TW201535844A - 形成二次電池的黏合層之方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之形成二次電池的黏合層之方法包含：製備具有垂直開著的開口之掩模，透過該掩模蝕刻感光膜以在該感光膜中形成和該掩模之開口相符合的凹槽，將聚二甲矽氧烷倒在具有該凹槽之感光膜上，使聚二甲矽氧烷硬化，及將該硬化的聚二甲矽氧烷與該感光膜分開以製造具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模，在該具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模上塗覆聚合物黏合劑漿料，以及將該塗覆於聚二甲矽氧烷模上的聚合物黏合劑漿料轉移到二次電池之分隔膜或電極表面上以在該分隔膜或電極表面上形成具有垂直開著的空穴部分之黏合層。本發明藉由使在該電極與分隔膜之間的黏合層尺寸減到最少以改良傳輸被該黏合層阻礙的鋰離子遷移而改良二次電池之品質。

Description

形成二次電池的黏合層之方法
本發明係關於形成二次電池的黏合層之方法，更特別地，係關於在二次電池之分隔膜與電極之間形成黏合層的形成黏合層之方法。
本申請案要求在2013年11月4日於韓國提出申請的韓國專利申請第10-2013-0133077號及在2014年11月4日於韓國提出申請的韓國專利申請第10-2014-0151949號之優先權，以引用方式將彼等全部內容併入本案作為參考。
由於鋰二次電池具有高能量密度與高操作電壓以及出色的儲存與壽命特性等許多優點，鋰二次電池被廣泛用於各式各樣的可攜式電子裝置，其包含個人電腦、攝錄影機、手機、可攜式CD播放器、與個人數位助理(PDA)。
一般來說，鋰二次電池包含圓柱形或稜柱形外殼、電解液、與收納於該外殼中的電極組合件。在這裡，該電極 組合件包含陰極、分隔膜、與陽極的疊合物且具有薄捲餅型捲繞結構或堆疊結構。
儘管由陰極/分隔膜/陽極構成的電極組合件可只具有堆疊結構，然而可具有複數個電極(陰極與陽極)和插在其間的分隔膜堆疊在一起且藉由加熱/加壓彼此接合的結構。在這種情形下，藉由加熱/加壓以使該電極與分隔膜和塗覆於該面對面的分隔膜與電極上的黏合層接合。在這裡，該分隔膜通常是用應用聚烯烴樹脂作為原料之擠壓成型法製成，且為了改良與該電極的黏合強度等特性，可在其上塗覆黏合劑等材料。
照慣例，應用凝膠聚合物塗覆技術、電紡絲技術等在分隔膜上塗覆黏合劑材料。
然而，這些示範塗覆技術包含在全部的分隔膜表面上塗覆黏合劑材料，該黏合劑材料阻礙鋰離子的遷移。也就是說，就形成於分隔膜上的黏合劑材料塗層黏著於有鋰離子遷移的電極而言，該塗層是阻礙鋰離子遷移的一個因素。
本發明之目的是解決前述難題，因此本發明之目的係提供形成黏合層之方法，藉由該方法使接合分隔膜與電極的黏合層尺寸減到最少而改良離子遷移、黏合層複合物或包含該黏合層之電極組合件、與用來形成該黏合層之模。
藉由以下說明會理解本發明之前述目的及其他目的與優點。而且，很明顯的後附申請專利範圍中所指定的方式或方法及彼等之組合可實現本發明之目的與優點。
為了達成前述目的，根據本發明一技術方案之形成二次電池的黏合層之方法包含：製備具有垂直開著的開口之掩模，透過該掩模蝕刻感光膜以在該感光膜中形成和該掩模之開口相符合的凹槽，將聚二甲矽氧烷倒在具有該凹槽之感光膜上，使聚二甲矽氧烷硬化，及將該硬化的聚二甲矽氧烷與該感光膜分開以製造具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模，在該具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模上塗覆聚合物黏合劑漿料，以及將該塗覆於聚二甲矽氧烷模上的聚合物黏合劑漿料轉移到二次電池之分隔膜或電極表面上以在該分隔膜或電極表面上形成具有垂直開著的空穴部分之黏合層。
該製備掩模可包含藉由具有正規排列之開口而製備具有正規圖案之掩模。
該一面凹一面凸之部分可包含凸出件，其凸出地形成於和該感光膜中所形成的凹槽相符合之位置，以及凹槽，其相對於該凸出件而言是向內形成的。
該塗覆聚合物黏合劑漿料可包含在該凸出件或凹槽上塗覆該聚合物黏合劑漿料。
舉例來說，該塗覆聚合物黏合劑漿料可包含在該凹槽 上塗覆該聚合物黏合劑漿料，與該形成黏合層可包含形成具有同於由該開口所形成的正規圖案之圖案的具有空穴部分之黏合層。
舉另一例來說，該塗覆聚合物黏合劑漿料可包含在該凸出件上塗覆該聚合物黏合劑漿料，與該形成黏合層可包含形成具有相反於由該開口所形成的正規圖案之圖案的具有空穴部分之黏合層。
該製備掩模可包含製備具有矩形開口之掩模。
該開口之寬與長的標準可為從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
該製備掩模可包含製備應用透過CAD預先設計之正規圖案的掩模。
較佳地，該掩模可為鉻掩模。
更佳地，該方法可進一步包含在塗覆該聚合物黏合劑漿料之前，進行聚二甲矽氧烷模之O2電漿表面處理或電暈表面處理。
該在感光膜中形成凹槽可包含光蝕刻該感光膜以形成該凹槽。
該形成黏合層可包含將該塗覆於聚二甲矽氧烷模上的聚合物黏合劑漿料轉移到形成於二次電池之分隔膜表面上的含有無機粒子之多孔塗層上，以在該多孔塗層上形成具有垂直開著的空穴部分之黏合層。
為了達成前述目的，根據本發明另一技術方案之黏合層複合物包含具有空穴部分之黏合層，其形成於該黏合層 複合物表面上，該空穴部分是垂直開著的且具有正規圖案。
該黏合層複合物可包含二次電池之電極與該黏合層，且該黏合層可形成於該二次電池之電極表面上。
該黏合層複合物可包含二次電池之分隔膜與該黏合層，且該黏合層可形成於該二次電池之分隔膜表面上。
該黏合層可形成於含有無機粒子之多孔塗層上，該多孔塗層形成於該二次電池之分隔膜表面上。
該黏合層可包含該空穴部分與用黏合劑聚合物製成之黏合劑區域，且該空穴部分或該黏合劑區域可具有正規圖案。
當俯視時，該黏合劑區域或該空穴部分可具有矩形正規重複性圖案。
在這種情形下，該黏合劑區域或該空穴部分之寬與長的標準可為從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
該黏合層之厚度可為從0.5μm到2μm。
為了達到前述目的，根據本發明另一技術方案之電極組合件包含前述黏合層複合物。
為了達到前述目的，根據本發明另一技術方案之聚二甲矽氧烷模是一種用來將聚合物黏合劑漿料轉移到分隔膜或電極表面上的模，且該聚二甲矽氧烷模具有表面上有正規圖案形成之一面凹一面凸的部分。
該一面凹一面凸之部分可形成於以垂直於該表面的方向凸出地形成之凸出件及以垂直於該表面的方向向內形成 之凹槽的正規重複性圖案中。
該凸出件之高度可為從0.5μm到2μm。
該凸出件之寬與長的標準可為從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
本發明之優點為藉由使在電極與分隔膜之間的黏合層尺寸，特別是表面積減到最少以改良被該黏合層阻礙的鋰離子遷移而改良二次電池之品質。
而且，由於具有正規精細圖案之黏合層形成於電極或分隔膜表面上，藉此在製造二次電池時節省黏合層的原料，本發明有使製造二次電池之成本減少超過形成應用黏合劑材料的黏合塗層之相關技術的利益。
10‧‧‧基板
20‧‧‧感光膜
30‧‧‧掩模
31‧‧‧結構
32‧‧‧開口
40‧‧‧PDMS
50‧‧‧PDMS模
51‧‧‧一面凹一面凸的部分
51a‧‧‧凸出件
51b‧‧‧凹槽
60‧‧‧黏合層
61‧‧‧空穴部分
62‧‧‧聚合物黏合劑漿料，黏合劑區域
70‧‧‧陽極
80‧‧‧陰極
90‧‧‧分隔膜
A‧‧‧電極組合件
附圖圖示本發明及前述發明之較佳具體實施方式，且可進一步理解本發明技術精神，因此本發明不應被理解成受限於該圖示。
圖1是圖示根據本發明之示範具體實施方式的形成二次電池的黏合層之方法的流程圖。
圖2至5是圖示根據本發明之示範具體實施方式的製造具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷(PDMS)模的方法之每一步驟的圖。
圖6是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有垂 直開著的開口之鉻掩模的圖。
圖7是圖示具有圖3之感光膜的底材的俯視圖。
圖8是圖示圖5之PDMS模的俯視圖。
圖9是圖示塗覆於PDMS模上的聚合物黏合劑漿料的圖。
圖10是圖示圖9之PDMS模的俯視圖。
圖11是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有黏合層之黏合層複合物的圖，該黏合層形成於二次電池之電極表面上。
圖12是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有黏合層之黏合層複合物的圖，該黏合層形成於二次電池之分隔膜表面上。
圖13是圖示根據本發明之示範具體實施方式的電極組合件的圖，該電極組合件包含黏合層複合物。
前述目的、特徵及優點從以下參照附圖的詳細描述中將顯而易知，因此，該領域之習知技術者可容易地實踐本發明之技術方案。而且，在本發明說明中，當認為某一與本發明有關的已知技術的詳細說明可能對本發明之精髓造成不必要的混淆時，在此省略其之詳細說明。以下參照附圖來詳細說明本發明之示範具體實施方式。
圖1是圖示根據本發明之示範具體實施方式的形成二次電池的黏合層之方法的流程圖。
圖2至5是圖示根據本發明之示範具體實施方式的製造具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模的方法之每一步驟的圖。
圖6是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有垂直開著的開口之鉻掩模的圖。
參照圖1至6，在S101中，製備具有預先設計的開口之鉻掩模30。較佳地，應用AutoCAD製造鉻掩模30的開口。
較佳地，開口32可具有正規排列，與鉻掩模30可藉由開口32而具有正規圖案。
藉由形成於鉻掩模30的結構31之間的開口32之正規排列可形成鉻掩模30的正規圖案。根據一示範具體實施方式，開口32可為立方形，而當俯視時，開口32可為矩形。
較佳地，鉻掩模30的開口32之寬與長的標準可為從0.5μm到2μm。
而且，較佳地，鉻掩模30之厚度可為從0.5μm到2μm，而鉻掩模30的開口32之厚度可為從0.5μm到2μm。
根據一示範具體實施方式，形成正規圖案的開口32之寬、長與高尺寸是小於或等於2μm * 2μm * 2μm，且開口32之尺寸等於開口32之間的距離。
在S103中，感光膜20形成於基板10上，將所製備的鉻掩模30放置於感光膜20上，然後照射光線進行光蝕 刻工序，和由鉻掩模30的開口32所形成之圖案相符合的圖案形成於感光膜20中。也就是說，如圖3所示，在感光膜20中，除去曝光的部分而未曝光的部分留在基板10上。因此，和掩模30的開口32相符合的凹槽21形成於感光膜20中。形成了和掩模30的開口32之圖案相符合的圖案。
圖7是圖示具有圖3之感光膜的底材的俯視圖。參照圖7與圖3，從感光膜20中除去同於由鉻掩模30的開口32所形成之圖案的圖案以在感光膜20中形成和鉻掩模30的開口32相符合的凹槽21。
在S105中，將聚二甲矽氧烷(以下稱作「PDMS」)40倒在具有和掩模30的開口32相符合之正規圖案的具有凹槽之感光膜20上，然後使PDMS 40硬化。也就是說，如圖4所示，將PDMS 40倒在感光膜20上面以填滿感光膜20中所形成的凹槽21，然後使PDMS 40硬化。
在S107中，將硬化的PDMS與感光膜20分開以產生如圖5所示之具有一面凹一面凸的部分51之PDMS模50。圖8是圖示圖5之PDMS模的俯視圖。參照圖8與圖5，圖示出PDMS模50中所形成之一面凹一面凸的部分之結構。和在基板10上的由感光膜20所形成的圖案相比時，PDMS模50之一面凹一面凸的部分51可具有和在基板10上的由感光膜20所形成之圖案相反的形狀。參照圖2至8將易於理解這個情形。
藉此方法，一面凹一面凸的部分51形成於PDMS模 50表面上。而且，一面凹一面凸的部分51包含凸出件51a，其凸出地形成於和感光膜20中所形成的凹槽21相符合之位置，如圖5與8所示。而且，一面凹一面凸的部分50具有凹槽51b，其相對於凸出件51a而言是向內形成的，如圖5與8所示。
也就是說，具有正規圖案之一面凹一面凸的部分51可形成於PDMS模50表面上。更具體地說，一面凹一面凸之部分51可形成於以垂直於PDMS模50表面的方向凸出地形成之凸出件51a及以垂直於PDMS模表面的方向向內形成之凹槽51b的正規重複性圖案中。
在這裡，凸出件51a之高度可為從0.5μm到2μm。而且，凸出件51a之高度可由感光膜20之厚度來決定。
而且，凸出件51a之寬與長的標準是從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。凸出件51a之標準可幾乎完全相同於感光膜20的凹槽21之標準。
根據一示範具體實施方式，PDMS模50之凸出件51a的寬、長與高的標準是2μm * 2μm * 2μm，且凸出件51a之間的距離是2μm。
在S109中，為了除去雜質與增加聚合物黏合劑漿料之黏性，對有一面凹一面凸的部分51形成之PDMS模50表面進行表面處理。在這種情形下，可應用O2電漿表面處理設備或電暈處理設備對PDMS模50進行表面處理。
在S111中，在具有精細圖案之PDMS模50表面上塗覆聚合物黏合劑漿料62以黏著於電極與分隔膜。
聚合物黏合劑漿料62是聚合物黏合劑與溶劑之混合物。
該聚合物黏合劑可包含：聚偏二氟乙烯-六氟丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯-三氯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯腈、聚乙烯吡咯啶酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚氧化乙烯、聚丙烯酸酯、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、氰乙基聚三葡萄糖、氰乙基聚乙烯醇、氰乙基纖維素、氰乙基蔗糖、聚三葡萄糖、與羧甲基纖維素。
而且，該溶劑不限於特殊類型，而且可包含：丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、水、己烷、環己烷、二甲基甲醯胺(DMF)、二甲基乙醯胺(DMAc)、N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)、與彼等之混合物。
較佳地，在PDMS模50中所形成之任一組凸出件51a及凹槽51a上塗覆聚合物黏合劑漿料62。在這種情形下，可應用滾筒等在PDMS模50中所形成之凸出件51a上塗覆聚合物黏合劑漿料62。圖9是圖示塗覆於PDMS模上的聚合物黏合劑漿料的圖。圖9(a)顯示塗覆於凸出件51a上的聚合物黏合劑漿料62。與此對比地，在PDMS模50上部塗覆聚合物黏合劑漿料62，並且除去塗覆於PDMS模50之凸出件51a上的聚合物黏合劑漿料62，以使得可只在凹槽51b上塗覆聚合物黏合劑漿料62。圖9(b)顯示塗覆於凹槽51b上的聚合物黏合劑漿 料62。
圖10是圖示圖9之PDMS模的俯視圖。
圖10(a)圖示塗覆於PDMS模50之凸出件51a上的聚合物黏合劑漿料62，與圖10(b)圖示塗覆於PDMS模50之凹槽51b上的聚合物黏合劑漿料62。在這裡，圖10(a)是圖9(a)之俯視圖，與圖10(b)是圖9(b)之俯視圖。
在S113中，將PDMS模50之背面(即與有凸出件形成的表面相反的表面)附接在平板或滾筒上，然後將塗覆於PDMS模50上的聚合物黏合劑漿料62轉移到電極或分隔膜表面上。而且，可將塗覆於PDMS模50上的聚合物黏合劑漿料62轉移到含有無機粒子之多孔塗層上。也就是說，當含有無機粒子之多孔塗層形成於二次電池之分隔膜表面上時，可將塗覆於PDMS模50上的聚合物黏合劑漿料62轉移到多孔塗層上。
將塗覆於PDMS模50上的聚合物黏合劑漿料62以和PDMS模50上所形成的正規圖案相符合地轉移到電極、分隔膜、或多孔塗層表面上，所以具有正規圖案及空穴部分61之黏合層形成於該電極、分隔膜、或多孔塗層表面上。在這裡，黏合層60包含空穴部分61與用黏合劑聚合物製成之黏合劑區域62。該黏合劑區域62乃指從塗覆於電極等之表面上的聚合物黏合劑漿料62中除去溶劑之部分。在這種情形下，空穴部分61或黏合劑區域62可具有正規圖案。
舉例來說，當以如圖10(a)所示之形狀在PDMS模50上塗覆聚合物黏合劑漿料60時，黏合層60形成為和圖10(a)相符合之形狀。因此，當俯視時，黏合劑區域62具有矩形正規重複性圖案。較佳地，黏合劑區域62之寬與長的標準可為從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
舉另一例來說，當以如圖10(b)所示之形狀在PDMS模50上塗覆聚合物黏合劑漿料62時，黏合層60形成為和圖10(b)相符合之形狀。因此，當俯視時，空穴部分61具有矩形正規重複性圖案。較佳地，空穴部分61之寬與長的標準可為從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
而且，較佳地，黏合層60之厚度可為從0.5μm到2μm。
藉此，可製造表面上有正規圖案形成的具有黏合層之黏合層複合物。更具體地說，可製造含有二次電池之電極與該黏合層的黏合層複合物，與含有二次電池之分隔膜與該黏合層的黏合層複合物。
圖11是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有黏合層之黏合層複合物的圖，該黏合層形成於二次電池之電極表面上。參照圖11，該黏合層複合物包含二次電池之電極80與具有空穴部分61之黏合層60。而且，黏合層60在形成該黏合層複合物的二次電池之電極80表面上形成。如圖11所示，黏合層60具有空穴部分61，且空穴部分61是垂直開著的。藉由黏合層60之媒介可使該黏合層複合物與該分隔膜等接合。儘管圖11顯示黏合層形 成於陰極表面上的示範具體實施方式，然而該黏合層還可形成於陽極表面上。
圖12是圖示根據本發明之示範具體實施方式的具有黏合層之黏合層複合物的圖，該黏合層形成於二次電池之分隔膜表面上。參照圖12，該黏合層複合物包含二次電池之分隔膜90與具有空穴部分61之黏合層60。而且，黏合層60在形成該黏合層複合物的二次電池之分隔膜90表面上形成。藉由黏合層60之媒介可使該黏合層複合物與該分隔膜等接合。如前面所述，多孔塗層可進一步形成於分隔膜90上，在這種情形下，該黏合層複合物可形成於該多孔塗層表面上。
儘管圖11與12所示之示範具體實施方式圖示黏合層60形成於電極80表面與分隔膜90表面中任一者上，然而該黏合層還可形成於其他表面上，且該黏合層可形成於二面上。
當轉移塗覆於PDMS模50上的聚合物黏合劑漿料60時，該壓力(即轉移壓力)較佳地大於一般轉移壓力。也就是說，當應用轉移平板或轉移滾筒來轉移聚合物黏合劑漿料60時，施加於該電極、陶瓷層、或分隔膜表面的轉移壓力較佳地大於在形成慣用黏合層時所施加的轉移壓力。更具體地說，該轉移壓力大於或等於0.3Mpa。
在加熱/加壓情形下，轉移到該電極、分隔膜、或多孔塗層表面上的聚合物黏合劑漿料60和分隔膜及電極接合在一起。
圖13是圖示根據本發明之示範具體實施方式的電極組合件的圖，該電極組合件包含黏合層複合物。
如圖13所示，藉由正規重複性圖案之聚合物黏合劑漿料可使陽極70與分隔膜90及陰極80與分隔膜90彼此接合以形成電極組合件A。儘管圖10顯示電極組合件A包含依序接合的一個陰極70、一個分隔膜90、與一個陽極80，然而電極組合件A還可包含依序接合與堆疊的至少二個陰極80、至少二個分隔膜90、與至少二個陽極70。
如前面所述，本發明改良鋰離子遷移同時使在該電極與分隔膜之間的黏合層尺寸減到最少。而且，由於具有正規重複性圖案之黏合層形成於電極表面上、形成於分隔膜表面上，或當多孔塗層形成於該分隔膜表面上時，形成於該多孔塗層表面上，當和形成應用黏合劑材料的黏合塗層之相關技術相比時，本發明在製造二次電池時節省黏合層的原料。
儘管前面業已描述本發明，然而請理解在不脫離本發明之技術精神的前提下，該領域之習知技術者可作出各式各樣的替換、修改、及變化，並且本發明不限於所揭示之具體實施方式及附圖。

Claims (26)

  1. 一種形成黏合層之方法，其包含：製備具有垂直開著的開口之掩模；透過該掩模蝕刻感光膜以在該感光膜中形成和該掩模之開口相符合的凹槽；將聚二甲矽氧烷倒在具有凹槽之感光膜上，使聚二甲矽氧烷硬化，及將該硬化的聚二甲矽氧烷與該感光膜分開以製造具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模；在該具有一面凹一面凸的部分之聚二甲矽氧烷模上塗覆聚合物黏合劑漿料；以及將該塗覆於聚二甲矽氧烷模上的聚合物黏合劑漿料轉移到二次電池之分隔膜或電極表面上以在該分隔膜或電極表面上形成具有垂直開著的空穴部分之黏合層。
  2. 如申請專利範圍第1項之形成黏合層的方法，其中該製備掩模包含藉由具有正規排列之開口而製備具有正規圖案之掩模。
  3. 如申請專利範圍第2項之形成黏合層的方法，其中該一面凹一面凸之部分包含凸出件，其凸出地形成於和該感光膜中所形成的凹槽相符合之位置，以及凹槽，其相對於該凸出件而言是向內形成的。
  4. 如申請專利範圍第3項之形成黏合層的方法，其中該塗覆聚合物黏合劑漿料包含在該凸出件或凹槽上塗覆該聚合物黏合劑漿料。
  5. 如申請專利範圍第4項之形成黏合層的方法，其 中該塗覆聚合物黏合劑漿料包含在該凹槽上塗覆該聚合物黏合劑漿料，與該形成黏合層包含形成具有同於由該開口所形成的正規圖案之圖案的具有空穴部分之黏合層。
  6. 如申請專利範圍第4項之形成黏合層的方法，其中該塗覆聚合物黏合劑漿料包含在該凸出件上塗覆該聚合物黏合劑漿料，與該形成黏合層包含形成具有相反於由該開口所形成的正規圖案之圖案的具有空穴部分之黏合層。
  7. 如申請專利範圍第2項之形成黏合層的方法，其中該製備掩模包含製備具有矩形開口之掩模。
  8. 如申請專利範圍第7項之形成黏合層的方法，其中該開口之寬與長的標準是從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
  9. 如申請專利範圍第2項之形成黏合層的方法，其中該製備掩模包含製備使用透過CAD預先設計之正規圖案的掩模。
  10. 如申請專利範圍第1項之形成黏合層的方法，其中該掩模是鉻掩模。
  11. 如申請專利範圍第1至10項中任一項之形成黏合層的方法，其進一步包含：在塗覆該聚合物黏合劑漿料之前，進行聚二甲矽氧烷模之O2電漿表面處理或電暈表面處理。
  12. 如申請專利範圍第1至10項中任一項之形成黏合層的方法，其中該在感光膜中形成凹槽包含光蝕刻該感 光膜以形成凹槽。
  13. 如申請專利範圍第1至10項中任一項之形成黏合層的方法，其中該形成黏合層包含將該塗覆於聚二甲矽氧烷模上的聚合物黏合劑漿料轉移到形成於二次電池之分隔膜表面上的含有無機粒子之多孔塗層上，以在該多孔塗層上形成具有垂直開著的空穴部分之黏合層。
  14. 一種黏合層複合物，其包含：具有空穴部分之黏合層，其形成於該黏合層複合物表面上，該空穴部分是垂直開著的且具有正規圖案。
  15. 如申請專利範圍第14項之黏合層複合物，其中該黏合層複合物包含二次電池之電極與該黏合層，且該黏合層形成於該二次電池之電極表面上。
  16. 如申請專利範圍第14項之黏合層複合物，其中該黏合層複合物包含二次電池之分隔膜與該黏合層，且該黏合層形成於該二次電池之分隔膜表面上。
  17. 如申請專利範圍第16項之黏合層複合物，其中該黏合層形成於含有無機粒子之多孔塗層上，該多孔塗層形成於該二次電池之分隔膜表面上。
  18. 如申請專利範圍第14項之黏合層複合物，其中該黏合層包含該空穴部分與用黏合劑聚合物製成之黏合劑區域，且該空穴部分或該黏合劑區域具有正規圖案。
  19. 如申請專利範圍第18項之黏合層複合物，其中當俯視時，該黏合劑區域或該空穴部分具有矩形正規重複性圖案。
  20. 如申請專利範圍第19項之黏合層複合物，其中該黏合劑區域或該空穴部分之寬與長的標準是從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
  21. 如申請專利範圍第14項之黏合層複合物，其中該黏合層之厚度是從0.5μm到2μm。
  22. 一種電極組合件，其包含如申請專利範圍第14至21項中任一項之黏合層複合物。
  23. 一種聚二甲矽氧烷模，其用於將聚合物黏合劑漿料轉移到分隔膜或電極表面上，其中具有正規圖案之一面凹一面凸的部分形成於表面上。
  24. 如申請專利範圍第23項之聚二甲矽氧烷模，其中該一面凹一面凸之部分形成於以垂直於該表面的方向凸出地形成之凸出件及以垂直於該表面的方向向內形成之凹槽的正規重複性圖案中。
  25. 如申請專利範圍第24項之聚二甲矽氧烷模，其中該凸出件之高度是從0.5μm到2μm。
  26. 如申請專利範圍第24項之聚二甲矽氧烷模，其中該凸出件之寬與長的標準是從0.5μm * 0.5μm到2μm * 2μm。
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