行,並支撐該基板保持器。該載具可以建置成可使該基板保持器在兩個自由度中自由移動。
根據本發明另外的面向,乃是提供一種方法,用於將一基板對準到一陰影遮罩。該方法包括:將一基板放置於一基板保持器的上方;使該基板保持器抵靠一對準用直形邊緣,並使該基板定向到一期望的朝向;在該基板保持器抵靠該對準用直形邊緣之下,使該基板保持器夾持該基板在該期望的朝向;移動該基板保持器到一真空腔室,該真空腔室具有一陰影遮罩,連接到一遮罩直形邊緣;使該基板保持器在一位置抵靠該遮罩的直形邊緣,該位置使該基板位於該陰影遮罩下方;對該基板通過該遮罩執行一加工步驟;及從該真空腔室移除該基板保持器。該使基板保持器抵靠一對準用直形邊緣的步驟可包括將連接到該基板保持器的滾輪推壓向該對準用直形邊緣。該定向該基板到一期望朝向的步驟可包括根據該對準用直形邊緣上的代表記號定向該基板。
根據本發明各種實施例,該基板是放置在一個靜電吸盤或其它基座或保持器(以下統稱為保持器,以包括任何用來支持和夾持一基板的裝置)上,而該保持器則在一載具上,運行進入及移出該真空系統。該基板保持器具有多數的對準用特徵及/或滾輪,位在該保持器的一邊緣或多邊緣,可被帶到與一精確基準邊緣接觸(無論是在常壓中或在真空中)。該對準用特徵可以磁力、以機械方式或其他方式,帶到與該精確基準邊緣形成精確對準,從而使該對準用特徵推壓該邊緣。在本發明一個實施例中,該對準用特徵包括多數滾輪,且該滾輪的切線依循到一對準桿的對準邊緣。該基板是精確對準(例如光學對準)到該保持器的固定參考邊緣,並且因此對準到該保持器的對準特徵的切線,例如該滾輪的切線。在該保持器/載具上建置多數的特徵,以提高光學或機械方法的對準,並可用來作為參考或做為代表記號。
在該基板已經對準到該保持器之後,將該基板夾持(例如使用靜電吸盤,真空吸盤,機械夾盤等夾持)在該基板保持器上,以防止基板移動離開其位置和朝向。為達成此目的,可使用例如電容充電方法,使該保持器之後可以分離,並自由移出該對準位置,但同時使該基板保持夾持在精確朝向的狀態。由於該保持器是對準到該基準邊緣,且該基板也對準該保持器,該基板會精確的對準到該參考邊緣。如果使用滾輪做為對準的基準,該基板應對準到該保持器上的對準用滾輪的切線。
圖1和2顯示本發明一個實施例,其中使用滾輪以將該保持器對準到該精確邊緣。如圖所示,晶圓105是放置在晶圓保持器110上方。做法上是例如在一常壓裝載模組中,以手動或使用機器手臂裝載。其後使該保持器110的滾輪120接觸該精確直形邊緣115。該滾輪120與該直形邊緣都是經精密加工,使得滾輪120與邊緣115在經過多次的接合後,仍能使保持器110相對於邊緣115的朝向,保持相同。在該接合位置上,該晶圓會對準到相對於該直形邊緣的一個預先選定的朝向。在對準之後,將該晶圓夾持/夾緊到保持器上。需要注意的是,該晶圓對該保持器110的定向或對準其實是無關緊要。重要的是,晶圓105對該直形邊緣115的對準。一旦晶圓105已經夾持至保持器110,並呈現對直形邊緣115適當的朝向,即使將該保持器110送到與該直形邊緣115接觸,該晶圓仍能對準到該直形邊緣115。
如圖3所示,有一遮罩130連接到一直形邊緣117(在本說明書中有時會稱為直形桿117,以幫助讀者將該邊緣與用來做基板的初始對準所使用的直形邊緣區別)。該直形邊緣117是定位成與該直形邊緣115形成精確的對應性對準,使得在該保持器110的滾輪120接合該直形邊緣117時,該晶圓將以相同於之前對該直形邊緣115的朝向,對準對該直線邊緣117的朝向。該遮罩130是連接到該直形邊緣117,使得圖案132對準該直形邊緣117。由於晶圓105是對準到該直形邊緣117,且該圖案132也對準該直形邊緣117,因此該圖案132會對準到該晶圓105。
該系統可具有多數的遮罩130,連接到相應的直形邊緣117,並使該保持器可以從一個位置轉移到另一個位置,且在每個加工站中,只要滾輪120接合到該直形邊緣117,就可確保該遮罩對準到該晶圓。這種情形顯示於圖5,該圖顯示從保持器和遮罩下方仰視的狀態。如圖所示,滾輪120接合到直形邊緣/直形桿117。為了確保保持器110對遮罩直形邊緣117的適當對準,該滾輪120必須能正確的接合到直形邊緣117。為達成此目的,可將滾輪磁化,使其被吸引而抵靠或推壓該直形邊緣117。也可採用其它的方法,例如圖中虛線所示的,以彈簧加載或以彈性導軌126,迫使滾輪120抵靠或推壓向直形邊緣。也可使用其它機構,只要能確保滾輪能夠抵靠/推壓該直形邊緣,以確保正確的對準即可。
該遮罩130是安裝在直形邊緣117上,位於該晶圓105的上方。該保持器 110可使用滾輪而運行。該滾輪可沿該直形邊緣移動,以進行通過式的加工,也可停留在該遮罩下方的特定位置,以進行靜置式的加工。不管加工的類型為何,在整個系統中,該一條或多條直形邊緣117都會常時對準到該直形邊緣115 。因此,只需維持直形邊緣的對準的精確度,就可以確保晶圓與遮罩將始終保持對準,而在該保持器的運行過程中,該精度可予放寬。因此,該保持器110可以利用簡單和廉價的設計製作,因為本發明並不要求將晶圓或遮罩對準到保持器。
圖4顯示本發明一個實施例,其中該晶圓保持器110在系統中是在一載具125上移送。如圖中箭頭所示,該保持器110是放置在載具125上,並使保持器110可以在兩個自由度中自由移動。亦即,在載具的頂面表面的平面上移動。雖然其移動只限制到一預定的範圍內,但已經足以允許該保持器110相對於該載具125,自由改變其朝向。理想的做法是將限制該保持器不能改變其位置高度。因此,當該載具進入一加工腔室,該加工腔室內具有一遮罩,該遮罩具有一直形邊緣定位在其上,該載具即會移動到使該滾輪120接合該直形邊緣117的位置。由於該保持器110可以在該載具125的上面自由移動以改變其朝向,該保持器可以通過滾輪120而對準到位在該遮罩下方的一個精確的位置,並與上方的遮罩形成一預定的距離。
在本發明公開的實施例中,該基板保持器110是在該載具125中「浮動」。該載具125輸送該基板105在一個或多個遮罩下方移動,個數因該系列的植入所需而定,而該基板105之前就已經精確的對準到滾輪120。該保持器110和該載具125是提供基板保持的作用,並可充作吸熱器及電導體,以改善基板的冷卻並提供放電通道。然而,本發明並不需要確保基板105對保持器110或載具125的對準精度。所需的對準本質上是在該晶圓與對準保持機構之間的對準。在本發明所公開的實施方案中,該對準保持機構即是該滾輪120。
在本發明一些實施例中,該保持器及/或該載具可具有掩蔽機構,用以進一步掩蔽該基板,使植入物和沉積物不會達到基板。例如,該保持器及/或該載具可具有該掩蔽機構,例如為附隨的陰影遮罩,用來覆蓋該晶圓的邊緣,以防止邊緣分流。圖6即顯示該掩蔽機構的一種實例,其中有兩支桿133覆蓋該晶圓105的兩個邊緣。該桿133可以連接到該保持器110或該載具125,並通過該遮罩的下方。據此,離子植入物所形成的實際圖案將是通過該離子植入源側的遮罩,並經過附隨在該保持器或載具的陰影遮罩,達到該基板的離子所形成。
圖7是沿圖8的A-A線所見的橫截面,顯示該保持器110在該載具125上面浮動的一種實施方式,該保持器110在該載具125上面可在兩個自由度內運動,以達成對準。在本實施例中,該載具125包括一座部140 。在本實施例中是使用一具有圓形形狀的孔形成的凹部。該保持器110具有一延伸部127,可以延伸到該座部140內。該延伸部127的外部尺寸是建置成小於座部140的內部尺寸,以使延伸部127和座部140之間的空間或間隙足以提供該兩個自由度的「游隙」。圖7所示的實施例中,該座部140和該延伸部127都是圓形,使得延伸部127的外徑小於座部140的內徑,兩者間為一預設的差值。使延伸部127和座部140之間產生自由空間。
圖8顯示一種實例,其中一個載具125包括多數的座部140,以供同時負載多個支持器110。在圖8的例子中,載具125承載1Xn個保持器110,形成一線性陣列。其中,n是一個自然數,n等於或遮罩大於2。有相似數量的遮罩與對應的直形邊緣位在每個加工腔室中,使該1Xn的陣列的基板可同時對準並同時加工。載具125在系統中以箭頭所示的方向運行,使得該多個保持器110接合相對應的直形邊緣117,而同時將各晶圓帶到各遮罩130的下方。
圖9顯示一種植入系統900的實施例,該植入系統900具有一對準腔905,一第一植入腔室910和一第二植入腔室915。在植入系統900中,每個植入源920,925都配備一個對應的遮罩130,130',各遮罩130,130'都具有精確對準的直形桿117,117’,做為對準組件。精確對準直形桿117,117'是精確地對準到該基板對準腔室905的基準邊緣115。該遮罩特徵則是在安裝到系統900之前或在安裝期間,即精確對準到該直形桿117,117 '。
該載具首先進入該對準模組905,在該模組中,該基板保持器110接合該對準用直形邊緣115,而該晶圓則對準到該直形邊緣,或對準到設置在該直形邊緣或該保持器上的代表記號。執行對準時可使用治具,例如使用光學攝像機908。該治具也可以包括雷射指示器909,用以標記出該基板在該保持器110上應在的正確位置。一旦完成晶圓的對準,即將晶圓夾持到保持器110上。
在該載具125連同該保持器110夾持該基板後,載具125即在軌道955上行進,以將該基板送到該遮罩下方。該浮動的基板保持器110(已經預先對準到基板)的對準用滾輪貼附到該遮罩直形桿117,117 '(例如以機械方式及/或磁力),並自由的滾動通過該遮罩130,130’下方,如有必要並可停止在該遮罩130,130’下方。該對準用滾輪的切線對準到該遮罩直形桿117,117'。由於該基板已經對準到該等滾輪,該基板現也已對準到該遮罩直形桿,並因此對準到該遮罩上的特徵/圖案。該離子束922依需求以連續方式或以脈衝形式提供,而該晶圓在該遮罩下方通過,也可以在該遮罩下方停止,以在基板上產生所需的植入圖案。
在本發明一些實施方案中,在圖9中標示為「d」,位在該基板和該遮罩130之間的垂直間隙,可以進行調整以提供下一層級的植入區域定義。另一種替代的做法,或附加的做法是,使用光束光學操控,以調整光束在正交方向上的發散,而提供所需的植入區域尺寸。可使基板保持器及/或遮罩的一者或兩者浮動,以提供滾輪對該遮罩的精確邊緣的對準。
在該腔室910內的植入製程完成後,將該載具移動到下一個植入腔室915,此時該保持器110即會自我對準到該下一個遮罩130'。應注意的是,雖然在圖9中是顯示離子植入源920和925位在兩個不同的腔室910和915,但植入源實際上可以只位在同一個真空腔室內。
應當理解的是,本發明所公開的實施例可以不須使用在真空中的對準用機構,這種機構複雜而昂貴。本發明對於遮罩和基板保持器的製造,提供出更大的自由度。本發明系統中多數的部件,包括該保持器和該載具,都可以低成本製造,並且無需包括對準基板所用的對準機構。本發明只需要在最開始將所有的遮罩直形桿對準到向直形邊緣115,即不須其他的對準步驟。其後每個遮罩都會對準到其直形桿,並會固定在其正確的對準。該步驟也只需執行一次。其後,每個晶圓都很容易的對準到直形邊緣,使得晶圓可以自動的對準到系統中所有的遮罩。
最後,必須說明的是,本案所揭示的方法步驟與技術並不限於應用在任何特定的裝置,且可以使用任何適用的元件組合加以達成。此外,各種態樣之泛用性裝置也可根據本案揭示的內容適用在本發明中。如果使用特別設計的裝置來實施本發明該的方法步驟,也可能獲得更多優點。本發明既已利用特定之實施例說明如上,上述之說明目的僅在例示本發明,而非用以限制本發明。於此行業具有普通知識、技術之人士,不難由以上之說明,衍伸出其他不同的硬體、軟體以及韌體組合,而實現本發明之內容。
本發明已經根據特定的實施例說明如上,各種面向的實施例,目的只是用以說明,而非用以限制本發明的範圍。習於斯藝之人士都可以理解,以硬體、軟體和韌體作各種不同的組合,都適於實施本發明。此外,本發明的其它的實施方式,對於此行業具有通常知識、技術人士,只要參考本案的說明書以及其中所述的本發明實施方式,也將是顯而易見。本案所記載的實施例中的各種面向及/或元件,都可單獨使用或以任何方式組合後,使用在真空腔室的加工技術。本案的說明書和實施例應認為屬於例示性,而本發明的真正範圍和精神應由以下申請專利範圍界定。
110‧‧‧晶圓保持器、基板保持器
115‧‧‧直形邊緣
117,117’‧‧‧直形邊緣/直形桿
117‧‧‧延伸部
120‧‧‧滾輪
125‧‧‧載具
126‧‧‧彈性導軌
130,130'‧‧‧遮罩
132‧‧‧圖案
133‧‧‧桿
140‧‧‧座部
900‧‧‧植入系統
905‧‧‧對準腔
908‧‧‧攝像機
909‧‧‧雷射指示器
910‧‧‧第一植入腔室
915‧‧‧第二植入腔室
920,925‧‧‧植入源
922‧‧‧離子束
955‧‧‧軌道
115‧‧‧直形邊緣
117,117’‧‧‧直形邊緣/直形桿
117‧‧‧延伸部
120‧‧‧滾輪
125‧‧‧載具
126‧‧‧彈性導軌
130,130'‧‧‧遮罩
132‧‧‧圖案
133‧‧‧桿
140‧‧‧座部
900‧‧‧植入系統
905‧‧‧對準腔
908‧‧‧攝像機
909‧‧‧雷射指示器
910‧‧‧第一植入腔室
915‧‧‧第二植入腔室
920,925‧‧‧植入源
922‧‧‧離子束
955‧‧‧軌道
所附的圖式納入本件專利說明書中,並成為其一部份,是用來例示本發明的實施例,並與本案的說明內容共同用來說明及展示本發明的原理。圖式的目的只在以圖型方式例示本發明實施例的主要特徵。圖式並不是用來顯示實際上的範例的全部特徵,也不是用來表示其中每一個元件之相對尺寸,或其比例。
圖 1顯示根據本發明一個實施例,一基板位於一基板保持器上的狀態,其中該基板保持器對準到一外部精確邊緣。 圖 2顯示根據本發明一個實施例,一基板位於一基板保持器上的狀態,其中該基板保持器具有對準用滾輪,用以對準一外部精確邊緣。 圖 3顯示根據本發明一個實施例,一遮罩連接到一遮罩保持器的狀態,其中該遮罩對準並耦合到一個精確邊緣,該精確邊緣供作一導引桿。 圖 4顯示根據本發明一個實施例,一基板位於一基板保持器上的狀態,其中該基板保持器定位在一載具的上方。 圖 5顯示根據本發明一個實施例,一基板位於一基板保持器上的狀態,其中該基板保持器對準到一精確的導引桿,該精確的導引桿支持該遮罩。 圖 6顯示根據本發明一個實施例,一基板保持器位於該載具上的狀態,並顯示一掩蔽機構,提供以掩蔽該基板的一部分。 圖 7顯示根據本發明一個實施例,一基板位於其對應之基板保持器上的狀態,其中該基板保持器定位在一浮動裝置內,亦即可以在該載具的平面內自由移動,以便使該基板保持器可以對準到一外部精確邊緣與該遮罩導引桿的狀態。 圖 8顯示根據本發明一個實施例,用於使一基板保持器定位在一浮動裝置內的機構,亦即可以在該載具的平面內自由移動,以便使該基板保持器可以對準到一外部精確邊緣與該遮罩導引桿的狀態。 圖 9顯示根據本發明一個實施例的離子植入系統。
110‧‧‧晶圓保持器、基板保持器
117‧‧‧直形邊緣/直形桿
120‧‧‧滾輪
126‧‧‧彈性導軌
130‧‧‧遮罩
Claims (20)
- 一種系統,用於將一基板對準到加工遮罩,該系統包括: 一基板保持器,具有一保持器對準機構; 一系統導引構造,建置成可由該保持器對準機構接合,以將該基板保持器定向至該系統導引構造; 一遮罩對準機構,連接到一加工腔室,並對準到該系統導引構造;該遮罩對準機構具有遮罩連接機構,用於將一加工遮罩連接到該遮罩對準機構,並形成精確的對準;及 軌道,位在該加工遮罩下方,並建置成使該基板保持器在該基板保持器對準機構接合該遮罩對準機構時,可將基板放置在該遮罩下方。
- 如請求項1的系統,其中,該保持器對準機構包括至少兩個滾輪。
- 如請求項2的系統,其中,該系統導引構造包括一直線邊緣,建置成可由該滾輪接合。
- 如請求項3的系統,其中,該遮罩對準機構包括一直形桿,建置成可由該滾輪接合。
- 如請求項4的系統,其中,該系統另包括一載具,建置成可在該軌道上運行,並支撐該基板保持器。
- 如請求項5的系統,其中,該基板保持器建置成可在該載具上,以兩個自由度自由移動。
- 如請求項6的系統,其中,該載具包括一個座部,且該基板保持器包括一延伸部,建置成可延伸到該座部內,並提供足夠的間隙,以使該基板保持器在該兩個自由度中移動。
- 如請求項5的系統,其中,該載具建置成可同時保持多個基板保持器。
- 如請求項1的系統,其中,該載具建置成可保持1Xn個基板保持器所形成的線性陣列,其中n是一個自然數,n等於或大於2。
- 如請求項1的系統,其中,該遮罩對準機構包括多條直形桿,各自建置成可接合該基板保持器之一,且個別具有一個遮罩,連接於該直形桿上。
- 如請求項1的系統,其中,該滾輪經磁化,且其中該直形邊緣與該直形桿是由順磁材料或鐵磁材料製成。
- 一種離子植入系統,該系統包括: 一個常壓對準腔室,包括軌道及一保持器對準機構; 一真空離子植入腔室,包括一離子源,軌道,對準至該保持器對準機構的遮罩對準機構,及連接到該遮罩對準機構的遮罩;及 一基板保持器,建置成用於夾持一基板,並具有接合機構,用以在該基板保持器接合至該保持器對準機構,且接合至該遮罩對準機構時,可定向該基板保持器。
- 如請求項12的系統,其中,該保持器對準機構包括一直形邊緣,且其中該遮罩對準機構包括一直形邊緣,以對應方式對準到該保持器對準機構。
- 如請求項13的系統,其中,該接合機構包括多個滾輪,均配置成用於接合該保持器對準機構及該遮罩對準機構。
- 如請求項14的系統,其中,該滾輪中至少一個滾輪及該直形邊緣的至少一條直形邊緣已經磁化。
- 如請求項14的系統,另包括一載具,配置成可在該軌道上運行,並支撐該基板保持器。
- 如請求項16的系統,其中,該載具建置成可使該基板保持器在兩個自由度中自由移動。
- 一種方法,用於將一基板對準到一陰影遮罩,該方法包括: 將一基板放置於一基板保持器的上方; 使該基板保持器抵靠一對準用直形邊緣,並使該基板定向到一期望的朝向; 在該基板保持器抵靠該對準用直形邊緣之下,使該基板保持器夾持該基板在該期望的朝向; 移動該基板保持器到一真空腔室,該真空腔室具有一陰影遮罩,連接到一遮罩直形邊緣; 使該基板保持器在一位置抵靠該遮罩的直形邊緣,該位置使該基板位於該陰影遮罩下方; 通過該遮罩對該基板執行一加工步驟;及 從該真空腔室移除該基板保持器。
- 如請求項18的方法,其中,該使基板保持器抵靠一對準用直形邊緣的步驟包括將連接到該基板保持器的滾輪推壓向該對準用直形邊緣。
- 如請求項18的方法,其中,該定向該基板到一期望朝向的步驟包括根據該對準用直形邊緣上的代表記號定向該基板。
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