TW201604648A - 感光性組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、觸控面板、觸控面板顯示裝置、液晶顯示裝置及有機el顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明的目的在於提供一種即便於低溫下加熱亦可獲得可靠性優異的硬化膜、且可藉由光微影法來進行圖案成形的感光性組成物。本發明的感光性組成物的特徵在於含有：作為成分A的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體、作為成分B的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體、作為成分C的光聚合起始劑、作為成分D的溶劑、作為成分N的封閉異氰酸酯化合物、及作為成分K的聚合抑制劑，且成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～50質量%。

Description

感光性組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、觸控面板、觸控面板顯示裝置、液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置

本發明是有關於一種感光性組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、觸控面板、觸控面板顯示裝置、液晶顯示裝置及有機電致發光（Electroluminescence，EL）顯示裝置。

液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等平板顯示器（flat panel display）被廣泛使用。最近，於該些顯示器的製造步驟中，就減少對基板或電路等的損傷（damage）、節能化等觀點而言，必須實現製造步驟中的各種硬化膜的加熱溫度的低溫化。 作為此種硬化性組成物，例如於專利文獻1中揭示有一種熱硬化性樹脂組成物，其特徵在於：其是將不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、含環氧基的自由基聚合性化合物、與單烯烴系不飽和化合物的共聚物溶解於有機溶媒中而成。於專利文獻2中記載有一種活性能量線硬化型的被覆組成物。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第5201066號公報 [專利文獻2]日本專利特開2000-080169號公報

[發明所欲解決之課題]

然而，專利文獻1中記載的硬化性組成物的加熱溫度必須為200℃以上，若於低溫（例如180℃以下、進而150℃以下）下進行加熱，則膜的強度不充分，於耐人工汗液性之類的可靠性品質方面存在問題。另外，專利文獻2中記載的硬化性組成物雖進行了低溫硬化時的膜強度的評價，但並未對利用光微影法的圖案成形性進行記載。 本發明的目的在於解決所述課題，且其目的在於提供一種即便於低溫下加熱亦可獲得可靠性優異的硬化膜、且可藉由光微影法來進行圖案成形的感光性組成物。進而，本發明的目的在於提供一種使用所述感光性組成物的硬化膜的製造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的觸控面板及有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置等各種顯示裝置。 [解決課題之手段]

本發明的所述課題是藉由以下的＜1＞、＜9＞、＜11＞、或＜15＞～＜18＞所記載的手段而解決。以下與作為較佳實施態樣的＜2＞～＜8＞、＜10＞、及＜12＞～＜14＞一併進行記載。 ＜1＞ 一種感光性組成物，其特徵在於含有：作為成分A的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體、作為成分B的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體、作為成分C的光聚合起始劑、作為成分D的溶劑、作為成分N的封閉異氰酸酯化合物、及作為成分K的聚合抑制劑，且成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～50質量%； ＜2＞ 如＜1＞所記載的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，成分N的含量為0.1質量%～20質量%； ＜3＞ 如＜1＞或＜2＞所記載的感光性組成物，其中成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～30質量%； ＜4＞ 如＜1＞至＜3＞中任一項所記載的感光性組成物，其更含有作為成分S的烷氧基矽烷化合物； ＜5＞ 如＜1＞至＜4＞中任一項所記載的感光性組成物，其更含有作為成分E的無機粒子； ＜6＞ 如＜5＞所記載的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，成分E的含量為10質量%～40質量%； ＜7＞ 如＜1＞至＜6＞中任一項所記載的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分A及成分B的總含量為30質量%～99質量%； ＜8＞ 如＜1＞至＜7＞中任一項所記載的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，聚合物成分的含量為10質量%以下； ＜9＞ 一種硬化膜的製造方法，其至少依序包括步驟1～步驟5， 步驟1：塗佈步驟，將如＜1＞至＜8＞中任一項所記載的感光性組成物塗佈於基板上； 步驟2：溶劑去除步驟，自所塗佈的感光性組成物中去除溶劑； 步驟3：曝光步驟，藉由光化射線對去除了溶劑的感光性組成物的至少一部分進行曝光； 步驟4：顯影步驟，藉由水性顯影液對經曝光的感光性組成物進行顯影；及 步驟5：熱處理步驟，對經顯影的感光性組成物進行熱處理； ＜10＞ 如＜9＞所記載的硬化膜的製造方法，其中步驟5中的熱處理溫度為80℃～180℃； ＜11＞ 一種硬化膜，其是使如＜1＞至＜8＞中任一項所記載的感光性組成物硬化而成； ＜12＞ 如＜11＞所記載的硬化膜，其為層間絕緣膜或外塗膜； ＜13＞ 如＜11＞或＜12＞所記載的硬化膜，其為觸控面板用外塗膜； ＜14＞ 如＜11＞至＜13＞中任一項所記載的硬化膜，其為單元上（on-cell）結構觸控面板用外塗膜； ＜15＞ 一種觸控面板，其具有如＜11＞至＜14＞中任一項所記載的硬化膜； ＜16＞ 一種觸控面板顯示裝置，其具有如＜11＞至＜14＞中任一項所記載的硬化膜； ＜17＞ 一種液晶顯示裝置，其具有如＜11＞或＜12＞所記載的硬化膜； ＜18＞ 一種有機EL顯示裝置，其具有如＜11＞或＜12＞所記載的硬化膜。 [發明的效果]

根據本發明，可提供一種即便於低溫下加熱亦可獲得可靠性優異的硬化膜、且可藉由光微影法來進行圖案成形的感光性組成物。進而，本發明可提供一種使用所述感光性組成物的硬化膜的製造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的觸控面板、及有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置等各種顯示裝置。

以下，對本發明的內容加以詳細說明。以下記載的構成要件的說明有時是根據本發明的具代表性的實施態樣來進行，但本發明不限定於此種實施態樣。再者，於本申請案說明書中，「～」是以包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的含意而使用。另外，本發明中的所謂有機EL元件，是指有機電致發光元件。 於本說明書中的基團（原子團）的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團（原子團），並且亦包含具有取代基的基團（原子團）。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基（未經取代的烷基），而且亦包含具有取代基的烷基（經取代的烷基）。 再者，本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基。 另外，本發明中，「質量%」與「重量%」為相同含意，「質量份」與「重量份」為相同含意。 另外，本發明中，較佳態樣的組合更佳。

本發明中，關於聚合物成分，其分子量為由以四氫呋喃（Tetrahydrofuran，THF）作為溶劑時的凝膠滲透層析法（Gel Permeation Chromatography，GPC）所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量。

（感光性組成物） 本發明的感光性組成物（以下亦簡稱為「感光性組成物」或「組成物」）的特徵在於含有：作為成分A的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體、作為成分B的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體、作為成分C的光聚合起始劑、作為成分D的溶劑、作為成分N的封閉異氰酸酯化合物、及作為成分K的聚合抑制劑，且成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～50質量%。 本發明的感光性組成物亦可更含有作為成分S的烷氧基矽烷化合物、及作為成分E的無機粒子等其他成分。 本發明的感光性組成物較佳為可藉由利用鹼性顯影液的光微影法來進行圖案成形。再者，於藉由利用鹼性顯影液的光微影法來對本發明的感光性組成物進行圖案成形的情形時，所形成的圖案為感光部以圖案的形式殘留的負型的圖案。 具體而言，例示含有以下成分的組成物作為具體的實施態樣。

＜第1實施形態＞ 成分A：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體 成分B：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體 成分C：光聚合起始劑 成分D：溶劑 成分N：封閉異氰酸酯化合物 成分K：聚合抑制劑

＜第2實施形態＞ 成分A：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體 成分B：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體 成分C：光聚合起始劑 成分D：溶劑 成分E：無機粒子 成分N：封閉異氰酸酯化合物 成分K：聚合抑制劑

＜第3實施形態＞ 成分A：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體 成分B：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體 成分C：光聚合起始劑 成分D：溶劑 成分N：封閉異氰酸酯化合物 成分K：聚合抑制劑 成分S：烷氧基矽烷化合物

＜第4實施形態＞ 成分A：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體 成分B：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體 成分C：光聚合起始劑 成分D：溶劑 成分E：無機粒子 成分N：封閉異氰酸酯化合物 成分K：聚合抑制劑 成分S：烷氧基矽烷化合物

＜第5實施形態＞ 於所述第1實施形態～第4實施形態的任一者中進一步調配有界面活性劑的實施形態。

本發明者等人進行努力研究的結果，發現含有所述成分A～成分D、成分N及成分K，且成分A的含量相對於成分A與成分B的總含量而為特定範圍的感光性組成物中，硬化膜的可靠性優異，且可利用光微影法來進行圖案成形，從而完成本發明。 本發明的作用機制雖不明確，但如以下般進行推測。認為藉由含有成分A，將羧基導入組成物中，藉此可進行未硬化部的顯影。另外推測，此時藉由將成分A的量設定為特定的範圍，可進行圖案成形，從而獲得可靠性優異的硬化膜。再者，所謂可靠性優異的硬化膜，是指硬化膜的耐汗性優異。 以下，對本發明的感光性組成物所含有的各成分進行說明。

成分A：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體 本發明的感光性組成物含有作為成分A的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的聚合性單量體。 成分A為於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與1個以上的羧基的化合物。 成分A可為低分子的化合物，亦可為寡聚物，但並非聚合物。即，就硬化膜的硬度的觀點而言，成分A的分子量（於具有分子量分佈的情形時，為重量平均分子量）為10,000以下，較佳為5,000以下，更佳為3,000以下。

成分A於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基。分子內（一分子內）所具有的(甲基)丙烯醯基的個數較佳為3～15，更佳為3～10，進而佳為3～7。 若(甲基)丙烯醯基的個數為所述範圍內，則硬度及反應性優異。

成分A只要於一分子內具有合計為3個以上的丙烯醯基（-C(=O)-CH=CH₂ ）及甲基丙烯醯基（-C(=O)-C(CH₃ )=CH₂ ）即可，較佳為具有合計為3個以上的丙烯醯氧基（-O-C(=O)-CH=CH₂ ）及甲基丙烯醯氧基（-O-C(=O)-C(CH₃ )=CH₂ ）。另外，較佳為具有3個以上的丙烯醯基，更佳為具有3個以上的丙烯醯氧基。 與甲基丙烯醯基相比，丙烯醯基就硬化性（反應性）優異的觀點而言較佳。另外，就反應性優異且合成容易的觀點而言，較佳為(甲基)丙烯醯氧基。

成分A於分子內（一分子內）具有1個以上的羧基。一分子內的羧基的個數較佳為1～6，更佳為1～3，進而佳為1或2，尤佳為1。 若成分A的一分子內所具有的羧基的個數為所述範圍內，則顯影性及基材密接性優異，故較佳。 再者，成分A所具有的羧基可形成鹽。形成鹽的陽離子較佳為有機陽離子性化合物、過渡金屬配位錯合物陽離子、或金屬陽離子。有機陽離子性化合物可列舉：四級銨陽離子、四級吡啶鎓陽離子、四級喹啉鎓陽離子、鏻陽離子、錪陽離子、鋶陽離子等。過渡金屬陽離子可例示日本專利第279143號公報所記載的化合物。金屬陽離子可例示：Na⁺ 、K⁺ 、Li⁺ 、Ag⁺ 、Fe²⁺ 、Fe³⁺ 、Cu⁺ 、Cu²⁺ 、Zn²⁺ 、Al³⁺ 、Ca²⁺ 等。

再者，成分A較佳為不具有除所述羧基以外的酸基。除羧基以外的酸基可例示磺酸基、磷酸基等。若具有除羧基以外的酸基，則存在基材密接性降低的情況。

成分A為多羥基化合物與不飽和羧酸的酯，且較佳為使羧酸酐與多羥基化合物的未反應的羥基反應而具有酸基（羧基）的聚合性單量體，尤佳為多羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇者。

成分A例如可藉由將酸酐加成於具有3個以上的(甲基)丙烯醯基與羥基的化合物（以下亦稱為「羥基多官能(甲基)丙烯酸酯」）上而獲得。 羥基多官能(甲基)丙烯酸酯可例示具有4個以上的羥基的多羥基化合物與(甲基)丙烯酸的酯。 具有4個以上的羥基的多羥基化合物較佳為脂肪族多羥基化合物，具體而言，可例示：二甘油、二-三羥甲基乙烷、二-三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丁烷、二-三羥甲基己烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇等。該些中，較佳為季戊四醇、二季戊四醇。 另外，多羥基化合物可使用所述例示的多羥基化合物的環氧烷加成物，環氧烷可例示：環氧乙烷、環氧丙烷等。

羥基多官能丙烯酸酯的製造方法只要適當採用公知的方法即可，並無特別限定。具體而言，可例示於酸性觸媒下將多羥基化合物與(甲基)丙烯酸加熱·攪拌的方法。酸性觸媒可列舉：硫酸、對甲苯磺酸及甲磺酸等。另外，反應溫度只要根據所使用的化合物及目的適當設定即可，較佳為70℃～140℃。若為所述溫度範圍內，則反應迅速，且穩定地進行反應，從而雜質的生成或凝膠化得以抑制。 較佳為於反應時，使用與酯化反應中所生成的水的溶解度低的有機溶媒，一面使水共沸一面促進脫水。較佳的有機溶媒例如可列舉：甲苯、苯及二甲苯等芳香族烴，己烷及庚烷等脂肪族烴，以及甲基乙基酮及環己酮等酮等。另外，有機溶媒亦可於反應後藉由減壓而蒸餾去除。 另外，為了防止所得的(甲基)丙烯酸酯聚合，可於反應液中添加聚合抑制劑。此種聚合抑制劑例如可列舉：對苯二酚、對苯二酚單甲醚、2,6-二-第三丁基對甲酚及啡噻嗪等。

成分A藉由所述羥基多官能(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應而獲得。 酸酐可列舉：丁二酸酐、1-十二烯基丁二酸酐、馬來酸酐、戊二酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、四亞甲基馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、內亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐、甲基內亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐及偏苯三甲酸酐等於同一分子內具有1個酸酐基的化合物，以及均苯四甲酸酐、鄰苯二甲酸酐二聚物、二苯基醚四羧酸二酐、二苯基碸四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐及1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐、二苯基醚四羧酸酐及偏苯三甲酸酐·乙二醇酯（市售品例如有新日本理化（股）製造的商品名理家德（Rikacid）TMEG-100）等於同一分子內具有2個酸酐基的化合物。 該些中，較佳為於同一分子內具有1個酸酐基的化合物。

成分A的製造方法只要依據常法即可。 例如，可列舉於觸媒的存在下，使羥基多官能(甲基)丙烯酸酯與羧酸酐於60℃～110℃下反應1小時～20小時的方法等。該情形時的觸媒，可列舉：N,N-二甲基苄基胺、三乙胺、三丁胺、三乙二胺、苄基三甲基氯化銨、苄基三乙基溴化銨、四甲基溴化銨、乙醯基三甲基溴化銨及氧化鋅等。

成分A較佳為式（A-1）所表示的化合物或式（A-2）所表示的化合物。

[化1]式（A-1）中，X¹ 分別獨立地表示丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，W¹ 表示碳數1～6的伸烷基、碳數2～6的伸烯基、或伸苯基。 式（A-2）中，X² 分別獨立地表示氫原子、碳數1～6的烷基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，存在5個的X² 中，至少三個為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，W² 表示碳數1～6的伸烷基、碳數2～6的伸烯基、或伸苯基。

式（A-1）中，X¹ 較佳為丙烯醯氧基。 式（A-1）中，W¹ 表示碳數1～6的伸烷基、碳數2～6的伸烯基、或伸苯基，碳數1～6的伸烷基可為直鏈狀、分支狀、環狀的任一種。所述伸烷基較佳為碳數2～6，可例示：伸乙基、伸丙基、伸丁基、戊基、伸己基、伸環己基。 式（A-1）中，W¹ 較佳為碳數1～6的伸烷基，更佳為碳數2～6的伸烷基，進而佳為碳數2或3的伸烷基，尤佳為伸乙基。

式（A-2）中，存在5個的X² 中，至少三個表示丙烯醯氧基或甲基丙烯醯基，較佳為丙烯醯氧基。再者，存在5個的X² 中，3個～5個為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，較佳為4個～5個為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，較佳為5個為丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。 另外，除丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基以外的X² 表示氫原子或碳數1～6的烷基。碳數1～6的烷基可為直鏈狀、分支狀、環狀的任一種的烷基。該些中，除(甲基)丙烯醯氧基以外的X² 較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基，進而佳為氫原子。 式（A-2）中，W² 與式（A-1）中的W¹ 為相同含意，較佳的範圍亦相同。

成分A亦可使用已上市的產品，例如作為東亞合成（股）製造的多元酸改質丙烯酸寡聚物，可列舉：阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）系列的M-510、M-520、TO-2349、TO-2359等。

成分A可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分A的含量較佳為3質量%～49.5質量%，更佳為3質量%～45質量%，進而佳為5質量%～40質量%，最佳為10質量%～35質量%。 再者，本發明中所謂感光性組成物中的「固體成分」，是指除有機溶劑等揮發性成分以外的成分。另外，所謂「有機固體成分」，是指自感光性組成物中除去有機溶劑等揮發性成分、無機粒子等無機成分的成分。

成分B：於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體 本發明的感光性組成物含有作為成分B的於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體。成分B為於分子內（一分子內）具有3個以上的(甲基)丙烯醯基、且與成分A不同的聚合性單量體。成分B於分子內不具有羧基，較佳為亦不具有其他酸基，其他酸基可例示磺酸基、磷酸基等。 成分B可為低分子的化合物，亦可為寡聚物，並非聚合物。即，就硬化膜的硬度的觀點而言，成分B的分子量（於具有分子量分佈的情形時，為重量平均分子量）為10,000以下，較佳為5,000以下，進而佳為3,000以下。

成分B於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基。較佳為具有3個～15個(甲基)丙烯醯基，更佳為具有3個～10個，進而佳為具有3個～6個。藉由設定為所述構成，可進一步發揮本發明的效果。

成分B可適當選擇應用於此種組成物中的化合物而使用，例如可列舉日本專利特開2006-23696號公報的段落0011所記載的成分、或日本專利特開2006-64921號公報的段落0031～段落0047所記載的成分中於分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基者，將該些記載併入至本申請案說明書中。 成分B可較佳地例示多羥基化合物的(甲基)丙烯酸酯，具體而言，可列舉：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯環氧乙烷（Ethylene Oxide，EO）改質體、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯EO改質體等。

成分B可使用已上市的產品，例如可列舉：阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-309、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-400、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-405、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-450、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-7100、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-8030、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）M-8060、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）TO-1382、阿羅尼斯（Aronix）（注冊商標）TO-1450（東亞合成（股）製造），卡亞拉得（KAYARAD）TMPTA、卡亞拉得（KAYARAD）DPHA、卡亞拉得（KAYARAD）DPCA-20、卡亞拉得（KAYARAD）DPCA-30、卡亞拉得（KAYARAD）DPCA-60、卡亞拉得（KAYARAD）DPCA-120（日本化藥（股）製造），比斯克（Biscoat）295、比斯克（Biscoat）300、比斯克（Biscoat）360、比斯克（Biscoat）GPT、比斯克（Biscoat）3PA、比斯克（Biscoat）400（大阪有機化學工業（股）製造）等。 再者，即便為相當於成分B的化合物，亦將相當於後述烷氧基矽烷化合物者視為烷氧基矽烷化合物。

＜(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯＞ 本發明中可使用(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯作為成分B。 本發明中可使用的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯可例示使用異氰酸酯與羥基的加成反應而製造的胺基甲酸酯加成聚合性化合物，且可例示日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載般的丙烯酸胺基甲酸酯類，將該些記載併入至本申請案說明書中。

就硬化膜硬度的觀點而言，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯的分子量較佳為500～10,000，更佳為650～6,000，進而佳為800～3,000。 藉由設定為此種構成，而更有效地發揮本發明的效果。

(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的(甲基)丙烯醯氧基可為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基的任一者，亦可為兩者，較佳為丙烯醯氧基。

(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的(甲基)丙烯醯氧基的個數較佳為3以上，更佳為6以上，進而佳為10以上。若為所述態樣，則更有效地發揮本發明的效果。 另外，所述(甲基)丙烯醯氧基的個數的上限並無特別限制，較佳為50以下，更佳為30以下，進而佳為20以下。 本發明的硬化性組成物可僅含有一種(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯，亦可含有兩種以上。

(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的(甲基)丙烯醯氧基可為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基的任一者，亦可為兩者，較佳為丙烯醯氧基。 (甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的胺基甲酸酯鍵的個數並無特別限制，較佳為1～30，更佳為1～20，進而佳為2～10，尤佳為2～5，最佳為2或3。 (甲基)丙烯酸胺基甲酸酯較佳為脂肪族(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。 另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯較佳為具有異氰脲酸環結構。 另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯較佳為包含具有1個以上的胺基甲酸酯鍵的核部分、及鍵結於核部分且具有1個以上的(甲基)丙烯醯氧基的末端部分的化合物，更佳為於所述核部分上鍵結有2個以上的所述末端部分的化合物，進而佳為於所述核部分上鍵結有2個～5個所述末端部分的化合物，尤佳為於所述核部分上鍵結有2個或3個所述末端部分的化合物。

(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯較佳為至少具有下述式（Ae-1）或式（Ae-2）所表示的基團的化合物，更佳為至少具有下述式（Ae-1）所表示的基團的化合物。另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯更佳為具有2個以上的選自由下述式（Ae-1）所表示的基團及式（Ae-2）所表示的基團所組成的組群中的基團的化合物。 另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的所述末端部分較佳為下述式（Ae-1）或式（Ae-2）所表示的基團。

[化2]

式（Ae-1）及式（Ae-2）中，R分別獨立地表示丙烯酸基或甲基丙烯酸基，波線部分表示與其他結構的鍵結位置。

另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯較佳為至少具有下述式（Ac-1）或式（Ac-2）所表示的基團的化合物，更佳為至少具有下述式（Ac-1）所表示的基團的化合物。 另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯中的所述核部分較佳為下述式（Ac-1）或式（Ac-2）所表示的基團。

[化3]

式（Ac-1）及式（Ac-2）中，L¹ ～L⁴ 分別獨立地表示碳數2～20的二價烴基，波線部分表示與其他結構的鍵結位置。 L¹ ～L⁴ 分別獨立地較佳為碳數2～20的伸烷基，更佳為碳數2～10的伸烷基，進而佳為碳數4～8的伸烷基。另外，所述伸烷基亦可具有分支或環結構，較佳為直鏈伸烷基。 另外，(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯尤佳為式（Ac-1）或式（Ac-2）所表示的基團、與選自由式（Ae-1）及式（Ae-2）所表示的基團所組成的組群中的2個或3個基團鍵結而成的化合物。

以下例示本發明中可較佳地使用的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯，但本發明當然不限定於該些化合物。

[化4]

[化5]

[化6]

另外，本發明中可使用的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯可例示使用異氰酸酯與羥基的加成反應而製造的胺基甲酸酯加成聚合性化合物，且可例示日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載般的丙烯酸胺基甲酸酯類，將該些記載併入至本申請案說明書中。

(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯的市售品可例示：可自新中村化學工業（股）獲取的U-6HA、UA-1100H、U-6LPA、U-15HA、U-6H、U-10HA、U-10PA、UA-53H、UA-33H（均為註冊商標），或可自共榮社化學（股）獲取的UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H，可自巴斯夫（BASF）公司獲取的拉羅莫（Laromer）UA-9048、拉羅莫（Laromer）UA-9050、拉羅莫（Laromer）PR9052，可自大賽璐-湛新（Daicel-Allnex）（股）獲取的艾白克力（EBECRYL）220、艾白克力（EBECRYL）5129、艾白克力（EBECRYL）8301、KRM8200、KRM8200AE、KRM8452等。

成分B可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分B的含量較佳為20質量%～85質量%，更佳為30質量%～80質量%，進而佳為45質量%～75質量%。

本發明中，成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～50質量%。若成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量小於10質量%，則組成物中的羧基的量減少，顯影性（圖案成形性）差。另外，若超過50質量%，則耐汗性等可靠性差。 成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量較佳為12質量%～40質量%，更佳為15質量%～35質量%，進而佳為18質量%～30質量%。

另外，本發明中，相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分A及成分B的總含量較佳為40質量%以上。若成分A及成分B的總含量為所述範圍內，則顯影性及硬化膜的可靠性優異。 相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分A及成分B的總含量較佳為30質量%～99質量%，更佳為40質量%～99質量%，進而佳為50質量%～98質量%，最佳為60質量%～95質量%。

成分C：光聚合起始劑 本發明的感光性組成物含有作為成分C的光聚合起始劑。 光聚合起始劑較佳為含有自由基聚合起始劑。 本發明中可使用的光聚合起始劑為可藉由光來引發、促進聚合的化合物。其中，更佳為光自由基聚合起始劑。 所謂「光」，只要為可藉由其照射而賦予可由成分C產生起始種的能量的活性能量線，則並無特別限制，廣泛地包含α射線、γ射線、X射線、紫外線（Ultraviolet，UV）、可見光線、電子束等。該些活性能量線中，較佳為至少包含紫外線的光。

光聚合起始劑例如可列舉：肟酯化合物、有機鹵化化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、六芳基聯咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、鎓鹽化合物、醯基膦（氧化物）化合物。該些化合物中，就感度的方面而言，較佳為肟酯化合物、六芳基聯咪唑化合物，更佳為肟酯化合物。

肟酯化合物可使用：日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2001-233842號公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2007-231000號公報、日本專利特開2009-134289號公報中記載的化合物。 肟酯化合物較佳為下述式（1）或式（2）所表示的化合物。

[化7]

式（1）或式（2）中，Ar表示芳香族基或雜芳香族基，R¹ 表示烷基、芳香族基或烷氧基，R² 表示氫原子或烷基，進而R² 亦可與Ar基鍵結而形成環。

Ar表示芳香族基或雜芳香族基，較佳為自苯環化合物、萘環化合物或咔唑環化合物中去掉1個芳香環上的氫原子所得的基團，更佳為與R² 一起形成環的萘基、咔唑基。雜芳香族基中的雜原子可較佳地列舉：氮原子、氧原子、及硫原子。 R¹ 表示烷基、芳香族基或烷氧基，較佳為甲基、乙基、苄基、苯基、萘基、甲氧基或乙氧基，更佳為甲基、乙基、苯基或甲氧基。 R² 表示氫原子或烷基，較佳為氫原子或經取代的烷基，更佳為氫原子、與Ar一起形成環的經取代的烷基或甲苯硫代烷基。 另外，Ar較佳為碳數4～20的基團，R¹ 較佳為碳數1～30的基團，且R² 較佳為碳數1～50的基團。

肟酯化合物進而佳為下述式（3）、式（4）或式（5）所表示的化合物。

[化8]

式（3）～式（5）中，R¹ 表示烷基、芳香族基或烷氧基，X表示-CH₂ -、-C₂ H₄ -、-O-或S-，R³ 分別獨立地表示鹵素原子，R⁴ 分別獨立地表示烷基、苯基、經烷基取代的胺基、芳硫基、烷硫基、烷氧基、芳氧基或鹵素原子，R⁵ 表示氫原子、烷基或芳基，R⁶ 表示烷基，n1及n2分別獨立地表示0～6的整數，n3表示0～5的整數。

R¹ 表示烷基、芳香族基或烷氧基，較佳為R¹¹ -X'-伸烷基-所表示的基團（R¹¹ 表示烷基或芳基，X'表示硫原子或氧原子）。R¹¹ 較佳為芳基，更佳為苯基。作為R¹¹ 的烷基及芳基亦可經鹵素原子（較佳為氟原子、氯原子或溴原子）或烷基取代。 X較佳為硫原子。 R³ 及R⁴ 可於芳香環上的任意位置上進行鍵結。 R⁴ 表示烷基、苯基、經烷基取代的胺基、芳硫基、烷硫基、烷氧基、芳氧基或鹵素原子，較佳為烷基、苯基、芳硫基或鹵素原子，更佳為烷基、芳硫基或鹵素原子，進而佳為烷基或鹵素原子。烷基較佳為碳數1～5的烷基，更佳為甲基或乙基。鹵素原子較佳為氯原子、溴原子或氟原子。 另外，R⁴ 的碳數較佳為0～50，更佳為0～20。 R⁵ 表示氫原子、烷基或芳基，較佳為烷基。烷基較佳為碳數1～5的烷基，更佳為甲基或乙基。芳基較佳為碳數6～10的芳基。 R⁶ 表示烷基，較佳為碳數1～5的烷基，更佳為甲基或乙基。 n1及n2分別表示式（3）或式（4）中的芳香環上的R³ 的取代數，n3表示式（5）中的芳香環上的R⁴ 的取代數。 n1～n3分別獨立地較佳為0～2的整數，更佳為0或1。

以下示出本發明中可較佳地使用的肟酯化合物的例子。然而，本發明中所用的肟酯化合物當然不限定於該些化合物。再者，Me表示甲基，Ph表示苯基。另外，該些化合物中的肟的雙鍵的順反異構可為EZ的任一者，亦可為EZ的混合物。

[化9]

[化10]

有機鹵化化合物的例子具體可列舉：若林等人的「日本化學會公報（Bull Chem. Soc. Japan）」（42，2924（1969））、美國專利第3,905,815號說明書、日本專利特公昭46-4605號公報、日本專利特開昭48-36281號公報、日本專利特開昭55-32070號公報、日本專利特開昭60-239736號公報、日本專利特開昭61-169835號公報、日本專利特開昭61-169837號公報、日本專利特開昭62-58241號公報、日本專利特開昭62-212401號公報、日本專利特開昭63-70243號公報、日本專利特開昭63-298339號公報、M.P.哈頓（M.P.Hutt）的「雜環化學期刊（Journal of Heterocyclic Chemistry）」（1（No3），（1970））等中記載的化合物，尤其可列舉三鹵代甲基進行取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。

六芳基聯咪唑化合物的例子例如可列舉：日本專利特公平6-29285號公報、美國專利第3,479,185號、美國專利第4,311,783號、美國專利第4,622,286號等的各說明書中記載的各種化合物。

醯基膦（氧化物）化合物可例示單醯基膦氧化物化合物及雙醯基膦氧化物化合物，具體而言，例如可列舉：巴斯夫（BASF）公司製造的豔佳固（Irgacure）819、達羅固（Darocure）4265、達羅固（Darocure）TPO等。

光聚合起始劑可使用一種或組合使用兩種以上。 相對於組成物中的總固體成分100質量份，本發明的感光性組成物中的光聚合起始劑的總量較佳為0.5質量份～30質量份，更佳為1質量份～20質量份，進而佳為1質量份～10質量份，尤佳為2質量份～5質量份。 相對於組成物的總有機固體成分，光聚合起始劑的含量較佳為0.5質量%～30質量%，更佳為1質量%～20質量%，進而佳為1質量%～10質量%，尤佳為1質量%～5質量%。

＜增感劑＞ 本發明的感光性組成物中，除了光聚合起始劑以外，亦可添加增感劑。 增感劑吸收光化射線或放射線而成為激發狀態。成為激發狀態的增感劑可藉由與成分C的相互作用，而產生電子轉移、能量轉移、發熱等作用，從而引發·促進聚合。 本發明中可使用的典型的增感劑可列舉J.V.克里貝羅（J. V. Crivello）的「聚合物科學發展（Adv. in Polymer Sci.）」（62，1，（1984））中揭示的增感劑，具體可列舉：芘、苝、吖啶橙、硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮、苯并黃素、N-乙烯基咔唑、9,10-二丁氧基蒽、蒽醌、香豆素、香豆素酮（ketocoumarin）、菲、樟腦醌、啡噻嗪衍生物等。增感劑較佳為相對於光聚合起始劑而以50質量%～200質量%的比例添加。

成分D：溶劑 本發明的感光性組成物含有作為成分D的溶劑。本發明的感光性組成物較佳為以將作為必需成分的成分A、成分B、成分C、以及後述的成分N及成分K、與後述的任意成分溶解於溶劑中而成的溶液的形式製備。 成分D較佳為有機溶劑，本發明的感光性組成物中使用的有機溶劑可使用公知的溶劑，可例示：乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、丁二醇二乙酸酯類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、醇類、酯類、酮類、醯胺類、內酯類等。該些有機溶劑的具體例可參照日本專利特開2009-098616號公報的段落0062。

具體而言，較佳為丙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲醚、丙二醇單甲醚、1,3-丁二醇二乙酸酯、環己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、四氫糠醇。

就塗佈性的觀點而言，有機溶劑的沸點較佳為100℃～300℃，更佳為120℃～250℃。 本發明中可使用的溶劑可單獨使用一種或併用兩種以上。亦較佳為併用沸點不同的溶劑。 就調整為適於塗佈的黏度的觀點而言，相對於組成物的總固體成分100質量份，本發明的感光性組成物中的溶劑的含量較佳為100質量份～3,000質量份，更佳為200質量份～2,000質量份，進而佳為250質量份～1,000質量份。 感光性組成物的固體成分濃度較佳為3質量%～50質量%，更佳為20質量%～40質量%。

感光性組成物的黏度較佳為1 mPa·s～200 mPa·s，更佳為2 mPa·s～100 mPa·s，最佳為3 mPa·s～80 mPa·s。黏度例如較佳為使用東機產業（股）製造的RE-80L型旋轉黏度計於25℃±0.2℃下測定。關於測定時的轉速，於黏度小於5 mPa·s的情況下較佳為以100 rpm的轉速進行測定，於黏度為5 mPa·s以上且小於10 mPa·s的情況下較佳為以50 rpm的轉速進行測定，於黏度為10 mPa·s以上且小於30 mPa·s的情況下較佳為以20 rpm的轉速進行測定，於黏度為30 mPa·s以上的情況下較佳為以10 rpm的轉速進行測定。

成分N：封閉異氰酸酯化合物 本發明的感光性組成物含有作為成分N的封閉異氰酸酯化合物。藉由含有成分N，可獲得可靠性高的硬化膜。其作用機制雖不明確，但認為藉由光硬化後的加熱處理而成分N的封閉異氰酸酯基被脫保護。認為於硬化膜中，藉由源自成分N的異氰酸酯基發揮作用，與基板的密接性提高，或者藉由異氰酸酯基與水分、鹽類相互作用，獲得可靠性高的硬化膜。 封閉異氰酸酯化合物只要為具有封閉異氰酸酯基的化合物，則並無特別限制，就硬化性的觀點而言，較佳為於一分子內具有2個以上的封閉異氰酸酯基的化合物。封閉異氰酸酯基的個數的上限並無特別限定，較佳為6個以下。 另外，封閉異氰酸酯化合物的骨架並無特別限定，只要於一分子中具有2個異氰酸酯基則可為任意骨架，可為脂肪族、脂環族或芳香族的聚異氰酸酯。例如可較佳地使用：2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-九亞甲基二異氰酸酯、1,10-十亞甲基二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、2,2'-二乙醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、環己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對苯二異氰酸酯、3,3'-亞甲基二甲苯-4,4'-二異氰酸酯、4,4'-二苯基醚二異氰酸酯、四氯苯二異氰酸酯、降冰片烷二異氰酸酯、氫化1,3-二甲苯二異氰酸酯、氫化1,4-二甲苯二異氰酸酯等異氰酸酯化合物，以及該些化合物的多聚物、及由該些化合物所衍生的預聚物型的骨架的化合物。該些化合物中，較佳為對選自由甲苯二異氰酸酯（Tolylene diisocyanate，TDI）或二苯基甲烷二異氰酸酯（Diphenyl methane diisocyanate，MDI）、六亞甲基二異氰酸酯（Hexamethylene diisocyanate，HDI）、異佛爾酮二異氰酸酯（Isophorone diisocyanate，IPDI）、及該些化合物的多聚物所組成的組群中的化合物進行保護的封閉異氰酸酯化合物，更佳為對選自由六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、及該些化合物的多聚物所組成的組群中的化合物進行保護的封閉異氰酸酯化合物。 異氰酸酯化合物的多聚物只要為二聚物以上的多聚物，則並無特別限制，可例示：縮二脲體、異氰脲酸酯體、加合物體等，較佳為縮二脲體。

本發明的感光性組成物中的封閉異氰酸酯化合物的母結構可列舉：縮二脲型、異氰脲酸酯型、加合物型、二官能預聚物型等。 形成所述封閉異氰酸酯化合物的封閉結構的封閉劑可列舉：肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、醯亞胺系化合物等。該些化合物中，較佳為肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、或吡唑化合物，更佳為肟化合物及內醯胺化合物，進而佳為肟化合物，尤佳為甲基乙基酮肟。

所述肟化合物可列舉肟及酮肟，具體而言，可例示：丙酮肟、甲醛肟、環己烷肟、甲基乙基酮肟、環己酮肟、二苯甲酮肟等。 所述內醯胺化合物可例示ε-己內醯胺、γ-丁內醯胺等。 所述酚化合物可例示：苯酚、萘酚、甲酚、二甲酚、鹵素取代苯酚等。 所述醇化合物可例示：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、環己醇、乙二醇單烷基醚、丙二醇單烷基醚、乳酸烷基酯等。 所述胺化合物可列舉一級胺及二級胺，可為芳香族胺、脂肪族胺、脂環族胺的任一種，可例示：苯胺、二苯基胺、乙烯亞胺、聚乙烯亞胺等。 所述活性亞甲基化合物可例示：丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸甲酯等。 所述吡唑化合物可例示：吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。 所述硫醇化合物可例示：烷基硫醇、芳基硫醇等。

本發明的感光性組成物中可使用的封閉異氰酸酯化合物可作為市售品而獲取，例如可較佳地使用：克羅奈特（Coronate）AP stable M、克羅奈特（Coronate）2503、克羅奈特（Coronate）2515、克羅奈特（Coronate）2507、克羅奈特（Coronate）2513、克羅奈特（Coronate）2555、米利奧奈特（Millionate）MS-50（以上為日本聚胺酯工業（股）製造），塔克奈特（Takenate）B-830、塔克奈特（Takenate）B-815N、塔克奈特（Takenate）B-820NSU、塔克奈特（Takenate）B-842N、塔克奈特（Takenate）B-846N、塔克奈特（Takenate）B-870N、塔克奈特（Takenate）B-874N、塔克奈特（Takenate）B-882N（以上為三井化學（股）製造），杜拉奈特（Duranate）17B-60P、杜拉奈特（Duranate）17B-60PX、杜拉奈特（Duranate）17B-60P、杜拉奈特（Duranate）TPA-B80X、杜拉奈特（Duranate）TPA-B80E、杜拉奈特（Duranate）MF-B60X、杜拉奈特（Duranate）MF-B60B、杜拉奈特（Duranate）MF-K60X、杜拉奈特（Duranate）MF-K60B、杜拉奈特（Duranate）E402-B80B、杜拉奈特（Duranate）SBN-70D、杜拉奈特（Duranate）SBB-70P、杜拉奈特（Duranate）K6000（以上為旭化成化學（Asahi Kasei Chemicals）（股）製造），德斯莫（Desmodule）BL1100、德斯莫（Desmodule）BL1265 MPA/X、德斯莫（Desmodule）BL3575/1、德斯莫（Desmodule）BL3272MPA、德斯莫（Desmodule）BL3370MPA、德斯莫（Desmodule）BL3475BA/SN、德斯莫（Desmodule）BL5375MPA、德斯莫（Desmodule）VPLS2078/2、德斯莫（Desmodule）BL4265SN、德斯莫（Desmodule）PL340、德斯莫（Desmodule）PL350、蘇米度（Sumidule）BL3175（以上為住化拜耳胺酯（Sumitomo-Bayer Urethane）（股）製造）等。

相對於感光性組成物的總固體成分，本發明的感光性組成物中的封閉異氰酸酯化合物的含量較佳為0.1質量%～20質量%，更佳為0.5質量%～10質量%，進而佳為1質量%～5質量%。 另外，相對於感光性組成物的總有機固體成分，本發明的感光性組成物中的封閉異氰酸酯化合物的含量較佳為0.1質量%～20質量%，更佳為0.5質量%～10質量%，進而佳為1質量%～5質量%。 若成分N的含量為所述範圍內，則可獲得可靠性優異的硬化膜，故較佳。

成分K：聚合抑制劑 本發明的感光性組成物含有作為成分K的聚合抑制劑。藉由含有成分K，由洩漏的光所引起的聚合反應得以抑制，顯影性優異。所謂聚合抑制劑，是指發揮以下作用的物質：對藉由曝光或熱而由聚合起始劑產生的聚合起始自由基成分實施供氫（或授氫）、供能（或授能）、供電子（或授電子）等，使聚合起始自由基失活，抑制聚合起始。例如可使用日本專利特開2007-334322號公報的段落0154～段落0173中記載的化合物等。

作為聚合抑制劑的種類，可較佳地採用硬質且不使感度下降者。此種聚合抑制劑可列舉：啡噻嗪、氯丙嗪（chlorpromazine）、左米丙嗪（levomepromazine）、羥哌氟丙嗪（fluphenazine）、硫醚嗪（thioridazine）等啡噻嗪衍生物，啡噁嗪、3,7-雙(二乙胺基)啡噁嗪-5-鎓高氯酸鹽（perchlorate）、5-胺基-9-(二甲胺基)-10-甲基苯并[a]啡噁嗪-7-鎓氯化物、7-(戊氧基)-3H-啡噁嗪-3-酮、5,9-二胺基苯并[a]啡噁嗪-7-鎓乙酸鹽、7-乙氧基-3H-啡噁嗪-3-酮等啡噁嗪衍生物，三-對硝基苯基甲基、二苯基苦肼基（picrylhydrazyl）、加爾萬氧基自由基（Galvinoxyl）等穩定自由基，醌、苯醌、氯苯醌、2,5-二-氯苯醌、2,6-二-氯苯醌、2,3-二-甲基苯醌、2,5-二-甲基苯醌、甲氧基苯醌、甲基苯醌、四溴苯醌、四氯苯醌、四甲基苯醌、三氯苯醌、三甲基苯醌、戊基醌、戊氧基對苯二酚、2,5-二-第三丁基對苯二酚、2,5-二苯基-對苯醌等醌類，α-萘酚、2-硝基-1-萘酚、β-萘酚、1-硝基-2-萘酚等萘酚類，4-甲氧基苯酚、4-乙氧基苯酚、對苯二酚、苯酚、第三丁基鄰苯二酚、甲基對苯二酚、正丁基苯酚、對苯二酚單丙醚、第三丁基甲酚、對甲酚、2,6-二-第三丁基對甲酚、鄰苯二酚、間苯二酚、鄰-第三丁基苯酚、2,6-二-對甲氧基苯酚、2,6-二-第三丁基苯酚、2,4-二-第三丁基苯酚、3,5-二-第三丁基苯酚、3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸、N,N'-雙-3-(3',5',-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯基六甲二胺、2,2'-亞甲基雙(6-第三丁基-對甲酚)、正十八烷基-3-(4-羥基-3',5'-二-第三丁基苯基)丙酸酯、(4-羥基-3-甲基-5-第三丁基)苄基丙二酸二硬脂酯、2,4,6-三-第三丁基苯酚、1,6-己二醇-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2-硫-二伸乙基-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、3,9-雙[1,1-二甲基-2-[β-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯氧基乙基-2,4,8,10-四氧雜螺[5,5]十一烷、2,2'-亞乙基-雙-(2,4-二-第三丁基苯酚)、1,1,3-三-(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基丁烷[1,1,3-三-(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷]、1,3,5-三甲基-2,4,6-三-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)異氰酸酯、三[2-(3',5'-二-第三丁基-4'-羥基氫化-桂皮醯氧基)乙基]異氰酸酯、三(4-第三丁基-2,6-二-甲基-3-羥基苄基)異氰酸酯、四[亞甲基-3-(3',5'-二-第三丁基-4'-羥基苯基)丙酸酯]-甲烷等苯酚類，2,4-二硝基苯酚、鄰硝基苯酚、間硝基苯酚、對硝基苯酚等硝基苯酚類，沒食子酸、沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯、沒食子酸異戊酯等沒食子酸類，亞甲藍、孔雀綠等色素類，β-萘胺、N-亞硝基環己胺鹽、二-對氟苯胺等胺類，鄰苯三酚、單苄基醚、二苯甲酮、三苯基膦、氯化亞銅、啡噻嗪、氯醌（chloranil）、吡啶、硝基苯、二硝基苯、對甲苯胺、苦味酸、水楊酸甲酯等。

聚合抑制劑尤佳為可例示選自啡噻嗪、啡噁嗪、受阻胺及該些的衍生物中的至少一種。 啡噻嗪及其衍生物可例示：啡噻嗪、雙(α-甲基苄基)啡噻嗪、3,7-二辛基啡噻嗪、雙(α-二甲基苄基)啡噻嗪，較佳為啡噻嗪。 啡噁嗪及其衍生物可例示：啡噁嗪、3,7-雙(二乙胺基)啡噁嗪-5-鎓高氯酸鹽、5-胺基-9-(二甲胺基)-10-甲基苯并[a]啡噁嗪-7-鎓氯化物、7-(戊氧基)-3H-啡噁嗪-3-酮、5,9-二胺基苯并[a]啡噁嗪-7-鎓乙酸鹽、7-乙氧基-3H-啡噁嗪-3-酮，較佳為啡噁嗪。 受阻胺及其衍生物可例示：智瑪索布（CHIMASSORB）2020 FDL、帝奴彬（TINUVIN）144、帝奴彬（TINUVIN）765、帝奴彬（TINUVIN）770（以上為巴斯夫（BASF）公司製造），較佳為帝奴彬（TINUVIN）144。 相對於感光性組成物的總固體成分，本發明的感光性組成物中的成分K的含量較佳為0.01質量%～0.5質量%的範圍，更佳為0.1質量%～0.5質量%的範圍。藉由調整聚合抑制劑的調配量，可無損感度地提高解析性。 相對於感光性組成物的總有機固體成分，本發明的感光性組成物中的成分K的含量較佳為0.01質量%～0.5質量%的範圍，更佳為0.05質量%～0.5質量%的範圍。藉由調整聚合抑制劑的調配量，可無損感度地提高解析性。

成分E：無機粒子 本發明的感光性組成物亦可含有作為成分E的無機粒子。藉由含有無機粒子，硬化膜的硬度變得更優異。 本發明中所用的無機粒子的平均粒徑較佳為1 nm～200 nm，更佳為5 nm～100 nm，最佳為5 nm～50 nm。平均粒徑是指藉由電子顯微鏡來測定任意200個粒子的粒徑而求出的其算術平均值。另外，於粒子的形狀並非球形的情形時，將最長邊設定為粒徑。 另外，就硬化膜的硬度的觀點而言，無機粒子的空隙率較佳為小於10%，更佳為小於3%，最佳為並無空隙。粒子的空隙率為200個粒子的由電子顯微鏡所得的剖面圖像的空隙部分與粒子總體之面積比的算術平均值。 無機粒子較佳為含有鈹（Be）、鎂（Mg）、鈣（Ca）、鍶（Sr）、鋇（Ba）、鈧（Sc）、釔（Y）、鑭（La）、鈰（Ce）、釓（Gd）、鋱（Tb）、鏑（Dy）、鐿（Yb）、鑥（Lu）、鈦（Ti）、鋯（Zr）、鉿（Hf）、鈮（Nb）、鉬（Mo）、鎢（W）、鋅（Zn）、硼（B）、鋁（Al）、矽（Si）、鍺（Ge）、錫（Sn）、鉛（Pb）、銻（Sb）、鉍（Bi）、碲（Te）等原子的金屬氧化物粒子，更佳為氧化矽、氧化鈦、鈦複合氧化物、氧化鋅、氧化鋯、銦/錫氧化物、銻/錫氧化物，進而佳為氧化矽、氧化鈦、鈦複合氧化物、氧化鋯，就粒子的穩定性、容易獲取性、硬化膜的硬度、透明性、折射率調整等觀點而言，尤佳為氧化矽或氧化鈦。

氧化矽可較佳地列舉二氧化矽，可更佳地列舉二氧化矽粒子。 二氧化矽粒子只要為含有二氧化矽的無機氧化物的粒子，則並無特別問題，較佳為含有二氧化矽或其水合物作為主成分（較佳為80質量%以上）的粒子。所述粒子亦可含有鋁酸鹽作為少量成分（例如小於5質量%）。有時作為少量成分而含有的鋁酸鹽可列舉鋁酸鈉、鋁酸鉀等。另外，二氧化矽粒子亦可含有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化銨等無機鹽類或四甲基氫氧化銨等有機鹽類。此種化合物的例子可例示膠體二氧化矽。 膠體二氧化矽的分散介質並無特別限制，可為水、有機溶劑及該等的混合物的任一種。該些分散介質可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。 本發明中，粒子亦能以分散液的形式而供使用，所述分散液是藉由在適當的分散劑及溶劑中使用球磨機、棒磨機等混合裝置使粒子進行混合·分散而製備。再者，本發明的感光性組成物中，膠體二氧化矽並非必須以膠體狀態而存在。 於調配無機粒子的情形時，就硬度的觀點而言，相對於感光性組成物的總固體成分，無機粒子的含量較佳為1質量%以上，更佳為5質量%以上，進而佳為10質量%以上。另外，較佳為80質量%以下，更佳為50質量%以下，進而佳為40質量%以下，尤佳為30質量%以下。 無機粒子可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。

成分S：烷氧基矽烷化合物 本發明的感光性組成物較佳為含有作為成分S的烷氧基矽烷化合物。若使用烷氧基矽烷化合物，則可提高由本發明的感光性組成物所形成的膜與基板的密接性。 烷氧基矽烷化合物只要為具有至少一個將烷氧基直接鍵結於矽原子而成的基團的化合物，則並無特別限制，較佳為具有二烷氧基矽烷基及/或三烷氧基矽烷基的化合物，更佳為具有三烷氧基矽烷基的化合物。 本發明中可使用的烷氧基矽烷化合物較佳為使基材、例如矽、氧化矽、氮化矽等矽化合物、金、銅、鉬、鈦、鋁等金屬與絕緣膜的密接性提高的化合物。具體而言，公知的矽烷偶合劑等亦有效。較佳為具有乙烯性不飽和鍵的矽烷偶合劑。

矽烷偶合劑例如可列舉：γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基二烷氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基二烷氧基矽烷、γ-氯丙基三烷氧基矽烷、γ-巰基丙基三烷氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三烷氧基矽烷、乙烯基三烷氧基矽烷。該些化合物中，更佳為γ-甲基丙烯醯氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三烷氧基矽烷、乙烯基三烷氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基矽烷。該些化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。 市售品可例示信越化學工業（股）製造的KBM-403或KBM-5103。

相對於感光性組成物的總固體成分，本發明的感光性組成物中的烷氧基矽烷化合物的含量較佳為0.1質量%～30質量%，更佳為2質量%～27質量%，進而佳為3質量%～24質量%。烷氧基矽烷化合物可僅使用一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

（其他成分） 本發明的感光性組成物除所述成分以外，亦可含有其他成分。其他成分可例示：具有環氧基的化合物、具有氧雜環丁基的化合物。

＜具有環氧基的化合物、及具有氧雜環丁基的化合物＞ 本發明的感光性組成物亦可含有選自由具有環氧基的化合物、及具有氧雜環丁基的化合物所組成的組群中的至少一種。若為所述態樣，則所得的硬化膜的硬度更優異。

〔具有環氧基的化合物〕 本發明的感光性組成物亦可含有具有環氧基的化合物。具有環氧基的化合物可於分子中僅具有1個環氧基，較佳為具有2個以上。 於分子內具有2個以上的環氧基的化合物的具體例可列舉：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。

該些化合物可作為市售品而獲取。例如，雙酚A型環氧樹脂為JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010（以上為日本環氧樹脂（Japan Epoxy Resin）（股）製造），艾比克隆（EPICLON）860、艾比克隆（EPICLON）1050、艾比克隆（EPICLON）1051、艾比克隆（EPICLON）1055（以上為迪愛生（DIC）（股）製造）等；雙酚F型環氧樹脂為JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010（以上為日本環氧樹脂（Japan Epoxy Resin）（股）製造），艾比克隆（EPICLON）830、艾比克隆（EPICLON）835（以上為迪愛生（DIC）（股）製造），LCE-21、RE-602S（以上為日本化藥（股）製造）等；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER152、JER154、JER157S70、JER157S65（以上為日本環氧樹脂（Japan Epoxy Resin）（股）製造），艾比克隆（EPICLON）N-740、艾比克隆（EPICLON）N-740、艾比克隆（EPICLON）N-770、艾比克隆（EPICLON）N-775（以上為迪愛生（DIC）（股）製造）等；甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為艾比克隆（EPICLON）N-660、艾比克隆（EPICLON）N-665、艾比克隆（EPICLON）N-670、艾比克隆（EPICLON）N-673、艾比克隆（EPICLON）N-680、艾比克隆（EPICLON）N-690、艾比克隆（EPICLON）N-695（以上為迪愛生（DIC）（股）製造），EOCN-1020（以上為日本化藥（股）製造）等；脂肪族環氧樹脂為艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4080S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4085S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4088S（以上為艾迪科（ADEKA）（股）製造），賽羅西德（Celloxide）2021P、賽羅西德（Celloxide）2081、賽羅西德（Celloxide）2083、賽羅西德（Celloxide）2085、EHPE3150、艾波利得（EPOLEAD）PB 3600、艾波利得（EPOLEAD）PB 4700（以上為大賽璐（Daicel）化學工業（股）製造）等。除此以外亦可列舉：艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4000S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4003S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4010S、艾迪科樹脂（ADEKA RESIN）EP-4011S（以上為艾迪科（ADEKA）（股）製造），NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502（以上為艾迪科（ADEKA）（股）製造）等。 另外，亦可較佳地使用日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報中記載的具有環氧乙烷骨架的胺基甲酸酯化合物類，將該些內容併入至本申請案說明書中。

於本發明的感光性組成物含有具有環氧基的化合物的情形時，較佳為以組成物的總固體成分的0.1質量%～20質量%的範圍而含有，更佳為以0.5質量%～10質量%的範圍而含有，進而佳為以1質量%～5質量%的範圍而含有。 本發明的感光性組成物可僅含有一種具有環氧基的化合物，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

〔具有氧雜環丁基的化合物〕 本發明的感光性組成物亦可含有具有氧雜環丁基的化合物。具有氧雜環丁基的化合物可於分子中僅具有1個氧雜環丁基，較佳為具有2個以上。

具有氧雜環丁基的化合物的具體例可使用：亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OXT-121、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OXT-221、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）OX-SQ、亞龍氧雜環丁烷（Aron Oxetane）PNOX（以上為東亞合成（股）製造）。 另外，含有氧雜環丁基的化合物較佳為單獨使用或與含有環氧基的化合物混合使用。

於本發明的感光性組成物含有具有氧雜環丁基的化合物的情形時，較佳為以組成物的總固體成分的0.1質量%～20質量%的範圍而含有，更佳為以0.5質量%～10質量%的範圍而含有，進而佳為以1質量%～5質量%的範圍而含有。 本發明的感光性組成物可僅含有一種具有氧雜環丁基的化合物，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為合計量成為所述範圍。

本發明的感光性組成物中，亦可於不偏離本發明的主旨的範圍內含有所述以外的其他化合物（例如含烷氧基甲基的化合物等）。含烷氧基甲基的化合物可列舉日本專利特開2011-221494號公報的段落0192～段落0194中記載者。

＜界面活性劑＞ 本發明的感光性組成物亦可含有作為其他成分的界面活性劑。 界面活性劑可使用陰離子系、陽離子系、非離子系或兩性的任一種，較佳的界面活性劑為非離子系界面活性劑。界面活性劑較佳為非離子系界面活性劑，更佳為氟系界面活性劑。 本發明中可使用的界面活性劑例如可列舉：作為市售品的美佳法（Megafac）F142D、美佳法（Megafac）F172、美佳法（Megafac）F173、美佳法（Megafac）F176、美佳法（Megafac）F177、美佳法（Megafac）F183、美佳法（Megafac）F479、美佳法（Megafac）F482、美佳法（Megafac）F554、美佳法（Megafac）F780、美佳法（Megafac）F781、美佳法（Megafac）F781-F、美佳法（Megafac）R30、美佳法（Megafac）R08、美佳法（Megafac）F-472SF、美佳法（Megafac）BL20、美佳法（Megafac）R-61、美佳法（Megafac）R-90（迪愛生（DIC）（股）製造），弗拉德（Fluorad）FC-135、弗拉德（Fluorad）FC-170C、弗拉德（Fluorad）FC-430、弗拉德（Fluorad）FC-431、諾貝克（Novec）FC-4430（住友3M（股）製造），旭嘉德（Asahi Guard）AG7105、旭嘉德（Asahi Guard）7000、旭嘉德（Asahi Guard）950、旭嘉德（Asahi Guard）7600、沙福隆（Surflon）S-112、沙福隆（Surflon）S-113、沙福隆（Surflon）S-131、沙福隆（Surflon）S-141、沙福隆（Surflon）S-145、沙福隆（Surflon）S-382、沙福隆（Surflon）SC-101、沙福隆（Surflon）SC-102、沙福隆（Surflon）SC-103、沙福隆（Surflon）SC-104、沙福隆（Surflon）SC-105、沙福隆（Surflon）SC-106（旭硝子（股）製造），艾福拓（Eftop）EF351、艾福拓（Eftop）352、艾福拓（Eftop）801、艾福拓（Eftop）802（三菱材料電子化成（股）製造），福吉特（Ftergent）250（尼奧斯（Neos）（股）製造）。另外，除了所述以外，亦可列舉：KP（信越化學工業（股）製造）、寶理弗洛（Ployflow）（共榮社化學（股）製造）、艾福拓（Eftop）（三菱材料電子化成（股）製造）、美佳法（Megafac）（迪愛生（DIC）（股）製造）、弗拉德（Fluorad）（住友3M（股）製造）、旭嘉德（Asahi Guard）、沙福隆（Surflon）（旭硝子（股）製造）、寶理佛斯（PolyFox）（歐諾瓦（OMNOVA）公司製造）等各系列。

另外，界面活性劑可列舉以下共聚物作為較佳例，所述共聚物含有下述式（W）所表示的構成單元A及構成單元B，且以四氫呋喃作為溶媒由凝膠滲透層析法所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量（Mw）為1,000以上且10,000以下。

[化11]

式（W）中，R^W1 及R^W3 分別獨立地表示氫原子或甲基，R^W2 表示碳數1以上且4以下的直鏈伸烷基，R^W4 表示氫原子或碳數1以上且4以下的烷基，L^W 表示碳數3以上且6以下的伸烷基，p及q為表示聚合比的質量百分率，p表示10質量%以上且80質量%以下的數值，q表示20質量%以上且90質量%以下的數值，r表示1以上且18以下的整數，s表示1以上且10以下的整數。

所述L^W 較佳為下述式（W-2）所表示的分支伸烷基。式（W-2）中的R^W5 表示碳數1以上且4以下的烷基，就相容性及對被塗佈面的濡濕性的方面而言，較佳為碳數1以上且3以下的烷基，更佳為碳數2或3的烷基。 式（W）中的p與q之和（p＋q）較佳為p＋q=100、即100質量%。 所述共聚物的重量平均分子量（Mw）更佳為1,500以上且5,000以下。

[化12]

關於本發明的感光性組成物中的界面活性劑的含量，於調配界面活性劑的情形時，相對於組成物的總固體成分，所述界面活性劑的含量較佳為0.001質量%～5.0質量%，更佳為0.01質量%～2.0質量%。 界面活性劑可僅含有一種，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。

＜抗氧化劑＞ 本發明的感光性組成物除所述成分以外，亦可含有抗氧化劑。再者，抗氧化劑為除所述成分K以外的化合物。抗氧化劑可含有公知的抗氧化劑。藉由添加抗氧化劑，有可防止硬化膜的著色、或可減少由分解所致的膜厚變薄、另外耐熱透明性優異的優點。 此種抗氧化劑例如可列舉：磷系抗氧化劑、醯胺類、醯肼類、受阻酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。該等中，就硬化膜的著色、膜厚變薄的觀點而言，尤其較佳為受阻酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑，最佳為受阻酚系抗氧化劑。該些抗氧化劑可單獨使用一種，亦可混合兩種以上。 較佳的市售品可列舉：艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-60、艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-80（以上為艾迪科（ADEKA）（股）製造），豔諾斯（Irganox）1098（以上為巴斯夫（BASF）公司製造）。 抗氧化劑的含量並無特別限制，相對於感光性組成物的總固體成分，較佳為0.1質量%～10質量%，更佳為0.2質量%～5質量%，進而佳為0.5質量%～4質量%。

＜黏合劑聚合物＞ 就提高解析性及皮膜特性等觀點而言，本發明的感光性組成物亦可含有黏合劑聚合物。 黏合劑聚合物並無特別限制，可使用公知者，較佳為使用線性有機聚合物。此種線性有機聚合物可任意使用公知者。較佳為選擇於水或弱鹼性水中為可溶性或膨潤性的線性有機聚合物，以可進行水顯影或弱鹼性水顯影。線性有機聚合物是根據不僅作為皮膜形成劑、而且作為水或弱鹼性水或有機溶劑顯影劑的用途而選擇使用。例如若使用水可溶性有機聚合物，則可進行水顯影。此種線性有機聚合物可列舉：於側鏈上具有羧酸基的自由基聚合體，例如日本專利特開昭59-44615號公報、日本專利特公昭54-34327號公報、日本專利特公昭58-12577號公報、日本專利特公昭54-25957號公報、日本專利特開昭54-92723號公報、日本專利特開昭59-53836號公報、日本專利特開昭59-71048號公報中記載者，即，使具有羧基的單體進行均聚合或共聚合而成的樹脂、使具有酸酐的單體進行均聚合或共聚合並使酸酐單元水解或半酯化或半醯胺化而成的樹脂、利用不飽和單羧酸及酸酐使環氧樹脂改質而成的環氧丙烯酸酯等。具有羧基的單體可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、馬來酸、富馬酸、4-羧基苯乙烯等，具有酸酐的單體可列舉馬來酸酐等。 另外，存在同樣地於側鏈上具有羧酸基的酸性纖維素衍生物。除此以外，於具有羥基的聚合體上加成環狀酸酐而成的化合物等有用。 本發明的感光性組成物中的黏合劑聚合物的含量並無特別限制，相對於感光性組成物的總固體成分，較佳為0質量%～40質量%，更佳為0質量%～30質量%，進而佳為0質量%～20質量%，尤佳為0質量%～10質量%，最佳為0質量%～5質量%。

相對於感光性組成物的總固體成分，本發明的感光性組成物中的重量平均分子量超過10,000的聚合物成分的含量較佳為0質量%～40質量%，更佳為0質量%～30質量%，進而佳為0質量%～20質量%，尤佳為0質量%～10質量%，最佳為0質量%～5質量%。 若聚合物成分的含量為所述範圍內，則顯影性及硬化性優異。

〔其他成分〕 本發明的感光性組成物中，除了上文所述的成分以外，視需要亦可添加塑化劑、熱酸產生劑、酸增殖劑等其他成分。關於該些成分，例如可使用日本專利特開2009-98616號公報、日本專利特開2009-244801號公報中記載者及其他公知者。另外，亦可將「高分子添加劑的新展開（日刊工業報社（股））」中記載的各種紫外線吸收劑或金屬鈍化劑等添加至本發明的感光性組成物中。

＜感光性組成物的組成＞ 本發明的感光性組成物較佳為相對於感光性組成物的總有機固體成分而含有3質量%～49.5質量%的成分A，含有20質量%～85質量%的成分B，含有0.5質量%～30質量%的成分C，含有0.1質量%～20質量%的成分N，及含有0.01質量%～0.5質量%的成分K。

＜硬化膜、硬化物及其製造方法＞ 本發明的硬化物為使本發明的感光性組成物硬化而成的硬化物。所述硬化物較佳為硬化膜。另外，本發明的硬化膜較佳為藉由本發明的硬化膜的製造方法所得的硬化膜。 本發明的硬化膜的製造方法只要為使本發明的感光性組成物硬化而製造硬化膜的方法，則並無特別限制，較佳為依序包括以下的步驟1～步驟5。 步驟1：塗佈步驟，將本發明的感光性組成物塗佈於基板上 步驟2：溶劑去除步驟，自所塗佈的感光性組成物中去除溶劑 步驟3：曝光步驟，藉由光化射線對去除了溶劑的感光性組成物的至少一部分進行曝光 步驟4：顯影步驟，藉由水性顯影液對經曝光的感光性組成物進行顯影 步驟5：熱處理步驟，對經顯影的感光性組成物進行熱處理 另外，本發明的硬化膜的製造方法更佳為於以下的步驟4之後、步驟5之前包括以下的步驟4'。 步驟4'：進一步對經顯影的感光性組成物照射光化射線的步驟

於所述塗佈步驟中，較佳為將本發明的感光性組成物塗佈於基板上而製成含有溶劑的濕潤膜。於將感光性組成物塗佈於基板上之前，可進行鹼清洗或電漿清洗等基板的清洗。進而，可於基板清洗後利用六甲基二矽氮烷等對基板表面進行處理。藉由進行該處理，有感光性組成物對基板的密接性提高的傾向。 所述基板可列舉無機基板、樹脂、樹脂複合材料等。 無機基板例如可列舉：玻璃、石英、矽、氮化矽及於此種基板上蒸鍍有鉬、鈦、鋁、銅等而成的複合基板。 關於樹脂，可列舉包含以下樹脂的基板：聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚碸、聚醚碸、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚環烯烴、降冰片烯樹脂、聚氯三氟乙烯等氟樹脂、液晶聚合物、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂、離子聚合物樹脂、氰酸酯樹脂、交聯富馬酸二酯、環狀聚烯烴、芳香族醚、馬來醯亞胺-烯烴共聚物、纖維素、環硫樹脂等合成樹脂。 該些基板很少以所述形態直接使用，通常視最終產品的形態而形成有例如TFT元件般的多層積層結構。 另外，於為單元上結構的觸控面板等般的情形時，亦可將本發明的感光性組成物應用於以面板的形式暫時完成的液晶顯示器（liquid-crystal display，LCD）單元或有機發光二極體（Organic light emitting diode，OLED）單元之上。

本發明的感光性組成物對藉由濺鍍而製膜的金屬膜或金屬氧化物的密接良好，故基板較佳為含有藉由濺鍍而製膜的金屬膜。金屬較佳為鈦、銅、鋁、銦、錫、錳、鎳、鈷、鉬、鎢、鉻、銀、釹及該些金屬的氧化物或合金，進而佳為鉬、鈦、鋁、銅、及該些金屬的合金。再者，金屬或金屬氧化物可種單獨使用一種，亦可併用多種。

對基板的塗佈方法並無特別限定，例如可使用：噴墨法、狹縫塗佈法、噴霧法、輥式塗佈法、旋轉塗佈法、流延塗佈法、狹縫及旋轉法、印刷法等方法。

於所述溶劑去除步驟中，較佳為藉由減壓（真空）及/或加熱等自所塗佈的所述膜中去除溶劑而於基板上形成乾燥塗膜。溶劑去除步驟的加熱條件較佳為於70℃～130℃下加熱30秒鐘～300秒鐘左右。另外，於所述溶劑去除步驟中，無需將感光性組成物中的溶劑完全去除，只要將至少一部分去除即可。

於所述曝光步驟中，較佳為對所得的塗膜以規定的圖案狀照射波長300 nm以上且450 nm以下的光化射線。於所述步驟中，聚合性單量體藉由光聚合起始劑的作用而聚合硬化。 曝光光源可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、LED光源、準分子雷射產生裝置等，可較佳地使用i射線（365 nm）、h射線（405 nm）、g射線（436 nm）等具有波長為300 nm以上且450 nm以下的波長的光化射線。另外，亦可視需要通過長波長截止濾波器、短波長截止濾波器、帶通濾波器般的分光濾波器而調整照射光。 曝光裝置可使用鏡面投影對準器、步進機、掃描器、近接式、接觸式、微透鏡列陣、透鏡掃描器、雷射曝光等各種方式的曝光機。 另外，所述曝光步驟中的曝光量亦無特別限制，較佳為1 mJ/cm² ～3,000 mJ/cm² ，更佳為1 mJ/cm² ～500 mJ/cm² 。 就促進硬化的觀點而言，較佳為於氧阻斷的狀態下進行所述曝光步驟中的曝光。阻斷氧的方法可例示：於氮氣環境下進行曝光，或設置氧阻斷膜。 另外，只要對去除了溶劑的硬化性組成物的至少一部分進行所述曝光步驟中的曝光即可，例如可為全面曝光，亦可為圖案曝光。本發明中，曝光步驟較佳為圖案曝光，更佳為經由光罩進行曝光的步驟。 另外，可於所述曝光步驟後進行曝光後加熱處理（Post Exposure Bake）（以下亦稱為「PEB」）。進行PEB時的溫度較佳為30℃以上且130℃以下，更佳為40℃以上且120℃以下，尤佳為50℃以上且110℃以下。 加熱的方法並無特別限定，可使用公知的方法。例如可列舉加熱板、烘箱、紅外線加熱器等。 另外，關於加熱時間，於加熱板的情況下較佳為1分鐘～30分鐘左右，除此以外的情況下較佳為20分鐘～120分鐘左右。於該範圍內，可不對基板、裝置造成損傷而進行加熱。

於顯影步驟中，使用水性顯影液對曝光為圖案狀的感光性組成物的未硬化部進行顯影並加以去除，形成負圖像。顯影步驟中使用的顯影液較佳為鹼性的水性顯影液。 顯影步驟中使用的顯影液較佳為鹼性化合物的水溶液。鹼性化合物例如可使用：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物類；碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫等鹼金屬碳酸鹽類；碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等鹼金屬碳酸氫鹽類；四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、二乙基二甲基氫氧化銨等四烷基氫氧化銨類；膽鹼等(羥基烷基)三烷基氫氧化銨類；矽酸鈉、偏矽酸鈉等矽酸鹽類；乙胺、丙胺、二乙胺、三乙胺等烷基胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類；1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯等脂環式胺類。 該些中較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、膽鹼（2-羥基乙基三甲基氫氧化銨）。 另外，亦可使用於所述鹼類的水溶液中添加有適當量的甲醇或乙醇等水溶性有機溶劑或界面活性劑的水溶液作為顯影液。 較佳的顯影液可列舉四甲基氫氧化銨的0.4質量%～2.5質量%的水溶液。 顯影液的pH較佳為10.0～14.0。 顯影時間較佳為30秒鐘～500秒鐘，另外，顯影的方法可為覆液法（水坑式顯影法）、噴淋法、浸漬法等的任意者。 於顯影步驟後，亦可進行淋洗步驟。於淋洗步驟中，藉由純水等對顯影後的基板進行清洗，將所附著的顯影液去除，從而去除顯影殘渣。淋洗方法可使用公知的方法。例如可列舉噴淋淋洗或浸漬淋洗等。 關於圖案曝光及顯影，可使用公知的方法或公知的顯影液。例如可較佳地使用日本專利特開2011-186398號公報、日本專利特開2013-83937號公報中記載的圖案曝光方法及顯影方法。

另外，就提高膜硬度的觀點而言，較佳為於顯影步驟後、熱處理步驟前，包括進一步對經顯影的感光性組成物照射光化射線的步驟（後曝光）。 於該情形時，較佳為利用水銀燈或LED燈等進行50 mJ/cm² ～3,000 mJ/cm² 左右的能量曝光。另外，關於後曝光，較佳為進行全面曝光。 藉由進行後曝光，可進一步促進膜的硬化反應，從而膜硬度提高。

本發明的硬化膜的製造方法較佳為於所述顯影步驟後包括對經顯影的感光性組成物進行熱處理的步驟（後烘烤）。藉由於顯影後對本發明的感光性組成物進行熱處理，可獲得強度更優異的硬化膜。 熱處理的溫度較佳為180℃以下，更佳為150℃以下，進而佳為130℃以下。下限值較佳為80℃以上，更佳為90℃以上。加熱的方法並無特別限定，可使用公知的方法。例如可列舉加熱板、烘箱、紅外線加熱器等。 另外，關於加熱時間，於加熱板的情況下較佳為1分鐘～30分鐘左右，除此以外的情況下較佳為20分鐘～120分鐘左右。於該範圍內，可不對基板、裝置造成損傷而進行硬化。 另外，所述本發明的硬化膜的製造方法中的利用光及/或熱的硬化可連續進行，亦可依次進行。 另外，於進行熱處理時，藉由在氮氣環境下進行，亦可進一步提高透明性。 就調整加熱後的形狀的觀點而言，亦可於熱處理步驟（後烘烤）之前、於比較低的溫度下進行烘烤之後，進行熱處理步驟（追加中間烘烤步驟）。例如可例示首先於90℃下進行30分鐘加熱（中間烘烤）、然後於120℃下進行30分鐘加熱（後烘烤）的方法等。另外，亦可將中間烘烤、後烘烤分為3階段以上的多階段而進行加熱。藉由設計此種中間烘烤、後烘烤，可調整圖案的錐角。該些加熱可使用加熱板、烘箱、紅外線加熱器等公知的加熱方法。

本發明的硬化膜為使本發明的感光性組成物硬化而獲得的硬化膜。 本發明的硬化膜可較佳地用作外塗膜（保護膜）或層間絕緣膜。另外，本發明的硬化膜較佳為藉由本發明的硬化膜的製造方法而獲得的硬化膜。 藉由本發明的感光性組成物，即便於低溫下硬化亦可獲得具有充分的硬度的硬化膜。例如可獲得依據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）K5600：1999所測定的負重為750 g的鉛筆硬度為2H以上的硬化膜。使本發明的感光性組成物硬化而形成的保護膜由於硬化膜物性優異，故於觸控面板、觸控面板顯示裝置、有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等的用途中有用。

本發明的感光性組成物由於硬化性及硬化膜特性優異，故作為微機電系統（Micro Electro Mechanical Systems，MEMS）用器件的結構構件，將使本發明的感光性組成物硬化而成的硬化物或抗蝕劑圖案作為隔離壁，或作為機械驅動零件的一部分組入而使用。此種MEMS用器件例如可列舉：表面聲波（Surface Acoustic Wave，SAW）濾波器、體聲波（Bulk Acoustic Wave，BAW）濾波器、陀螺感測器（gyro sensor）、顯示器用微快門（micro-shutter）、影像感測器、電子紙、噴墨頭、生物晶片、密封劑等零件。更具體的例子是例示於日本專利特表2007-522531號公報、日本專利特開2008-250200號公報、日本專利特開2009-263544號公報等中。

本發明的感光性組成物由於平坦性或透明性優異，故例如亦可用於形成：日本專利特開2011-107476號公報的圖2中記載的岸堤層（16）及平坦化膜（57）、日本專利特開2010-9793號公報的圖4（a）中記載的隔離壁（12）及平坦化膜（102）、日本專利特開2010-27591號公報的圖10中記載的岸堤層（221）及第3層間絕緣膜（216b）、日本專利特開2009-128577號公報的圖4（a）中記載的第2層間絕緣膜（125）及第3層間絕緣膜（126）、日本專利特開2010-182638號公報的圖3中記載的平坦化膜（12）及畫素分離絕緣膜（14）等。除此以外，亦可較佳地用於：用以將液晶顯示裝置中的液晶層保持於一定厚度的間隔件，液晶顯示裝置的彩色濾光片或彩色濾光片保護膜，傳真機（facsimile）、電子影印機、固體攝像元件等的晶載彩色濾光片（on-chip filter）的成像光學系統或光纖連接器的微透鏡。

＜有機EL顯示裝置＞ 本發明的有機EL顯示裝置的特徵在於具有本發明的硬化膜。 本發明的有機EL顯示裝置除了具有使用所述本發明的感光性組成物所形成的平坦化膜或層間絕緣膜以外，並無特別限制，可列舉採用各種結構的公知的各種有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置。 例如，本發明的有機EL顯示裝置所具有的薄膜電晶體（Thin-Film Transistor，TFT）的具體例可列舉：非晶矽-TFT、低溫多晶矽-TFT、氧化物半導體TFT等。本發明的硬化膜由於電氣特性優異，故可與該些TFT組合而較佳地使用。 圖1為有機EL顯示裝置的一例的構成概念圖，且表示底部發光型的有機EL顯示裝置中的基板的示意剖面圖，具有平坦化膜4。 於玻璃基板6上形成底部閘極型的TFT 1，以覆蓋該TFT 1的狀態而形成包含Si₃ N₄ 的絕緣膜3。於絕緣膜3中形成此處省略圖示的接觸孔（contact hole）後，於絕緣膜3上形成經由該接觸孔而連接於TFT 1的配線2（高度1.0 μm）。配線2為用以將TFT 1間連接、或將後續步驟中形成的有機EL元件與TFT 1連接的配線。 進而，為了使因形成配線2所致的凹凸平坦化，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態於絕緣膜3上形成平坦化膜4。 於平坦化膜4上形成底部發光型的有機EL元件。即，於平坦化膜4上經由接觸孔7連接於配線2而形成包含ITO的第一電極5。另外，第一電極5相當於有機EL元件的陽極。 形成覆蓋第一電極5的邊緣的形狀的絕緣膜8，藉由設置該絕緣膜8，可防止第一電極5與此後的步驟中形成的第二電極之間的短路。 進而，於圖1中雖未圖示，但介隔所需的圖案遮罩來依序蒸鍍設置電洞傳輸層、有機發光層、電子傳輸層，繼而於基板上方的整個面上形成包含Al的第二電極，使用密封用玻璃板及紫外線硬化型環氧樹脂進行貼合，由此加以密封，獲得對各有機EL元件連接用以驅動各有機EL元件的TFT 1而成的主動式矩陣型的有機EL顯示裝置。

＜液晶顯示裝置＞ 本發明的液晶顯示裝置的特徵在於具有本發明的硬化膜。 本發明的液晶顯示裝置除了具有使用所述本發明的感光性組成物所形成的保護膜、平坦化膜或層間絕緣膜以外，並無特別限制，可列舉採用各種結構的公知的液晶顯示裝置。 另外，本發明的液晶顯示裝置可採取的液晶驅動方式可列舉：扭轉向列（Twisted Nematic，TN）方式、垂直配向（Vertical Alignment，VA）方式、共面切換（In-Plane-Switching，IPS）方式、邊緣場切換（Fringe Field Switching，FFS）方式、光學補償彎曲（Optically Compensated Bend，OCB）方式等。 關於面板構成，於彩色濾光片陣列（Color Filter on Array，COA）方式的液晶顯示裝置中亦可使用本發明的硬化膜，例如可用作日本專利特開2005-284291號公報的有機絕緣膜（115）、或日本專利特開2005-346054號公報的有機絕緣膜（212）。另外，本發明的液晶顯示裝置可採取的液晶配向膜的具體的配向方式可列舉摩擦配向法、光配向法等。另外，亦可藉由日本專利特開2003-149647號公報或日本專利特開2011-257734號公報中記載的聚合物穩定配向（Polymer Sustained Alignment，PSA）技術來進行聚合物配向支持。 另外，本發明的感光性組成物及本發明的硬化膜不限定於所述用途，可用於各種用途。例如，除了平坦化膜或層間絕緣膜以外，亦可較佳地用於保護膜、或用以將液晶顯示裝置中的液晶層保持於一定厚度的間隔件、或於固體攝像元件中設置於彩色濾光片上的微透鏡等。

圖2為表示主動式矩陣方式的液晶顯示裝置10的一例的概念剖面圖。該彩色液晶顯示裝置10為於背面上具有背光單元12的液晶面板，並且液晶面板中，配置有與貼附有偏光膜的2片玻璃基板14、玻璃基板15之間配置的所有畫素相對應的TFT 16的元件。對於形成於玻璃基板上的各元件，通過形成於硬化膜17中的接觸孔18而進行形成畫素電極的ITO透明電極19的配線。於ITO透明電極19上，設有液晶20的層及配置有黑色矩陣的紅色-綠色-藍色（Red Green Blue，RGB）彩色濾光片22。 背光的光源並無特別限定，可使用公知的光源。例如可列舉：白色LED、藍色·紅色·綠色等的多色LED、螢光燈（冷陰極管）、有機EL等。 另外，液晶顯示裝置可設定為三維（Three dimensions，3D）（立體視）型，亦可設定為觸控面板型。進而，亦可設定為可撓型，可用作日本專利特開2011-145686號公報中記載的第2層間絕緣膜（48）、或日本專利特開2009-258758號公報中記載的層間絕緣膜（520）。

＜觸控面板及觸控面板顯示裝置＞ 本發明的觸控面板為絕緣層及/或保護層的全部或一部分包含本發明的硬化性組成物的硬化物的觸控面板。另外，本發明的觸控面板較佳為至少具有透明基板、電極及絕緣層及/或保護層。 本發明的觸控面板顯示裝置較佳為具有本發明的觸控面板的觸控面板顯示裝置。本發明的觸控面板亦可為電阻膜方式、靜電電容方式、超音波方式、電磁感應方式等公知的方式的任一者。其中，較佳為靜電電容方式。 靜電電容方式的觸控面板可列舉日本專利特開2010-28115號公報中所揭示者或國際公開第2012/057165號中所揭示者。其他觸控面板可列舉：所謂單元內（in-cell）型（例如日本專利特表2012-517051號公報的圖5、圖6、圖7、圖8）、所謂單元上型（例如日本專利特開2012-43394號公報的圖14、國際公開第2012/141148號的圖2（b））、單片式玻璃觸控（One Glass Solution，OGS）型、單層電容式觸控（Touch On Lens，TOL）型、其他構成（例如日本專利特開2013-164871號公報的圖6）。

另外，圖3表示具有觸控面板功能的液晶顯示裝置的一例的構成概念圖。 例如，本發明的硬化膜適合於圖3中的各層之間用於保護膜，另外，亦適合用於將觸控面板的檢測電極間隔開的層間絕緣膜。再者，觸控面板的檢測電極較佳為銀、銅、鋁、鈦、鉬、該些金屬的合金。 圖3中，110表示畫素基板，140表示液晶層，120表示對向基板，130表示感測器部。畫素基板110自圖3的下側起而依序具有偏光板111、透明基板112、共通電極113、絕緣層114、畫素電極115、配向膜116。對向基板120自圖3的下側起而依序具有配向膜121、彩色濾光片122、透明基板123。感測器部130分別具有相位差膜124、接著層126、偏光板127。另外，圖3中，125為感測器用檢測電極。本發明的硬化膜可用於畫素基板部分的絕緣層（114）（亦稱為層間絕緣膜）或各種保護膜（未圖示）、畫素基板部分的各種保護膜（未圖示）、對向基板部分的各種保護膜（未圖示）、感測器部分的各種保護膜（未圖示）等。

進而，於靜態（static）驅動方式的液晶顯示裝置中，亦可藉由應用本發明而顯示設計性高的圖案。作為例子，可作為日本專利特開2001-125086號公報中記載般的聚合物網路型液晶的絕緣膜而應用本發明。

另外，圖4為具有觸控面板功能的液晶顯示裝置的另一例的構成概念圖。 所述液晶顯示裝置包含：具備薄膜電晶體（TFT）440的相當於薄膜電晶體顯示板的下部顯示板200、與下部顯示板200相對向並於與下部顯示板200相對向的面上具備多個彩色濾光片330的相當於彩色濾光片顯示板的上部顯示板300、以及形成於下部顯示板200與上部顯示板300之間的液晶層400。液晶層400含有液晶分子（未圖示）。

下部顯示板200含有第1絕緣基板210、配置於第1絕緣基板210上的薄膜電晶體（TFT）、形成於薄膜電晶體（TFT）的上表面上的絕緣膜280、及配置於絕緣膜280上的畫素電極290。薄膜電晶體（TFT）可含有閘極電極220、覆蓋閘極電極220的閘極絕緣膜240、半導體層250、歐姆接觸層260、歐姆接觸層262、源極電極270及汲極電極272。 於絕緣膜280中，以薄膜電晶體（TFT）的汲極電極272露出的方式而形成有接觸孔282。

上部顯示板300含有：配置於第2絕緣基板310的一個面上且以矩陣狀而排列的遮光構件320；配置於第2絕緣基板310上的配向膜350；配置於配向膜350上的彩色濾光片330；及配置於彩色濾光片330上且與下部顯示板200的畫素電極290相對應，對液晶層400施加電壓的共通電極370。

於圖4所示的液晶顯示裝置中，於第2絕緣基板310的另一面上配置感測電極410、絕緣膜420、驅動電極430及保護膜280。如此般，於圖4所示的液晶顯示裝置的製造中，於形成上部顯示板300時，可一併形成作為觸控屏（touch screen）的構成要素的感測電極410、絕緣膜420及驅動電極430等。尤其使本發明的感光性組成物硬化而成的硬化膜可較佳地用於絕緣膜280或絕緣膜420。 [實施例]

以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍不限定於以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則「份」、「%」為質量基準。

實施例及比較例中使用的各成分如下所述。 （成分A） a-1：下述結構的化合物 a-2：下述結構的化合物 a-3：下述結構的化合物 a'-1：阿羅尼斯（Aronix）M-5300（東亞合成（股）製造），1官能

[化13]

（成分B） b-1：二季戊四醇六丙烯酸酯（DPHA，日本化藥（股）製造），6官能 b-2：季戊四醇四丙烯酸酯（A-TMMT，新中村化學工業（股）製造），4官能 b-3：三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（M309，東亞合成（股）製造），3官能 b-4：NK寡聚（NK OLIGO）U-15HA（新中村化學工業（股）製造），15官能 b-5：UA-306H（共榮社化學（股）製造），6官能 b'-1：1,9-壬二醇二丙烯酸酯（A-NOD-N，新中村化學工業（股）製造），2官能

（成分C） C-1：化合物1（合成品，參照下述），肟酯化合物 C-2：豔佳固（IRGACURE）OXE-01（巴斯夫（BASF）公司製造），肟酯化合物，下述結構 C-3：豔佳固（IRGACURE）OXE-02（巴斯夫（BASF）公司製造），肟酯化合物，下述結構

[化14]

（成分K） K-1：啡噻嗪（東京化成工業（股）製造） K-2：啡噁嗪（東京化成工業（股）製造） （成分E） E-1：PMA-ST（日產化學工業（股）製造），二氧化矽粒子，平均粒徑為10 nm～15 nm E-2：MIBK-ST-L（日產化學工業（股）製造），二氧化矽粒子，平均粒徑為40 nm～50 nm

（成分N） N-1：塔克奈特（Takenate）B870N（三井化學（股）製造）（基質異氰酸酯：異佛爾酮二異氰酸酯，封閉劑：甲基乙基酮（Methyl ethyl ketone，MEK）肟） N-2：德斯莫（Desmodule）BL3575/1 MPA/SN（住化拜耳（Sumitomo-Bayer）（股）製造）（基質異氰酸酯：六亞甲基二異氰酸酯，封閉劑：甲基乙基酮肟） N-3：德斯莫（Desmodule）BL4265SN（住化拜耳（Sumitomo-Bayer）（股）製造）（基質異氰酸酯：異佛爾酮二異氰酸酯，封閉劑：甲基乙基酮肟） N-4：杜拉奈特（Duranate）SBN-70D（三井化學（股）製造）（基質異氰酸酯：1,6-六亞甲基二異氰酸酯，封閉劑：吡唑衍生物）

（成分S） SC-1：KBM-403（3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷，信越化學工業（股）製造） SC-2：KBM-5103（3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷，信越化學工業（股）製造）

（成分D） D-1：丙二醇單甲醚乙酸酯（大賽璐（Daicel）（股）製造） D-2：甲基乙基二甘醇（大賽璐（Daicel）（股）製造） D-3：1,3-丁二醇二乙酸酯 D-4：四氫糠醇

（界面活性劑） W-1：美佳法（Megafac）F554（迪愛生（DIC）（股）製造），氟系界面活性劑 （增感劑） I-1：DBA（下述結構的二丁氧基蒽）（川崎化成工業（股）製造） （抗氧化劑） J-1：艾迪科斯塔波（Adekastab）AO-60（受阻酚系抗氧化劑，艾迪科（ADEKA）（股）製造）

[化15]（式中，Bu表示丁基）

＜化合物1（C-1）的合成＞ 〔化合物A的合成〕 將乙基咔唑（100.0 g、0.512 mol）溶解於氯苯260 ml中，冷卻至0℃後，添加氯化鋁（70.3 g、0.527 mol）。繼而，用40分鐘滴加鄰甲苯醯氯（81.5 g、0.527 mol），昇溫至室溫（25℃，以下相同）並攪拌3小時。然後，冷卻至0℃後，添加氯化鋁（75.1 g、0.563 mol）。用40分鐘滴加4-氯丁醯氯（79.4 g、0.563 mol），昇溫至室溫並攪拌3小時。將35質量%鹽酸水溶液156 ml與蒸餾水392 ml的混合溶液冷卻至0℃，滴加反應溶液。對析出的固體進行抽吸過濾後，利用蒸餾水及甲醇進行清洗，利用乙腈進行再結晶後，獲得下述結構的化合物A（產量為164.4 g，產率為77%）。

[化16]

〔化合物B的合成〕 將所述獲得的化合物A（20.0 g、47.9 mmol）溶解於四氫呋喃（THF）64 ml中，添加4-氯苯硫醇（7.27 g、50.2 mmol）及碘化鈉（0.7 g、4.79 mmol）。繼而，於反應液中添加氫氧化鈉（2.0 g、50.2 mmol），回流2小時。繼而，冷卻至0℃後，用20分鐘滴加SM-28（11.1 g、57.4 mmol，甲氧化鈉的28%甲醇溶液，和光純藥工業（股）製造），昇溫至室溫並攪拌2小時。繼而，冷卻至0℃後，用20分鐘滴加亞硝酸異戊酯（6.73 g、57.4 mmol），昇溫至室溫並攪拌3小時。將反應液於丙酮120 ml中稀釋，滴加至經冷卻至0℃的0.1 N鹽酸水溶液中。對析出的固體進行抽吸過濾後，利用蒸餾水進行清洗。繼而利用乙腈進行再結晶，獲得下述結構的化合物B（產量為17.0 g、產率為64%）。

[化17]

〔化合物1的合成〕 將化合物B（18.0 g、32.4 mmol）溶解於90 ml的N-甲基吡咯啶酮（NMP）中，添加三乙胺（Et3N，3.94 g、38.9 mmol）。繼而，冷卻至0℃後，用20分鐘滴加乙醯氯（AcCl，3.05 g、38.9 mmol）後，昇溫至室溫並攪拌2小時。將反應液滴加至經冷卻至0℃的蒸餾水150 ml中，對析出的固體進行抽吸過濾後，利用經冷卻至0℃的異丙醇200 ml進行清洗，乾燥後，獲得化合物1（產量為19.5 g，產率為99%）。

[化18]

另外，所得的化合物1的結構是利用核磁共振（Nuclear Magnetic Resonance，NMR）來鑑定。¹ H-NMR (400 MHz, CDCl₃ ) : δ = 8.86(s, 1H), 8.60(s, 1H), 8.31(d, 1H, J = 8.0 Hz), 8.81(d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.51-7.24 (m, 10H), 7.36 (q, 2H, 7.4Hz), 3.24-3.13 (m, 4H), 2.36(s, 3H), 2.21(s, 3H), 1.50 (t, 3H, 7.4 Hz)。

（實施例1～實施例100及比較例1～比較例10） ＜感光性組成物的製備＞ 如下述表1～表3所記載般將各成分調配·攪拌而製成有機溶劑的溶液及/或分散液，利用孔徑為0.3 μm的聚四氟乙烯製過濾器進行過濾，獲得本發明的感光性組成物。除了固體成分濃度以外，下述表的各成分的單位為質量份。另外，有機溶劑以外表示固體成分換算的質量份。

再者，比較例9中使用的組成A具有日本專利第05201066的實施例1中記載的以下組成。另外，比較例10中，相對於所述組成A而添加有相當於總固體成分量的0.2質量%的量的啡噻嗪。 〔組成A〕 添加包含下述共聚物（A-1）的溶液（相當於共聚物（A-1）100質量份（固體成分）的量）、單-[3-(3-丙烯醯氧基-2,2-雙-丙烯醯氧基甲基-丙氧基)-2,2-雙-丙烯醯氧基甲基-丙基]丁二酸酯200質量份、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮（商品名為豔佳固（IRGACURE）907，汽巴精化（Ciba Specialty Chemicals）公司製造）10質量份、酚醛清漆型環氧樹脂（日本環氧樹脂（Japan Epoxy Resin）（股）製造，商品名為埃皮考特（Epikote）152）30質量份、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷30質量份、及作為界面活性劑的FTX-218（尼奧斯（Neos）（股）製造）0.2質量份，進而以固體成分濃度成為22重量%的方式添加溶劑二乙二醇甲基乙醚後，利用孔徑為0.5 μm的微孔過濾器進行過濾而加以製備。

再者，所述共聚物（A-1）以如下方式獲得。 於具備冷卻管與攪拌機的燒瓶中加入2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)5質量份與二乙二醇甲基乙醚200質量份。繼續加入甲基丙烯酸縮水甘油酯40質量份、苯乙烯18質量份、甲基丙烯酸20質量份及N-環己基馬來醯亞胺22質量份，進行氮氣置換，然後開始緩慢地攪拌。使溶液溫度上昇至70℃，保持該溫度5小時，從而獲得包含共聚物（A-1）的聚合體溶液。所得的聚合體溶液的固體成分濃度為33.1質量%。所得的聚合體的數量平均分子量為7,000（數量平均分子量為使用凝膠滲透層析法（Gel Permeation Chromatography，GPC）HLC-8020（東曹（股）製造）所測定的聚苯乙烯換算分子量）。另外，分子量分佈（Mw/Mn）為2。

＜圖案成形性的評價＞ 將玻璃基板（益格（EAGLE）XG，0.7 mm厚（康寧（Corning）公司製造））於六甲基二矽氮烷（HMDS）蒸氣下暴露30秒鐘，旋塗各感光性組成物後，於90℃的加熱板上進行120秒鐘的預烘烤而使溶劑揮發，從而形成膜厚為3.0 μm的感光性組成物層。 繼而，使用佳能（Canon）（股）製造的MPA 5500CF（高壓水銀燈），經由規定的遮罩對所得的感光性組成物層進行曝光。將曝光量設定為對曝光部分於顯影時不會溶解而言充分的曝光量。然後，藉由鹼性顯影液（2.38%的四甲基氫氧化銨水溶液），於23℃下對曝光後的感光性組成物層進行60秒鐘的顯影，然後藉由超純水進行20秒鐘的淋洗。將藉由該些操作而解析直徑為1 mm的孔時的最合適的i射線曝光量（Eopt）作為感度。 評價利用對各遮罩徑進行解析時的最適當的曝光量來製作具有孔圖案的永久膜時的孔徑。於以後的評價中，實際孔圖案徑是以抗蝕劑的底部（底表面）的尺寸來規定。孔徑與遮罩徑的差越小（即，遮罩直線性（linearity）高），面板設計越容易，故而較佳。 評價基準如下所示。 5：遮罩徑與實際孔圖案徑的比為±10%以內者 4：遮罩徑與實際孔圖案徑的比超過±10%且為±20%以內者 3：遮罩徑與實際孔圖案徑的比超過±20%且為±30%以內者 2：遮罩徑與實際孔圖案徑的比超過±30%且為±40%以內者 1：遮罩徑與實際孔圖案徑的比超過±40%者

＜硬化膜的鹽水噴霧試驗（耐人工汗液性（耐汗性）評價試驗）＞ 將所述製備的各感光性組成物旋塗於玻璃基板上，於90℃下進行120秒鐘的預烘烤，獲得膜厚2.0 μm的塗佈膜。繼而，藉由高壓水銀燈進行500 mJ/cm² （i射線換算）的光照射，進而利用烘箱於120℃下進行60分鐘烘烤，藉此製作硬化膜，從而獲得耐人工汗液性評價用試樣。 繼而，以JIS標準（Z 2371）為參考，使用鹽水噴霧試驗機（須賀試驗機（Suga Test Instruments）（股）製造的STP-90V2），將所述試樣載置於試驗槽內，以試驗槽溫度為35℃、噴霧量為1.5 mL/h來噴霧濃度為50 g/L的鹽水（pH=6.7）48小時。噴霧結束後，拭去鹽水，觀察評價用試樣的表面狀態，依據以下的評分進行評價。 5：於保護膜表面完全無變化。 4：於保護膜表面可見極少痕跡，但銅無變化。 3：於保護膜表面可見痕跡，但銅無變化。 2：於保護膜表面有痕跡，且銅變色。 1：於保護膜表面有痕跡，且銅急遽變色。

[表1]

[表3]

如由所述表1～表3所表明，本發明的感光性組成物即便於低溫下硬化，亦具有高的耐人工汗液性。

＜顯示裝置的製作＞ 於圖4所示的顯示裝置中，將本發明的各實施例中所得的感光性組成物用於觸控檢測電極保護膜（絕緣膜、420），分別製作顯示裝置。具體而言，保護膜（420）是藉由以下方式形成：狹縫塗佈本發明的各實施例中所得的感光性組成物，於90℃下進行120秒鐘的預烘烤，藉由高壓水銀燈進行500 mJ/cm² （i射線換算）的光照射，進而利用烘箱於120℃下進行60分鐘烘烤。顯示裝置的其他部分是依照日本專利特開2013-168125號公報中作為圖19而記載的製造方法來製作。所製作的顯示裝置的顯示性能、觸控檢測性能均優異。

1、16、440‧‧‧TFT（薄膜電晶體）
2‧‧‧配線
3、8、280、420‧‧‧絕緣膜
4‧‧‧平坦化膜
5‧‧‧第一電極
6、14、15‧‧‧玻璃基板
7、18、282‧‧‧接觸孔
10‧‧‧液晶顯示裝置
12‧‧‧背光單元
17‧‧‧硬化膜
19‧‧‧ITO透明電極
20‧‧‧液晶
22、122、330‧‧‧彩色濾光片
110‧‧‧畫素基板
111、127‧‧‧偏光板
112、123‧‧‧透明基板
113、370‧‧‧共通電極
114‧‧‧絕緣層
115‧‧‧畫素電極
116、121‧‧‧配向膜
120‧‧‧對向基板
124‧‧‧相位差膜
125‧‧‧感測器用檢測電極
126‧‧‧接著層
130‧‧‧感測器部
140、400‧‧‧液晶層
200‧‧‧下部顯示板
210‧‧‧第1絕緣基板
220‧‧‧閘極電極
240‧‧‧閘極絕緣膜
250‧‧‧半導體層
260、262‧‧‧歐姆接觸層
270‧‧‧源極電極
272‧‧‧汲極電極
290‧‧‧圖像電極
300‧‧‧上部顯示板
310‧‧‧第2絕緣基板
320‧‧‧遮光構件
350‧‧‧配向膜
410‧‧‧感測電極
430‧‧‧驅動電極

圖1表示有機EL顯示裝置的一例的構成概念圖，且表示底部發光（bottom emission）型的有機EL顯示裝置中的基板的示意剖面圖，具有平坦化膜4。 圖2表示液晶顯示裝置的一例的構成概念圖，且表示液晶顯示裝置中的主動式矩陣基板的示意剖面圖，具有作為層間絕緣膜的硬化膜17。 圖3表示具有觸控面板功能的液晶顯示裝置的一例的構成概念圖。 圖4表示具有觸控面板功能的液晶顯示裝置的另一例的構成概念圖。

無

Claims (18)

1. 一種感光性組成物，其特徵在於含有： 作為成分A的於分子內具有3個～15個(甲基)丙烯醯基與1個～6個羧基的聚合性單量體， 作為成分B的於分子內具有3個～15個(甲基)丙烯醯基且不具有羧基的聚合性單量體， 作為成分C的光聚合起始劑， 作為成分D的溶劑， 作為成分N的封閉異氰酸酯化合物，及 作為成分K的聚合抑制劑，且 成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～50質量%。
2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，成分N的含量為0.1質量%～20質量%。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物，其中成分A的含量相對於成分A及成分B的總含量為10質量%～30質量%。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物，其更含有作為成分S的烷氧基矽烷化合物。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物，其更含有作為成分E的無機粒子。
6. 如申請專利範圍第5項所述的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，成分E的含量為10質量%～40質量%。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總有機固體成分，成分A及成分B的總含量為30質量%～99質量%。
8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物，其中相對於感光性組成物的總固體成分，聚合物成分的含量為0質量%～10質量%。
9. 一種硬化膜的製造方法，其至少依序包括步驟1～步驟5， 步驟1：塗佈步驟，將如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物塗佈於基板上； 步驟2：溶劑去除步驟，自所塗佈的感光性組成物中去除溶劑； 步驟3：曝光步驟，藉由光化射線對去除了溶劑的感光性組成物的至少一部分進行曝光； 步驟4：顯影步驟，藉由水性顯影液對經曝光的感光性組成物進行顯影；及 步驟5：熱處理步驟，對經顯影的感光性組成物進行熱處理。
10. 如申請專利範圍第9項所述的硬化膜的製造方法，其中步驟5中的熱處理溫度為80℃～180℃。
11. 一種硬化膜，其是使如申請專利範圍第1項或第2項所述的感光性組成物硬化而成。
12. 如申請專利範圍第11項所述的硬化膜，其為層間絕緣膜或外塗膜。
13. 如申請專利範圍第11項所述的硬化膜，其為觸控面板用外塗膜。
14. 如申請專利範圍第11項所述的硬化膜，其為單元上結構觸控面板用外塗膜。
15. 一種觸控面板，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜。
16. 一種觸控面板顯示裝置，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜。
17. 一種液晶顯示裝置，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜。
18. 一種有機電致發光顯示裝置，其具有如申請專利範圍第11項所述的硬化膜。